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JP3180980B2 - Manufacturing method of thermal head - Google Patents

Manufacturing method of thermal head

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Publication number
JP3180980B2
JP3180980B2 JP32503392A JP32503392A JP3180980B2 JP 3180980 B2 JP3180980 B2 JP 3180980B2 JP 32503392 A JP32503392 A JP 32503392A JP 32503392 A JP32503392 A JP 32503392A JP 3180980 B2 JP3180980 B2 JP 3180980B2
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JP
Japan
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thermal head
insulating substrate
electrode
substrate body
circuit pattern
Prior art date
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Japanese (ja)
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和幸 板木
伸二 平田
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ファクシミリや画像記
録装置等に用いられるサーマルヘッドの製造方法に関
し、より詳細には、1枚の電気絶縁性基板素体から複数
のサーマルヘッド基板を同時に得るサーマルヘッドの製
造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a thermal head used for a facsimile, an image recording apparatus, and the like. More specifically, a plurality of thermal head substrates are simultaneously obtained from a single electrically insulating substrate body. The present invention relates to a method for manufacturing a thermal head.

【0002】[0002]

【従来の技術及びその問題点】従来、サーマルヘッド基
板は、図3及び図4に示す如く、表面の所定位置にグレ
ーズ層5を設けて平滑化したアルミナセラミックス等か
ら成る電気絶縁性基板6の上面全体に、発熱抵抗体層7
及び導体層8を順次成膜させ、次にフォトリソグラフィ
技術を採用し、導電層8を部分的にエッチングすること
によって電気絶縁性基板6の一方の側縁部に沿って端子
電極3を、他方の側縁部に沿って共通電極4を、また端
子電極3と共通電極4の間に個別電極9及び発熱部10
を夫々所定パターンに形成し、更にその上に窒化珪素等
から成る保護層11を成膜させ、最後に個別電極9と端
子電極3の間に駆動用IC素子12を半田バンプ法等の
フェイスダウンボンディングにより搭載し駆動用IC素
子12を保護樹脂14で被覆することによって製造され
ていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, as shown in FIGS. 3 and 4, a thermal head substrate is made of an electrically insulating substrate 6 made of alumina ceramics or the like smoothed by providing a glaze layer 5 at a predetermined position on the surface. The heating resistor layer 7 is formed on the entire upper surface.
And a conductive layer 8 are sequentially formed, and then the photolithography technique is used to partially etch the conductive layer 8 to thereby connect the terminal electrode 3 along one side edge of the electrically insulating substrate 6 and the other. The common electrode 4 is provided along the side edges of the individual electrodes 9 and the individual electrodes 9 and the heat generating portions 10 are provided between the terminal electrode 3 and the common electrode 4.
Are formed in a predetermined pattern, and a protective layer 11 made of silicon nitride or the like is formed thereon. Finally, a driving IC element 12 is placed between the individual electrode 9 and the terminal electrode 3 by a face-down method such as a solder bump method. It has been manufactured by mounting by bonding and covering the driving IC element 12 with the protective resin 14.

【0003】またかかるサーマルヘッド基板の製造にあ
たり、サーマルヘッド基板を1個ずつ製造していたので
は効率が悪いため、1枚の電気絶縁性基板素体を複数の
区画に区分するとともに各区画に回路パターンと発熱部
10を各々形成し、しかる後、電気絶縁性基板素体を各
区画に分割して複数のサーマルヘッド基板を同時に得る
ことが提案されており、特公平4−17796号公報に
は、1枚の電気絶縁性基板素体から複数のサーマルヘッ
ド基板を同時に得る場合の回路パターンの配置に関する
先行技術が開示されている。
[0003] In the production of such a thermal head substrate, it is inefficient to produce one thermal head substrate at a time. Therefore, one electric insulating substrate body is divided into a plurality of sections and each section is divided into a plurality of sections. It has been proposed that a circuit pattern and a heat generating portion 10 are respectively formed, and thereafter, a plurality of thermal head substrates are simultaneously obtained by dividing an electrically insulating substrate body into respective sections, as disclosed in Japanese Patent Publication No. 4-17796. Discloses a prior art relating to the arrangement of circuit patterns when a plurality of thermal head substrates are simultaneously obtained from one electrically insulating substrate body.

【0004】同公報によれば、電気絶縁性基板素体を図
5(a)に示す如く、3つの区画に区分するとともに各
区画に回路パターンX、Y、Zを各々形成するにあたっ
て、回路パターンXの端子電極3を回路パターンYの共
通電極4と、また回路パターンYの端子電極3を回路パ
ターンZの共通電極4と、それぞれ対向させて配するこ
とが記載されており、このような電気絶縁性基板素体1
を各区画に分割することによって3個のサーマルヘッド
基板が同時に得られる。
According to the publication, as shown in FIG. 5 (a), an electrically insulating substrate body is divided into three sections, and circuit patterns X, Y and Z are formed in each section. It is described that the X terminal electrode 3 is arranged to face the common electrode 4 of the circuit pattern Y, and the terminal electrode 3 of the circuit pattern Y is arranged to face the common electrode 4 of the circuit pattern Z. Insulating substrate body 1
Is divided into each section, so that three thermal head substrates can be obtained at the same time.

