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JP3191529B2 - Semiconductor device with ceramic capacitor and ceramic capacitor mounted - Google Patents

Semiconductor device with ceramic capacitor and ceramic capacitor mounted

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Publication number
JP3191529B2
JP3191529B2 JP25713493A JP25713493A JP3191529B2 JP 3191529 B2 JP3191529 B2 JP 3191529B2 JP 25713493 A JP25713493 A JP 25713493A JP 25713493 A JP25713493 A JP 25713493A JP 3191529 B2 JP3191529 B2 JP 3191529B2
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JP
Japan
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capacitor
electrode
ceramic
ceramic capacitor
main surface
Prior art date
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康行 内藤
行雄 坂部
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/341Surface mounted components
    • H05K3/3431Leadless components

Landscapes

  • Ceramic Capacitors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はICやLSI等の半導体
素子に用いるバイパス用のセラミックコンデンサおよび
セラミックコンデンサを取り付けた半導体装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a bypass ceramic capacitor used for semiconductor elements such as ICs and LSIs, and a semiconductor device provided with the ceramic capacitor.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型、高速デジタル化
の動きはとどまるところがない。これにともない、これ
ら電子機器に用いる電子部品の小型高密度実装化が益々
要望されている。従来、この電子機器の小型、高速デジ
タル化の基となっているICやLSI等の半導体素子に
用いるバイパス用のコンデンサは、回路基板上のICや
LSI等の半導体素子の周囲に実装されていた。このた
め、このバイパス用のコンデンサについては、積層化、
チップ化等によって小型化して基板の占有面積を小さく
する工夫が行われてきた。その結果、これら用途にはチ
ップタイプの積層セラミックコンデンサが主として用い
られている。
2. Description of the Related Art In recent years, there has been no end to the trend toward miniaturization and high-speed digitalization of electronic devices. Accordingly, there is an increasing demand for smaller and higher-density mounting of electronic components used in these electronic devices. Conventionally, a bypass capacitor used for a semiconductor device such as an IC or an LSI, which is the basis for downsizing and high-speed digitalization of this electronic device, has been mounted around a semiconductor device such as an IC or an LSI on a circuit board. . For this reason, this bypass capacitor is laminated,
A device has been devised to reduce the area occupied by the substrate by reducing the size by chipping or the like. As a result, chip-type multilayer ceramic capacitors are mainly used for these applications.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
回路基板上のICやLSI等の半導体素子の周囲にバイ
パス用のコンデンサを実装するという方法では、いくら
バイパス用のコンデンサの小型化が進んでも、ICやL
SI等の半導体素子の周囲にバイパス用のコンデンサ自
体とその配線のための実装スペースが必要であり、回路
基板としての小型化に限界があった。
However, in the conventional method of mounting a bypass capacitor around a semiconductor element such as an IC or an LSI on a circuit board, even if the size of the bypass capacitor is reduced, IC and L
Around the semiconductor element such as SI, a bypass capacitor itself and a mounting space for its wiring are required, and there has been a limit to miniaturization as a circuit board.

【0004】また、ICやLSI等の半導体素子からバ
イパス用のコンデンサまでの配線部に生じるインダクタ
ンス成分が無視できず、高速化した回路ではノイズを除
去しきれないという問題点があった。
Further, there is a problem that an inductance component generated in a wiring portion from a semiconductor element such as an IC or LSI to a bypass capacitor cannot be ignored, and a high-speed circuit cannot completely remove noise.

