[go: up one dir, main page]

JP3132565B2 - 欠陥検査方法及びその装置 - Google Patents

欠陥検査方法及びその装置

Info

Publication number
JP3132565B2
JP3132565B2 JP01221450A JP22145089A JP3132565B2 JP 3132565 B2 JP3132565 B2 JP 3132565B2 JP 01221450 A JP01221450 A JP 01221450A JP 22145089 A JP22145089 A JP 22145089A JP 3132565 B2 JP3132565 B2 JP 3132565B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
imaging
defect
signal
sample
image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP01221450A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0385742A (ja
Inventor
靖彦 原
光義 小泉
茂樹 北村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP01221450A priority Critical patent/JP3132565B2/ja
Priority to US07/575,380 priority patent/US5146509A/en
Publication of JPH0385742A publication Critical patent/JPH0385742A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3132565B2 publication Critical patent/JP3132565B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00Image analysis
    • G06T7/0002Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G06T7/0004Industrial image inspection
    • G06T7/001Industrial image inspection using an image reference approach
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/302Contactless testing
    • G01R31/308Contactless testing using non-ionising electromagnetic radiation, e.g. optical radiation
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2207/00Indexing scheme for image analysis or image enhancement
    • G06T2207/30Subject of image; Context of image processing
    • G06T2207/30108Industrial image inspection
    • G06T2207/30141Printed circuit board [PCB]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プリント基板回路パターン、セラミック上
回路パターン、ハイブリッド回路パターン、ファックス
用電極回路パターン、薄膜回路パターン、液晶表示素子
用回路パターン、及びLSI回路パターン等の電子回路
(配線)パターンの欠陥を画像処理により自動的に検査
する回路パターン欠陥検査方法及びその装置に関する。
〔従来の技術〕
回路パターンの外観検査装置については、従来多くの
事例がある。例えば、特公昭59−24361号公報等があ
る。この場合は、2組の回路パターンを互いに比較し、
互いに一致しない部分を欠陥として検出するものであ
る。欠陥検査は、高速を要するため、回路パターンの比
較処理回路は、回路パターン検出器の速度に同期して処
理を行うように構成されている。具体的には、シフトレ
ジスタを多数用いた「パイプライン処理」と言われる論
理回路によって構成される。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来技術では、パイプライン処理は高速に画像処
理を行えるが、画像処理の内容は単純であり、複雑な欠
陥判定を高速で行うことができないという課題を有して
いた。
本発明の目的は、高速で、しかも人間の目が判定でき
る複雑な欠陥の導通上の有害性の判定を画像処理によっ
て行うことができるようにした回路パターン欠陥検査方
法及びその装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
即ち、本発明では、上記目的を達成するために、所定
の撮像信号で動作する撮像手段と試料とを相対的に移動
させながら撮像手段で試料を撮像して試料の画像信号を
得、試料を撮像しながら得た画像信号から欠陥候補を含
む部分画像信号を撮像手段の撮像信号と同期して順次抽
出し、この抽出した欠陥候補を含む部分画像信号を撮像
信号と同期して記憶手段に順次記憶し、撮像手段で試料
を撮像しながら記憶した欠陥候補を含む部分画像信号を
撮像信号と非同期で順次処理して試料上の欠陥を検出す
ることを特徴とする欠陥検査方法とした。
また、本発明では、上記目的を達成するために、所定
の撮像信号で動作する撮像手段と試料とを相対的に移動
させながら撮像手段で試料を撮像して試料の第1の画像
信号とこの第1の画像信号に対して基準となるべき第2
の画像信号とを得、試料を撮像しながら得た第1の画像
信号と第2の画像信号とを撮像信号と同期して比較して
欠陥候補を抽出し、この抽出した欠陥候補を含む部分画
像信号を撮像信号と同期して記憶手段に記憶し、試料を
撮像しながら記憶した欠陥候補を含む部分画像信号を撮
像信号と非同期で処理して試料上の欠陥を検出すること
を特徴とする欠陥検査方法とした。
また、本発明では、上記目的を達成するために、所定
の撮像信号で動作する撮像手段と試料とを相対的に移動
させながら撮像手段で試料を撮像して試料の画像信号を
得、この画像信号をパイプライン形画像処理手段により
撮像手段の撮像信号と同期して処理することにより画像
信号から欠陥候補を含む部分画像信号を抽出し、この抽
出した欠陥候補を含む部分画像信号を撮像信号と同期し
て記憶手段に記憶し、撮像手段で試料を撮像しながら記
憶した部分画像信号を撮像手段の撮像信号と非同期で処
理して欠陥候補の中から欠陥を検出することを特徴とす
る欠陥検査方法とした。
更に、本発明では、上記目的を達成するために、所定
