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JP3187742B2 - Wiring board manufacturing method, liquid crystal element manufacturing method, and wiring board manufacturing apparatus - Google Patents

Wiring board manufacturing method, liquid crystal element manufacturing method, and wiring board manufacturing apparatus

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JP3187742B2
JP3187742B2 JP9763597A JP9763597A JP3187742B2 JP 3187742 B2 JP3187742 B2 JP 3187742B2 JP 9763597 A JP9763597 A JP 9763597A JP 9763597 A JP9763597 A JP 9763597A JP 3187742 B2 JP3187742 B2 JP 3187742B2
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resin
metal wiring
transparent electrode
manufacturing
metal
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晴夫 友野
博之 徳永
優 神尾
雄二 松尾
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Canon Inc
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透明電極と金属配
線とを併設した配線基板製造方法、該配線基板を用い
た液晶素子製造方法、及び前記配線基板の製造装置に
関する。
The present invention relates to a method for producing a wiring board features a transparent electrode and a metal wire, a method of manufacturing a liquid crystal device using the wiring substrate, and a manufacturing apparatus of the wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、液晶を用いて情報を表示する
液晶表示素子は種々の分野において使用されているが、
近年の高精細化及び大面積化の要求に伴い、その構造も
次の(1) 乃至(4) のように変遷を重ねている。 (1) 初期の液晶表示素子は、図1(a) に示すように、略
平行に配置された一対のガラス基板1,1を備えてお
り、これらのガラス基板1,1はシーリング部材2によ
って貼り合わされて、その内部間隙には液晶3が保持さ
れていた。また、各基板1,1の表面には、図1(b) に
示すようなストライプ状のITO(インジウム錫酸化
物)等からなる透明電極6,…が多数形成されており、
これらの透明電極6,…の表面には絶縁膜7や配向制御
膜9が形成されていた。そして、これらの透明電極6,
…に所定のパルス信号を印加することにより、液晶表示
素子P1を駆動していた。
2. Description of the Related Art Conventionally, liquid crystal display elements for displaying information using liquid crystal have been used in various fields.
With the recent demand for higher definition and larger area, the structure has been changing as follows (1) to (4). (1) As shown in FIG. 1 (a), the initial liquid crystal display device has a pair of glass substrates 1, 1 arranged substantially in parallel, and these glass substrates 1, 1 are sealed by a sealing member 2. The liquid crystal 3 was held in the internal gap. On the surface of each of the substrates 1 and 1, a number of transparent electrodes 6 made of ITO (indium tin oxide) or the like as shown in FIG.
An insulating film 7 and an orientation control film 9 were formed on the surfaces of these transparent electrodes 6,. And these transparent electrodes 6,
By applying a predetermined pulse signal ..., I was driving the liquid crystal display element P 1.

【0003】しかしながら、この透明電極6,…は抵抗
が大きいため、表示面積の大型化、高精細化、並びに液
晶駆動の高速化に伴い電圧波形の遅延が問題となってい
た。
However, since the transparent electrodes 6,... Have a large resistance, a delay in a voltage waveform has been a problem with an increase in a display area, a high definition, and a high speed driving of a liquid crystal.

【0004】なお、この透明電極6,…を厚くすること
によって抵抗を下げることも考えられるが、透明電極
6,…の成膜に時間やコストがかかったり、ガラス基板
1への密着性が悪くなるという問題があった。 (2) このような問題を解決すべく、低抵抗の金属配線を
透明電極の裏面(ガラス基板の側の面)に配置したもの
が、特開平6−347810号公報等に開示されてい
る。
It is conceivable to reduce the resistance by increasing the thickness of the transparent electrodes 6, but it takes time and cost to form the transparent electrodes 6,..., And the adhesion to the glass substrate 1 is poor. There was a problem of becoming. (2) In order to solve such a problem, an arrangement in which a low-resistance metal wiring is arranged on the back surface of the transparent electrode (the surface on the side of the glass substrate) is disclosed in JP-A-6-347810.

【0005】この液晶表示素子P2 は、図2(a) に示す
ように、平行に配置された一対の配線基板10,10を
備えている。この配線基板10は、同図(b) に詳示する
ように、透明なガラス基板11を備えており、このガラ
ス基板11の表面には、ストライプ状の金属配線12,
…が多数形成されている。これらの金属配線12,…は
所定間隙を置いて配置されているが、該間隙には、絶縁
層、具体的には紫外線硬化樹脂(UV硬化樹脂)13,
…が充填されている。そして、この樹脂13,…は金属
配線12,…と共にほぼ平滑な面を形成しており、該ほ
ぼ平滑な面上には透明電極6,…が多数形成されてい
る。
As shown in FIG. 2A, the liquid crystal display element P 2 has a pair of wiring boards 10 arranged in parallel. As shown in detail in FIG. 1B, the wiring substrate 10 includes a transparent glass substrate 11, and on the surface of the glass substrate 11, stripe-shaped metal wirings 12,
Are formed in large numbers. These metal wirings 12,... Are arranged with a predetermined gap therebetween. In the gap, an insulating layer, specifically, an ultraviolet curing resin (UV curing resin) 13,
... are filled. The resin 13,... Together with the metal wirings 12,... Form a substantially smooth surface, and a large number of transparent electrodes 6,.

【0006】次に、このような配線基板10の製造方法
について、図3(a) 〜(h) を参照して簡単に説明する。 (金属配線形成工程)まず、ガラス基板11の表面には
スパッタ法等によって厚さ1μm程度のメタル層を形成
し、該メタル層をフォトリソグラフィ法等によってパタ
ーン化して、ストライプ状の金属配線12,…を多数形
成する。これにより、図3(b) に符号A1 で示す構造体
(以下、“金属配線基板A1 ”とし、該金属配線基板A
1 における金属配線12,…の形成された側の面を“配
線面15”とする)。 (樹脂供給工程)次に、平滑な板状部材16(以下、
“型基板16”とする)の表面に、液状のUV硬化樹脂
13Lをディスペンサー17を用いて所定量滴下し(同
図(a) 参照)、この型基板16と金属配線基板A1 とを
重ね合わせる(同図(b) 参照。以下、硬化される前の液
状のUV硬化樹脂を符号13Lで表し、硬化後のUV硬
化樹脂を符号13Sで表し、特に区別を要しない場合は
単に“UV硬化樹脂13”とする)。これにより、金属
配線相互の間隙にUV硬化樹脂13Lが供給されること
となる(以下、UV硬化樹脂13Lを型基板16及び金
属配線基板A1 にて挟み込んだ構造体A2 を“被加圧体
2 ”とする)。 (樹脂成形工程)次に、被加圧体A2 をプレス機19に
セットし(同図(c) 及び(d) 参照)、プレス圧力F1
加えて、型基板16を金属配線12,…に密着させる。
これにより、UV硬化樹脂13Lは、金属配線12,…
の表面から完全に、或は、金属配線12の表面にごく薄
く残る程度に除去される。なお、符号19a,19b
は、プレス機のプレス板である。 (樹脂硬化工程)その後、被加圧体A2 をプレス機19
より取り出し、その状態で紫外線L(以下、“UV光
L”とする)を照射する(同図(e) 参照)。このUV光
照射により、UV硬化樹脂13が硬化される。 (剥離工程)そして、UV硬化樹脂13の硬化が終了し
た後、不図示の離型装置によって図示F2 の方向に力を
加えて型基板16を剥離する(同図(f) 及び(g) 参
照)。 (透明電極形成工程)その後、硬化されたUV硬化樹脂
13S及び金属配線12,…の表面に透明電極6,…
を、スパッタ法などの方法によって形成した後、フォト
リソグラフィー法などによってパターニングする(同図
(h) 参照)。 (その他の工程)次に、透明電極6,…の表面に絶縁膜
7や配向制御膜9を形成し、配向制御膜9の表面にはラ
ビング処理を施す。さらに、2枚の配線基板10,10
を貼り合わせ、その間隙に液晶3を注入して液晶表示素
子を作成する。
Next, a method for manufacturing such a wiring board 10 will be briefly described with reference to FIGS. (Metal Wiring Forming Step) First, a metal layer having a thickness of about 1 μm is formed on the surface of a glass substrate 11 by a sputtering method or the like, and the metal layer is patterned by a photolithography method or the like. Are formed in large numbers. As a result, the structure (hereinafter referred to as “metal wiring board A 1 ”) denoted by reference numeral A 1 in FIG.
The surface on the side where the metal wirings 12,... In 1 are formed is referred to as “wiring surface 15”.) (Resin Supply Step) Next, a smooth plate-like member 16 (hereinafter, referred to as a
On the surface of the "type substrate 16" and), see UV curing resin 13L liquid using a dispenser 17 was added dropwise a predetermined amount (FIG. (A)), stacked and this type substrate 16 and the metal wiring board A 1 (Refer to FIG. 2 (b). Hereinafter, the liquid UV curable resin before being cured is represented by reference numeral 13L, and the UV curable resin after curing is represented by reference numeral 13S. Resin 13 ″). Thus, UV curing resin 13L is to be supplied to the metal wiring mutually gap (hereinafter, the structure A 2 which sandwich the UV curing resin 13L at -type substrate 16 and the metal wiring board A 1 "under pressure the body a 2 "). (Resin molding step) Next, (see Fig. (C) and (d)) to be pressure body A 2 was set in a press 19, in addition to pressing pressure F 1, a mold substrate 16 metal wires 12, ...
Thereby, the UV curable resin 13L is connected to the metal wiring 12,.
Completely or from the surface of the metal wiring 12 to such an extent that it remains very thinly. Reference numerals 19a, 19b
Is a press plate of a press machine. (Resin curing step) Thereafter, the pressed body A 2 is
Then, ultraviolet light L (hereinafter, referred to as “UV light L”) is irradiated in that state (see FIG. 4E). By this UV light irradiation, the UV curable resin 13 is cured. (Stripping step) Then, after the curing of the UV curable resin 13 is completed, separating the molding substrate 16 by applying force in the direction of the illustrated F 2 by the release apparatus (not shown) (FIG. (F) and (g) reference). (Transparent electrode forming step) Thereafter, the transparent electrodes 6,... Are formed on the surfaces of the cured UV curable resin 13S and the metal wirings 12,.
Is formed by a method such as a sputtering method and then patterned by a photolithography method or the like (see FIG.
(h)). (Other Steps) Next, an insulating film 7 and an orientation control film 9 are formed on the surfaces of the transparent electrodes 6, and a rubbing process is performed on the surface of the orientation control film 9. Further, the two wiring boards 10, 10
And a liquid crystal 3 is injected into the gap to form a liquid crystal display element.

【0007】ところで、このような配線基板10におい
ては、当然のことながら、隣り合う電極相互の絶縁を確
保する必要があり、そのためには、透明電極6と、該透
明電極6に隣り合う金属配線12との間に間隙Wを設け
る必要があった(同図(h) 参照)。そのため、作製した
液晶表示素子を駆動しても、該間隙Wの部分の液晶3に
は電圧が印加されないこととなり、この部分は画像表示
に寄与しないばかりか、光が常に透過する状態にあり、
その分画質が低下してしまうという問題があった。 (3) 一方、このような問題を解決するものとして、図4
に示すような配線基板20が提案されている。
By the way, in such a wiring board 10, it is needless to say that it is necessary to ensure insulation between adjacent electrodes. To this end, the transparent electrode 6 and the metal wiring adjacent to the transparent electrode 6 are required. It was necessary to provide a gap W between the first and second substrates 12 (see FIG. 3H). Therefore, even if the manufactured liquid crystal display element is driven, no voltage is applied to the liquid crystal 3 in the portion of the gap W, and this portion does not contribute to image display, and is in a state where light is always transmitted.
There is a problem that the image quality is reduced accordingly. (3) On the other hand, FIG.
Has been proposed as shown in FIG.

【0008】この配線基板20においては、ガラス基板
11上の間隙Wに相当する領域に、例えば金属製の遮光
層21,…が配置されており、その領域における光の透
過を防止するように構成されている。
In the wiring board 20, for example, a metal light-shielding layer 21,... Is arranged in a region corresponding to the gap W on the glass substrate 11, so as to prevent light transmission in that region. Have been.

【0009】しかし、このような配線基板20では、金
属配線幅よりも大きな幅の領域が遮光されてしまう。そ
のため、液晶表示素子を透過する光の量が減少して、い
わゆる開口率の低下を招いてしまい、画像が暗くなると
いう問題があった。また、遮光層21,…を形成する必
要がある分、製造工程が複雑となり、製造コストも上昇
するという問題もあった。 (4) このような問題を解決すべく、絶縁層の形状を特殊
な形状とした配線基板、並びにその製造方法が特開平2
−63019号公報等にて提案されている。
However, in such a wiring board 20, a region having a width larger than the metal wiring width is shielded from light. For this reason, the amount of light transmitted through the liquid crystal display element is reduced, so that the so-called aperture ratio is reduced, and there is a problem that an image is darkened. Further, the necessity of forming the light shielding layers 21,... Complicates the manufacturing process and raises the manufacturing cost. (4) In order to solve such a problem, a wiring board with a special shape of an insulating layer and a method of manufacturing the same are disclosed in
No. 63019.

