JP3196259B2 - Polishing method of stamper for optical disk - Google Patents
Polishing method of stamper for optical diskInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光学ディスク用スタン
パの研磨方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for polishing a stamper for an optical disk.
【0002】[0002]
【従来の技術】光学ディスクは、フロッピーディスクや
ハードディスクに比べ、その容量の大きさ及び記録密度
の高さなどに特徴があり、現在盛んに研究開発が行われ
ている。一般に、光学ディスク用の基板は、上記の優れ
た特徴を保持しながら、大量生産が可能なように射出成
形によって生産されている。この際、上記の光学ディス
クには、スタンパに形成されたグルーブやピットが転写
されるようになっている。従って、上記のスタンパに
は、金型としての高度な精度および射出成形の際の耐久
性が要求される。2. Description of the Related Art Optical disks are characterized by their large capacity and high recording density compared to floppy disks and hard disks, and are being actively researched and developed at present. In general, substrates for optical disks are produced by injection molding so that mass production is possible while maintaining the above-mentioned excellent characteristics. At this time, grooves and pits formed on the stamper are transferred to the optical disk. Therefore, the above stamper is required to have high precision as a mold and durability during injection molding.
【0003】これまでの光学ディスク用スタンパの製造
方法は、例えば、以下に示すような方法で行われてい
る。即ち、表面研磨したガラス基板にレジストを必要な
厚さにスピンコート法で均一に塗布し、プリベーク後レ
ーザーカッティングマシーンで所望のパターンに露光し
た後、レジストを現像してピット及び/又はグルーブを
形成する。このピット及び/又はグルーブを有するレジ
スト付きガラス基板表面上にニッケルなどの薄膜をスパ
ッタ法などにより被覆し、導電性を保持させた後、電鋳
により任意の厚みのニッケルを折出させる。続いて、ニ
ッケルをガラス基板より剥離し、洗浄する。そのあと裏
面を研磨・洗浄し次いで内・外径を加工してスタンパと
して完成させる。[0003] The conventional method of manufacturing a stamper for an optical disk is performed by the following method, for example. That is, a resist is uniformly applied to a required thickness on a glass substrate having a polished surface by a spin coating method, and after prebaking, after exposing to a desired pattern by a laser cutting machine, the resist is developed to form pits and / or grooves. I do. A thin film of nickel or the like is coated on the surface of the resist-coated glass substrate having the pits and / or grooves by a sputtering method or the like to maintain conductivity, and nickel of an arbitrary thickness is deposited by electroforming. Subsequently, nickel is separated from the glass substrate and washed. Thereafter, the back surface is polished and washed, and then the inner and outer diameters are processed to complete the stamper.
【0004】スタンパには、金型としての高度な精度お
よび射出成形の際の耐久性が要求されるために、特に、
スタンパ裏面の研磨工程が重要になる。これまでは主に
研磨剤と化学的エッチング剤を主成分とするメカノケミ
カルポリッシング剤を用いた自公転式研磨方法により行
われている。しかしながら、この方法では、スタンパの
研磨量の制御が困難であり、研磨剤の供給量のわずかな
変動による微小突起や微小凹みの発生などの問題があ
る。A stamper is required to have high precision as a mold and durability during injection molding.
The step of polishing the back surface of the stamper becomes important. Until now, it has been mainly performed by a self-revolution type polishing method using a mechanochemical polishing agent mainly containing an abrasive and a chemical etching agent. However, in this method, it is difficult to control the amount of polishing of the stamper, and there are problems such as the occurrence of minute projections and minute dents due to slight fluctuations in the amount of abrasive supplied.
【0005】一方、最近では、研磨テープを回転してい
るスタンパの裏面に押し当てながらその半径方向に移動
させることによる研磨方法が用いられるようになってき
ているが、この方法では研磨上がりが粗い、スタンパの
反りの制御が困難などの問題点がある。On the other hand, recently, a polishing method has been used in which a polishing tape is moved in a radial direction while pressing the polishing tape against the back surface of a rotating stamper. However, there is a problem that it is difficult to control the warpage of the stamper.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
問題点を解決し、射出成形の際の金型として高度な精度
を有し、かつ耐久性の大きい光学ディスク用スタンパを
製造するための研磨方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to manufacture a stamper for an optical disc having high precision and high durability as a mold for injection molding. To provide a polishing method.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点を解決するために鋭意検討を行った結果、光学ディス
ク用スタンパ裏面の研磨を、2つの工程に分けることに
より本発明を完成するに至った。The present inventors have made intensive studies to solve the above problems, and as a result, completed the present invention by dividing polishing of the back surface of the stamper for an optical disk into two steps. I came to.
