JP3139119B2 - ジアルキルナフタレンの異性化方法 - Google Patents
ジアルキルナフタレンの異性化方法Info
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はジアルキルナフタレンの
異性化方法に関するものであり、中でも2,6−ジアル
キルナフタレン,特に2,6−ジメチルナフタレンを工
業的に有利に製造するために好適な異性化方法に関する
ものである。
異性化方法に関するものであり、中でも2,6−ジアル
キルナフタレン,特に2,6−ジメチルナフタレンを工
業的に有利に製造するために好適な異性化方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】ジアルキルナフタレンには多数の異性体
が存在する。例えば、ジメチルナフタレンには10種の
異性体が存在するが、これらの異性体は下記の4つの群
に分類できる。一般に各群内で行なわれる群内異性化反
応は比較的容易であるのに対し、他の群への群間異性化
は起こりにくい。 (I) 1,5−、1,6−、2,6−異性体 (II) 1,8−、1,7−、2,7−異性体 (III) 1,4−、1,3−、2,3−異性体 (IV) 1,2−異性体
が存在する。例えば、ジメチルナフタレンには10種の
異性体が存在するが、これらの異性体は下記の4つの群
に分類できる。一般に各群内で行なわれる群内異性化反
応は比較的容易であるのに対し、他の群への群間異性化
は起こりにくい。 (I) 1,5−、1,6−、2,6−異性体 (II) 1,8−、1,7−、2,7−異性体 (III) 1,4−、1,3−、2,3−異性体 (IV) 1,2−異性体
【0003】ジメチルナフタレンの主要な用途の一つは
ナフタレンジカルボン酸の製造であり、この用途には特
に2,6−異性体が好んで用いられる。この2,6−異
性体を得たい場合、一般に、ジメチルナフタレン異性体
混合物を主成分として含有する原料油より、2,6−異
性体を分離する。更に、該分離後のラフィネートを活用
するためには、他の群から2,6−異性体を含む群(以
下「2,6群」ということがある)への異性化が必要と
なるが、このような異性化反応は特定のゼオライト系触
媒により達成される(特開昭58−210301、特開
昭59−88、433等)。しかしながら、該方法で
は、2,6−異性体の全異性体中に占める熱力学的平衡
濃度が14%程度にすぎないため、2,6−異性体を得
る方法としては必ずしも効率的ではない。
ナフタレンジカルボン酸の製造であり、この用途には特
に2,6−異性体が好んで用いられる。この2,6−異
性体を得たい場合、一般に、ジメチルナフタレン異性体
混合物を主成分として含有する原料油より、2,6−異
性体を分離する。更に、該分離後のラフィネートを活用
するためには、他の群から2,6−異性体を含む群(以
下「2,6群」ということがある)への異性化が必要と
なるが、このような異性化反応は特定のゼオライト系触
媒により達成される(特開昭58−210301、特開
昭59−88、433等)。しかしながら、該方法で
は、2,6−異性体の全異性体中に占める熱力学的平衡
濃度が14%程度にすぎないため、2,6−異性体を得
る方法としては必ずしも効率的ではない。
【0004】一方、近年、ジアルキルナフタレン、特に
ジメチルナフタレンをアルキルベンゼン類から合成する
方法が注目されている。この方法によれば、目的とする
2,6−異性体を含む2,6群のみを主成分とするジメ
チルナフタレンの異性体混合物が得られる。該異性体混
合物を原料として、2,6−群内だけでの異性化反応が
実施できれば、2,6−異性体の2,6−群内での熱力
学的平衡濃度は約50%という高濃度になるので、工業
的に極めて効率的である。
ジメチルナフタレンをアルキルベンゼン類から合成する
方法が注目されている。この方法によれば、目的とする
2,6−異性体を含む2,6群のみを主成分とするジメ
チルナフタレンの異性体混合物が得られる。該異性体混
合物を原料として、2,6−群内だけでの異性化反応が
実施できれば、2,6−異性体の2,6−群内での熱力