【0010】図5は、その配線基板30の構造を示す断
面図であるが、この配線基板30はガラス基板11を有
している。そして、ガラス基板11の表面には所定間隙
を開けて金属配線12A,12B,…が形成されてお
り、金属配線相互の間隙には、感光性ポリイミド等から
なる絶縁層33,…が配置されている。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing the structure of the wiring board 30. The wiring board 30 has a glass substrate 11. On the surface of the glass substrate 11, metal wirings 12A, 12B,... Are formed with a predetermined gap therebetween. In the gap between the metal wirings, insulating layers 33 made of photosensitive polyimide or the like are arranged. I have.

【0011】そして、各絶縁層33は、金属配線12よ
りも厚い厚肉部33aを有しており、幅方向端部33b
は、厚さが次第に減少するように傾斜して形成されてい
る。また、金属配線12の幅方向中央部分は、絶縁層3
3によって被覆されてはおらず、露出している。
Each insulating layer 33 has a thick portion 33a thicker than the metal wiring 12, and has a width direction end 33b.
Are formed to be inclined so that the thickness gradually decreases. Further, the central portion in the width direction of the metal wiring 12 is located on the insulating layer 3.
3 and is exposed.

【0012】さらに、この絶縁層33,…及び金属配線
12,…の表面には、ITO等からなる透明電極36,
…が形成されている。そして、各透明電極36は、金属
配線12に沿って紙面に垂直方向に延設されている。こ
の透明電極36は、その幅方向の一縁部36aが、1本
の金属配線12Aに接触し、他縁部36bが、該金属配
線12Aに隣り合う他の金属配線12Bの端縁Eにほぼ
一致するように配置されている。
Further, on the surfaces of the insulating layers 33,... And the metal wirings 12,.
... are formed. Each of the transparent electrodes 36 extends in a direction perpendicular to the paper along the metal wiring 12. In the transparent electrode 36, one edge 36a in the width direction is in contact with one metal wiring 12A, and the other edge 36b is almost at the edge E of another metal wiring 12B adjacent to the metal wiring 12A. They are arranged to match.

【0013】次に、この配線基板30の製造方法の一例
について、図6(a) 〜(d) に沿って説明する。
Next, an example of a method for manufacturing the wiring board 30 will be described with reference to FIGS. 6 (a) to 6 (d).

【0014】まず、ガラス基板11の表面に金属配線1
2,…を形成し、金属配線基板A1を作製する(図6(a)
参照)。
First, the metal wiring 1 is formed on the surface of the glass substrate 11.
2, to form a ..., to produce a metal wiring board A 1 (FIGS. 6 (a)
reference).

【0015】次に、金属配線基板A1 に、液状の感光性
樹脂33Lをスピンコート等により塗布する(同図(b)
参照)。なお、塗布する厚さは、金属配線12,…より
も厚いものとする。
[0015] Then, the metal wiring board A 1, is coated with a photosensitive resin 33L liquid by spin coating or the like (FIG. (B)
reference). It is assumed that the thickness to be applied is thicker than the metal wirings 12,.

【0016】さらに、金属配線12,…の幅よりも狭い
遮光部37a,…を有するフォトマスク37を用い、光
を照射して(同図(c) 参照)、感光性樹脂33Lを硬化
させる。その後、このガラス基板11を現像液等に浸
し、感光性樹脂33Lの形状を所定のものにする(同図
(d) 参照)。
Further, the photosensitive resin 33L is cured by irradiating light using a photomask 37 having light shielding portions 37a,... Smaller than the widths of the metal wirings 12, (see FIG. 3C). Thereafter, the glass substrate 11 is immersed in a developing solution or the like to make the shape of the photosensitive resin 33L predetermined (see FIG.
(d)).

【0017】この配線基板30においては、透明電極3
6,…は、隣り合う他の金属配線12Bの端縁Eにほぼ
一致するように延設されているため、開口率が高くな
り、明るい画像を得ることができる。
In this wiring board 30, the transparent electrode 3
6,... Extend so as to substantially coincide with the edge E of the adjacent metal wiring 12B, so that the aperture ratio is increased and a bright image can be obtained.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した感
光性樹脂33は、パターニング性並びに耐久性に優れて
いる必要があり、かつ厚肉部33aは平坦である必要が
あるが、そのような理想的な感光性樹脂はなかなか見当
たらず、かかる製造方法の現実の実施は困難であった。
また、現像工程の条件のみによって感光性樹脂33を所
定形状に成形することも簡単ではなく、特に、幅方向端
部33bの傾斜角度の確保が困難で、該端部が、図7に
示すような垂直なものとなり易かった。そして、その場
合には、透明電極36が断線され易く、画像欠陥が発生
し易いという問題があった。
By the way, the above-mentioned photosensitive resin 33 needs to be excellent in patternability and durability, and the thick portion 33a needs to be flat. It was difficult to find a practical photosensitive resin, and it was difficult to implement such a manufacturing method in practice.
Further, it is not easy to mold the photosensitive resin 33 into a predetermined shape only by the conditions of the developing process. In particular, it is difficult to secure the inclination angle of the width direction end 33b. It was easy to become a vertical thing. In this case, there is a problem that the transparent electrode 36 is easily broken, and an image defect is easily generated.

【0019】そこで、本発明は、いわゆる電圧波形の遅
延の問題が解消されて大面積化及び高精細化に対応可能
な配線基板製造方法を提供することを目的とするもの
である。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a wiring substrate which can solve the problem of so-called voltage waveform delay and can cope with an increase in area and definition.

【0020】また、本発明は、画像が明るく画質が優れ
た配線基板製造方法を提供することを目的とするもの
である。
Further, the present invention is an object to provide a method of manufacturing a wiring board on which an image has excellent bright image quality.

【0021】さらに、本発明は、バックライト装置の輝
度を小さくでき、高輝度で消費電力の少ない配線基板
製造方法を提供することを目的とするものである。
Furthermore, the present invention can reduce the luminance of the backlight device, it is an object to provide a <br/> manufacturing method of a small wiring board power consumption with high luminance.

【0022】またさらに、本発明は、作業が簡単でコス
トも低減される配線基板製造方法を提供することを目
的とするものである。
Still another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a wiring board in which the operation is simple and the cost is reduced.

【0023】また、本発明は、透明電極の断線等を防止
できる配線基板製造方法を提供することを目的とする
ものである。
Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a wiring board which can prevent disconnection of a transparent electrode and the like.

【0024】さらに、本発明は、上述した種々の効果を
有するカラー表示用の配線基板製造方法を提供するこ
とを目的とするものである。
Still another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a wiring board for color display having the various effects described above.

【0025】またさらに、本発明は、カラーフィルタが
変色しない配線基板製造方法を提供することを目的と
するものである。
[0025] Furthermore, the present invention is an object to provide a method of manufacturing a wiring substrate on which the color filter is not discolored.

【0026】加えて、上述した目的を達成する配線基板
の製造方法を用いた液晶素子の製造方法を提供すること
を目的とするものである。
It is another object of the present invention to provide a method for manufacturing a liquid crystal element using the method for manufacturing a wiring board which achieves the above-mentioned object.

【0027】また、本発明は、上述した種々の効果を奏
する配線基板の製造装置を提供することを目的とするも
のである。
Another object of the present invention is to provide an apparatus for manufacturing a wiring board having the various effects described above.

【0028】[0028]

【課題を解決するための手段】本発明は、透光性基板の
表面に複数の金属配線を形成する金属配線形成工程、該
複数の金属配線相互の間隙に樹脂を供給する樹脂供給工
程、該樹脂を硬化する樹脂硬化工程、及び該硬化された
樹脂の表面に透明電極を形成する透明電極形成工程、を
有する配線基板の製造方法において、 ベース板と該ベー
ス板上に設けられた突条部とを有する型基板であって、
前記金属配線よりも幅狭で前記金属配線に対応した位置
に形成されるとともに少なくとも一側面が前記ベース板
の表面に垂直ではない突条部を有する型基板を、該突条
部の位置が該金属配線の位置に対応するように前記樹脂
に押圧し、前記樹脂を成形する樹脂成形工程を、前記樹
脂硬化工程の前に実施する、ことを特徴とする配線基板
の製造方法を提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a light-transmitting substrate.
A metal wiring forming step of forming a plurality of metal wirings on the surface,
A resin supplier that supplies resin to the gap between multiple metal wires
The resin curing step of curing the resin, and the cured
Forming a transparent electrode on the surface of the resin.
A method of manufacturing a wiring board having a base plate and a base plate.
A mold substrate having a ridge provided on a metal plate,
Position narrower than the metal wiring and corresponding to the metal wiring
And at least one side surface of the base plate
A mold substrate having a ridge not perpendicular to the surface of the
So that the position of the part corresponds to the position of the metal wiring.
Pressing the resin to form the resin,
A wiring board, which is performed before the fat curing step
And a method for producing the same.

【0029】[0029]

【0030】[0030]

【0031】さらに、本発明は、一対の基板間に液晶を
挟持した液晶素子の製造方法であつて、透光性基板の表
面に複数の金属配線を形成する金属配線形成工程、該複
数の金属配線相互の間隙に樹脂を供給する樹脂供給工
程、該樹脂を硬化する樹脂硬化工程、及び該硬化された
樹脂の表面に透明電極を形成する透明電極形成工程、と
を有し、ベース板と該ベース板上に設けられた突条部と
を有する型基板であって、前記金属配線よりも幅狭で前
記金属配線に対応した位置に形成されるとともに少なく
とも一側面が前記ベース板の表面に垂直ではない突条部
を有する型基板を、該突条部の位置が該金属配線の位置
に対応するように前記樹脂に押圧し、前記樹脂を成形す
る樹脂成形工程を、前記樹脂硬化工程の前に実施するこ
とを特徴とする液晶素子の製造方法を提供する。
Further, the present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal element in which a liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates, comprising a step of forming a plurality of metal wirings on a surface of a light transmitting substrate; A resin supply step of supplying a resin to the space between the wirings, a resin curing step of curing the resin, and a transparent electrode forming step of forming a transparent electrode on the surface of the cured resin, A mold substrate having a ridge provided on a base plate, wherein the mold substrate is formed at a position narrower than the metal wiring and corresponding to the metal wiring and at least one side surface is perpendicular to the surface of the base plate. A resin molding step of pressing a mold substrate having a non-projecting portion against the resin so that the position of the projecting portion corresponds to the position of the metal wiring, and molding the resin before the resin curing step Liquid crystal characterized by being implemented To provide a method of manufacturing a child.

【0032】また、本発明は、金属配線が形成された基
板の表面、又は該金属配線よりも幅狭で該金属配線に対
応した位置に形成されるとともに少なくとも一側面が前
記ベース板の表面に垂直ではない突条部を有する型基板
の表面に樹脂を供給する樹脂供給ユニットと、前記突条
部の位置と前記金属配線の位置とが対応するように前記
型基板を前記樹脂に押圧して該樹脂を成形する樹脂成形
ユニットと、前記成形された樹脂を硬化させる樹脂硬化
ユニットと、前記型基板を前記硬化した樹脂から離形す
る離形ユニットと、を有する配線基板の製造装置を提供
する。
Further, according to the present invention, the metal wiring is formed on a surface of the substrate or a position narrower than the metal wiring and corresponding to the metal wiring, and at least one side surface is formed on the surface of the base plate. A resin supply unit that supplies a resin to the surface of a mold substrate having a non-perpendicular ridge portion, and pressing the mold substrate against the resin so that the position of the ridge portion corresponds to the position of the metal wiring. Provided is an apparatus for manufacturing a wiring board, comprising: a resin molding unit for molding the resin; a resin curing unit for curing the molded resin; and a release unit for releasing the mold substrate from the cured resin. .

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態について説明する。なお、図1乃至図7に示
すものと同一部分は同一符号を付して説明を省略する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The same parts as those shown in FIGS. 1 to 7 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0034】まず、本発明の第1の実施の形態につい
て、図8乃至図13を参照して説明する。
First, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0035】本発明に係る液晶素子P3 は、図8(a) に
示すように、略平行に配置された一対の配線基板30,
30を備えている。
As shown in FIG. 8A, the liquid crystal element P 3 according to the present invention comprises a pair of wiring boards 30 arranged substantially in parallel.
30.

【0036】この配線基板30は、図8(b) に詳示する
ように、透光性のガラス基板11を有しており、ガラス
基板11の表面には、ストライプ状の金属配線12A,
12B,…が相互に離間するように多数配置されてい
る。
As shown in FIG. 8 (b), the wiring substrate 30 has a light-transmitting glass substrate 11, and the surface of the glass substrate 11 has stripe-shaped metal wirings 12A,
Are arranged so as to be separated from each other.

