JP3082013B2 - Laser processing method and apparatus - Google Patents
Laser processing method and apparatusInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ加工に関し、特
にエキシマレーザ等の紫外レーザ光を用いたレーザ加工
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to laser processing, and more particularly to laser processing using ultraviolet laser light such as an excimer laser.
【0002】エキシマレーザ光は、化学結合を切断でき
る高いフォトンエネルギを有し、アブレーションと呼ば
れる光化学反応により熱的な影響を少なくして加工対象
物を選択的に除去することができる。このようなアブレ
ーション法によるレーザ加工が注目を集めている。An excimer laser beam has a high photon energy capable of breaking a chemical bond, and can selectively remove an object to be processed by reducing a thermal effect by a photochemical reaction called ablation. Laser processing by such an ablation method has attracted attention.
【0003】[0003]
【従来の技術】エネルギ密度を調整したエキシマレーザ
光を照射することにより、プラスチック、金属、セラミ
ックス等、種々の物質をアブレーション加工することが
できる。2. Description of the Related Art Various materials such as plastics, metals, and ceramics can be ablated by irradiating an excimer laser beam whose energy density is adjusted.
【0004】アブレーション加工においては、レーザ照
射を受けた加工対象物からデブリと呼ばれる飛散物が加
工部周辺の表面に付着する。ポリイミド等の高分子材料
のレーザアブレーションにおいては、すす状に付着する
デブリの対策としてO2 やHe等のガスを吹き付ける方
法が試みられている。[0004] In the ablation process, scattered matter called debris adheres to a surface around a processing portion from a processing object irradiated with laser. In laser ablation of a polymer material such as polyimide, a method of blowing a gas such as O 2 or He has been attempted as a measure against debris adhering in the form of soot.
【0005】酸化することにより、ガス状態となるC等
に対しては、酸素吹き付けが有効と考えられる。また、
Hと結合させてガス状態に変換する提案もある。また、
分子量の小さいHeは、飛散物との衝突による反作用が
小さいので、吹き付けガスとして有効と考えられてい
る。[0005] It is considered that oxygen spraying is effective for C or the like which becomes a gas state by oxidation. Also,
There is also a proposal to convert to a gas state by combining with H. Also,
He having a small molecular weight is considered to be effective as a blowing gas because He having a small reaction due to collision with flying objects.
【0006】一方、デブリを発生させた後において、レ
ーザ加工時よりも低いエネルギ密度でエキシマレーザビ
ームを照射し、発生したデブリを除去する技術も提案さ
れている。デブリが除去しやすいものである場合は、こ
の方法も有効である。On the other hand, a technique has been proposed in which after generating debris, an excimer laser beam is irradiated at a lower energy density than during laser processing to remove the generated debris. This method is also effective when debris is easily removed.
【0007】磁気記憶装置において、空気力学的な作用
により、磁気ヘッドを磁気ディスク盤の表面から0.1
μm程度の微小な隙間で浮上させるために、微細溝加工
をした磁気ヘッドスライダが用いられる。この磁気ヘッ
ドスライダにアルチック材(Al2 O3 /TiCの複合
焼結体)が用いられる。In a magnetic storage device, a magnetic head is moved from the surface of a magnetic disk by 0.1 mm by an aerodynamic action.
A magnetic head slider with a fine groove is used in order to levitate in a minute gap of about μm. An altic material (a composite sintered body of Al 2 O 3 / TiC) is used for the magnetic head slider.
【0008】従来、磁気ヘッド用アルチック材は、イオ
ンミリングで加工されているが、加工速度が遅いので、
最近高速加工に有利なYAGレーザ加工やエキシマレー
ザによるアブレーション加工が注目されている。Conventionally, altic materials for magnetic heads are processed by ion milling, but the processing speed is slow.
Recently, attention has been focused on YAG laser processing and ablation processing using excimer laser, which are advantageous for high-speed processing.
【0009】しかしながら、アルチックをエキシマレー
ザによるアブレーション加工で加工すると、加工領域周
辺にはデブリが付着し、磁気ヘッドの安定な浮上に重大
な支障をきたす。この場合、レーザアブレーション時に
酸素等のガスを吹き付けてもその効果は少なかった。However, when the Altic is processed by ablation processing using an excimer laser, debris adheres to the periphery of the processing area, causing a serious hindrance to the stable flying of the magnetic head. In this case, even if a gas such as oxygen was blown during laser ablation, the effect was small.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
レーザアブレーション加工は有効な加工方法であるが、
デブリの問題が完全に解決されてはいない。As described above,
Laser ablation processing is an effective processing method,
The problem of debris has not been completely solved.
