JP3030157B2 - シクロヘキサントリオール誘導体 - Google Patents
シクロヘキサントリオール誘導体Info
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- JP3030157B2 JP3030157B2 JP4087463A JP8746392A JP3030157B2 JP 3030157 B2 JP3030157 B2 JP 3030157B2 JP 4087463 A JP4087463 A JP 4087463A JP 8746392 A JP8746392 A JP 8746392A JP 3030157 B2 JP3030157 B2 JP 3030157B2
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
- C07D493/02—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D493/04—Ortho-condensed systems
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07D261/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings
- C07D261/20—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
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- C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
- C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D311/76—Benzo[c]pyrans
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07D317/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D317/08—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
- C07D317/44—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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- Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なシクロヘキサント
リオール誘導体に関する。さらに詳しくは、各種の１α
−ヒドロキシビタミンＤ誘導体、殊に２β−位に置換基
を有する１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体、例えば２
β−ヒドロキシプロポキシ−１α，２５−ジヒドロキシ
ビタミンＤ3などを合成するための重要なＡ−環合成部
分(keyA-ring synthons)として有用な１α，２β，３β
−シクロヘキサントリオール誘導体に関する。
リオール誘導体に関する。さらに詳しくは、各種の１α
−ヒドロキシビタミンＤ誘導体、殊に２β−位に置換基
を有する１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体、例えば２
β−ヒドロキシプロポキシ−１α，２５−ジヒドロキシ
ビタミンＤ3などを合成するための重要なＡ−環合成部
分(keyA-ring synthons)として有用な１α，２β，３β
−シクロヘキサントリオール誘導体に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、ビタミンＤ研究の進展に伴い、上
記の１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体を始め、数多く
の１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体が医薬品として開
発されてきているが、これらの製造だけでなく医薬品と
して開発する上で必須となる代謝物や分解物あるいは標
識化合物を合成するためにはコンバージェントな合成法
が有用である。
記の１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体を始め、数多く
の１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体が医薬品として開
発されてきているが、これらの製造だけでなく医薬品と
して開発する上で必須となる代謝物や分解物あるいは標
識化合物を合成するためにはコンバージェントな合成法
が有用である。
【０００３】血中持続性の高い骨粗鬆治療薬としてその
実用化が期待されている２β−ヒドロキシプロポキシ−
１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ3は、従来、ステ
ロイド化合物を出発原料に用い、そのＡ環部分をエポキ
シ化した後に開環することによって２位にヒドロキシア
ルコキシ基を導入する方法で合成することが提案されて
いるが［例えばU.S.Patent No. ４,６６６,６３４（＝
特開昭６１−２６７５４９号公報）参照］、原料の入手
が困難であること、最終工程が収率の低い光反応である
ことなどの欠点がある。
実用化が期待されている２β−ヒドロキシプロポキシ−
１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ3は、従来、ステ
ロイド化合物を出発原料に用い、そのＡ環部分をエポキ
シ化した後に開環することによって２位にヒドロキシア
ルコキシ基を導入する方法で合成することが提案されて
いるが［例えばU.S.Patent No. ４,６６６,６３４（＝
特開昭６１−２６７５４９号公報）参照］、原料の入手
が困難であること、最終工程が収率の低い光反応である
ことなどの欠点がある。
【０００４】また、コンバージェントな１α−ヒドロキ
シビタミンＤ誘導体の合成法としては、例えば、（Ｓ）
−（＋）−カルボンを原料とする方法［ジヤーナル オ
ブオーガニツク ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ
Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、５１巻、３
０９８−３１０８頁（１９８６年）参照］、（Ｒ）−
（−）−カルボンを原料とする方法［ジヤーナル オブ
オーガニツク ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ
Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、５４巻、３
５１５−３５１７頁（１９８９年）参照］、シクロヘキ
センジカルボン酸エステルを用いる方法［テトラヘドロ
ン レターズ（ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔｅｒ
ｓ）、３１巻、１５７７−１５８０頁（１９９０年）参
照］などにより１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体のＡ
−環構成部分（Ａ−ｒｉｎｇ ｓｙｎｔｈｏｎｓ）を合
成し、ＣＤ環構成部分（ＣＤ−ｒｉｎｇ ｓｙｎｔｈｏ
ｎｓ）と結合させる方法が報告されている。
シビタミンＤ誘導体の合成法としては、例えば、（Ｓ）
−（＋）−カルボンを原料とする方法［ジヤーナル オ
ブオーガニツク ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ
Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、５１巻、３
０９８−３１０８頁（１９８６年）参照］、（Ｒ）−
（−）−カルボンを原料とする方法［ジヤーナル オブ
オーガニツク ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ
Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、５４巻、３
５１５−３５１７頁（１９８９年）参照］、シクロヘキ
センジカルボン酸エステルを用いる方法［テトラヘドロ
ン レターズ（ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔｅｒ
ｓ）、３１巻、１５７７−１５８０頁（１９９０年）参
照］などにより１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体のＡ
−環構成部分（Ａ−ｒｉｎｇ ｓｙｎｔｈｏｎｓ）を合
成し、ＣＤ環構成部分（ＣＤ−ｒｉｎｇ ｓｙｎｔｈｏ
ｎｓ）と結合させる方法が報告されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の方法は出発原料が高価であること、工業上入手が困難
又は使用に制限がある化合物の使用を必要とすること、
重要な中間体までの合成ルートが長く及び／または煩雑
であること、等の欠点があり、工業的に実施する上で必
ずしも満足できるものではない。
の方法は出発原料が高価であること、工業上入手が困難
又は使用に制限がある化合物の使用を必要とすること、
重要な中間体までの合成ルートが長く及び／または煩雑
であること、等の欠点があり、工業的に実施する上で必
ずしも満足できるものではない。
【０００６】しかも、上記文献に記載の方法はいずれも
２−位に置換基を有しない１α−ヒドロキシビタミンＤ
誘導体の合成に関するものであり、従来、２β−ヒドロ
キシプロポキシ−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ
3のように２−位に置換基を有する１α−ヒドロキシビ
タミンＤ誘導体の合成に適用可能なＡ−環構成部分は知
られていない。
２−位に置換基を有しない１α−ヒドロキシビタミンＤ
誘導体の合成に関するものであり、従来、２β−ヒドロ
キシプロポキシ−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ
3のように２−位に置換基を有する１α−ヒドロキシビ
タミンＤ誘導体の合成に適用可能なＡ−環構成部分は知
られていない。
【０００７】しかして、本発明の目的は、入手容易で安
価な原料を出発原料として用い、比較的短工程で製造す
ることができる、１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体、
殊に２−位に置換基を有する１α−ヒドロキシビタミン
Ｄ誘導体の合成に際してＡ−環構成部分として有用な新
規なシクロヘキサントリオール誘導体を提供するにあ
る。
価な原料を出発原料として用い、比較的短工程で製造す
ることができる、１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体、
殊に２−位に置換基を有する１α−ヒドロキシビタミン
Ｄ誘導体の合成に際してＡ−環構成部分として有用な新
規なシクロヘキサントリオール誘導体を提供するにあ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式
【０００９】
【化２】
【００１０】式中、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３は同一また
は相異なり、各々水素原子または水酸基の保護基を表
し、Ｘは酸素原子、＝ＣＨＣＨ２ＯＲ４基、＝ＣＨＣＨ
Ｏ基または＝ＣＨＣＯ２Ｒ５基を表し、そしてＹは水素
原子を表し且つＺは−ＯＲ６基を表すか又はＹとＺは一
緒になって単結合を表し；或いはＸとＺは一緒になって
＝ＮＯ−基、＝ＣＨＣＨ（ＯＲ７）Ｏ−基または＝ＣＨ
ＣＯ２−基を表し、且つＹは水素原子を表し、Ｒ４およ
びＲ６は水素原子または水酸基の保護基を表し、Ｒ５は
低級アルキル基を表し、Ｒ７は水素原子または低級アル
キル基を表す、で示されるシクロヘキサントリオール誘
導体が提供される。
は相異なり、各々水素原子または水酸基の保護基を表
し、Ｘは酸素原子、＝ＣＨＣＨ２ＯＲ４基、＝ＣＨＣＨ
Ｏ基または＝ＣＨＣＯ２Ｒ５基を表し、そしてＹは水素
原子を表し且つＺは−ＯＲ６基を表すか又はＹとＺは一
緒になって単結合を表し；或いはＸとＺは一緒になって
＝ＮＯ−基、＝ＣＨＣＨ（ＯＲ７）Ｏ−基または＝ＣＨ
ＣＯ２−基を表し、且つＹは水素原子を表し、Ｒ４およ
びＲ６は水素原子または水酸基の保護基を表し、Ｒ５は
低級アルキル基を表し、Ｒ７は水素原子または低級アル
キル基を表す、で示されるシクロヘキサントリオール誘
導体が提供される。
【００１１】本発明により提供される上記式（Ｉ）のシ
クロヘキサントリオール誘導体は、血中持続性の高い骨
粗鬆治療薬としてその臨床応用が期待されている２β−
ヒドロキシプロポキシ−１α，２５−ジヒドロキシビタ
ミンＤ3の合成中間体(A-ringsynthons)として有用であ
り、さらにまた、慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、二
次性副甲状腺機能亢進症、骨軟化症、骨粗鬆症などのカ
ルシウム代謝の欠陥症の治療に有効とされている１α−
ヒドロキシビタミンＤ3、１α，２５−ジヒドロキシビ
タミンＤ3、１α−ヒドロキシビタミンＤ2、２４−エピ
−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ2などの１α−
ヒドロキシビタミンＤ誘導体、および乾癬等の皮膚疾患
や骨髄性白血病などの細胞分化機能に異常をきたした疾
患の治療に効果が期待されている１α，２４−ジヒドロ
キシビタミンＤ3、２２−オキサ−１α，２５−ジヒド
ロキシビタミンＤ3、２２−デヒドロ−２６，２７−シ
クロ−１α，２４−ジヒドロキシビタミンＤ3などの１
α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体の合成中間体としても
極めて有用である。
クロヘキサントリオール誘導体は、血中持続性の高い骨
粗鬆治療薬としてその臨床応用が期待されている２β−
ヒドロキシプロポキシ−１α，２５−ジヒドロキシビタ
ミンＤ3の合成中間体(A-ringsynthons)として有用であ
り、さらにまた、慢性腎不全、副甲状腺機能低下症、二
次性副甲状腺機能亢進症、骨軟化症、骨粗鬆症などのカ
ルシウム代謝の欠陥症の治療に有効とされている１α−
ヒドロキシビタミンＤ3、１α，２５−ジヒドロキシビ
タミンＤ3、１α−ヒドロキシビタミンＤ2、２４−エピ
−１α，２５−ジヒドロキシビタミンＤ2などの１α−
ヒドロキシビタミンＤ誘導体、および乾癬等の皮膚疾患
や骨髄性白血病などの細胞分化機能に異常をきたした疾
患の治療に効果が期待されている１α，２４−ジヒドロ
キシビタミンＤ3、２２−オキサ−１α，２５−ジヒド
ロキシビタミンＤ3、２２−デヒドロ−２６，２７−シ
クロ−１α，２４−ジヒドロキシビタミンＤ3などの１
α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体の合成中間体としても
極めて有用である。
【００１２】本明細書において、「低級」なる語は、こ
の語が付された基又は化合物の炭素数が６個以下、好ま
しくは４個以下であることを意味するために用いる。
の語が付された基又は化合物の炭素数が６個以下、好ま
しくは４個以下であることを意味するために用いる。
【００１３】上記一般式（Ｉ）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ
3、Ｒ4および／またはＲ6によって表されうる水酸基の
保護基は、分子の他の部分に実質的に悪影響を及ぼすこ
となく、例えば加水分解、加水素分解などの保護基離脱
手段によって除去しうる任意の保護基であることがで
き、具体的には例えば次のものが挙げられる。
3、Ｒ4および／またはＲ6によって表されうる水酸基の
保護基は、分子の他の部分に実質的に悪影響を及ぼすこ
となく、例えば加水分解、加水素分解などの保護基離脱
手段によって除去しうる任意の保護基であることがで
き、具体的には例えば次のものが挙げられる。
【００１４】（ｉ） 式ＲaＣＯ−で示されるアシル基
［ここで、Ｒaは水素原子、Ｃ1〜Ｃ8アルキル基、Ｃ1〜
Ｃ4ハロアルキル基、アリール基を表わす］：例えばホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチ
リル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、カプロイ
ル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル基など； （ii） 式ＲbＯＣＯ−で示されるアルコキシカルボニ
ル基［ここで、Ｒbは低級アルキル基、低級アルケニル
基、Ｃ7〜Ｃ9アラルキル基、アリール基を表わす］：例
えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、アリル
オキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、フェノ
キシカルボニル基など； 一もしくは相異なり、各々低級アルキル基、アリール基
又はＣ7〜Ｃ9アラルキル基を表わす］：例えば、トリメ
チルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリ
ル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチ
ルジフェニルシリル、トリベンジルシリル基など； 宜低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルキ
ル基を表わし、Ｒg及びＲg′は各々水素原子または低級
アルキル基を表わす］：例えば、メトキシメチル、メト
キシエトキシメチル、１−エトキシエチル、メトキシイ
ソプロピル基など； （ｖ） 式
［ここで、Ｒaは水素原子、Ｃ1〜Ｃ8アルキル基、Ｃ1〜
Ｃ4ハロアルキル基、アリール基を表わす］：例えばホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチ
リル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、カプロイ
ル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル基など； （ii） 式ＲbＯＣＯ−で示されるアルコキシカルボニ
ル基［ここで、Ｒbは低級アルキル基、低級アルケニル
基、Ｃ7〜Ｃ9アラルキル基、アリール基を表わす］：例
えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、アリル
オキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、フェノ
キシカルボニル基など； 一もしくは相異なり、各々低級アルキル基、アリール基
又はＣ7〜Ｃ9アラルキル基を表わす］：例えば、トリメ
チルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリ
ル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチ
ルジフェニルシリル、トリベンジルシリル基など； 宜低級アルコキシ基で置換されていてもよい低級アルキ
ル基を表わし、Ｒg及びＲg′は各々水素原子または低級
アルキル基を表わす］：例えば、メトキシメチル、メト
キシエトキシメチル、１−エトキシエチル、メトキシイ
ソプロピル基など； （ｖ） 式
【００１５】
【化３】
【００１６】で示される２−オキサシクロアルキル基
［ここで、ｎは３〜６の整数である］：例えばテトラヒ
ドロフラニル、テトラヒドロピラニル基など。また、Ｒ
1とＲ2又はＲ2とＲ3は一緒になって式
［ここで、ｎは３〜６の整数である］：例えばテトラヒ
ドロフラニル、テトラヒドロピラニル基など。また、Ｒ
1とＲ2又はＲ2とＲ3は一緒になって式
【００１７】
【化４】
【００１８】で示されるアセタール基［ここで、Ｒh及
びＲiは同一もしくは相異なり、各々水素原子、低級ア
ルキル基、アリール基又はＣ7〜Ｃ11アラルキル基を表
わす］、例えば、エチリデン、イソプロピリデン、ベン
ジリデン基などを形成していてもよい。
びＲiは同一もしくは相異なり、各々水素原子、低級ア
ルキル基、アリール基又はＣ7〜Ｃ11アラルキル基を表
わす］、例えば、エチリデン、イソプロピリデン、ベン
ジリデン基などを形成していてもよい。
【００１９】しかして、水酸基の保護基として好適なも
のは、Ｒ1およびＲ3の場合は、アセチル、ピバロイル、
ベンゾイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェ
ニルシリル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチ
ル、１−エトキシエチルまたはテトラヒドロピラニル基
であり；Ｒ2の場合は、アセチル、ピバロイル、ベンゾ
イル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニル基
であり；Ｒ4の場合は、テトラヒドロピラニル、エトキ
シエチルまたはメトキシイソプロピル基であり；そして
Ｒ6の場合は、１−エトキシエチル、テトラヒドロピラ
ニル、メトキシイソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリルまたはトリエチルシリル基である。また、Ｒ1
とＲ2は一緒になってイソプロピリデン基を形成するこ
ともできる。
のは、Ｒ1およびＲ3の場合は、アセチル、ピバロイル、
ベンゾイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェ
ニルシリル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチ
ル、１−エトキシエチルまたはテトラヒドロピラニル基
であり；Ｒ2の場合は、アセチル、ピバロイル、ベンゾ
イル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニル基
であり；Ｒ4の場合は、テトラヒドロピラニル、エトキ
シエチルまたはメトキシイソプロピル基であり；そして
Ｒ6の場合は、１−エトキシエチル、テトラヒドロピラ
ニル、メトキシイソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリルまたはトリエチルシリル基である。また、Ｒ1
とＲ2は一緒になってイソプロピリデン基を形成するこ
ともできる。
【００２０】より好適な水酸基の保護基としては、Ｒ1
の場合は、アセチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
又はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基であり；Ｒ2
の場合は、アセチル又はメトキシカルボニル基であり；
Ｒ3の場合は、アセチル、メトキシメチル、１−エトキ
シエチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル又はｔｅｒ
ｔ−ブチルジフェニルシリル基であり、Ｒ4の場合は、
テトラヒドロピラニル基であり、そしてＲ6の場合は、
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基である。また、Ｒ1
とＲ2は一緒になってイソプロピリデン基を形成するこ
ともできる。
の場合は、アセチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
又はｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基であり；Ｒ2
の場合は、アセチル又はメトキシカルボニル基であり；
Ｒ3の場合は、アセチル、メトキシメチル、１−エトキ
シエチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル又はｔｅｒ
ｔ−ブチルジフェニルシリル基であり、Ｒ4の場合は、
テトラヒドロピラニル基であり、そしてＲ6の場合は、
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基である。また、Ｒ1
とＲ2は一緒になってイソプロピリデン基を形成するこ
ともできる。
【００２１】一方、Ｒ5およびＲ7が表しうる低級アルキ
ル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、
ペンチル、ヘキシル基などを挙げることができ、中で
も、メチル、エチル、イソプロピル基が好適である。
ル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、
ペンチル、ヘキシル基などを挙げることができ、中で
も、メチル、エチル、イソプロピル基が好適である。
【００２２】しかして、前記一般式（Ｉ）で示される化
合物の中、好適なものとしては、同式中、Ｒ1が水素原
子、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、トリエチルシリル、トリ
イソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、メトキシメチ