学的平衡濃度は約50%という高濃度になるので、工業
的に極めて効率的である。
【0005】2,6−ジメチルナフタレンを得るため
に、2,6−群内だけで異性化を制御する試みは古くか
ら知られており、触媒として水素型モルデナイトと酸性
白土の混合物を用いた方法(特公昭55−4702
0)、また、アルミノボロシリケートを用いた方法(特
表平1−503、389)等がある。
に、2,6−群内だけで異性化を制御する試みは古くか
ら知られており、触媒として水素型モルデナイトと酸性
白土の混合物を用いた方法(特公昭55−4702
0)、また、アルミノボロシリケートを用いた方法(特
表平1−503、389)等がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
2,6−群内だけで異性化を制御する方法においては、
一般的には群内の異性化反応の方が群間の異性化反応よ
り容易とされているとはいえ、群内異性化以外の群間異
性化や、その他の不均化、トランスアルキル化等の副反
応を、制御することは非常に困難であった。また、公知
の触媒の組成や製造条件等を変更しても反応成績の改善
には限界があった。
2,6−群内だけで異性化を制御する方法においては、
一般的には群内の異性化反応の方が群間の異性化反応よ
り容易とされているとはいえ、群内異性化以外の群間異
性化や、その他の不均化、トランスアルキル化等の副反
応を、制御することは非常に困難であった。また、公知
の触媒の組成や製造条件等を変更しても反応成績の改善
には限界があった。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者等は長年ジアル
キルナフタレンの異性化方法について検討を行ってきた
が、その研究成果のひとつとして、原料油留分から得ら
れるような通常10種類の全ての異性体を含むジメチル
ナフタレン混合物より2,6−異性体を熱力学的平衡濃
(約14%)付近に高める方法として、特定のニッケル
含有メタロシリケート触媒を用いる方法を提案した(特
願平2−232701)。該明細書中の実施例では40
0℃の反応温度条件で良好な異性化反応を示している。
キルナフタレンの異性化方法について検討を行ってきた
が、その研究成果のひとつとして、原料油留分から得ら
れるような通常10種類の全ての異性体を含むジメチル
ナフタレン混合物より2,6−異性体を熱力学的平衡濃
(約14%)付近に高める方法として、特定のニッケル
含有メタロシリケート触媒を用いる方法を提案した(特
願平2−232701)。該明細書中の実施例では40
0℃の反応温度条件で良好な異性化反応を示している。
【0008】ところが、その後、上記のニッケル含有メ
タロシリケート触媒を用いた方法を基礎として検討を継
続したところ、意外なことに2,6−群内の異性化方法
として極めて優れた反応条件を見い出し本発明に到達し
た。即ち、本発明の要旨は、1,5−ジアルキルナフタ
レン、1,6−ジアルキルナフタレン及び2,6−ジア
ルキルナフタレンより成る群から選ばれた1種または2
種以上のジアルキルナフタレンを酸化物モル比で下記の
一般式
タロシリケート触媒を用いた方法を基礎として検討を継
続したところ、意外なことに2,6−群内の異性化方法
として極めて優れた反応条件を見い出し本発明に到達し
た。即ち、本発明の要旨は、1,5−ジアルキルナフタ
レン、1,6−ジアルキルナフタレン及び2,6−ジア
ルキルナフタレンより成る群から選ばれた1種または2
種以上のジアルキルナフタレンを酸化物モル比で下記の
一般式
【0009】
【化2】 R2/mO:xM2O3:yNiO:zSiO2:nH2O (式中、Rは原子価mを有する少なくとも一種のアルカ
リ金属または、アルカリ土類金属を表し、mは1〜2、
Mはアルミニウム、ガリウム、ホウ素のうちの少なくと
も一種を表し、xは0〜1、yは0.01〜10、zは
2〜100、nは1〜20を表す。)で表される結晶性
ニッケル含有メタロシリケート触媒の存在下、200〜
380℃の温度範囲で反応させ、前記ジアルキルナフタ
レンを、1,5−ジアルキルナフタレン、1,6−ジア
ルキルナフタレン及び2,6−ジアルキルナフタレンよ