【0011】本発明の目的は、デブリの問題を低減する
ことができるレーザ加工の技術を提供することである。An object of the present invention is to provide a laser processing technique capable of reducing the problem of debris.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明のレーザ加工方法
は、光透過窓を有し、真空排気可能な容器内に加工対象
物を配置する工程と、容器内を真空状態に排気しつつ、
第1のエネルギ密度の紫外レーザ光を光透過窓から加工
対象物上に照射してアブレーションによるレーザ加工を
行なう工程と、加工対象物の加工領域周辺に付着した飛
散物に前記第1のエネルギ密度より低い第2のエネルギ
密度で紫外レーザ光を照射し、飛散物を除去する工程と
を含み、前記第1のエネルギ密度の紫外レーザ光を照射
する際における前記容器内の雰囲気は、前記加工対象物
に付着したデブリの飛散する範囲が、大気中でアブレー
ション加工をした場合にデブリが飛散する範囲よりも広
くなるような真空度であることを特徴とする。 According to the laser processing method of the present invention, there is provided a step of arranging an object to be processed in a container having a light transmitting window and capable of evacuating, and evacuating the container to a vacuum state.
A step of irradiating an ultraviolet laser beam having a first energy density onto a processing object from a light transmission window to perform laser processing by ablation; and a step of applying the first energy density to a scattered substance attached around a processing area of the processing object. irradiating ultraviolet laser beam at a lower second energy density, see containing and removing the debris, irradiating ultraviolet laser beam of the first energy density
The atmosphere in the container at the time of
The extent to which debris adheres to
Larger than the area where debris scatters when
It is characterized in that the degree of vacuum is such that
【0013】[0013]
【作用】真空状態に排気した減圧下で、レーザアブレー
ションを行なうことにより、デブリ発生を避けることは
できないが、デブリは広い範囲に薄く発生する。このよ
うな軽度のデブリに対し、エネルギ密度を低減した紫外
レーザ光を照射することにより、飛散物を除去し、デブ
リを有効に解決することが可能となる。By performing laser ablation under reduced pressure evacuated to a vacuum state, the generation of debris cannot be avoided, but debris is generated thinly over a wide range. By irradiating such a mild debris with an ultraviolet laser beam having a reduced energy density, it is possible to remove flying objects and effectively solve the debris.
【0014】[0014]
【実施例】従来用いられてきたガス吹き付けは、デブリ
自身を低減または阻止しようとする対策である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Gas blowing, which has been used in the past, is a measure to reduce or prevent debris itself.
【0015】アルチックのレーザ加工においては、一旦
発生したデブリを除去しようとしても、デブリが加工対
象物上に強固に付着し、その除去は容易ではなかった。
したがって、従来の技術によれば、このようなデブリの
問題を解決するためには、デブリの発生自身を低減もし
くは阻止することになろう。しかし、ガス吹き付けでは
良好な結果を得ることができなかった。In the laser processing of Altic, even if debris once generated is to be removed, the debris firmly adheres to the object to be processed, and the removal is not easy.
Therefore, according to the related art, in order to solve such a problem of debris, the generation itself of debris will be reduced or prevented. However, good results could not be obtained with gas blowing.
【0016】本発明者は、発想の転換を行ない、発生す
るデブリを除去しやすいものに変換する対策を求めた。
デブリの発生条件を変更する要素としては、照射するエ
キシマレーザ光のエネルギ密度、繰り返し周波数、波長
等の他、雰囲気、基板温度等の要素が考えられる。The present inventor has sought a measure to change the idea and convert the generated debris into something that can be easily removed.
As factors for changing the debris generation conditions, factors such as the energy density, repetition frequency, and wavelength of the excimer laser beam to be irradiated, as well as factors such as atmosphere and substrate temperature can be considered.
【0017】本発明者は、これらの要素のうち特に雰囲
気の圧力に注目した。図1に、本発明の実施例によるレ
ーザアブレーション加工を示す。図1(A)は、レーザ
アブレーション装置の構成を概略的に示す断面図、図1
(B)はレーザアブレーション加工領域を示す平面図、
図1(C)はクリーニングショット領域を示す平面図で
ある。The inventor paid attention to the pressure of the atmosphere among these factors. FIG. 1 shows a laser ablation process according to an embodiment of the present invention. FIG. 1A is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a laser ablation apparatus.
