JP3191114B2 - 4−アルキリデン−3,5,5−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オンの製法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 2
- -1 allyl halide Chemical class 0.000 claims description 11
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- ZVQOOHYFBIDMTQ-UHFFFAOYSA-N [methyl(oxido){1-[6-(trifluoromethyl)pyridin-3-yl]ethyl}-lambda(6)-sulfanylidene]cyanamide Chemical compound N#CN=S(C)(=O)C(C)C1=CC=C(C(F)(F)F)N=C1 ZVQOOHYFBIDMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBQXHTWJSZXYSK-UHFFFAOYSA-N 4-(2-butenylidene)-3,5,5-trimethylcyclohex-2-en-1-one Chemical compound CC=CC=C1C(C)=CC(=O)CC1(C)C CBQXHTWJSZXYSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PUIBUIKCCPULRM-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-8-ethyl-7,9,9-trimethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound C1C(C)(C)C(CC)=C(C)C(Br)C21OCCO2 PUIBUIKCCPULRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NRURKROKUWQQIH-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-7,9,9-trimethyl-8-propyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CCCC1=C(C(C2(CC1(C)C)OCCO2)Cl)C NRURKROKUWQQIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MIGOBEGIYFYOQI-UHFFFAOYSA-N CCC=CC1COC2(O1)CC(C=C(C2Cl)C)(C)C Chemical compound CCC=CC1COC2(O1)CC(C=C(C2Cl)C)(C)C MIGOBEGIYFYOQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 2
- YSHOWEKUVWPFNR-UHFFFAOYSA-N burgess reagent Chemical compound CC[N+](CC)(CC)S(=O)(=O)N=C([O-])OC YSHOWEKUVWPFNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000006704 dehydrohalogenation reaction Methods 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- SCZNXLWKYFICFV-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,7,8,9-octahydropyrido[1,2-b]diazepine Chemical compound C1CCCNN2CCCC=C21 SCZNXLWKYFICFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTTATHOUSOIFOQ-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,6,7,8,8a-octahydropyrrolo[1,2-a]pyrazine Chemical compound C1NCCN2CCCC21 FTTATHOUSOIFOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHIKUUYIVLCZGL-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound O1CCOC11CC=CCC1 AHIKUUYIVLCZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYSVSSHMLNFRAM-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trimethylcyclohex-2-en-1-one Chemical compound CC1CCC(=O)C(C)=C1C HYSVSSHMLNFRAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCGQFKNFKWPWAA-UHFFFAOYSA-N 3,5,5-trimethyl-4-methylidenecyclohex-2-en-1-one Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1=C MCGQFKNFKWPWAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- XFTQAVYYHITIQO-UHFFFAOYSA-N 4-ethylidene-3,5,5-trimethylcyclohex-2-en-1-one Chemical compound CC=C1C(C)=CC(=O)CC1(C)C XFTQAVYYHITIQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBXPKWLRCXKCKA-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-3,7,8,9,9-pentamethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CC1COC2(O1)CC(C(=C(C2Br)C)C)(C)C KBXPKWLRCXKCKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVTJPLUKNFJOCA-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-3,7,9,9-tetramethyl-8-pentyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound BrC1C2(OCC(O2)C)CC(C(=C1C)CCCCC)(C)C QVTJPLUKNFJOCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBFCEURSVPILNN-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-3,7,9,9-tetramethyl-8-propan-2-yl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CC1COC2(O1)CC(C(=C(C2Br)C)C(C)C)(C)C SBFCEURSVPILNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBPWWRCAOVFXAE-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-3,7,9,9-tetramethyl-8-propyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound BrC1C2(OCC(O2)C)CC(C(=C1C)CCC)(C)C KBPWWRCAOVFXAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJJCLWIYKWITK-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-7,8,9,9-tetramethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound BrC1C(C)=C(C)C(C)(C)CC11OCCO1 PNJJCLWIYKWITK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHQCNOJPOHKAGN-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-7,9,9-trimethyl-8-pentyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CCCCCC1=C(C(C2(CC1(C)C)OCCO2)Br)C FHQCNOJPOHKAGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYOOFXHASNGXET-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-7,9,9-trimethyl-8-propan-2-yl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound C1C(C)(C)C(C(C)C)=C(C)C(Br)C21OCCO2 SYOOFXHASNGXET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOCXSTFAJXAEGM-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-7,9,9-trimethyl-8-propyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CCCC1=C(C(C2(CC1(C)C)OCCO2)Br)C OOCXSTFAJXAEGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPJGZKFBMKPPK-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-8-but-1-enyl-3,7,9,9-tetramethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CCC=CC1=C(C(C2(CC1(C)C)OCC(O2)C)Br)C CZPJGZKFBMKPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWQHJQMSWIURSP-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-8-but-1-enyl-7,9,9-trimethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CCC=CC1=C(C(C2(CC1(C)C)OCCO2)Br)C UWQHJQMSWIURSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHSJSIYHDZSXLZ-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-8-but-3-enyl-3,7,9,9-tetramethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound BrC1C2(OCC(O2)C)CC(C(=C1C)CCC=C)(C)C QHSJSIYHDZSXLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHRNIWOSDUEWAG-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-8-but-3-enyl-7,9,9-trimethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound BrC1C(C)=C(CCC=C)C(C)(C)CC11OCCO1 RHRNIWOSDUEWAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODIOMVCJIHGZJG-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-8-butyl-3,7,9,9-tetramethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CCCCC1=C(C(C2(CC1(C)C)OCC(O2)C)Br)C ODIOMVCJIHGZJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTDQMGREBHQXAR-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-8-butyl-7,9,9-trimethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound C1C(C)(C)C(CCCC)=C(C)C(Br)C21OCCO2 CTDQMGREBHQXAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUFFCFWQTFBSQR-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-8-ethyl-3,7,9,9-tetramethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CCC1=C(C(C2(CC1(C)C)OCC(O2)C)Br)C SUFFCFWQTFBSQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMVGTUYRZGXYHK-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-8-hexyl-3,7,9,9-tetramethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CCCCCCC1=C(C(C2(CC1(C)C)OCC(O2)C)Br)C XMVGTUYRZGXYHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUVHIMRWJVGYIT-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-8-hexyl-7,9,9-trimethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CCCCCCC1=C(C(C2(CC1(C)C)OCCO2)Br)C YUVHIMRWJVGYIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCQGWRADKIZBAB-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-7,8,9,9-tetramethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound ClC1C2(OCCO2)CC(C(=C1C)C)(C)C VCQGWRADKIZBAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUQJDCHPSVLVDI-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-7,9,9-trimethyl-8-pentyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound ClC1C2(OCCO2)CC(C(=C1C)CCCCC)(C)C IUQJDCHPSVLVDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDVAREWEQLSFKB-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-7,9,9-trimethyl-8-propan-2-yl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CC1=C(C(CC2(C1Cl)OCCO2)(C)C)C(C)C CDVAREWEQLSFKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCFWXUAYMIYSAJ-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-8-ethyl-7,9,9-trimethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound ClC1C2(OCCO2)CC(C(=C1C)CC)(C)C JCFWXUAYMIYSAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPMGNIQZTNLUQO-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-8-hexyl-7,9,9-trimethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound ClC1C2(OCCO2)CC(C(=C1C)CCCCCC)(C)C QPMGNIQZTNLUQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMHLVYJMCQBEFW-UHFFFAOYSA-N 6-iodo-7,8,9,9-tetramethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CC1=C(C(CC2(C1I)OCCO2)(C)C)C JMHLVYJMCQBEFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLIBPYGTFJGFKI-UHFFFAOYSA-N 6-iodo-7,9,9-trimethyl-8-pentyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CCCCCC1=C(C(C2(CC1(C)C)OCCO2)I)C NLIBPYGTFJGFKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBFHCNTYEPGOBX-UHFFFAOYSA-N 6-iodo-7,9,9-trimethyl-8-propan-2-yl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CC1=C(C(CC2(C1I)OCCO2)(C)C)C(C)C JBFHCNTYEPGOBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVINLWFCYNVXIQ-UHFFFAOYSA-N 6-iodo-7,9,9-trimethyl-8-propyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound IC1C2(OCCO2)CC(C(=C1C)CCC)(C)C LVINLWFCYNVXIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUELWCMZTZRZFH-UHFFFAOYSA-N 8-but-3-enylidene-7,9,9-trimethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-6-ene Chemical compound C1C(C)(C)C(=CCC=C)C(C)=CC21OCCO2 GUELWCMZTZRZFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJKNZTUDLZJTPY-UHFFFAOYSA-N 8-butyl-6-chloro-7,9,9-trimethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CCCCC1=C(C(C2(CC1(C)C)OCCO2)Cl)C FJKNZTUDLZJTPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGKQXGFLKJDTHG-UHFFFAOYSA-N 8-butyl-6-iodo-7,9,9-trimethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CCCCC1=C(C(C2(CC1(C)C)OCCO2)I)C CGKQXGFLKJDTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZFUTGBKTCBAIH-UHFFFAOYSA-N 8-ethyl-6-iodo-7,9,9-trimethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound C(C)C1=C(C(C2(OCCO2)CC1(C)C)I)C JZFUTGBKTCBAIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYKPWWYRVNJHFE-UHFFFAOYSA-N 8-ethylidene-7,9,9-trimethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-6-ene Chemical compound C1C(C)(C)C(=CC)C(C)=CC21OCCO2 WYKPWWYRVNJHFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTDLLQHARBWNOG-UHFFFAOYSA-N 8-hexyl-6-iodo-7,9,9-trimethyl-1,4-dioxaspiro[4.5]dec-7-ene Chemical compound CCCCCCC1=C(C(C2(CC1(C)C)OCCO2)I)C RTDLLQHARBWNOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQCQZGQLJXFMQI-UHFFFAOYSA-N CC(C)(CC12OC(CCC=C)CO1)C=C(C)C2I Chemical compound CC(C)(CC12OC(CCC=C)CO1)C=C(C)C2I IQCQZGQLJXFMQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTAIQNDZFUEMBI-UHFFFAOYSA-N CC=CC=C1COC2(O1)CC(CC(=C2)C)(C)C Chemical compound CC=CC=C1COC2(O1)CC(CC(=C2)C)(C)C PTAIQNDZFUEMBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGYBJGOFPNFUHD-UHFFFAOYSA-N CCC=CC1OC(CC(C)(C)C=C2C)(C2I)OC1 Chemical compound CCC=CC1OC(CC(C)(C)C=C2C)(C2I)OC1 GGYBJGOFPNFUHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVWUPTPPVHUSCX-UHFFFAOYSA-N CCCC=C1C(C)=CC(=O)CC1(C)C Chemical compound CCCC=C1C(C)=CC(=O)CC1(C)C AVWUPTPPVHUSCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005684 Liebig rearrangement reaction Methods 0.000 description 1
- 241000208125 Nicotiana Species 0.000 description 1
- 235000002637 Nicotiana tabacum Nutrition 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- SKCNIGRBPJIUBQ-UHFFFAOYSA-N chloroform;ethyl acetate Chemical compound ClC(Cl)Cl.CCOC(C)=O SKCNIGRBPJIUBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 239000000796 flavoring agent Substances 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 235000013355 food flavoring agent Nutrition 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- PRQMIJVEENXPNQ-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-3,4-dihydro-2h-pyrrol-5-amine Chemical compound CN(C)C1=NCCC1 PRQMIJVEENXPNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は飲食品、香粧品、タバコ