りなる群の熱力学的平衡値に近い組成のジアルキルナフ
タレン混合物を得ることを特徴とするジアルキルナフタ
レンの異性化方法に存する。
リ金属または、アルカリ土類金属を表し、mは1〜2、
Mはアルミニウム、ガリウム、ホウ素のうちの少なくと
も一種を表し、xは0〜1、yは0.01〜10、zは
2〜100、nは1〜20を表す。)で表される結晶性
ニッケル含有メタロシリケート触媒の存在下、200〜
380℃の温度範囲で反応させ、前記ジアルキルナフタ
レンを、1,5−ジアルキルナフタレン、1,6−ジア
ルキルナフタレン及び2,6−ジアルキルナフタレンよ
りなる群の熱力学的平衡値に近い組成のジアルキルナフ
タレン混合物を得ることを特徴とするジアルキルナフタ
レンの異性化方法に存する。
【0010】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
異性化反応原料であるジアルキルナフタレンとは、1,
5−ジアルキルナフタレン、1,6−ジアルキルナフタ
レン及び2,6−ジアルキルナフタレンより成る群
(2,6群)から選ばれた1種または2種以上のジアル
キルナフタレンを、通常50%以上、好ましくは80%
以上含むものである。2,6−群内の異性体の割合とし
ては、3つの異性体間の熱力学的平衡値に該当する比率
に近接するもの以外は特に限定されないが、工業的には
2,6−異性体の需要が大きいので、2,6−異性を特
に得たい場合は、1,5体または1,6体の濃度の高い
ものを原料とすることが好ましい。
異性化反応原料であるジアルキルナフタレンとは、1,
5−ジアルキルナフタレン、1,6−ジアルキルナフタ
レン及び2,6−ジアルキルナフタレンより成る群
(2,6群)から選ばれた1種または2種以上のジアル
キルナフタレンを、通常50%以上、好ましくは80%
以上含むものである。2,6−群内の異性体の割合とし
ては、3つの異性体間の熱力学的平衡値に該当する比率
に近接するもの以外は特に限定されないが、工業的には
2,6−異性体の需要が大きいので、2,6−異性を特
に得たい場合は、1,5体または1,6体の濃度の高い
ものを原料とすることが好ましい。
【0011】また、ジアルキルナフタレンのアルキル基
としては、メチル基、エチル基、インプロピル基等が例
示されるが、好ましくはメチル基である。更に、該ジア
ルキルナフタレンは原料の由来については特に限定はな
く、芳香族炭化水素原料油より分離したものでもよい
し、ナフタレン等より合成して得たものでもよい。次
に、本発明では上述のジアルキルナフタレン原料を異性
化するために使用する固体酸触媒として酸化物モル比で
下記の一般式
としては、メチル基、エチル基、インプロピル基等が例
示されるが、好ましくはメチル基である。更に、該ジア
ルキルナフタレンは原料の由来については特に限定はな
く、芳香族炭化水素原料油より分離したものでもよい
し、ナフタレン等より合成して得たものでもよい。次
に、本発明では上述のジアルキルナフタレン原料を異性
化するために使用する固体酸触媒として酸化物モル比で
下記の一般式
【0012】
【化3】 R2/mO:xM2O3:yNiO:zSiO2:nH2O (上記式中、Rは原子価mを有する少なくとも1種のア
ルカリ金属または、アルカリ土類金属を表し、mは1〜
2、Mはアルミニウム、ガリウム、ホウ素のうちの少な
くとも一種を表し、xは0〜1、yは0.01〜10、
zは2〜100、nは1〜20を表す。)で表される結
晶性ニッケル含有メタロシリケートを用いる。ここで結
晶性ニッケル含有メタロシリケートとしては、ニッケル
を含有し、そのニッケルの少なくとも一部あるいは全て
がゼオライト骨格を形成する四面体置換位置にあてもよ
く、または原子化mを有する少なくとも1種のアルカリ
金属またはアルカリ土類金属Rとイオン交換した形態ま
たは共有結合的に担持状態で存在しているものでもよ
い。好ましくはゼオライト骨格を形成する四面体置換位
置のほうがよい。
ルカリ金属または、アルカリ土類金属を表し、mは1〜
2、Mはアルミニウム、ガリウム、ホウ素のうちの少な
くとも一種を表し、xは0〜1、yは0.01〜10、