【0037】また、金属配線12A,12B,…の相互
の間隙には、UV光を照射することにより硬化するUV
硬化樹脂(絶縁層)33,…が夫々配置されている。各
UV硬化樹脂33は、金属配線12よりも突出して略平
坦な表面を有する厚肉部(平坦部)33aを有してお
り、この厚肉部33aに隣接する幅方向端部(傾斜部)
33bは、傾斜した平面を形成し、金属配線12表面か
ら厚肉部33a表面にかけて緩やかな面を形成してい
る。そして、金属配線12の幅方向中央部は樹脂で被覆
されずに露出されており、かかる金属配線12の露出部
分(表面)と、該露出部分を挟んで隣り合う樹脂端部3
3b,33bとによって、図9(g) に示すように、等脚
台形の断面形状の空隙部S0 を形成している。
The space between the metal wirings 12A, 12B,... Is cured by irradiating UV light.
Cured resins (insulating layers) 33 are arranged respectively. Each UV curable resin 33 has a thick portion (flat portion) 33a having a substantially flat surface protruding from the metal wiring 12, and a width direction end portion (inclined portion) adjacent to the thick portion 33a.
33b forms an inclined plane and forms a gentle surface from the surface of the metal wiring 12 to the surface of the thick portion 33a. The central portion in the width direction of the metal wiring 12 is exposed without being covered with the resin, and the exposed portion (surface) of the metal wiring 12 and the resin end portion 3 adjacent to each other with the exposed portion interposed therebetween.
3b, by the 33b, as shown in FIG. 9 (g), to form a gap portion S 0 of isosceles trapezoidal cross-sectional shape.

【0038】なお、端部33bの傾斜した平面の傾斜角
は15°以上60°以下であることが好ましい。傾斜角
が15°未満では傾斜部分の幅が広がりすぎて、傾斜し
た平面が配線幅内に収まらない恐れがある。傾斜した平
面が配線幅内に収まらないと、液晶素子の画素内で透明
電極の平坦性が失われることになり、閾値ムラ、配向欠
陥などを生ずる原因となり得るため好ましくない。一
方、傾斜角が60°を超えると、端部33bで透明電極
36の断線が生ずるおそれがある。特に、配向制御膜形
成工程などの後工程での透明電極の熱膨張、収縮による
透明電極の割れが懸念される。
It is preferable that the inclination angle of the inclined plane of the end portion 33b is not less than 15 ° and not more than 60 °. If the angle of inclination is less than 15 °, the width of the inclined portion is too wide, and the inclined plane may not fit within the wiring width. If the inclined plane does not fall within the width of the wiring, the flatness of the transparent electrode is lost in the pixel of the liquid crystal element, which may cause threshold unevenness and alignment defects. On the other hand, if the inclination angle exceeds 60 °, the transparent electrode 36 may be disconnected at the end 33b. In particular, there is a concern that the transparent electrode may be cracked due to thermal expansion and contraction of the transparent electrode in a later step such as an alignment control film forming step.

【0039】なお、UV硬化樹脂33の厚肉部33a
は、金属配線12よりも0.1〜5μm厚く形成するこ
とが好ましく、0.5〜3μm厚く形成することが好ま
しい。厚肉部33aが上記範囲より薄くなると金属配線
12の凹凸やUV硬化樹脂33のピンホールによって隣
り合う電極間の絶縁が確保できなくなるおそれがある。
一方、厚肉部33aが上記範囲より厚くなると前述の傾
斜角が15°未満となったときと同様の問題がある。
The thick portion 33a of the UV curable resin 33
Is preferably formed to be 0.1 to 5 μm thicker than the metal wiring 12, and preferably 0.5 to 3 μm thicker. If the thick portion 33a is thinner than the above range, insulation between adjacent electrodes may not be able to be secured due to unevenness of the metal wiring 12 or a pinhole of the UV curable resin 33.
On the other hand, if the thick portion 33a is thicker than the above range, there is a problem similar to the case where the above-mentioned inclination angle is less than 15 °.

【0040】さらに、このUV硬化樹脂33及び金属配
線12の表面には、ITOからなる透明電極36,…が
多数形成されている。そして、各透明電極36は、各金
属配線12に沿ってストライプ状に形成されており、そ
の幅方向の一縁部36aが1本の金属配線12Aのみに
電気的に接続し、他縁部36bが、該金属配線12Aに
隣り合う他の金属配線12Bの端縁Eを覆うように延設
された状態に形成されている。なお、この場合、透明電
極36の他縁部36bが、隣り合う金属配線12Bの端
縁Eにほぼ一致するように延設されていても良い。
Further, a large number of transparent electrodes 36 made of ITO are formed on the surface of the UV curable resin 33 and the metal wiring 12. Each transparent electrode 36 is formed in a stripe shape along each metal wiring 12, and one edge 36 a in the width direction is electrically connected to only one metal wiring 12 A, and the other edge 36 b Are formed so as to extend so as to cover an edge E of another metal wiring 12B adjacent to the metal wiring 12A. In this case, the other edge 36b of the transparent electrode 36 may be extended so as to substantially coincide with the edge E of the adjacent metal wiring 12B.

【0041】ここで、ガラス基板11としては、両面が
研磨されて平行度の良好なもので、かつ厚さが1mm程度
であれば良く、液晶基板用として一般的に用いられるも
の、例えば、ソーダガラス(青板ガラス)で良い。
Here, the glass substrate 11 may be a glass substrate which is polished on both sides and has good parallelism and has a thickness of about 1 mm, and is generally used for a liquid crystal substrate, for example, soda. Glass (blue plate glass) is good.

【0042】また、金属配線12,…としては、抵抗値
が小さく、厚さ1μm程度に真空蒸着法やスパッタリン
グ法等によって成膜することが容易で、さらにガラス基
板11への密着性が良好であることが好ましく、例え
ば、アルミニウム、クロム、モリブデン、タングステ
ン、金、銀、銅等が好ましく、アルミニウム、銅がさら
に好ましい。なお、この金属配線12,…の表面にシラ
ンカップリング処理等の密着処理を行ない、UV硬化樹
脂33が良好に密着するようにしても良い。
The metal wirings 12,... Have a small resistance value, can be easily formed into a thickness of about 1 μm by a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like, and have good adhesion to the glass substrate 11. It is preferably, for example, aluminum, chromium, molybdenum, tungsten, gold, silver, copper and the like are preferable, and aluminum and copper are more preferable. The surface of the metal wirings 12,... May be subjected to an adhesion treatment such as a silane coupling treatment so that the UV-curable resin 33 adheres well.

【0043】さらに、透明電極36,…としては、IT
Oの代わりに、インジウムオキサイド、ティンオキサイ
ド等を使用しても良い。なお、透明電極の厚みは、10
0〜5000Å程度が好ましい。
Further, as the transparent electrodes 36,.
Instead of O, indium oxide, tin oxide or the like may be used. The thickness of the transparent electrode is 10
It is preferably about 0 to 5000 °.

【0044】透明電極の厚さが100Å未満であると、
抵抗率が大きくなる恐れがあると共に断線の危険が増
す。一方、透明電極の厚さが5000Åを超えると透過
率が低下し、素子に用いたときの品位の低下を招く恐れ
がある。
When the thickness of the transparent electrode is less than 100 °,
The resistivity may increase and the risk of disconnection increases. On the other hand, when the thickness of the transparent electrode exceeds 5000 °, the transmittance is reduced, and there is a possibility that the quality when used in an element is reduced.

【0045】また、このUV硬化樹脂33としては、U
V硬化型樹脂モノマー、オリゴマー及び光開始剤の混合
組成物であり、アクリル系、エポキシ系、エン・チオー
ル系等いかなる重合方式のものでも良いが、製造工程
(例えば、ITOスパッタ成膜工程や配向膜焼成工程)
に耐え得るよう、耐熱性、耐薬品性、耐洗浄性を具備し
ている必要がある。したがって、例えば、主成分である
反応性オリゴマーに耐熱性のある分子構造を導入したも
のや、多感応モノマーにより架橋密度を高めたものが好
ましい。
As the UV-curable resin 33, U
It is a mixed composition of a V-curable resin monomer, oligomer and photoinitiator, and may be of any polymerization type such as an acrylic type, an epoxy type, or an ene / thiol type. Film baking process)
It is necessary to have heat resistance, chemical resistance and washing resistance so as to be able to withstand the heat. Therefore, for example, it is preferable to use a reactive oligomer which is a main component, into which a heat-resistant molecular structure has been introduced, or a cross-linking density increased by a multi-sensitive monomer.

【0046】次に、本実施の形態に係る配線基板30の
製造方法について、図9(a) 〜(h)を参照して説明す
る。 (金属配線形成工程)ガラス基板11の表面に、スパッ
タリング法やフォトリソ法によって多数の金属配線1
2,…を形成し、金属配線基板A1 を作製する。 (樹脂供給工程)本工程においては、図9(a) に示すよ
うな型基板50を使用する。
Next, a method of manufacturing the wiring board 30 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. (Metal wiring forming step) A large number of metal wirings 1 are formed on the surface of the glass substrate 11 by sputtering or photolithography.
2, to form a ..., to produce a metal wiring board A 1. (Resin Supply Step) In this step, a mold substrate 50 as shown in FIG. 9A is used.

【0047】この型基板50は多数の突条部51,…を
有しており、各突条部51は、金属配線12よりも幅の
狭い平坦部51aと、平坦部51aにほぼ連続して傾斜
面を形成する側面部51bと、を有している。そして、
これらの平坦部51aと側面部51bとは、共に、平面
を形成しており、特に、平坦部51aを平面として、後
述する樹脂成形工程にて該平坦部51aを金属配線12
に密着させ、該金属配線12のほぼ中央部がある程度の
面積だけ露出されるようになっている。なお、この突条
部51は、図から明らかなように、断面形状が略等脚台
形を呈しており、この突条部51の転写により同形状の
空隙部S0 が形成されることとなる。また、これらの突
条部51,…は、金属配線12,…のピッチと同じピッ
チで、金属配線12,…に対応した位置に形成されてお
り、好ましくは0.1〜5μm、より好ましくは0.2
〜3μm程度の高さに設定されている。側面部51aの
傾き角は15°以上60°以下であることが好ましい。
The mold substrate 50 has a large number of ridges 51,..., And each ridge 51 is substantially continuous with the flat portion 51a narrower than the metal wiring 12 and the flat portion 51a. And a side surface portion 51b forming an inclined surface. And
Both the flat portion 51a and the side portion 51b form a flat surface. In particular, when the flat portion 51a is a flat surface, the flat portion 51a is
, So that a substantially central portion of the metal wiring 12 is exposed by a certain area. Incidentally, the ridge portion 51, as is apparent from the figure, the cross-sectional shape has a substantially isosceles trapezoid, so that the gap portion S 0 of the same shape is formed by transfer of the ridges 51 . Are formed at positions corresponding to the metal wirings 12, at the same pitch as the pitch of the metal wirings 12,..., Preferably 0.1 to 5 μm, more preferably 0.2
The height is set to about 3 μm. It is preferable that the inclination angle of the side surface portion 51a is not less than 15 ° and not more than 60 °.

【0048】なお、この型基板50は、所定の剛性があ
るものであれば、金属やガラス或はセラミックス等のい
かなる材質のものでも良いが、突条部51を精密切削加
工によって形成する場合には、被削性に富む材質(例え
ば、銅、リン青銅、真鋳、アルミニウム、ニッケル等)
のものや、少なくともこのような被削性に富む材質のも
のを、ベースとなる基板上の突条部51の形成する部分
にメッキ等の方法によって積層させたものが好ましい。
The mold substrate 50 may be made of any material such as metal, glass or ceramic as long as it has a predetermined rigidity. However, when the ridge 51 is formed by precision cutting, Is a material with high machinability (eg, copper, phosphor bronze, brass, aluminum, nickel, etc.)
Or at least such a material having high machinability is preferably laminated on a portion of the base substrate on which the ridge portion 51 is formed by plating or the like.

【0049】次に、この突条部51を形成する方法の一
例を述べる。型基板50の表面をまず研磨等により平滑
にする。次に、平滑にした型基板50を、図10に示す
ように加工テーブル60に固定し、切削バイト61を用
いて切削する。そして、加工テーブル60を、突条部5
1の長手方向に直交する方向(図示C方向)に所定の距
離pだけ移動し、同様の切削を繰り返す。これにより、
多数の突条部51,…が形成されることとなる。
Next, an example of a method for forming the ridge portion 51 will be described. First, the surface of the mold substrate 50 is smoothed by polishing or the like. Next, the smoothed mold substrate 50 is fixed to a processing table 60 as shown in FIG. Then, the processing table 60 is moved to the ridge portion 5.
1 is moved by a predetermined distance p in a direction (direction C in the drawing) orthogonal to the longitudinal direction, and the same cutting is repeated. This allows
A large number of ridges 51 are formed.

