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JP3115345B2 - オレフィン重合体の製造法 - Google Patents

オレフィン重合体の製造法

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JP3115345B2
JP3115345B2 JP03097667A JP9766791A JP3115345B2 JP 3115345 B2 JP3115345 B2 JP 3115345B2 JP 03097667 A JP03097667 A JP 03097667A JP 9766791 A JP9766791 A JP 9766791A JP 3115345 B2 JP3115345 B2 JP 3115345B2
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JP
Japan
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compound
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halogen
iii
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田 孝 藤
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Mitsubishi Chemical Corp
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Mitsubishi Chemical Corp
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Publication date
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】〔発明の背景〕
【産業上の利用分野】本発明は、オレフィン重合体の製
造法に関するものである。更に詳しくは、本発明は、オ
レフィン類、特に炭素数3以上のα‐オレフィン、の重
合体を製造する場合において、特定の触媒を使用して高
立体規則性重合体を150℃以上の温度で製造する方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来から、チタン、マグネシウムおよび
ハロゲン(および必要に応じて電子供与体)を含有する
固体触媒成分と有機アルミニウム化合物(および必要に
応じて電子供与体)から成る触媒を使用して、高立体規
則性重合体を製造できることが知られている。しかしな
がら、従来の触媒系は、重合温度が90℃以下、好まし
くは80℃以下、の場合において、触媒としての性能を
発現することが多くて、例えば、150℃以上の高温に
おいて高立体規則性重合体を良好に製造できる触媒は、
本発明者らの知る限りでは提案されていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の点に
解決を与えることを目的とするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】〔発明の概要〕 <要旨> 本発明によるオレフィン重合体の製造法は、下記の成分
(A)および成分(B)の組合せからなる触媒に、15
0℃以上の温度でオレフィンを接触させて重合させるこ
と、を特徴とするものである。成分(A) 下記の成分(i) 、(ii)および(iii) の触媒生成物、成分(i) チタン、マグネシウムおよびハロゲンを必須
成分として含有するチーグラー型触媒用固体成分、成分(ii) 一般式 R1 m Si(OR4-m-n (ただし、RおよびRは炭化水素残基であり、Xは
ハロゲンであり、mおよびnはそれぞれ0≦m≦3およ
び0≦n≦3であって、しかも0≦m+n≦3であ
る。)で表わされるケイ素化合物、成分(iii) 周期律表第I〜III 族金属の有機金属化合
物、成分(B) 下記の一般式で表わされる成分(B1)および成分(B
2)の混合物からなる有機アルミニウム化合物、成分(B1) 一般式R3 3-p Al(OR(ただ
し、RおよびRは、それぞれ炭素数1〜20の炭化
水素残基であり、pは0<p<3の数である。)で表わ