zは2〜100、nは1〜20を表す。)で表される結
晶性ニッケル含有メタロシリケートを用いる。ここで結
晶性ニッケル含有メタロシリケートとしては、ニッケル
を含有し、そのニッケルの少なくとも一部あるいは全て
がゼオライト骨格を形成する四面体置換位置にあてもよ
く、または原子化mを有する少なくとも1種のアルカリ
金属またはアルカリ土類金属Rとイオン交換した形態ま
たは共有結合的に担持状態で存在しているものでもよ
い。好ましくはゼオライト骨格を形成する四面体置換位
置のほうがよい。
【0013】更に、本発明の結晶性ニッケル含有メタロ
シリケートとしては、モル比デSiO2/M2O3、即
ち、z/xが、通常3以上、好ましくは5以上であるこ
と、また、SiO2/NiO、即ち、z/yが、通常5
000以下、好ましくは2000以下であるのがよい。
そして、かかるメタロシリケートは構造的にモルデナイ
ト、ホージャサイト、オメガ、ベータ、ZSM−5型、
ZSM−8型、ZSM−11型等の構造を取り得るが、
より好ましくはZSM−5型構造を有するものがよい。
すなわち、本発明の結晶性ニッケル含有メタロシリケー
トとしては、ZSM−5型ゼオライトのX線回析パター
ンを有し、かつ珪素、ニッケルおよびアルミニウムもし
くは珪素およびニッケルを含有する結晶学的骨格を有す
る結晶性ニッケル含有メタロシリケートが最も好まし
い。
シリケートとしては、モル比デSiO2/M2O3、即
ち、z/xが、通常3以上、好ましくは5以上であるこ
と、また、SiO2/NiO、即ち、z/yが、通常5
000以下、好ましくは2000以下であるのがよい。
そして、かかるメタロシリケートは構造的にモルデナイ
ト、ホージャサイト、オメガ、ベータ、ZSM−5型、
ZSM−8型、ZSM−11型等の構造を取り得るが、
より好ましくはZSM−5型構造を有するものがよい。
すなわち、本発明の結晶性ニッケル含有メタロシリケー
トとしては、ZSM−5型ゼオライトのX線回析パター
ンを有し、かつ珪素、ニッケルおよびアルミニウムもし
くは珪素およびニッケルを含有する結晶学的骨格を有す
る結晶性ニッケル含有メタロシリケートが最も好まし
い。
【0014】かかる結晶性ニッケル含有メタロシリケー
トは、例えば、特開昭61−64333あるいは「触
媒」第28巻No.2,P.81(1986)等に開示
された方法により製造することができる。使用するニッ
ケル塩としては、硝酸ニッケル、硫酸ニッケル等が挙げ
られる。また、前記触媒の一般式のM成分の原料とし
て、硫酸アルミニウム、硝酸ガリウム、ホウ酸、ホウ酸
エステル等が挙げられる。ニッケルを含有させる方法と
しては、水熱合成法によるほかこれらのニッケル塩を含
浸する方法あるいはイオン交換法によりニッケルをイオ
ン交換して含有させることもできる。更に、必要に応じ
て、モリブデン、タングステン、バナジウム、鉄、ビス
マス、銅あるいはコバルト等の元素を硫化物あるいは酸
化物の形態で本発明の触媒に添加してもよい。かかる化
合物の添加量としては、0.5〜20重量%程度でよ
い。本発明に用いる触媒は、常法によるイオン交換およ
び焼成方法によってH型(プロトン)化され触媒として
供される。
トは、例えば、特開昭61−64333あるいは「触
媒」第28巻No.2,P.81(1986)等に開示
された方法により製造することができる。使用するニッ
ケル塩としては、硝酸ニッケル、硫酸ニッケル等が挙げ
られる。また、前記触媒の一般式のM成分の原料とし
て、硫酸アルミニウム、硝酸ガリウム、ホウ酸、ホウ酸
エステル等が挙げられる。ニッケルを含有させる方法と
しては、水熱合成法によるほかこれらのニッケル塩を含
浸する方法あるいはイオン交換法によりニッケルをイオ
ン交換して含有させることもできる。更に、必要に応じ
て、モリブデン、タングステン、バナジウム、鉄、ビス
マス、銅あるいはコバルト等の元素を硫化物あるいは酸
化物の形態で本発明の触媒に添加してもよい。かかる化
合物の添加量としては、0.5〜20重量%程度でよ
い。本発明に用いる触媒は、常法によるイオン交換およ
び焼成方法によってH型(プロトン)化され触媒として
供される。
【0015】このようにして得られた結晶性ニッケル含