ル、メトキシエトキシメチル、１−エトキシエチルまた
はテトラヒドロピラニル基を表わし；Ｒ2が水素原子、
アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、メトキシカルボニ
ルまたはエトキシカルボニル基を表すか、或いはＲ1と
Ｒ2は一緒になってイソプロピリデン基を表わし；Ｒ3は
水素原子、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、トリエチルシリ
ル、トリイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、メトキ
シメチル、メトキシエトキシメチル、１−エトキシエチ
ルまたはテトラヒドロピラニル基を表わす化合物が挙げ
られる。さらに好適な化合物としては、一般式(I)にお
いてＲ1が水素原子、アセチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリルまたはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基
を表わし；Ｒ2が水素原子、アセチル又はメトキシカル
ボニル基を表わすか、或いはＲ1とＲ2は一緒になってイ
ソプロピリデン基を表わし；Ｒ3は水素原子、アセチ
ル、メトキシメチル、１−エトキシエチル、ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリル又はｔｅｒｔ−ブチルジフェニル
シリル基を表わす化合物が挙げられる。
合物の中、好適なものとしては、同式中、Ｒ1が水素原
子、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、トリエチルシリル、トリ
イソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、メトキシメチ
ル、メトキシエトキシメチル、１−エトキシエチルまた
はテトラヒドロピラニル基を表わし；Ｒ2が水素原子、
アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、メトキシカルボニ
ルまたはエトキシカルボニル基を表すか、或いはＲ1と
Ｒ2は一緒になってイソプロピリデン基を表わし；Ｒ3は
水素原子、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、トリエチルシリ
ル、トリイソプロピルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、メトキ
シメチル、メトキシエトキシメチル、１−エトキシエチ
ルまたはテトラヒドロピラニル基を表わす化合物が挙げ
られる。さらに好適な化合物としては、一般式(I)にお
いてＲ1が水素原子、アセチル、ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリルまたはｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル基
を表わし；Ｒ2が水素原子、アセチル又はメトキシカル
ボニル基を表わすか、或いはＲ1とＲ2は一緒になってイ
ソプロピリデン基を表わし；Ｒ3は水素原子、アセチ
ル、メトキシメチル、１−エトキシエチル、ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリル又はｔｅｒｔ−ブチルジフェニル
シリル基を表わす化合物が挙げられる。
【００２３】本発明の化合物は、その置換基の種類に応
じて次の３つのグループに大別することができる。
じて次の３つのグループに大別することができる。
【００２４】グループ１：ＸとＺが一緒になって＝ＮＯ
−基を表わしそしてＹが水素原子である場合の式（Ｉ）
の化合物、すなわち下記式
−基を表わしそしてＹが水素原子である場合の式（Ｉ）
の化合物、すなわち下記式
【００２５】
【化５】
【００２６】で示される化合物； グループ２：ＸとＺが一緒になって＝ＣＨＣＨ（Ｏ
Ｒ7）Ｏ−基または＝ＣＨＣＯ2−基を表わし、そしてＹ
が水素原子である場合の式（Ｉ）の化合物、すなわち下
記式
Ｒ7）Ｏ−基または＝ＣＨＣＯ2−基を表わし、そしてＹ
が水素原子である場合の式（Ｉ）の化合物、すなわち下
記式
【００２７】
【化６】
【００２８】で示される化合物； グループ３：Ｘが酸素原子、＝ＣＨＣＨ2ＯＲ4基、＝Ｃ
ＨＣＨＯ基又は＝ＣＨＣＯ2Ｒ5基を表わし、そしてＹが
水素原子を表し且つＺが−ＯＲ6基を表わすか、又はＹ
とＺが一緒になって単結合を表わす場合の式（Ｉ）の化
合物、すなわち、下記式
ＨＣＨＯ基又は＝ＣＨＣＯ2Ｒ5基を表わし、そしてＹが
水素原子を表し且つＺが−ＯＲ6基を表わすか、又はＹ
とＺが一緒になって単結合を表わす場合の式（Ｉ）の化
合物、すなわち、下記式
【００２９】
【化７】
【００３０】で示される化合物。
【００３１】下記反応工程Ａにおける式（Ｉ−１）の化
合物がグループ１に、式（Ｉ−６）及び（Ｉ−７）の化
合物がグループ２に、そして式（Ｉ−２）、（Ｉ−
３）、（Ｉ−４）、（Ｉ−５）、（Ｉ−８）、（Ｉ−
９）及び（Ｉ−１０）の化合物がグループ３に属する。
合物がグループ１に、式（Ｉ−６）及び（Ｉ−７）の化
合物がグループ２に、そして式（Ｉ−２）、（Ｉ−
３）、（Ｉ−４）、（Ｉ−５）、（Ｉ−８）、（Ｉ−
９）及び（Ｉ−１０）の化合物がグループ３に属する。
【００３２】本発明のシクロヘキサントリオール誘導体
は、安価なマンニトールを原料にして以下に示す反応工
程Ａに従って工業的に実施するのに容易な反応で製造す
ることができる。
は、安価なマンニトールを原料にして以下に示す反応工
程Ａに従って工業的に実施するのに容易な反応で製造す
ることができる。
【００３３】
【化８】
【００３４】上記各式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、
Ｒ6およびＲ7は前記の意味を有し、Ｒは水酸基の保護基
を表し、Ｒ’はアルキル基（例えば、メチル基、エチル
基、オクチル基など）又は置換もしくは未置換のアリー
ル基（例えば、フェニル基、ｐ‐トリル基、ｐ-クロル
フェニル基、ナフチル基など）を表わす。
Ｒ6およびＲ7は前記の意味を有し、Ｒは水酸基の保護基
を表し、Ｒ’はアルキル基（例えば、メチル基、エチル
基、オクチル基など）又は置換もしくは未置換のアリー
ル基（例えば、フェニル基、ｐ‐トリル基、ｐ-クロル
フェニル基、ナフチル基など）を表わす。
【００３５】上記反応工程Ａに示す各工程の反応につい
て以下さらに詳しく説明する。
て以下さらに詳しく説明する。
【００３６】マンニトール（Ｘ）から常法に従いその
３，４，５，６−位の水酸基が保護されたジオール（Ｉ
Ｘ）を合成し、次いで該ジオール（ＩＸ）と該ジオール
に対し１〜２０倍モルのジメチルホルムアミドジメチル
アセタール、オルトギ酸メチル、オルトギ酸エチルなど
と酸触媒の存在下または不存在下に室温ないし約２００
℃の温度に加熱することにより環状オルトエステルを得
る。これに必要に応じて１〜１０倍モルの無水酢酸、無
水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物
を加えて室温ないし約２００℃の温度に加熱することに
より、水酸基が保護された５−ヘキセン−１，２，３，
４−テトラオール誘導体（ＶＩＩＩ）を得る。 水酸基
が保護された５−ヘキセン−１，２，３，４−テトラオ
ール誘導体（ＶＩＩＩ）を常法に従い脱保護反応に付
し、３，４−位のみが保護された５−ヘキセン−１，
２，３，４−テトラオール誘導体（ＶＩＩ）を得る。
３，４，５，６−位の水酸基が保護されたジオール（Ｉ
Ｘ）を合成し、次いで該ジオール（ＩＸ）と該ジオール
に対し１〜２０倍モルのジメチルホルムアミドジメチル
アセタール、オルトギ酸メチル、オルトギ酸エチルなど
と酸触媒の存在下または不存在下に室温ないし約２００
℃の温度に加熱することにより環状オルトエステルを得
る。これに必要に応じて１〜１０倍モルの無水酢酸、無
水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物
を加えて室温ないし約２００℃の温度に加熱することに
より、水酸基が保護された５−ヘキセン−１，２，３，
４−テトラオール誘導体（ＶＩＩＩ）を得る。 水酸基
が保護された５−ヘキセン−１，２，３，４−テトラオ
ール誘導体（ＶＩＩＩ）を常法に従い脱保護反応に付
し、３，４−位のみが保護された５−ヘキセン−１，
２，３，４−テトラオール誘導体（ＶＩＩ）を得る。
【００３７】３，４−位のみが保護された５−ヘキセン
−１，２，３，４−テトラオール誘導体（ＶＩＩ）は、
ピリジン、トリエチルアミンなどの塩基の存在下に、１
〜５倍モルのｐ−トルエンスルホニルクロリド、メタン
スルホニルクロリドなどのスルホニル化剤と、不活性溶
媒の存在下または不存在下に約−３０〜約８０℃の温度
で反応させることにより、３、４−位のみが保護された
２，３，４−トリヒドロキシ−５−ヘキセン−１−イル
モノスルホナート誘導体（ＶＩ）に変換する。
−１，２，３，４−テトラオール誘導体（ＶＩＩ）は、
ピリジン、トリエチルアミンなどの塩基の存在下に、１
〜５倍モルのｐ−トルエンスルホニルクロリド、メタン
スルホニルクロリドなどのスルホニル化剤と、不活性溶
媒の存在下または不存在下に約−３０〜約８０℃の温度
で反応させることにより、３、４−位のみが保護された
２，３，４−トリヒドロキシ−５−ヘキセン−１−イル
モノスルホナート誘導体（ＶＩ）に変換する。
【００３８】モノスルホナート（ＶＩ）は常法に従いエ
ポキシドに変換する。例えば、該モノトシラートをメタ
ノール、エタノール、テトラヒドロフランなどの不活性
溶媒に溶解し、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化
ナトリウム、水素化ナトリウムなどの塩基を作用させる
ことにより、３、４−位が保護された１，２−エポキシ
−５−ヘキセン−３，４−ジオール誘導体（Ｖ）を得る
ことができる。また、１，２−エポキシ−５−ヘキセン
−３，４−ジオール誘導体（Ｖ）はＤ−ジギトキソース
又は酒石酸を原料とする公知の方法［Ｕ．Ｋｕｆｎｅｒ
ｅｔ ａｌ．、リービツヒ アナーレン デア ケミ
ー（Ｌｉｅｂｉｇ′ｓ Ａｎｎａｌｅｎｄｅｒ Ｃｈｅ
ｍｉｅ）、１６００−１６０９頁（１９８６年）など参
照］によっても得ることができる。
ポキシドに変換する。例えば、該モノトシラートをメタ
ノール、エタノール、テトラヒドロフランなどの不活性
溶媒に溶解し、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化
ナトリウム、水素化ナトリウムなどの塩基を作用させる
ことにより、３、４−位が保護された１，２−エポキシ
−５−ヘキセン−３，４−ジオール誘導体（Ｖ）を得る
ことができる。また、１，２−エポキシ−５−ヘキセン
−３，４−ジオール誘導体（Ｖ）はＤ−ジギトキソース
又は酒石酸を原料とする公知の方法［Ｕ．Ｋｕｆｎｅｒ
ｅｔ ａｌ．、リービツヒ アナーレン デア ケミ
ー（Ｌｉｅｂｉｇ′ｓ Ａｎｎａｌｅｎｄｅｒ Ｃｈｅ
ｍｉｅ）、１６００−１６０９頁（１９８６年）など参
照］によっても得ることができる。
【００３９】エポキシド（Ｖ）は常法に従いニトリルに
変換する。例えば、該エポキシドをメタノール、エタノ
ール、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドなど
の不活性溶媒に溶解し、シアン化カリウム、シアン化ナ
トリウム、シアン化マグネシウムなどのシアノ化剤と反
応させ、必要に応じて水酸基の保護、脱保護を行うこと
により、３，４，５−トリヒドロキシ−６−ヘプテンニ
トリルおよびその水酸基保護体（ＩＶ）を得ることがで
きる。
変換する。例えば、該エポキシドをメタノール、エタノ
ール、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドなど
の不活性溶媒に溶解し、シアン化カリウム、シアン化ナ
トリウム、シアン化マグネシウムなどのシアノ化剤と反
応させ、必要に応じて水酸基の保護、脱保護を行うこと
により、３，４，５−トリヒドロキシ−６−ヘプテンニ
トリルおよびその水酸基保護体（ＩＶ）を得ることがで
きる。
【００４０】得られるニトリル（ＩＶ）を必要に応じて
水酸基を保護した後、常法に従い水素化ジイソプロピル
アルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムなどで
還元し、３，４，５−トリヒドロキシ−６−ヘプテナー
ルおよびその水酸基保護体（ＩＩＩ）とする。
水酸基を保護した後、常法に従い水素化ジイソプロピル
アルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムなどで
還元し、３，４，５−トリヒドロキシ−６−ヘプテナー
ルおよびその水酸基保護体（ＩＩＩ）とする。
【００４１】アルデヒド（ＩＩＩ）を、常法に従い、ヒ
ドロキシルアミンと反応させ、オキシム（ＩＩ）とす
る。
ドロキシルアミンと反応させ、オキシム（ＩＩ）とす
る。
【００４２】このようにして得られる水酸基が保護され
た３，４，５−トリヒドロキシ−６−ヘプテナールオキ
シム（ＩＩ）を塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロ
エタン、トルエン、ジオキサンなどの不活性溶媒に溶解
し、トリエチルアミン、ピリジンなどの触媒の存在下ま
たは不存在下、該オキシムに対し１〜２０倍モルの次亜
塩素酸ナトリウム水溶液、次亜塩素酸ｔｅｒｔ−ブチル
などの酸化剤を約−２０〜約３０℃で反応させることに
より、生成したニトリルオキシドが１，３−双極子付加
し環化したシクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−１）
を得ることができる。
た３，４，５−トリヒドロキシ−６−ヘプテナールオキ
シム（ＩＩ）を塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロ
エタン、トルエン、ジオキサンなどの不活性溶媒に溶解
し、トリエチルアミン、ピリジンなどの触媒の存在下ま
たは不存在下、該オキシムに対し１〜２０倍モルの次亜
塩素酸ナトリウム水溶液、次亜塩素酸ｔｅｒｔ−ブチル
などの酸化剤を約−２０〜約３０℃で反応させることに
より、生成したニトリルオキシドが１，３−双極子付加
し環化したシクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−１）
を得ることができる。
【００４３】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
１）は、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン
などの不活性溶媒またはその水との混合溶媒中で、必要
に応じてホウ酸、酢酸などの酸の存在下に、ラネーニッ
ケル、パラジウム−炭素、酸化白金などの水素化触媒と
ともに、水素雰囲気下で加水素分解し、そして必要に応
じて水酸基を保護することにより、シクロヘキサントリ
オール誘導体（Ｉ−２）を得ることができる。
１）は、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン
などの不活性溶媒またはその水との混合溶媒中で、必要
に応じてホウ酸、酢酸などの酸の存在下に、ラネーニッ
ケル、パラジウム−炭素、酸化白金などの水素化触媒と
ともに、水素雰囲気下で加水素分解し、そして必要に応
じて水酸基を保護することにより、シクロヘキサントリ
オール誘導体（Ｉ−２）を得ることができる。
【００４４】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
２）は常法に従い脱水することにより、シクロヘキサン
トリオール誘導体（Ｉ−３）に導くことができる。
２）は常法に従い脱水することにより、シクロヘキサン
トリオール誘導体（Ｉ−３）に導くことができる。
【００４５】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
３）は常法に従い、例えばウィティッヒ・ホーナー反応
等によりアルコキシカルボニルメチレン基を導入し、次
いで二重結合の立体をトランスからシスへと光増感反応
等により異性化することにより、シクロヘキサントリオ
ール誘導体（Ｉ−４）を得ることができる。
３）は常法に従い、例えばウィティッヒ・ホーナー反応
等によりアルコキシカルボニルメチレン基を導入し、次
いで二重結合の立体をトランスからシスへと光増感反応
等により異性化することにより、シクロヘキサントリオ
ール誘導体（Ｉ−４）を得ることができる。
【００４６】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
４）は常法に従い、エステル部分を水素化ジイソブチル
アルミニウムなどで還元することにより、シクロヘキサ
ントリオール誘導体（Ｉ−５）を得ることができる。
４）は常法に従い、エステル部分を水素化ジイソブチル
アルミニウムなどで還元することにより、シクロヘキサ
ントリオール誘導体（Ｉ−５）を得ることができる。
【００４７】さらに、シクロヘキサントリオール誘導体
（Ｉ−４）またはシクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ
−５）を水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化リチ
ウムアルミニウム、水素化ビスメトキシエトキシアルミ
ニウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウ
ム、水素化リチウムトリイソブチルアルミニウムなどで
還元し、必要に応じて水酸基を保護することにより、シ
クロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−８）を得ることが
できる。
（Ｉ−４）またはシクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ
−５）を水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化リチ
ウムアルミニウム、水素化ビスメトキシエトキシアルミ
ニウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウ
ム、水素化リチウムトリイソブチルアルミニウムなどで
還元し、必要に応じて水酸基を保護することにより、シ
クロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−８）を得ることが
できる。
【００４８】一方、シクロヘキサントリオール誘導体
（Ｉ−２）の側鎖水酸基をホスフィノ酢酸と例えばジシ
クロヘキシルカルボジイミドなどを縮合剤としてエステ
ル化した後、分子内ウィティッヒ・ホーナー反応を行う
ことにより、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
６）を得ることができる。
（Ｉ−２）の側鎖水酸基をホスフィノ酢酸と例えばジシ
クロヘキシルカルボジイミドなどを縮合剤としてエステ
ル化した後、分子内ウィティッヒ・ホーナー反応を行う
ことにより、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
６）を得ることができる。
【００４９】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
６）は常法に従い、エステル部分を水素化ジイソブチル
アルミニウムなどで還元し、必要に応じて低級アルコー
ルを用いてアセタール化することにより、シクロヘキサ
ントリオール誘導体（Ｉ−７）を得ることができる。
６）は常法に従い、エステル部分を水素化ジイソブチル
アルミニウムなどで還元し、必要に応じて低級アルコー
ルを用いてアセタール化することにより、シクロヘキサ
ントリオール誘導体（Ｉ−７）を得ることができる。
【００５０】シクロヘキサントリオール（Ｉ‐７）はテ
トラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノー
ルなどの水溶性溶媒と水の混合溶媒中、ｐ‐トルエンス
ルホン酸、硫酸、塩酸などの存在下、脱水することによ
り、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ‐５）とする
ことができる。
トラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノー
ルなどの水溶性溶媒と水の混合溶媒中、ｐ‐トルエンス
ルホン酸、硫酸、塩酸などの存在下、脱水することによ
り、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ‐５）とする
ことができる。
【００５１】さらに、シクロヘキサントリオール誘導体
（Ｉ‐６）は、低級アルコール中、水酸化ナトリウム、
水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなどの塩基
を作用させ、必要に応じエステル化、水酸基の保護、脱
保護を行うことにより、シクロヘキサントリオール誘導
体（Ｉ‐９）を得ることができる。
（Ｉ‐６）は、低級アルコール中、水酸化ナトリウム、
水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、ナ
トリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドなどの塩基
を作用させ、必要に応じエステル化、水酸基の保護、脱
保護を行うことにより、シクロヘキサントリオール誘導
体（Ｉ‐９）を得ることができる。
【００５２】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
９）は、常法に従い脱水することによりシクロヘキサン
トリオール誘導体（Ｉ−４）を得ることができる。この
脱水反応はスルホニル化、ハロゲン化を経由する一般的
な方法でも行うことができるが、有機セレン化合物を経
由する方法［テトラヘドロン レターズ（Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ）、３１巻、１５７７−１
５８０頁（１９９０年）参照］により好ましく行うこと
ができる。
９）は、常法に従い脱水することによりシクロヘキサン
トリオール誘導体（Ｉ−４）を得ることができる。この
脱水反応はスルホニル化、ハロゲン化を経由する一般的
な方法でも行うことができるが、有機セレン化合物を経
由する方法［テトラヘドロン レターズ（Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ）、３１巻、１５７７−１
５８０頁（１９９０年）参照］により好ましく行うこと
ができる。
【００５３】また、シクロヘキサントリオール誘導体
（Ｉ−９）は、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
２）にシリル酢酸エステルを反応させ、次いでPeterson
脱離反応に付すことによっても得ることができる。
（Ｉ−９）は、シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
２）にシリル酢酸エステルを反応させ、次いでPeterson
脱離反応に付すことによっても得ることができる。
【００５４】シクロヘキサントリオール誘導体（Ｉ−
９）は、常法に従いエステル部分を水素化リチウムアル
ミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムなどの錯金
属水素化物で還元し、必要に応じて生成物中の水酸基を
保護することにより、シクロヘキサントリオール誘導体
（Ｉ−１０）を得ることができる。
９）は、常法に従いエステル部分を水素化リチウムアル
ミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウムなどの錯金
属水素化物で還元し、必要に応じて生成物中の水酸基を
保護することにより、シクロヘキサントリオール誘導体
（Ｉ−１０）を得ることができる。
【００５５】このようにして得られるシクロヘキサント
リオール誘導体（Ｉ）［前記反応工程Ａにおける式（Ｉ
−１）ないし（Ｉ−１０）の化合物］の反応混合物から
の単離・精製は、通常の有機反応において行われている
単離・精製方法と同様にして行われる。例えば、反応混
合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機溶媒で
抽出し、冷希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄し、乾燥
後濃縮して粗生成物を得、必要に応じて再結晶、クロマ
トグラフィなどにより精製し、シクロヘキサントリオー
ル誘導体（Ｉ）を得ることができる。
リオール誘導体（Ｉ）［前記反応工程Ａにおける式（Ｉ
−１）ないし（Ｉ−１０）の化合物］の反応混合物から
の単離・精製は、通常の有機反応において行われている
単離・精製方法と同様にして行われる。例えば、反応混
合物を氷水にあけ、ジエチルエーテルなどの有機溶媒で
抽出し、冷希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄し、乾燥
後濃縮して粗生成物を得、必要に応じて再結晶、クロマ
トグラフィなどにより精製し、シクロヘキサントリオー
ル誘導体（Ｉ）を得ることができる。
【００５６】かくして得られるシクロヘキサントリオー