【0005】ところで、最近のサーマルヘッドにおいて
は、家庭用FAXが普及する中で、低コスト化、小型化
が強く要求されており、このため、上述のような製法に
よってサーマルヘッド基板を製造する場合、図5(b)
に示す如く、隣接する区画の回路パターン間の間隔16
を、例えば0.5mm程度にまで狭くして電気絶縁性基
板6の奥行き寸法15を小さくなす必要があった。
[0005] With the spread of home-use FAX in recent thermal heads, there has been a strong demand for cost reduction and miniaturization. For this reason, when a thermal head substrate is manufactured by the above-described manufacturing method. , FIG. 5 (b)
As shown in FIG.
Needs to be reduced to, for example, about 0.5 mm to reduce the depth dimension 15 of the electrically insulating substrate 6.

【0006】しかしながら、前記間隔16を0.5mm
程度にまで狭くしてしまうと、フォトリソグラフィ工程
における電気絶縁性基板素体1へのマスクの設定位置精
度の影響等によって分割ライン2a、2bが理想位置か
らずれることがあり、電気絶縁性基板素体1の分割時、
分割ライン2a、2bが理想位置からずれてしまうと、
図5(c)、(d)に示す如く、回路パターンXが形成
された電気絶縁性基板6の端子電極3よりも外側の位置
に、隣接する回路パターンYの共通電極4が帯状に残留
してしまい、その結果、サーマルヘッド基板の端子電極
3に可撓性配線基板を圧接溶着させた際、図6に示す如
く、可撓性配線基板18の配線18a同士が前記帯状に
残留した共通電極4によって短絡してしまう欠点を有し
ていた。
However, the interval 16 is set to 0.5 mm
If the width is reduced to such an extent, the division lines 2a and 2b may deviate from the ideal position due to the influence of the accuracy of the set position of the mask on the electrically insulating substrate body 1 in the photolithography process, and the like. When dividing the body 1,
If the division lines 2a and 2b deviate from the ideal positions,
As shown in FIGS. 5C and 5D, the common electrode 4 of the adjacent circuit pattern Y remains in a band shape at a position outside the terminal electrode 3 of the electrically insulating substrate 6 on which the circuit pattern X is formed. As a result, when the flexible wiring board is press-welded to the terminal electrode 3 of the thermal head substrate, as shown in FIG. 4 had the disadvantage of causing a short circuit.

【0007】このように従来技術においては、サーマル
ヘッド基板を小型化するほど短絡不良が生じ易く、良品
率を低下させるという問題点があり、低コスト化のため
にサーマルヘッド基板を小型化するという一方の目的か
らは矛盾する結果となっていた。
As described above, in the prior art, as the size of the thermal head substrate is reduced, short-circuit failure is more likely to occur, and the yield rate is reduced. Therefore, the thermal head substrate is reduced in size for cost reduction. On one hand, the results were inconsistent.

【0008】以上述べた問題点は、導電層が薄膜、厚膜
にかかわらず生じる問題点である。
The problem described above is a problem that occurs regardless of whether the conductive layer is thin or thick.

【0009】[0009]

【問題点を解決するための手段】本発明は上記問題点に
鑑み案出したもので、本発明のサーマルヘッドの製造方
法は、電気絶縁性基板素体を複数の区画に区分するとと
もに各区画に、共通電極、個別電極及び端子電極から成
る回路パターンと、前記共通電極及び個別電極間に介在
する発熱部を各々形成し、しかる後、前記電気絶縁性基
板素体を各区画に分割することにより得た複数個のサー
マルヘッド基板に可撓性配線基板を圧接溶着させるサー
マルヘッドの製造方法において、前記電気絶縁性基板素
体の各区画に形成された各回路パターンを、端子電極及
び共通電極が隣接する区画の回路パターンの端子電極及
び共通電極と対向するように配設させるとともに、前記
共通電極と前記電気絶縁性基板素体の上面との間に補強
電極を膜状に介在させることを特徴とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been devised in view of the above problems, and a method of manufacturing a thermal head according to the present invention is directed to a method of dividing an electrically insulating substrate body into a plurality of sections. Forming a circuit pattern including a common electrode, an individual electrode and a terminal electrode, and a heat generating portion interposed between the common electrode and the individual electrode, and thereafter dividing the electric insulating substrate body into respective sections. In the method for manufacturing a thermal head in which a flexible wiring substrate is pressure-welded to a plurality of thermal head substrates obtained by the method described above, each circuit pattern formed in each section of the electrically insulating substrate body is provided with a terminal electrode and a common electrode. Are disposed so as to face the terminal electrode and the common electrode of the circuit pattern of the adjacent section, and a reinforcing electrode is interposed between the common electrode and the upper surface of the electrically insulating substrate body in a film form. It is characterized in that to.