【0005】そこで、本発明の目的は、回路基板上に実
装スペースや配線スペースの必要がなく、しかもコンデ
ンサ本体および配線のインダクタンスが少なく高速デジ
タル回路でも十分なノイズ除去機能を有する、ICやL
SI等の半導体素子に用いるバイパス用のコンデンサお
よびそのコンデンサを取り付けた半導体装置を提供する
ことにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an IC or L / L device which does not require mounting space or wiring space on a circuit board, has a small inductance of a capacitor body and wiring, and has a sufficient noise removing function even in a high-speed digital circuit.
An object of the present invention is to provide a bypass capacitor used for a semiconductor element such as an SI and a semiconductor device provided with the capacitor.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の第1
の発明であるセラミックコンデンサは、セラミック誘電
体基板の一方の主面の中央部にこの主面より小さい面積
の一方の容量電極が形成され、前記セラミック誘電体基
板の他方の主面に他方の容量電極が形成されており、こ
の他方の容量電極は前記一方の容量電極とはギャップを
置いてセラミック誘電体基板の一方の主面の周囲に形成
された導出電極と電気的に接続されており、かつ、該導
出電極と前記一方の容量電極の上に絶縁層が形成され、
該絶縁層を貫通して前記導出電極と前記一方の容量電極
それぞれに電気的に接続した少なくとも一対のはんだバ
ンプが互いに近接して形成されていることを特徴とす
る。
That is, the first aspect of the present invention is as follows.
Ceramic capacitors are invention, one capacitor electrode of smaller area than the main surface of this is formed in a central portion of one main surface of the ceramic dielectric substrate, the other on the other main surface of said ceramic dielectric substrate A capacitance electrode is formed, and the other capacitance electrode is electrically connected to a lead electrode formed around one main surface of the ceramic dielectric substrate with a gap from the one capacitance electrode. And an insulating layer is formed on the lead-out electrode and the one capacitance electrode,
At least one pair of solder bumps penetrating the insulating layer and electrically connected to the lead electrode and the one capacitor electrode, respectively, are formed close to each other .

【0007】また、セラミック誘電体基板として、Sr
TiO3 系の粒界絶縁型半導体コンデンサ用の基板を用
いることにより、大容量かつ周波数特性に優れたセラミ
ックコンデンサを得ることができる。
Further, Sr is used as a ceramic dielectric substrate.
By using a substrate for a TiO 3 -based grain boundary insulating semiconductor capacitor, a ceramic capacitor having a large capacity and excellent frequency characteristics can be obtained.

【0008】さらに、本発明の第2の発明であるセラミ
ックコンデンサを取り付けた半導体装置は、第1の発明
のセラミックコンデンサが、半導体素子の外部接続用電
極を有する面に、該セラミックコンデンサのはんだバン
プを有する面を外側にして、絶縁層を介して固着されて
いることを特徴とする。
Further, in a semiconductor device to which a ceramic capacitor according to the second invention of the present invention is mounted, the ceramic capacitor according to the first invention is provided such that solder bumps of the ceramic capacitor are provided on the surface of the semiconductor element having external connection electrodes. Are fixed with an insulating layer interposed therebetween, with the surface having the side facing outward.

【0009】[0009]

【作用】本発明のセラミックコンデンサは、以下のよう
にして使用される。即ち、まず、本発明のセラミックコ
ンデンサを、はんだバンプを有する面を外側にして、I
CやLSI等の半導体素子の外部接続用電極を有する面
に、絶縁層を介して固着する。次に、セラミックコンデ
ンサの容量電極と導出電極および半導体素子の外部接続
用電極を回路基板の電極とはんだバンプにより接続して
実装する。
The ceramic capacitor of the present invention is used as follows. That is, first, the ceramic capacitor of the present invention was placed so that
It is fixed to a surface of a semiconductor element such as C or LSI having an electrode for external connection via an insulating layer. Next, the capacitance electrode and the lead-out electrode of the ceramic capacitor and the electrode for external connection of the semiconductor element are connected to the electrodes of the circuit board by solder bumps and mounted.

【0010】したがって、コンデンサの実装時に特別の
実装スペースや配線スペースを必要としない。また、実
装時の配線によるインダクタンス成分の増加も極小に抑
えることができる。
Therefore, no special mounting space or wiring space is required when mounting the capacitor. Further, an increase in the inductance component due to the wiring at the time of mounting can be suppressed to a minimum.