の撮像信号で動作する撮像手段と試料とを相対的に移動
させながら撮像手段で試料を撮像して試料の画像信号を
得、試料を撮像しながら画像信号から欠陥候補を含む部
分画像信号を撮像手段の撮像信号と同期して抽出して記
憶手段で記憶し、試料を撮像しながら記憶した部分画像
信号を撮像信号と非同期で処理して試料上の欠陥を検出
することを特徴とする欠陥検査方法とした。
また、本発明では、上記目的を達成するために、欠陥
検出装置を、所定の撮像信号で動作して試料を撮像する
撮像手段と、この撮像手段に対して相対的に移動する試
料を撮像手段で撮像して得た試料の画像信号から欠陥の
候補を試料を撮像している撮像手段の撮像信号と同期し
て抽出する欠陥候補抽出手段と、この欠陥候補抽出手段
で抽出した欠陥候補とその周辺の画像を含む部分画像信
号を試料を撮像している撮像手段の撮像信号と同期して
記憶する記憶手段と、撮像手段で試料を撮像していると
きに記憶手段に記憶した部分画像信号を撮像手段の撮像
信号と非同期で処理して欠陥候補の中から欠陥を検出す
る欠陥検出手段とを備えて構成した。
また、本発明では、上記目的を達成するために、欠陥
検出装置を、所定の撮像信号で動作して試料を撮像する
撮像手段と、基準となるデータを記憶する基準データ記
憶手段と、撮像手段に対して相対的に移動する試料を撮
像手段で撮像して得た試料の画像信号と基準データ記憶
手段に記憶した基準データとを比較して画像信号から欠
陥の候補を試料を撮像している撮像手段の撮像信号と同
期して抽出する欠陥候補抽出手段と、この欠陥候補抽出
手段で抽出した欠陥候補とその周辺の画像を含む部分画
像信号を試料を撮像している撮像手段の撮像信号と同期
して記憶する記憶手段と、撮像手段で試料を撮像してい
るときに記憶手段に記憶した部分画像信号を撮像手段の
撮像信号と非同期で処理して欠陥候補の中から欠陥を検
出する欠陥検出手段とを備えて構成した。
更に、本発明では、上記目的を達成するために、欠陥
検出装置を、所定の撮像信号で動作して試料を撮像する
撮像手段と、この撮像手段に対して相対的に移動する試
料を撮像手段で撮像して得た試料の画像信号を撮像手段
の撮像信号と同期して処理して欠陥候補を含む部分画像
信号を抽出するパイプライン型画像処理手段と、撮像手
段で試料を撮像しているときに撮像手段の撮像信号と非
同期で動作してパイプライン型画像処理手段で抽出した
欠陥候補を含む部分画像信号に基づいて試料の欠陥を検
出する画像処理手段とを備えて構成した。
〔作用〕
上記構成により電気的な導通上有害な欠陥とそうでな
い非有害欠陥とを、特に高密度で大形な基板回路パター
ンに対して高速度で検査することができる。
〔実施例〕
以下本発明を図面に示す実施例に基いて具体的に説明
する。
まず、本発明の原理について第1図、及び第2図に基
いて説明する。第1図において破線で囲った検査システ
ムIは撮像装置(パターン検出装置)1、1′が出力す
る画像信号を欠陥判定装置3で画像処理し、欠陥候補を
検出するものである。同図で撮像装置(パターン検出装
置)1、1′とは、例えばCCDリニアイメージセンサ、
あるいはレーザ光点を走査し反射光を検出する方式等の
走査形の光電変換装置である。通常回路パターンAおよ
びBは第3図に示すように同一のXYステージ15上に乗せ
られ、対応部分を撮像装置1および1′で検出する。第
1図において、XYステージ15および、照明装置は省略さ
れている。検査システムIとしては、第1図に示す他
に、様々な形態が考えられる。即ち第2図に示すよう
に、検査システムIは、1台の撮像装置(パターン検出
装置)1と欠陥判定装置3からなる(例えば昭48年電気
学会全国大会No.1347に示されている。) 第2図において破線で囲った検査システムIは、撮像
装置(パターン検出装置)1が出力する画像信号8と、
基準パターン発生装置7が出力する基準画像信号9′を
欠陥判定装置3により画像処理し、欠陥候補を検出す
る。基準パターン発生装置7としては、例えば、図面に
詳述されていないが、パターン記憶装置にあらかじめ基
準パターンを圧縮して記憶し、記憶したデータから基準
パターンを発生するものがある(例えば特開昭62−2474
98号公報に記されている。)。また、回路パターンを描
くのに用いた設計データを元に基準パターンを発生する
ものがある(例えば、計測自動制御学会論文集vol.20,N
o.12.63〜70ページに記されている。)。
本発明は、検査システムIの構成には依存せずに、第
1図、及び第2図に示すように検査システムIに、部分
画像検査システムIIを付属し、組み合わせることにより
複雑な検査ができるようにしたことに特徴がある。部分
画像検査システムIIにおいて部分画像処理装置13は装置
そのものが画像メモリを持っており、画像メモリに書き
込まれた画像信号(例えば256×256画素の画像)を適宜
取りだして画像処理し、再び処理後の画像信号を画像メ
モリに書き込むことを繰り返すことによって複雑な画像
処理を実行することができる装置である。個々の画像処
理のアルゴリズムはソフトウェアによって指定できる
が、装置によっては、この部分を論理回路で組み、(部
分的にパイプライン回路で組み)、高速化を図ったもの
もある。この場合も画像信号は、一旦画像メモリに書き
込まれた後、処理が行われるので、検査システムIの欠
陥判定装置3のように高速な画像処理は行えない。部分
画像処理装置13の例として、文献映像情報(I)1984年
6月25〜31ページがある。
ここで第1図および第2図の、検査システムIにおい
て1画素あたりの検出、画像処理時間は0.1μs程度と
(クロック周波数f0=10MHz)高速に処理できるが、部
分画像処理装置13は、例えば256×250=6.6×104個の画
素の画像を0.1(s)程度で処理するため、1画素当り
の処理時間は0.1/(6.6×104)=1.5μs程度かかる。
このためインターフェース11により検査システムIが出
力する画像信号から欠陥の周辺の部分画像信号をとりだ
して部分画像メモリ12に記憶し、記憶した部分画像信号
を部分画像処理装置13に入力して複雑な画像処理を行
い、欠陥の有害性を判定をすることができる。
第4図は第1図の撮像装置(パターン検出装置)1ま
たは1′が出力する回路パターンAの画像信号8又は基
準回路パターンBの画像信号9からの部分画像信号Ip、
欠陥判定装置3が処理結果として出力する欠陥パターン
画像信号10の部分画像信号Dpを1組として部分画像メモ
リ12に記憶する概要を示している。第1図の撮像装置
(パターン検出装置)1、1′の検出画素数を例えば10
24とすると、回路パターンAの画像信号8、基準回路パ
ターンBの画像信号9、欠陥パターン画像信号10の水平
画素数nは1024となる。この中から欠陥を含むN×N画
素(例えばN=256)の矩形の部分画像信号Ip、Dpを部
分画像メモリ12に記憶する。なお部分画像信号Ipとして
は回路パターン画像信号8の部分画像信号Ipと基準回路
パターン画像信号9の部分画像信号Ipを部分画像メモリ
12に記憶するか、もしくは回路パターン画像信号8、基
準回路パターン画像信号9のうち欠陥候補を含む部分画