【0010】[0010]

【作用】1枚の電気絶縁性基板素体から複数のサーマル
ヘッド基板を同時に得る場合、複数のサーマルヘッド基
板に相当する回路パターンを請求項1の如く配置するこ
とによって、フォトリソグラフィ工程における電気絶縁
性基板素体へのマスクの設定位置精度の影響から、分割
ラインが理想位置からずれてしまい、分割ラインが隣接
する区画の回路パターンにかかるようなことがあって
も、サーマルヘッド基板の端子電極よりも外側の位置
に、隣接する回路パターンの共通電極が帯状に残留する
ことは一切無く、サーマルヘッド基板の端子電極に可撓
性配線基板の配線を圧接溶着させる際に可撓性配線基板
の配線同士が短絡するという不具合は生じない。
When a plurality of thermal head substrates are simultaneously obtained from a single electrically insulating substrate element, a circuit pattern corresponding to the plurality of thermal head substrates is arranged as in claim 1, so that the electrical insulation in the photolithography process is achieved. Due to the influence of the mask setting position accuracy on the conductive substrate body, the division line may deviate from the ideal position, and the division line may touch the circuit pattern of the adjacent section. The common electrode of the adjacent circuit pattern never remains in a strip shape at a position outside of the flexible wiring board at the time of press-welding the wiring of the flexible wiring board to the terminal electrode of the thermal head board. The problem that the wires are short-circuited does not occur.

【0011】また分割ラインが理想位置からずれてしま
うことによって、サーマルヘッド基板の端子電極よりも
外側の位置に隣接する回路パターンの端子電極が一部残
留したとしても、該残留する端子電極は個々に独立して
いるため、サーマルヘッド基板の端子電極に可撓性配線
基板の配線を圧接溶着させた際に可撓性配線基板の配線
同士が短絡するという不具合は生じない。
[0011] Even if the divided lines deviate from the ideal positions, even if some of the terminal electrodes of the circuit pattern adjacent to the position outside the terminal electrodes of the thermal head substrate remain, the remaining terminal electrodes are individually formed. Therefore, when the wires of the flexible wiring board are press-welded to the terminal electrodes of the thermal head substrate, there is no problem that the wires of the flexible wiring board are short-circuited.

【0012】しかもこの場合、補強電極は共通電極と電
気絶縁性基板素体の上面との間に膜状に介在されるた
め、電気絶縁性基板素体の表面に補強電極収納用の凹部
等を形成するための余計なプロセスは不要であり、また
凹部等が設けられていない電気絶縁性基板素体の厚みは
略一定であることから、電気絶縁性基板素体の機械的強
度は高く維持されて、電気絶縁性基板素体が製造プロセ
ス中に破損するといった事態が有効に防止され、これに
よりサーマルヘッドの生産性が飛躍的に向上する。
Moreover, in this case, since the reinforcing electrode is interposed in a film form between the common electrode and the upper surface of the electrically insulating substrate body, a concave portion or the like for accommodating the reinforcing electrode is formed on the surface of the electrically insulating substrate body. No extra process is required for the formation, and the thickness of the electrically insulating substrate body without any concave portions is substantially constant, so that the mechanical strength of the electrically insulating substrate body is kept high. As a result, a situation in which the electrically insulating substrate body is damaged during the manufacturing process is effectively prevented, thereby dramatically improving the productivity of the thermal head.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明の実施例を添付した図面に基づ
いて説明する。 (実施例1) 図3はサーマルヘッド基板の構造を示す断面図、図4は
サーマルヘッド基板の平面図であり、電気絶縁性基板6
上に、端子電極3、共通電極4及び個別電極9から成る
回路パターンと、個別電極9及び共通電極4間に介在さ
れる発熱部10とがそれぞれ所定パターンに形成されて
いる。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. (Example 1) FIG. 3 is a cross-sectional view showing the structure of a thermal head substrate, and FIG. 4 is a plan view of the thermal head substrate.
A circuit pattern including the terminal electrode 3, the common electrode 4, and the individual electrode 9 and a heat generating portion 10 interposed between the individual electrode 9 and the common electrode 4 are formed in a predetermined pattern thereon.

【0014】かかる構造のサーマルヘッド基板を本発明
の製造方法により製作するには、 (1)先ず、電気絶縁性基板素体の上面所定領域に、複
数のサーマルヘッド基板に相当する部分グレーズ層5
(高さ:約50μm、幅:約1mm)を、断面が円弧状
を成すように被着させる。
In order to manufacture a thermal head substrate having such a structure by the manufacturing method of the present invention, (1) first, a partial glaze layer 5 corresponding to a plurality of thermal head substrates is provided on a predetermined region of the upper surface of an electrically insulating substrate body.
(Height: about 50 μm, width: about 1 mm) so as to form an arc-shaped cross section.

【0015】前記電気絶縁性基板素体はアルミナセラミ
ックス等から成り、マグネシア等のセラミックス原料粉
末に適当な有機溶剤、溶媒を添加混合して泥漿状と成す
とともにこれを従来周知のドクターブレード法やカレン
ダーロール法等を採用することによってセラミックグリ
ーンシートを形成し、しかる後、前記セラミックグリー
ンシートを所定形状に打ち抜き加工するとともに高温で
焼成することによって製作される。
The electrically insulating substrate body is made of alumina ceramics or the like, and a ceramic raw material powder such as magnesia is mixed with an appropriate organic solvent and a solvent to form a slurry. A ceramic green sheet is formed by employing a roll method or the like, and thereafter, the ceramic green sheet is punched into a predetermined shape and fired at a high temperature.