【0011】さらに、本発明のセラミックコンデンサ
は、平板のセラミック誘電体に対向する容量電極を設け
た構造となっており、コンデンサの内部インダクタンス
はほとんど無視できる。また、入出力用のはんだバンプ
が互いに近接して設けられているため、磁束が相殺され
て低インダクタンスとなる。
Further, the ceramic capacitor of the present invention has a structure in which a capacitance electrode facing a flat ceramic dielectric is provided, and the internal inductance of the capacitor can be almost ignored. Also, solder bumps for input and output
Are provided close to each other, so the magnetic flux is canceled
And low inductance.

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明のセラミックコンデンサの実施
例を図面に基づき説明する。図1は、第1の実施例を示
す斜視図、図2は図1のX−X線に沿う断面図、図3は
製造過程を示す断面図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the ceramic capacitor of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line XX of FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view showing a manufacturing process.

【0013】図1および図2において、1はSrTiO
3 系の粒界絶縁型半導体コンデンサ用のセラミック誘電
体基板、3aはセラミック誘電体基板1の一方の主面に
形成されたCuからなる一方の容量電極、3bはセラミ
ック誘電体基板1の他方の主面に形成されたCuからな
る他方の容量電極である。3cはセラミック誘電体基板
1の周囲に形成されたCuからなる導出電極であり、容
量電極3bに接続されている。4a、4bはそれぞれ耐
溶剤性を有する絶縁層であり、6はPb−Snからなる
はんだバンプである。
1 and 2, reference numeral 1 denotes SrTiO.
A ceramic dielectric substrate for a 3 system grain boundary insulating semiconductor capacitor, 3a is one capacitor electrode made of Cu formed on one main surface of the ceramic dielectric substrate 1, and 3b is the other of the ceramic dielectric substrate 1. This is the other capacitor electrode made of Cu formed on the main surface. Reference numeral 3c denotes a lead electrode made of Cu formed around the ceramic dielectric substrate 1, and is connected to the capacitor electrode 3b. Reference numerals 4a and 4b denote insulating layers having solvent resistance, and 6 denotes a solder bump made of Pb-Sn.

【0014】次に、本発明のセラミックコンデンサの製
造方法を図3に基づき説明する。まず、10mm角、
0.4mm厚みのSrTiO3 系の粒界絶縁型半導体コ
ンデンサ用のセラミック誘電体基板1を、従来より公知
の方法で準備した。そのセラミック誘電体基板1の一方
の主面に有機溶剤に溶解しメッキ液には溶解しないピッ
チ系のレジストインクを印刷し乾燥させて、表面から見
て口の字状のレジスト層2を形成した。その後、レジス
ト層2を形成したセラミック誘電体基板1に、前処理と
して感受性付与および活性化処理をしたのち無電解Cu
メッキを施し、セラミック誘電体基板1の全面にCuか
らなる容量形成用電極3を形成した。次に、容量形成用
電極3を形成したセラミック誘電体基板1の両面に、乾
燥後は絶縁性を有し有機溶剤に溶解しないマスキングペ
ーストを印刷し乾燥させて、先にレジスト層2を形成し
た一方の主面には、レジスト層2の上を除く全面に、は
んだバンク形成用の小孔5を設けた絶縁層4aを形成
し、他方の主面の全面には、絶縁層4bを形成した。以
上処理したセラミック誘電体基板1を有機溶剤中に浸漬
してレジスト層2を溶解させて、容量形成用電極3を、
図2に示す容量電極3aと導出電極3cにつながる容量
電極3bに分離した。
Next, a method for manufacturing the ceramic capacitor of the present invention will be described with reference to FIG. First, 10mm square,
A 0.4 mm thick ceramic dielectric substrate 1 for SrTiO 3 -based grain boundary insulating semiconductor capacitors was prepared by a conventionally known method. On one main surface of the ceramic dielectric substrate 1, a pitch-based resist ink dissolved in an organic solvent but not dissolved in a plating solution was printed and dried to form a square-shaped resist layer 2 as viewed from the surface. . Thereafter, the ceramic dielectric substrate 1 on which the resist layer 2 has been formed is subjected to a sensitizing and activating treatment as a pre-treatment, and then to an electroless Cu.
Plating was performed, and a capacitor forming electrode 3 made of Cu was formed on the entire surface of the ceramic dielectric substrate 1. Next, on both surfaces of the ceramic dielectric substrate 1 on which the capacitance forming electrodes 3 were formed, a masking paste having an insulating property and not dissolved in an organic solvent after printing was printed and dried, and the resist layer 2 was formed first. An insulating layer 4a provided with small holes 5 for forming solder banks was formed on the entire surface except for the resist layer 2 on one main surface, and an insulating layer 4b was formed on the entire surface of the other main surface. . The ceramic dielectric substrate 1 treated as described above is immersed in an organic solvent to dissolve the resist layer 2, and the capacitance forming electrode 3 is
The capacitor electrode 3a and the capacitor electrode 3b connected to the lead-out electrode 3c shown in FIG. 2 were separated.