などの香料として価値の高い4−アルキリデン−3,
5,5−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オンの
製法に関する。
などの香料として価値の高い4−アルキリデン−3,
5,5−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オンの
製法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来4−アルキリデン−3,5,5−ト
リメチル−2−シクロヘキセン−1−オン類の製造に関
しては次のような方法が提案されている。例えば「J.
Org.chem.」135巻1053頁(1970
年)には下記式
リメチル−2−シクロヘキセン−1−オン類の製造に関
しては次のような方法が提案されている。例えば「J.
Org.chem.」135巻1053頁(1970
年)には下記式
【0003】
【化4】
【0004】に従って4−メチレン−3,5,5−トリ
メチル−2−シクロヘキセン−1−オンを合成する方法
が開示されている。しかし、この方法は反応工程が長く
多量の副生物を生成するという欠点を有している。
メチル−2−シクロヘキセン−1−オンを合成する方法
が開示されている。しかし、この方法は反応工程が長く
多量の副生物を生成するという欠点を有している。
【0005】また、「Liebigs Ann.che
m.」1巻19頁(1991)には下記式
m.」1巻19頁(1991)には下記式
【0006】
【化5】
【0007】に従って4−アルキリデン−3,5,5−
トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オンを合成する
方法が開示されている。しかし、この工程は調製するの
に高価で煩雑な操作を伴うBurgess試薬を使用し
なくてはならないという欠点を有している。
トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オンを合成する
方法が開示されている。しかし、この工程は調製するの
に高価で煩雑な操作を伴うBurgess試薬を使用し
なくてはならないという欠点を有している。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上述し
たような従来法の不利益ないしは欠陥を克服し工業的に
有利な4−アルキリデン−2−シクロヘキセン−1−オ
ンの製法を提供することにある。
たような従来法の不利益ないしは欠陥を克服し工業的に
有利な4−アルキリデン−2−シクロヘキセン−1−オ
ンの製法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは一般式
【0010】
【化6】
【0011】(式中、R2は水素またはメチル基を示
し、R3は炭素数1〜6のアルキル基またはアルキレン
基を示し、Xはハロゲン原子を示す)で表わされるアリ
ルハライド誘導体を脱ハロゲン化水素反応させて一般式
し、R3は炭素数1〜6のアルキル基またはアルキレン
基を示し、Xはハロゲン原子を示す)で表わされるアリ
ルハライド誘導体を脱ハロゲン化水素反応させて一般式
【0012】
【化7】
【0013】(式中R1は水素または炭素数1〜5のア
ルキル基またはアルキレン基を示す)で表わされるジエ
ンアセタールを製造し、次いで該ジエンアセタールを酸
で加水分解することにより一般式
ルキル基またはアルキレン基を示す)で表わされるジエ
ンアセタールを製造し、次いで該ジエンアセタールを酸
で加水分解することにより一般式
【0014】
【化8】
【0015】(式中R1は水素または炭素数1〜5のア
ルキル基またはアルキレン基を示す)で表わされる4−
アルキリデン−3,5,5−トリメチル−2−シクロヘ
キセン−1−オンのが高収率で容易に得られることを見
い出し、本発明を完成するに到った。
ルキル基またはアルキレン基を示す)で表わされる4−
アルキリデン−3,5,5−トリメチル−2−シクロヘ
キセン−1−オンのが高収率で容易に得られることを見
い出し、本発明を完成するに到った。
【0016】本発明で用いる出発原料であるアリルハラ
イド誘導体[II]は下記に示される工程により、容易
にかつ高収率で誘導される。
イド誘導体[II]は下記に示される工程により、容易
にかつ高収率で誘導される。
【0017】
【化9】
【0018】アリルハライド誘導体[I]の具体例とし
ては、例えば6−ブロモ−7,8,9,9−テトラメチ
ル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−
エン、6−ブロモ−8−エチル−7,9,9−トリメチ
ル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−
エン、6−ブロモ−8−プロピル−7,9,9−トリメ
チル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7
−エン、6−ブロモ−8−イソプロピル−7,9,9−
トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デ
カ−7−エン、6−ブロモ−8−ブチル−7,9,9−
トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デ
カ−7−エン、6−ブロモ−8−ペンチル−7,9,9
−トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−
デカ−7−エン、6−ブロモ−8−ヘキシル−7,9,
9−トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]
−デカ−7−エン、6−ブロモ−2,7,8,9,9−
ペンタメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−
デカ−7−エン、6−ブロモ−8−エチル−2,7,
9,9−テトラメチル−1,4−ジオキサスピロ−
[4,5]−デカ−7−エン、6−ブロモ−8−プロピ
ル−2,7,9,9−テトラメチル−1,4−ジオキサ
スピロ−[4,5]−デカ−7−エン、6−ブロモ−8
−イソプロピル−2,7,9,9−テトラメチル−1,
4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−エン、6
−ブロモ−8−ブチル−2,7,9,9−テトラメチル
−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−エ
ン、6−ブロモ−8−ペンチル−2,7,9,9−テト
ラメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ
−7−エン、6−ブロモ−8−ヘキシル−2,7,9,
9−テトラメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,
5]−デカ−7−エン、6−ブロモ−8−(3−ブテニ
ル)−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサスピ
ロ−[4,5]−デカ−7−エン、6−ブロモ−8−
(1−ブテニル)−7,9,9−トリメチル−1,4−
ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−エン、6−ブ
ロモ−8−(3−ブテニル)−2,7,9,9−テトラ
メチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−
7−エン、6−ブロモ−8−(1−ブテニル)−2,
7,9,9−テトラメチル−1,4−ジオキサスピロ−
[4,5]−デカ−7−エン、6−クロロ−7,8,
9,9−テトラメチル−1,4−ジオキサスピロ−
[4,5]−デカ−7−エン、6−クロロ−8−エチル
−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−
[4,5]−デカ−7−エン、6−クロロ−8−プロピ