有メタロシリケートはベーマイト、アルミナ、カオリン
あるいはシリカ等の結合剤を、通常5〜50重量%、好
ましくは10〜30重量%程度混合して、押し出し成形
法等により粒状、ペレット状、球状等に成型して使用し
てもよく、その際には粒径としては特に限定されない
が、通常0.5〜5mm程度であり、触媒の表面積とし
ては一般に200〜700m2/gの範囲から選択使用
するのがよい。なお、かかる結晶性ニッケル含有メタロ
シリケート触媒は長時間高活性を維持するが、反応終了
後に酸素含有ガスによる酸化処理あるいは水素含有ガス
による水素化処理によって再生することができる。
有メタロシリケートはベーマイト、アルミナ、カオリン
あるいはシリカ等の結合剤を、通常5〜50重量%、好
ましくは10〜30重量%程度混合して、押し出し成形
法等により粒状、ペレット状、球状等に成型して使用し
てもよく、その際には粒径としては特に限定されない
が、通常0.5〜5mm程度であり、触媒の表面積とし
ては一般に200〜700m2/gの範囲から選択使用
するのがよい。なお、かかる結晶性ニッケル含有メタロ
シリケート触媒は長時間高活性を維持するが、反応終了
後に酸素含有ガスによる酸化処理あるいは水素含有ガス
による水素化処理によって再生することができる。
【0016】本発明においては、かかる結晶性ニッケル
含有メタロシリケートを触媒として使用し、前述したジ
アルキルナフタレンを反応させるものである。本発明で
は、かかる反応の反応温度を200〜380℃、好まし
くは250〜350℃に設定することを特徴とする。該
反応温度以下では異性化反応が遅くなり効率的であり、
また、該反応温度以上では、2,6−群外への異性化率
が増大し、2,6−群の熱力学的平行値に近い組成のジ
アルキルナフタレン混合物を得ることが困難となる。ま
た、反応圧力としては、常圧下あるいは加圧下のいずれ
でも実施でき、また液相あるいは気相のいずれでも実施
できる。反応形式としては、回分法、連続法のいずれで
もよい。なお、反応雰囲気は水素が存在しないと触媒活
性が劣化し易いので、触媒活性の維持の上からも水素ガ
スの存在下が好ましい。
含有メタロシリケートを触媒として使用し、前述したジ
アルキルナフタレンを反応させるものである。本発明で
は、かかる反応の反応温度を200〜380℃、好まし
くは250〜350℃に設定することを特徴とする。該
反応温度以下では異性化反応が遅くなり効率的であり、
また、該反応温度以上では、2,6−群外への異性化率
が増大し、2,6−群の熱力学的平行値に近い組成のジ
アルキルナフタレン混合物を得ることが困難となる。ま
た、反応圧力としては、常圧下あるいは加圧下のいずれ
でも実施でき、また液相あるいは気相のいずれでも実施
できる。反応形式としては、回分法、連続法のいずれで
もよい。なお、反応雰囲気は水素が存在しないと触媒活
性が劣化し易いので、触媒活性の維持の上からも水素ガ
スの存在下が好ましい。
【0017】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はその要旨を越えない限り下記の実施例に
限定されるものではない。なお、生成物についてはガス
クロマトグラフィーにより、また、コーク量については
燃焼法により、それぞれ分析を行った。 実施例1 硫酸アルミニウム含水塩(和光純薬(株)製)10.6
g、硫酸ニッケル(和光純薬(株)製)8.9g、硫酸
(国産化学(株)製)24.8g、テトラプロピルアン
モンニウムブロミド(TPABr)(東京化成(株)
製)23.0gを水240gに溶解したものをA液と
し、水ガラス3号(キシダ化学(株)製)276gと水
181gを混合したものをB液とし、更に塩化ナトリウ
ム(キシダ化学(株)製)105.3g、硫酸11.4
g、テトラプロピルアンモンニウムブロミド8.6g、
水酸化ナトリウム(純正化成(株)95%純度)を水4
17gに溶解したものをC液とした。
るが、本発明はその要旨を越えない限り下記の実施例に
限定されるものではない。なお、生成物についてはガス
クロマトグラフィーにより、また、コーク量については