【0015】次に、はんだペーストをスクリーン印刷で
絶縁層4aの小孔5の上に塗付した後、H2 雰囲気中で
加熱してはんだを溶融させ、図1および図2に示すはん
だバンプ6を形成した。
Next, after the solder paste is applied on the small holes 5 of the insulating layer 4a by screen printing, the solder paste is heated in an H 2 atmosphere to melt the solder, and the solder bumps 6 shown in FIGS. Was formed.

【0016】図4に、このようにして得られたセラミッ
クコンデンサの実装例を示す。本発明のセラミックコン
デンサ11を、絶縁層4bからなる絶縁層を介して、半
導体素子12の外部接続用電極を有する面に、セラミッ
クコンデンサ11のはんだバンプ6を有する面を外側に
して接着剤13で固着した後、セラミックコンデンサ1
1の容量電極、導出電極および半導体素子12の外部接
続用電極(図示せず)を回路基板14とはんだバンプ6
で接続した。
FIG. 4 shows a mounting example of the ceramic capacitor thus obtained. The ceramic capacitor 11 of the present invention is attached to the surface of the semiconductor element 12 having the electrodes for external connection with the adhesive 13 with the surface having the solder bumps 6 on the outside through the insulating layer made of the insulating layer 4b. After fixing, ceramic capacitor 1
1 and the external connection electrode (not shown) of the semiconductor element 12 with the circuit board 14 and the solder bump 6.
Connected with.

【0017】上記実装方法を採用したことにより、回路
基板上にセラミックコンデンサを実装し配線するための
特別のスペースは不要となり、一方で、十分なノイズ除
去効果が認められた。
By employing the above mounting method, a special space for mounting and wiring a ceramic capacitor on a circuit board is not required, while a sufficient noise removing effect has been recognized.

【0018】また、セラミックコンデンサの静電容量を
変えてノイズ除去特性を試験したところ、従来のように
半導体素子の周囲の基板上にセラミックコンデンサを実
装した場合と比べて、約20%小さい静電容量で従来と
同等のノイズ除去効果が得られた。これは、構造が単純
なセラミックコンデンサ11を半導体素子12に固着
し、双方をはんだバンプにより回路基板に接続して配線
の引き回しを短くしたことにより、セラミックコンデン
サ11の実装によるインダクタンスの増加が押さえられ
たためである。
When the noise removal characteristics were tested by changing the capacitance of the ceramic capacitor, the capacitance was reduced by about 20% compared to the conventional case where the ceramic capacitor was mounted on a substrate around a semiconductor element. The noise removal effect equivalent to the conventional was obtained with the capacitance. This is because an increase in inductance due to the mounting of the ceramic capacitor 11 is suppressed by fixing the ceramic capacitor 11 having a simple structure to the semiconductor element 12 and connecting both to the circuit board by solder bumps to shorten the wiring. It is because.

【0019】なお、上記実施例において、セラミック誘
電体基板の材質としてSrTiO3系の粒界絶縁型半導
体コンデンサ用のセラミックスを用いているが、これに
限定されることはなく、例えばBaTiO3 系のセラミ
ック誘電体等の種々のものを用いることができる。
In the above embodiment, the ceramic dielectric substrate is made of SrTiO 3 -based ceramics for the grain boundary insulating semiconductor capacitor. However, the material is not limited to this. For example, BaTiO 3 -based ceramics may be used. Various materials such as a ceramic dielectric can be used.