【0016】前記電気絶縁性基板素体上に被着される部
分グレーズ層5は、ガラス等から成り、ガラス粉末に適
当な有機溶剤、溶媒を添加混合して得たガラスペースト
を電気絶縁性基板素体の上面に従来周知のスクリーン印
刷法等を採用することによって塗布し、しかる後、これ
を所定温度で焼き付けることによって電気絶縁性基板素
体1の上面に断面が円弧状を成すように被着される。
The partial glaze layer 5 deposited on the electrically insulating substrate body is made of glass or the like. A glass paste obtained by adding a suitable organic solvent and a solvent to glass powder is mixed with an electrically insulating substrate. The upper surface of the element body is applied by employing a conventionally known screen printing method or the like, and then is baked at a predetermined temperature to cover the upper surface of the electrically insulating substrate body 1 so that the cross section forms an arc shape. Be worn.

【0017】(2)次に、電気絶縁性基板素体及び部分
グレーズ層5上に、窒化タンタル等から成る発熱抵抗体
層7(厚さ:200〜1000Å)とアルミニウムや銅
等から成る導電層8(厚み:約1μm)とを順次成膜さ
せる。
(2) Next, on the electrically insulating substrate body and the partial glaze layer 5, a heating resistor layer 7 (thickness: 200 to 1000 mm) made of tantalum nitride or the like and a conductive layer made of aluminum or copper or the like 8 (thickness: about 1 μm).

【0018】前記発熱抵抗体層7及び導電層8は、従来
周知のスパッタリング法等を採用することによって電気
絶縁性基板素体及び部分グレーズ層5上に夫々所定厚み
をもって被着される。
The heating resistor layer 7 and the conductive layer 8 are respectively applied with a predetermined thickness on the electrically insulating substrate body and the partial glaze layer 5 by employing a conventionally known sputtering method or the like.

【0019】(3)次に、前記導電層8をフォトリソグ
ラフィー工程によって所定パターンに加工し、電気絶縁
性基板素体を複数の区画に区分するとともに各区画に、
共通電極4、個別電極9及び端子電極3から成る回路パ
ターンと、前記共通電極4及び個別電極9間に介在する
発熱部10を各々形成する。
(3) Next, the conductive layer 8 is processed into a predetermined pattern by a photolithography process to divide the electrically insulating substrate body into a plurality of sections,
A circuit pattern including the common electrode 4, the individual electrode 9, and the terminal electrode 3 and a heat generating portion 10 interposed between the common electrode 4 and the individual electrode 9 are formed.

【0020】このとき、前記電気絶縁性基板素体の各区
画に形成された各回路パターンは、図1(a)〜(c)
に示す如く、その端子電極3及び共通電極4が隣接する
区画の回路パターンの端子電極3及び共通電極4と対向
するように形成する。
At this time, each circuit pattern formed in each section of the electrically insulating substrate body is shown in FIGS. 1 (a) to 1 (c).
As shown in the figure, the terminal electrode 3 and the common electrode 4 are formed so as to face the terminal electrode 3 and the common electrode 4 of the circuit pattern of the adjacent section.

【0021】前記回路パターンと発熱部10とは、従来
周知のフォトリソグラフィー技術を採用し、導電層8を
部分的にエッチングすることによって端子電極3及び共
通電極4が隣接する区画の回路パターンの端子電極3及
び共通電極4と対向するように形成される。
The circuit pattern and the heat generating portion 10 are formed by partially etching the conductive layer 8 by using a conventionally well-known photolithography technique, so that the terminal of the circuit pattern of the section where the terminal electrode 3 and the common electrode 4 are adjacent to each other is formed. It is formed so as to face the electrode 3 and the common electrode 4.

【0022】前記電気絶縁性基板素体1の各区画に形成
された各回路パターンは、その端子電極3及び共通電極
4が隣接する区画の回路パターンの端子電極3及び共通
電極4と対向するように形成されるため、フォトリソグ
ラフィ工程における電気絶縁性基板素体1へのマスクの
設定位置精度の影響から分割ライン2が理想位置からず
れてしまい、分割ライン2が隣接する区画の回路パター
ンにかかるようなことがあっても、サーマルヘッド基板
の端子電極3よりも外側の位置に、隣接する回路パター
ンの共通電極4が帯状に残留することは一切無く、サー
マルヘッド基板の端子電極3に可撓性配線基板の配線を
圧接溶着させる際、可撓性配線基板の配線同士が短絡す
るという不具合は生じない。
Each circuit pattern formed in each section of the electrically insulating substrate body 1 has its terminal electrode 3 and common electrode 4 opposed to the terminal electrode 3 and common electrode 4 of the circuit pattern in the adjacent section. Therefore, the division line 2 is shifted from an ideal position due to the influence of the accuracy of the mask setting position on the electrically insulating substrate body 1 in the photolithography process, and the division line 2 is applied to the circuit pattern of the adjacent section. Even in such a case, the common electrode 4 of the adjacent circuit pattern does not remain in a strip shape at a position outside the terminal electrode 3 of the thermal head substrate, and the terminal electrode 3 of the thermal head substrate is flexible. When the wires of the flexible wiring board are press-welded, there is no problem that the wires of the flexible wiring board are short-circuited.