像信号Ipを部分画像メモリ12に記憶することができる。
第5図は第2図の撮像装置(パターン検出装置)1が
出力する回路パターン画像信号8からの部分画像信号I
p、基準パターン発生装置7が出力する基準回路パター
ン画像9′からの部分画像信号Rp、欠陥判定装置3が処
理結果として出力する欠陥パターン画像信号10の部分画
像信号Dpを1組として部分画像メモリ12に記憶する概要
を示している。第2図の撮像装置(パターン検出装置)
1の検出画素数を例えば1024とし、基準パターン発生装
置7からは同じ画素数で基準回路パターンを発生する
と、回路パターン画像信号8、基準回路パターン画像信
号9′、欠陥パターン画像信号10の水平画素数nは1024
となる。この中から欠陥(候補)点の座標を含むN×N
画素(例えばN=256)の矩形の部分画像信号Ip、Rp、D
pをとりだして第2図の部分画像メモリ12に記憶する。
複数の欠陥がある場合にも、複数の部分画像信号Ip、R
p、Dpを部分画像メモリ12に記憶する。
第6図は第5図における部分画像信号の部分画像メモ
リ12への記憶方法を改善したものであり、欠陥代表点4
の座標を中心として、部画像Ip′、Rp′、Dp′を部分画
像メモリ12に記憶する。
第7図は第6図における部分画像信号の部分画像メモ
リ12への記憶方法を改善したものであり、近接して複数
の欠陥代表点4がある場合も、重複した複数の部分(重
複部分)15についての部分画像信号画像Ip″、Rp″、D
p″を部分画像メモリ12に記憶する。
次に部分画像処理装置13による欠陥の有害判定につい
て示す。第8図及び第9図は回路パターンの導通上欠陥
において有害欠陥と非有害欠陥の例をしめすものであ
る。第8図イは線状回路パターンに欠けの欠陥が有る場
合であるが、欠けの部分の回路パターンに対して長手方
向の長さv1が検査基準値より大きいと有害欠陥となり、
それ以下の場合は有害欠陥とならない。第8図ロは線状
回路パターンの中にピンホールが有る場合であり、ピン
ホールの回路パターンに対して長手方向の長さv2が検査
基準値より大きいと有害欠陥となり、それ以下の場合は
有害欠陥とならない。第8図ハは線状回路パターンに突
起がある場合であるが、線状回路パターンの周囲の正常
回路パターンから突起までのパターン間隔の最小値n1
検査基準値より小さい場合有害欠陥となり、以上の場合
は有害欠陥とならない。第8図ニは孤立パターンが有る
場合で、孤立パターンから周囲の正常回路パターンまで
のパターン間隔の最小値n2が検査基準値より小さい場合
有害欠陥となり、以上の場合は有害欠陥とならない。第
9図ホは大きな回路パターン上に欠けがある場合である
が、欠けの面積の合計ΣSiが検査基準値より大きいばあ
い有害欠陥となり、それ以下の場合は有害欠陥とならな
い。第9図ヘは大きな回路パターンの中にピンホールが
ある場合であるが、ピンホールの最大径の合計Σliが検
査基準値より大きい場合有害欠陥となり、それ以下の場
合は有害欠陥とならない。第9図トは大きな回路パター
ン上に突起がある場合であるが、周囲の正常回路パター
ンから突起までのパターン間隔n1が検査基準値より小さ
い場合有害欠陥となり、それ以上の場合は有害欠陥とな
らない。
検査システムIの場合は、第8図及び第9図における
有害欠陥と非有害欠陥を区別することはできない。この
ため作業者は、検査装置が指摘した全てのパターンを見
て有害欠陥と非有害欠陥を区別する作業をしいられてい
た。
本発明における、第8図イの場合については、部分画
像処理装置13でt1ほかにv1を計測することにより有害欠
陥と非有害欠陥を区別している。第8図ロの場合につい
ては、t2ほかにv2を計測することにより有害欠陥と非有
害欠陥を区別している。また第8図ハの場合について
は、m1とn1を計測し有害欠陥と非有害欠陥を区別してい
る。第8図ニの場合については、pとn2を計測し有害欠
陥と非有害欠陥を区別している。第9図ホの場合につい
ては、ΣSiを計測することにより有害欠陥と非有害欠陥
を区別している。第9図ヘの場合については、Σliを計
測することにより有害欠陥と非有害欠陥を区別してい
る。また第9図トの場合については、m2とn3を計測し有
害欠陥と非有害欠陥を区別している。
このように本発明は、第1図及び第2図に示すように
検査システムIと、部分画像検査システムIIを組み合わ
せることによって検査システムIと同じ高速度で検査を
実行し、かつ部分画像処理装置13による詳細な画像処理
の利点を兼ね備えて第8図及び第9図に示す有害欠陥
と、非有害欠陥を区別することができる。すなわち、第
1図及び第2図において、検査システムIでパターンの
検査を実行し、欠陥候補を判定する。欠陥判定装置3か
らは、欠陥代表点信号4が出力されるが、この欠陥代表
点信号4は第8図及び第9図に示す有害欠陥と非有害欠
陥からなる全ての欠陥候補を検出したことを示す出力信
号である。本発明のシステムでは、欠陥代表点信号4
は、次のように用いられる。すなわち、欠陥代表点信号
4を、部分画像信号Ip、Rp、Dpを記憶するための制御信
号として用いることにより、第8図及び第9図に示す欠
陥代表点4の周囲の部分画像を部分画像メモリ12に記憶
する。そして部分画像を部分画像処理装置13で処理する
ことにより、第8図及び第9図における導通上有害な欠
陥と非有害な欠陥とを区別する。本システムによれば、
検査システムIは、検査対象回路パターン全面の検査を
高速に行う。例えば検査対象回路パターンの大きさを30
0×600mmとする。検出画素の大きさを0.01mmとすると、
このときの処理画素数は、300×600/(0.01×0.01)=
1.8×109個であり、1画素当りの検出、処理時間を0.1
μsとすると、検査システムIは1.8×109×10-7=180
(s)で全面を検査する。一方部分画像処理装置13は、
1枚の基板で欠陥候補が10点ある場合、平均180(s)/
10=18(s)かけて部分画像信号を処理して、導通上有
害な欠陥と非有害な欠陥とを判別する。このように本シ
ステムによって、検査システムI(パイプライン形画像
処理装置)の高速性と、部分画像処理装置13が持ってい
る詳細画像処理能力の両方の特性を生かすことが可能と
なる。欠陥の判定基準も目視作業による基準に合致させ
ることが可能となる。
次に本発明の実施例を更に詳述する。即ち、検査シス
テムIと部分画像処理装置13については公知のものを使
うので、両者のインターフェース11の部分がハードウェ
ア回路として意味がある。以下インターフェース11の内
容について記す。第1図及び第2図において、インター
フェース11に撮像装置(パターン検出装置)1から入力
される回路パターン画像信号8は、第10図(a)に示す
ような得られるの時系列走査信号を2値化回路(2値化
回路は第1図及び第2図では省略されている。)で2値
化して得られる第10図(b)に示すような2値絵素化画
像信号である。またインターフェース11に入力される基
準回路パターン画像信号9、9′は、第1図においては
撮像装置(パターン検出装置)1′から入力される2値
化した2値絵素化画像信号であり、第2図においては基