【0008】即ち、本発明は、研磨テープを回転してい
るスタンパの裏面に押し当てながらその半径方向に移動
させることによる研磨工程1と、それに続く研磨材と化
学的エッチング材とから構成されるメカノケミカルポリ
ッシング材を用いた自公転式研磨工程2とからなること
を特徴とする光学ディスク用ニッケルスタンパの研磨方
法に関する。That is, the present invention comprises a polishing step 1 in which the polishing tape is moved in the radial direction while pressing the polishing tape against the back surface of the rotating stamper, and a polishing material and a chemical etching material subsequent thereto. A method of polishing a nickel stamper for an optical disk, comprising a self-revolution type polishing step 2 using a mechanochemical polishing material.
【0009】以下、本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.
【0010】研磨工程1に用いられる研磨テープの種類
としては、特殊なものである必要はないが、その製品と
しての安定性や化学的反応性の低さなどの理由で、アル
ミナ、ダイヤモンドなどを主成分とするものを用いるこ
とが望ましく、またそのベースフィルムの材質、および
その幅は特に限定されるものではない。研磨テープの巻
取速度は研磨剤の大きさにもよるが、5ないし50cm
/分であることが望ましい。スタンパの回転速度は、研
磨テープの巻取速度あるいはスタンパの半径方向の移動
速度などにもよるが、50ないし2000rpmである
ことが望ましい。スタンパの半径方向の移動速度に関し
ては、研磨テープの幅にもよるが、1ないし50mm/
秒であることが望ましい。The type of the polishing tape used in the polishing step 1 does not need to be a special type. However, alumina, diamond, etc. are used because of the stability and low chemical reactivity of the product. It is desirable to use one having a main component, and the material of the base film and the width thereof are not particularly limited. The winding speed of the polishing tape depends on the size of the abrasive, but is 5 to 50 cm.
/ Min. The rotation speed of the stamper is preferably 50 to 2000 rpm, although it depends on the winding speed of the polishing tape or the moving speed of the stamper in the radial direction. Regarding the moving speed of the stamper in the radial direction, although it depends on the width of the polishing tape, 1 to 50 mm /
Desirably seconds.
【0011】また、研磨時間はスタンパの裏面の粗さの
大きさなどにより任意に設定することが望ましい。これ
らの条件の範囲をはずれると、スタンパの反りの増大や
研磨しろの再現性の悪化などが生じる。また、砥粒つき
のテープのかわりに研削液を吐出する方法を用いても何
等差し支えない。The polishing time is desirably set arbitrarily according to the roughness of the back surface of the stamper. If these conditions are out of the range, the warpage of the stamper will increase, and the reproducibility of the polishing margin will deteriorate. Further, a method of discharging a grinding liquid instead of a tape with abrasive grains may be used.
【0012】研磨工程2に用いられる研磨剤としては上
述した理由からアルミナ、ダイヤモンドを主成分とする
ものを用いることが望ましい。その希釈率は0ないし1
00%の範囲がよく、供給量は希釈率にもよるが5ない
し100cc/分であることが望ましい。スタンパ回転
速度及びパッド回転速度は、研磨剤の希釈率および供給
量にもよるが5ないし100rpmであることが望まし
い。また、研磨時間は射出成形時に必要となるだけの粗
さおよび厚さが得られるように任意に設定される。これ
らの条件の範囲をはずれると、上述したような問題に加
え、研磨面の微小突起あるいは微小凹みなどの問題も生
じる。As the abrasive used in the polishing step 2, it is desirable to use an abrasive mainly composed of alumina and diamond for the above-mentioned reason. The dilution rate is 0 to 1
It is preferably in the range of 00%, and the supply amount is preferably 5 to 100 cc / min, depending on the dilution ratio. The rotation speed of the stamper and the rotation speed of the pad are preferably 5 to 100 rpm depending on the dilution ratio and supply amount of the abrasive. The polishing time is arbitrarily set so as to obtain the roughness and thickness required for injection molding. If these conditions are out of the range, in addition to the above-described problems, problems such as minute protrusions or minute depressions on the polished surface also occur.