【0020】また、上記実施例において、容量電極の材
料としてCuを用いているが、これに限定されるもので
はない。例えば、容量電極としてはCu以外にセラミッ
クコンデンサの電極として公知のAg,Pd,Ni等を
単独あるいは組み合わせて、あるいはAg−Ni,Cu
−Ni等に多層化したものを適宜用いることができる。
また、この容量電極の上に、外層電極としてはんだバン
プ接続性の良いAu、Sn等を形成することもできる。
In the above embodiment, Cu is used as the material of the capacitor electrode. However, the present invention is not limited to this. For example, Ag, Pd, Ni, etc., which are well-known as electrodes of a ceramic capacitor, alone or in combination, or Ag-Ni, Cu
-A multilayered material such as Ni can be used as appropriate.
Further, Au, Sn, or the like having good solder bump connectivity can be formed as an outer layer electrode on the capacitor electrode.

【0021】また、セラミックコンデンサのはんだバン
プを有しない他方の主面に形成した絶縁層は、必須では
ない。性能的には、実装時に本発明のセラミックコンデ
ンサを固着するICあるいはLSI等の半導体素子の面
が絶縁処理してあれば、特に必要はない。
The insulating layer formed on the other main surface of the ceramic capacitor having no solder bump is not essential. In terms of performance, there is no particular need if the surface of a semiconductor element such as an IC or LSI to which the ceramic capacitor of the present invention is fixed during mounting is insulated.

【0022】さらに、本発明のセラミックコンデンサの
製造方法についても、上記実施例に限定されることな
く、例えば、レジストインクを用いずに、あらかじめ全
面に直接電極を形成した後、酸エッチングにて電極の一
部を溶解除去してコンデンサ用の容量電極に分離させる
ことも可能である。また、電極の形成方法も無電解めっ
きに限定されることなく、蒸着等の薄膜工法あるいはス
クリーン印刷等の厚膜工法で形成させることができる。
さらに、はんだバンプの形成方法も、本実施例のように
Pb−Sn系はんだペーストのみを溶融させて形成する
方法以外に、CuまたはAgを芯材としてSn−Pb系
やSn−Ag系はんだを溶融させて形成する等の種々の
公知の方法を採用することができる。
Further, the method for manufacturing the ceramic capacitor of the present invention is not limited to the above embodiment. For example, an electrode is directly formed on the entire surface in advance without using a resist ink, and then the electrode is formed by acid etching. It is also possible to dissolve and remove a part of it to separate it into a capacitor electrode for a capacitor. The method for forming the electrodes is not limited to electroless plating, and the electrodes can be formed by a thin film method such as vapor deposition or a thick film method such as screen printing.
Further, as for the method of forming the solder bumps, in addition to the method of melting only the Pb-Sn-based solder paste as in the present embodiment, a Sn-Pb-based or Sn-Ag-based solder using Cu or Ag as a core material is used. Various known methods, such as forming by melting, can be adopted.

【0023】また、コンデンサの形状は電極形状を含め
て本実施例に限られるものではない。以下に、他の実施
例を示す。図5は第2の実施例を示し、セラミック誘電
体基板1の一方の主面の中央部分に形成した絶縁層4a
の下部の容量電極を3aaと3abの2つに分割し、同
一セラミックコンデンサ中で2種類の異なる静電容量が
得られるようにしたものである。その他の部分は、第1
の実施例である図1および図2と同一であるので、同一
番号を付して説明は省略する。
The shape of the capacitor, including the shape of the electrodes, is not limited to this embodiment. Hereinafter, another embodiment will be described. FIG. 5 shows a second embodiment, in which an insulating layer 4a formed at the center of one main surface of a ceramic dielectric substrate 1 is formed.
Is divided into two parts, 3aa and 3ab, so that two different capacitances can be obtained in the same ceramic capacitor. Other parts are the first
1 and FIG. 2 which are the embodiments of the present invention, the same reference numerals are given and the description is omitted.