ル誘導体（Ｉ−８）は、２−位の水酸基をトリエチルア
ミン、ピリジンなどの存在下、塩化メタンスルホニル、
塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニル
などでスルホニル化した後、水素化リチウムアルミニウ
ム、水素化トリエチルホウ素リチウムなどで還元するこ
とにより、シクロヘキサンジオール誘導体（ＸＩ）にす
ることができる。このシクロヘキサンジオール誘導体は
１α−ヒドロキシビタミンＤ化合物の製造のためのＡ−
環構成部分として公知のものであり、それ自体既知の方
法により［例えば、Ｅ．Ｇ．Ｂａｇｇｉｏｌｉｎｉ ｅ
ｔ ａｌ．、ジヤーナル オブ アメリカン ケミカル
ソサエテイー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃ
ａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ）、１０４
巻、２９４５−２９４８（１９８２年）参照］により薬
理学的活性をもつ前述した如き各種の１α−ヒドロキシ
ビタミンＤ誘導体に導くことができる。
ル誘導体（Ｉ−８）は、２−位の水酸基をトリエチルア
ミン、ピリジンなどの存在下、塩化メタンスルホニル、
塩化ｐ−トルエンスルホニル、塩化ベンゼンスルホニル
などでスルホニル化した後、水素化リチウムアルミニウ
ム、水素化トリエチルホウ素リチウムなどで還元するこ
とにより、シクロヘキサンジオール誘導体（ＸＩ）にす
ることができる。このシクロヘキサンジオール誘導体は
１α−ヒドロキシビタミンＤ化合物の製造のためのＡ−
環構成部分として公知のものであり、それ自体既知の方
法により［例えば、Ｅ．Ｇ．Ｂａｇｇｉｏｌｉｎｉ ｅ
ｔ ａｌ．、ジヤーナル オブ アメリカン ケミカル
ソサエテイー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃ
ａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ）、１０４
巻、２９４５−２９４８（１９８２年）参照］により薬
理学的活性をもつ前述した如き各種の１α−ヒドロキシ
ビタミンＤ誘導体に導くことができる。
【００５７】しかも、本発明のシクロヘキサントリオー
ル誘導体は、１,３−位のみならず２−位にも水酸基を
有しているので、この２−位の水酸基を利用して２−位
に置換基を有する１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体を
製造するためのＡ−環構成部分として有利に利用するこ
とができる。例えば、本発明のシクロヘキサントリオー
ル誘導体（Ｉ−８）の２−位の水酸基に３−ヒドロキシ
プロピル基を導入することにより下記式
ル誘導体は、１,３−位のみならず２−位にも水酸基を
有しているので、この２−位の水酸基を利用して２−位
に置換基を有する１α−ヒドロキシビタミンＤ誘導体を
製造するためのＡ−環構成部分として有利に利用するこ
とができる。例えば、本発明のシクロヘキサントリオー
ル誘導体（Ｉ−８）の２−位の水酸基に３−ヒドロキシ
プロピル基を導入することにより下記式
【００５８】
【化９】
【００５９】で示される化合物を合成し、次いでこの化
合物を必要に応じ水酸基を保護した後、それ自体既知の
方法［例えば、Ｅ．Ｇ．Ｂａｇｇｉｏｌｉｎｉ ｅｔ
ａｌ．、ジヤーナル オブ アメリカン ケミカル ソ
サエテイー（Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ
Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ）、１０４巻、２９
４５−２９４８（１９８２年）参照］に準拠した方法に
より１α−ヒドロキシビタミンＤ３のＣＤ環部分を結合
することによって、前述したように高い血中持続性を有
する骨粗鬆治療薬としてその実用化が期待されている下
記式
合物を必要に応じ水酸基を保護した後、それ自体既知の
方法［例えば、Ｅ．Ｇ．Ｂａｇｇｉｏｌｉｎｉ ｅｔ
ａｌ．、ジヤーナル オブ アメリカン ケミカル ソ
サエテイー（Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ
Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ）、１０４巻、２９
４５−２９４８（１９８２年）参照］に準拠した方法に
より１α−ヒドロキシビタミンＤ３のＣＤ環部分を結合
することによって、前述したように高い血中持続性を有
する骨粗鬆治療薬としてその実用化が期待されている下
記式
【００６０】
【化１０】
【００６１】で示される２β−ヒドロキシプロポキシ−
１α,２５−ジヒドロキシビタミンＤ3を製造することが
できる。
１α,２５−ジヒドロキシビタミンＤ3を製造することが
できる。
【００６２】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明するが、これらの実施例により本発明は何ら制限
されるものではない。
に説明するが、これらの実施例により本発明は何ら制限
されるものではない。
【００６３】参考例 １ ［１，２：３，４‐ビス（ジメチルメチレンジオキシ）
‐５‐ヘキセンの合成］３，４：５，６‐Ｏ‐ジイソプ
ロピリデン‐Ｄ‐マンニトール１２８．５ｇにＮ，Ｎ‐
ジメチルホルムアミドジメチルアセタール２００ｍｌを
加え、１００℃に加熱してメタノールを留去した。１０
０℃で１時間加熱を続け、薄層クロマトグラフィにより
ほぼ原料が消失していることを確認した後、１７０℃に
加熱して過剰量のＮ，Ｎ‐ジメチルホルムアミドジメチ
ルアセタールを約１時間かけて留去した。留出物がなく
なった後、１５０℃にし、無水酢酸１００ｍｌを少しづ
つ加え、留出温度約９０℃前後の留出物を留去させた。
得られた反応液を室温まで冷却し、ジエチルエーテルを
加え、有機層を食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、下記
の物性を有する１，２：３，４‐ビス（ジメチルメチレ
ンジオキシ）‐５‐ヘキセンを６０．７ｇ得た（収率５
４％）。
‐５‐ヘキセンの合成］３，４：５，６‐Ｏ‐ジイソプ
ロピリデン‐Ｄ‐マンニトール１２８．５ｇにＮ，Ｎ‐
ジメチルホルムアミドジメチルアセタール２００ｍｌを
加え、１００℃に加熱してメタノールを留去した。１０
０℃で１時間加熱を続け、薄層クロマトグラフィにより
ほぼ原料が消失していることを確認した後、１７０℃に
加熱して過剰量のＮ，Ｎ‐ジメチルホルムアミドジメチ
ルアセタールを約１時間かけて留去した。留出物がなく
なった後、１５０℃にし、無水酢酸１００ｍｌを少しづ
つ加え、留出温度約９０℃前後の留出物を留去させた。
得られた反応液を室温まで冷却し、ジエチルエーテルを
加え、有機層を食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、下記
の物性を有する１，２：３，４‐ビス（ジメチルメチレ
ンジオキシ）‐５‐ヘキセンを６０．７ｇ得た（収率５
４％）。
【００６４】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl4）
δ：５．９０（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．７，１０．２，
１７．２Ｈｚ）、５．１３〜５．５２（ｍ，２Ｈ）、
４．３７（ｄｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝０．９，５．７，７．６
Ｈｚ）、３．８〜４．２（ｍ，３Ｈ）、３．７０（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６，７．６Ｈｚ）、１．４１（ｓ，
９Ｈ）、１．３４（ｓ，３Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９８４、２９３２、２８８０、１４５５、１３７８、
１２５０、１２１４、１１５４、１１２０、１０６５、
９９３、９２４、８４６、５１２ 旋光度 ［α］D＝４．１８°（ｃ＝２．００，ＣＨＣl3） 参考例 ２ ［３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐ヘキセ
ン‐１,２‐ジオールの合成］参考例１により得られた
１，２：３，４‐ビス（ジメチルメチレンジオキシ）‐
５‐ヘキセン３６．８ｇに氷酢酸３００ｍｌおよび水６
０ｍｌを加え、室温で１４時間撹拌した後、反応液を氷
の入った５０％水酸化ナトリウム水溶液５００ｍｌに少
しずつ加えた。生成した酢酸ナトリウムの結晶を濾過
し、結晶を塩化メチレンで洗浄した。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、下記
の物性を有する３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）
‐５‐ヘキセン‐１,２‐ジオールを１３．５ｇ得た
（収率４４％）。
δ：５．９０（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．７，１０．２，
１７．２Ｈｚ）、５．１３〜５．５２（ｍ，２Ｈ）、
４．３７（ｄｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝０．９，５．７，７．６
Ｈｚ）、３．８〜４．２（ｍ，３Ｈ）、３．７０（ｄ
ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．６，７．６Ｈｚ）、１．４１（ｓ，
９Ｈ）、１．３４（ｓ，３Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９８４、２９３２、２８８０、１４５５、１３７８、
１２５０、１２１４、１１５４、１１２０、１０６５、
９９３、９２４、８４６、５１２ 旋光度 ［α］D＝４．１８°（ｃ＝２．００，ＣＨＣl3） 参考例 ２ ［３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐ヘキセ
ン‐１,２‐ジオールの合成］参考例１により得られた
１，２：３，４‐ビス（ジメチルメチレンジオキシ）‐
５‐ヘキセン３６．８ｇに氷酢酸３００ｍｌおよび水６
０ｍｌを加え、室温で１４時間撹拌した後、反応液を氷
の入った５０％水酸化ナトリウム水溶液５００ｍｌに少
しずつ加えた。生成した酢酸ナトリウムの結晶を濾過
し、結晶を塩化メチレンで洗浄した。有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製し、下記
の物性を有する３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）
‐５‐ヘキセン‐１,２‐ジオールを１３．５ｇ得た
（収率４４％）。
【００６５】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ４）δ： ５．９３（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９，９．１，１５．
３Ｈｚ）、５．１７〜５．５２（ｍ，２Ｈ）、４．４２
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９，６．４Ｈｚ）、３．５〜
３．９（ｍ，４Ｈ）、３．０〜３．４（ｂｒｓ，２
Ｈ）、１．４２（ｓ，６Ｈ）ＩＲスペクトル（ｎｅａ
ｔ，ｃｍ−１）３４１４、２９８４、２９３０、２８７
８、１７２７、１６４５、１４５５、１４２８、１４０
７、１３７１、１２５０、１２１４、１１６８、１１２
０、１０５５、９２５、８７４、８１２、７７９、７３
４、６６４、６２１、５１１旋光度 ［α］Ｄ＝＋４．６６°（ｃ＝１．０７，ＣＨＣｌ３） 参考例 ３ ［３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−２−ヒドロ
キシ−５−ヘキセン−１−イル ｐ−トルエンスルホナ
ートの合成］ ３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−ヘキセン
−１，２−ジオール９．７７ｇをピリジン１５５ｍｌ、
クロロホルム５２ｍｌと混合し、０℃で塩化ｐ−トルエ
ンスルホニル１１．３９ｇを４回に分けて少しずつ加え
た。０℃で６時間撹拌し、氷の入った６Ｎの塩酸にあ
け、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を飽和重曹
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した後、減圧下に濃縮し、下記の物性を有する３，
４−（ジメチルメチレンジオキシ）−２−ヒドロキシ−
５−ヘキセン−１−イル ｐ−トルエンスルホナートを
１７．８８ｇ得た。
ｌ４）δ： ５．９３（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９，９．１，１５．
３Ｈｚ）、５．１７〜５．５２（ｍ，２Ｈ）、４．４２
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．９，６．４Ｈｚ）、３．５〜
３．９（ｍ，４Ｈ）、３．０〜３．４（ｂｒｓ，２
Ｈ）、１．４２（ｓ，６Ｈ）ＩＲスペクトル（ｎｅａ
ｔ，ｃｍ−１）３４１４、２９８４、２９３０、２８７
８、１７２７、１６４５、１４５５、１４２８、１４０
７、１３７１、１２５０、１２１４、１１６８、１１２
０、１０５５、９２５、８７４、８１２、７７９、７３
４、６６４、６２１、５１１旋光度 ［α］Ｄ＝＋４．６６°（ｃ＝１．０７，ＣＨＣｌ３） 参考例 ３ ［３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−２−ヒドロ
キシ−５−ヘキセン−１−イル ｐ−トルエンスルホナ
ートの合成］ ３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−ヘキセン
−１，２−ジオール９．７７ｇをピリジン１５５ｍｌ、
クロロホルム５２ｍｌと混合し、０℃で塩化ｐ−トルエ
ンスルホニル１１．３９ｇを４回に分けて少しずつ加え
た。０℃で６時間撹拌し、氷の入った６Ｎの塩酸にあ
け、ジエチルエーテルで抽出した。抽出液を飽和重曹
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した後、減圧下に濃縮し、下記の物性を有する３，
４−（ジメチルメチレンジオキシ）−２−ヒドロキシ−
５−ヘキセン−１−イル ｐ−トルエンスルホナートを
１７．８８ｇ得た。
【００６６】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl4）
δ：７．８０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．３５
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、５．８７（ｄｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝６．４，８．９，１７．３Ｈｚ）、５．１５〜
５．４９（ｍ，２Ｈ）、３．５８〜４．５０（ｍ，５
Ｈ）、２．４５（ｓ，３Ｈ）、１．３７（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３５０８、３０８４、３０６４、２９８４、２９３２、
２８８２、１６４７、１５９７、１４９４、１４５３、
１３６９、１３０８、１２９１、１２１３、１１７４、
１１１８、１０９６、１０６３、９８０、９３０、８９
６、８７３、８３４、８１４、６９１、６６４、５５
２、５１４ 参考例 ４ １，２‐エポキシ‐３，４‐（ジメチルメチレンジオキ
シ）‐５‐ヘキセンの合成］３，４‐（ジメチルメチレ
ンジオキシ）‐２‐ヒドロキシ‐５‐ヘキセン‐１‐イ
ル ｐ‐トルエンスルホナート１７．８８ｇをメタノー
ル８０ｍｌに溶解し、室温で無水炭酸ナトリウム１７．
１１ｇを加えて１５分間撹拌した。反応液をセライトを
通して濾過し、ジエチルエーテルで結晶を洗浄した。濾
液を濃縮した後、シリカゲルカラムを通して固形物を除
去した。減圧下に濃縮し、下記の物性を有する１，２‐
エポキシ‐３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５
‐ヘキセンを７．８７ｇを得た。
δ：７．８０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．３５
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、５．８７（ｄｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝６．４，８．９，１７．３Ｈｚ）、５．１５〜
５．４９（ｍ，２Ｈ）、３．５８〜４．５０（ｍ，５
Ｈ）、２．４５（ｓ，３Ｈ）、１．３７（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３５０８、３０８４、３０６４、２９８４、２９３２、
２８８２、１６４７、１５９７、１４９４、１４５３、
１３６９、１３０８、１２９１、１２１３、１１７４、
１１１８、１０９６、１０６３、９８０、９３０、８９
６、８７３、８３４、８１４、６９１、６６４、５５
２、５１４ 参考例 ４ １，２‐エポキシ‐３，４‐（ジメチルメチレンジオキ
シ）‐５‐ヘキセンの合成］３，４‐（ジメチルメチレ
ンジオキシ）‐２‐ヒドロキシ‐５‐ヘキセン‐１‐イ
ル ｐ‐トルエンスルホナート１７．８８ｇをメタノー
ル８０ｍｌに溶解し、室温で無水炭酸ナトリウム１７．
１１ｇを加えて１５分間撹拌した。反応液をセライトを
通して濾過し、ジエチルエーテルで結晶を洗浄した。濾
液を濃縮した後、シリカゲルカラムを通して固形物を除
去した。減圧下に濃縮し、下記の物性を有する１，２‐
エポキシ‐３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５
‐ヘキセンを７．８７ｇを得た。
【００６７】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl4）
δ：５．９０（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７，９．８，１
７．２Ｈｚ）、５．２〜５．５２（ｍ，２Ｈ）、４．３
６（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝５．４，６．７Ｈｚ）、３．６１
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１，５．４Ｈｚ）、３．０９
（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６，４．１，４．９Ｈｚ）、
２．８３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．１，４．９Ｈｚ）、
２．７０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６，４．９Ｈｚ）、
１．４４（ｓ，６Ｈｚ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３５２０、２９８４、２９２８、１７２５、１６５９、
１５９７、１４９４、１４５４、１３５８、１３０６、
１２９０、１２５０、１２１２、１１８８、１１７６、
１１２０、１０９５、１０７１、１００３、９１９、８
７６、８３６、８１６、７７８、７１３、６９０、６６
３、５７１、５５４ 参考例 ５ ［４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐３‐ヒドロ
キシ‐６‐ヘプテンニトリルの合成］飽和硫酸マグネシ
ウム水溶液５０ｍｌを１０℃に冷却し、シアン化ナトリ
ウム１０．２３ｇを発熱させないように少しずつ加え
た。１０℃で４５分間撹拌した後、１，２‐エポキシ‐
３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐ヘキセン
７．６１ｇをメタノール３０ｍｌに溶解し、発熱しない
程度に少しずつ加えた。室温で２時間撹拌した後、反応
液を酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製
し、下記の物性を有する４，５‐（ジメチルメチレンジ
オキシ）‐３‐ヒドロキシ‐６‐ヘプテンニトリルを
２．１１ｇ得た。
δ：５．９０（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．７，９．８，１
７．２Ｈｚ）、５．２〜５．５２（ｍ，２Ｈ）、４．３
６（ｄｄ，１Ｈ、Ｊ＝５．４，６．７Ｈｚ）、３．６１
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１，５．４Ｈｚ）、３．０９
（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６，４．１，４．９Ｈｚ）、
２．８３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．１，４．９Ｈｚ）、
２．７０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．６，４．９Ｈｚ）、
１．４４（ｓ，６Ｈｚ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３５２０、２９８４、２９２８、１７２５、１６５９、
１５９７、１４９４、１４５４、１３５８、１３０６、
１２９０、１２５０、１２１２、１１８８、１１７６、
１１２０、１０９５、１０７１、１００３、９１９、８
７６、８３６、８１６、７７８、７１３、６９０、６６
３、５７１、５５４ 参考例 ５ ［４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐３‐ヒドロ
キシ‐６‐ヘプテンニトリルの合成］飽和硫酸マグネシ
ウム水溶液５０ｍｌを１０℃に冷却し、シアン化ナトリ
ウム１０．２３ｇを発熱させないように少しずつ加え
た。１０℃で４５分間撹拌した後、１，２‐エポキシ‐
３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐ヘキセン
７．６１ｇをメタノール３０ｍｌに溶解し、発熱しない
程度に少しずつ加えた。室温で２時間撹拌した後、反応
液を酢酸エチルで抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製
し、下記の物性を有する４，５‐（ジメチルメチレンジ
オキシ）‐３‐ヒドロキシ‐６‐ヘプテンニトリルを
２．１１ｇ得た。
【００６８】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl4）
δ：５．９４（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６，１０．７，
１８．３Ｈｚ）、５．２５〜５．５５（ｍ，２Ｈ）、
４．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６，８．０Ｈｚ）、
４．０８（ｍ，１Ｈ）、３．７６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
５．８，７．７Ｈｚ）、２．６４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．
９Ｈｚ）、２．６３（ｄ，１Ｈ，６．４Ｈｚ）、２．４
６（ｂｒｓ，１Ｈ）、１．４２（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３４４６、３０８６、２９８６、２９３４、２９８２、
２２５０、１６４５、１４５６、１４１１、１３７２、
１２１５、１１６８、１１２１、１０６８、９９１、９
３３、８７３、８１０、５１１ 参考例 ６ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキ
シメトキシ−６−ヘプテンニトリルの合成］４，５−
（ジメチルメチレンジオキシ）−３−ヒドロキシ−６−
ヘプテンニトリル２．１１ｇにジイソプロピルエチルア
ミン９ｍｌを加え、ついで０℃でメトキシメチルクロリ
ド２ｍｌを少しずつ加えた。０℃で１６時間撹拌した
後、ジエチルエーテル３００ｍｌで希釈し、１Ｎ塩酸、
飽和重曹水、食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカ
ゲルカラムで濾過して下記の物性を有する４，５−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６
−ヘプテンニトリルを２．２８ｇ得た（収率８８％）。
δ：５．９４（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６，１０．７，
１８．３Ｈｚ）、５．２５〜５．５５（ｍ，２Ｈ）、
４．４０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６，８．０Ｈｚ）、
４．０８（ｍ，１Ｈ）、３．７６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
５．８，７．７Ｈｚ）、２．６４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．
９Ｈｚ）、２．６３（ｄ，１Ｈ，６．４Ｈｚ）、２．４
６（ｂｒｓ，１Ｈ）、１．４２（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３４４６、３０８６、２９８６、２９３４、２９８２、
２２５０、１６４５、１４５６、１４１１、１３７２、
１２１５、１１６８、１１２１、１０６８、９９１、９
３３、８７３、８１０、５１１ 参考例 ６ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキ
シメトキシ−６−ヘプテンニトリルの合成］４，５−
（ジメチルメチレンジオキシ）−３−ヒドロキシ−６−
ヘプテンニトリル２．１１ｇにジイソプロピルエチルア
ミン９ｍｌを加え、ついで０℃でメトキシメチルクロリ
ド２ｍｌを少しずつ加えた。０℃で１６時間撹拌した
後、ジエチルエーテル３００ｍｌで希釈し、１Ｎ塩酸、
飽和重曹水、食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカ
ゲルカラムで濾過して下記の物性を有する４，５−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６
−ヘプテンニトリルを２．２８ｇ得た（収率８８％）。
【００６９】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ4）δ：５．９３（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．３， １
０．２， １７．３Ｈｚ），５．１６〜５．５２（ｍ，
２Ｈ），４．７４（ｓ，２Ｈ），４．３５（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝６．６， ７．３ＨZ），３．７８〜４．００
（ｍ，２Ｈ），３．４５（ｓ，３Ｈ），２．６０〜２．
８０（ｍ，２Ｈ），１．４２（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９８６，２９３４，２８９６，２８２６，２２４８，
１６４４，１４５５，１４１４，１３８０，１３７２，
１２４５，１２１６，１１５４，１１０６，１０６２，
１０３９，９９２，９２０，８７５，８０９，５１２ 参考例 ７ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキ
シメトキシ−６−ヘプテナールオキシムの合成］４，５
−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキ
シ−６−ヘプテンニトリル１５９.８ｍｇを乾燥トルエ
ンに溶解し、−７８℃にて０．５Ｎ−水素化ジイソプロ
ピルアルミニウム１．６ｍｌを加えた。−７８℃で２時
間撹拌し、−４０℃で３０分間撹拌し、ついで０℃にて
５％希硫酸を少しずつ加えた。反応液をジエチルエーテ
ルで希釈し、有機層を食塩水で洗浄した。無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、４，５−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６
−ヘプテナールを９１．１ｍｇ得た。
ｌ4）δ：５．９３（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．３， １
０．２， １７．３Ｈｚ），５．１６〜５．５２（ｍ，
２Ｈ），４．７４（ｓ，２Ｈ），４．３５（ｄｄ，１
Ｈ，Ｊ＝６．６， ７．３ＨZ），３．７８〜４．００
（ｍ，２Ｈ），３．４５（ｓ，３Ｈ），２．６０〜２．
８０（ｍ，２Ｈ），１．４２（ｓ，６Ｈ） ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９８６，２９３４，２８９６，２８２６，２２４８，
１６４４，１４５５，１４１４，１３８０，１３７２，
１２４５，１２１６，１１５４，１１０６，１０６２，
１０３９，９９２，９２０，８７５，８０９，５１２ 参考例 ７ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキ
シメトキシ−６−ヘプテナールオキシムの合成］４，５
−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキ
シ−６−ヘプテンニトリル１５９.８ｍｇを乾燥トルエ
ンに溶解し、−７８℃にて０．５Ｎ−水素化ジイソプロ
ピルアルミニウム１．６ｍｌを加えた。−７８℃で２時
間撹拌し、−４０℃で３０分間撹拌し、ついで０℃にて
５％希硫酸を少しずつ加えた。反応液をジエチルエーテ
ルで希釈し、有機層を食塩水で洗浄した。無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、４，５−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６
−ヘプテナールを９１．１ｍｇ得た。
【００７０】上記により得られた４，５−（ジメチルメ
チレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテ
ナール９１．９ｍｇをピリジン１ｍｌに溶解し、室温で
ヒドロキシルアミン塩酸塩４５ｍｇを加えた。室温で８
時間撹拌し、得られた反応液をジエチルエーテルで希釈
した。反応液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ
り、下記の物性を有する４，５−（ジメチルメチレンジ
オキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテナールオ
キシムを８９．５ｍｇ得た（収率５２％）。
チレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテ
ナール９１．９ｍｇをピリジン１ｍｌに溶解し、室温で
ヒドロキシルアミン塩酸塩４５ｍｇを加えた。室温で８
時間撹拌し、得られた反応液をジエチルエーテルで希釈
した。反応液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ
り、下記の物性を有する４，５−（ジメチルメチレンジ
オキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテナールオ
キシムを８９．５ｍｇ得た（収率５２％）。
【００７１】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ４）δ： ８．０２（ｂｒｓ，１Ｈ），７．６２（ｂｓ，１Ｈ），
７．４９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），６．９３
（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），５．６４〜６．１０
（ｍ，２Ｈ），５．１６〜５．００（ｍ，４Ｈ），４．
５６〜４．９０（ｍ，４Ｈ），４．２４〜４．４８
（ｍ，２Ｈ），３．７２〜４．１０（ｍ，４Ｈ），３．
３９（ｓ，６Ｈ），２．６７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈ
ｚ），２．５０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），１．４
２（ｓ，１２Ｈ）ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃ
ｍ−１）３３７９，３０８８，２９８４，２８９２，２
８２６，１７２７，１６４７，１４５３，１４２７，１
３８０，１３７１，１２４４，１２１４，１１５２，１
１００，１０３２，９９１，９２０，８７６，８１３，
７０５，６６５，５１２，４５３ 参考例 ８ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテンニトリル
の合成］ ４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−ヒドロキ
シ−６−ヘプテンニトリル２．１１ｇとイミダゾール
２．０ｇおよび塩化メチレン５０ｍｌからなる溶液に０
℃でｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２．０ｇを少し
ずつ加えた。室温で１６時間撹拌した後、ジエチルエー
テル３００ｍｌで希釈し、１Ｎ塩酸、飽和重曹水、食塩
水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィで精製して下記の物性を有する４，５−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）−６−ヘプテンニトリルを２．６３ｇ得
た（収率７９％）。
ｌ４）δ： ８．０２（ｂｒｓ，１Ｈ），７．６２（ｂｓ，１Ｈ），
７．４９（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），６．９３
（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），５．６４〜６．１０
（ｍ，２Ｈ），５．１６〜５．００（ｍ，４Ｈ），４．
５６〜４．９０（ｍ，４Ｈ），４．２４〜４．４８
（ｍ，２Ｈ），３．７２〜４．１０（ｍ，４Ｈ），３．
３９（ｓ，６Ｈ），２．６７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈ
ｚ），２．５０（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），１．４
２（ｓ，１２Ｈ）ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃ
ｍ−１）３３７９，３０８８，２９８４，２８９２，２
８２６，１７２７，１６４７，１４５３，１４２７，１
３８０，１３７１，１２４４，１２１４，１１５２，１
１００，１０３２，９９１，９２０，８７６，８１３，
７０５，６６５，５１２，４５３ 参考例 ８ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテンニトリル
の合成］ ４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−ヒドロキ
シ−６−ヘプテンニトリル２．１１ｇとイミダゾール
２．０ｇおよび塩化メチレン５０ｍｌからなる溶液に０
℃でｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２．０ｇを少し
ずつ加えた。室温で１６時間撹拌した後、ジエチルエー
テル３００ｍｌで希釈し、１Ｎ塩酸、飽和重曹水、食塩
水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下に濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィで精製して下記の物性を有する４，５−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）−６−ヘプテンニトリルを２．６３ｇ得
た（収率７９％）。
【００７２】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+３１１ 参考例 ９ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテナールオキ
シムの合成］参考例７において、４，５−（ジメチルメ
チレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテ
ンニトリル１５９．８ｍｇのかわりに４，５−（ジメチ
ルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−６−ヘプテンニトリル２０６．２ｍｇを用
いた以外は参考例７と同様に反応および分離精製を行う
ことにより、４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−
３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテ
ナールオキシムを１６７ｍｇ得た（収率７７％）。
ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテナールオキ
シムの合成］参考例７において、４，５−（ジメチルメ
チレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテ
ンニトリル１５９．８ｍｇのかわりに４，５−（ジメチ
ルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−６−ヘプテンニトリル２０６．２ｍｇを用
いた以外は参考例７と同様に反応および分離精製を行う
ことにより、４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−
３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−６−ヘプテ
ナールオキシムを１６７ｍｇ得た（収率７７％）。
【００７３】参考例１０ ［４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−
エトキシエトキシ）−６−ヘプテンニトリルの合成］ 窒素雰囲気下、４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）
−３−ヒドロキシ−６−ヘプテンニトリル３．５４ｇを
塩化メチレン５０ｍｌに溶解し、氷冷下に触媒量のｐ−
トルエンスルホン酸ピリジニウム塩を加え、ついでエチ
ルビニルエーテル２．５７ｍｌを滴下した。２時間撹拌
したのち、反応液を飽和重曹水にあけ、ジエチルエーテ
ルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。得られた
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮
して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
で精製することにより、下記の物性を有する４，５−
（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエ
トキシ）−６−ヘプテンニトリルを４．４１ｇ得た（収
率９１％）。
エトキシエトキシ）−６−ヘプテンニトリルの合成］ 窒素雰囲気下、４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）
−３−ヒドロキシ−６−ヘプテンニトリル３．５４ｇを
塩化メチレン５０ｍｌに溶解し、氷冷下に触媒量のｐ−
トルエンスルホン酸ピリジニウム塩を加え、ついでエチ
ルビニルエーテル２．５７ｍｌを滴下した。２時間撹拌
したのち、反応液を飽和重曹水にあけ、ジエチルエーテ
ルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。得られた
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮
して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
で精製することにより、下記の物性を有する４，５−
（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエ
トキシ）−６−ヘプテンニトリルを４．４１ｇ得た（収
率９１％）。
【００７４】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ4）δ：５.７−６.１（ｍ，１Ｈ），５.１−５.５
（ｍ，２Ｈ），４.９７，４.９０（ｑ，Ｊ＝５，１Ｈ
ｚ，１Ｈ），４.３５（ｑ，Ｊ＝６，２Ｈｚ，１Ｈ），
３.４−４.１（ｍ，２Ｈ），３.６０（ｑ，Ｊ＝６.９Ｈ
ｚ，２Ｈ），２.６−２.８（ｍ，２Ｈ），１.４２
（ｓ，６Ｈ），１.３４，１.３２（ｄ，Ｊ＝５.３Ｈ
ｚ，３Ｈ），１.２１（ｔ，Ｊ＝７，７Ｈｚ） 参考例１１ ［４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−
エトキシエトキシ）−６−ヘプテナールオキシムの合
成］４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１
−エトキシエトキシ）−６−ヘプテンニトリル１.４０
ｇを乾燥トルエン１３mlに溶解し、−７８℃にて２Ｎ−
水素化ジイソブチルアルミニウム２.０mlを滴下した。
−７８℃で１００分間撹拌し、ついで０℃まで昇温した
のち、１０％希硫酸を少しずつ加えた。反応液をエーテ
ルで希釈し、有機層を食塩水で洗浄した。無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、４,５−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエトキ
シ）−６−ヘプテナールを２.６１ｇ得た。
ｌ4）δ：５.７−６.１（ｍ，１Ｈ），５.１−５.５
（ｍ，２Ｈ），４.９７，４.９０（ｑ，Ｊ＝５，１Ｈ
ｚ，１Ｈ），４.３５（ｑ，Ｊ＝６，２Ｈｚ，１Ｈ），
３.４−４.１（ｍ，２Ｈ），３.６０（ｑ，Ｊ＝６.９Ｈ
ｚ，２Ｈ），２.６−２.８（ｍ，２Ｈ），１.４２
（ｓ，６Ｈ），１.３４，１.３２（ｄ，Ｊ＝５.３Ｈ
ｚ，３Ｈ），１.２１（ｔ，Ｊ＝７，７Ｈｚ） 参考例１１ ［４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−
エトキシエトキシ）−６−ヘプテナールオキシムの合
成］４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１
−エトキシエトキシ）−６−ヘプテンニトリル１.４０
ｇを乾燥トルエン１３mlに溶解し、−７８℃にて２Ｎ−
水素化ジイソブチルアルミニウム２.０mlを滴下した。
−７８℃で１００分間撹拌し、ついで０℃まで昇温した
のち、１０％希硫酸を少しずつ加えた。反応液をエーテ
ルで希釈し、有機層を食塩水で洗浄した。無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮し、４,５−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエトキ
シ）−６−ヘプテナールを２.６１ｇ得た。
【００７５】得られた４,５−（ジメチルメチレンジオ
キシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−６−ヘプテナ
ールを窒素下でピリジン２mlに溶解し、０℃でヒドロキ
シルアミン塩酸塩４４２mgを加えた。室温で４時間撹拌
し、得られた反応液をエーテルで希釈した。反応液を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、減圧下に濃縮することにより、４,５−（ジメチル
メチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−
６−ヘプテナールオキシムを１.００ｇ得た。
キシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−６−ヘプテナ
ールを窒素下でピリジン２mlに溶解し、０℃でヒドロキ
シルアミン塩酸塩４４２mgを加えた。室温で４時間撹拌
し、得られた反応液をエーテルで希釈した。反応液を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
後、減圧下に濃縮することにより、４,５−（ジメチル
メチレンジオキシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−
６−ヘプテナールオキシムを１.００ｇ得た。
【００７６】参考例１２ ［４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−
ブチルジフェニルシリルオキシ）−６−ヘプテンニトリ
ルの合成］参考例８において、ｔ−ブチルジメチルシリ
ルクロリド２.０ｇの代わりにｔ−ブチルジフェニルシ
リルクロリド３.６５ｇを用いた以外は参考例７と同様
に反応及び分離精製を行うことにより、４,５−（ジメ
チルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニル
シリルオキシ）−６−ヘプテンニトリルを得た。
ブチルジフェニルシリルオキシ）−６−ヘプテンニトリ
ルの合成］参考例８において、ｔ−ブチルジメチルシリ
ルクロリド２.０ｇの代わりにｔ−ブチルジフェニルシ
リルクロリド３.６５ｇを用いた以外は参考例７と同様
に反応及び分離精製を行うことにより、４,５−（ジメ
チルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニル
シリルオキシ）−６−ヘプテンニトリルを得た。
【００７７】参考例１３ ［４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（ｔ−
ブチルジフェニルシリルオキシ）−６−ヘプテナールオ
キシムの合成］参考例７において、４,５−（ジメチル
メチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプ
テンニトリル１５９.８mgの代わりに４,５−（ジメチル
メチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニルシリ
ルオキシ）−６−ヘプテンニトリル２８８mgを用いた以
外は参考例７と同様に反応及び分離精製を行うことによ
り、下記の物性を有する４,５−（ジメチルメチレンジ
オキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）
−６−ヘプテナールオキシムを２０５mg得た。
ブチルジフェニルシリルオキシ）−６−ヘプテナールオ
キシムの合成］参考例７において、４,５−（ジメチル
メチレンジオキシ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプ
テンニトリル１５９.８mgの代わりに４,５−（ジメチル
メチレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニルシリ
ルオキシ）−６−ヘプテンニトリル２８８mgを用いた以
外は参考例７と同様に反応及び分離精製を行うことによ
り、下記の物性を有する４,５−（ジメチルメチレンジ
オキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）
−６−ヘプテナールオキシムを２０５mg得た。
【００７８】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+４５３ 実施例１ ４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐３‐メトキシ
メトキシ‐６‐ヘプテナールオキシム８９．５ｍｇを塩
化メチレン４ｍｌに溶解し、０℃でトリエチルアミン
０.０３５ｍｌを加えた。０℃で１０％次亜塩素酸ナト
リウム水溶液２．６ｍｌを加え、０℃で５７時間撹拌し
た。反応液をジエチルエーテルで希釈し、飽和重曹水、
飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下に濃縮した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を
有する４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐６‐
（メトキシメトキシ）‐３，３ａ，４，５，６，７‐ヘ
キサヒドロ‐２，１‐ベンゾイソオキサゾールを５０．
０ｍｇを得た（収率５６％）。
メトキシ‐６‐ヘプテナールオキシム８９．５ｍｇを塩
化メチレン４ｍｌに溶解し、０℃でトリエチルアミン
０.０３５ｍｌを加えた。０℃で１０％次亜塩素酸ナト
リウム水溶液２．６ｍｌを加え、０℃で５７時間撹拌し
た。反応液をジエチルエーテルで希釈し、飽和重曹水、
飽和食塩水で順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、減圧下に濃縮した後、シリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を
有する４，５‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐６‐
（メトキシメトキシ）‐３，３ａ，４，５，６，７‐ヘ
キサヒドロ‐２，１‐ベンゾイソオキサゾールを５０．
０ｍｇを得た（収率５６％）。
【００７９】１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，Ｃ
Ｃｌ４，ＴＭＳ）４．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．１Ｈ
ｚ）、４．６６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．１Ｈｚ）、４．６
３（ＡＢＸ，１Ｈ，Ｊ＝８．５，１０．０Ｈｚ）、４．
４１（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３，２．４，３．３Ｈ
ｚ）、４．１３（ＡＢＸ，１Ｈ，Ｊ＝８．５，１０．０