される有機アルミニウム化合物、成分(B2) 一般式R5 3-q AlX(ただし、R
は炭素数1〜20の炭化水素残基であり、Xはハロゲン
であり、qは0<q<3の数である。)で表わされる有
機アルミニウム化合物。
【0005】<効果>本発明では、従来の触媒では高立
体規則性重合体を製造することが不可能であった150
℃以上の高温度条件下において、80℃以下の低温重合
と同等レベルの高活性でしかも高立体規則性のオレフィ
ン重合体を製造することが可能である。また、本発明に
よって得られる重合体は、従来のいわゆる80℃以下の
低温重合において得られる重合体に比べて分子量分布が
広いという特色を有する。
【0006】〔発明の具体的説明〕 〔I〕触 媒 本発明の触媒は、特定の成分(A)および成分(B)の
組合せからなるものである。ここで「組合せからなる」
ということは、成分が挙示のもの(すなわち、Aおよび
B)のみであるということを意味するものではなく、合
目的的な他の成分の共存を排除しない。
【0007】<成分(A)>本発明の触媒の成分(A)
は、下記の成分(i)ないし成分(iii) を接触させて得ら
れる固体触媒成分である。ここで、「接触させて得られ
る」ということは対象が挙示のもの(すなわち(i)〜(ii
i))のみであるということを意味するものではなく、
合目的的な他の成分の共存を排除しない。
【0008】成分(i) 成分(i) は、チタン、マグネシウムおよびハロゲンを必
須成分として含有するチーグラー型触媒用固体成分であ
る。ここで「必須成分として含有する」ということは、
挙示の三成分の外に合目的的な他元素を含んでいてもよ
いこと、これらの元素はそれぞれが合目的的な任意の化
合物として存在してもよいこと、ならびにこれら元素は
相互に結合したものとして存在してもよいこと、を示す
ものである。チタン、マグネシウムおよびハロゲンを含
む固体成分そのものは公知のものである。例えば、特開
昭53−45688号、同54−3894号、同54−
31092号、同54−39483号、同54−945
91号、同54−118484号、同54−13158
9号、同55−75411号、同55−90510号、
同55−90511号、同55−127405号、同5
5−147507号、同55−155003号、同56
−18609号、同56−70005号、同56−72
001号、同56−86905号、同56−90807
号、同56−155206号、同57−3803号、同
57−34103号、同57−92007号、同57−
121003号、同58−5309号、同58−531
0号、同58−5311号、同58−8706号、同5
8−27732号、同58−32604号、同58−3
2605号、同58−67703号、同58−1172
06号、同58−127708号、同58−18370
8号、同58−183709号、同59−149905
号、同59−149906号各公報等に記載のものが使
用される。
【0009】本発明において使用されるマグネシウム源
となるマグネシウム化合物としては、マグネシウムハラ
イド、ジアルコキシマグネシウム、アルコキシマグネシ
ウムハライド、マグネシウムオキシハライド、ジアルキ
ルマグネシウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウ
ム、マグネシウムのカルボン酸塩等があげられる。これ
らのうちで好ましいものはマグネシウムハライド、ジア
ルコキシマグネシウム、アルコキシマグネシウムハライ
ドである。
【0010】また、チタン源となるチタン化合物は、一
般式Ti(OR4-r (ここでRは炭化水素残
基であり、好ましくは炭素数1〜10程度のものであ
り、Xはハロゲンを示し、rは0≦r≦4の数を示
す。)で表わされる化合物があげられる。具体例として
は、TiCl、TiBr、Ti(OC)Cl
、Ti(OCCl、Ti(OC
Cl、Ti(O−iC)Cl、Ti(O−n
)Cl、Ti(O−nCCl
Ti(OC)Br、Ti(OC)(OC
Cl、Ti(O−nCCl、Ti
(O−C)Cl、Ti(O−iC
、Ti(OC11)Cl、Ti(OC13
Cl、Ti(OC、Ti(O−nC
、Ti(O−nC、Ti(O−i
、Ti(O−nC13、Ti(O−
nC17、Ti〔OCHCH(C)C
などが挙げられる。
【0011】また、TiX′(ここではX′はハロゲ
ンを示す)に後述する電子供与体を反応させた分子化合
物を用いることもできる。具体例としては、TiCl