【0024】図6は第3の実施例を示し、セラミック誘
電体基板1の一方の主面の容量電極の周囲に形成した導
出電極と他方の主面に形成した容量電極とを、セラミッ
ク誘電体基板1の端面で接続するのではなく、スルーホ
ール7により接続したものである。その他の部分は、第
1の実施例である図1および図2と同一であるので、同
一番号を付し説明は省略する。
FIG. 6 shows a third embodiment, in which a lead electrode formed around a capacitor electrode on one main surface of a ceramic dielectric substrate 1 and a capacitor electrode formed on the other main surface are connected to a ceramic dielectric substrate. The connection is made not through the end face of the substrate 1 but through the through hole 7. The other parts are the same as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2, and therefore, the same reference numerals are given and the description is omitted.

【0025】図7は第4の実施例を示し、セラミック誘
電体基板1の一方の主面の周囲に形成した導出電極3c
(図7において、絶縁層4aの下層にあり図示せず)に
凸部8を設けて面積を広げ、はんだバンプを形成しやす
いようにしたものである。その他の部分は、第1の実施
例である図1および図2と同一であるので、同一番号を
付し説明は省略する。
FIG. 7 shows a fourth embodiment, in which a lead electrode 3c formed around one main surface of a ceramic dielectric substrate 1 is shown.
The protrusions 8 are provided on a lower layer (not shown in FIG. 7 below the insulating layer 4a) to increase the area so that solder bumps can be easily formed. The other parts are the same as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2, and therefore, the same reference numerals are given and the description is omitted.

【0026】図8は第5の実施例を示し、セラミック誘
電体基板1の一方の主面に形成する導出電極3c(図8
において、絶縁層4aの下層にあり図示せず)を一方の
主面の周囲の全周に形成するのではなく、周囲の一部に
形成したものである。その他の部分は、第1の実施例で
ある図1および図2と同一であるので、同一番号を付し
説明は省略する。
FIG. 8 shows a fifth embodiment, in which a lead electrode 3c (FIG. 8) formed on one main surface of the ceramic dielectric substrate 1 is shown.
In this case, the lower layer (not shown) under the insulating layer 4a is formed not on the entire periphery of one main surface but on a part of the periphery. The other parts are the same as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 and 2, and therefore, the same reference numerals are given and the description is omitted.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明の
セラミックコンデンサは、回路基板上のICやLSI等
の半導体素子の下部に固着して実装することができる。
したがって、実装に伴なって特別の実装スペースや配線
スペースを必要とせず、高密度実装が可能となる。
As is apparent from the above description, the ceramic capacitor of the present invention can be fixedly mounted on a circuit board below a semiconductor element such as an IC or LSI.
Therefore, high-density mounting is possible without requiring any special mounting space or wiring space during mounting.

【0028】また、本発明のセラミックコンデンサは、
平板の誘電体に対向する容量電極を設けた単純な構造と
なっており、コンデンサの内部インダクタンスはほとん
ど無視できる。その上に、ICやLSI等の半導体素子
との接続においても、半導体素子に固着したセラミック
コンデンサの容量電極および導出電極を互いに近接した
はんだバンプで回路基板に接続することにより、磁束が
相殺され、配線によるインダクタンスの増加を極小に押
さえることができる。したがって、高速デジタル回路に
おいても十分なノイズ除去効果が得られる。
Also, the ceramic capacitor of the present invention
It has a simple structure in which a capacitance electrode facing a flat dielectric is provided, and the internal inductance of the capacitor can be almost ignored. In addition, when connecting to a semiconductor element such as an IC or LSI, the capacitance electrode and the lead-out electrode of the ceramic capacitor fixed to the semiconductor element are close to each other.
By connecting to the circuit board with solder bumps, the magnetic flux
Thus, the increase in inductance due to wiring can be minimized. Therefore, a sufficient noise removing effect can be obtained even in a high-speed digital circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のセラミックコンデンサの第1の実施例
を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment of a ceramic capacitor according to the present invention.