Ｈｚ）、３．９８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５，１０．０
Ｈｚ）、３．６３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３，９．５Ｈ
ｚ）、３．５６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３，８．５，
１０．０Ｈｚ）、３．３９（ｓ，３Ｈ）、３．０５（Ａ
ＢＸ，１Ｈ，Ｊ＝２．４，１５．７Ｈｚ）、２．４１
（ＡＢＸＹ，１Ｈ，Ｊ＝１．３，３．３，１５．７Ｈ
ｚ）、１．４５（ｓ，３Ｈ）、１．４４（ｓ，３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲスペクトル（２２．５ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ４）１５４．７、１１１．４、９６．１、８０．６、
７６．２、６８．８、５５．６、５３．５、２９．６、
２７．０、２６．６ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ
−１）３５２２、２９８２、２９３２、２８９２、２８
２４、１７２０、１６３２、１４５５、１３８１、１３
７１、１３３３、１３０６、１２６６、１２３１、１１
５１、１０８９、１０３８、９８８、９１８、８７０、
８３２、７９４、７８０、６７２、５９０、５１８ 実施例２ ラネーニッケルＷ−２（川研ファインケミカル株式会社
製、ＮＤＨＦ−９０）５５０ｍｇを水、メタノールで１
回ずつデカンテーションした。ホウ酸４８ｍｇを加え、
アルゴン置換した後、水素で置換した。メタノール１．
５ｍｌおよび水０．３ｍｌを加えてホウ酸を溶解させ、
次いで４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−
（メトキシメトキシ）−３，３ａ，４，５，６，７−ヘ
キサヒドロ−２，１−ベンゾイソオキサゾール８０ｍｇ
をメタノール３．５ｍｌに溶解して得られた溶液を室温
にて加え、５時間撹拌した。反応液をジエチルエーテル
で希釈し、フロリジルを通して濾過した。濾液を飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下に溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有
する２−ヒドロキシメチル−３，４−（ジメチルメチレ
ンジオキシ）−５−（メトキシメトキシ）シクロヘキサ
ノン４９ｍｇを得た（収率６１％）。
Ｃｌ４，ＴＭＳ）４．７６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．１Ｈ
ｚ）、４．６６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．１Ｈｚ）、４．６
３（ＡＢＸ，１Ｈ，Ｊ＝８．５，１０．０Ｈｚ）、４．
４１（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３，２．４，３．３Ｈ
ｚ）、４．１３（ＡＢＸ，１Ｈ，Ｊ＝８．５，１０．０
Ｈｚ）、３．９８（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．５，１０．０
Ｈｚ）、３．６３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．３，９．５Ｈ
ｚ）、３．５６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３，８．５，
１０．０Ｈｚ）、３．３９（ｓ，３Ｈ）、３．０５（Ａ
ＢＸ，１Ｈ，Ｊ＝２．４，１５．７Ｈｚ）、２．４１
（ＡＢＸＹ，１Ｈ，Ｊ＝１．３，３．３，１５．７Ｈ
ｚ）、１．４５（ｓ，３Ｈ）、１．４４（ｓ，３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲスペクトル（２２．５ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ４）１５４．７、１１１．４、９６．１、８０．６、
７６．２、６８．８、５５．６、５３．５、２９．６、
２７．０、２６．６ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ
−１）３５２２、２９８２、２９３２、２８９２、２８
２４、１７２０、１６３２、１４５５、１３８１、１３
７１、１３３３、１３０６、１２６６、１２３１、１１
５１、１０８９、１０３８、９８８、９１８、８７０、
８３２、７９４、７８０、６７２、５９０、５１８ 実施例２ ラネーニッケルＷ−２（川研ファインケミカル株式会社
製、ＮＤＨＦ−９０）５５０ｍｇを水、メタノールで１
回ずつデカンテーションした。ホウ酸４８ｍｇを加え、
アルゴン置換した後、水素で置換した。メタノール１．
５ｍｌおよび水０．３ｍｌを加えてホウ酸を溶解させ、
次いで４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−
（メトキシメトキシ）−３，３ａ，４，５，６，７−ヘ
キサヒドロ−２，１−ベンゾイソオキサゾール８０ｍｇ
をメタノール３．５ｍｌに溶解して得られた溶液を室温
にて加え、５時間撹拌した。反応液をジエチルエーテル
で希釈し、フロリジルを通して濾過した。濾液を飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下に溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を有
する２−ヒドロキシメチル−３，４−（ジメチルメチレ
ンジオキシ）−５−（メトキシメトキシ）シクロヘキサ
ノン４９ｍｇを得た（収率６１％）。
【００８０】1Ｈ‐ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，Ｃ
Ｃl4，ＴＭＳ） ４.５２‐４．８８（ｍ，２Ｈ）、４．３８‐４．５０
（ｍ，１Ｈ）、３．８０‐４．３０（ｍ，４Ｈ）、３．
３６（ｓ，３Ｈ）、２．３２‐２．８８（ｍ，４Ｈ）、
１．５０（ｓ，３Ｈ），１．４６（ｓ，３Ｈ）13 Ｃ‐ＮＭＲスペクトル（２２．５ＭＨｚ，ＣＣl4） ２０７．８、１１２．３、９６．２、８０．４、７２．
８、６８．７、５９．５、５６．６、５５．６、４６．
０、２７．２、２６．６、１４．７ ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３４９４、２９８２、２９３０、２８９２、１７１３、
１６４４、１４５５、１３８３、１３７１、１３２５、
１２２８、１１６９、１１５０、１１００、１０３８、
９９９、９１８、８５１、８０３、７８７、６９３、５
２７、５０６、４３９ 旋光度 ［α］D＝−７．３５°（ｃ＝０．１４，ＣＨＣl3） 実施例３ ２‐ヒドロキシメチル‐３，４‐（ジメチルメチレンジ
オキシ）‐５‐（メトキシメトキシ）シクロヘキサノン
２２ｍｇにピリジン０．５ｍｌを加え、次いで０℃で塩
化メタンスルホニル０．１ｍｌを加えて２時間撹拌し
た。反応液を冷希塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出
した。抽出液を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し
た。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
で精製することにより、下記の物性を有する２‐メチレ
ン‐３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐（メ
トキシメトキシ）シクロヘキサノン１．８ｍｇを得た
（収率８．８％）。
Ｃl4，ＴＭＳ） ４.５２‐４．８８（ｍ，２Ｈ）、４．３８‐４．５０
（ｍ，１Ｈ）、３．８０‐４．３０（ｍ，４Ｈ）、３．
３６（ｓ，３Ｈ）、２．３２‐２．８８（ｍ，４Ｈ）、
１．５０（ｓ，３Ｈ），１．４６（ｓ，３Ｈ）13 Ｃ‐ＮＭＲスペクトル（２２．５ＭＨｚ，ＣＣl4） ２０７．８、１１２．３、９６．２、８０．４、７２．
８、６８．７、５９．５、５６．６、５５．６、４６．
０、２７．２、２６．６、１４．７ ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ３４９４、２９８２、２９３０、２８９２、１７１３、
１６４４、１４５５、１３８３、１３７１、１３２５、
１２２８、１１６９、１１５０、１１００、１０３８、
９９９、９１８、８５１、８０３、７８７、６９３、５
２７、５０６、４３９ 旋光度 ［α］D＝−７．３５°（ｃ＝０．１４，ＣＨＣl3） 実施例３ ２‐ヒドロキシメチル‐３，４‐（ジメチルメチレンジ
オキシ）‐５‐（メトキシメトキシ）シクロヘキサノン
２２ｍｇにピリジン０．５ｍｌを加え、次いで０℃で塩
化メタンスルホニル０．１ｍｌを加えて２時間撹拌し
た。反応液を冷希塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出
した。抽出液を飽和重曹水、次いで飽和食塩水で洗浄し
た。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
で精製することにより、下記の物性を有する２‐メチレ
ン‐３，４‐（ジメチルメチレンジオキシ）‐５‐（メ
トキシメトキシ）シクロヘキサノン１．８ｍｇを得た
（収率８．８％）。
【００８１】ＮＭＲスペクトル（５００ＭＨｚ，ＣＣｌ
４，ＴＭＳ）５．９５６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２５，
２．７５Ｈｚ）、５．４９７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２
５，２．７５Ｈｚ）、４．８８８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝
２．７５，１０．０８Ｈｚ）、４．８３１（ＡＢ，１
Ｈ，Ｊ＝６．６５ＨＺ）、４．６９３（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ
＝６．６５Ｈｚ）、４．４５６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
１．３７，２．２９，１８．１９Ｈｚ）、３．８１６
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２９，１０．０８Ｈｚ）、３．
３８７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝０．９１Ｈｚ）、２．８１４
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３７，１８．７８Ｈｚ）、２．
６１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．０４，１８．７８Ｈ
ｚ）、１．５２２（ｓ，３Ｈ）、１．５０７（ｓ，３
Ｈ）ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１）２９８４、
２９２８、１７０２、１６３６、１４５４、１３８０、
１３７２、１２３２、１１５４、１１４３、１１０３、
１０６４、１０３８、１００３、９７７、９４６、９１
９、８６０、８３８、８０６ 実施例４ （１） 窒素雰囲気下、２−ヒドロキシメチル−３，４
−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（メトキシメト
キシ）シクロヘキサノン５６．５ｍｇおよびジエチルホ
スホニル酢酸１１２．３ｍｇを乾燥ジエチルエーテル５
ｍｌに溶解した。この溶液に０℃でＮ，Ｎ′−ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド８７．９ｍｇを加え、１時間撹
拌した。反応液を酢酸エチルで希釈した。飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に濃
縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィで精製することにより、下記の物性を有する（５，６
−（ジメチルメチレンジオキシ）−４−メトキシメトキ
シ−２−オキソシクロヘキシル）メチル ジエチルホス
ホニルアセテートを１０８．２ｍｇ得た（収率１００
％）。
４，ＴＭＳ）５．９５６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２５，
２．７５Ｈｚ）、５．４９７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．２
５，２．７５Ｈｚ）、４．８８８（ｄｔ，１Ｈ，Ｊ＝
２．７５，１０．０８Ｈｚ）、４．８３１（ＡＢ，１
Ｈ，Ｊ＝６．６５ＨＺ）、４．６９３（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ
＝６．６５Ｈｚ）、４．４５６（ｄｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
１．３７，２．２９，１８．１９Ｈｚ）、３．８１６
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．２９，１０．０８Ｈｚ）、３．
３８７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝０．９１Ｈｚ）、２．８１４
（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．３７，１８．７８Ｈｚ）、２．
６１２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．０４，１８．７８Ｈ
ｚ）、１．５２２（ｓ，３Ｈ）、１．５０７（ｓ，３
Ｈ）ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ−１）２９８４、
２９２８、１７０２、１６３６、１４５４、１３８０、
１３７２、１２３２、１１５４、１１４３、１１０３、
１０６４、１０３８、１００３、９７７、９４６、９１
９、８６０、８３８、８０６ 実施例４ （１） 窒素雰囲気下、２−ヒドロキシメチル−３，４
−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（メトキシメト
キシ）シクロヘキサノン５６．５ｍｇおよびジエチルホ
スホニル酢酸１１２．３ｍｇを乾燥ジエチルエーテル５
ｍｌに溶解した。この溶液に０℃でＮ，Ｎ′−ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド８７．９ｍｇを加え、１時間撹
拌した。反応液を酢酸エチルで希釈した。飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に濃
縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィで精製することにより、下記の物性を有する（５，６
−（ジメチルメチレンジオキシ）−４−メトキシメトキ
シ−２−オキソシクロヘキシル）メチル ジエチルホス
ホニルアセテートを１０８．２ｍｇ得た（収率１００
％）。
【００８２】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl4）
δ：４．８０（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）、４．６
３（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ＝６.８Ｈｚ）、４．０‐４．５
（ｍ，９Ｈ）、３．３６（ｓ，３Ｈ）、２．９７（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝２１．５Ｈｚ）、２．４‐３．０（ｍ，３
Ｈ）、１．１‐１．６（ｍ，１２Ｈ）、 ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９８２、２９３２、２６２８、２５２４、１７３７、
１６６６、１４７６、１４４５、１３７１、１２４０、
１１６３、１１００、１０２７、９７２、９１７、８４
５、７８７、６８８、６０１、５０５、４３９ （２） 窒素雰囲気下、（５，６‐（ジメチルメチレン
ジオキシ）‐４‐メトキシメトキシ‐２‐オキソシクロ
ヘキシル）メチル ジエチルホスホニルアセテート１
３．６ｍｇをアセトニトリル１ｍｌに溶解し、０℃で塩
化リチウム８．４ｍｇ次いでジイソプロピルエチルアミ
ン６μｌを加え、室温で１０時間撹拌した。反応液を酢
酸エチルで希釈した後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製すること
により、下記の物性を有する１，５，６，７，８，８ａ
‐ヘキサヒドロ‐７，８‐（ジメチルメチレンジオキ
シ）‐６‐メトキシメトキシ‐３Ｈ‐２‐ベンゾピラン
‐３‐オン２．１ｍｇを得た（収率２３％）。
δ：４．８０（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）、４．６
３（ＡＢ，１Ｈ，Ｊ＝６.８Ｈｚ）、４．０‐４．５
（ｍ，９Ｈ）、３．３６（ｓ，３Ｈ）、２．９７（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝２１．５Ｈｚ）、２．４‐３．０（ｍ，３
Ｈ）、１．１‐１．６（ｍ，１２Ｈ）、 ＩＲスペクトル（ｎｅａｔ，ｃｍ-1） ２９８２、２９３２、２６２８、２５２４、１７３７、
１６６６、１４７６、１４４５、１３７１、１２４０、
１１６３、１１００、１０２７、９７２、９１７、８４
５、７８７、６８８、６０１、５０５、４３９ （２） 窒素雰囲気下、（５，６‐（ジメチルメチレン
ジオキシ）‐４‐メトキシメトキシ‐２‐オキソシクロ
ヘキシル）メチル ジエチルホスホニルアセテート１
３．６ｍｇをアセトニトリル１ｍｌに溶解し、０℃で塩
化リチウム８．４ｍｇ次いでジイソプロピルエチルアミ
ン６μｌを加え、室温で１０時間撹拌した。反応液を酢
酸エチルで希釈した後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製すること
により、下記の物性を有する１，５，６，７，８，８ａ
‐ヘキサヒドロ‐７，８‐（ジメチルメチレンジオキ
シ）‐６‐メトキシメトキシ‐３Ｈ‐２‐ベンゾピラン
‐３‐オン２．１ｍｇを得た（収率２３％）。
【００８３】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣl4）
δ：５．９（ｂｒｓ，１Ｈ）、３．０‐５．０（ｍ，１
０Ｈ）、２．０‐３．０（ｍ，３Ｈ）、１．３‐１．５
（ｍ，６Ｈ） 実施例５ アルゴン雰囲気下、１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒド
ロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メト
キシメトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オン２.
１mgのトルエン０.５ml溶液に、−７８℃で水素化ジイ
ソブチルアルミニウム（０.５Ｎトルエン溶液）１８μ
ｌを加え、２時間撹拌した。０℃まで昇温した後、ジエ
チルエーテルで希釈し、飽和硫酸ナトリウム水溶液を白
色沈殿が出るまで加えた。得られた反応液に酢酸エチル
を加え、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ
り、下記の物性を有する１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサ
ヒドロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−
メトキシメトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オー
ル３.８mgを得た(収率１００％）。
δ：５．９（ｂｒｓ，１Ｈ）、３．０‐５．０（ｍ，１
０Ｈ）、２．０‐３．０（ｍ，３Ｈ）、１．３‐１．５
（ｍ，６Ｈ） 実施例５ アルゴン雰囲気下、１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒド
ロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メト
キシメトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オン２.
１mgのトルエン０.５ml溶液に、−７８℃で水素化ジイ
ソブチルアルミニウム（０.５Ｎトルエン溶液）１８μ
ｌを加え、２時間撹拌した。０℃まで昇温した後、ジエ
チルエーテルで希釈し、飽和硫酸ナトリウム水溶液を白
色沈殿が出るまで加えた。得られた反応液に酢酸エチル
を加え、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ
り、下記の物性を有する１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサ
ヒドロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−
メトキシメトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オー
ル３.８mgを得た(収率１００％）。
【００８４】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ、ＣＣ
ｌ4）δ：５.６２（ｂｒｓ，１Ｈ）、５.２２（ｂｒ
ｓ，１Ｈ）、４.５−４.８（ｍ，２Ｈ）、３.０−４.５
（ｍ，６Ｈ）、３.３（ｓ，３Ｈ）、１.８−２.７
（ｍ，３Ｈ）、１.４（ｓ，６Ｈ） 実施例６ １,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒドロ−７,８−（ジメチ
ルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−３−オール３.８mgを乾燥メタノー
ル０.６mlに溶解し、室温で触媒量のｐ−トルエンスル
ホン酸を加えた。室温で２時間撹拌した後、トリエチル
アミンを加え、減圧下水冷しながら濃縮した。得られた
残渣を短いシリカゲルカラムを通して精製することによ
り、下記の物性を有する１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサ
ヒドロ−６−メトキシメトキシ−３−メトキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−７,８−ジオール１.３mgを得た（収
率６８％）。
ｌ4）δ：５.６２（ｂｒｓ，１Ｈ）、５.２２（ｂｒ
ｓ，１Ｈ）、４.５−４.８（ｍ，２Ｈ）、３.０−４.５
（ｍ，６Ｈ）、３.３（ｓ，３Ｈ）、１.８−２.７
（ｍ，３Ｈ）、１.４（ｓ，６Ｈ） 実施例６ １,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒドロ−７,８−（ジメチ
ルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−３−オール３.８mgを乾燥メタノー
ル０.６mlに溶解し、室温で触媒量のｐ−トルエンスル
ホン酸を加えた。室温で２時間撹拌した後、トリエチル
アミンを加え、減圧下水冷しながら濃縮した。得られた
残渣を短いシリカゲルカラムを通して精製することによ
り、下記の物性を有する１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサ
ヒドロ−６−メトキシメトキシ−３−メトキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−７,８−ジオール１.３mgを得た（収
率６８％）。
【００８５】ＮＭＲスペクトル（３００ＭＨｚ、ＣＣｌ
4）δ：５.０−５.６６（ｍ，２Ｈ）、４.５５−４.８
５（ｍ，２Ｈ）、３.１５−４.２５（ｍ，８Ｈ）、３.
３９−３.４３（ｍ，６Ｈ）、１.９５−２.８０（ｍ，
４Ｈ）実施例７ １,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒドロ−７,８−（ジメチ
ルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−３−オン２８.４mgをメタノール５m
lに溶解し、６Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液０.１mlを氷
冷下に加え、室温で２時間撹拌した。反応液をジエチル
エーテルで希釈し、氷冷下に希塩酸を加えて中和した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。この溶液にジアゾメタンを吹き込み、過剰のジ
アゾメタンを留去した後、減圧下に溶媒を留去し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、
下記の物性を有する（２−ヒドロキシメチル−３,４−
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキ
シ）シクロヘキシリデン酢酸メチルを２５.４mg得た
（収率８０％）。
4）δ：５.０−５.６６（ｍ，２Ｈ）、４.５５−４.８
５（ｍ，２Ｈ）、３.１５−４.２５（ｍ，８Ｈ）、３.