燃焼法により、それぞれ分析を行った。 実施例1 硫酸アルミニウム含水塩(和光純薬(株)製)10.6
g、硫酸ニッケル(和光純薬(株)製)8.9g、硫酸
(国産化学(株)製)24.8g、テトラプロピルアン
モンニウムブロミド(TPABr)(東京化成(株)
製)23.0gを水240gに溶解したものをA液と
し、水ガラス3号(キシダ化学(株)製)276gと水
181gを混合したものをB液とし、更に塩化ナトリウ
ム(キシダ化学(株)製)105.3g、硫酸11.4
g、テトラプロピルアンモンニウムブロミド8.6g、
水酸化ナトリウム(純正化成(株)95%純度)を水4
17gに溶解したものをC液とした。
【0018】B液にA液及びC液を撹拌しながら添加
し、生成したゲルをその後30分間撹拌処理した。次
に、30分間放置、冷却後、2lオートクレーブに仕込
み撹拌下、1.5時間で温室から156℃に上げたの
ち、次いで3時間10分で216℃まで定速昇温を行な
った。冷却後、スラリーをろ過し、水洗後、温水で更に
十分洗浄してニッケル含有アルミノシリケート粉末7
8.3gを得た。ろ過性は極めて良好であり、オートク
レーブ内壁に付着は殆んど認められなかった。合成後の
SiO2/Al2O3比は72、SiO2/ NiO2比は
94であり、仕込み比(SiO2/Al2O3=79、Si
O2/NiO2=40)であった。更に、X線回析では、
純粋なZSM−5類似のパターンを呈し、また、NiO
に由来するピークは検出されなかった。
し、生成したゲルをその後30分間撹拌処理した。次
に、30分間放置、冷却後、2lオートクレーブに仕込
み撹拌下、1.5時間で温室から156℃に上げたの
ち、次いで3時間10分で216℃まで定速昇温を行な
った。冷却後、スラリーをろ過し、水洗後、温水で更に
十分洗浄してニッケル含有アルミノシリケート粉末7
8.3gを得た。ろ過性は極めて良好であり、オートク
レーブ内壁に付着は殆んど認められなかった。合成後の
SiO2/Al2O3比は72、SiO2/ NiO2比は
94であり、仕込み比(SiO2/Al2O3=79、Si
O2/NiO2=40)であった。更に、X線回析では、
純粋なZSM−5類似のパターンを呈し、また、NiO
に由来するピークは検出されなかった。
【0019】得られたニッケル含有アルミノシリケート
は1.25M濃度の硝酸アンモニウムを用いて、固液比
1/10(g/ml)、100℃、2時間回析法でイオ
ン交換処理を行なった。この処理を後2回繰り返した。
イオン交換処理後、温水で洗浄し、120℃にて一昼夜
乾燥した。次に空気流通下540℃で5時間焼成した。
得られたH型ニッケル含有アルミノシリケートのSiO
2/Al2O3比は69、SiO2/NiO2比は86であ
った。これを打錠成型し、10〜20メッシュにそろえ
て触媒として反応に供した。
は1.25M濃度の硝酸アンモニウムを用いて、固液比
1/10(g/ml)、100℃、2時間回析法でイオ
ン交換処理を行なった。この処理を後2回繰り返した。
イオン交換処理後、温水で洗浄し、120℃にて一昼夜
乾燥した。次に空気流通下540℃で5時間焼成した。
得られたH型ニッケル含有アルミノシリケートのSiO
2/Al2O3比は69、SiO2/NiO2比は86であ
った。これを打錠成型し、10〜20メッシュにそろえ
て触媒として反応に供した。
【0020】内径20ミリのガラス製反応管に上記触媒
4.8gを入れ、水素気流下300℃に保った。反応
は、常圧下、水素流量1.5l/hr、2,6−ジメチ
ルナフタレン(純度99.9%)0.76g/hrで、
8時間行なった。このときの平均反応成績を表−1に示
す。表−1において、ジメチルナフタレンを「DMN」
と略記した。「2,6−群外へのロス率」とは、反応物
中の全ジメチルナフタレンに対する2,6−群以外の異
性体の割合を示す。「不均化率」とは、反応物中のナフ
タレン、メチルナフタレン、トリメチルナフタレンの総
量の割合を示す。。また、反応後触媒上に蓄積したコー
ク量を測定し、触媒量に対するコーク量を表−1に示し
た。
4.8gを入れ、水素気流下300℃に保った。反応
は、常圧下、水素流量1.5l/hr、2,6−ジメチ