・CHCOC、TiCl・CHCO
、TiCl・CNO、TiCl・CH
COCl、TiCl・CCOCl、TiCl
・CCO、TiCl・ClCOC
、TiCl・CO等があげられる。
【0012】これらのチタン化合物の中でも好ましいも
のは、TiCl、Ti(OC、Ti(OC
、Ti(OC)Cl等である。
【0013】ハロゲン源としては、上述のマグネシウム
及び(又は)チタンのハロゲン化合物から供給されるの
が普通であるが、アルミニウムのハロゲン化物やケイ素
のハロゲン化物、リンのハロゲン化物といった公知のハ
ロゲン化剤から供給することもできる。
【0014】触媒成分中に含まれるハロゲンはフッ素、
塩素、臭素、ヨウ素又はこれらの混合物であってよく、
特に塩素が好ましい。
【0015】本発明に用いる固体成分は、上記必須成分
の他にSiCl、CHSiCl等のケイ素化合
物、メチルハイドロジェンポリシロキサン等のポリマー
ケイ素化合物、Al(OiC、AlCl
AlBr、Al(OC、Al(OCH
Cl等のアルミニウム化合物及びB(OCH
B(OC、B(OC等のホウ素化
合物等の他成分の使用も可能であり、これらがケイ素、
アルミニウム及びホウ素等の成分として固体成分中に残
存することは差支えない。
【0016】更に、この固体成分を製造する場合に、電
子供与体を内部ドナーとして使用して製造することもで
きる。
【0017】この固体成分の製造に利用できる電子供与
体(内部ドナー)としては、アルコール類、フェノール
類、ケトン類、アルデヒド類、カルボン酸類、有機酸又
は無機酸類のエステル類、エーテル類、酸アミド類、酸
無水物類のような含酸素電子供与体、アンモニア、アミ
ン、ニトリル、イソシアネートのような含窒素電子供与
体などを例示することができる。
【0018】より具体的には、(イ)メタノール、エタ
ノール、プロパノール、ペンタノール、ヘキサノール、
オクタノール、ドデカノール、オクタデシルアルコー
ル、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコール、
イソプロピルベンジルアルコールなどの炭素数1ないし
18のアルコール類、(ロ)フェノール、クレゾール、
キシレノール、エチルフェノール、プロピルフェノー
ル、イソプロピルフェノール、ノニルフェノール、ナフ
トールなどのアルキル基を有してよい炭素数6ないし2
5のフェノール類、(ハ)アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾ
フェノンなどの炭素数3ないし15のケトン類、(ニ)
アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、オクチルア
ルデヒド、ベンズアルデヒド、トルアルデヒド、ナフト
アルデヒドなどの炭素数2ないし15のアルデヒド類、
(ホ)ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ビニ
ル、酢酸プロピル、酢酸オクチル、酢酸シクロヘキシ
ル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、吉草酸エチル、
ステアリン酸エチル、クロル酢酸メチル、ジクロル酢酸
エチル、酢酸セルソルブ、メタクリル酸メチル、クロト
ン酸エチル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香
酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香
酸ブチル、安息香酸オクチル、安息香酸シクロヘキシ
ル、安息香酸フェニル、安息香酸ベンジル、安息香酸セ
ルソルブ、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、トル
イル酸アミル、エチル安息香酸エチル、アニス酸メチ
ル、アニス酸エチル、エトキシ安息香酸エチル、フタル
酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、
γ‐ブチロラクトン、α‐バレロラクトン、クマリン、
フタリド、炭酸エチレンなどの炭素数2ないし20の有
機酸エステル類、(ヘ)ケイ酸エチル、ケイ酸ブチル、
フェニルトリエトキシシランなどのケイ酸エステルのよ
うな無機酸エステル類、(ト)アセチルクロリド、ベン
ゾイルクロリド、トルイル酸クロリド、アニス酸クロリ
ド、塩化フタロイル、イソ塩化フタロイルなどの炭素数