【0050】なお、この場合、切削深さdは突条部51
の高さに相当し、切削バイト61の移動距離pは、突条
部51,…のピッチ並びに幅を規定することとなる。こ
こで、型基板50は、突条部51以外の部分の平面度が
高いものが好ましい。また、型基板50の精度として
は、表面粗さを±100nm以内に、好ましくは20n
m以内にする。なお、表面粗さの測定は、ヘテロダイン
干渉法により行うことができる。
Note that, in this case, the cutting depth d is
, And the moving distance p of the cutting bit 61 defines the pitch and width of the ridges 51. Here, it is preferable that the mold substrate 50 has a high flatness at a portion other than the protrusion 51. In addition, the precision of the mold substrate 50 is such that the surface roughness is within ± 100 nm, preferably 20n.
m. The surface roughness can be measured by heterodyne interferometry.

【0051】そして、この型基板50には、液状のUV
硬化樹脂33Lをディスペンサー17を用いて所定量滴
下する(図9(a) 参照。以下、硬化される前の液状のU
V硬化樹脂を符号33Lで表し、硬化後のUV硬化樹脂
を符号33Sで表し、特に区別を要しない場合は単に
“UV硬化樹脂33”とする)。
The mold substrate 50 has a liquid UV.
A predetermined amount of the cured resin 33L is dropped using the dispenser 17 (see FIG. 9 (a).
The V-cured resin is represented by reference numeral 33L, and the UV-cured resin after curing is represented by reference numeral 33S, and is simply referred to as “UV-cured resin 33” when no particular distinction is required.

【0052】次に、金属配線基板A1 を、その配線面1
5がUV硬化樹脂33Lに接触するように、型基板50
に気泡を巻き込まないようにゆっくりと重ね合わせ、金
属配線相互の間隙にUV硬化樹脂33Lを供給する(同
図(b) 参照。以下、金属配線基板A1 と型基板50とを
重ね合わせたものを“被加圧体B2 ”とする)。
Next, the metal wiring board A 1 is connected to its wiring surface 1.
5 so that the mold substrate 50 contacts the UV curing resin 33L.
Those superposition slowly so as not to involve air bubbles, supplying UV curable resin 33L the metal wiring mutual gap (see FIG (b). Hereinafter, superposed and the metal wiring board A 1 and the mold substrate 50 in Is referred to as “pressurized body B 2 ”).

【0053】そして、各突条部51の中心線位置と各金
属配線12の中心線位置とが一致するように、金属配線
基板A1 並びに型基板50の位置合わせを行なう。この
位置合わせは、金属配線基板A1 や型基板50に付した
位置合わせマーク(不図示)を顕微鏡等の手段を使って
検出することにより行なえば良く、その他、フォトリソ
グラフィ法等に用いられる通常の位置合わせ方法により
行なえば良い。 (樹脂成形工程)次に、上述の方法で作成された被加圧
体B2 を、プレス機19の上下のプレス板19a,19
bの間にセットし、加圧する(同図(c) 及び(d) 参
照)。
Then, the metal wiring board A 1 and the mold substrate 50 are aligned so that the center line position of each ridge 51 matches the center line position of each metal wiring 12. This alignment may be performed by alignment marks attached to the metal wiring board A 1 and type substrate 50 (not shown) for detecting by using a means such as a microscope, other, usually used for photolithography or the like May be performed by the above-described alignment method. (Resin Molding Step) Next, the pressurized body B 2 prepared by the above-described method is pressed into upper and lower press plates 19 a and 19
b) and pressurized (see FIGS. 3 (c) and 3 (d)).

【0054】これにより、型基板50はUV硬化樹脂3
3Lを押圧し、型基板50の各突条部51,…は各金属
配線12,…に密着され、UV硬化樹脂33Lが型基板
50等によって規定される形状に成形されることとな
る。また、UV硬化樹脂33Lは、金属配線12,…の
表面から完全に、或は金属配線12の表面の一部にごく
薄く残る程度に除去される。
As a result, the mold substrate 50 is
.. Are pressed into contact with the metal wirings 12, and the UV curable resin 33L is formed into a shape defined by the mold substrate 50 and the like. The UV curable resin 33L is completely removed from the surfaces of the metal wirings 12,.

【0055】なお、プレス機19としては、上下から被
加圧体B2 に圧力を加え、UV硬化樹脂33Lをガラス
基板全体に押し広げることができるものであればどのよ
うなものでも良く、例えば、油圧シリンダーやエアーシ
リンダーによるプレス機、液体圧プレス機等を用いても
良く、ロールプレス機を用いてもよい。また、その圧力
は、5〜50kg/cm2の範囲の範囲が望ましい。
[0055] As the press 19, the pressure from above and below in the pressure body B 2 added, a UV curing resin 33L may be as any as long as it can be pushing the entire glass substrate, for example, Alternatively, a press using a hydraulic cylinder or an air cylinder, a liquid press, or the like, or a roll press may be used. Further, the pressure is desirably in the range of 5 to 50 kg / cm 2 .

【0056】この場合、上下のプレス板19a,19b
等に電熱ヒータを組み込んだり加熱流体を流したりし
て、被加圧体B2 を加熱するようにしても良い。また、
プレス機19にセットする前の被加圧体B2 を、ホット
プレートやオーブン等の加熱装置によって加熱するよう
にしてもよい。このように被加圧体B2 を加熱すること
により、UV硬化樹脂33Lの粘度が低下し、加圧によ
ってUV硬化樹脂33Lが円滑に押し広げられる。 (樹脂硬化工程)その後、この被加圧体B2 をプレス機
19から取り出し、不図示のUVランプを使用して、U
V硬化樹脂33Lにガラス基板11の側からUV光Lを
照射し(同図(e) 参照)、該UV硬化樹脂33を完全に
硬化させる。
In this case, the upper and lower press plates 19a, 19b
An electric heater or flowing incorporating Dari heating fluid, etc, may be heating the pressure body B 2. Also,
To be pressure body B 2 before setting the pressing machine 19 may be heated by a heating device such as hot plate or oven. By thus heating the pressure body B 2, it reduces the viscosity of the UV curable resin 33L, UV curing resin 33L is smoothly pushed and spread by the pressure. (Resin curing step) then removed the target pressure body B 2 from the press 19, using a UV lamp (not shown), U
The V-cured resin 33L is irradiated with UV light L from the side of the glass substrate 11 (see (e) in the same figure) to completely cure the UV-cured resin 33.

【0057】ここで、UVランプとしては、高圧水銀灯
や、低圧水銀灯や、キセノンランプ等を用いても良く、
その他、照射しようとするUV硬化樹脂33Lを硬化さ
せるものであればどのようなものであっても良い。
Here, as the UV lamp, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a xenon lamp, or the like may be used.
In addition, any material may be used as long as it cures the UV curable resin 33L to be irradiated.

【0058】また、UV光Lは、ガラス基板11等を透
過した上でUV硬化樹脂33Lに到達するため、ガラス
基板11等を透過する分、光の到達量にロスが生じる。
したがって、UVランプの照度は、このようなロスにも
かかわらずUV硬化樹脂33Lを硬化させるに十分な照
度であることが望ましい。
Further, since the UV light L passes through the glass substrate 11 and the like and reaches the UV curable resin 33L, the amount of light that is transmitted through the glass substrate 11 and the like has a loss.
Therefore, it is desirable that the illuminance of the UV lamp is sufficient to cure the UV curable resin 33L despite such a loss.

【0059】なお、ここでは、UV硬化樹脂33Lを用
い、UV光Lを照射することによりUV硬化樹脂33L
を硬化させたが、もちろんこれに限る必要はなく、UV
光以外の光、例えば、可視光や赤外線等の他の手段によ
り硬化する樹脂を用いてもよい。 (剥離工程)そして、UV硬化樹脂33の硬化が終了す
れば、不図示の離型装置によって図示F2 の方向に力を
加えて型基板50を剥離する(同図(f) 及び(g) 参
照)。
Here, the UV curable resin 33L is irradiated with UV light L by using the UV curable resin 33L.
Was cured, but of course there is no need to be limited to this, UV
A resin that is cured by light other than light, for example, visible light or infrared light may be used. (Stripping step) Then, when completion of curing of the UV curable resin 33 is peeled off -type substrate 50 by applying force in the direction of the illustrated F 2 by the release apparatus (not shown) (FIG. (F) and (g) reference).

【0060】なお、剥離工程は、UV硬化樹脂33の硬
化が完全に終了した後に行なうようにしたが、もちろん
これに限る必要はなく、UV硬化樹脂33の硬化が完全
に終了していない状態で剥離工程を実施し、型基板50
を剥離した後にUV光Lを再度照射してUV硬化樹脂3
3の硬化を終了するようにしてもよい。かかる場合に
は、UVランプの照度は、UV硬化樹脂33が完全に硬
化するに足る照度より多少低くても、同様にUV硬化樹
脂33を硬化させることができる。 (透明電極形成工程)そして、ITOからなる透明電極
36,…を、金属配線12,…に沿うように形成する
(同図(h) 参照)。 (その他の工程)その後、これらの透明電極36,…等
を覆うように絶縁膜7や配向制御膜9を形成し、配線基
板30を作成する。
The peeling step is performed after the curing of the UV curable resin 33 is completely completed. However, it is needless to say that the peeling step is not limited to this. A peeling process is performed, and the mold substrate 50
Is peeled off and UV light L is irradiated again to cure the UV curable resin 3
3 may be finished. In such a case, even if the illuminance of the UV lamp is slightly lower than the illuminance sufficient to completely cure the UV curable resin 33, the UV curable resin 33 can be similarly cured. (Transparent electrode forming step) Then, transparent electrodes 36,... Made of ITO are formed along the metal wirings 12,. (Other Steps) Thereafter, the insulating film 7 and the orientation control film 9 are formed so as to cover these transparent electrodes 36,...

【0061】そして、一対の配線基板30,30を貼り
合わせ、基板間隙に液晶3を注入して、液晶素子P3
作成する。なお、液晶素子P3 の基板のうち片側のみを
配線基板30としても良い。また、両基板の配向制御膜
9は互いに異なる材料からなるものであっても良い。
[0061] Then, bonding a pair of wiring substrates 30 and 30, by injecting a liquid crystal 3 to substrate gap, creating a liquid crystal element P 3. Incidentally, only one side may be used as the wiring board 30 of the substrate of the liquid crystal element P 3. Further, the alignment control films 9 of both substrates may be made of different materials.

【0062】次に、本実施の形態に用いられる装置につ
いて、図11を参照して説明する。
Next, an apparatus used in the present embodiment will be described with reference to FIG.

【0063】図11は、本発明に使用する装置の全体構
成を示す図であるが、この装置70は、樹脂設置ユニッ
ト71、樹脂供給ユニット72、位置決めユニット7
3、樹脂成形ユニット74、樹脂硬化ユニット75、離
型ユニット76等を備えている。そして、型基板ストッ
カ77には多数の型基板50,…がストックされてい
る。
FIG. 11 is a view showing the overall configuration of an apparatus used in the present invention. This apparatus 70 comprises a resin installation unit 71, a resin supply unit 72, a positioning unit 7
3, a resin molding unit 74, a resin curing unit 75, a release unit 76, and the like. A large number of mold substrates 50 are stocked in the mold substrate stocker 77.

【0064】いま、型基板ストッカ77から樹脂設置ユ
ニット71に型基板50が1枚供給されると、この型基
板50の表面には、樹脂タンク78からディスペンサー
17を介してUV硬化樹脂33Lが供給される。
Now, when one mold substrate 50 is supplied from the mold substrate stocker 77 to the resin setting unit 71, the UV curing resin 33L is supplied from the resin tank 78 via the dispenser 17 to the surface of the mold substrate 50. Is done.

【0065】次に、この型基板50は、樹脂供給ユニッ
ト72に移動され、金属配線基板ストッカ79から供給
された金属配線基板A1 が重ね合わされる。これによ
り、ガラス基板11に設けられた複数の金属配線12,
…相互の間隙にはUV硬化樹脂33Lが供給される。必
要に応じて、UV硬化樹脂33Lがある程度広がるよう
に短時間放置してもよい。
Next, this type substrate 50 is moved to the resin supply unit 72, the metal wiring board A 1 supplied from the metal wiring board stocker 79 is superimposed. Thereby, the plurality of metal wirings 12 provided on the glass substrate 11,
... The UV curable resin 33L is supplied to the gap between each other. If necessary, the UV curable resin 33L may be left for a short time so as to spread to some extent.