ル−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサスピロ
−[4,5]−デカ−7−エン、6−クロロ−8−イソ
プロピル−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサ
スピロ−[4,5]−デカ−7−エン、6−クロロ−8
−プロピル−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキ
サスピロ−[4,5]−デカ−7−エン、8−ブチル−
6−クロロ−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキ
サスピロ−[4,5]−デカ−7−エン、6−クロロ−
8−ペンチル−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオ
キサスピロ−[4,5]−デカ−7−エン、6−クロロ
−8−ヘキシル−7,9,9−トリメチル−1,4−ジ
オキサスピロ−[4,5]−デカ−7−エン、8(3−
ブテニル)−6−クロロ−7,9,9−トリメチル−
1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−エ
ン、8(1−ブテニル)−6−クロロ−7,9,9−ト
リメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ
−7−エン、6−ヨード−7,8,9,9−テトラメチ
ル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−
エン、8−エチル−6−ヨード−7,9,9−トリメチ
ル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−
エン、6−ヨード−8−プロピル−7,9,9−トリメ
チル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7
−エン、6−ヨード−8−イソプロピル−7,9,9−
トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デ
カ−7−エン、8−ブチル−6−ヨード−7,9,9−
トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デ
カ−7−エン、6−ヨード−8−ペンチル−7,9,9
−トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−
デカ−7−エン、8−ヘキシル−6−ヨード−7,9,
9−トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]
−デカ−7−エン、8(3−ブテニル)−6−ヨード−
7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−
[4,5]−デカ−7−エン、8(1−ブテニル)−6
−ヨード−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサ
スピロ−[4,5]−デカ−7−エン、などが挙げられ
る。
ては、例えば6−ブロモ−7,8,9,9−テトラメチ
ル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−
エン、6−ブロモ−8−エチル−7,9,9−トリメチ
ル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−
エン、6−ブロモ−8−プロピル−7,9,9−トリメ
チル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7
−エン、6−ブロモ−8−イソプロピル−7,9,9−
トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デ
カ−7−エン、6−ブロモ−8−ブチル−7,9,9−
トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デ
カ−7−エン、6−ブロモ−8−ペンチル−7,9,9
−トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−
デカ−7−エン、6−ブロモ−8−ヘキシル−7,9,
9−トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]
−デカ−7−エン、6−ブロモ−2,7,8,9,9−
ペンタメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−
デカ−7−エン、6−ブロモ−8−エチル−2,7,
9,9−テトラメチル−1,4−ジオキサスピロ−
[4,5]−デカ−7−エン、6−ブロモ−8−プロピ
ル−2,7,9,9−テトラメチル−1,4−ジオキサ
スピロ−[4,5]−デカ−7−エン、6−ブロモ−8
−イソプロピル−2,7,9,9−テトラメチル−1,
4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−エン、6
−ブロモ−8−ブチル−2,7,9,9−テトラメチル
−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−エ
ン、6−ブロモ−8−ペンチル−2,7,9,9−テト
ラメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ
−7−エン、6−ブロモ−8−ヘキシル−2,7,9,
9−テトラメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,
5]−デカ−7−エン、6−ブロモ−8−(3−ブテニ
ル)−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサスピ
ロ−[4,5]−デカ−7−エン、6−ブロモ−8−
(1−ブテニル)−7,9,9−トリメチル−1,4−
ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−エン、6−ブ
ロモ−8−(3−ブテニル)−2,7,9,9−テトラ
メチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−
7−エン、6−ブロモ−8−(1−ブテニル)−2,
7,9,9−テトラメチル−1,4−ジオキサスピロ−
[4,5]−デカ−7−エン、6−クロロ−7,8,
9,9−テトラメチル−1,4−ジオキサスピロ−
[4,5]−デカ−7−エン、6−クロロ−8−エチル
−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−
[4,5]−デカ−7−エン、6−クロロ−8−プロピ
ル−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサスピロ
−[4,5]−デカ−7−エン、6−クロロ−8−イソ
プロピル−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサ
スピロ−[4,5]−デカ−7−エン、6−クロロ−8
−プロピル−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキ
サスピロ−[4,5]−デカ−7−エン、8−ブチル−
6−クロロ−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキ
サスピロ−[4,5]−デカ−7−エン、6−クロロ−
8−ペンチル−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオ
キサスピロ−[4,5]−デカ−7−エン、6−クロロ
−8−ヘキシル−7,9,9−トリメチル−1,4−ジ
オキサスピロ−[4,5]−デカ−7−エン、8(3−
ブテニル)−6−クロロ−7,9,9−トリメチル−
1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−エ
ン、8(1−ブテニル)−6−クロロ−7,9,9−ト
リメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ
−7−エン、6−ヨード−7,8,9,9−テトラメチ
ル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−
エン、8−エチル−6−ヨード−7,9,9−トリメチ
ル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−