【0023】また分割ライン2が理想位置からずれてし
まうことによって、サーマルヘッド基板の端子電極3よ
りも外側の位置に、隣接する回路パターンの端子電極3
が一部残留したとしても、該残留する端子電極3は個々
に独立しているため、サーマルヘッド基板の端子電極3
に可撓性配線基板の配線を圧接溶着させた際、可撓性配
線基板の配線同士が短絡するという不具合は生じない。
Further, since the division line 2 deviates from the ideal position, the terminal electrode 3 of the adjacent circuit pattern is located at a position outside the terminal electrode 3 of the thermal head substrate.
Even if some of the terminal electrodes 3 remain, the remaining terminal electrodes 3 are independent of each other.
When the wirings of the flexible wiring board are welded by pressure welding, there is no problem that the wirings of the flexible wiring board are short-circuited.

【0024】(4)次に、前記回路パターンの上面に保
護層11を被着させる。前記保護層11は窒化珪素やサ
イアロン等から成り、スパッタリング法等の薄膜技術に
よって発熱抵抗体層7等の上面に約4μmの厚みをもっ
て成膜される。
(4) Next, a protective layer 11 is deposited on the upper surface of the circuit pattern. The protective layer 11 is made of silicon nitride, sialon, or the like, and is formed with a thickness of about 4 μm on the upper surface of the heating resistor layer 7 or the like by a thin film technique such as a sputtering method.

【0025】(5)次に、電気絶縁性基板素体1の所定
位置に外力を印加し、電気絶縁性基板素体1を複数のサ
ーマルヘッド基板に分割する。
(5) Next, an external force is applied to a predetermined position of the electrically insulating substrate body 1 to divide the electrically insulating substrate body 1 into a plurality of thermal head substrates.

【0026】この場合、電気絶縁性基板素体1の各区画
に形成された各回路パターンは、その端子電極3及び共
通電極4が隣接する区画の回路パターンの端子電極3及
び共通電極4と対向するように形成されるため、フォト
リソグラフィ工程における電気絶縁性基板素体1へのマ
スクの設定位置精度の影響から分割ライン2が理想位置
からずれてしまい、分割ライン2が隣接する区画の回路
パターンにかかるようなことがあっても、サーマルヘッ
ド基板の端子電極3よりも外側の位置に、隣接する回路
パターンの共通電極4が帯状に残留することは一切無
く、サーマルヘッド基板の端子電極3に可撓性配線基板
の配線を圧接溶着させる際、可撓性配線基板の配線同士
が短絡するという不具合は生じない。
In this case, each circuit pattern formed in each section of the electrically insulating substrate body 1 has its terminal electrode 3 and common electrode 4 facing the terminal electrode 3 and common electrode 4 of the circuit pattern in the adjacent section. Therefore, the division line 2 is deviated from an ideal position due to the influence of the accuracy of the setting position of the mask on the electrically insulating substrate body 1 in the photolithography process, and the circuit pattern of the division line adjacent to the division line 2 However, the common electrode 4 of the adjacent circuit pattern never remains in a strip shape at a position outside the terminal electrode 3 of the thermal head substrate. When the wires of the flexible wiring board are press-welded, there is no problem that the wires of the flexible wiring board are short-circuited.

【0027】また分割ライン2が理想位置からずれてし
まうことによって、サーマルヘッド基板の端子電極3よ
りも外側の位置に、隣接する回路パターンの端子電極3
が一部残留したとしても、該残留する端子電極3は個々
に独立しているため、サーマルヘッド基板の端子電極3
に可撓性配線基板の配線を圧接溶着させた際、可撓性配
線基板の配線同士が短絡するという不具合は生じない。
Further, since the division line 2 deviates from the ideal position, the terminal electrode 3 of the adjacent circuit pattern is located at a position outside the terminal electrode 3 of the thermal head substrate.
Even if some of the terminal electrodes 3 remain, the remaining terminal electrodes 3 are independent of each other.
When the wirings of the flexible wiring board are welded by pressure welding, there is no problem that the wirings of the flexible wiring board are short-circuited.

【0028】(6)最後に、各サーマルヘッド基板の個
別電極9と端子電極3との間に駆動用IC素子12を半
田等のロウ材を介して搭載し、駆動用IC素子12を保
護樹脂14で被覆する。
(6) Finally, the driving IC elements 12 are mounted between the individual electrodes 9 and the terminal electrodes 3 of each thermal head substrate via a brazing material such as solder, and the driving IC elements 12 are protected by a protective resin. Cover with 14.

【0029】前記駆動用IC素子12はハンダバンプ法
等のフェイスダウンボンディングによって各サーマルヘ
ッドの個別電極9と端子電極3との間に搭載され、しか
る後、駆動用IC素子12を従来周知の厚膜技術を採用
し保護樹脂14で被覆することによってサーマルヘッド
基板が完成する。
The driving IC element 12 is mounted between the individual electrode 9 and the terminal electrode 3 of each thermal head by face-down bonding such as a solder bump method. Thereafter, the driving IC element 12 is replaced with a conventionally known thick film. The thermal head substrate is completed by applying the technology and covering with the protective resin 14.