【0066】そして、これらの型基板50や金属配線基
板A1 は、位置決めユニット73に移動され、精密位置
決めテーブル73a及び顕微鏡73bを用いて位置合わ
せが行なわれる。これにより、突条部51の中心線位置
と金属配線12の中心線位置とが一致するように位置決
めが行なわれる。なお、必要に応じてそれぞれの中心線
位置をずらしても良い。
Then, the mold substrate 50 and the metal wiring board A 1 are moved to the positioning unit 73 and are aligned using the precision positioning table 73a and the microscope 73b. Thereby, positioning is performed such that the center line position of the ridge portion 51 and the center line position of the metal wiring 12 match. Note that the center line positions may be shifted as needed.

【0067】さらに、これらの型基板50と金属配線基
板A1 からなる被加圧体B2 は、樹脂成形ユニット74
に移動され、プレス機19により樹脂成形工程が実施さ
れる。これにより、型基板50がUV硬化樹脂33Lを
押圧して、これを成形する。
Further, the pressed body B 2 composed of the mold substrate 50 and the metal wiring board A 1 is attached to the resin molding unit 74.
And the resin molding step is performed by the press machine 19. As a result, the mold substrate 50 presses the UV curable resin 33L to form it.

【0068】次に、被加圧体B2 は樹脂硬化ユニット7
5に移動され、UVランプ75aからのUV光の照射に
よるUV硬化樹脂33Lの硬化が行なわれる。さらに、
被加圧体B2 は、離型ユニット76に移動される。ここ
で、離型ユニット76は、上下に移動自在の真空チャッ
ク76aを有しており、この真空チャック76aの下面
には真空通路76bが開口されている。そして、この真
空通路76bは真空ポンプ76cに連通されており、真
空引きすると共に前記真空チャック76aを上方へ移動
することにより、型基板50を剥離するようになってい
る。その後、UV硬化樹脂33の付着・成形が行なわれ
た状態の金属配線基板A1 は、オートハンドロボット等
のローディング装置によって製品ストッカ80内に収納
される。
Next, the pressed body B 2 is
5, and the UV curing resin 33L is cured by irradiation with UV light from the UV lamp 75a. further,
The pressed body B 2 is moved to the release unit 76. Here, the release unit 76 has a vertically movable vacuum chuck 76a, and a vacuum passage 76b is opened on the lower surface of the vacuum chuck 76a. The vacuum passage 76b is connected to a vacuum pump 76c. The vacuum passage 76b is evacuated and the vacuum chuck 76a is moved upward to peel off the mold substrate 50. Then, the metal wiring board A 1 in a state where adhesion and molding is performed in UV curing resin 33 is accommodated in the product stocker 80 by the loading device, such as automatic hand robot.

【0069】一方、剥離された型基板50は、洗浄工程
等を経た後、再度型基板ストッカ77に収納され、再利
用される。なお、被加圧体B2 は、コンベア等によって
各ユニット間を移動するようになっており、各ユニット
71,72,73,74,75,76はシーケンスコン
トローラにより制御されるようになっている。
On the other hand, the separated mold substrate 50 is again stored in the mold substrate stocker 77 after a cleaning step and the like, and is reused. Incidentally, the pressing body B 2 is adapted to move between the units by the conveyor or the like, each unit 71,72,73,74,75,76 is adapted to be controlled by the sequence controller .

【0070】一方、UV硬化樹脂33の付着・成形が行
なわれた状態の金属配線基板A1 は、透明電極形成ユニ
ット(不図示)に移動され、成形されたUV硬化樹脂3
3及び金属配線12の表面には透明電極36が形成され
る。
On the other hand, the metal wiring board A 1 on which the UV curable resin 33 has been attached and formed is moved to a transparent electrode forming unit (not shown), and the molded UV curable resin 3 is formed.
A transparent electrode 36 is formed on the surfaces of the metal wiring 3 and the metal wiring 12.

【0071】次に、本実施の形態の効果について説明す
る。
Next, the effect of the present embodiment will be described.

【0072】本実施の形態によれば、透明電極36,…
に金属配線12,…が併設されているため、低抵抗で電
圧波形の遅延の問題の無い基板を得ることができる。な
お、本発明者が実測したところによると、これらの電極
36,…,12,…の抵抗値は、240mm長当たりで5
00Ω以下であった。そして、このような配線基板30
を用いて作製された液晶素子P3 は、大面積化並びに高
精細化に対応可能なものとなる。
According to the present embodiment, the transparent electrodes 36,.
Are provided in parallel with each other, so that a substrate having low resistance and having no problem of voltage waveform delay can be obtained. According to actual measurements made by the inventor, the resistance of these electrodes 36,..., 12,.
It was less than 00Ω. And such a wiring board 30
The liquid crystal element P 3 produced using the becomes capable over a larger and higher resolution.

【0073】また、UV硬化樹脂33と金属配線12と
は平面を形成するのでは無く、段差を有している。した
がって、透明電極36と該電極に隣り合う金属配線12
との接触を回避するために、図3(h) にて示したような
間隙Wをそれらの間に設ける必要も無く、透明電極36
を、隣り合う金属配線12の端部位置Eまで延設できる
(図8(b) 参照)。その結果、図4に示したような遮光
層21,…を設ける必要がなく、透過光量も減少せず、
画像が暗くなることも無い。そのため、バックライト装
置の輝度を小さくでき、結果的に、液晶素子の高輝度化
や、消費電力の削減を達成できる。また、遮光層21,
…を形成するための工程も不要となり、製造工程が簡素
化され、製造コストも低減される。さらに、液晶がスイ
ッチングされる領域が広くなり、画質が向上される。
The UV curable resin 33 and the metal wiring 12 do not form a plane but have a step. Accordingly, the transparent electrode 36 and the metal wiring 12 adjacent to the transparent electrode 36 are formed.
In order to avoid contact with the transparent electrode 36, there is no need to provide a gap W as shown in FIG.
Can be extended to the end position E of the adjacent metal wiring 12 (see FIG. 8B). As a result, there is no need to provide the light shielding layers 21,... As shown in FIG.
There is no darkening of the image. Therefore, the luminance of the backlight device can be reduced, and as a result, higher luminance of the liquid crystal element and reduction of power consumption can be achieved. Further, the light shielding layer 21,
Are not required, the manufacturing process is simplified, and the manufacturing cost is reduced. Further, the area where the liquid crystal is switched is widened, and the image quality is improved.

【0074】一方、本実施の形態によれば、型基板50
によってUV硬化樹脂33を正確な断面形状に成形で
き、製造が簡単になると共に、透明電極36,…の断線
等を防止できる。
On the other hand, according to the present embodiment, the mold substrate 50
As a result, the UV-curable resin 33 can be formed into an accurate cross-sectional shape, the production can be simplified, and the disconnection of the transparent electrodes 36,.

【0075】また、型基板50によってUV硬化樹脂3
3を成形するため、厚肉部33aの平坦性がスピンコー
ト法を用いた場合よりも良好になる。したがって、この
UV硬化樹脂33の表面に形成する透明電極36,…
や、絶縁膜7や、配向制御膜9の平坦性を向上でき、セ
ルギャップの均一化を達成できると共に液晶の配向性も
向上する。このため、液晶素子の製造歩留りを向上で
き、パネルの設計のし易さにおいてメリットがある。
Further, the UV-curable resin 3
3, the flatness of the thick portion 33a becomes better than when the spin coating method is used. Therefore, the transparent electrodes 36 formed on the surface of the UV curable resin 33,.
In addition, the flatness of the insulating film 7 and the alignment control film 9 can be improved, the cell gap can be made uniform, and the alignment of the liquid crystal can be improved. Therefore, the production yield of the liquid crystal element can be improved, and there is an advantage in the ease of designing the panel.

【0076】なお、上述の説明においては、UV硬化樹
脂33Lを型基板50に滴下すると共に、該UV硬化樹
脂33Lを滴下した型基板50を金属配線基板A1 に重
ね合わせることにより、UV硬化樹脂33Lを金属配線
12,…相互の間隙に供給することとしたが、もちろん
これに限る必要はなく、図12(a) 〜(c) に示すよう
に、配線面15(すなわち、金属配線相互の間隙)にU
V硬化樹脂33Lを滴下し、その後、金属配線基板A1
に型基板50を重ね合わせるようにしても良い。
[0076] In the above description, the dripping the UV curable resin 33L in type substrate 50, the mold substrate 50 was added dropwise to the UV curable resin 33L by superimposing the metal wiring board A 1, UV curing resin 33L are supplied to the gaps between the metal wirings 12,..., Of course, but need not be limited to this, and as shown in FIGS. 12 (a) to 12 (c), as shown in FIGS. U)
33 L of V-cured resin is dropped, and then the metal wiring board A 1
Alternatively, the mold substrate 50 may be superimposed.

【0077】また、上述の製造方法においては、樹脂端
部33bによって、傾斜した平面を形成し、金属配線1
2の露出部分(表面)と、該露出部分を挟んで隣り合う
樹脂端部33b,33bとによって形成される空隙部S
0 の断面形状を等脚台形としたが、これに限る必要はな
く、図13(a) 〜(c) に示す他の形状としても良い。す
なわち、例えば、図13(a) に示すように、UV硬化樹
脂52の相対向する幅方向端部52b,52bによって
断面が半円状の空隙部S1 を形成するようにしても良
く、同図(b) に示すように、UV硬化樹脂53の幅方向
端部53bが同図(a) とは反対側に湾曲するようにして
もよい。さらに、同図(c) に示すように、UV硬化樹脂
54の一方の幅方向端部54baを傾斜させると共に、
他方の幅方向端部54bbを垂直に形成し、これらによ
って不等脚台形断面の空隙部S3 を形成するようにして
もよい。
Further, in the above-described manufacturing method, an inclined plane is formed by the resin end portion 33b, and the metal wiring 1 is formed.
2 is formed by an exposed portion (surface) of the second resin portion and resin ends 33b, 33b adjacent to each other across the exposed portion.
Although the cross-sectional shape of 0 is an isosceles trapezoid, the shape is not limited to this and may be other shapes shown in FIGS. 13 (a) to 13 (c). That is, for example, as shown in FIG. 13 (a), may also be widthwise end portion 52b which faces the UV curable resin 52, the cross-section by 52b forming the gap portion S 1 of the semicircular, the As shown in FIG. 7B, the width direction end 53b of the UV curable resin 53 may be curved to the opposite side to that in FIG. Further, as shown in FIG. 5C, one width direction end 54ba of the UV curable resin 54 is inclined,
The other widthwise end portion 54bb is vertically formed, may be formed a gap portion S 3 of the unequal leg trapezoidal cross-section with these.

【0078】ついで、本発明の第2の実施の形態につい
て、図14乃至図17を参照して説明する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0079】本実施の形態に係る液晶素子は、図14に
示す配線基板100を備えている。この配線基板100
はガラス基板11を有しており、ガラス基板11の表面
には、ストライプ状の金属配線12,…が所定間隙を開
けた状態に多数配置されている。そして、金属配線1
2,…の間隙で、かつガラス基板11の表面には、3原
色のカラーフィルタ101,…が配置されている。金属
配線12間にはUV硬化樹脂(絶縁層)33が設けられ
ている。
The liquid crystal device according to the present embodiment has a wiring board 100 shown in FIG. This wiring board 100
Has a glass substrate 11, and on the surface of the glass substrate 11, a large number of striped metal wirings 12,... Are arranged with a predetermined gap. And metal wiring 1
The three primary color filters 101,... Are arranged on the surface of the glass substrate 11 in the gap between the two. A UV curable resin (insulating layer) 33 is provided between the metal wirings 12.

【0080】また、本実施の形態においては、金属配線
形成工程が実施されてガラス基板11の表面に金属配線
12,…が形成され、その後カラーフィルタ形成工程が
実施されてカラーフィルタ101,…が形成される(図
15(a) 参照)。さらに、上述第1実施の形態と同様
に、樹脂供給工程、樹脂成形工程、樹脂硬化工程、及び
剥離工程が実施され、図15(b) に示すような構造体が
作成される。またさらに、透明電極形成工程が実施さ
れ、UV硬化樹脂33,…や金属配線12,…の表面に
透明電極36,…が形成される(同図(c) 参照)。
In this embodiment, a metal wiring forming step is performed to form metal wirings 12,... On the surface of glass substrate 11, and then a color filter forming step is performed to form color filters 101,. (See FIG. 15A). Further, similarly to the above-described first embodiment, a resin supply step, a resin molding step, a resin curing step, and a peeling step are performed, and a structure as shown in FIG. 15B is created. Further, a transparent electrode forming step is performed, and transparent electrodes 36,... Are formed on the surfaces of the UV curable resins 33,... And the metal wirings 12, (FIG. (C)).

【0081】次に、本実施の形態の効果について説明す
る。
Next, effects of the present embodiment will be described.

【0082】本実施の形態によれば、上述の第1実施の
形態と同様の効果を有するカラー液晶素子を得ることが
できる。
According to the present embodiment, it is possible to obtain a color liquid crystal element having the same effects as in the first embodiment.