ルナフタレン(純度99.9%)0.76g/hrで、
8時間行なった。このときの平均反応成績を表−1に示
す。表−1において、ジメチルナフタレンを「DMN」
と略記した。「2,6−群外へのロス率」とは、反応物
中の全ジメチルナフタレンに対する2,6−群以外の異
性体の割合を示す。「不均化率」とは、反応物中のナフ
タレン、メチルナフタレン、トリメチルナフタレンの総
量の割合を示す。。また、反応後触媒上に蓄積したコー
ク量を測定し、触媒量に対するコーク量を表−1に示し
た。
【0021】更に実施例1における反応物のジメチルナ
フタレンの2,6−群内の異性体組成は、2,6体:
1,6体:1,5体=50.9:43.8:5.3であ
り、上記反応温度での計算により求めた熱力学的平衡値
の47.6:43.7:8.7に近接していた。 比較例1 実施例1において反応温度を400℃とした以外は実施
例1と同様に実験を行った結果を表−1に示す。
フタレンの2,6−群内の異性体組成は、2,6体:
1,6体:1,5体=50.9:43.8:5.3であ
り、上記反応温度での計算により求めた熱力学的平衡値
の47.6:43.7:8.7に近接していた。 比較例1 実施例1において反応温度を400℃とした以外は実施
例1と同様に実験を行った結果を表−1に示す。
【0022】比較例2 シリカゾル(触媒化成工業(株)“カタロイド、S−3
0H”)を120℃で蒸発乾固して得たシリカゲル12
5g(SiO2として2.0モル)を脱塩水120gと
混合し、ラボミルにて2時間処理した後、1リットル容
のビーカーに洗い移し、全量を500gに調整した。こ
れをホモジナイザーにて40分処理した。アルミン酸ナ
トリウム水溶液(住友化学工業(株)、“NA−17
0”、Al 2O3 19.12%、Na2O 19.5
2%含有)、NaOH(純正化学(株)、93%純度)
10.1g、テトラ−n−プロピルアンモニウムハイド
ロオキサイド水溶液(東京化成工業(株)、1.126
N)14.2gを水237gに溶解した溶液を添加し、
更にホモジナイザーにて3分間処理してゼオライト合成
用スラリーとした。これを2リットル容の誘導撹拌式オ
ートクレーブに仕込み、125〜7℃、60rpmで
4.5時間熟成後、200℃に昇温し、400rpmの
条件で12時間反応を行なった。反応生成部は冷却後、
濾過し、水洗して濾液のpHが8になるまで水洗と温水
(〜80℃)洗を行なった。以上のように合成したSi
O2/Al2O3=25のH−ZSM−5を触媒とし、反
応温度を350℃とした以外は実施例1と同様に実験を
行った結果を表−1に示す。
0H”)を120℃で蒸発乾固して得たシリカゲル12
5g(SiO2として2.0モル)を脱塩水120gと
混合し、ラボミルにて2時間処理した後、1リットル容
のビーカーに洗い移し、全量を500gに調整した。こ
れをホモジナイザーにて40分処理した。アルミン酸ナ
トリウム水溶液(住友化学工業(株)、“NA−17
0”、Al 2O3 19.12%、Na2O 19.5
2%含有)、NaOH(純正化学(株)、93%純度)
10.1g、テトラ−n−プロピルアンモニウムハイド
ロオキサイド水溶液(東京化成工業(株)、1.126
N)14.2gを水237gに溶解した溶液を添加し、
更にホモジナイザーにて3分間処理してゼオライト合成
用スラリーとした。これを2リットル容の誘導撹拌式オ
ートクレーブに仕込み、125〜7℃、60rpmで
4.5時間熟成後、200℃に昇温し、400rpmの
条件で12時間反応を行なった。反応生成部は冷却後、
濾過し、水洗して濾液のpHが8になるまで水洗と温水
(〜80℃)洗を行なった。以上のように合成したSi
O2/Al2O3=25のH−ZSM−5を触媒とし、反
応温度を350℃とした以外は実施例1と同様に実験を
行った結果を表−1に示す。
【0023】
【表1】
【0024】
【発明の効果】本発明によれば、不均化や群間異性化等
の反応を最小限に抑制し、ジアルキルナフタレンの2,
6−群内の異性化が主として起こることにより、所望の
異性体を効率よく得ることができる。また、反応の際の
触媒表面等へのコークの析出も少なく、工業的利用価値