準パターン発生装置7から入力される基準となる2値絵
素化時系列信号である。またインターフェース11に入力
される欠陥判定装置3からの欠陥パターン画像信号10
は、回路パターン画像信号8と基準回路パターン画像信
号9、9′を信号処理することによって得られる時系列
信号である。
第11図はインターフェース11の回路例である。第7図
に示すような水平画素数が例えばn=1024の画像(回路
パターン画像信号8、基準回路パターン画像信号9
(9′)、欠陥パターン画像信号10)をインターフェー
ス11に入力し、欠陥代表点信号4に用いてN×N画素
(例えばN=256)の部分画像信号Ip(Ip′、Ip″)、R
p(Rp′、Rp″)、Dp(Dp′、Dp″)を部分画像メモリ1
2に記憶し、記憶した部分画像信号Ip(Ip′、Ip″)、R
p(Rp′、Rp″)、Dp(Dp′、Dp″)を部分画像処理装
置13に入力する動作について示す(ただし、この動作は
部分画像信号Ipと部分画像信号Rpと部分画像信号Dpとも
同じであるため、第11図はいずれか1つの部分画像をと
りだす回路例を示している。)。欠陥判定装置3(第2
図)からの欠陥代表点信号4は欠陥を検出した時点t0
パルスを発生している。このためt0より以前のN×N画
像に含まれる画像をとりだすことができるように、回路
パターン画像信号8、9(9′)、10をN/2ライン分に
対応した時間だけ遅延61により遅延する。一方、欠陥代
表点信号4をゲート発生62に入力し、欠陥代表点信号4
に基づきN画素に対応した期間有効なゲート信号63をN
ライン回繰返し発生する。ゲートの有効な期間に、書き
込みアドレス発生64から書き込みアドレス65を発生する
ことにより欠陥代表点の座標を中心としてN×N画素の
画像を部分画像メモリ12に記憶できる。以上の処理は、
撮像装置(パターン検出装置)1の走査速度と同期して
高速(クロック周波数f0)に行われる。部分画像メモリ
12は複数の欠陥がある場合に備え、複数の部分画像信号
Ip″、Rp″、Dp″が記憶できる。
次に、部分画像メモリ12に記憶した部分画像信号Ip、
Rp、Dpを部分画像処理装置13に入力する。通常部分画像
処理装置13はTVの画像入力用に作られているので、N×
N画像を1/60(s)程度の速度で入力することになる。
部分画像処理装置13からの水平同期信号69を読みだしア
ドレス発生67に入力し、読みだしアドレス発生67から読
みだしアドレス66を出力する。読みだしアドレス発生67
では水平同期信号69を、読みだしアドレス66を強制的に
発生するためのスタート信号として用いている。読みだ
しアドレス66に同期して、部分画像信号Ip、Rp、Dpを部
分画像処理装置13に入力する。
書き込みアドレステーブル68は近接して複数の欠陥代
表点があり、部分画像信号Ip、Rp、Dpが重複する場合を
サポートするために設けられたものである。重複する複
数の部分画像信号Ip、Rp、Dpを同時に部分画像メモリ12
に書き込むことができないため、重複している箇所の画
像は複数の部分画像信号Ip、Rp、Dpが共用する形式で部
分画像メモリ12に記憶する。部分画像メモリ12に記憶す
ると同時に、書き込みアドレステーブル68に重複する複
数の部分画像信号Ip、Rp、Dpの各々について書き込みア
ドレス65を記憶する。部分画像メモリ12から部分画像信
号Ip、Rp、Dpを読み出す場合はこの書き込みアドレステ
ーブル68を参照する。
以上のように、検査システムIによって欠陥代表点を
高速に検出し、検出した欠陥代表点を中心とした周囲の
部分画像信号を部分画像処理装置13に入力することがで
きる。
次に欠陥代表点周囲の部分画像信号を部分画像処理装
置13によって画像処理をして、欠陥の有害性を判別す
る。第1図において第4図に示す部分画像信号Ip、Dpか
ら欠陥の導通上有害性を判別する例を示す。最初に欠陥
が線状回路パターンにあるのか(または線状回路パター
ンの中にあるのか)、大きな回路パターンにあるのかを
判別する。次に欠陥の有害性を判別する時間を短縮化す
るため、部分画像信号Ipと部分画像信号Dpに(または部
分画像信号Ipのみに)ウィンドウを設定し、部分画像信
号の1部のみ画像処理するようにする。さらに導通上の
欠陥の種類には欠け、ピンホール、突起、孤立パターン
の欠陥があるため、欠陥がピンホールもしくは孤立パタ
ーンであるか判別する。以上の実行をした後、第8図及
び第9図に示すような、各欠陥に対応して欠陥の導通上
の有害性を判別する。
第12図は欠陥が線状回路パターンにあるのか(または
線状回路パターンの中にあるのか)、大きな回路パター
ンにあるのかを判別する例を示している。部分画像信号
Ipを線状回路パターンの画像信号vpと大きな回路パター
ンの画像信号Vpに分割処理手段16により分割し、また部
分画像信号Dpを拡大処理手段17により拡大し、線状回路
パターンの画像信号vpと大きな回路パターンの画像信号
Vpと部分画像信号Dpの拡大画像信号LpをAND回路19a、19
bを有する画像間演算処理手段18により画像間演算処理
し、欠け欠陥の画像信号20と欠け欠陥のない画像信号21
とが得られる。第13図(a)は線状回路パターンに(ま
たは線状回路パターンの中に)欠陥がある場合のウイン
ドウの設定例を示している。部分画像信号Ip、Ip′、I
p″と部分画像信号Dp、Dp′、Dp″の同じ位置に、同じ
大きさのウィンドウを設定している。ウィンドウは、欠
陥から周囲に一定の距離(検査基準値であるパターン幅
の最大値とパターン間隔の最小値のうち大きい値)以内
の領域を含むように大きさと位置を設定している。すな
わち部分画像Dp、Dp′、Dp″から欠陥を含む矩形の対角
線上の座標(x min,y min)、(x max,y max)をもと
め、ウィンドウの始点xs=x min−Δw1,ys=y min−Δw
1,終点xe=x max+Δw1、ye=y max+Δw1を算出してい
る。Δw1は欠陥の有害性を判別するために必要な一定距
離を示す値であり、検査基準値であるパターン幅の最大
値とパターン間隔の最小値のうち大きい値である。
第13図(b)は、大きな回路パターンに(または大き
な回路パターンの中に)欠陥がある場合のウインドウの
設定例を示している。部分画像信号Ip、Ip′、Ip″と部
分画像信号Dp、Dp′、Dp″の同じ位置に、同じ大きさの
ウィンドウを設定している。ウィンドウは、大きな回路
パターンから周囲に一定の距離Δw2(検査基準値である
パターン間隔の最小値)以内の領域を含むように大きさ
と位置を設定している。すなわち部分画像1から大きな
パターンを含む短形の対角線上の座標(x min,y mi
n)、(x max,y max)をもとめ、ウィンドウの始点xs=
x min−Δw2,ys=y min−Δw2,終点xe=x max+Δw2,ye
=y max+Δw2を算出している。Δw2は欠陥の有害性を
判別するために必要な値であり、検査基準値であるパタ
ーン間隔の最小値である。
第14図は、欠陥がピンホールであることを判別する例
を示している。第13図に示した部分画像信号Ip、Ip′、
Ip″のウィンドウ内画像28の穴の数を計測し(ピンホー