【0083】なお、金属配線形成工程とカラーフィルタ
形成工程との実施する相対的な順序はいずれが先でも良
く、金属配線形成工程をカラーフィルタ形成工程の後に
実施しても良く、金属配線形成工程をカラーフィルタ形
成工程の前に実施するようにしてもよい。
The relative order of the metal wiring forming step and the color filter forming step may be performed in any order. The metal wiring forming step may be performed after the color filter forming step. May be performed before the color filter forming step.

【0084】また、金属配線12,…は必ずしもガラス
基板11の表面に形成されていなくても良く、図16に
示す配線基板110のように、ガラス基板11の全面に
カラーフィルタ111,…が形成され、該カラーフィル
タ111,…の表面に金属配線12,…が形成されるよ
うにしても良い。
Are not necessarily formed on the surface of the glass substrate 11, and color filters 111,... Are formed on the entire surface of the glass substrate 11, as in a wiring substrate 110 shown in FIG. May be formed on the surfaces of the color filters 111,.

【0085】その場合には、まずカラーフィルタ形成工
程を実施してカラーフィルタ111,…をガラス基板1
1の表面に形成し、その後金属配線形成工程を実施して
金属配線12,…を形成する(図17(a) 参照)。そし
て、樹脂供給工程、樹脂成形工程、樹脂硬化工程、及び
剥離工程を実施し(同図(b) 参照)、その後透明電極形
成工程を実施する(同図(c) 参照)。
In this case, first, a color filter forming step is performed to attach the color filters 111,.
Then, a metal wiring forming step is performed to form metal wirings 12,... (See FIG. 17A). Then, a resin supply step, a resin molding step, a resin curing step, and a peeling step are performed (see FIG. 3B), and then a transparent electrode forming step is performed (see FIG. 3C).

【0086】なお、カラーフィルタ111,…の形成方
法としては、フォトリソ法、印刷法、昇華転写法、イン
クジェット法等が用いられる。このうち、インクジェッ
ト法を用いる場合には、ガラス基板11の全面に受容層
をスピンコート法等の方法によってコーティングし、そ
の後、染料インキを精度良く飛ばして、受容層に染み込
ませるようにしてもよい。
As the method of forming the color filters 111,..., A photolithography method, a printing method, a sublimation transfer method, an ink jet method, or the like is used. When the inkjet method is used, the receiving layer may be coated on the entire surface of the glass substrate 11 by a method such as a spin coating method, and then the dye ink may be accurately spattered so as to permeate the receiving layer. .

【0087】ついで、本発明の第3の実施の形態につい
て、図18及び図19を参照して説明する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0088】本実施の形態に係る液晶素子は、図18に
示すような配線基板120を備えている。この配線基板
120はガラス基板11を有しており、このガラス基板
11の表面全面にはカラーフィルタ111,…が形成さ
れている。さらに、該カラーフィルタ111,…を覆う
ようにして保護層121が形成されており、この保護層
121の表面に、金属配線12,…やUV硬化樹脂3
3,…が形成されている。
The liquid crystal element according to the present embodiment has a wiring board 120 as shown in FIG. The wiring substrate 120 has a glass substrate 11, and color filters 111,... Are formed on the entire surface of the glass substrate 11. Further, a protective layer 121 is formed so as to cover the color filters 111,..., And the metal wirings 12,.
3,... Are formed.

【0089】そして、配線基板120の製造に際して
は、まず、カラーフィルタ形成工程を実施して、ガラス
基板11の表面にカラーフィルタ111,…を形成し、
その後、保護層形成工程を実施して、カラーフィルタ1
11,…を覆うように保護層121を形成する。その
後、金属配線形成工程を実施して、図19(a) に示す構
造体を作製する。次に、樹脂供給工程、樹脂成形工程、
樹脂硬化工程、並びに剥離工程を実施して、図19(b)
に示す構造体を作製し、さらには透明電極形成工程を実
施して、同図(c) に示す構造体を作製する。
Then, at the time of manufacturing the wiring board 120, first, a color filter forming step is performed to form the color filters 111 on the surface of the glass substrate 11,
After that, a protective layer forming step is performed, and the color filter 1 is formed.
The protective layer 121 is formed so as to cover 11,. Thereafter, a metal wiring forming step is performed to produce a structure shown in FIG. Next, a resin supply step, a resin molding step,
After performing the resin curing step and the peeling step, FIG. 19 (b)
Then, the structure shown in FIG. 3 (c) is manufactured by performing a transparent electrode forming step.

【0090】次に、本実施の形態の効果について説明す
る。
Next, effects of the present embodiment will be described.

【0091】一般に、カラーフィルタ形成工程の後に金
属配線形成工程を実施した場合には、金属配線12,…
をパターニングするためのエッチング液によってカラー
フィルタ111,…が変色してしまうおそれがある。し
かし、本実施の形態によれば、カラーフィルタ111,
…は保護層121によって被覆されているため、そのよ
うな変色が防止される。
Generally, when the metal wiring forming step is performed after the color filter forming step, the metal wirings 12,.
May be discolored by an etching solution for patterning the color filters. However, according to the present embodiment, the color filters 111,
Are covered by the protective layer 121, so that such discoloration is prevented.

【0092】また、本実施の形態によっても、上述した
第1の実施の形態と同様の効果を奏するカラー液晶素子
を得ることができる。
According to this embodiment, a color liquid crystal element having the same effects as those of the first embodiment can be obtained.

【0093】[0093]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。 (実施例1)本実施例においては、型基板50には、ス
テンレス板に厚さ約50μmの無電界ニッケルメッキを
施し、かつ、該メッキ部分に突条部51,…を形成した
ものを用いた。なお、本実施例においては、突条部51
の断面を、高さ2μm、上辺幅10μm、底辺幅20μ
m、端部勾配2/5の略等脚台形とし、ピッチを320
μmとし、長さを250mmとした。また、型基板50の
寸法は200×250×5mmとし、その表面を研磨し
た。
Embodiments of the present invention will be described below. (Embodiment 1) In the present embodiment, the mold substrate 50 is formed by applying an electroless nickel plating having a thickness of about 50 μm to a stainless steel plate and forming ridges 51,. Was. In this embodiment, the ridges 51
Is 2 μm in height, 10 μm in width at the top, and 20 μm in width at the bottom
m, approximately equal-length trapezoidal shape with 2/5 edge gradient, pitch 320
μm, and the length was 250 mm. The size of the mold substrate 50 was 200 × 250 × 5 mm, and the surface was polished.

【0094】なお、これらの突条部51,…は、先端幅
300μm、端部勾配2/5の先端形状を有する切削用
バイト61と、超精密切削加工機とを用い、メッキ部分
を超精密加工することにより、形成した。
The protruding ridges 51 are formed by using a cutting tool 61 having a tip width of 300 μm and a tip shape having an edge gradient of 2/5, and an ultra-precision cutting machine to make the plating portion ultra-precise. It was formed by processing.

【0095】また、ガラス基板11には、210×24
0×1.1mmの両面研磨された青板ガラスを用いた。
The glass substrate 11 has a size of 210 × 24
A 0 × 1.1 mm double-side polished blue plate glass was used.

【0096】さらに、UV硬化樹脂33には、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート50重量部、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート50重量部、1−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン2重量部からなるUV
硬化樹脂組成物を用い、液状のUV硬化樹脂33Lを、
樹脂供給工程において、型基板50の中央部にディスペ
ンサー17により滴下することとした。
Further, the UV curable resin 33 contains 50 parts by weight of pentaerythritol triacrylate, 50 parts by weight of neopentyl glycol diacrylate, and 2 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone.
Using a curable resin composition, 33 L of liquid UV curable resin
In the resin supply step, the dispenser 17 is used to drop the resin onto the center of the mold substrate 50.

【0097】またさらに、金属配線12,…は、厚さを
2μmとし、ピッチを320μmとし、電極幅を30μ
mとし、長さを240mmとした。つまり、型基板50の
突条部51,…のピッチと、金属配線12,…とのピッ
チとは等しくした。また、金属配線12,…の材質は、
アルミニウムとした。
Further, the metal wirings 12,... Have a thickness of 2 μm, a pitch of 320 μm, and an electrode width of 30 μm.
m and the length was 240 mm. That is, the pitch of the ridges 51,... Of the mold substrate 50 is equal to the pitch of the metal wirings 12,. The material of the metal wirings 12,.
Aluminum.

【0098】また、透明電極36,…は、ITOによっ
て形成するものとし、ピッチを320μmとし、電極幅
を312μm、厚さを700Åとした。
Are formed of ITO, the pitch is 320 μm, the electrode width is 312 μm, and the thickness is 700 °.

【0099】次に、本実施例における配線基板30の製
造方法について説明する。 (金属配線形成工程)本工程においては、スパッタリン
グ法及びフォトリソ・エッチング法を使用して、ガラス
基板11の表面に、長さ240mmの金属配線12,…を
形成した。スパッタリング時にはターゲットとしてAl
を用い、基板温度120°、雰囲気はAr/O2 (O2
添加濃度2000ppm)、ガス流量200SCCM、
入力パワーは2.8kWとした。
Next, a method of manufacturing the wiring board 30 in this embodiment will be described. (Metal Wiring Forming Step) In this step, 240 mm long metal wirings 12,... Were formed on the surface of the glass substrate 11 by using the sputtering method and the photolithographic etching method. Al is used as a target during sputtering.
And a substrate temperature of 120 ° and an atmosphere of Ar / O 2 (O 2
Addition concentration 2000 ppm), gas flow rate 200 SCCM,
The input power was 2.8 kW.

【0100】なお、本実施例においては、配線面15に
カップリング処理剤をスピンコートし、100℃の温度
で20分間熱処理して密着処理を施した。なお、カップ
リング処理剤としては、日本ユニカー社のシランカップ
リング剤A−174が1重量部、エチルアルコール40
重量部からなるものを用いた。 (樹脂供給工程)本工程においては、上述した型基板5
0を使用し、この型基板50に、上述の液状のUV硬化
樹脂組成物33Lをディスペンサー17を用いて800
mg滴下した。そして、金属配線基板A1 の配線面15
を、UV硬化樹脂33Lの滴下された型基板50に、気
泡が巻き込まれないようにゆっくりと重ね合わせた。
In the present embodiment, the wiring surface 15 was spin-coated with a coupling agent and subjected to a heat treatment at a temperature of 100 ° C. for 20 minutes to perform an adhesion treatment. As the coupling agent, 1 part by weight of silane coupling agent A-174 manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd., ethyl alcohol 40
Those consisting of parts by weight were used. (Resin supply step) In this step, the mold substrate 5 described above is used.
0, and the above liquid UV-curable resin composition 33L is placed on the mold substrate 50 using the dispenser 17 for 800
mg was added dropwise. Then, the wiring surface 15 of the metal wiring board A 1
Was slowly superimposed on the mold substrate 50 onto which the UV curing resin 33L had been dropped so that air bubbles would not be trapped.