2ないし15の酸ハライド類、(チ)メチルエーテル、
エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ブチルエーテ
ル、アミルエーテル、テトラヒドロフラン、アニソー
ル、ジフェニルエーテルなどの炭素数2ないし20のエ
ーテル類、(リ)酢酸アミド、安息香酸アミド、トルイ
ル酸アミドなどの酸アミド類、(ヌ)メチルアミン、エ
チルアミン、ジエチルアミン、トリブチルアミン、ピペ
リジン、トリベンジルアミン、アニリン、ピリジン、ピ
コリン、テトラメチルエチレンジアミンなどのアミン
類、(ル)アセトニトリル、ベンゾニトリル、トルニト
リルなどのニトリル類、などを挙げることができる。こ
れら電子供与体は、二種以上用いることができる。これ
らの中で好ましいのは有機酸エステルおよび有機酸ハラ
イドであり、特に好ましいのは酢酸セルソルブ、フタル
酸エステルおよびフタル酸ハライドである。
【0019】上記各成分の使用量は、本発明の効果が認
められるかぎり任意のものでありうるが、一般的には、
次の範囲内が好ましい。
【0020】チタン化合物の使用量は、使用するマグネ
シウム化合物の使用量に対してモル比で1×10-4〜1
000の範囲内がよく、好ましくは0.01〜10の範
囲内である。ハロゲン源としてそのための化合物を使用
する場合は、その使用量はチタン化合物および(また
は)マグネシウム化合物がハロゲンを含む、含まないに
かかわらず、使用するマグネシウムの使用量に対してモ
ル比で1×10-2〜1000、好ましくは0.1〜10
0、の範囲内である。
【0021】ケイ素、アルミニウムおよびホウ素化合物
の使用量は、上記のマグネシウム化合物の使用量に対し
てモル比で1×10-3〜100、好ましくは0.01〜
1、の範囲内である。
【0022】電子供与性化合物の使用量は、上記のマグ
ネシウム化合物の使用量に対してモル比で1×10-3
10、好ましくは0.01〜5、の範囲内である。
【0023】成分(i) を製造するための固体成分は、上
述のチタン源、マグネシウム源およびハロゲン源、更に
は必要により電子供与体等の他成分を用いて、例えば以
下の様な製造法により製造される。 (イ) ハロゲン化マグネシウムと必要に応じて電子供
与体とチタン含有化合物とを接触させる方法。 (ロ) アルミナまたはマグネシアをハロゲン化リン化
合物で処理し、それにハロゲン化マグネシウム、電子供
与体、チタンハロゲン含有化合物を接触させる方法。 (ハ) ハロゲン化マグネシウムとチタンテトラアルコ
キシドおよび特定のポリマーケイ素化合物を接触させて
得られる固体成分に、チタンハロゲン化合物および(ま
たは)ケイ素のハロゲン化合物を接触させる方法。
【0024】このポリマーケイ素化合物としては、下式
で示されるものが適当である。 (ここで、Rは炭素数1〜10程度の炭化水素残基、
sはこのポリマーケイ素化合物の粘度が1〜100セン
チストークス程度となるような重合度を示す)
【0025】これらのうちでは、メチルハイドロジェン
ポリシロキサン、1,3,5,7‐テトラメチルシクロ
テトラシロキサン、1,3,5,7,9‐ペンタメチル
シクロペンタシロキサン、エチルハイドロジェンポリシ
ロキサン、フェニルハイドロジェンポリシロキサン、シ
クロヘキシルハイドロジェンポリシロキサンなどが好ま
しい。 (ニ) マグネシウム化合物をチタンテトラアルコキシ
ドおよび電子供与体で溶解させて、ハロゲン化剤または
チタンハロゲン化合物で析出させた固体成分に、チタン
化合物を接触させる方法。 (ホ) グリニャール試薬等の有機マグネシウム化合物
をハロゲン化剤、還元剤等と作用させた後、これに必要
に応じて電子供与体とチタン化合物を接触させる方法。 (ヘ) アルコキシマグネシウム化合物にハロゲン化剤
および(または)チタン化合物を電子供与体の存在もし
くは不存在下に接触させる方法。
【0026】成分(ii) 成分(A)を製造するために使用する成分(ii)は、一般
式R1 m Si(OR4-m-n (ただし、Rおよ
びRは炭化水素残基であり、Xはハロゲンであり、m
およびnはそれぞれ0≦m≦3および0≦n≦3であっ
て、しかも0≦m+n≦3である)で表わされるケイ素
化合物である。RおよびRは、それぞれ1〜20程
度、好ましくは1〜10、の炭化水素残基であることが
好ましい。Xは、塩素が少なくとも経済性からいって好
ましい。
【0027】具体例としては、(CH)Si(OCH