【0030】尚、前記共通電極4と前記電気絶縁性基板
素体1の上面との間には、銀等から成る補強電極13が
所定厚みをもって膜状に介在される。この補強電極13
は共通電極4及び発熱抵抗体層7の下部に配設されて共
通電極4を電気的に補強するためのものであり、共通電
極4の電気抵抗値を補強電極13によって、例えば単位
長さ当たり1×10-3Ω/mm以下の小さなものとする
ことができ、これによって共通電極4に電圧ドロップが
発生するのを有効に防止することができる。
A reinforcing electrode 13 made of silver or the like is interposed between the common electrode 4 and the upper surface of the electrically insulating substrate body 1 in a film shape with a predetermined thickness. This reinforcing electrode 13
Is provided below the common electrode 4 and the heating resistor layer 7 to electrically reinforce the common electrode 4. The electric resistance of the common electrode 4 is increased by the reinforcing electrode 13, for example, per unit length. It can be as small as 1 × 10 −3 Ω / mm or less, thereby effectively preventing a voltage drop on the common electrode 4.

【0031】前記補強電極13は、銀ペースト等の導電
性ペーストを従来周知のスクリーン印刷等によって電気
絶縁性基板素体1の上面所定領域に塗布し、しかる後、
導電性ペーストを例えば焼成温度600℃、焼成時間5
〜30分の条件のもとで焼成することによって形成され
る。
The reinforcing electrode 13 is formed by applying a conductive paste such as a silver paste to a predetermined region of the upper surface of the electrically insulating substrate body 1 by a conventionally known screen printing or the like.
For example, the conductive paste is baked at a temperature of 600 ° C. for a baking time of 5 ° C.
It is formed by firing under conditions of up to 30 minutes.

【0032】この補強電極13は、共通電極4と電気絶
縁性基板素体1の上面との間に膜状に介在されるように
なっているため、電気絶縁性基板素体1の表面に補強電
極収納用の凹部等を形成するための余計なプロセスは不
要であり、また凹部等が設けられていない電気絶縁性基
板素体1の厚みは略一定であることから、電気絶縁性基
板素体1の機械的強度は高く維持されて、電気絶縁性基
板素体1が製造プロセス中に破損するといった事態が有
効に防止され、これによってサーマルヘッドの生産性が
飛躍的に向上する。
Since the reinforcing electrode 13 is interposed in the form of a film between the common electrode 4 and the upper surface of the electrically insulating substrate body 1, the reinforcing electrode 13 reinforces the surface of the electrically insulating substrate body 1. An extra process for forming a concave portion for accommodating the electrode is unnecessary, and the thickness of the electrically insulating substrate body 1 having no concave portion is substantially constant. The mechanical strength of the thermal insulating head 1 is maintained high, and the situation that the electrically insulating substrate body 1 is broken during the manufacturing process is effectively prevented, thereby greatly improving the productivity of the thermal head.

【0033】従来の製造方法では短絡不良の発生率が約
20%であったのに対し、本発明の製造方法では短絡不
良の発生を皆無にすることができるとともに、フォトリ
ソグラフィ工程に用いるマスクを所定パターンのものに
変更するだけで対応できる。従って、本発明を実施する
にあたり、格別のコスト増になることはない。
While the occurrence rate of short-circuit failure is about 20% in the conventional manufacturing method, the occurrence of short-circuit failure can be eliminated in the manufacturing method of the present invention, and the mask used in the photolithography process can be eliminated. It can be dealt with simply by changing to a predetermined pattern. Therefore, there is no particular cost increase in implementing the present invention.

【0034】尚、本実施例においては、複数のサーマル
ヘッド基板に相当する回路パターンを、図1(a)〜
(c)に示す如く配置させたが、これらの配置以外に、
パターンの短辺側に更に同じ回路パターンを隣接させて
も良く、こうしておけば1枚の電気絶縁性基板素体1か
ら、より多くのサーマルヘッド基板を一度に得ることが
できる。
In this embodiment, the circuit patterns corresponding to the plurality of thermal head substrates are shown in FIGS.
Although they were arranged as shown in (c), in addition to these arrangements,
The same circuit pattern may be further adjacent to the short side of the pattern, so that a larger number of thermal head substrates can be obtained from one electric insulating substrate body 1 at a time.

【0035】(実施例2)電気絶縁性基板素体1の各区
画に形成された各回路パターンは左右対象で、その端子
電極3が、図2(a)、(b)に示す如く、隣接する区
画の回路パターンの端子電極3と対向するとともに連続
して形成されている。それ以外の製造方法は実施例1と
同様である。
(Embodiment 2) Each circuit pattern formed in each section of the electrically insulating substrate body 1 is left-right symmetrical, and its terminal electrodes 3 are adjacent to each other as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b). It faces the terminal electrode 3 of the circuit pattern of the section to be formed and is formed continuously. Other manufacturing methods are the same as in the first embodiment.