【0101】ここで、型基板50の寸法は、上述したよ
うに200×250mmであり、ガラス基板11の寸法は
210×240mmであり、各辺の長さは、ガラス基板1
1の方が型基板50よりも10mmずつ長いが、ガラス基
板11が、型基板50の端縁から5mmずつ突出し、か
つ、型基板50の突条部51,…の中心線と金属配線1
2,…の中心線とが一致するように、顕微鏡観察(倍率
400倍)を併用した位置合わせを行なった。 (樹脂成形工程)本工程においては、5トン油圧プレス
機を使用し、上下のプレス板19a,19bのサイズを
300mm×300mm角とした。本工程においては、プレ
ス板19a,19bのほぼ中央に被加圧体B2 をセット
して加圧を行なうが、加圧開始から約1分で加圧力を3
トンまで高め、その加圧力を10分間保持し、その後、
加圧を解除して、被加圧体B2 をプレス機19から取り
出した。 (樹脂硬化工程)本工程においては、100Wの高圧水
銀ランプ4本で構成されたUVランプを使用し、被加圧
体B2 に2分間のUV光(照度;15W/cm2 )の照
射を行なった。 (剥離工程)そして、UV硬化樹脂33の硬化が終了し
た後に、離型装置によって型基板50を剥離した。な
お、この剥離は、ガラス基板11の端部(型基板50よ
りも5mmだけ突出している端部)を固定すると共に、型
基板50の端部(ガラス基板11よりも5mmだけ突出し
ている端部)を押圧することにより行った。 (透明電極形成工程)そして、ITOからなる透明電極
36,…を、金属配線12,…に沿うように形成した。
成膜条件は、基板温度を室温に設定し(但し、成膜に伴
って基板温度は50〜60℃に上昇)、雰囲気ガスをA
r/O2 (O2 の濃度は0.5%)とし、Arガス圧力
を7mTorrとし、ターゲットをITOとした。 (その他の工程)その後、これらの透明電極36,…等
を覆うようにSiO2 からなる絶縁膜7、ポリイミドか
らなる配向制御膜9を形成し、配線基板30を作成し
た。
Here, the size of the mold substrate 50 is 200 × 250 mm as described above, the size of the glass substrate 11 is 210 × 240 mm, and the length of each side is
1 is longer than the mold substrate 50 by 10 mm, but the glass substrate 11 protrudes by 5 mm from the edge of the mold substrate 50, and the center line of the ridges 51,.
Positioning using microscope observation (magnification: 400 times) was also performed so that the center lines of 2,. (Resin molding step) In this step, a 5-ton hydraulic press was used, and the size of the upper and lower press plates 19a, 19b was set to 300 mm x 300 mm square. In this step, a press plate 19a, is set to be pressure body B 2 substantially in the center of 19b by performing pressurization, but the pressure in about 1 minute from the start pressurization 3
Tonnes, hold the pressure for 10 minutes, then
The pressurization was released, and the pressurized body B 2 was taken out of the press 19. (Resin Curing Step) In this step, a UV lamp composed of four 100 W high-pressure mercury lamps is used, and the object B 2 is irradiated with UV light (illuminance: 15 W / cm 2 ) for 2 minutes. Done. (Release Step) After the curing of the UV-curable resin 33 was completed, the mold substrate 50 was peeled off by a release device. Note that this peeling is performed by fixing the end of the glass substrate 11 (the end protruding by 5 mm from the mold substrate 50) and the end of the mold substrate 50 (the end protruding by 5 mm from the glass substrate 11). ) Was performed. (Transparent Electrode Forming Step) Then, the transparent electrodes 36,... Made of ITO were formed along the metal wirings 12,.
As for the film forming conditions, the substrate temperature is set to room temperature (however, the substrate temperature is increased to 50 to 60 ° C. with the film formation), and the atmosphere gas is set to A.
r / O 2 (the concentration of O 2 was 0.5%), the Ar gas pressure was 7 mTorr, and the target was ITO. (Other Steps) Thereafter, an insulating film 7 made of SiO 2 and an orientation control film 9 made of polyimide were formed so as to cover these transparent electrodes 36,.

【0102】そして、一対の配線基板30,30を貼り
合わせ、基板間隙にカイラルスメクチック液晶3を注入
して、液晶素子を作成した。
Then, a pair of wiring substrates 30 and 30 were attached to each other, and a chiral smectic liquid crystal 3 was injected into a gap between the substrates to form a liquid crystal element.

【0103】本実施例によれば、前述した第1の実施の
形態と同様の効果が得られた。 (実施例2)本実施例においては、UV硬化樹脂33を
金属配線基板A1 に滴下し、その後型基板50を重ね合
わせた。それ以外の構造及び製造方法は、上述実施例1
と同様とした。
According to this embodiment, the same effects as those of the first embodiment are obtained. In Example 2 This Example was dropped UV curable resin 33 on the metal wiring board A 1, superposed then type substrate 50. Other structures and manufacturing methods are described in the first embodiment.
The same as above.

【0104】本実施例によれば、前述した第1の実施の
形態と同様の効果が得られた。 (実施例3)本実施例においては、図14に示したよう
に、金属配線12,…の間隙にカラーフィルタ101,
…を配置した。このカラーフィルタ101,…には、顔
料系カラーフィルタ(宇部興産社製)を用い、その厚さ
を1μmとした。また、カラーフィルタ101,…の形
成にはフォトリソ・エッチング法を用いた。さらに、離
型後、UV硬化樹脂33の面側をさらにUV光で2分間
照射した。これは、上述実施例1においてした樹脂硬化
工程のみでは、UV光がカラーフィルタ101,…によ
って多少遮断されてUV硬化樹脂33の硬化が完全に終
了していないと考えられるためである。それ以外の構造
及び製造方法は、上述実施例1と同様とした。
According to this embodiment, the same effects as those of the first embodiment can be obtained. (Embodiment 3) In this embodiment, as shown in FIG. 14, the color filters 101,
... was arranged. The color filters 101,... Used were pigment-based color filters (manufactured by Ube Industries, Ltd.) and had a thickness of 1 μm. The photolithography / etching method was used to form the color filters 101. Further, after release, the surface side of the UV curable resin 33 was further irradiated with UV light for 2 minutes. This is because it is considered that the UV light is somewhat blocked by the color filters 101, and the curing of the UV curable resin 33 is not completely completed only in the resin curing step in the first embodiment. Other structures and manufacturing methods were the same as those in Example 1 described above.

【0105】本実施例によれば、前述した実施例とほぼ
同様の効果を奏するカラー液晶素子が得られた。 (実施例4)本実施例においては、ガラス基板11の表
面に金属配線12,…を形成する前に、カラーフィルタ
111,…を形成した。すなわち、親水性アクリル系の
インキ受容層をスピンコートにより厚み0.8μmに形
成し、カラーフィルタ用インクジェットプリンタ(キヤ
ノン社製)により水性のカラーフィルタ用染料インキ
(キヤノン社製)をピッチ230μmで打ち込み、受容
層に染み込ませ、さらに200℃の温度で30分間加熱
硬化させた。それ以外の構造及び製造方法は、上述した
実施例1と同様である。
According to this embodiment, a color liquid crystal element having substantially the same effects as those of the above-described embodiment was obtained. (Embodiment 4) In this embodiment, color filters 111,... Were formed before forming metal wirings 12,. That is, a hydrophilic acrylic ink receiving layer is formed to a thickness of 0.8 μm by spin coating, and an aqueous color filter dye ink (manufactured by Canon Inc.) is applied at a pitch of 230 μm by a color filter ink jet printer (manufactured by Canon Inc.). , And then cured by heating at a temperature of 200 ° C. for 30 minutes. Other structures and manufacturing methods are the same as those in the first embodiment.

【0106】本実施例によれば、前述した実施例3と同
様の効果を奏するカラー液晶素子が得られた。 (実施例5)本実施例においては、ガラス基板11の表
面に金属配線12,…を形成する前に、実施例4と同様
の方法でインクジェットカラーフィルタ層111,…を
形成し、さらにその表面に保護層121としてポリアミ
ド系透明コーティング材(宇部興産製)をスピンコート
し、その後ベーキングした。なお、ベーキング後の保護
層121の厚みは約0.5μmであった。それ以外の構
造及び製造方法は、上述した実施例1と同様である。
According to this embodiment, a color liquid crystal element having the same effects as in the third embodiment was obtained. (Embodiment 5) In this embodiment, before forming the metal wirings 12,... On the surface of the glass substrate 11, the inkjet color filter layers 111,. Then, a polyamide-based transparent coating material (manufactured by Ube Industries, Ltd.) was spin-coated as a protective layer 121 and then baked. Note that the thickness of the protective layer 121 after baking was about 0.5 μm. Other structures and manufacturing methods are the same as those in the first embodiment.

【0107】次に、本実施例の効果について説明する。Next, the effect of this embodiment will be described.

【0108】一般に、カラーフィルタ形成工程の後に金
属配線形成工程を実施した場合には、金属配線12,…
をパターニングするためのエッチング液によってカラー
フィルタ111,…が変色されてしまうおそれがある。
しかし、本実施例によれば、カラーフィルタ111,…
は保護層121によって被覆されているため、そのよう
な変色が防止された。
Generally, when the metal wiring forming step is performed after the color filter forming step, the metal wirings 12,.
May be discolored by the etchant for patterning the color filters.
However, according to the present embodiment, the color filters 111,.
Is covered with the protective layer 121, so that such discoloration was prevented.

【0109】また、本実施例によっても、上述した実施
例3と同様の効果を奏するカラー液晶素子が得られた。
Also, according to this embodiment, a color liquid crystal element having the same effect as that of the third embodiment was obtained.

【0110】[0110]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
金属配線と透明電極とが併設されているため、いわゆる
電圧波形の遅延の問題が解消され、大面積及び高精細の
液晶素子を得ることができる。
As described above, according to the present invention,
Since the metal wiring and the transparent electrode are provided side by side, the problem of so-called voltage waveform delay is solved, and a large-area and high-definition liquid crystal element can be obtained.

【0111】また、透明電極は、他縁部が隣り合う他の
金属配線の端縁にほぼ一致するように、或は該他縁部が
隣り合う他の金属配線の端縁を覆うように延設された状
態に形成されるため、液晶のスイッチングされる領域を
広く確保でき、その分画質が向上される。
The transparent electrode extends so that the other edge substantially coincides with the edge of another adjacent metal wiring, or the transparent electrode extends so as to cover the edge of another adjacent metal wiring. Since it is formed in the provided state, a wide switching area of the liquid crystal can be secured, and the image quality is improved by that much.

【0112】さらに、透明電極は、他縁部が、隣り合う
他の金属配線の端縁にほぼ一致するように(或は該端縁
を覆うように)延設された状態に、形成されるため、遮
光層を設ける必要が無く、開口率を高くして画像を明る
くできる。このため、バックライト装置の輝度を小さく
でき、結果的に、液晶素子の高輝度化や、消費電力の削
減を達成できる。また、製造工程が簡素化され、製造コ
ストも低減される。
Further, the transparent electrode is formed in a state where the other edge portion is extended so as to substantially coincide with (or cover) the edge of another adjacent metal wiring. Therefore, there is no need to provide a light shielding layer, and the image can be brightened by increasing the aperture ratio. Therefore, the luminance of the backlight device can be reduced, and as a result, higher luminance of the liquid crystal element and reduction of power consumption can be achieved. Further, the manufacturing process is simplified, and the manufacturing cost is reduced.

【0113】さらに、本発明によれば、型基板の突条部
によって樹脂の断面形状を確実に成形でき、製造が簡単
になると共に、透明電極の断線等を防止できる。
Further, according to the present invention, the cross-sectional shape of the resin can be reliably formed by the protruding ridges of the mold substrate, thereby simplifying the production and preventing disconnection of the transparent electrode.

【0114】またさらに、前記型基板によって樹脂を成
形するため、平坦性がスピンコート法よりも良好にでき
る。したがって、この樹脂の表面に形成する透明電極等
の平坦性を向上でき、セルギャップの均一化を達成でき
る。このため、液晶素子の製造歩留りを向上でき、パネ
ルの設計のし易さにおいてメリットがある。
Furthermore, since the resin is molded using the mold substrate, the flatness can be improved more than the spin coating method. Therefore, the flatness of the transparent electrode or the like formed on the surface of the resin can be improved, and the cell gap can be made uniform. Therefore, the production yield of the liquid crystal element can be improved, and there is an advantage in the ease of designing the panel.

【0115】また、カラーフィルタ形成工程においてカ
ラーフィルタを形成した場合には、上述した種々の効果
を有すると共に、カラー画像表示が可能な配線基板を製
造できる。
When a color filter is formed in the color filter forming step, it is possible to manufacture a wiring board which has various effects as described above and can display a color image.

【0116】特に、カラーフィルタの表面に保護層を形
成した場合には、透明電極を形成する際におけるカラー
フィルタの変色が防止される。
In particular, when a protective layer is formed on the surface of a color filter, discoloration of the color filter when forming a transparent electrode is prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1従来例の液晶素子の構造を示す図であり、
(a) は断面図、(b) は透明電極の形状を示す図。
FIG. 1 is a diagram showing a structure of a liquid crystal element of a first conventional example;
(a) is a sectional view, and (b) is a view showing a shape of a transparent electrode.

【図2】第2従来例の液晶素子の構造を示す図であり、
(a) は断面図、(b) は配線基板の構造を示す詳細断面
図。
FIG. 2 is a diagram showing a structure of a liquid crystal element of a second conventional example;
(a) is a sectional view, and (b) is a detailed sectional view showing a structure of a wiring board.

【図3】第2従来例の液晶素子の製造方法を説明するた
めの図。
FIG. 3 is a view for explaining a method for manufacturing a liquid crystal element of a second conventional example.

【図4】第3従来例の液晶素子の構造を説明するための
詳細断面図。
FIG. 4 is a detailed sectional view for explaining the structure of a liquid crystal element of a third conventional example.

【図5】第4従来例としての配線基板の詳細構造を示す
断面図。
FIG. 5 is a sectional view showing a detailed structure of a wiring board as a fourth conventional example.

【図6】第4従来例としての配線基板の製造方法を説明
するための図。
FIG. 6 is a view for explaining a method of manufacturing a wiring board as a fourth conventional example.

【図7】第4従来例における問題点を説明するための
図。
FIG. 7 is a diagram for explaining a problem in a fourth conventional example.