【0013】[0013]
【実施例】本発明を更に詳細に説明するために実施例を
あげるが、本発明はこれらに限定されるものではない.
実施例1電鋳により得られたスタンパの信号面を、ポリ
酢酸ビニル及びポリ塩化ビニルを主成分とする高分子膜
で保護した後、中心部に固定用の穴を開け、テープ研磨
機に固定した。このスタンパをアルミナを主成分とする
幅1インチのテープを用いて、巻取速度20cm/分、
スタンパの回転速度100rpm、スタンパの半径方向
の移動速度20mm/秒で5分間研磨した。The present invention will be described in more detail with reference to Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto.
Example 1 A signal surface of a stamper obtained by electroforming was protected with a polymer film containing polyvinyl acetate and polyvinyl chloride as a main component, and a fixing hole was formed in the center, and the taper was fixed to a tape polishing machine. did. Using a 1-inch wide tape mainly composed of alumina, the stamper was wound at a winding speed of 20 cm / min.
Polishing was performed at a rotation speed of the stamper of 100 rpm and a moving speed of the stamper in the radial direction of 20 mm / sec for 5 minutes.
【0014】続いて、このスタンパをテープ研磨機から
取り外し、両面粘着性テープを用いて自公転式研磨機の
治具に取り付けた。このスタンパを、アルミナを主成分
とする未希釈の研磨剤を用い、供給量20cc/分とし
てメカノケミカルポリッシングを行った。これにより、
研磨面の微小突起あるいは微小凹みなどもなく、反りの
小さいスタンパを得ることができた。Subsequently, the stamper was removed from the tape polishing machine, and attached to a jig of a self-revolving polishing machine using a double-sided adhesive tape. The stamper was subjected to mechanochemical polishing using an undiluted abrasive mainly composed of alumina at a supply rate of 20 cc / min. This allows
There was no small protrusion or small depression on the polished surface, and a stamper with small warpage was obtained.
【0015】[0015]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、射出成形の際の金型として高度な精度を有
し、かつ耐久性の大きい光学ディスク用スタンパを製造
することが可能になる。As is apparent from the above description, according to the present invention, it is possible to manufacture a stamper for an optical disc having a high degree of accuracy and a high durability as a mold for injection molding. become.
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 7/26 B29C 33/38 B24B 1/00 B24B 21/00 B24B 37/00 Continuation of the front page (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G11B 7/26 B29C 33/38 B24B 1/00 B24B 21/00 B24B 37/00
Claims (1)
において、研磨テープを回転しているスタンパの裏面に
押し当てながらその半径方向に移動させることによる研
磨工程1と、それに続く研磨材と化学的エッチング材と
から構成されるメカノケミカルポリッシング材を用いた
自公転式研磨工程2とからなることを特徴とする光学デ
ィスク用スタンパの研磨方法In a method of polishing a back surface of a stamper for an optical disk, a polishing step 1 in which a polishing tape is moved in the radial direction while being pressed against a back surface of a rotating stamper, and a polishing material and a chemical etching subsequent thereto A polishing method for a stamper for an optical disk, comprising: a self-revolution type polishing step 2 using a mechanochemical polishing material composed of a material.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29197991A JP3196259B2 (en) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | Polishing method of stamper for optical disk |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP29197991A JP3196259B2 (en) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | Polishing method of stamper for optical disk |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05109123A JPH05109123A (en) | 1993-04-30 |
JP3196259B2 true JP3196259B2 (en) | 2001-08-06 |
Family
ID=17775945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP29197991A Expired - Fee Related JP3196259B2 (en) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | Polishing method of stamper for optical disk |
Country Status (1)
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JP (1) | JP3196259B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101973788B1 (en) * | 2017-04-05 | 2019-09-02 | 장안하이텍주식회사 | a scissors of safty |
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1991
- 1991-10-14 JP JP29197991A patent/JP3196259B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101973788B1 (en) * | 2017-04-05 | 2019-09-02 | 장안하이텍주식회사 | a scissors of safty |
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JPH05109123A (en) | 1993-04-30 |
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