は多大なものがある。
の反応を最小限に抑制し、ジアルキルナフタレンの2,
6−群内の異性化が主として起こることにより、所望の
異性体を効率よく得ることができる。また、反応の際の
触媒表面等へのコークの析出も少なく、工業的利用価値
は多大なものがある。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−112841(JP,A) 特開 昭49−87651(JP,A) 特開 昭49−41351(JP,A) 特公 昭50−2978(JP,B1) 特公 昭48−1060(JP,B1) 特表 平1−503389(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 5/27 C07C 15/24
Claims (1)
- 【請求項1】 1,5−ジアルキルナフタレン、1,
6−ジアルキルナフタレン及び2,6−ジアルキルナフ
タレンより成る群から選ばれた1種または2種以上のジ
アルキルナフタレンを酸化物モル比で下記の一般式 【化1】 R2/mO:xM2O3:yNiO:zSiO2:nH2O (式中、Rは原子価mを有する少なくとも一種のアルカ
リ金属または、アルカリ土類金属を表し、mは1〜2、
Mはアルミニウム、ガリウム、ホウ素のうちの少なくと
も一種を表し、xは0〜1、yは0.01〜10、zは
2〜100、nは1〜20を表す。)で表される結晶性
ニッケル含有メタロシリケート触媒の存在下、200〜
380℃の温度範囲で反応させ、前記ジアルキルナフタ
レンを、1,5−ジアルキルナフタレン、1,6−ジア
ルキルナフタレン及び2,6−ジアルキルナフタレンよ
りなる群の熱力学的平衡値に近い組成のジアルキルナフ
タレン混合物を得ることを特徴とするジアルキルナフタ
レンの異性化方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04081163A JP3139119B2 (ja) | 1992-04-02 | 1992-04-02 | ジアルキルナフタレンの異性化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP04081163A JP3139119B2 (ja) | 1992-04-02 | 1992-04-02 | ジアルキルナフタレンの異性化方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05279272A JPH05279272A (ja) | 1993-10-26 |
JP3139119B2 true JP3139119B2 (ja) | 2001-02-26 |
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JP (1) | JP3139119B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102461820B1 (ko) * | 2020-06-03 | 2022-11-03 | 대한민국 | 평파렛트 랩핑대용 포장커버 |
-
1992
- 1992-04-02 JP JP04081163A patent/JP3139119B2/ja not_active Expired - Fee Related
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KR102461820B1 (ko) * | 2020-06-03 | 2022-11-03 | 대한민국 | 평파렛트 랩핑대용 포장커버 |
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Publication number | Publication date |
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JPH05279272A (ja) | 1993-10-26 |
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