エン、6−ヨード−8−プロピル−7,9,9−トリメ
チル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7
−エン、6−ヨード−8−イソプロピル−7,9,9−
トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デ
カ−7−エン、8−ブチル−6−ヨード−7,9,9−
トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デ
カ−7−エン、6−ヨード−8−ペンチル−7,9,9
−トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−
デカ−7−エン、8−ヘキシル−6−ヨード−7,9,
9−トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]
−デカ−7−エン、8(3−ブテニル)−6−ヨード−
7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−
[4,5]−デカ−7−エン、8(1−ブテニル)−6
−ヨード−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサ
スピロ−[4,5]−デカ−7−エン、などが挙げられ
る。
【0019】最初の工程の脱ハロゲン化水素反応は有機
塩基を用いることにより好適に実施される。有機塩基と
しては例えば1,8−ジアザビシクロ−[5,4,0]
−ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ−
[4,3,0]−H−5−エン、1,4−ジアザビシク
ロ−[2,2,0]−オクタン、4,5−ジヒドロ−
N,N−ジメチル−3H−ピロール−2−アミンが挙げ
られる。使用量としてはアリルハライド誘導体[I]1
モルに対して0.5〜5モル倍、特に1〜2倍モルが好
ましい。脱ハロゲン化水素反応は有機塩基のみを用いて
も行うことができるが他の溶媒と共存下に行うことが好
ましい。反応溶媒としては、ヘキサン、シクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレンの如き、炭化水素溶
媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチル
エーテルテトラヒドロピランの如きエーテル系溶媒、こ
れらの任意の組合せからなる混合溶媒があげられる。
塩基を用いることにより好適に実施される。有機塩基と
しては例えば1,8−ジアザビシクロ−[5,4,0]
−ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ−
[4,3,0]−H−5−エン、1,4−ジアザビシク
ロ−[2,2,0]−オクタン、4,5−ジヒドロ−
N,N−ジメチル−3H−ピロール−2−アミンが挙げ
られる。使用量としてはアリルハライド誘導体[I]1
モルに対して0.5〜5モル倍、特に1〜2倍モルが好
ましい。脱ハロゲン化水素反応は有機塩基のみを用いて
も行うことができるが他の溶媒と共存下に行うことが好
ましい。反応溶媒としては、ヘキサン、シクロヘキサ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレンの如き、炭化水素溶
媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチル
エーテルテトラヒドロピランの如きエーテル系溶媒、こ
れらの任意の組合せからなる混合溶媒があげられる。
【0020】反応時間は0.5〜15時間、特に1〜5
時間が好ましい。反応温度は25〜200℃、特に10
0〜150℃が好ましい。
時間が好ましい。反応温度は25〜200℃、特に10
0〜150℃が好ましい。
【0021】反応終了後は、たとえば反応液を大過剰の
水に注ぎ適当な抽出溶媒、例えばベンゼン、トルエン、
四塩化炭素、クロロホルム酢酸エチル等を用いて抽出
し、水洗し、例えば芒硝で乾燥し、溶媒を蒸留すること
により前記ジエンアセタール[II]を得ることができ
る。ジエンアセタールは必要に応じ減圧蒸留、カラムク
ロマトグラフィーなどの手段で精製することができる。
勿論これらの分離精製工程を経ずに次の工程に供しても
よい。
水に注ぎ適当な抽出溶媒、例えばベンゼン、トルエン、
四塩化炭素、クロロホルム酢酸エチル等を用いて抽出
し、水洗し、例えば芒硝で乾燥し、溶媒を蒸留すること
により前記ジエンアセタール[II]を得ることができ
る。ジエンアセタールは必要に応じ減圧蒸留、カラムク
ロマトグラフィーなどの手段で精製することができる。
勿論これらの分離精製工程を経ずに次の工程に供しても
よい。
【0022】次工程の加水分解反応における酸として
は、例えば塩酸、硫酸、リン酸、過塩素酸のごとき鉱
酸、パラトルエンスルフォン酸、シュウ酸、酢酸のごと
き有機酸ならびにパラトルエンスルフォン酸ピリジン塩
のごとき有機酸の有機塩があげられる。酸はそのまま、
または、水溶液で用いることができるが、水溶液の方が
好ましい。水溶液の濃度は0.1〜95重量%、特に5
〜20重量%が好ましい。使用する酸水溶液の量はジエ
ンアセタール[II]に対して0.1〜50倍、特に1
〜10倍量が好ましい。反応は酸水溶液の存在下で行う
ことができるが他の溶媒と共存下に行うことが好まし
い。
は、例えば塩酸、硫酸、リン酸、過塩素酸のごとき鉱
酸、パラトルエンスルフォン酸、シュウ酸、酢酸のごと
き有機酸ならびにパラトルエンスルフォン酸ピリジン塩
のごとき有機酸の有機塩があげられる。酸はそのまま、
または、水溶液で用いることができるが、水溶液の方が
好ましい。水溶液の濃度は0.1〜95重量%、特に5
〜20重量%が好ましい。使用する酸水溶液の量はジエ
ンアセタール[II]に対して0.1〜50倍、特に1
〜10倍量が好ましい。反応は酸水溶液の存在下で行う
ことができるが他の溶媒と共存下に行うことが好まし
い。
【0023】反応溶媒としてはテトラヒドロフラン、ジ
オキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルの如きエーテル溶
媒、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ルの如きアルコール系溶媒、アセトン、ジエチルケト
ン、メチルエチルケトンの如きケトン溶媒があげられ
る。反応時間は0.1〜15時間、特に1〜3時間が好
ましい。反応温度は−5℃〜100℃、特に20〜50
℃が好ましい。反応終了後はたとえば溶媒を留去した
後、大過剰の炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム水溶液に注ぎ、適当な抽出溶媒、例えばベン
ゼン、トルエン、四塩化炭素、酢酸エチル等を用いて抽
出し、水洗し例えば芒硝で乾燥し、溶媒を除去すること
により4−アルキリデン−3,5,5−トリメチル−2
−シクロヘキセン−1−オン[III]を得ることがで
きる。4−アルキリデン−3,5,5−トリメチル−2
−シクロヘキセン−1−オン[III]は必要に応じ減
圧蒸留、カラムクロマトグラフィーなどの手段で精製す
ることができる。かくして安価な市販の試薬を用い簡単
な操作で、短工程かつ高収率で4−アルキリデン−3,
5,5−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン
[III]得ることができる。
オキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルの如きエーテル溶
媒、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ルの如きアルコール系溶媒、アセトン、ジエチルケト
ン、メチルエチルケトンの如きケトン溶媒があげられ
る。反応時間は0.1〜15時間、特に1〜3時間が好
ましい。反応温度は−5℃〜100℃、特に20〜50
℃が好ましい。反応終了後はたとえば溶媒を留去した
後、大過剰の炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
ナトリウム水溶液に注ぎ、適当な抽出溶媒、例えばベン
ゼン、トルエン、四塩化炭素、酢酸エチル等を用いて抽
出し、水洗し例えば芒硝で乾燥し、溶媒を除去すること
により4−アルキリデン−3,5,5−トリメチル−2
−シクロヘキセン−1−オン[III]を得ることがで
きる。4−アルキリデン−3,5,5−トリメチル−2
−シクロヘキセン−1−オン[III]は必要に応じ減
圧蒸留、カラムクロマトグラフィーなどの手段で精製す
ることができる。かくして安価な市販の試薬を用い簡単