【図2】図1のX−X線に沿う断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line XX of FIG.

【図3】本発明のセラミックコンデンサの製造過程を示
す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a process of manufacturing the ceramic capacitor of the present invention.

【図4】本発明のセラミックコンデンサを取り付けた半
導体装置を示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing a semiconductor device to which the ceramic capacitor of the present invention is attached.

【図5】本発明のセラミックコンデンサの第2の実施例
を示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing a second embodiment of the ceramic capacitor of the present invention.

【図6】本発明のセラミックコンデンサの第3の実施例
を示す斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view showing a third embodiment of the ceramic capacitor of the present invention.

【図7】本発明のセラミックコンデンサの第4の実施例
を示す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing a fourth embodiment of the ceramic capacitor of the present invention.

【図8】本発明のセラミックコンデンサの第5の実施例
を示す斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view showing a fifth embodiment of the ceramic capacitor of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 セラミック誘電体基板 2 レジスト層 3 容量形成用電極 3a,3b 容量電極 3c 導出電極 4a,4b 耐溶剤性を有する絶縁層 5 はんだバンプ形成用の小孔 6 はんだバンプ 7 スルーホール 8 導出電極の凸部 11 セラミックコンデンサ 12 半導体素子 13 接着剤 14 回路基板 Reference Signs List 1 ceramic dielectric substrate 2 resist layer 3 capacitor forming electrode 3a, 3b capacitor electrode 3c lead electrode 4a, 4b insulating layer having solvent resistance 5 small hole for forming solder bump 6 solder bump 7 through hole 8 protrusion of lead electrode Part 11 ceramic capacitor 12 semiconductor element 13 adhesive 14 circuit board

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01G 4/00 - 4/40 H01G 13/00 - 13/06 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01G 4/00-4/40 H01G 13/00-13/06

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 セラミック誘電体基板の一方の主面の中
央部にこの主面より小さい面積の一方の容量電極が形成
され、前記セラミック誘電体基板の他方の主面に他方の
容量電極が形成されており、この他方の容量電極は前記
一方の容量電極とはギャップを置いてセラミック誘電体
基板の一方の主面の周囲に形成された導出電極と電気的
接続されており、かつ、該導出電極と前記一方の容量
電極の上に絶縁層が形成され、該絶縁層を貫通して前記
導出電極と前記一方の容量電極それぞれに電気的に接続
した少なくとも一対のはんだバンプが互いに近接して
成されているセラミックコンデンサ。
1. In one main surface of a ceramic dielectric substrate
Central portion one capacitor electrode of smaller area than the main surface of this is formed on the ceramic dielectric other main surface of the substrate is formed with the other capacitor electrode, the other capacitor electrode is the one capacitance deriving electrode electrically formed around the one main surface of the ceramic dielectric substrate at a gap between electrodes
And an insulating layer is formed on the lead electrode and the one capacitor electrode , and at least electrically connected to the lead electrode and the one capacitor electrode respectively through the insulating layer. A ceramic capacitor in which a pair of solder bumps are formed close to each other .
【請求項2】 セラミック誘電体基板はSrTiO3
の粒界絶縁型半導体コンデンサ用基板である請求項1記
載のセラミックコンデンサ。
2. The ceramic capacitor according to claim 1, wherein the ceramic dielectric substrate is a substrate for an SrTiO 3 -based grain boundary insulating semiconductor capacitor.
【請求項3】 請求項1に記載のセラミックコンデンサ
が、半導体素子の外部接続用電極を有する面に、該セラ
ミックコンデンサのはんだバンプを有する面を外側にし
て、絶縁層を介して固着されている半導体装置。
3. The ceramic capacitor according to claim 1, which is fixed to a surface of the semiconductor device having an external connection electrode with an insulating layer having a surface of the ceramic capacitor having a solder bump outside. Semiconductor device.
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