【0036】この場合、短絡不良の発生を皆無とするこ
とができるとともに、端子部形成の金メッキ塗布範囲を
同一面積として配線抵抗を均一にすることができ、これ
によって感熱紙等への印字濃度を均一にすることができ
る。
In this case, it is possible to eliminate the occurrence of short-circuit defects and to make the wiring area uniform by making the gold plating application area for forming the terminals the same area, thereby reducing the printing density on thermal paper or the like. It can be uniform.

【0037】また本発明は上記実施例に限定されるもの
でなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の
変更、改良等が可能であり、例えば上記実施例では、発
熱抵抗体層や導体層を薄膜技術によって形成したが、発
熱抵抗体層や導体層を厚膜技術によって形成しても良
く、発熱抵抗体層や導体層を厚膜技術によって形成して
も上記実施例と同様の効果を得ることができる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes and improvements can be made without departing from the scope of the present invention. Although the layers are formed by the thin film technology, the heating resistor layer and the conductor layer may be formed by the thick film technology, and the same effect as in the above embodiment can be obtained by forming the heating resistor layer and the conductor layer by the thick film technology. Can be obtained.

【0038】[0038]

【発明の効果】本発明のサーマルヘッドの製造方法によ
れば、電気絶縁性基板素体の各区画に形成された各回路
パターンは、その端子電極及び共通電極が隣接する区画
の回路パターンの端子電極及び共通電極と対向するよう
に形成されるため、フォトリソグラフィ工程における電
気絶縁性基板素体へのマスクの設定位置精度の影響から
分割ラインが理想位置からずれてしまい、分割ラインが
隣接する区画の回路パターンにかかるようなことがあっ
ても、サーマルヘッド基板の端子電極よりも外側の位置
に、隣接する回路パターンの共通電極が帯状に残留する
ことは一切無く、サーマルヘッド基板の端子電極に可撓
性配線基板の配線を圧接溶着させる際、可撓性配線基板
の配線同士が短絡するという不具合は生じない。
According to the method of manufacturing a thermal head according to the present invention, each circuit pattern formed in each section of the electrically insulating substrate body has a terminal electrode and a common electrode, each of which has a terminal of the circuit pattern in the adjacent section. Since the electrodes are formed so as to face the electrodes and the common electrode, the division line deviates from the ideal position due to the influence of the accuracy of the setting position of the mask on the electrically insulating substrate body in the photolithography process, and the division lines are adjacent to each other. Even if the circuit pattern of the thermal head substrate is affected, the common electrode of the adjacent circuit pattern does not remain in a strip shape at any position outside the terminal electrode of the thermal head substrate. When the wires of the flexible wiring board are press-welded, there is no problem that the wires of the flexible wiring board are short-circuited.

【0039】また本発明のサーマルヘッドの製造方法に
よれば、分割ラインが理想位置からずれてしまうことに
よって、サーマルヘッド基板の端子電極よりも外側の位
置に、隣接する回路パターンの端子電極が一部残留した
としても、該残留する端子電極は個々に独立しているた
め、サーマルヘッド基板の端子電極に可撓性配線基板の
配線を圧接溶着させた際、可撓性配線基板の配線同士が
短絡するという不具合は生じない。
Further, according to the method of manufacturing a thermal head of the present invention, the terminal line of the adjacent circuit pattern is located at a position outside the terminal electrode of the thermal head substrate because the division line deviates from the ideal position. Even if a part of the wiring remains, the remaining terminal electrodes are independent of each other. Therefore, when the wiring of the flexible wiring board is press-welded to the terminal electrode of the thermal head substrate, the wirings of the flexible wiring board are connected to each other. The problem of short circuit does not occur.

【0040】更に本発明のサーマルヘッドの製造方法に
よれば、補強電極が共通電極と電気絶縁性基板素体の上
面との間に膜状に介在されるため、電気絶縁性基板素体
の表面に補強電極収納用の凹部等を形成するための余計
なプロセスは不要であり、また凹部等が設けられていな
い電気絶縁性基板素体の厚みは略一定であることから、
電気絶縁性基板素体の機械的強度は高く維持されて、電
気絶縁性基板素体が製造プロセス中に破損するといった
事態が有効に防止され、これによりサーマルヘッドの生
産性が飛躍的に向上する。
Further, according to the method of manufacturing a thermal head of the present invention, since the reinforcing electrode is interposed between the common electrode and the upper surface of the electrically insulating substrate body in a film form, the surface of the electrically insulating substrate body can be formed. No extra process is required to form a recess or the like for accommodating the reinforcing electrode, and since the thickness of the electrically insulating substrate body having no recess or the like is substantially constant,
The mechanical strength of the electrically insulating substrate body is maintained at a high level, effectively preventing the electrically insulating substrate body from being damaged during the manufacturing process, thereby dramatically improving the productivity of the thermal head. .