な操作で、短工程かつ高収率で4−アルキリデン−3,
5,5−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オン
[III]得ることができる。
【0024】
【実施例】以下に実施例をあげ具体的に説明する。 実施例−1:6−ブロモ−8−エチル−7,9,9−ト
リメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ
−7−エン 455mg(1.57mmol)、1,8
−ジアザビシクロ−[5,4,0]−ウンデカ−7−エ
ン 263mg(1.73mmol)を4mlのトルエ
ンに溶解し、3時間攪拌下還流した。室温に冷却後、1
mlの水、50mlの酢酸エチルを加え抽出した。有機
層を5mlの飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。次に溶媒を除去した後、シリカゲルクロ
マトグラフィーを行い262mgの留分を得た。このも
のをガスクロマトグラフィーで分析した結果、8−エチ
リデン−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサス
ピロ−[4,5]−デカ−6−エンのシス体(a)、ト
ランス体(b)をそれぞれ49%、51%含有してい
た。(反応収率=80%)
リメチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ
−7−エン 455mg(1.57mmol)、1,8
−ジアザビシクロ−[5,4,0]−ウンデカ−7−エ
ン 263mg(1.73mmol)を4mlのトルエ
ンに溶解し、3時間攪拌下還流した。室温に冷却後、1
mlの水、50mlの酢酸エチルを加え抽出した。有機
層を5mlの飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。次に溶媒を除去した後、シリカゲルクロ
マトグラフィーを行い262mgの留分を得た。このも
のをガスクロマトグラフィーで分析した結果、8−エチ
リデン−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサス
ピロ−[4,5]−デカ−6−エンのシス体(a)、ト
ランス体(b)をそれぞれ49%、51%含有してい
た。(反応収率=80%)
【0025】
【化10】
【0026】
【数1】
【0027】次にこの留分232mg(1.12mmo
l)5wt%塩酸水溶液1.4ml、THF3.6ml
を混合し、25℃で1時間攪拌した。THFを減圧留去
した後、酢酸エチル20mlを加え、2mlの飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で2回、2mlの飽和食塩水で1
回洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を除
去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを行い16
9mgの留分を得た。このものをガスクロマトグラフィ
ーで分析した結果、4−エチリデン−3,5,5−トリ
メチル−2−シクロヘキセン−1−オンのシス体
(c)、トランス体(d)をそれぞれ49%、51%含
有していた。(反応収率=92%) シリカゲルクロマトグラフィーによりシス体(c)、ト
ランス体(d)を単離した。
l)5wt%塩酸水溶液1.4ml、THF3.6ml
を混合し、25℃で1時間攪拌した。THFを減圧留去
した後、酢酸エチル20mlを加え、2mlの飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で2回、2mlの飽和食塩水で1
回洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を除
去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを行い16
9mgの留分を得た。このものをガスクロマトグラフィ
ーで分析した結果、4−エチリデン−3,5,5−トリ
メチル−2−シクロヘキセン−1−オンのシス体
(c)、トランス体(d)をそれぞれ49%、51%含
有していた。(反応収率=92%) シリカゲルクロマトグラフィーによりシス体(c)、ト
ランス体(d)を単離した。
【0028】
【化11】
【0029】
【数2】
【0030】
【数3】
【0031】実施例−2 6−ブロモ−8−ブチル−7,9,9−トリメチル−
1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−エン
498mg(1.57mmol)、1,8−ジアザビ
シクロ−[5,4,0]−ウンデカ−7−エン 263
mg(1.73mmol)を5mlのトルエンに溶解
し、4時間攪拌下還流した。室温に冷却後1mlの水、
50mlの酢酸エチルを加え抽出した。有機層を5ml
の飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。次に溶媒を除去した後、シリカゲルクロマトグラフ
ィーを行い293mgの留分を得た。このものをガスク
ロマトグラフィーで分析した結果、8−ブチリデン−
7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−
[4,5]−デカ−6−エンのシス体(e)、トランス
体(f)をそれぞれ60%、40%含有していた。(反
応収率=79%)
1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−7−エン
498mg(1.57mmol)、1,8−ジアザビ
シクロ−[5,4,0]−ウンデカ−7−エン 263
mg(1.73mmol)を5mlのトルエンに溶解
し、4時間攪拌下還流した。室温に冷却後1mlの水、
50mlの酢酸エチルを加え抽出した。有機層を5ml
の飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。次に溶媒を除去した後、シリカゲルクロマトグラフ
ィーを行い293mgの留分を得た。このものをガスク
ロマトグラフィーで分析した結果、8−ブチリデン−
7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサスピロ−
[4,5]−デカ−6−エンのシス体(e)、トランス
体(f)をそれぞれ60%、40%含有していた。(反
応収率=79%)
【0032】
【化12】
【0033】
【数4】
【0034】次にこの留分192mg(0.814mm
ol)5wt%塩酸水溶液1.4ml、THF3.6m
lを混合し、30℃で1時間攪拌した。THFを減圧留
去した後、酢酸エチル20mlを加え、2mlの飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液で2回、2mlの飽和食塩水で
1回洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
除去しシリカゲルカラムクロマトグラフィーを行い12
7mgの留分を得た。このものをガスクロマトグラフィ
ーで分析した結果、4−ブチリデン−3,5,5−トリ
メチル−2−シクロヘキセン−1−オンのシス体
(g)、トランス体(h)をそれぞれ64%、36%含
有していた。(反応収率=81%) シリカゲルカラムクロマトグラフィーによりシス体
(g)、トランス体(h)を単離した。
ol)5wt%塩酸水溶液1.4ml、THF3.6m
lを混合し、30℃で1時間攪拌した。THFを減圧留
去した後、酢酸エチル20mlを加え、2mlの飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液で2回、2mlの飽和食塩水で
1回洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
除去しシリカゲルカラムクロマトグラフィーを行い12
7mgの留分を得た。このものをガスクロマトグラフィ
ーで分析した結果、4−ブチリデン−3,5,5−トリ
メチル−2−シクロヘキセン−1−オンのシス体
(g)、トランス体(h)をそれぞれ64%、36%含
有していた。(反応収率=81%) シリカゲルカラムクロマトグラフィーによりシス体
(g)、トランス体(h)を単離した。
【0035】
【化13】
【0036】
【数5】
【0037】
【数6】
【0038】実施例−3 6−ブロモ−8−(3−ブテニル)−7,9,9−トリ
メチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−
7−エン 495mg(1.57mmol)、1,8−