ル数計測29)、29′で示すように穴の数>0(≠0)な
らばピンホールの欠陥があり、30で示すように穴の数=
0であればピンホール以外の欠陥である。
第15図は、欠陥が孤立パターンであることを判別する
例を示している。第13図に示した部分画像信号Ip、I
p′、Ip″の白と黒を反転し、部分画像信号Ip、Ip′、I
p″のウィンドウ内画像31の穴の数を32に示すように計
測する。33で示すように穴の数>0(≠0)ならば孤立
パターンの欠陥があり、34に示すように穴の数=0であ
れば孤立パターン以外の欠陥である。
次に第2図において第7図に示す部分画像信号Ip″、
Rp″、Dp″から欠陥の導通上有害性を判別する例を示
す。最初に欠陥が線状回路パターンにあるのか(または
線状回路パターンの中にあるのか)、大きな回路パター
ンにあるのかを判別する。次に欠陥の導通上有害性を判
別する時間を短縮化するため、部分画像信号Ip″と部分
画像信号Rp″と部分画像信号Dp″に(または部分画像信
号Ip″と部分画像信号Rp″に)ウィンドウを設定し、部
分画像信号の1部のみ画像処理するようにする。さらに
導通上の欠陥の種類には欠け、ピンホール、突起、孤立
パターンの欠陥があるため、欠陥がピンホールもしくは
孤立パターンであるか判別する。以上の実行をした後、
第8図、第9図に示すような、各欠陥に対応して欠陥の
有害性を判別する。第16図は欠陥が線状回路パターンに
あるのか(または線状回路パターンの中にあるのか)、
大きな回路パターンにあるのかを判別する例を示してい
る。部分画像信号Rp、Rp′、Rp″を拡大処理手段33によ
り拡大して拡大画像信号34を得、この拡大画像信号34に
対して分割処理手段35により線状回路パターンの画像信
号36と大きな回路パターンの画像信号37とに分割し、線
状回路パターンの画像信号36と大きな回路パターンの画
像信号37と部分画像信号Dp、Dp′、Dp″について、AND
回路39a,39bを有する画像間演算処理手段18により画像
間演算処理して欠陥画像信号40と欠陥のない画像信号41
を得る。第17図(a)は線状回路パターンに(または線
状回路パターンの中に)欠陥がある場合のウインドウの
設定例を示している。部分画像信号Ipと部分画像信号Rp
と部分画像信号Dpの同じ位置に、同じ大きさのウィンド
ウを設定している。ウィンドウの大きさと位置の算出方
法は、第13図(a)の場合と同じである。第17図(b)
は大きな回路パターンに(または大きな回路パターンの
中に)欠陥がある場合のウインドウの設定例を示してい
る。部分画像信号Ipと部分画像信号Rpと部分画像信号Dp
の同じ位置に、同じ大きさのウィンドウを設定してい
る。ウィンドウは、大きな回路パターンから周囲に一定
の距離(検査基準値である回路パターン間隔の最小値)
以内の領域を含むように大きさと位置を設定している。
すなわち部分画像Rpから大きな回路パターンを含む矩形
の対角線上の座標(x min,y min)、(x max,y max)を
もとめているほかは、第13図(b)の場合と同じであ
る。欠陥がピンホールであることを判別する例は第14図
と同じである。欠陥が孤立パターンであることを判別す
る例は第15図と同じである。
第18図に第8図イに示す線状回路パターンに欠けがあ
る場合の、欠陥の導電上有害性を判定するアルゴリズム
例をしめす。ウィンドウ48(部分画像信号Ip)は欠けの
欠陥を含んでいる部分画像信号Ipのウィンドウ内の画像
信号である。またウィンドウ49(部分画像信号Rp)は基
準パターン画像の部分画像信号Rpのウィンドウ内画像信
号である。最初にウィンドウ48(部分画像信号Ip)の境
界座標52(xi,yi)を境界座標抽出手段50により抽出す
る。境界の座標を求めるアルゴリズムはウィンドウ内の
走査を行い、最初にパターンにぶつかる点を求めた後、
3×3のマスクパターンを利用する方法が良く知られて
いる。
次にウィンドウ49(部分画像信号Rp)から角度θ抽出
手段51により各境界の座標における『境界面の方向に垂
直な角度θ』53を求める。角度θについては3×3のマ
スクパターン54から求めることができる。求めることが
できる方向は55で示すように16方向(360゜を22.5゜で
等分)である。ウィンドウ49(部分画像信号Rp)から
『境界面の方向に垂直な角度θ』を求めるのはウィンド
ウ48(部分画像信号Ip)には欠陥や凹凸があるためであ
る。
以上のようにして求めた境界の座標(xi,yi)から、5
6で示すように角度θ方向に検査基準値である回路パタ
ーン幅t1の最小値だけ離れた点の座標(xj,yj)を求
め、その座標の画素の色を調べる。白画素が1個でもあ
れば導電上有害欠陥、全て黒画素の場合導電上比有害欠
陥である。
同様に境界の座標(xi,yi)から、57で示すように角
度θ方向に最小パターン幅CWだけ離れた点の座標(xk,y
k)の画素の色を求め、白画素の連続する長さをもとめ
る。白画素の連続する長さv1が検査基準値より大きい場
合導通上有害欠陥で、検査基準値以下の場合は導通上非
有害欠陥である。
第19図に第8図ロに示す線状回路パターンの中にピン
ホールがある場合の、欠陥の導通上有害性を判別するア
ルゴリズム例を示す。ウィンドウ61(部分画像信号Ip)
はピンホールの欠陥を含んでいる部分画像信号Ipのウィ
ンドウ内の画像である。ウィンドウ61(部分画像信号I
p)において線状回路パターンが傾いているため、回路
パターン傾度測定・回転手段62により線状回路パターン
を回転し、計測しやすいような向きにし、63で示す線状
回路パターンを得る。回転の角度は、回路パターン傾度
測定・回転手段62により慣性主軸の角度θを求めること
により得られる。回転はアフィン変換を利用すればよ
く、回転パターン63を得ることができる。回転パターン
63に対して白黒反転(NOT)手段64により白黒反転(NO
T)して65の画像信号を得、ピンホール抽出手段68によ
りピンホール抽出の処理を行い、ピンホール欠陥だけと
りだした計測パターン69を得る。ここでx1(パターンの
存在する最少x座標)、y1(パターンの存在する最少y
座標)、x2(パターンの存在する最大x座標)、y2(パ
ターンの存在する最大y座標)を求める。ピンホールの
パターンに対して長手方向の長さv2はx2−x1である。v2
が検査基準値より大きい場合は導通上有害欠陥、v2が検
査基準値以下の場合は導通上非有害欠陥である。
次にピンホールから線状パターンの境界までの最短距
離の和t2はパターン幅をlとするとl−(y2−y1)であ
るため、回転パターン63のピンホールの穴埋めを穴埋め
手段66により行い、計測パターン67を得る。この計測パ
ターン67についてパターン幅lを計測する。。穴埋めは
回転パターン63と計測パターン69のORをとればよく計測
パターン67を得ることができる。計測パターン67におい
て(x1,y1)−(x2,y2)を結ぶ線上で線状パターンの長
手方向に対して垂直にパターンの幅lを計測すればよ
い。t2が検査基準値より小さい場合は導通上有害欠陥、
検査基準値以上の場合は導通上非有害欠陥である。
第20図に第8図ハに示す線状回路パターンに突起があ