【0041】また更に本発明のサーマルヘッドの製造方
法によれば、電気絶縁性基板素体の各区画に形成された
各回路パターンを、その端子電極が隣接する区画の回路
パターンの端子電極と対向し、かつ連続するように形成
しておけば、電気絶縁性基板素体を分割する際、端子電
極に対して独立した残留導体もなくなり、サーマルヘッ
ド基板に可撓性配線基板を圧接接熔着させる際、可撓性
配線基板の配線同士が短絡するのを確実に防止すること
ができるとともに、端子部形成のため電気絶縁性基板端
部より一定距離、金メッキを行う場合にメッキ面積をヘ
ッド間で同一として配線抵抗を均一にすることができ
る。
Further, according to the method of manufacturing a thermal head of the present invention, each circuit pattern formed in each section of the electrically insulating substrate body is opposed to the terminal electrode of the circuit pattern in an adjacent section of the adjacent section. When the electrical insulating substrate body is divided, there is no residual conductor independent of the terminal electrodes, and the flexible wiring substrate is press-welded to the thermal head substrate. In this case, it is possible to reliably prevent a short circuit between the wirings of the flexible wiring board, and when performing gold plating for a certain distance from the end of the electrically insulating substrate to form the terminal portion, the plating area is reduced between the heads. As a result, the wiring resistance can be made uniform.

【0042】このように、本発明のサーマルヘッドの製
造方法においては、サーマルヘッドを歩留まり良く小型
に製造できるため、低コストのサーマルヘッドを提供す
ることができ、またフォトリソグラフィ工程に用いるマ
スクを所定のパターンのものに変更するだけで対応でき
る。従って、本発明を実施するにあたり、格別のコスト
増になることはない。
As described above, in the method of manufacturing a thermal head according to the present invention, the thermal head can be manufactured in a small size with a high yield, so that a low-cost thermal head can be provided, and a mask used in a photolithography process can be provided in a predetermined manner. It can be dealt with simply by changing the pattern. Therefore, there is no particular cost increase in implementing the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)〜(c)は本発明の製造方法の第1の実
施例を示す図である。
FIGS. 1A to 1C are views showing a first embodiment of the manufacturing method of the present invention.

【図2】(a)は本発明の製造方法の第2の実施例を示
す図であり、(b)は(a)のA部拡大図である。
FIG. 2A is a view showing a second embodiment of the manufacturing method of the present invention, and FIG. 2B is an enlarged view of a portion A of FIG.

【図3】サーマルヘッド基板の構造を示す断面図であ
る。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a structure of a thermal head substrate.

【図4】サーマルヘッド基板の平面図である。FIG. 4 is a plan view of a thermal head substrate.

【図5】(a)〜(d)は従来のサーマルヘッドの製造
方法を示す図である。
FIGS. 5A to 5D are diagrams showing a conventional method for manufacturing a thermal head.

【図6】従来のサーマルヘッドの部分拡大図である。FIG. 6 is a partially enlarged view of a conventional thermal head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・電気絶縁性基板素体、2・・・分割ライン、3
・・・端子電極、4・・・共通電極、8・・・導電層、
9・・・個別電極、10・・・発熱部、11・・・保護
層、12・・・駆動用IC素子、13・・・補強電極、
18・・・可撓性配線基板、18a・・・配線
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Electric insulating substrate body, 2 ... Dividing line, 3
... terminal electrode, 4 ... common electrode, 8 ... conductive layer,
Reference numeral 9: individual electrode, 10: heating section, 11: protective layer, 12: driving IC element, 13: reinforcing electrode,
18 flexible wiring board, 18a wiring

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41J 2/335 B41J 2/345 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) B41J 2/335 B41J 2/345

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】電気絶縁性基板素体を複数の区画に区分す
るとともに各区画に、共通電極、個別電極及び端子電極
から成る回路パターンと、前記共通電極及び個別電極間
に介在する発熱部を各々形成し、しかる後、前記電気絶
縁性基板素体を各区画に分割することにより得た複数個
のサーマルヘッド基板に可撓性配線基板を圧接溶着させ
サーマルヘッドの製造方法において、前記電気絶縁性
基板素体の各区画に形成された各回路パターンを、端子
電極及び共通電極が隣接する区画の回路パターンの端子
電極及び共通電極と対向するように配設させるととも
に、前記共通電極と前記電気絶縁性基板素体の上面との
間に補強電極を膜状に介在させることを特徴とするサー
マルヘッドの製造方法。
An electric insulating substrate body is divided into a plurality of sections, and each section includes a circuit pattern including a common electrode, an individual electrode, and a terminal electrode, and a heating section interposed between the common electrode and the individual electrodes. Each formed, and thereafter, a plurality of pieces obtained by dividing the electric insulating substrate body into respective sections.
Pressure welding of flexible wiring board to thermal head board
That in the manufacturing method for a thermal head, each circuit pattern formed on each section of the electrically insulating substrate body, so that the terminal electrodes and a common electrode facing the terminal electrode and the common electrode of a circuit pattern sections adjacent With the arrangement
Between the common electrode and the upper surface of the electrically insulating substrate body.
A method for manufacturing a thermal head, wherein a reinforcing electrode is interposed in the form of a film therebetween .
【請求項2】前記電気絶縁性基板素体の各区画に形成さ
れた各回路パターンは、その端子電極が隣接する区画の
回路パターンの端子電極と対向し、かつ連続して形成さ
れている請求項1に記載のサーマルヘッドの製造方法。
2. A circuit pattern formed in each section of the electrically insulating substrate body, and a terminal electrode thereof is formed to be continuous with a terminal electrode of a circuit pattern in an adjacent section. Item 2. The method for manufacturing a thermal head according to Item 1.
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