ジアザビシクロ−[5,4,0]−ウンデカ−7−エン
263mg(1.73mmol)を5mlのトルエン
に溶解し、5時間攪拌下還流した。室温に冷却後1ml
の水、50mlの酢酸エチルを加え抽出した。有機層を
5mlの飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。次に溶媒を除去した後、シリカゲルクロマト
グラフィーを行い300mgの留分を得た。このものを
ガスクロマトグラフィーで分析した結果、8−(3−ブ
テニリデン)−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオ
キサスピロ−[4,5]−デカ−6−エンのシスならび
にトランス混合物(i)ならびに8(2−ブテニリデ
ン)−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサスピ
ロ−[4,5]−デカ−6−エンの4つの幾何異性体
(j)をそれぞれ53%、21%含有していた。(反応
収率=60%)
メチル−1,4−ジオキサスピロ−[4,5]−デカ−
7−エン 495mg(1.57mmol)、1,8−
ジアザビシクロ−[5,4,0]−ウンデカ−7−エン
263mg(1.73mmol)を5mlのトルエン
に溶解し、5時間攪拌下還流した。室温に冷却後1ml
の水、50mlの酢酸エチルを加え抽出した。有機層を
5mlの飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。次に溶媒を除去した後、シリカゲルクロマト
グラフィーを行い300mgの留分を得た。このものを
ガスクロマトグラフィーで分析した結果、8−(3−ブ
テニリデン)−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオ
キサスピロ−[4,5]−デカ−6−エンのシスならび
にトランス混合物(i)ならびに8(2−ブテニリデ
ン)−7,9,9−トリメチル−1,4−ジオキサスピ
ロ−[4,5]−デカ−6−エンの4つの幾何異性体
(j)をそれぞれ53%、21%含有していた。(反応
収率=60%)
【0039】
【化14】
【0040】次にこの留分198mg(0.621mm
ol)、5%塩酸水溶液1.4ml、THF3.6ml
を混合し、30℃で1時間攪拌した。THFを減圧留去
した後、酢酸エチル20mlを加え、2mlの飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で2回、2mlの飽和食塩水で1
回洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を除
去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを行い12
7mgの留分を得た。このものをガスクロマトグラフィ
ーで分析した結果、4(3−ブテニリデン)−3,5,
5−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オンのシス
ならびにトランス混合物(k)ならびに4(2−ブテニ
リデン)−3,5,5−トリメチル−2−シクロヘキセ
ン−1−オンの4つの異性体(1)をそれぞれ51%、
25%含有していた。(反応収率=82%)
ol)、5%塩酸水溶液1.4ml、THF3.6ml
を混合し、30℃で1時間攪拌した。THFを減圧留去
した後、酢酸エチル20mlを加え、2mlの飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で2回、2mlの飽和食塩水で1
回洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を除
去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーを行い12
7mgの留分を得た。このものをガスクロマトグラフィ
ーで分析した結果、4(3−ブテニリデン)−3,5,
5−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オンのシス
ならびにトランス混合物(k)ならびに4(2−ブテニ
リデン)−3,5,5−トリメチル−2−シクロヘキセ
ン−1−オンの4つの異性体(1)をそれぞれ51%、
25%含有していた。(反応収率=82%)
【0041】
【化15】
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−2139(JP,A) 米国特許3268589(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 49/647
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式 【化1】 (式中R2は水素またはメチル基を示しR3は炭素数1
〜6のアルキル基またはアルキレン基を示し、Xはハロ
ゲン原子を示す)で表わされるアリルハライド誘導体を
脱ハロゲン化水素反応させて一般式 【化2】 (式中R1は水素または炭素数1〜5のアルキル基また
はアルキレン基を示す)で表わされるジエンアセタール
を製造し、次いで該ジエンアセタールを酸で加水分解す
ることを特徴とする一般式 【化3】 (式中R1は水素または炭素数1〜5のアルキル基また
はアルキレン基を示す)で表わされる4−アルキリデン
−3,5,5−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−
オンの製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32227991A JP3191114B2 (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | 4−アルキリデン−3,5,5−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オンの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32227991A JP3191114B2 (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | 4−アルキリデン−3,5,5−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オンの製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0597763A JPH0597763A (ja) | 1993-04-20 |
JP3191114B2 true JP3191114B2 (ja) | 2001-07-23 |
Family
ID=18141870
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32227991A Expired - Fee Related JP3191114B2 (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | 4−アルキリデン−3,5,5−トリメチル−2−シクロヘキセン−1−オンの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3191114B2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3268589A (en) | 1963-05-29 | 1966-08-23 | Reynolds Tobacco Co R | Process for preparing 4-(2-butenylidene)-3, 5, 5-trimethyl-2-cyclohexene-1-one |
-
1991
- 1991-10-02 JP JP32227991A patent/JP3191114B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3268589A (en) | 1963-05-29 | 1966-08-23 | Reynolds Tobacco Co R | Process for preparing 4-(2-butenylidene)-3, 5, 5-trimethyl-2-cyclohexene-1-one |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0597763A (ja) | 1993-04-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |