JP3088783B2

JP3088783B2 - 高透過性ペリクル

Info

Publication number: JP3088783B2
Application number: JP17475191A
Authority: JP
Inventors: 金子　　靖; 照夫滝口
Original assignee: Asahi Kasei Corp
Current assignee: Asahi Kasei Corp
Priority date: 1991-06-20
Filing date: 1991-06-20
Publication date: 2000-09-18
Anticipated expiration: 2015-09-18
Also published as: JPH04371956A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路の製造
におけるフォトリソグラフ工程で使用されるマスクやレ
ティクルの保護のための高透過性防塵用フィルムカバ
ー、即ち低反射防止層を有する高透過性ペリクルに関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、薄くて透明なフィルムからなるペ
リクルは、半導体集積回路の製造におけるフォトリソグ
ラフ工程で使用されるマスクに固着されており、該ペリ
クルは、所定の距離をおいてマスク上に位置している。

【０００３】従って、フォトリソグラフ工程の操作中に
おいて、こまかな塵埃粒子がペリクルの上に付着して
も、レジスト材を塗布した半導体ウェハー上には結像し
ない。だから、マスクをペリクルで保護することによ
り、塵埃粒子の像による半導体集積回路の短絡や断線を
防ぐことができ、フォトリソグラフ工程の製造歩留まり
が向上する。さらに、マスクのクリーニング回数が減少
して、その寿命を延ばすなどの効果がある。

【０００４】このようなペリクルにおいては、露光工程
におけるスループット向上のために、露光する光の透過
率が高いことが要求される。そのために、透明薄膜の片
面あるいは両面に反射防止層が設けられる。

【０００５】反射防止層の屈折率ｎＡＲが、透明薄膜の
屈折率ｎＣに対してｎＡＲ＝（ｎＣ）^1/2のときに、反
射防止効果は最大となる。一般的に用いられている透明
薄膜には、セルロース誘導体、ポリビニルプチラールな
どがあるが、これらの屈折率は１．５前後であるから、
これらの透明薄膜に用いる反射防止層の屈折率は１．２
２に近いことが好ましい。

【０００６】従来より提案されている反射防止層として
は、特開昭６１−２０９４４９号公報にはテトラフルオ
ロエチレン−ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロ
プロピレンポリマーが、特開平１−１００５４９号公報
にはポリフルオロアクリレートが記載されているが、こ
れらのポリマーの屈折率は１．３５〜１．３７の範囲に
あり、反射防止効果が十分ではなかった。

【０００７】一方、屈折率の小さいポリマーは、特開平
３−３９９６３号公報に、主鎖に環状構造を有するフッ
素ポリマーとして、デュ・ポン社のテフロンＡＦ（商品
名、屈折率１．２９）が提案されている。

【０００８】このポリマーは、分子量が高いためか溶媒
に難溶であり、ごみ除去のための、例えば孔径０．２μ
のフィルターを通らないので、ごみを嫌うペリクルへの
使用には適さないという問題があった。また、スピンコ
ート法などで成膜したときに、薄膜に色斑が生じ、光の
透過率が小さくなるという問題があった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、屈折
率が小さく、溶液の透過性に優れ、かつ、成膜したとき
に色斑の生じない低反射防止層材料を用いることによ
り、光の透過性に優れたペリクルを提供することであ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは上
記の課題を解決すべく鋭意検討の結果、本発明に至っ
た。即ち、本発明は：透明薄膜の少なくとも一方の
面に、一層以上の反射防止層が形成されたペリクルにお
いて、低屈折率反射防止層が、高エネルギー粒子を照射
した主鎖に環状構造を有するフッ素ポリマーであって、
且つ濃度１．５ｇ／ｄｌのパーフルオロトリブチルアミ
ン溶液の２３℃における還元粘度が１．０ｄｌ／ｇ以下
であることを特徴とするペリクルであり、また、

【００１１】透明薄膜がセルロース誘導体である点
に特徴を有し、また、透明薄膜がニトロセルロース
と少なくとも１種以上のセルロース誘導体との混合物で
ある点に特徴を有する。本発明について更に詳細に説明
する。

【００１２】本発明において、ペリクル膜の本体となる
透明薄膜としては、ニトロセルロース、セルロースアセ
テート（酢酸セルロース）、セルロースアセテートプロ
ピオネート（酢酸・プロピオン酸セルロース）、セルロ
ースアセテートブチレート（酢酸・酪酸セルロース）な
どのセルロース誘導体が使用できる。

【００１３】これらのセルロース誘導体は、それぞれ単
独で用いてもよいが、ニトロセルロースでは膜強度、高
湿度下での形状保持性に優れるが、他のセルロース誘導
体に比べて、耐光性が劣り、またセルロースアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、セルロース
アセテートブチレートでは耐光性は優れているが、膜強
度、高湿度下での形状保持性に劣るので、ニトロセルロ
ースとニトロセルロース以外の他のセルロース誘導体の
混合物が好ましく使用できる。

【００１４】ニトロセルロースと他のセルロース誘導体
の混合割合は、膜強度、高湿度下での形状保持および耐
光性を考慮して決定されるが、ニトロセルロースの含有
量は１０〜５０重量％が好ましく、さらに好ましくは、
２０〜４０重量％である。使用するセルロース誘導体
は、高分子量のものほど薄膜の形状保持力が大きいため
好ましい。すなわち、数平均分子量が３万以上、好まし
くは５万以上である。

【００１５】このような材料のうち、ニトロセルロース
は旭化成工業（株）から、また、セルロースアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、セルロース
アセテートブチレートはイーストマンコダック社から市
販されており、容易に入手できる。

【００１６】本発明で使用する主鎖に環状構造を有する
フッ素ポリマーは、下記式（I)の環状構造の繰返単位を
含む共重合体である。

【化１】（ただし、Ｒ₁〜Ｒ₂はＦ又はＣＦ₃である。）

【００１７】これらのうち、下記式(2) の主鎖に環状構
造を有する繰返単位を含むフッ素ポリマーが代表的なも
のである。

【化２】

【００１８】これらのフッ素ポリマーは、パーフルオロ
−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソールをラジカル
重合せしめることにより得られる。また、共重合体は、
上記のパーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオ
キソールと、フルオロオレフィンやフルオロビニルエー
テルなどの含フッ素単量体との共重合により得られる。

【００１９】共重合させる単量体としては、例えば、テ
トラフルオロエチレン、パーフルオロビニルエーテル、
フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレンなとが
挙げられる。さらに、本発明で用いるポリマーは、結晶
を持たない、いわゆる非晶質のものが好ましい。それ
は、微結晶による光の散乱に起因する光の透過損失が起
こらないからである。

【００２０】主鎖に環状構造を有するフッ素ポリマー
は、屈折率が１．２９〜１．３１と、テトラフルオロエ
チレン−ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロプロ
ピレンコポリマーやポリフルオロアクリレートなどの従
来のフッ素ポリマーの屈折率１．３５〜１．３７に比べ
小さく、大きな反射防止効果が得られる。

【００２１】主鎖にこのような環状構造を有するフッ素
ポリマーは、デュ・ポン社のテフロンＡＦ（商品名）と
して入手可能であるが、このポリマーは、分子量が高い
ためか溶媒に難溶であり、ごみ除去のための、例えば孔
径０．２μｍのフィルターを通らないので、ごみを嫌う
ペクリルへの使用には適さないという問題があった。

【００２２】また、スピンコート法などで成膜したとき
に、薄膜に色斑が生じ、光の透過率が小さくなるという
問題があった。そこで、本発明者らはこの問題を解決す
べく鋭意検討の結果、高エネルギー粒子を照射した主鎖
に環状構造を有するフッ素ポリマーであって、且つ濃度
が１．５ｇ／ｄｌのパーフルオロトリブチルアミン溶液
の２３℃における還元粘度が１．０ｄｌ／ｇ以下のもの
から作成した膜を低屈折率反射防止層とした場合に、色
斑がなく、かつ孔径０．２μｍのメンブレンフィルター
を透過し、良好な反射防止膜が形成できることを見出し
た。

【００２３】ここで、還元粘度とは溶液の粘度をη〔se
c 〕、濃度をＣ〔ｇ／ｄｌ〕、純溶媒の粘度をη₀〔se
c 〕としたときに、（η−η₀）／（η₀・Ｃ）で定義
される量である。粘度の測定には毛管粘度計を使用し
た。

【００２４】このような低屈折率反射防止層は、上記主
鎖に環状構造を有するフッ素ポリマーに、γ線、電子
線、中性子線などの高エネルギー粒子を照射することに
よって容易に得られる。

【００２５】低屈折率反射防止層となる上記フッ素ポリ
マーは、セルロース誘導体等の透明薄膜の片面又は両面
に形成して２層又は３層構造とする。或いは、セルロー
ス誘導体等の透明薄膜の片面又は両面に高屈折率反射防
止層を設け、その上に、上記フッ素ポリマー層を設けて
３〜５層構造としてもよい。反射防止層の膜厚は、反射
防止しようとする光の波長の１／（４ｎ）（ｎはフッ素
樹脂の屈折率）とするのが好ましい。

【００２６】高屈折率反射防止層としては、ポリエーテ
ルスルフォン、ポリスチレン、ポリビニルナフタレンな
どが使用できる。本発明の低反射防止層を有するペリク
ル膜の製造法を、セルロース誘導体混合物の透明薄膜の
両面に反射防止層を形成したペリクルを例にとり説明す
る。

【００２７】まず、セルロース誘導体混合物の透明薄膜
体の形成法について述べる。ニトロセルロースとその他
のセルロース誘導体（例えばセルロースアセテート、セ
ルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテ
ートブチレート）とを、所定の混合割合で両者の共通の
良溶媒に溶かす。この混合割合は、膜強度、高湿度下で
の形状保持性および耐光性を考慮して決定されるが、ニ
トロセルロースの含有量は１０〜５０重量％が好まし
く、さらに好ましくは２０〜４０重量％である。

【００２８】共通の良溶媒としては、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどの
ケトン類；酢酸ブチル、酢酸イソブチル、乳酸エチル、
酢酸セロソルブなどのエステル類；およびこれらの溶媒
の混合溶媒が使用される。

【００２９】セルロース誘導体薄膜は、回転塗布法（ス
ピンコーター法）により形成する。即ち、セルロース誘
導体溶液をごみ除去のための濾過の後、ガラスやシリコ
ンなどの平滑基板上に滴下後、回転させる。透明薄膜の
膜厚は、溶液粘度や基板の回転速度を変化させることに
より適宜変化させることができる。平滑基板上に形成さ
れた薄膜に含まれている溶媒は、ホットプレート、オー
ブンなどで揮発させる。

【００３０】つぎに、低屈折率反射防止層の形成法につ
いて述べる。低屈折率反射防止層には、前述の主鎖に環
状構造を有するフッ素ポリマーを用いる。この反射防止
層の屈折率ｎＡＲは透明薄膜の屈折率ｎＣに対して、ｎ
ＡＲ＝（ｎＣ）^1/2の時に、反射防止効果は最大にな
る。上記セルロース誘導体混合物の屈折率は約１．５で
あるから、ｎＡＲは１．２２に近いことが好ましい。

【００３１】溶液の濾過性に優れ、色斑のない膜を作成
するために、低屈折率反射防止層として、上記主鎖に環
状構造を有するフッ素ポリマーに、γ線、電子線、中性
子線などの高エネルギー粒子を照射して、照射後のポリ
マーの１．５ｇ／ｄｌのパーフルオロトリブチルアミン
溶液中２３°Ｃで測定した還元粘度を１．０ｄｌ／ｇ以
下になるようにする。

【００３２】この場合、高エネルギー粒子の照射量が多
すぎると、ポリマーの分解が著しく、均一な薄膜が形成
できなくなるので、均一な薄膜が形成できる程度に抑え
る。γ線の場合、その照射量は１０〜４００ｋＧｙ（Ｇ
ｙ：グレイ＝吸収線量の単位）、好ましくは、５０〜２
５０ｋＧｙである。

【００３３】このようなフッ素ポリマーを、パーフルオ
ロベンゼン、パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフ
ラン）、トリクロロトリフルオロエタン、パーフルオロ
トリブチルアミンなどのフッ素系溶媒に溶かすが、膜表
面が平滑で色斑のない膜を得るためには、沸点の高い溶
媒の方が好ましい。沸点は、好ましくは１３０℃以上、
より好ましくは１６０℃以上である。

【００３４】この溶液をごみ除去のための濾過の後、平
滑基板上に形成された透明薄膜体の上に滴下後、基板を
回転させ反射防止膜を形成する。反射防止膜の膜厚が、
反射防止しようとする光の波長の１／（４ｎ）（ｎはフ
ッ素ポリマーの屈折率）となるように、溶液濃度、基板
回転数を決定する。形成された薄膜に含まれている溶媒
は、風乾、あるいはホットプレート、オーブンなどで加
熱して揮発させ、透明薄膜体／反射防止層からなる２層
膜の形成が完了する。

【００３５】平滑基板上に形成された２層膜を両面テー
プなどをつけた金属又はプラスチックなどの枠によって
剥し取る。この枠と２層膜とをスピンコーターに設置
し、剥離面側に、前述と同様にフッ素樹脂の薄膜を形成
することにより、透明薄膜体の両面に、反射防止層を持
つ３層ペリクル膜が完成する。

【００３６】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれにより限定されるものではない。（参考例）＜試料の調製＞デユポン社製のテフロンＡＦ１６００、ＡＦ２４００
（商品名）に、γ線を照射した。照射線量は、０から２
００ｋＧｙ（Ｇｙ＝グレイ、吸収線量の単位）とした。
これらをパーフルオロトリブチルアミンに溶解させ、
１．５ｇ／ｄｌ溶液とした。

【００３７】これらの溶液を、孔径０．２μｍ、直径１
４３ｍｍのメンブレンフィルターにより、１ｋｇ／ｃｍ
²の圧力でろ過した結果、還元粘度が１．０ｄｌ／ｇ以
下であればろ過可能であるが、１．０ｄｌ／ｇを越える
とフィルターが詰まり、ろ過出来なくなった。

【００３８】

【表１】

【００３９】

【表２】注）×；ろ過不可、△；流量少なくろ過困難、○；非常
に良好。

【００４０】これらの溶液を、膜厚１．３μｍのニトロ
セルロース膜にスピンコーティング法（回転数５００ｒ
ｐｍ、回転時間３０秒）により成膜した。この時、還元
粘度が１．０ｄｌ／ｇ以下のときには色斑がなく、表面
の平滑な膜が形成されたが、１．０ｄｌ／ｇを越えると
色斑、表面の凹凸が生じ易かった。

【００４１】（実施例１）セルロースアセテートプロピ
オネート（イーストマンコダック社製「ＣＡＰ４８２−
２０」、プロピオニル含量４６％、以下ＣＡＰと略記す
る）６ｇと、ニトロセルロース（旭化成工業（株）製、
「ＨＩＧ−２０」硝化度１２．０％、以下ＮＣと略記す
る）４ｇを酢酸エチルセロソルブに溶解し、固形分濃度
７ｇ／ｄｌの溶液を調製した。

【００４２】また、反射防止膜用に、デュ・ポン社の
「テフロンＡＦ２４００」にγ線を１２０ｋＧｙ照射し
たものを、パーフルオロトリブチルアミン（徳山ソーダ
（株）、「ＩＬ−２７０」）に溶かし、１．５ｇ／ｄｌ
の溶液を調製した。この溶液の２３℃での還元粘度は
０．６７ｄｌ／ｇであった。

【００４３】スピンコーターにシリコンウェハーをセッ
トして、調製したＣＡＰ／ＮＣ溶液を、孔径０．２μｍ
のメンブレンフィルターで濾過し、その濾過液を２０ｃ
ｃ滴下し、その後、シリコンウェハーを１０００ｒｐｍ
で４５秒間回転させ、つぎに、ホットプレートで溶媒を
蒸発せしめ、シリコンウェハー上にＣＡＰ／ＮＣからな
る厚さ約１．２μｍの薄膜を形成した。

【００４４】次に、その上に、前記のγ線を照射したテ
フロンＡＦのパーフルオロトリブチルアミン溶液を孔径
０．２μｍのメンブレンフィルターで濾過し、そのろ過
液を３ｃｃ滴下し、６００ｒｐｍで３０秒間回転の後、
風乾し、２層膜を形成した。

【００４５】更に、両面テープなどを付けた金属または
プラスチックなどの枠をつけてシリコンウェハー上より
薄膜を剥離し、１２０ｍｍ×９８ｍｍの長方形アルミフ
レームに、膜をぴんと張り、反射防止膜側をエポキシ系
接着剤で固着した。この膜を高湿度下に３０分放置後、
再び、この膜のＣＡＰ／ＮＣ層側を上にしてスピンコー
ターにセットし、前記のγ線照射テフロンＡＦ溶液を３
ｃｃ滴下し、６００ｒｐｍで３０秒間回転の後、風乾
し、３層膜を形成した。両面に形成された反射防止膜の
膜厚は、各々７３μｍであった。

【００４６】こうして得られたペリクルの反射防止膜
は、水銀ランプからの単色光で観察したところ、表面が
平滑で、色斑のない良好な膜であった。この３層膜ペリ
クルの分光透過率を図１に示す。３５０〜４５０ｎｍ間
の最低光線透過率は９８％であり、平均光線透過率も９
９％と高いものであった。水銀ランプの輝線であるｇ線
（４３６ｎｍ）およびｉ線（３６５ｎｍ）における透過
率は、いずれも９９．８％であり、ｇ線露光、ｉ線露光
のどちらにも、即ち、ｇ線、ｉ線共用ペリクルとして好
ましく使用できる。

【００４７】（実施例２）セルロースアセテートブチレート（イーストマンコダッ
ク社製「ＣＡＢ３８１−２０」、ブチリル含量３７％、
以下ＣＡＢと略記する）６ｇと、ニトロセルロース（旭
化成工業（株）製、「ＨＩＧ−２０」硝化度１２．０
％、以下ＮＣと略記する）４ｇを酢酸エチルセロソルブ
に溶解し、固形分濃度７ｇ／ｄｌの溶液を調製した。

【００４８】高屈折率反射防止層の材料として、ポリス
チレンの１．６ｇ／ｄｌイソプロピルベンゼン溶液を調
製した。低屈折率反射防止層の材料として、前記のデュ
・ポン社製の「テフロンＡＦ１６００」に、γ線を８０
ｋＧｙ照射したものを、パーフルオロトリブチルアミン
（徳山ソーダ（株）製、「ＩＬ−２７０」）に溶かし、
１．５ｇ／ｄｌの溶液を調製した。この溶液の２３℃に
おける還元粘度は０．５３ｄｌ／ｇであった。

【００４９】スピンコーターにシリコンウェハーをセッ
トして、調製したＣＡＢ／ＮＣ溶液を、孔径０．２μｍ
のメンブレンフィルターで濾過し、その濾過液を２０ｃ
ｃ滴下し、その後、シリコンウェハーを１０００ｒｐｍ
で４５秒間回転させ、つぎに、ホットプレートで溶媒を
蒸発せしめ、シリコンウェハー上にＣＡＢ／ＮＣからな
る厚さ約１．３μｍの薄膜を形成した。

【００５０】次に、その上に、ポリスチレンのイソプロ
ピルベンゼン溶液を、孔径０．２μｍのメンブレンフィ
ルターで濾過し、その濾過液を３ｃｃ滴下し、５００ｒ
ｐｍで３０秒間回転の後、風乾し、２層膜を形成した。
更に、その上に前記γ線を８０ｋＧｙ照射したテフロン
ＡＦのパーフルオロトリブチルアミン溶液を孔径０．２
μｍのメンブレンフィルターで濾過し、その濾過液を３
ｃｃ滴下し、６００ｒｐｍで３０秒間回転の後、風乾
し、３層膜を形成した。

【００５１】この低屈折率反射防止膜は、表面が平滑
で、色斑のない良好な膜であった。更に、両面テープな
どを付けた金属またはプラスチックなどの枠をつけてシ
リコンウェハー上より薄膜を剥離し、１２０ｍｍ×９８
ｍｍの長方形アルミフレームに、膜をぴんと張り、反射
防止膜側をエポキシ系接着剤で固着した。

【００５２】再び、この膜のＣＡＢ／ＮＣ層側を上にし
てスピンコーターにセットし、ポリスチレンのイソプロ
ピルベンゼン溶液、γ線照射テフロンＡＦ溶液の順に、
先と同様に塗布し、５層膜を形成した。形成された高屈
折率反射防止膜の膜厚は６３μｍ、低屈折率反射防止膜
の膜厚は７６μｍであった。この５層膜ペリクルの、３
５０〜４５０ｎｍ間の最低光線透過率は９８％であり、
平均光線透過率も９９．５％と高いものだった。

【００５３】（比較例１）デュ・ポン社製の「テフロンＡＦ１６００」をパーフル
オロトリブチルアミン（徳山ソーダ（株）製、「ＩＬ−
２７０」）に溶かし、１．５ｇ／ｄｌの溶液を調製し
た。この溶液の２３℃における還元粘度は、３．４ｄｌ
／ｇであった。この溶液を反射防止層として、実施例２
と同様に３層膜ペリクルを形成した。

【００５４】水銀ランプからの単色光を膜面にあて観察
したところ、膜の中心より放射状に走る筋状の色斑が見
られた。また、光線透過率を測定したところ、斑による
散乱のためか透過率のピーク値が１００％に達しなかっ
た。このときの分光光線透過率を図２に示す。

【００５５】（比較例２）デュ・ポン社製の「テフロンＡＦ１６００」に４０ｋＧ
ｙのγ線を照射し、パーフルオロトリブチルアミン（徳
山ソーダ（株）製、「ＩＬ−２７０」）に溶かし、１．
５ｇ／ｄｌの溶液を調製した。この溶液の２３℃におけ
る還元粘度は、４．３ｄｌ／ｇであった。

【００５６】この溶液を反射防止層用の溶液として、実
施例２と同様に３層膜ペリクルを形成した。水銀ランプ
からの単色光を膜面にあて観察したところ、膜の中心よ
り放射状に走る筋状の色斑が見られた。また、光線透過
率を測定したところ、斑による散乱のためか透過率のピ
ーク値が１００％に達しなかった。

【００５７】

【発明の効果】以上の通り、本発明では、低反射防止層
として、高エネルギー粒子を照射した主鎖に環状構造を
有するフッ素ポリマーであって、且つ還元粘度を１．０
ｄｌ／ｇ以下であるものを使用することによって、溶液
の濾過性が向上し、さらに色斑のないペリクルが得られ
る。本発明の低反射防止層を有するペリクルは、反射防
止波長付近での最低光線透過率が向上し、反射光の干渉
による光線透過率の変動も小さくなるので、平均光線透
過率も向上し、このペリクルを貼ったマスクでは露光工
程におけるスループットが向上する効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１のペリクルの分光光線透過率を示すグ
ラフである。

【図２】比較例１のペリクルの分光光線透過率を示すグ
ラフである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開平１−100549（ＪＰ，Ａ) 特開平３−67262（ＪＰ，Ａ) 特開平３−39963（ＪＰ，Ａ) 特開平３−168642（ＪＰ，Ａ) 特開平４−81756（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03F 1/00 - 1/16

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】透明薄膜の少なくとも一方の面に、一層
以上の反射防止層が形成されたペリクルにおいて、低屈
折率反射防止層が、高エネルギー粒子を照射した主鎖に
環状構造を有するフッ素ポリマーであって、且つ濃度
１．５ｇ／ｄｌのパーフルオロトリブチルアミン溶液の
２３℃における還元粘度が１．０ｄｌ／ｇ以下であるこ
とを特徴とするペリクル。
【請求項２】透明薄膜がセルロース誘導体であること
を特徴とする、請求項１記載のペリクル。
【請求項３】透明薄膜がニトロセルロースと少なくと
も１種以上のセルロース誘導体との混合物であることを
特徴とする、請求項１又は２記載のペリクル。