(B) is a plan view showing a laser ablation processing area,
FIG. 1C is a plan view showing a cleaning shot area.
【0018】図1(A)において、真空チャンバ6は気
密構造を有し、真空排気可能な真空ポンプ5に接続され
ている。真空ポンプ5は、たとえば油回転ポンプやター
ボ分子ポンプで構成される。In FIG. 1A, a vacuum chamber 6 has an airtight structure and is connected to a vacuum pump 5 capable of evacuating. The vacuum pump 5 is constituted by, for example, an oil rotary pump or a turbo molecular pump.
【0019】油回転ポンプを用いた場合、真空チャンバ
6内の真空度は約3×10-3Torrまで排気可能であ
り、ターボ分子ポンプを用いた場合は、真空チャンバ6
内の真空度は約2×10-6Torrまで排気可能であ
る。When an oil rotary pump is used, the degree of vacuum in the vacuum chamber 6 can be evacuated to about 3 × 10 −3 Torr. When a turbo molecular pump is used, the vacuum chamber 6 can be evacuated.
The inside can be evacuated to about 2 × 10 −6 Torr.
【0020】真空チャンバ6は、その一部に石英窓1を
有し、石英窓1を通してレーザ光8を導入することがで
きる。レーザ光8は、たとえばKrFエキシマレーザか
ら発する波長約248nmの紫外レーザ光である。The vacuum chamber 6 has a quartz window 1 in a part thereof, and a laser beam 8 can be introduced through the quartz window 1. The laser beam 8 is, for example, an ultraviolet laser beam having a wavelength of about 248 nm emitted from a KrF excimer laser.
【0021】真空チャンバ6内には、加工試料であるワ
ーク2が載置される加工ステージ3が配置され、加工ス
テージ3には試料移動装置4が接続されている。操作者
が試料移動装置4を操作することにより、加工ステージ
3はその位置を調整することができる。また、レーザ光
8は、石英窓1に入射する前にマスクを透過することに
より、所望パターンに成形される。In the vacuum chamber 6, a processing stage 3 on which a workpiece 2 as a processing sample is mounted is arranged, and a sample moving device 4 is connected to the processing stage 3. When the operator operates the sample moving device 4, the position of the processing stage 3 can be adjusted. The laser beam 8 is formed into a desired pattern by transmitting through a mask before entering the quartz window 1.
【0022】ワーク2を真空チャンバ6内の加工ステー
ジ3上に設置し、その位置を調整した後、真空ポンプ5
で真空チャンバ6内を排気する。所定真空度に真空チャ
ンバ6を排気した後、石英窓1を通してレーザ光8をワ
ーク2の所望領域上に選択的に照射する。レーザ光8が
照射されたワーク2表面は、アブレーションによるレー
ザ加工を受ける。The work 2 is set on the processing stage 3 in the vacuum chamber 6 and its position is adjusted.
To exhaust the inside of the vacuum chamber 6. After evacuating the vacuum chamber 6 to a predetermined degree of vacuum, a laser beam 8 is selectively irradiated onto a desired area of the work 2 through the quartz window 1. The surface of the work 2 irradiated with the laser light 8 is subjected to laser processing by ablation.
【0023】図1(B)は、アブレーション加工領域の
例を示す。加工領域11は、ワーク2の表面の一部であ
り、図示の場合、矩形パターンである。アブレーション
加工領域11を所望条件で加工し、矩形の凹部を作成す
る。この時、加工領域11の周辺にもデブリが付着す
る。アブレーション加工の後、図1(C)に示すよう
に、アブレーション加工領域11よりも広いクリーニン
グ領域12においてクリーニングショットを照射する。
クリーニングショットは加工時よりもエネルギ密度の低
い紫外レーザ光を加工領域11よりも広いクリーニング
領域12に照射する処理である。このクリーニングショ
ットによってデブリを実質的に影響しない程度まで除去
する。FIG. 1B shows an example of an ablation processing area. The processing area 11 is a part of the surface of the work 2 and has a rectangular pattern in the illustrated case. The ablation processing area 11 is processed under desired conditions to form a rectangular recess. At this time, debris also adheres around the processing area 11. After the ablation processing, as shown in FIG. 1C, a cleaning shot is irradiated on a cleaning area 12 wider than the ablation processing area 11.
The cleaning shot is a process of irradiating a cleaning region 12 wider than the processing region 11 with an ultraviolet laser beam having a lower energy density than during processing. The cleaning shot removes debris to such an extent that the debris is not substantially affected.