、(iCSi(OCH、(CH
)Si(OC、(iC)Si(OC
、(CSi(OCH、(i
Si(OCH、(n−C11)S
i(OCH、(C11Si(OC
、(C)Si(OC、(C
11)(CH)Si(OCH、(n−C
1021)Si(OC、(CSi
(OCH、(CH=CH)Si(OC
、Cl(CHSi(OCH、Si
(OCH、Si(OCCl、(C
Si(OC、(C1735)Si(OC
、Si(OC、(C)Si
(OCH、Si(OCHCl、(C
Si(OCH、(C)(CH)S
i(OCH、(C)Si(OC
、(CSi(OC、N
C(CHSi(OC、(C
(CH)Si(OC、(n−C)S
i(OC、(CH)Si(OC
、(C)(CH)Si(OC
【0028】
【化1】
【0029】
【化2】
【0030】
【化3】
【0031】
【化4】 (CHCSi(CH)(OCH、(CH
CSi(HC(CH)(OCH
(CHCSi(CH)(OC、(C
CSi(CH)(OCH、(C
)(C)CH−Si(CH)(OCH
、((CHCHCH)Si(OCH
C(CHSi(CH)(OC
、CC(CHSi(CH)(O
、(CHCSi(OCH
(CHCSi(OC、(C
CSi(OC、(CH)(C)CH
Si(OCH等があげられる。これらの中で好ま
しいのは、Rのα位の炭素が2級又は3級で炭素数3
〜20の分岐鎖状炭化水素残基を有するケイ素化合物で
ある。
【0032】成分(iii) チーグラー型触媒用固体触媒成分を構成すべき成分(ii
i) は、周期律表第I〜III 族金属の有機金属化合物で
ある。
【0033】有機金属化合物であるからこの化合物は少
なくとも一つの有機基‐金属結合を持つ。その場合の有
機基としては、炭素数1〜10程度、好ましくは1〜6
程度、のヒドロカルビル基が代表的である。
【0034】この化合物中の金属としては、リチウム、
マグネシウム、アルミニウムおよび亜鉛、特にアルミニ
ウム、が代表的である。
【0035】原子価の少なくとも一つを有機基で充足さ
れている有機金属化合物の金属の残りの原子価(もしそ
れがあれば)は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロカル
ビルオキシ基(ヒドロカルビル基は、炭素数1〜10程
度、好ましくは1〜6程度)、あるいは酸素原子を介し
た当該金属(具体的には、メチルアルモキサンの場合の
−O−Al(CH)−)、その他で充足される。
【0036】このような有機金属化合物の具体例を挙げ
れば、(イ)メチルリチウム、n‐ブチルリチウム、第
三ブチルリチウム等の有機リチウム化合物、(ロ)ブチ
ルエチルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、ヘキシ
ルエチルマグネシウム、ブチルマグネシウムクロリド、
第三ブチルマグネシウムブロミド等の有機マグネシウム
化合物、(ハ)ジエチル亜鉛、ジブチル亜鉛等の有機亜
鉛化合物、(ニ)トリメチルアルミニウム、トリエチル
アルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリn‐
ヘキシルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリ
ド、ジエチルアルミニウムヒドリド、ジエチルアルミニ
ウムエトキシド、エチルアルミニウムセスキクロリド、
エチルアルミニウムジクロリド、メチルアルミノキサン
等の有機アルミニウム化合物があげられる。このうちで
は、特に有機アルミニウム化合物および有機亜鉛化合物
が好ましい。有機アルミニウム化合物のさらなる具体例
は、成分(B)として後記する有機アルミニウム化合物
の例示の中に見出すことができる。
【0037】固体触媒成分(A)の調製 成分(i) 〜(iii) の接触方法および使用量は、本発明の
効果が認められる限り任意のものでありうるが、一般的
には、次の条件が好ましい。
【0038】成分(i) と成分(ii)の量比は、成分(i) を
構成するチタン成分に対する成分(ii)のケイ素の原子比
(ケイ素/チタン)で0.01〜1000、好ましくは
0.1〜100、の範囲である。成分(iii) の成分(i)
に対する量比は、有機金属化合物の金属原子比(金属/
チタン)で0.01〜100、好ましくは0.1〜3
0、の範囲である。
【0039】成分(i) 〜(iii) の接触順序および接触回
数は、特に制限はないが、例えば次のような方法があげ
られる。 (イ) 成分(i) →成分(ii)→成分(iii) (ロ) 成分(i) →成分(iii) →成分(ii) (ハ) 成分(i) →{成分(ii)+成分(iii) }→{成分
(ii)+成分(iii) } (ニ) {成分(ii)+成分(iii) }→成分(i) (ホ) 成分(i) 、(ii)および(iii) を同時に接触させ
る方法 (ヘ) (イ)〜(ニ)の方法において、各工程の間に
洗浄工程を行なう方法
【0040】接触温度は、−50〜200℃程度、好ま
しくは0〜100℃程度、である。接触方法としては、
回転ボールミル、振動ミル、ジェットミル、媒体攪拌粉
砕機などによる機械的な方法、不活性稀釈剤の存在下
に、攪拌により接触させる方法などがあげられる。この
とき使用する不活性稀釈剤としては、脂肪族または芳香
族の炭化水素およびハロ炭化水素、ポリシロキサン等が
あげられる。なお、これらの接触に際しては、本発明の
効果を損なわない限りにおいて、成分(i) 〜(iii)以外
のその他の成分、たとえばメチルハイドロジェンポリシ
ロキサン、ホウ酸エチル、アルミニウムトリイソプロポ
キシド、三塩化アルミニウム、四塩化ケイ素、一般式T
i(OR4-t (ただし、0≦t≦4、Rは炭
化水素残基、Xはハロゲンを表わす)で表わされるチタ
ン化合物、三価のチタン化合物、六塩化タングステン、
五塩化モリブデン等を添加することも可能である。
【0041】<成分(B)>成分(B)は、下記の成分
(B1)および成分(B2)の混合物からなる有機アル
ミニウム化合物である。
【0042】成分(B1)は、一般式R3 3-p Al(O
(ただし、RおよびRは、それぞれ炭素数
1〜20、好ましくは1〜10、の炭化水素残基であ
り、pは0<p<3の数である。)で表わされる有機ア
ルミニウム化合物である。
【0043】具体例としては、(CHAl(OC
)、(CAl(OCH)、(C
Al(OC)、(iCAl(O
)、(nCAl(OCH)、(n
Al(OC)、(nC13
l(OC)、(n−C17Al(OC
)、(n−C1021Al(OC)、(C
)Al(OCH、(C)Al(OC
、(iC)Al(OC、(n
)Al(OC、(nC13)Al
(OC13および(n−C1021)Al(OCH
等がある。
【0044】成分(B2)は、一般式R5 3-q AlX
(ただし、Rは炭素数1〜20、好ましくは1〜1
5、の炭化水素残基であり、Xはハロゲンであり、qは
0<q<3の数である。)で表わされる有機アルミニウ
ム化合物である。
【0045】具体例としては、(CHAlCl、
(CAlCl、(CAl
、(C)AlCl、(nCAl
Cl、(iCAlCl、(nC
lCl、(iC)AlCl、(nC13
AlCl、(nC17AlCl、(nC1021
AlClおよび(CAlBr等がある。
【0046】成分(B1)と成分(B2)の使用量は、
成分(B1)に対する成分(B2)のモル比で0.01
〜100の範囲内でよく、好ましくは0.1〜10の範
囲内である。
【0047】また、成分(B)の使用量は、成分(A)
のチタン成分に対するモル比(Al/Ti)で0.01
〜10,000、好ましくは、0.1〜1,000、更
に好ましくは0.5〜100の範囲内である。
【0048】〔II〕オレフィンの重合 本発明によるオレフィンの重合法は、前記した触媒に、
150℃以上の温度でオレフィンを接触させて重合させ
ることからなるものである。
【0049】重合温度の上限は、300℃程度であり、
特に好ましい重合温度は150〜250℃である。
【0050】オレフィンの重合は、実質的に溶媒を用い
ない液相無溶媒重合、溶液重合または気相重合法に従っ
て行なうことができる。重合溶媒を使用するときの溶媒
としては、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、トル
エン、オクタン、デカン、パラフィン、白灯油等の不活
性溶媒が使用可能である。
【0051】重合圧力には特に制限はないが、通常は1
〜1000Kg/cm2 G程度である。
【0052】重合は連続重合、回分式重合のいずれの方
法でも実施することができる。また、重合に際しては、
分子量調節剤として補助的に水素を用いることができ
る。
【0053】本発明で重合するα‐オレフィンは、一般
式R−CH=CH(ここでRは炭素数1〜10の炭化
水素残基であり、分枝基を有してもよい。)で表わされ
る炭素数3以上のα‐オレフィンであって、具体的に
は、プロピレン、ブテン‐1、ペンテン‐1、ヘキセン
‐1、3‐メチル‐ブテン‐1、4‐メチルペンテン‐
1などである。これらの中でも好ましくは、プロピレ
ン、3‐メチル‐ブテン‐1、4‐メチルペンテン‐1
であり、殊にプロピレンが好ましい。
【0054】これらのα‐オレフィンは、単独であるい
は二種以上組合せて使用することができる。
【0055】
【実施例】実施例1 〔成分(A)の製造〕充分に窒素置換したフラスコに脱
水および脱酸素したn‐ヘプタン200ミリリットルを
導入し、次いでMgClを0.4モル、Ti(O−n
を0.8モル導入し、95℃で2時間反応
させた。反応終了後、40℃に温度を下げ、次いでメチ
ルヒドロポリシロキサン(20センチストークスのも
の)を48ミリリットル導入し、3時間反応させた。生
成した固体成分をn‐ヘプタンで洗浄して、固体成分と
した。
【0056】ついで、充分に窒素置換したフラスコに上
記と同様に精製したn‐ヘプタンを50ミリリットル導
入し、上記で合成した固体成分をMg原子換算で0.2
4モル導入した。ついでn‐ヘプタン25ミリリットル
にSiCl0.8モルを混合して30℃、30分間で
フラスコへ導入し、90℃で1時間反応させた。反応終
了後、n‐ヘプタンで洗浄した。
【0057】充分に窒素置換したフラスコに充分に精製
したn‐ヘプタンを50ミリリットル導入し、次いで上
記で得た固体成分を5グラム導入し、次いで成分(ii)の
ケイ素化合物として(CHCSi(CH)(O
CHを1.2ミリリットル導入し、さらに成分(i
ii)のトリエチルアルミニウム3.0グラムをそれぞれ
導入して、30℃で2時間接触させた。次いで、任意成
分としてSiClを5.8ミリリットル、上記の成分
(ii)を1.6ミリリットルおよび上記の成分(iii) をト
リエチルアルミニウム3.0グラムをそれぞれ導入し
て、30℃で2時間接触させた。接触終了後、これをn
‐ヘプタンで充分に洗浄して、成分(A)とした。一部
分をとり出してチタン含量を調べたところ、3.87重
量パーセントであった。
【0058】〔プロピレンの重合〕攪拌および温度制御
装置を有する内容積1.5リットルのステンレス鋼製オ
ートクレーブに、充分に脱水および脱酸素したn‐パラ
フィンを500ミリリットル、成分(B)の成分(B
1)としてAl(C(OC)を50ミ
リグラム、成分(B2)としてAl(CCl
を50ミリグラムをそれぞれ導入し、さらに成分(A)
を100ミリグラム導入し、プロピレンの圧力は重合圧
力9Kg/cm2 G、重合温度170℃、重合時間2時間の
条件で重合した。重合終了後、得られたポリマー溶液を
エタノールにより処理し、ポリマーとn‐パラフィンと
分離し、乾燥してポリマーを得た。その結果、81.6
グラムのポリマーが得られた。このポリマーの20℃の
キシレンに溶解する部分(以下CXS)を調べたとこ
ろ、2.46重量%であった。また、生成ポリマーの分
子量分布を調べたところ、GPCによるQ値で8.9で
あった。
【0059】実施例2 〔成分(A)の製造〕 充分に窒素置換したフラスコに脱水および脱酸素したn
‐ヘプタン200ミリリットルを導入し、次いでMgC
を0.4モル、Ti(O−nCを0.8
モル導入し、95℃で2時間反応させた。反応終了後、
40℃に温度を下げ、次いでメチルヒドロポリシロキサ
ン(20センチストークスのもの)を48ミリリットル
導入し、3時間反応させた。生成した固体成分をn‐ヘ
プタンで洗浄した。
【0060】ついで充分に窒素置換したフラスコに上記
と同様に精製したn‐ヘプタンを50ミリリットル導入
し、上記で合成した固体成分をMg原子換算で0.24
モル導入した。ついでn‐ヘプタン25ミリリットルに
SiCl 0.4モルを混合して30℃、30分間で
フラスコへ導入し、70℃で3時間反応させた。反応終
了後、n‐ヘプタンで洗浄した。次いでn‐ヘプタン2
5ミリリットルにフタル酸クロライド0.024モルを
混合して、70℃、30分間でフラスコに導入し、90
℃で1時間反応させた。
【0061】反応終了後、n‐ヘプタンで洗浄した。次
いでSiCl 20ミリリットルを導入して80℃で
6時間反応させた。反応終了後、n‐ヘプタンで充分に
洗浄した。このもののチタン含量は、1.21重量パー
セントであった。
【0062】充分に窒素置換したフラスコに充分に精製
したn‐ヘプタンを50ミリリットル導入し、次いで上
記で得た成分(i) を5グラム導入し、次いで成分(ii)の
ケイ素化合物として(CHCSi(CH)(O
CHを4.8ミリリットル導入し、次いで任意成
分としてWClを0.5グラム、更に成分(iii) のト
リエチルアルミニウム4.5グラムをそれぞれ導入し、
30℃で2時間接触させた。接触終了後、n‐ヘプタン
で充分に洗浄して、成分(A)とした。なお、成分
(A)中のチタン含量は、1.11重量%であった。
【0063】〔プロピレンの重合〕実施例1の重合条件
において、成分(B)の成分(B1)としてAl(C
(OC)を25ミリグラム、成分(B
2)としてAl(CClを30ミリグラ
ムをそれぞれ導入し、上記で合成した成分(A)を10
0ミリグラム導入した以外は、全く同様に重合を行なっ
た。その結果、106.7グラムのポリマーが得られ、
CXS=1.98重量%、Q値=9.0であった。
【0064】実施例3〜6 〔成分(A)の製造〕実施例1の成分(A)の製造にお
いて、成分(ii)のケイ素化合物および成分(iii) の有機
金属化合物をそれぞれ表1に示すように変更した以外
は、全く同様に製造を行なった。表1は、その結果を示
すものである。 〔プロピレンの重合〕実施例1と全く同様にプロピレン
の重合を行なった。表2は、その結果を示すものであ
る。
【0065】実施例7〜9 実施例2の重合条件において、成分(B)として、表2
に示す成分(B1)および(B2)を使用した以外は、
全く同様に重合を行なった。表2は、その結果を示すも
のである。
【0066】実施例10 実施例7の重合条件において、成分(B)の成分(B
1)として、Al(C(OC)を10
ミリグラム、成分(B2)として、Al(C)C
を15ミリグラムをそれぞれ添加し、重合温度を2
00℃に変更した以外は、全く同様に重合を行なった。
その結果、33.7グラムのポリマーが得られ、CXS
=1.83重量%、Q値=8.8であった。
【0067】比較例1 実施例8の重合条件において、成分(B)として、成分
(B1)のAl(C13)(OCHのみを使用
した以外は、全く同様にプロピレンの重合を行なった。
ポリマーの生成は、認められなかった。
【0068】比較例2 実施例6の重合条件において、成分(B)として成分
(B2)のAl(C)Clのみを使用した以外
は、全く同様にプロピレンの重合を行なった。ポリマー
の生成は、認められなかった。
【0069】
【表1】
【0070】
【表2】
【0071】
【発明の効果】本発明では、150℃以上の高温度条件
下でも高活性でしかも高い立体規則性を有し、分子量分
布が広いオレフィン重合体を製造することが可能である
ことは、「課題を解決するための手段」の項において前
記したところである。
【図面の簡単な説明】
【図1】チーグラー触媒に関する本発明の技術内容の理
解を助けるためのフローチャート図。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記の成分(A)および(B)の組合せか
    らなる触媒に、150℃以上の温度でオレフィンを接触
    させて重合させることを特徴とする、オレフィン重合体
    の製造法。成分(A) 下記の成分(i) 、(ii)および(iii) の接触生成物、成分(i) チタン、マグネシウムおよびハロゲンを必須
    成分として含有するチーグラー型触媒用固体成分、成分(ii) 一般式 R1 m Si(OR4-m-n (ただし、RおよびRは炭化水素残基であり、Xは
    ハロゲンであり、mおよびnはそれぞれ0≦m≦3およ
    び0≦n≦3であって、しかも0≦m+n≦3であ
    る。)で表わされるケイ素化合物、成分(iii) 周期律表第I〜III 族金属の有機金属化合
    物、成分(B) 下記の一般式で表わされる成分(B1)および成分(B
    2)の混合物からなる有機アルミニウム化合物、成分(B1) 一般式R3 3-p Al(OR(ただ
    し、RおよびRは、それぞれ炭素数1〜20の炭化
    水素残基であり、pは0<p<3の数である。)で表わ
    される有機アルミニウム化合物、成分(B2) 一般式R5 3-q AlX(ただし、R
    は炭素数1〜20の炭化水素残基であり、Xはハロゲン
    であり、qは0<q<3の数である。)で表わされる有
    機アルミニウム化合物。
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