３９−３.４３（ｍ，６Ｈ）、１.９５−２.８０（ｍ，
４Ｈ）実施例７ １,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒドロ−７,８−（ジメチ
ルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−３−オン２８.４mgをメタノール５m
lに溶解し、６Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液０.１mlを氷
冷下に加え、室温で２時間撹拌した。反応液をジエチル
エーテルで希釈し、氷冷下に希塩酸を加えて中和した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。この溶液にジアゾメタンを吹き込み、過剰のジ
アゾメタンを留去した後、減圧下に溶媒を留去し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、
下記の物性を有する（２−ヒドロキシメチル−３,４−
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキ
シ）シクロヘキシリデン酢酸メチルを２５.４mg得た
（収率８０％）。
【００８６】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+２８４ 実施例８ （２−ヒドロキシメチル−３,４−（ジメチルメチレン
ジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデ
ン酢酸メチル３１.６mgおよびｏ−ニトロベンゼンセレ
ネニルシアニド２７.２mgをテトラヒドロフラン５mlに
溶解し、トリブチルホスフィン２４.２mgをテトラヒド
ロフラン５mlに溶解して得られた溶液を加え、室温で１
時間撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィで精製することにより、（２−
（ｏ−ニトロベンゼンセレネニルメチル−３,４−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シ
クロヘキシリデン酢酸メチルを４４０mg得た。次いでこ
れをテトラヒドロフランに溶解し、氷冷下に３０％過酸
化水素水１滴（約０.０５ml）を滴下し、室温で３時間
撹拌した。得られた反応液をジエチルエーテルで希釈
し、チオ硫酸ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記
の物性を有する（２−メチレン−３,４−（ジメチルメ
チレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキ
シリデン酢酸メチルを１８８mg得た（収率６３％）。
ジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデ
ン酢酸メチル３１.６mgおよびｏ−ニトロベンゼンセレ
ネニルシアニド２７.２mgをテトラヒドロフラン５mlに
溶解し、トリブチルホスフィン２４.２mgをテトラヒド
ロフラン５mlに溶解して得られた溶液を加え、室温で１
時間撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィで精製することにより、（２−
（ｏ−ニトロベンゼンセレネニルメチル−３,４−（ジ
メチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シ
クロヘキシリデン酢酸メチルを４４０mg得た。次いでこ
れをテトラヒドロフランに溶解し、氷冷下に３０％過酸
化水素水１滴（約０.０５ml）を滴下し、室温で３時間
撹拌した。得られた反応液をジエチルエーテルで希釈
し、チオ硫酸ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィで精製することにより、下記
の物性を有する（２−メチレン−３,４−（ジメチルメ
チレンジオキシ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキ
シリデン酢酸メチルを１８８mg得た（収率６３％）。
【００８７】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+２９８ 実施例９ （２−メチレン−３，４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデン酢酸
メチル２９．８ｍｇをトルエン５ｍｌに溶解し、−７８
℃で水素化ジイソブチルアルミニウム（１Ｍヘキサン溶
液）を０．４ｍｌ滴下した。反応液を０℃まで昇温した
後、ジエチルエーテルで希釈し、白色沈殿を生じるまで
飽和硫酸ナトリウム水溶液を滴下し、セライトを通して
濾過した。濾液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃
縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィで精製することにより、下記の物性を有する（２−メ
チレン−３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−
メトキシメトキシ）シクロヘキシリデンエタノールを２
５．４ｍｇ得た（収率９４％）。
シ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデン酢酸
メチル２９．８ｍｇをトルエン５ｍｌに溶解し、−７８
℃で水素化ジイソブチルアルミニウム（１Ｍヘキサン溶
液）を０．４ｍｌ滴下した。反応液を０℃まで昇温した
後、ジエチルエーテルで希釈し、白色沈殿を生じるまで
飽和硫酸ナトリウム水溶液を滴下し、セライトを通して
濾過した。濾液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃
縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィで精製することにより、下記の物性を有する（２−メ
チレン−３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−
メトキシメトキシ）シクロヘキシリデンエタノールを２
５．４ｍｇ得た（収率９４％）。
【００８８】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+２７０ 実施例１０ （２−メチレン−３，４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデン酢酸
メチル２９．８ｍｇをトルエン５ｍｌに溶解し、−７８
℃で水素化ジイソブチルアルミニウム（１Ｍヘキサン溶
液）を０．１５ｍｌ滴下した。３０分間撹拌した後、水
を加え、ついで反応液を０℃まで昇温した後、ジエチル
エーテルで希釈し、白色沈殿を生じるまで飽和硫酸ナト
リウム水溶液を滴下し、セライトを通して濾過した。濾
液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮して得られ
る残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製する
ことにより、下記の物性を有する（２−メチレン−３，
４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメト
キシ）シクロヘキシリデンアセトアルデヒドを１５．０
ｍｇ得た（収率５６％）。
シ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデン酢酸
メチル２９．８ｍｇをトルエン５ｍｌに溶解し、−７８
℃で水素化ジイソブチルアルミニウム（１Ｍヘキサン溶
液）を０．１５ｍｌ滴下した。３０分間撹拌した後、水
を加え、ついで反応液を０℃まで昇温した後、ジエチル
エーテルで希釈し、白色沈殿を生じるまで飽和硫酸ナト
リウム水溶液を滴下し、セライトを通して濾過した。濾
液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮して得られ
る残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製する
ことにより、下記の物性を有する（２−メチレン−３，
４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメト
キシ）シクロヘキシリデンアセトアルデヒドを１５．０
ｍｇ得た（収率５６％）。
【００８９】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+２６８ 実施例１１ （２−メチレン−３，４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデンアセ
トアルデヒド２６．８ｍｇをエタノール２ｍｌに溶解
し、氷冷下に水素化ホウ素ナトリウム３ｍｇを加えた。
３０分間撹拌した後、ジエチルエーテルおよび希塩酸を
加え、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧下に濃縮し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィで精製することにより、（２−メチレン−
３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシ
メトキシ）シクロヘキシリデンエタノールを２５.４ｍ
ｇ得た（収率９４％）。
シ）−５−メトキシメトキシ）シクロヘキシリデンアセ
トアルデヒド２６．８ｍｇをエタノール２ｍｌに溶解
し、氷冷下に水素化ホウ素ナトリウム３ｍｇを加えた。
３０分間撹拌した後、ジエチルエーテルおよび希塩酸を
加え、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、減圧下に濃縮し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィで精製することにより、（２−メチレン−
３，４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシ
メトキシ）シクロヘキシリデンエタノールを２５.４ｍ
ｇ得た（収率９４％）。
【００９０】実施例１２ 実施例１において、４，５−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテナールオキシ
ム８９．５ｍｇの代わりに４，５−（ジメチルメチレン
ジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
−６−ヘプテナールオキシム１１３．７ｍｇを用いた以
外は実施例１と同様に反応および分離精製を行うことに
より、下記の物性を有する４，５−（ジメチルメチレン
ジオキシ）−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
−３，３ａ，４，５，６，７−ヘキサヒドロ−２，１−
ベンゾイソオキサゾールを６２．４ｍｇ得た（収率５５
％）。
シ）−３−メトキシメトキシ−６−ヘプテナールオキシ
ム８９．５ｍｇの代わりに４，５−（ジメチルメチレン
ジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
−６−ヘプテナールオキシム１１３．７ｍｇを用いた以
外は実施例１と同様に反応および分離精製を行うことに
より、下記の物性を有する４，５−（ジメチルメチレン
ジオキシ）−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
−３，３ａ，４，５，６，７−ヘキサヒドロ−２，１−
ベンゾイソオキサゾールを６２．４ｍｇ得た（収率５５
％）。
【００９１】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+３５７ 実施例１３ １，５，６，７，８，８ａ−ヘキサヒドロ−７，８−
（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ
−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オン２８４ｍｇをメタ
ノール５０ｍｌと水５ｍｌに溶解し、触媒量のｐ−トル
エンスルホン酸を加え、１時間加熱還流した。冷却後、
反応液を重曹水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。
抽出液を食塩水で洗浄し、乾燥した後、減圧下に濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製すること
により、下記の物性を有する１，５，６，７，８，８ａ
−ヘキサヒドロ−６，７，８−トリヒドロキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−３−オンを１１４ｍｇ得た（収率５
７％）。
（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メトキシメトキシ
−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オン２８４ｍｇをメタ
ノール５０ｍｌと水５ｍｌに溶解し、触媒量のｐ−トル
エンスルホン酸を加え、１時間加熱還流した。冷却後、
反応液を重曹水にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。
抽出液を食塩水で洗浄し、乾燥した後、減圧下に濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製すること
により、下記の物性を有する１，５，６，７，８，８ａ
−ヘキサヒドロ−６，７，８−トリヒドロキシ−３Ｈ−
２−ベンゾピラン−３−オンを１１４ｍｇ得た（収率５
７％）。
【００９２】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+２００ 実施例１４ １，５，６，７，８，８ａ−ヘキサヒドロ−６，７，８
−トリヒドロキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オン
１００ｍｇを塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、室温にて
ピリジン３００ｍｇおよび塩化アセチル３００ｍｇを加
え、室温で一夜撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈
し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィで精製することにより、１，５，
６，７，８，８ａ−ヘキサヒドロ−６，７，８−トリア
セトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンを１４３
ｍｇ得た（収率８８％）。
−トリヒドロキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オン
１００ｍｇを塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、室温にて
ピリジン３００ｍｇおよび塩化アセチル３００ｍｇを加
え、室温で一夜撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈
し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィで精製することにより、１，５，
６，７，８，８ａ−ヘキサヒドロ−６，７，８−トリア
セトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンを１４３
ｍｇ得た（収率８８％）。
【００９３】実施例１５ ４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−（メトキ
シメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−
２,１−ベンゾイソオキサゾール２５７ｍｇをテトヒド
ロフラン１０ｍｌに溶解し、１Ｎ−塩酸１ｍｌを加えて
室温で４時間撹拌した。ジエチルエーテルで希釈し、重
曹水で中和し、有機層を食塩水で洗浄して無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ
り、下記の物性を有する４,５−ジヒドロキシ−６−
（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサ
ヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール１６７ｍｇを
得た（収率７７％）。
シメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−
２,１−ベンゾイソオキサゾール２５７ｍｇをテトヒド
ロフラン１０ｍｌに溶解し、１Ｎ−塩酸１ｍｌを加えて
室温で４時間撹拌した。ジエチルエーテルで希釈し、重
曹水で中和し、有機層を食塩水で洗浄して無水硫酸ナト
リウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ
り、下記の物性を有する４,５−ジヒドロキシ−６−
（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサ
ヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール１６７ｍｇを
得た（収率７７％）。
【００９４】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ２１７ 実施例１６ ４，５−ジヒドロキシ−６−（メトキシメトキシ）−
３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイ
ソオキサゾール２１７ｍｇを塩化メチレン１０ｍｌに溶
解し、氷冷下にピリジン１ｍｌ次いでクロル炭酸メチル
１００ｍｇを加えた。室温で３時間撹拌した。ジエチル
エーテルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄
した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して
得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精
製することにより、下記の物性を有する４−ヒドロキシ
−５−メトキシカルボニルオキシ−６−（メトキシメト
キシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−
ベンゾイソオキサゾール１３７ｍｇを得た（収率５０
％）。
３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイ
ソオキサゾール２１７ｍｇを塩化メチレン１０ｍｌに溶
解し、氷冷下にピリジン１ｍｌ次いでクロル炭酸メチル
１００ｍｇを加えた。室温で３時間撹拌した。ジエチル
エーテルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄
した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して
得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精
製することにより、下記の物性を有する４−ヒドロキシ
−５−メトキシカルボニルオキシ−６−（メトキシメト
キシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−
ベンゾイソオキサゾール１３７ｍｇを得た（収率５０
％）。
【００９５】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ２７５ 実施例１７ ４−ヒドロキシ−５−メトキシカルボニルオキシ−６−
（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサ
ヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール２７５ｍｇを
塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、イミダゾール２００ｍ
ｇおよびｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２２６ｍｇ
を加え、室温で一夜撹拌した。反応液をジエチルエーテ
ルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られ
る残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製する
ことにより、下記の物性を有する４−（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）−５−メトキシカルボニルオキシ−
６−（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘ
キサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールを２８５
ｍｇ得た（収率７３％）。
（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサ
ヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール２７５ｍｇを
塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、イミダゾール２００ｍ
ｇおよびｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２２６ｍｇ
を加え、室温で一夜撹拌した。反応液をジエチルエーテ
ルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られ
る残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製する
ことにより、下記の物性を有する４−（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）−５−メトキシカルボニルオキシ−
６−（メトキシメトキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘ
キサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールを２８５
ｍｇ得た（収率７３％）。
【００９６】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ３８９ 実施例１８ ４,５−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−（ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−
ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール３２７
ｍｇをテトヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、１Ｎ−塩酸
１ｍｌを加えて室温で４時間撹拌した。ジエチルエーテ
ルで希釈し、重曹水で中和し、有機層を食塩水で洗浄し
て無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製
することにより、下記の物性を有する４,５−ジヒドロ
キシ−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−３,
３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソ
オキサゾールを１９６ｍｇ得た（収率６８％）。
チルジメチルシリルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−
ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾール３２７
ｍｇをテトヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、１Ｎ−塩酸
１ｍｌを加えて室温で４時間撹拌した。ジエチルエーテ
ルで希釈し、重曹水で中和し、有機層を食塩水で洗浄し
て無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に濃縮し、得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製
することにより、下記の物性を有する４,５−ジヒドロ
キシ−６−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−３,
３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソ
オキサゾールを１９６ｍｇ得た（収率６８％）。
【００９７】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ２８７ 実施例１９ ４,５−ジヒドロキシ−６−（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,
１−ベンゾイソオキサゾール２８７ｍｇを塩化メチレン
１０ｍｌに溶解し、氷冷下にイミダゾール２００ｍｇお
よびｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２２６ｍｇを加
え、室温で一夜撹拌した。反応液をジエチルエーテルで
希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製すること
により、下記の物性を有する４,６−ビス（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−５−ヒドロキシ−３,３ａ,
４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサ
ゾールを２６５ｍｇ得た（収率６６％）。
ルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,
１−ベンゾイソオキサゾール２８７ｍｇを塩化メチレン
１０ｍｌに溶解し、氷冷下にイミダゾール２００ｍｇお
よびｔ−ブチルジメチルシリルクロリド２２６ｍｇを加
え、室温で一夜撹拌した。反応液をジエチルエーテルで
希釈し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製すること
により、下記の物性を有する４,６−ビス（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−５−ヒドロキシ−３,３ａ,
４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサ
ゾールを２６５ｍｇ得た（収率６６％）。
【００９８】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４０１ 実施例２０ ４,６−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−５
−ヒドロキシ−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−
２,１−ベンゾイソオキサゾール４０１ｍｇを塩化メチ
レン２０ｍｌに溶解し、トリエチルアミン５ｍｌおよび
４−ジメチルアミノピリジン０.５ｇを加えた後、塩化
アセチル１００ｍｇを加え、室温で一夜撹拌した。反応
液をジエチルエーテルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩
水で順次洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィで精製することにより、下記の物性を有する５
−アセトキシ−４,６−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,
１−ベンゾイソオキサゾールを３５５ｍｇ得た（収率８
０％）。
−ヒドロキシ−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−
２,１−ベンゾイソオキサゾール４０１ｍｇを塩化メチ
レン２０ｍｌに溶解し、トリエチルアミン５ｍｌおよび
４−ジメチルアミノピリジン０.５ｇを加えた後、塩化
アセチル１００ｍｇを加え、室温で一夜撹拌した。反応
液をジエチルエーテルで希釈し、希塩酸、重曹水、食塩
水で順次洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィで精製することにより、下記の物性を有する５
−アセトキシ−４,６−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,
１−ベンゾイソオキサゾールを３５５ｍｇ得た（収率８
０％）。
【００９９】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４４３ 実施例２１ 実施例２において、４,５−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−６−メトキシメトキシ−３,３ａ,４,５,６,７−
ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールの代わ
りに５−アセトキシ−４,６−ビス（ｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒド
ロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールを用い、実施例２
に準じて反応および分離精製を行うことにより、下記の
物性を有する４−アセトキシ−３,５−ビス（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）−２−ヒドロキシメチルシク
ロヘキサノンを収率７２％で得た。
シ）−６−メトキシメトキシ−３,３ａ,４,５,６,７−
ヘキサヒドロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールの代わ
りに５−アセトキシ−４,６−ビス（ｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒド
ロ−２,１−ベンゾイソオキサゾールを用い、実施例２
に準じて反応および分離精製を行うことにより、下記の
物性を有する４−アセトキシ−３,５−ビス（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）−２−ヒドロキシメチルシク
ロヘキサノンを収率７２％で得た。
【０１００】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４４６ 実施例２２ 実施例４において、２−ヒドロキシメチル−３,４−
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（メトキシメトキ
シ）シクロヘキサノンの代わりに４−アセトキシ−３,
５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２−ヒ
ドロキシメチルシクロヘキサノンを用い、実施例４に準
じて反応および分離精製を行うことにより、下記の物性
を有する７−アセトキシ−６,８−ビス（ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ）−１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサ
ヒドロ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンを３４％の
収率で得た。
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（メトキシメトキ
シ）シクロヘキサノンの代わりに４−アセトキシ−３,
５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２−ヒ
ドロキシメチルシクロヘキサノンを用い、実施例４に準
じて反応および分離精製を行うことにより、下記の物性
を有する７−アセトキシ−６,８−ビス（ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ）−１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサ
ヒドロ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンを３４％の
収率で得た。
【０１０１】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４７０ 実施例２３ 実施例７において、１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒド
ロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メト
キシメトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンの代
わりに７−アセトキシ−６,８−ビス（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）−１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒ
ドロ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンを用い、実施
例７に準じて反応および分離精製を行うことにより、下
記の物性を有する（３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）−４−ヒドロキシ−２−ヒドロキシメチ
ル）シクロヘキシリデン酢酸メチルを８１％の収率で得
た。 ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４６０ 実施例２４ 実施例８において、（２−ヒドロキシメチル−３,４−
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキ
シ）シクロヘキシリデン酢酸メチルの代わりに（３,５
−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４−ヒド
ロキシ−２−ヒドロキシメチル）シクロヘキシリデン酢
酸メチルを用い、実施例８に準じて反応および分離精製
を行うことにより、下記の物性を有する３,５−ビス
（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４−ヒドロキシ
−２−メチレンシクロヘキシリデン酢酸メチルを５１％
の収率で得た。
ロ−７,８−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−メト
キシメトキシ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンの代
わりに７−アセトキシ−６,８−ビス（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）−１,５,６,７,８,８ａ−ヘキサヒ
ドロ−３Ｈ−２−ベンゾピラン−３−オンを用い、実施
例７に準じて反応および分離精製を行うことにより、下
記の物性を有する（３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）−４−ヒドロキシ−２−ヒドロキシメチ
ル）シクロヘキシリデン酢酸メチルを８１％の収率で得
た。 ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４６０ 実施例２４ 実施例８において、（２−ヒドロキシメチル−３,４−
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−メトキシメトキ
シ）シクロヘキシリデン酢酸メチルの代わりに（３,５
−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４−ヒド
ロキシ−２−ヒドロキシメチル）シクロヘキシリデン酢
酸メチルを用い、実施例８に準じて反応および分離精製
を行うことにより、下記の物性を有する３,５−ビス
（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４−ヒドロキシ
−２−メチレンシクロヘキシリデン酢酸メチルを５１％
の収率で得た。
【０１０２】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４４２ 実施例２５ ３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４
−ヒドロキシ−２−メチレンシクロヘキシリデン酢酸メ
チル４４２ｍｇを塩化メチレン２０ｍｌに溶解し、ピリ
ジンを１ｍｌ、４−ジメチルアミノピリジンを触媒量次
いでメタンスルホニルクロリドを１５０ｍｇ加え、室温
で４時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで希釈
し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ
り、下記の物性を有する３,５−ビス（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）−４−（メタンスルホニルオキシ）
−２−メチレンシクロヘキシリデン酢酸メチルを得た。
−ヒドロキシ−２−メチレンシクロヘキシリデン酢酸メ
チル４４２ｍｇを塩化メチレン２０ｍｌに溶解し、ピリ
ジンを１ｍｌ、４−ジメチルアミノピリジンを触媒量次
いでメタンスルホニルクロリドを１５０ｍｇ加え、室温
で４時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで希釈
し、希塩酸、重曹水、食塩水で順次洗浄した。無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することによ
り、下記の物性を有する３,５−ビス（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）−４−（メタンスルホニルオキシ）
−２−メチレンシクロヘキシリデン酢酸メチルを得た。
【０１０３】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ５２０ 参考例１４ ３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−４
−（メタンスルホニルオキシ）−２−メチレンシクロヘ
キシリデン酢酸メチル５２ｍｇをテトラヒドロフラン１
０ｍｌに溶解し、水素化トリイソブチルホウ素リチウム
の１Ｍテトラヒドロフラン溶液１ｍｌを滴下し、室温で
６時間撹拌した。得られた反応液に酢酸エチルを徐々に
加えた後、希塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出し
た。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した後、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の
物性を有する２−（３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデン）エ
タノールを３５ｍｇ得た。各種スペクトルデータは文献
と一致した。
−（メタンスルホニルオキシ）−２−メチレンシクロヘ
キシリデン酢酸メチル５２ｍｇをテトラヒドロフラン１
０ｍｌに溶解し、水素化トリイソブチルホウ素リチウム
の１Ｍテトラヒドロフラン溶液１ｍｌを滴下し、室温で
６時間撹拌した。得られた反応液に酢酸エチルを徐々に
加えた後、希塩酸を加え、ジエチルエーテルで抽出し
た。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した後、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の
物性を有する２−（３,５−ビス（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデン）エ
タノールを３５ｍｇ得た。各種スペクトルデータは文献
と一致した。
【０１０４】融点 ６９℃ 施光度 ［α］２５ Ｄ＋７．９°（ｃ＝０．４，エタノール） 実施例２６ ４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−３−（１−エ
トキシエトキシ）−６−ヘプテナールオキシム１．００
ｇを塩化メチレン１５ｍｌに溶解し、０℃でトリエチル
アミン０．２ｍｌに加えた。ついで１０％次亜塩素酸ナ
トリウム水溶液８ｍｌを加え、０℃で１１時間撹拌し
た。反応液をエチルエーテルで希釈し、重曹水、食塩水
で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィで精製することにより、下記の物性を有する
４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−（１−エ
トキシエトキシ）−３，３ａ，４，５，６，７−ヘキサ
ヒドロ−２，１−ベンゾイソオキサゾールを５３０ｍｇ
得た。
トキシエトキシ）−６−ヘプテナールオキシム１．００
ｇを塩化メチレン１５ｍｌに溶解し、０℃でトリエチル
アミン０．２ｍｌに加えた。ついで１０％次亜塩素酸ナ
トリウム水溶液８ｍｌを加え、０℃で１１時間撹拌し
た。反応液をエチルエーテルで希釈し、重曹水、食塩水
で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィで精製することにより、下記の物性を有する
４，５−（ジメチルメチレンジオキシ）−６−（１−エ
トキシエトキシ）−３，３ａ，４，５，６，７−ヘキサ
ヒドロ−２，１−ベンゾイソオキサゾールを５３０ｍｇ
得た。
【０１０５】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ４）δ： ４．８−５．０（ｍ，１Ｈ）、４．３８−４．８（ｍ，
２Ｈ）、３．２−４．３８（ｍ，５Ｈ）、３．０７，
３．０８（ｄｄ，１Ｈ，２．６，４．６Ｈｚ）、２．２
−２．６（ｍ，１Ｈ）、１．４４（ｓ，３Ｈ）、１．４
２（ｓ，３Ｈ）、１．３１（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，３
Ｈ）、１．１９（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ） 実施例２７ フラスコにラネーニッケルＷ−２（川研フアインケミカ
ル株式会社製、ＮＤＨＦ−９０）５．９８ｇをとり、
水、メタノールで１回ずつデカンテーションした。これ
にホウ酸８８８ｍｇを加え、アルゴン置換し、ついで水
素で置換した。メタノール２５ｍｌ、水６ｍｌを加えて
ホウ酸を溶解させた。４，５−（ジメチルメチレンジオ
キシ）−６−（１−エトキシエトキシ）−３，３ａ，
４，５，６，７−ヘキサヒドロ−２，１−ベンゾイソオ
キサゾール２．０３ｇをメタノール５ｍｌに溶解し、室
温で上記懸濁液に加え、１３時間撹拌した。反応液をジ
エチルエーテルで希釈し、フロリジルを通して濾過し
た。濾液を飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、
下記の物性を有する２−ヒドロキシメチル−３，４−
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエ
トキシ）シクロヘキサノンを１．３９ｇ得た。
ｌ４）δ： ４．８−５．０（ｍ，１Ｈ）、４．３８−４．８（ｍ，
２Ｈ）、３．２−４．３８（ｍ，５Ｈ）、３．０７，
３．０８（ｄｄ，１Ｈ，２．６，４．６Ｈｚ）、２．２
−２．６（ｍ，１Ｈ）、１．４４（ｓ，３Ｈ）、１．４
２（ｓ，３Ｈ）、１．３１（ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，３
Ｈ）、１．１９（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ） 実施例２７ フラスコにラネーニッケルＷ−２（川研フアインケミカ
ル株式会社製、ＮＤＨＦ−９０）５．９８ｇをとり、
水、メタノールで１回ずつデカンテーションした。これ
にホウ酸８８８ｍｇを加え、アルゴン置換し、ついで水
素で置換した。メタノール２５ｍｌ、水６ｍｌを加えて
ホウ酸を溶解させた。４，５−（ジメチルメチレンジオ
キシ）−６−（１−エトキシエトキシ）−３，３ａ，
４，５，６，７−ヘキサヒドロ−２，１−ベンゾイソオ
キサゾール２．０３ｇをメタノール５ｍｌに溶解し、室
温で上記懸濁液に加え、１３時間撹拌した。反応液をジ
エチルエーテルで希釈し、フロリジルを通して濾過し
た。濾液を飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、
下記の物性を有する２−ヒドロキシメチル−３，４−
（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエ
トキシ）シクロヘキサノンを１．３９ｇ得た。
【０１０６】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ4）δ：４.８−５.０（ｍ，１Ｈ）、４.４５（ｍ，１
Ｈ）、３.８−４.３（ｍ，４Ｈ）、３.３−３.８（ｍ，
２Ｈ）、２.３−２.９（ｍ，４Ｈ）、１.４９（ｓ，３
Ｈ）、１.３０（ｄ，Ｊ＝５.５Ｈｚ，３Ｈ）、１.１８
（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，３Ｈ） 実施例２８ ２−ヒドロキシメチル−３,４−（ジメチルメチレンジ
オキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサ
ノン７６５mgを乾燥塩化メチレン７mlに溶解し、０℃で
トリエチルアミン１.２ml、Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノピリ
ジン５５.６mg、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド５
２０mgを加え、０℃で１３時間撹拌した。得られた反応
液を１Ｎ−塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。
抽出液を飽和重曹水、ついで飽和食塩水で洗浄したの
ち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して
得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精
製することにより、下記の物性を有する２−（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシメチル）−３,４−（ジメチル
メチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シ
クロヘキサノンを１.０４ｇを得た。
ｌ4）δ：４.８−５.０（ｍ，１Ｈ）、４.４５（ｍ，１
Ｈ）、３.８−４.３（ｍ，４Ｈ）、３.３−３.８（ｍ，
２Ｈ）、２.３−２.９（ｍ，４Ｈ）、１.４９（ｓ，３
Ｈ）、１.３０（ｄ，Ｊ＝５.５Ｈｚ，３Ｈ）、１.１８
（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，３Ｈ） 実施例２８ ２−ヒドロキシメチル−３,４−（ジメチルメチレンジ
オキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサ
ノン７６５mgを乾燥塩化メチレン７mlに溶解し、０℃で
トリエチルアミン１.２ml、Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノピリ
ジン５５.６mg、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド５
２０mgを加え、０℃で１３時間撹拌した。得られた反応
液を１Ｎ−塩酸にあけ、ジエチルエーテルで抽出した。
抽出液を飽和重曹水、ついで飽和食塩水で洗浄したの
ち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して
得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精
製することにより、下記の物性を有する２−（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシメチル）−３,４−（ジメチル
メチレンジオキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シ
クロヘキサノンを１.０４ｇを得た。
【０１０７】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ4）δ：４.８−５.０２（ｍ，１Ｈ）、４.３−４.６
（ｍ，２Ｈ）、４.０−４.３（ｍ，１Ｈ）、３.４−４.
０（ｍ，４Ｈ）、２.２−２.９（ｍ，３Ｈ）、１.４９
（ｓ，３Ｈ）、１.４５（ｓ，３Ｈ）、１.２９（ｄ，Ｊ
＝５.３Ｈｚ，３Ｈ）、１.１８（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，
３Ｈ）、０.８７（ｓ，９Ｈ）、０.０７（ｓ，６Ｈ） 実施例２９ アルゴン雰囲気下、ジシクロヘキシルアミン０.８０ml
を乾燥テトラヒドロフラン７mlに溶解し、−２０℃でブ
チルリチウムのヘキサン溶液（１.６３Ｎ，３.９６mmo
l)を加え、３０分間撹拌した。−７８℃に冷却後、エチ
ルトリメチルシリルアセテート０.７３mlを加え、−７
８℃で１時間撹拌した。２−（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサノン
８０２mgを乾燥テトラヒドロフラン６mlに溶解し、−７
８℃で滴下した。２時間撹拌したのち、０℃で５時間撹
拌し、反応液を氷の入った１Ｎ−塩酸にあけた。ジエチ
ルエーテルで抽出し、抽出液を飽和重曹水、ついで飽和
食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を
有する（２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチ
ル）−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−
（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エ
チルを７０４mg得、原料の２−（ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジオ
キシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサノ
ンを２２７mg回収した。
ｌ4）δ：４.８−５.０２（ｍ，１Ｈ）、４.３−４.６
（ｍ，２Ｈ）、４.０−４.３（ｍ，１Ｈ）、３.４−４.
０（ｍ，４Ｈ）、２.２−２.９（ｍ，３Ｈ）、１.４９
（ｓ，３Ｈ）、１.４５（ｓ，３Ｈ）、１.２９（ｄ，Ｊ
＝５.３Ｈｚ，３Ｈ）、１.１８（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，
３Ｈ）、０.８７（ｓ，９Ｈ）、０.０７（ｓ，６Ｈ） 実施例２９ アルゴン雰囲気下、ジシクロヘキシルアミン０.８０ml
を乾燥テトラヒドロフラン７mlに溶解し、−２０℃でブ
チルリチウムのヘキサン溶液（１.６３Ｎ，３.９６mmo
l)を加え、３０分間撹拌した。−７８℃に冷却後、エチ
ルトリメチルシリルアセテート０.７３mlを加え、−７
８℃で１時間撹拌した。２−（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサノン
８０２mgを乾燥テトラヒドロフラン６mlに溶解し、−７
８℃で滴下した。２時間撹拌したのち、０℃で５時間撹
拌し、反応液を氷の入った１Ｎ−塩酸にあけた。ジエチ
ルエーテルで抽出し、抽出液を飽和重曹水、ついで飽和
食塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を
有する（２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチ
ル）−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−
（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エ
チルを７０４mg得、原料の２−（ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジオ
キシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキサノ
ンを２２７mg回収した。
【０１０８】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ4）δ：５.７３（ｓ，１Ｈ）、４.７−５.０（ｍ，１
Ｈ）、４.１４（ｑ，Ｊ＝７.３Ｈｚ，２Ｈ）、３.２−
３.８（ｍ，４Ｈ）、２.６９（ｂｄｄｄ，Ｊ＝１.０，
１.５，６.７Ｈｚ，２Ｈ）、１.４２（ｓ，６Ｈ）、１.
２９（ｄ，Ｊ＝５.３Ｈｚ，３Ｈ）、１.２６（ｔ，Ｊ＝
７.３Ｈｚ，３Ｈ）、０.８８（ｓ，９Ｈ）、０.１２
（ｓ，３Ｈ）、０.０５（ｓ，３Ｈ） 実施例３０ （２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−
３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エ
トキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチル２ｇ
を乾燥トルエン１０mlに溶解し、−７８℃で水素化ジイ
ソブチルアルミニウム４.７ml（２Ｎ−ヘキサン溶液、
９.４mmol）を加え３時間撹拌した。０℃で５分間撹拌
したのち、１０％−硫酸水溶液を反応液が白くなるまで
徐々に加えた。ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽
和重曹水、ついで飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することに
より、下記の物性を有する（２−（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジ
オキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシ
リデン）エタノールを１.４７ｇ得た。
ｌ4）δ：５.７３（ｓ，１Ｈ）、４.７−５.０（ｍ，１
Ｈ）、４.１４（ｑ，Ｊ＝７.３Ｈｚ，２Ｈ）、３.２−
３.８（ｍ，４Ｈ）、２.６９（ｂｄｄｄ，Ｊ＝１.０，
１.５，６.７Ｈｚ，２Ｈ）、１.４２（ｓ，６Ｈ）、１.
２９（ｄ，Ｊ＝５.３Ｈｚ，３Ｈ）、１.２６（ｔ，Ｊ＝
７.３Ｈｚ，３Ｈ）、０.８８（ｓ，９Ｈ）、０.１２
（ｓ，３Ｈ）、０.０５（ｓ，３Ｈ） 実施例３０ （２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−
３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エ
トキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチル２ｇ
を乾燥トルエン１０mlに溶解し、−７８℃で水素化ジイ
ソブチルアルミニウム４.７ml（２Ｎ−ヘキサン溶液、
９.４mmol）を加え３時間撹拌した。０℃で５分間撹拌
したのち、１０％−硫酸水溶液を反応液が白くなるまで
徐々に加えた。ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽
和重曹水、ついで飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製することに
より、下記の物性を有する（２−（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシメチル）−３,４−（ジメチルメチレンジ
オキシ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシ
リデン）エタノールを１.４７ｇ得た。
【０１０９】ＮＭＲスペクトル（９０ＭＨｚ，ＣＣ
ｌ4）δ：５.６４（ｂｔ，Ｊ＝６.８Ｈｚ，１Ｈ）、４.
７−４.９（ｍ，１Ｈ）、３.０８−４.４（ｍ，７
Ｈ）、３.４８（ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ）、２.０−３.
０８（ｍ，３Ｈ）、１.４１（ｓ，６Ｈ）、１.２０
（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，３Ｈ）、１.０４−１.４（ｍ，
３Ｈ）、０.９０（ｓ，９Ｈ）、０.０８（ｓ，６Ｈ） 実施例３１ 実施例２６において、４,５−（ジメチルメチレンジオ
キシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−６−ヘプテナ
ールオキシム１.００ｇの代わりに４,５−（ジメチルメ
チレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ）−６−ヘプテナールオキシム１.５８ｇを用い
た以外は実施例２６と同様に反応及び分離精製を行うこ
とにより、下記の物性を有する４,５−（ジメチルメチ
レンジオキシ）−６−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオ
キシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−
ベンゾイソオキサゾールを１.２１ｇ得た。
ｌ4）δ：５.６４（ｂｔ，Ｊ＝６.８Ｈｚ，１Ｈ）、４.
７−４.９（ｍ，１Ｈ）、３.０８−４.４（ｍ，７
Ｈ）、３.４８（ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ）、２.０−３.
０８（ｍ，３Ｈ）、１.４１（ｓ，６Ｈ）、１.２０
（ｔ，Ｊ＝７.０Ｈｚ，３Ｈ）、１.０４−１.４（ｍ，
３Ｈ）、０.９０（ｓ，９Ｈ）、０.０８（ｓ，６Ｈ） 実施例３１ 実施例２６において、４,５−（ジメチルメチレンジオ
キシ）−３−（１−エトキシエトキシ）−６−ヘプテナ
ールオキシム１.００ｇの代わりに４,５−（ジメチルメ
チレンジオキシ）−３−（ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ）−６−ヘプテナールオキシム１.５８ｇを用い
た以外は実施例２６と同様に反応及び分離精製を行うこ
とにより、下記の物性を有する４,５−（ジメチルメチ
レンジオキシ）−６−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオ
キシ）−３,３ａ,４,５,６,７−ヘキサヒドロ−２,１−
ベンゾイソオキサゾールを１.２１ｇ得た。
【０１１０】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４５１ 実施例３２ （２−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル）−
３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エ
トキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチル０.
４７２ｇをテトラヒドロフラン５mlに溶解し、１Ｍ−フ
ツ化テトラブチルアンモニウム−テトラヒドロフラン溶
液３mlを加え、室温で一夜撹拌した。反応液をジエチル
エーテルで希釈し、飽和重曹水、ついで飽和食塩水で洗
浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に
濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィで精製することにより、（２−ヒドロキシメチル−
３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エ
トキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルを得
た。
３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エ
トキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチル０.