【0024】テストにおいては、ワーク2として50m
m×2.75mm×0.67mmのアルチック板を用い
た。アブレーション加工時にはエネルギ密度(フルーエ
ンス)4.2J/cm2 で1.2mm×0.76mmの
矩形領域にエキシマレーザ光を1000ショット照射
し、アブレーション加工を行なった。真空雰囲気中での
アブレーション加工により、デブリは大気中におけるア
ブレーション加工よりも広い範囲に飛び、その付着厚さ
は薄くなる。In the test, the work 2 was 50 m
An altic plate of mx 2.75 mm x 0.67 mm was used. At the time of ablation processing, a rectangular area of 1.2 mm × 0.76 mm was irradiated with 1000 shots of excimer laser light at an energy density (fluence) of 4.2 J / cm 2 to perform ablation processing. Due to the ablation process in a vacuum atmosphere, debris flies over a wider range than in the ablation process in the atmosphere, and the thickness of the debris becomes thinner.
【0025】除去したいデブリが存在する領域を含め
て、図1(C)に示すように、アブレーション加工領域
11よりも広いクリーニング領域12にエネルギ密度を
下げた(たとえばフルーエンス約1.5J/cm2 程
度)エキシマレーザ光を照射し、クリーニングを行なっ
た。たとえば、照射面積を1.7mm×1.3mmに拡
大し、10ショットのクリーニングショットを照射し
た。As shown in FIG. 1 (C), the energy density is reduced to the cleaning area 12 wider than the ablation processing area 11 including the area where debris to be removed is present (for example, fluence of about 1.5 J / cm 2). Extent) Cleaning was performed by irradiating an excimer laser beam. For example, the irradiation area was enlarged to 1.7 mm × 1.3 mm, and 10 cleaning shots were irradiated.
【0026】このようなアブレーション加工による結果
を、常圧におけるアブレーション加工と比較して図2に
示す。図2(A)は、真空雰囲気で行なったアブレーシ
ョン加工後のワーク表面の状態を示す。アブレーション
加工領域11の周囲に、薄膜状にデブリ14が付着し、
デブリ14による干渉縞が観測される。FIG. 2 shows the result of such ablation processing in comparison with the ablation processing at normal pressure. FIG. 2A shows a state of a work surface after ablation processing performed in a vacuum atmosphere. Debris 14 adheres in a thin film around the ablation region 11,
Interference fringes due to debris 14 are observed.
【0027】図2(B)は、大気中で行なったアブレー
ション加工後の試料表面の状態を示す。アブレーション
加工領域11の周辺に、黒っぽいデブリ15が高濃度に
付着した。この場合、干渉縞はほとん観測されなかっ
た。FIG. 2B shows the state of the sample surface after ablation processing performed in the atmosphere. Around the ablation processing area 11, dark debris 15 adhered at a high concentration. In this case, almost no interference fringes were observed.
【0028】図2(C)は、(A)で得られた材料を大
気中でアブレーション加工領域11よりも広いクリーニ
ング領域12にエネルギ密度を下げたエキシマレーザ光
を照射した結果を示す。FIG. 2C shows a result obtained by irradiating the material obtained in FIG. 2A with an excimer laser beam having a reduced energy density to a cleaning region 12 wider than the ablation region 11 in the air.
【0029】エキシマレーザ光のエネルギ密度は、フル
ーエンス1.5J/cm2 程度に低減され、照射面積は
1.7mm×1.3mm程度に拡大された。このような
エキシマレーザ光を10ショット照射した。The energy density of the excimer laser light was reduced to about 1.5 J / cm 2 of fluence, and the irradiation area was expanded to about 1.7 mm × 1.3 mm. Such excimer laser light was irradiated for 10 shots.
【0030】その結果、エネルギ密度を下げたエキシマ
レーザ光を照射したクリーニング領域12内において
は、デブリがほとんど消滅し、その外側のエキシマレー
ザ光を照射されなかった領域にのみデブリ14aが残留
した。As a result, debris almost disappeared in the cleaning region 12 irradiated with the excimer laser light with reduced energy density, and the debris 14a remained only in the outer region where the excimer laser light was not irradiated.
【0031】図2(D)は、常圧でアブレーション加工
を行なった図2(B)の試料に対し、図2(C)と同等
のクリーニング照射を行なった結果を示す。アブレーシ
ョン加工領域11の周囲に形成されたデブリ15は、図
中15aに示すように減少したが、完全に除去すること
はできなかった。FIG. 2 (D) shows the result of performing the same cleaning irradiation as in FIG. 2 (C) on the sample of FIG. 2 (B) which has been ablated at normal pressure. The debris 15 formed around the ablation region 11 was reduced as shown by 15a in the figure, but could not be completely removed.