る場合の、欠陥の導通上有害性を判定するアルゴリズム
例を示す。ウィンドウ70(部分画像信号Ip)は突起の欠
陥がある部分画像信号Ipのウィンドウ内の画像である。
またウィンドウ71(部分画像信号Rp)は基準回路パター
ン画像の部分画像信号Rpのウィンドウ内画像である。最
初はウィンドウ70(部分画像信号Ip)から周囲パターン
手段72により周囲パターン74を抽出する。次に境界座標
抽出手段76により周囲パターン74の境界座標(xi,yi)7
8を抽出する。境界の座標を求めるアルゴリズムは欠け
の場合と同様である。一方ウィンドウ71(部分画像信号
Rp)から周囲パターン手段73により周囲パターン75を抽
出し、角度θ抽出手段77により周囲パターン75から各境
界の座標における『境界面の方向に垂直な角度θ』79を
求める。角度θを求めるアルゴリズムは欠けの場合と同
様である。3×3マスクパターン80で示す。
以上のようにして78で求めた境界の座標(xi,yi)か
ら角度θ方向に検査基準値であるパターン間隔の最少値
n1だけ離れた点の座標(xj,yj)を81で求め、その座標
の画素の色を調べる。黒画素が1個でもあれば導通上有
害欠陥、全て白画素の場合導通上非有害欠陥である。
同様に境界の座標(xi,yi)から82で示すように角度
θ方向に最少パターン間隔Ciだけ離れた点の座標(xk,y
k)の画素の色を求め、黒画素の連続する長さをもとめ
る。黒画素の連続する長さm1が検査基準値より大きい場
合導通上有害欠陥で、検査基準値以下の場合は導通上非
有害欠陥である。
第21図に第8図ニに示す孤立パターン欠陥がある場合
の、欠陥の導通上有害性を判別するアルゴリズム例を示
す。ウィンドウ83(部分画像信号Ip)は孤立パターンと
周囲の正常回路パターンを含む部分画像信号Ipのウィン
ドウ内の画像である。最初に、ウィンドウ83(部分画像
信号Ip)を分割手段84により孤立パターン85と周囲パタ
ーン86に分割する。分割の手法としてはラベリングと呼
ばれる方法が一般に知られている。孤立パターンの最大
径pは孤立パターン85から同一2次モーメントを持つ楕
円87を求め、計測パターン91を得、この計測パターンの
楕円の長軸の長さpを計測してもとめる。pが検査基準
値より大きい場合は導通上有害欠陥、検査基準値以下の
場合は導通上非有害欠陥である。
次に孤立パターンから周囲の正常パターンまでのパタ
ーン間隔n2計測するために、88により孤立パターン85の
境界の座標(xi,yi)を中心としてパターン間隔n2の検
査基準値を半径とした円を描きながら境界を一周し描画
パターン89を得、さらに描画パターン89と周囲パターン
86のAND手段90によりANDをとり計測パターン92を得る。
計測パターン92においてパターン数≠0のときはパター
ン間隔n2は検査基準値より小さく導通上有害欠陥であ
る。またパターン数=0の場合、パターン間隔n2が検査
基準値以上で導通上非有害欠陥である。
第22図に第9図ホに示す欠けが大きなパターンにある
場合のパターンの欠陥の導通上有害性を判定するアルゴ
リズム例をしめす。ウィンドウ93(部分画像信号Ip)は
欠けがある部分画像信号Ipのウィンドウ内の画像であ
る。またウィンドウ94(部分画像信号Rp)は基準回路パ
ターン画像の部分画像信号Rpのウィンドウ内画像であ
る。最初にウィンドウ93(部分画像信号Ip)から欠陥の
あるパターンの面積S1を求める。次にウィンドウ94(部
分画像信号Rp)から欠陥のないパターンの面積S2をもと
めΣSi=S2−S1を算出する。面積ΣSiが検査基準値より
大きい場合導通上有害欠陥で、検査基準値以下の場合は
導通上非有害欠陥である。
第23図に第9図ヘに示すピンホールが大きな回路パタ
ーンの中に有る場合の導通上有害性を判別するアルゴリ
ズム例を示す。ウィンドウ95(部分画像信号Ip)はピン
ホールがある部分画像信号Ipのウィンドウ内の画像であ
る。ウィンドウ95(部分画像信号Ip)に対してピンホー
ル抽出手段96によるピンホール抽出の処理を行い、ピン
ホールだけとりだしたピンホール画像信号97を得る。こ
こで各ピンホールに対して98により同一2次モーメント
を持つ楕円(計測画像99)をもとめ、楕円の長軸の長さ
liを計測し、Σliを算出する。Σliが検査基準値より大
きい場合は導通上有害欠陥、検査基準値以下の場合は導
通上非有害欠陥である。
第9図トに示す突起が大きな回路パターンにある場合
の導通上有害性を判定するアルゴリズム例は、第20図の
線状回路パターンに突起がある場合のアルゴリズムと同
様である。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、プリント基板
等の回路パターンに対して目視による複雑な検査基準に
合致させて回路パターンの導通上有害な欠陥と非有害な
欠陥とに高速度で判別検査することができ、従来作業者
が確認していた導通上本当の欠陥であるか否かの作業を
省略することができる効果を奏する。特に本発明によれ
ば、上記回路パターンの導通上の欠陥検査作業の合理化
とこの欠陥検査の信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は各々本発明の回路パターンの欠陥検
査装置の一実施例の概略構成を示す図、第3図は従来の
回路パターンの欠陥検査装置の一例を示す概要図、第4
図乃至第7図は各々回路パターン画像信号、基準回路パ
ターン画像信号、欠陥パターン画像信号に対する部分画
像信号を示す図、第8図及び第9図は各々回路パターン
に対する導通上有害な欠陥と非有害な欠陥の形状を示し
た図、第10図は撮像装置から得られる画像信号と2値絵
素化画像信号とを示す図、第11図はインターフェース回
路の一実施例を示す図、第12図乃至第23図は各々本発明
における導通上有害な欠陥と非有害な欠陥とを判定する
アルゴリズムの例を示す図である。 I……検査システム、II……部分画像検査システム A……回路パターン、B……基準回路パターン 1,1′……撮像装置、3……欠陥判定装置 4……欠陥(候補)代表点信号 7……基準パターン発生装置 8……回路パターン画像信号 9,9′……基準回路パターン画像信号 10……欠陥パターン画像信号 11……インターフェース 12……部分画像メモリ 13……部分画像処理装置 Ip,Ip′,Ip″,Rp,Rp′,Rp″,Dp,Dp′,Dp″……部分画像
信号
フロントページの続き (72)発明者 小泉 光義 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 北村 茂樹 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 日立ビデオエンジニアリング株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−245007(JP,A) 特開 昭62−119442(JP,A) 特開 昭50−131469(JP,A) 特開 平1−180068(JP,A) 特開 昭64−28787(JP,A) 特開 昭52−115640(JP,A)