４７２ｇをテトラヒドロフラン５mlに溶解し、１Ｍ−フ
ツ化テトラブチルアンモニウム−テトラヒドロフラン溶
液３mlを加え、室温で一夜撹拌した。反応液をジエチル
エーテルで希釈し、飽和重曹水、ついで飽和食塩水で洗
浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に
濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィで精製することにより、（２−ヒドロキシメチル−
３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エ
トキシエトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルを得
た。
【０１１１】得られた（２−ヒドロキシメチル−３,４
−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシ
エトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルをピリジン
５mlに溶解し、メタンスルホニルクロリド０.１２ｇを
加えて室温で一夜撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、
ジエチルエーテルで希釈し、飽和重曹水、ついで飽和食
塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィで精製することにより、下記の物性を有す
る（２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデ
ン）酢酸エチルを０.２８２ｇ得た。
−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−（１−エトキシ
エトキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルをピリジン
５mlに溶解し、メタンスルホニルクロリド０.１２ｇを
加えて室温で一夜撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、
ジエチルエーテルで希釈し、飽和重曹水、ついで飽和食
塩水で洗浄したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィで精製することにより、下記の物性を有す
る（２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデ
ン）酢酸エチルを０.２８２ｇ得た。
【０１１２】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ３４０ 実施例３３ （２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデ
ン）酢酸エチル０.３４ｇをエタノール５mlに溶解し、
触媒量のピリジニウム ｐ−トルエンスルホナートを加
えて室温で１５分間撹拌した。反応液に重曹水を加え、
ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄
した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮し
て得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで
精製することにより、下記の物性を有する（２−メチレ
ン−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−ヒド
ロキシシクロヘキシリデン）酢酸エチルを０.２０２ｇ
得た。
シ）−５−（１−エトキシエトキシ）シクロヘキシリデ
ン）酢酸エチル０.３４ｇをエタノール５mlに溶解し、
触媒量のピリジニウム ｐ−トルエンスルホナートを加
えて室温で１５分間撹拌した。反応液に重曹水を加え、
ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄
した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮し
て得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで
精製することにより、下記の物性を有する（２−メチレ
ン−３,４−（ジメチルメチレンジオキシ）−５−ヒド
ロキシシクロヘキシリデン）酢酸エチルを０.２０２ｇ
得た。
【０１１３】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ２６８ 実施例３４ （２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−ヒドロキシシクロヘキシリデン）酢酸エチル
０.２６８ｇを塩化メチレン５mlに溶解し、イミダゾー
ル０.２０４ｇおよびｔ−ブチルジフェニルシリルクロ
リド０.３０ｇを加えて室温で３時間撹拌した。反応液
を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和
食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィで精製することにより、下記の物性を有する
（２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）シク
ロヘキシリデン）酢酸エチルを０.４５０ｇ得た。
シ）−５−ヒドロキシシクロヘキシリデン）酢酸エチル
０.２６８ｇを塩化メチレン５mlに溶解し、イミダゾー
ル０.２０４ｇおよびｔ−ブチルジフェニルシリルクロ
リド０.３０ｇを加えて室温で３時間撹拌した。反応液
を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を飽和
食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィで精製することにより、下記の物性を有する
（２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）シク
ロヘキシリデン）酢酸エチルを０.４５０ｇ得た。
【０１１４】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ５０６ 実施例３５ （２−メチレン−３,４−（ジメチルメチレンジオキ
シ）−５−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）シク
ロヘキシリデン）酢酸エチル０.５０６ｇをエタノール
１０mlに溶解し、触媒量のｐ−トルエンスルホン酸を加
えて室温で５時間撹拌した。反応液に水を加え、ジエチ
ルエーテルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した。
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得ら
れる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製す
ることにより、下記の物性を有する（２−メチレン−
３,４−ジヒドロキシ−５−（ｔ−ブチルジフェニルシ
リルオキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルを０.４
０５ｇ得た。
シ）−５−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）シク
ロヘキシリデン）酢酸エチル０.５０６ｇをエタノール
１０mlに溶解し、触媒量のｐ−トルエンスルホン酸を加
えて室温で５時間撹拌した。反応液に水を加え、ジエチ
ルエーテルで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した。
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得ら
れる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで精製す
ることにより、下記の物性を有する（２−メチレン−
３,４−ジヒドロキシ−５−（ｔ−ブチルジフェニルシ
リルオキシ）シクロヘキシリデン）酢酸エチルを０.４
０５ｇ得た。
【０１１５】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ４６６ 実施例３６ （２−メチレン−３,４−ジヒドロキシ−５−（ｔ−ブ
チルジフェニルシリルオキシ）シクロヘキシリデン）酢
酸エチル０.４６６ｇを塩化メチレン５mlに溶解し、イ
ミダゾール０.２０４ｇおよびｔ−ブチルジフェニルシ
リルクロリド０.３０ｇを加えて室温で３時間撹拌し
た。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出し、抽
出液を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物
性を有する（３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシ
リルオキシ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロ
ヘキシリデン）酢酸エチルを０.６６４ｇ得た。
チルジフェニルシリルオキシ）シクロヘキシリデン）酢
酸エチル０.４６６ｇを塩化メチレン５mlに溶解し、イ
ミダゾール０.２０４ｇおよびｔ−ブチルジフェニルシ
リルクロリド０.３０ｇを加えて室温で３時間撹拌し
た。反応液を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出し、抽
出液を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物
性を有する（３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシ
リルオキシ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロ
ヘキシリデン）酢酸エチルを０.６６４ｇ得た。
【０１１６】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ７０４ 実施例３７ （３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキ
シ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロヘキシリ
デン）酢酸エチル０.７０４ｇをトルエン２０mlに溶解
し、−７８℃で１Ｎ−水素化ジイソブチルアルミニウム
／ヘキサン溶液２.５mlを滴下した。１時間撹拌したの
ち、冷希塩酸にあけてジエチルエーテルで抽出した。抽
出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を
有する（３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロヘキ
シリデン）エタノールを５１１mg得た。
シ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロヘキシリ
デン）酢酸エチル０.７０４ｇをトルエン２０mlに溶解
し、−７８℃で１Ｎ−水素化ジイソブチルアルミニウム
／ヘキサン溶液２.５mlを滴下した。１時間撹拌したの
ち、冷希塩酸にあけてジエチルエーテルで抽出した。抽
出液を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製することにより、下記の物性を
有する（３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロヘキ
シリデン）エタノールを５１１mg得た。
【０１１７】ＦＤ質量スペクトル［Ｍ］+ ６６２ 実施例３８ （３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキ
シ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロヘキシリ
デン）エタノール６６２mgを塩化メチレン１０mlに溶解
し、ピリジニウム ｐ−トルエンスルホナートを触媒量
加えたのち、氷冷下にジヒドロピラン１００mgと塩化メ
チレン１mlからなる溶液を滴下し、室温で１時間撹拌し
た。反応液を重曹水で洗浄したのち、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた４−（テトラ
ヒドロピラン−２−イルオキシエチリデン）−２,６−
ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−３−メ
チレン−シクロヘキサノールをテトラヒドロフラン１０
mlに溶解し、水素化ナトリウム２５mgのテトラヒドロフ
ラン５ml懸濁液に滴下した。５０℃に加熱したのち、臭
化アリル１４５mgを加え、一夜撹拌を続けた。反応液を
氷水にあけてジエチルエーテルで抽出した。抽出液を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下に濃縮した。得られた（４−アリルオキシ−３,５−
ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メ
チレン−シクロヘキシリデン）エチルテトラヒドロピラ
ン−２−イルエーテルをテトラヒドロフラン１０mlに溶
解し、９−ボラビシクロ［３,３,１］ノナンの１Ｎテト
ラヒドロフラン溶液１mlを氷冷下に加え、室温で１時間
撹拌した。氷冷下に１Ｎ−水酸化ナトリウム１mlおよび
３５％過酸化水素水０.３mlを加え、１時間撹拌した。
反応液をジエチルエーテルで希釈し、水、チオ硫酸ナト
リウム水溶液、食塩水で順次希釈し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、３
−（４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシエチリ
デン）−２,６−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ）−３−メチレンシクロヘキシルオキシ）プロパ
ン−１−オールを４２７mg得た。
シ）−４−ヒドロキシ−２−メチレン−シクロヘキシリ
デン）エタノール６６２mgを塩化メチレン１０mlに溶解
し、ピリジニウム ｐ−トルエンスルホナートを触媒量
加えたのち、氷冷下にジヒドロピラン１００mgと塩化メ
チレン１mlからなる溶液を滴下し、室温で１時間撹拌し
た。反応液を重曹水で洗浄したのち、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、減圧下に濃縮した。得られた４−（テトラ
ヒドロピラン−２−イルオキシエチリデン）−２,６−
ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−３−メ
チレン−シクロヘキサノールをテトラヒドロフラン１０
mlに溶解し、水素化ナトリウム２５mgのテトラヒドロフ
ラン５ml懸濁液に滴下した。５０℃に加熱したのち、臭
化アリル１４５mgを加え、一夜撹拌を続けた。反応液を
氷水にあけてジエチルエーテルで抽出した。抽出液を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下に濃縮した。得られた（４−アリルオキシ−３,５−
ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メ
チレン−シクロヘキシリデン）エチルテトラヒドロピラ
ン−２−イルエーテルをテトラヒドロフラン１０mlに溶
解し、９−ボラビシクロ［３,３,１］ノナンの１Ｎテト
ラヒドロフラン溶液１mlを氷冷下に加え、室温で１時間
撹拌した。氷冷下に１Ｎ−水酸化ナトリウム１mlおよび
３５％過酸化水素水０.３mlを加え、１時間撹拌した。
反応液をジエチルエーテルで希釈し、水、チオ硫酸ナト
リウム水溶液、食塩水で順次希釈し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、３
−（４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシエチリ
デン）−２,６−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ）−３−メチレンシクロヘキシルオキシ）プロパ
ン−１−オールを４２７mg得た。
【０１１８】上記により得られた３−（４−（テトラヒ
ドロピラン−２−イルオキシエチリデン）−２,６−ビ
ス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−３−メチ
レンシクロヘキシルオキシ）プロパン−１−オール４０
２mgを塩化メチレン１０mlに溶解し、イミダゾール６８
mgを加えたのち、氷冷下でｔ−ブチルジフェニルシリル
クロリド２０６mgを加え、室温で３時間撹拌した。反応
液を濃縮したのち、エタノールおよび希塩酸を加え、１
時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで抽出し、抽
出液を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物
性を有する（４−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオ
キシプロポキシ）−３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェ
ニルシリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデ
ン）エタノールを４０７mg得た。
ドロピラン−２−イルオキシエチリデン）−２,６−ビ
ス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−３−メチ
レンシクロヘキシルオキシ）プロパン−１−オール４０
２mgを塩化メチレン１０mlに溶解し、イミダゾール６８
mgを加えたのち、氷冷下でｔ−ブチルジフェニルシリル
クロリド２０６mgを加え、室温で３時間撹拌した。反応
液を濃縮したのち、エタノールおよび希塩酸を加え、１
時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで抽出し、抽
出液を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィで精製することにより、下記の物
性を有する（４−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオ
キシプロポキシ）−３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェ
ニルシリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデ
ン）エタノールを４０７mg得た。
【０１１９】ＦＤ質量スペクトル ［Ｍ］+ ９５８ 参考例１５ Ｎ−クロロコハク酸イミド１４０mgを塩化メチレン１０
mlに懸濁し、０℃でジメチルスルフイド７４mgを加えて
撹拌し、−２５℃に冷却して（４−（３−ｔ−ブチルジ
フェニルシリルオキシプロポキシ）−３,５−ビス−
（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メチレン
シクロヘキシリデン）エタノール９５８mgを塩化メチレ
ン２mlに溶解した溶液を滴下し、０℃で２時間撹拌し
た。反応液に食塩水を加え、ジエチルエーテルで抽出し
た。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥したのち、減圧下に濃縮して（４−（３−ｔ−ブチル
ジフェニルシリルオキシプロポキシ）−３,５−ビス−
（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メチレン
シクロヘキシリデン）エチルクロライドを９３１mg得
た。
mlに懸濁し、０℃でジメチルスルフイド７４mgを加えて
撹拌し、−２５℃に冷却して（４−（３−ｔ−ブチルジ
フェニルシリルオキシプロポキシ）−３,５−ビス−
（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メチレン
シクロヘキシリデン）エタノール９５８mgを塩化メチレ
ン２mlに溶解した溶液を滴下し、０℃で２時間撹拌し
た。反応液に食塩水を加え、ジエチルエーテルで抽出し
た。抽出液を食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥したのち、減圧下に濃縮して（４−（３−ｔ−ブチル
ジフェニルシリルオキシプロポキシ）−３,５−ビス−
（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２−メチレン
シクロヘキシリデン）エチルクロライドを９３１mg得
た。
【０１２０】（４−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシプロポキシ）−３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフ
ェニルシリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデ
ン）エチルクロライド８７０mgをテトラヒドロフランに
溶解し、ジフェニルホスフィンリチウムの０.５Ｎ−テ
トラヒドロフラン溶液２mgを０℃で滴下し、室温にて１
時間撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、得られた残渣
をクロロホルムに溶解して５％過酸化水素水、ナトリウ
ムサルファイト水溶液、希塩酸、重曹水、飽和食塩水で
順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製することにより、（４−（３−
ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポキシ）−３,
５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２
−メチレンシクロヘキシリデン）エチルジフェニルホス
フィンオキサイドを８３４mg得た。
オキシプロポキシ）−３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフ
ェニルシリルオキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデ
ン）エチルクロライド８７０mgをテトラヒドロフランに
溶解し、ジフェニルホスフィンリチウムの０.５Ｎ−テ
トラヒドロフラン溶液２mgを０℃で滴下し、室温にて１
時間撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、得られた残渣
をクロロホルムに溶解して５％過酸化水素水、ナトリウ
ムサルファイト水溶液、希塩酸、重曹水、飽和食塩水で
順次洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィで精製することにより、（４−（３−
ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポキシ）−３,
５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）−２
−メチレンシクロヘキシリデン）エチルジフェニルホス
フィンオキサイドを８３４mg得た。
【０１２１】参考例１６ （４−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポ
キシ）−３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデン）エチルジ
フェニルホスフィンオキサイド５７１mgをテトラヒドロ
フラン５mlに溶解し、０℃で１Ｎ−ブチルリチウム／ヘ
キサン溶液０.５mlを滴下し、１５分間撹拌した。反応
液に１−（１,５−ジメチル−５−トリエチルシリルオ
キシヘキシル）−７ａ−メチル−２,３,３ａ,４,５,６,
７,７ａ−オクタヒドロインデン−４−オン１９７mgと
テトラヒドロフラン２mlからなる溶液を滴下し、室温で
一夜撹拌した。反応液にクロロホルムを加え、重曹水、
飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィで精製することにより、（２−（３
−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポキシ）−
１,３−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）
−２５−トリエチルシリルオキシ−９,１０−セココレ
スタ−５,７,１０（１９）−トリエンを５０７mg得た。
キシ）−３,５−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ）−２−メチレンシクロヘキシリデン）エチルジ
フェニルホスフィンオキサイド５７１mgをテトラヒドロ
フラン５mlに溶解し、０℃で１Ｎ−ブチルリチウム／ヘ
キサン溶液０.５mlを滴下し、１５分間撹拌した。反応
液に１−（１,５−ジメチル−５−トリエチルシリルオ
キシヘキシル）−７ａ−メチル−２,３,３ａ,４,５,６,
７,７ａ−オクタヒドロインデン−４−オン１９７mgと
テトラヒドロフラン２mlからなる溶液を滴下し、室温で
一夜撹拌した。反応液にクロロホルムを加え、重曹水、
飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィで精製することにより、（２−（３
−ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシプロポキシ）−
１,３−ビス−（ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシ）
−２５−トリエチルシリルオキシ−９,１０−セココレ
スタ−５,７,１０（１９）−トリエンを５０７mg得た。
【０１２２】（２−（３−ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシプロポキシ）−１,３−ビス−（ｔ−ブチルジフ
ェニルシリルオキシ）−２５−トリエチルシリルオキシ
−９,１０−セココレスタ−５,７,１０（１９）−トリ
エンをテトラヒドロフラン１０mlに溶解し、フツ化テト
ラブチルアンモニウムのテトラヒドロフラン溶液を加え
室温で３時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで抽
出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、
２−（３−ヒドロキシプロポキシ）−１,２５−ジヒド
ロキシビタミンＤ3を１７２mg得た。得られた２−（３
−ヒドロキシプロポキシ）−１,２５−ジヒドロキシビ
タミンＤ3の物性値は、文献［特開昭６３−１０７９２
９号公報］と一致した。
オキシプロポキシ）−１,３−ビス−（ｔ−ブチルジフ
ェニルシリルオキシ）−２５−トリエチルシリルオキシ
−９,１０−セココレスタ−５,７,１０（１９）−トリ
エンをテトラヒドロフラン１０mlに溶解し、フツ化テト
ラブチルアンモニウムのテトラヒドロフラン溶液を加え
室温で３時間撹拌した。反応液をジエチルエーテルで抽
出し、抽出液を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に濃縮して得られる残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィで精製することにより、
２−（３−ヒドロキシプロポキシ）−１,２５−ジヒド
ロキシビタミンＤ3を１７２mg得た。得られた２−（３
−ヒドロキシプロポキシ）−１,２５−ジヒドロキシビ
タミンＤ3の物性値は、文献［特開昭６３−１０７９２
９号公報］と一致した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 47/267 Ｃ０７Ｃ 47/267 49/337 49/337 49/35 49/35 69/732 69/732 Ｚ 69/734 69/734 Ｚ Ｃ０７Ｄ 261/20 Ｃ０７Ｄ 261/20 311/74 311/74 // Ｃ０７Ｃ 401/00 Ｃ０７Ｃ 401/00 Ｃ０７Ｄ 317/20 Ｃ０７Ｄ 317/20 317/46 317/46 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 33/14 C07C 35/17 C07C 43/178 C07C 43/188 C07C 43/196 C07C 47/267 C07C 49/337 C07C 49/35 C07C 69/732 C07C 69/734 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 式中、 Ｒ1、Ｒ2、およびＲ3は同一または相異なり、各々水素
原子または水酸基の保護基を表し、 Ｘは酸素原子、＝ＣＨＣＨ2ＯＲ4基、＝ＣＨＣＨＯ基ま
たは＝ＣＨＣＯ2Ｒ5基を表し、そしてＹは水素原子を表
し且つＺは−ＯＲ6基を表すか又はＹとＺは一緒になっ
て単結合を表し；或いはＸとＺは一緒になって＝ＮＯ−
基、＝ＣＨＣＨ（ＯＲ7）Ｏ−基または＝ＣＨＣＯ2−基
を表し、且つＹは水素原子を表し、 Ｒ4およびＲ6は水素原子または水酸基の保護基を表し、 Ｒ5は低級アルキル基を表し、 Ｒ7は水素原子または低級アルキル基を表す、で示され
るシクロヘキサントリオール誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4087463A JP3030157B2 (ja) | 1991-03-13 | 1992-03-12 | シクロヘキサントリオール誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3-73932 | 1991-03-13 | ||
| JP7393291 | 1991-03-13 | ||
| JP4087463A JP3030157B2 (ja) | 1991-03-13 | 1992-03-12 | シクロヘキサントリオール誘導体 |
Publications (2)
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|---|---|
| JPH0625039A JPH0625039A (ja) | 1994-02-01 |
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Family
ID=13532395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4087463A Expired - Fee Related JP3030157B2 (ja) | 1991-03-13 | 1992-03-12 | シクロヘキサントリオール誘導体 |
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| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP0503630B1 (ja) |
| JP (1) | JP3030157B2 (ja) |
| DK (1) | DK0503630T3 (ja) |
| IL (1) | IL101222A (ja) |
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| US5763429A (en) * | 1993-09-10 | 1998-06-09 | Bone Care International, Inc. | Method of treating prostatic diseases using active vitamin D analogues |
| US6376479B1 (en) | 1995-04-03 | 2002-04-23 | Bone Care International, Inc. | Method for treating and preventing hyperparathyroidism |
| US20020183288A1 (en) * | 1995-04-03 | 2002-12-05 | Bone Care International, Inc. | Method for treating and preventing hyperparathyroidism |
| US20040043971A1 (en) * | 1995-04-03 | 2004-03-04 | Bone Care International, Inc. | Method of treating and preventing hyperparathyroidism with active vitamin D analogs |
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| US6573256B2 (en) | 1996-12-30 | 2003-06-03 | Bone Care International, Inc. | Method of inhibiting angiogenesis using active vitamin D analogues |
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| US20020128240A1 (en) * | 1996-12-30 | 2002-09-12 | Bone Care International, Inc. | Treatment of hyperproliferative diseases using active vitamin D analogues |
| US6503893B2 (en) | 1996-12-30 | 2003-01-07 | Bone Care International, Inc. | Method of treating hyperproliferative diseases using active vitamin D analogues |
| US20030129194A1 (en) * | 1997-02-13 | 2003-07-10 | Bone Care International, Inc. | Targeted therapeutic delivery of vitamin D compounds |
| CA2279590A1 (en) | 1997-02-13 | 1998-08-20 | Bone Care International, Inc. | Targeted therapeutic delivery of vitamin d compounds |
| US6335458B1 (en) | 1998-02-27 | 2002-01-01 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | Intermediate compounds in the synthesis of the A ring moiety of 2-substituted vitamin D derivatives |
| US6291694B1 (en) * | 1999-08-23 | 2001-09-18 | Hoffman-La Roche Inc. | Process and intermediates useful to produce vitamin D analogs |
| DE60026407T2 (de) * | 1999-08-23 | 2006-11-09 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Verfahren zur Herstellung von Vitamin-D Analogen |
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