【0032】クリーニング領域12内のみを考察する
と、真空雰囲気下で行なった図2(C)のクリーニング
は、デブリの問題をほぼ完全に解決しているが、常圧下
で行なった図2(D)の結果は、デブリの問題を解消し
ていない。Considering only the inside of the cleaning region 12, the cleaning in FIG. 2C performed in a vacuum atmosphere almost completely solves the problem of debris, but the cleaning in FIG. 2D performed under normal pressure. The results do not solve the problem of debris.
【0033】なお、同時に行なった種々の実験結果よ
り、アブレーション加工時のレーザ照射頻度は200H
zよりも50Hzのほうが好ましく、熱的影響が少ない
繰り返し周波数の低いレーザ光照射のほうが加工エッジ
がシャープであった。From the results of various experiments performed simultaneously, the frequency of laser irradiation during ablation was 200H.
50 Hz is more preferable than z, and the processing edge is sharper in the case of laser light irradiation having a low repetition frequency with less thermal influence.
【0034】また、真空中でのアブレーション加工の加
工速度と、常圧下でのアブレーション加工の加工速度を
比較すると、真空中では約0.035μm/ショットで
あるのに対し、大気中では0.028μm/ショットで
あり、真空中のほうが加工速度が速かった。なお、この
データを得たテストにおける真空度は、約4.5×10
-3Torrであった。Comparing the processing speed of the ablation processing in vacuum with the processing speed of the ablation processing under normal pressure, it is about 0.035 μm / shot in vacuum, while it is 0.028 μm / shot in air. / Shot, and the processing speed was higher in vacuum. The degree of vacuum in the test for obtaining this data was about 4.5 × 10
-3 Torr.
【0035】真空度は、大気圧である760Torrか
ら3.5×10-3 Torrまで段階的に変化させた
が、得られた結果は真空度に応じて変化した。ガス中を
飛来する粒子の平均自由行程を考察すると、平均自由行
程は圧力に反比例することが予測される。圧力が低くな
るほど、平均自由行程は長くなり、レーザアブレーショ
ンによって発生した飛散物は、雰囲気ガスの影響を受け
ずに遠くまで飛散することができるものと考えられる。The degree of vacuum was changed stepwise from the atmospheric pressure of 760 Torr to 3.5 × 10 −3 Torr, but the obtained result changed according to the degree of vacuum. Considering the mean free path of particles flying in a gas, it is expected that the mean free path is inversely proportional to pressure. It is considered that the lower the pressure, the longer the mean free path, and the scattered matter generated by laser ablation can scatter far away without being affected by the atmospheric gas.
【0036】どの範囲までデブリが及ぶかは、衝撃波理
論から R=(P0 /E0 )1/3 (ここで、R:デブリ飛散半径、P0 :雰囲気圧力、E
0 :デブリの運動エネルギ)で示され、排気雰囲気下で
はデブリが広い範囲に及ぶ現象は理解できる。したがっ
て、排気された雰囲気下でレーザアブレーション加工を
行なえば、デブリは広い範囲に薄く分布することにな
る。The extent to which debris extends is determined from the shock wave theory as follows: R = (P 0 / E 0 ) 1/3 (where, R: debris scattering radius, P 0 : atmosphere pressure, E
0 : kinetic energy of debris), and the phenomenon that debris spreads over a wide range under an exhaust atmosphere can be understood. Therefore, if laser ablation is performed in an evacuated atmosphere, debris will be thinly distributed over a wide range.
【0037】広い範囲に薄く形成されたデブリが、低い
エネルギ密度のクリーニング照射により効率的に除去で
きた現象は、上述のように考察することによって理解さ
れるであろう。The phenomenon in which debris formed thinly over a wide area can be efficiently removed by low-energy-density cleaning irradiation will be understood from the above discussion.