【図8】本発明に係る配線基板の製造方法を利用して製
造される液晶素子の構造を示す図であり、(a) は液晶素
子の全体構造を示す断面図、(b) は配線基板の構造を示
す詳細断面図。
8A and 8B are diagrams illustrating a structure of a liquid crystal element manufactured by using the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, wherein FIG. 8A is a cross-sectional view illustrating the entire structure of the liquid crystal element, and FIG. FIG. 2 is a detailed sectional view showing the structure of FIG.

【図9】本発明の配線基板の製造方法の第1の実施の形
態を説明するための図。
FIG. 9 is a view for explaining the first embodiment of the method for manufacturing a wiring board according to the present invention;

【図10】型基板の製造装置の例を説明するための図。FIG. 10 is a diagram for explaining an example of an apparatus for manufacturing a mold substrate.

【図11】本発明の配線基板の製造装置の例を説明する
ための図。
FIG. 11 is a view for explaining an example of a wiring board manufacturing apparatus of the present invention.

【図12】本発明の配線基板の製造方法の他の例を説明
するための図。
FIG. 12 is a diagram for explaining another example of the method for manufacturing a wiring board according to the present invention.

【図13】本発明の配線基板におけるUV硬化樹脂の形
状の他の例を説明するための図。
FIG. 13 is a view for explaining another example of the shape of the UV curable resin in the wiring board of the present invention.

【図14】本発明の第2の実施の形態に係る製造方法に
より製造される配線基板の構造の例を示す断面図。
FIG. 14 is a sectional view showing an example of a structure of a wiring board manufactured by a manufacturing method according to a second embodiment of the present invention.

【図15】本発明の第2の実施の形態に係る配線基板の
製造方法を説明するための図。
FIG. 15 is a view for explaining the method for manufacturing the wiring board according to the second embodiment of the present invention.

【図16】本発明の第2の実施の形態に係る製造方法に
より製造される配線基板の構造の他の例を示す断面図。
FIG. 16 is a sectional view showing another example of the structure of the wiring board manufactured by the manufacturing method according to the second embodiment of the present invention;

【図17】本発明の第2の実施の形態に係る配線基板の
製造方法の他の例を説明するための図。
FIG. 17 is a diagram for explaining another example of the method of manufacturing the wiring board according to the second embodiment of the present invention.

【図18】本発明の第3の実施の形態に係る製造方法に
より製造される配線基板の構造の他の例を示す断面図。
FIG. 18 is a sectional view showing another example of the structure of the wiring board manufactured by the manufacturing method according to the third embodiment of the present invention;

【図19】本発明の第3の実施の形態に係る配線基板の
製造方法を説明するための図。
FIG. 19 is a diagram for explaining the method for manufacturing the wiring board according to the third embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 ガラス基板(透光性基板) 12,… 金属配線 30 配線基板 33,… UV硬化樹脂 36,… 透明電極 50 型基板 51,… 突条部 51a 平坦部 51b 側面部 101,… カラーフィルタ 111,… カラーフィルタ 121 保護層 70 配線基板の製造装置 72 樹脂供給ユニット 74 樹脂成形ユニット 75 樹脂硬化ユニット Reference Signs List 11 glass substrate (translucent substrate) 12, metal wiring 30 wiring substrate 33, UV curing resin 36, transparent electrode 50 type substrate 51, ridge portion 51a flat portion 51b side portion 101, color filter 111, ... Color filter 121 Protective layer 70 Wiring board manufacturing device 72 Resin supply unit 74 Resin molding unit 75 Resin curing unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松尾 雄二 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キ ヤノン株式会社内 (56)参考文献 特開 平5−113572(JP,A) 実開 昭62−161226(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1343 G02F 1/1333 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yuji Matsuo 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (56) References JP-A-5-113572 (JP, A) Shokai Sho62 -161226 (JP, U) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) G02F 1/1343 G02F 1/1333

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 透光性基板の表面に複数の金属配線を形
成する金属配線形成工程、該複数の金属配線相互の間隙
に樹脂を供給する樹脂供給工程、該樹脂を硬化する樹脂
硬化工程、及び該硬化された樹脂の表面に透明電極を形
成する透明電極形成工程、を有する配線基板の製造方法
において、 ベース板と該ベース板上に設けられた突条部とを有する
型基板であって、前記金属配線よりも幅狭で前記金属配
線に対応した位置に形成されるとともに少なくとも一側
面が前記ベース板の表面に垂直ではない突条部を有する
型基板を、該突条部の位置が該金属配線の位置に対応す
るように前記樹脂に押圧し、前記樹脂を成形する樹脂成
形工程を、前記樹脂硬化工程の前に実施する、 ことを特徴とする配線基板の製造方法。
A metal wiring forming step of forming a plurality of metal wirings on a surface of the light transmitting substrate; a resin supplying step of supplying a resin to a gap between the plurality of metal wirings; a resin curing step of curing the resin; And a transparent electrode forming step of forming a transparent electrode on the surface of the cured resin, comprising: a mold substrate having a base plate and a ridge provided on the base plate. A mold substrate having a protrusion narrower than the metal wiring and formed at a position corresponding to the metal wiring and having at least one side surface not perpendicular to the surface of the base plate, wherein the position of the protrusion is A method of manufacturing a wiring board, wherein a resin molding step of pressing the resin so as to correspond to the position of the metal wiring and molding the resin is performed before the resin curing step.
【請求項2】 前記突条部の一側面と前記ベース板の表
面とのなす角が15〜60°である、 ことを特徴とする請求項記載の配線基板の製造方法。
Wherein said angle between one side and the base plate surface of the protrusions is 15 to 60 °, method of manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein a.
【請求項3】 前記透明電極形成工程において、該透明
電極の端部が前記金属配線のうちの一つと電気的に接続
し、該透明電極の反対側の端部が該金属配線と隣りあう
もう一つの金属配線の一側面を含む平面上に至るととも
に該もう一つの金属配線と電気的に接続しないように透
明電極を形成する、 ことを特徴とする請求項記載の配線基板の製造方法。
3. In the transparent electrode forming step, an end of the transparent electrode is electrically connected to one of the metal wirings, and an end opposite to the transparent electrode is adjacent to the metal wiring. with leads on a plane containing one side of one metal wire forming the transparent electrode so as not to connect said another metal wiring electrically method of manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein a.
【請求項4】 前記透明電極形成工程において、該透明
電極の端部が前記金属配線のうちの一つと電気的に接続
し、該透明電極の反対側の端部が該金属配線と隣りあう
もう一つの金属配線の一部を覆うとともに該もう一つの
金属配線と電気的に接続しないように透明電極を形成す
る、 ことを特徴とする請求項記載の配線基板の製造方法。
4. In the transparent electrode forming step, one end of the transparent electrode is electrically connected to one of the metal wirings, and the other end of the transparent electrode is adjacent to the metal wiring. covering a portion of one metal wire forming the transparent electrode so as not to connect said another metal wiring electrically method of manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein a.
【請求項5】 前記突条部の長手方向と垂直な断面の形
状が略等脚台形である、請求項記載の配線基板の製造
方法。
5. is a longitudinal and a substantially isosceles trapezoidal cross-section perpendicular of the protruding portion, method of manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein.
【請求項6】 前記樹脂供給工程前にカラーフィルター
形成工程を有する、請求項記載の配線基板の製造方
法。
Wherein said having a resin supply step color filter forming step prior method of manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein.
【請求項7】 前記カラーフィルター形成工程後に保護
層形成工程を有し、該カラーフィルターと前記絶縁層と
の間に保護層を形成する、 ことを特徴とする請求項記載の配線基板の製造方法。
7. a protective layer forming step after the color filter forming step, preparation of a wiring board according to claim 1, wherein forming the protective layer, characterized in that between the color filter and the insulating layer Method.
【請求項8】 一対の基板間に液晶を挟持した液晶素子
の製造方法であつて、透光性基板の表面に複数の金属配
線を形成する金属配線形成工程、該複数の金属配線相互
の間隙に樹脂を供給する樹脂供給工程、該樹脂を硬化す
る樹脂硬化工程、及び該硬化された樹脂の表面に透明電
極を形成する透明電極形成工程、とを有し、 ベース板と該ベース板上に設けられた突条部とを有する
型基板であって、前記金属配線よりも幅狭で前記金属配
線に対応した位置に形成されるとともに少なくとも一側
面が前記ベース板の表面に垂直ではない突条部を有する
型基板を、該突条部の位置が該金属配線の位置に対応す
るように前記樹脂に押圧し、前記樹脂を成形する樹脂成
形工程を、前記樹脂硬化工程の前に実施することを特徴
とする液晶素子の製造方法。
8. A method for manufacturing a liquid crystal device in which a liquid crystal is sandwiched between a pair of substrates, comprising: a step of forming a plurality of metal wirings on a surface of a light transmitting substrate; and a gap between the plurality of metal wirings. A resin supply step of supplying a resin, a resin curing step of curing the resin, and a transparent electrode forming step of forming a transparent electrode on the surface of the cured resin. A mold substrate having a ridge provided, wherein the ridge is formed narrower than the metal wiring and is formed at a position corresponding to the metal wiring, and at least one side surface is not perpendicular to the surface of the base plate. Pressing a mold substrate having a portion against the resin such that the position of the ridge corresponds to the position of the metal wiring, and performing a resin molding step of molding the resin before the resin curing step. A method for manufacturing a liquid crystal element, comprising:
【請求項9】 前記突条部の一側面と前記ベース板の表
面とのなす角が15〜60°であることを特徴とする請
求項記載の液晶素子の製造方法。
9. A method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 8, wherein the angle between one side and the base plate surface of the protruding portion is characterized in that it is a 15 to 60 °.
【請求項10】 前記透明電極形成工程において、該透
明電極の端部が前記金属配線のうちの一つと電気的に接
続し、該透明電極の反対側の端部が該金属配線と隣りあ
うもう一つの金属配線の一側面を含む平面上に至るとと
もに該もう一つの金属配線と電気的に接統しないように
透明電極を形成することを特徴とする請求項記載の液
晶素子の製造方法。
10. In the transparent electrode forming step, one end of the transparent electrode is electrically connected to one of the metal wirings, and the other end of the transparent electrode is adjacent to the metal wiring. 9. The method for manufacturing a liquid crystal element according to claim 8 , wherein a transparent electrode is formed so as to reach a plane including one side surface of one metal wiring and not to be electrically connected to the other metal wiring.
【請求項11】 前記透明電極形成工程において、該透
明電極の端部が前記金属配線のうちの一つと電気的に接
続し、該透明電極の反対側の端部が該金属配線と隣りあ
うもう一つの金属配線の一部を覆うとともに該もう一つ
の金属配線と電気的に接続しないように透明電極を形成
することを特徴とする請求項記載の液晶素子の製造方
法。
11. In the transparent electrode forming step, an end of the transparent electrode is electrically connected to one of the metal wirings, and an opposite end of the transparent electrode is adjacent to the metal wiring. 9. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 8 , wherein a transparent electrode is formed so as to cover a part of one metal wiring and not to be electrically connected to the other metal wiring.
【請求項12】 前記突条部の長手方向と垂直な断面の
形状が脚台形である請求項記載の液晶素子の製造方
法。
12. The method for manufacturing a liquid crystal element according to claim 8 , wherein a shape of a cross section perpendicular to a longitudinal direction of the ridge is a trapezoid.
【請求項13】 前記樹脂供給工程前にカラーフィルタ
ー形成工程を有する請求項記載の液晶素子の製造方
法。
13. The method according to claim 8, further comprising a color filter forming step before the resin supplying step.
【請求項14】 前記カラーフィルター形成工程後に保
護層形成工程を有し、該カラーフィルターと前記絶縁層
との間に保護層を形成することを特徴とする請求項
載の液晶素子の製造方法。
14. The method according to claim 8 , further comprising a protective layer forming step after the color filter forming step, wherein a protective layer is formed between the color filter and the insulating layer. .
【請求項15】 金属配線が形成された基板の表面、又
は該金属配線よりも幅狭で該金属配線に対応した位置に
形成されるとともに少なくとも一側面が前記ベース板の
表面に垂直ではない突条部を有する型基板の表面に樹脂
を供給する樹脂供給ユニットと、前記突条部の位置と前
記金属配線の位置とが対応するように前記型基板を前記
樹脂に押圧して該樹脂を成形する樹脂成形ユニットと、
前記成形された樹脂を硬化させる樹脂硬化ユニットと、
前記型基板を前記硬化した樹脂から離形する離形ユニッ
トと、を有する配線基板の製造装置。
15. A projection formed on a surface of a substrate on which a metal wiring is formed, or at a position narrower than the metal wiring and corresponding to the metal wiring, and at least one side surface is not perpendicular to the surface of the base plate. A resin supply unit for supplying a resin to the surface of a mold substrate having a ridge, and molding the resin by pressing the mold substrate against the resin so that the position of the ridge corresponds to the position of the metal wiring A resin molding unit,
A resin curing unit for curing the molded resin,
A release unit for releasing the mold substrate from the cured resin;
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