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】所定の撮像信号で動作する撮像手段と試料
    とを相対的に移動させながら前記撮像手段で前記試料を
    撮像して前記試料の画像信号を得、前記試料を撮像しな
    がら前記得た画像信号から欠陥候補を含む部分画像信号
    を前記撮像手段の撮像信号と同期して順次抽出し、該抽
    出した欠陥候補を含む部分画像信号を前記撮像信号と同
    期して記憶手段に順次記憶し、前記撮像手段で前記試料
    を撮像しながら前記記憶した欠陥候補を含む部分画像信
    号を前記撮像信号と非同期で順次処理して前記試料上の
    欠陥を検出することを特徴とする欠陥検査方法。
  2. 【請求項2】所定の撮像信号で動作する撮像手段と試料
    とを相対的に移動させながら前記撮像手段で前記試料を
    撮像して前記試料の第1の画像信号と該第1の画像信号
    に対して基準となるべき第2の画像信号とを得、前記試
    料を撮像しながら得た前記第1の画像信号と第2の画像
    信号とを前記撮像信号と同期して比較して欠陥候補を抽
    出し、該抽出した欠陥候補を含む部分画像信号を前記撮
    像信号と同期して記憶手段に記憶し、前記試料を撮像し
    ながら前記記憶した欠陥候補を含む部分画像信号を前記
    撮像信号と非同期で処理して前記試料上の欠陥を検出す
    ることを特徴とする欠陥検査方法。
  3. 【請求項3】所定の撮像信号で動作する撮像手段と試料
    とを相対的に移動させながら前記撮像手段で試料を撮像
    して該試料の画像信号を得、該画像信号をパイプライン
    形画像処理手段により前記撮像手段の撮像信号と同期し
    て処理することにより前記画像信号から欠陥候補を含む
    部分画像信号を抽出し、該抽出した欠陥候補を含む部分
    画像信号を前記撮像信号と同期して記憶手段に記憶し、
    前記撮像手段で前記試料を撮像しながら前記記憶した部
    分画像信号を前記撮像手段の撮像信号と非同期で処理し
    て前記欠陥候補の中から欠陥を検出することを特徴とす
    る欠陥検査方法。
  4. 【請求項4】所定の撮像信号で動作する撮像手段と試料
    とを相対的に移動させながら前記撮像手段で試料を撮像
    して該試料の画像信号を得、前記試料を撮像しながら前
    記画像信号から欠陥候補を含む部分画像信号を前記撮像
    手段の撮像信号と同期して抽出して記憶手段で記憶し、
    前記試料を撮像しながら前記記憶した部分画像信号を前
    記撮像信号と非同期で処理して前記試料上の欠陥を検出
    することを特徴とする欠陥検査方法。
  5. 【請求項5】撮像手段による撮像をCCDイメージセンサ
    を用いて行い、前記撮像信号と同期させることが、前記
    CCDのクロック周波数と同期させることであることを特
    徴とする請求項1、2又は4の何れかに記載の欠陥検出
    方法。
  6. 【請求項6】前記試料が基板上に回路パターンを形成し
    た回路基板であり、前記検出する欠陥が、前記回路パタ
    ーンの導通上有害な欠陥であることを特徴とする請求項
    1乃至4の何れかに記載の欠陥検出方法。
  7. 【請求項7】所定の撮像信号で動作して試料を撮像する
    撮像手段と、該撮像手段に対して相対的に移動する試料
    を該撮像手段で撮像して得た前記試料の画像信号から欠
    陥の候補を前記試料を撮像している前記撮像手段の撮像
    信号と同期して抽出する欠陥候補抽出手段と、該欠陥候
    補抽出手段で抽出した欠陥候補とその周辺の画像を含む
    部分画像信号を前記試料を撮像している前記撮像手段の
    撮像信号と同期して記憶する記憶手段と、前記撮像手段
    で前記試料を撮像しているときに前記記憶手段に記憶し
    た前記部分画像信号を前記撮像手段の撮像信号と非同期
    で処理して前記欠陥候補の中から欠陥を検出する欠陥検
    出手段とを備えたことを特徴とする欠陥検出装置。
  8. 【請求項8】所定の撮像信号で動作して試料を撮像する
    撮像手段と、基準となるデータを記憶する基準データ記
    憶手段と、前記撮像手段に対して相対的に移動する試料
    を前記撮像手段で撮像して得た前記試料の画像信号と前
    記基準データ記憶手段に記憶した基準データとを比較し
    て前記画像信号から欠陥の候補を前記試料を撮像してい
    る前記撮像手段の撮像信号と同期して抽出する欠陥候補
    抽出手段と、該欠陥候補抽出手段で抽出した欠陥候補と
    その周辺の画像を含む部分画像信号を前記試料を撮像し
    ている前記撮像手段の撮像信号と同期して記憶する記憶
    手段と、前記撮像手段で前記試料を撮像しているときに
    前記記憶手段に記憶した前記部分画像信号を前記撮像手
    段の撮像信号と非同期で処理して前記欠陥候補の中から
    欠陥を検出する欠陥検出手段とを備えたことを特徴とす
    る欠陥検出装置。
  9. 【請求項9】前記欠陥候補抽出手段が、パイプライン型
    であることを特徴とする請求項7又は8に記載の欠陥検
    出装置。
  10. 【請求項10】所定の撮像信号で動作して試料を撮像す
    る撮像手段と、該撮像手段に対して相対的に移動する試
    料を該撮像手段で撮像して得た前記試料の画像信号を該
    撮像手段の撮像信号と同期して処理して欠陥候補を含む
    部分画像信号を抽出するパイプライン型画像処理手段
    と、前記撮像手段で前記試料を撮像しているときに前記
    撮像手段の撮像信号と非同期で動作して前記パイプライ
    ン型画像処理手段で抽出した欠陥候補を含む部分画像信
    号に基づいて前記試料の欠陥を検出する画像処理手段と
    を備えたことを特徴とする欠陥検出装置。
JP01221450A 1989-08-30 1989-08-30 欠陥検査方法及びその装置 Expired - Lifetime JP3132565B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP01221450A JP3132565B2 (ja) 1989-08-30 1989-08-30 欠陥検査方法及びその装置
US07/575,380 US5146509A (en) 1989-08-30 1990-08-28 Method of inspecting defects in circuit pattern and system for carrying out the method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP01221450A JP3132565B2 (ja) 1989-08-30 1989-08-30 欠陥検査方法及びその装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000280117A Division JP3283866B2 (ja) 2000-09-11 2000-09-11 回路パターンの欠陥検査方法及びその装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0385742A JPH0385742A (ja) 1991-04-10
JP3132565B2 true JP3132565B2 (ja) 2001-02-05

Family

ID=16766923

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP01221450A Expired - Lifetime JP3132565B2 (ja) 1989-08-30 1989-08-30 欠陥検査方法及びその装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5146509A (ja)
JP (1) JP3132565B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3400797B2 (ja) 2001-12-17 2003-04-28 株式会社日立製作所 回路パターンの欠陥検査方法及びその装置

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE38716E1 (en) 1984-12-20 2005-03-22 Orbotech, Ltd. Automatic visual inspection system
USRE38559E1 (en) 1984-12-20 2004-07-27 Orbotech Ltd Automatic visual inspection system
US6320977B1 (en) * 1990-04-04 2001-11-20 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd Method and apparatus for positional detection using pattern matching process
JP2747105B2 (ja) * 1990-11-05 1998-05-06 富士通株式会社 画像データ検証方法及び装置
US5394481A (en) * 1991-01-16 1995-02-28 Ezel Inc Liquid crystal panel inspection method
KR960002145B1 (ko) * 1991-07-30 1996-02-13 가부시기가이샤 히다찌세이사구쇼 박막트랜지스터 액정기판의 검사방법 및 그 장치
JPH07504056A (ja) * 1992-02-18 1995-04-27 ネオパス,インク. データ処理技術を使用して物体を識別するための方法
WO1994024518A1 (en) 1993-04-21 1994-10-27 Omron Corporation Visual inspection support apparatus, substrate inspection apparatus, and soldering inspection and correction methods using the same apparatuses
JP3575551B2 (ja) * 1993-05-31 2004-10-13 日本アビオニクス株式会社 残渣の検査方法
SG80529A1 (en) * 1993-06-14 2001-05-22 Omron Tateisi Electronics Co Visual inspection supporting apparatus and printed circuit board inspecting apparatus, and methods of soldering inspection and correction using the apparatus
JPH0763691A (ja) * 1993-08-24 1995-03-10 Toshiba Corp パターン欠陥検査方法及びその装置
JP3392573B2 (ja) * 1994-03-31 2003-03-31 株式会社東芝 試料検査装置及び方法
JP2999679B2 (ja) * 1994-11-30 2000-01-17 大日本スクリーン製造株式会社 パターン欠陥検査装置
US5818576A (en) * 1995-11-28 1998-10-06 Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. Extraneous substance inspection apparatus for patterned wafer
JP2956755B2 (ja) * 1996-03-11 1999-10-04 日本電気株式会社 微細パターン検査装置
US5917934A (en) * 1996-03-15 1999-06-29 Sony Corporation Automated visual inspection apparatus for detecting defects and for measuring defect size
US6330354B1 (en) 1997-05-01 2001-12-11 International Business Machines Corporation Method of analyzing visual inspection image data to find defects on a device
US6295374B1 (en) * 1998-04-06 2001-09-25 Integral Vision, Inc. Method and system for detecting a flaw in a sample image
US6317514B1 (en) * 1998-09-09 2001-11-13 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for inspection of patterned semiconductor wafers
US6466314B1 (en) * 1998-09-17 2002-10-15 Applied Materials, Inc. Reticle design inspection system
JP4206192B2 (ja) 2000-11-09 2009-01-07 株式会社日立製作所 パターン検査方法及び装置
GB2388428A (en) * 2000-09-10 2003-11-12 Orbotech Ltd Reduction of false alarms in PCB inspection
US6898305B2 (en) * 2001-02-22 2005-05-24 Hitachi, Ltd. Circuit pattern inspection method and apparatus
JP2002358509A (ja) * 2001-06-01 2002-12-13 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 穴検査装置
JP3788279B2 (ja) 2001-07-09 2006-06-21 株式会社日立製作所 パターン検査方法及び装置
GB2389178B (en) * 2001-12-31 2004-10-27 Orbotech Ltd Method for inspecting patterns
US8111898B2 (en) * 2002-12-06 2012-02-07 Synopsys, Inc. Method for facilitating automatic analysis of defect printability
JP2005158780A (ja) * 2003-11-20 2005-06-16 Hitachi Ltd パターン欠陥検査方法及びその装置
US20050289488A1 (en) * 2004-06-29 2005-12-29 I-Ju Chou System and method for mask defect detection
US7471382B2 (en) * 2004-10-04 2008-12-30 Kla-Tencor Technologies Corporation Surface inspection system with improved capabilities
US20060092274A1 (en) * 2004-11-04 2006-05-04 Rockwell Automation Technologies, Inc. Image sensor annotation method and apparatus
US20060171593A1 (en) 2005-02-01 2006-08-03 Hitachi High-Technologies Corporation Inspection apparatus for inspecting patterns of a substrate
JP2007024737A (ja) 2005-07-20 2007-02-01 Hitachi High-Technologies Corp 半導体の欠陥検査装置及びその方法
KR100684104B1 (ko) * 2005-08-02 2007-02-16 삼성전자주식회사 결함 검사 방법 및 이를 수행하기 위한 결함 검사 장치
JP4654093B2 (ja) 2005-08-31 2011-03-16 株式会社日立ハイテクノロジーズ 回路パターン検査方法及びその装置
TWI361007B (en) * 2006-07-24 2012-03-21 Himax Semiconductor Inc Video processing method and video display system
US7369236B1 (en) * 2006-10-31 2008-05-06 Negevtech, Ltd. Defect detection through image comparison using relative measures
JP5071231B2 (ja) * 2008-05-09 2012-11-14 オムロン株式会社 部品実装基板の外観検査用画像の保存方法および復元方法、ならびに画像保存処理装置
US8953870B2 (en) * 2009-11-18 2015-02-10 Honda Motor Co., Ltd. Surface inspection device and surface inspection method
CN114356191B (zh) * 2022-03-04 2022-07-12 北京阿丘科技有限公司 线路板图像显示方法、装置、设备及存储介质

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5371563A (en) * 1976-12-08 1978-06-26 Hitachi Ltd Automatic inspection correcting method for mask
JPS6017044B2 (ja) * 1979-07-23 1985-04-30 株式会社日立製作所 印刷配線板のパタ−ン検査装置
US4484081A (en) * 1980-09-19 1984-11-20 Trw Inc. Defect analysis system
DE3070721D1 (en) * 1980-12-18 1985-07-04 Ibm Process for inspecting and automatically classifying objects presenting configurations with dimensional tolerances and variable rejecting criteria depending on placement, apparatus and circuits therefor
US4496971A (en) * 1981-07-22 1985-01-29 National Research Development Corporation Detection apparatus
JPS5924361A (ja) * 1982-07-29 1984-02-08 Sharp Corp 日付の表示方式
GB2129547B (en) * 1982-11-02 1986-05-21 Cambridge Instr Ltd Reticle inspection
JPS59157505A (ja) * 1983-02-28 1984-09-06 Hitachi Ltd パタ−ン検査装置
DE3347645C1 (de) * 1983-12-30 1985-10-10 Dr.-Ing. Ludwig Pietzsch Gmbh & Co, 7505 Ettlingen Verfahren und Einrichtung zum opto-elektronischen Pruefen eines Flaechenmusters an einem Objekt
US4659220A (en) * 1984-10-22 1987-04-21 International Business Machines Corporation Optical inspection system for semiconductor wafers
JPS61245007A (ja) * 1985-04-24 1986-10-31 Hitachi Ltd 欠陥検査装置
JPS62119442A (ja) * 1985-11-20 1987-05-30 Fujitsu Ltd パタ−ン検査装置
JPS62247478A (ja) * 1986-04-21 1987-10-28 Hitachi Ltd パタ−ン検査装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3400797B2 (ja) 2001-12-17 2003-04-28 株式会社日立製作所 回路パターンの欠陥検査方法及びその装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0385742A (ja) 1991-04-10
US5146509A (en) 1992-09-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3132565B2 (ja) 欠陥検査方法及びその装置
US4758782A (en) Method and apparatus for inspecting printed circuit board
JPS60215286A (ja) 対象物における面模様をオプトエレクトロニクス検査する方法とその装置
JP3164003B2 (ja) 実装部品検査装置
JP3283866B2 (ja) 回路パターンの欠陥検査方法及びその装置
JP2710527B2 (ja) 周期性パターンの検査装置
JP3400797B2 (ja) 回路パターンの欠陥検査方法及びその装置
JP4956077B2 (ja) 欠陥検査装置及び欠陥検査方法
JPH06258226A (ja) 錠剤の外観検査方法
JPS6186638A (ja) 配線パターン欠陥検査方法
JP2569543B2 (ja) 硬度計
JPH0610815B2 (ja) 配線パターンの検査方法およびその装置
JP2638121B2 (ja) 表面欠陥検査装置
JPH01150987A (ja) 形状認識方法
JP2625429B2 (ja) 画像処理方法
JP2002032736A (ja) 欠陥検査方法及び装置
JPH0619252B2 (ja) 印刷配線基板のはんだ付検査装置
JP3537958B2 (ja) 欠陥検査方法
JPS58180933A (ja) パタ−ン欠陥検査装置
JP3210713B2 (ja) 所定の特徴及び許容差の識別のための画像化パターンの収縮、拡張及び処理を用いた幾何学的パターン検査方法及び装置
JPH02171640A (ja) 容器検査方法
JPS642992B2 (ja)
JPH09179979A (ja) 欠陥検出装置
JPS62150143A (ja) パタ−ン欠陥検出方法
JPH02187652A (ja) 画像処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071124

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081124

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081124

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091124

Year of fee payment: 9

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091124

Year of fee payment: 9