【0038】なお、アブレーション加工時における雰囲
気圧力は材料によって異なるが、アルチックセラミック
スの場合は、雰囲気圧力は約10Torr以下にするこ
とが好ましいと判った。なお、アブレーション加工時は
減圧雰囲気で加工を行なうことが必要であるが、クリー
ニング照射においては雰囲気は必ずしも常圧下である必
要はない。アブレーション加工を減圧雰囲気で行ない、
そのまま減圧雰囲気でクリーニング照射を行なう方が好
ましいが、作業効率の面から、どちらの条件を採用して
も良い。Although the atmospheric pressure during the ablation process varies depending on the material, it has been found that the atmospheric pressure is preferably set to about 10 Torr or less in the case of the Altic ceramics. It is necessary to perform the processing in a reduced pressure atmosphere during the ablation processing, but the atmosphere does not necessarily need to be under normal pressure during the cleaning irradiation. Perform ablation processing in a reduced pressure atmosphere,
Although it is preferable to perform cleaning irradiation in a reduced pressure atmosphere as it is, either condition may be adopted from the viewpoint of working efficiency.
【0039】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。たとえば、
種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者
に自明であろう。The present invention has been described in connection with the preferred embodiments.
The present invention is not limited to these. For example,
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.
【0040】[0040]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
レーザ加工におけるデブリの影響を低減することができ
る。As described above, according to the present invention,
The effect of debris in laser processing can be reduced.
【図1】本発明の実施例によるレーザアブレーションを
説明するための図である。図1(A)は、レーザアブレ
ーション装置の構成を概略的に示す断面図、図1
(B)、(C)は、レーザアブレーション加工を説明す
るための平面図である。FIG. 1 is a diagram for explaining laser ablation according to an embodiment of the present invention. FIG. 1A is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a laser ablation apparatus.
(B), (C) is a top view for explaining laser ablation processing.
【図2】本発明の実施例によるレーザアブレーションを
従来技術によるレーザアブレーションと比較して示す平
面図である。FIG. 2 is a plan view showing laser ablation according to an embodiment of the present invention as compared with laser ablation according to the related art.
1 石英窓 2 ワーク 3 加工ステージ 4 試料移動装置 5 真空ポンプ 6 真空チャンバ 8 レーザ光 11 加工領域 12 クリーニング領域 14、15 デブリ Reference Signs List 1 quartz window 2 work 3 processing stage 4 sample moving device 5 vacuum pump 6 vacuum chamber 8 laser beam 11 processing area 12 cleaning area 14, 15 debris
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C04B 41/80 C04B 41/80 A (56)参考文献 特開 平4−158998(JP,A) 特開 平3−248794(JP,A) 特開 平3−268889(JP,A) 特開 昭53−44996(JP,A) 特開 平2−290687(JP,A) 特開 平2−289478(JP,A) 特開 平2−182389(JP,A) 特開 平1−321088(JP,A) 特開 平3−62831(JP,A)──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI C04B 41/80 C04B 41/80 A (56) References JP-A-4-158998 (JP, A) JP-A-3-248794 ( JP, A) JP-A-3-268889 (JP, A) JP-A-53-44996 (JP, A) JP-A-2-290687 (JP, A) JP-A-2-289478 (JP, A) JP JP-A-2-182389 (JP, A) JP-A-1-3211088 (JP, A) JP-A-3-62831 (JP, A)
Claims (3)
する工程と、 第1のエネルギ密度の紫外レーザ光を、加工対象物に照
射してアブレーションによるレーザ加工を行なう工程
と、加工対象物に付着したデブリに 前記第1のエネルギ密度
より低い第2のエネルギ密度で紫外レーザ光を照射し、
デブリを除去する工程とを含むレーザ加工方法におい
て、 前記第1のエネルギ密度の紫外レーザ光を照射する際に
おける前記容器内の雰囲気は、前記加工対象物に付着し
たデブリの飛散する範囲が、大気中でアブレーション加
工をした場合にデブリが飛散する範囲よりも広くなるよ
うな真空度であることを特徴とするレーザ加工方法。 Disposing a 1. A workpiece in a vacuum evacuable vessel, the ultraviolet laser beam of the first energy density, performs laser processing by ablation irradiation <br/> shines in the object A step and irradiating the debris attached to the processing object with an ultraviolet laser beam at a second energy density lower than the first energy density,
Laser processing method odor comprising the step of removing the debris
Te, when irradiating the ultraviolet laser beam of the first energy density
The atmosphere in the container adheres to the workpiece.
The area where debris scatters is ablated in the atmosphere.
It will be wider than the debris scattered if you work
A laser processing method characterized in that the degree of vacuum is such.
外レーザ光がエキシマレーザ光である請求項1記載のレ
ーザ加工方法。2. The laser processing method according to claim 1, wherein the object to be processed is an Altic material , and the ultraviolet laser light is excimer laser light.
求項2記載のレーザ加工方法。 3. The method according to claim 1, wherein the degree of vacuum is 10 Torr or less.
The laser processing method according to claim 2.
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