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JP3026341B2 - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JP3026341B2
JP3026341B2 JP63035223A JP3522388A JP3026341B2 JP 3026341 B2 JP3026341 B2 JP 3026341B2 JP 63035223 A JP63035223 A JP 63035223A JP 3522388 A JP3522388 A JP 3522388A JP 3026341 B2 JP3026341 B2 JP 3026341B2
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JP
Japan
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decoder
signal
word line
line
word
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Application number
JP63035223A
Other languages
Japanese (ja)
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Inventor
敏夫 佐々木
修 湊
繁 本城
孝一郎 石橋
利明 増原
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JP3026341B2 publication Critical patent/JP3026341B2/en
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は半導体メモリに係り、特にマルチビット構成
スタティックRAMの高速化及び低消費電力化に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory, and more particularly, to a high speed and low power consumption multi-bit static RAM.

[従来の技術] 半導体メモリ装置の第1の従来例を第2図により説明
する。一般にメモリアレイ10のメモリセル18のデータ
は、Xデコーダ及びワードドライバより構成されるXデ
コーダ(兼ワードドライバ)14によりX方向のワード線
16が選択され、ついでY方向のビット線対(データ,デ
ータ・バー)24がYデコーダもしくはY選択スイッチ22
で選択され、メモリセル18のデータがコモンデータ線30
に伝達され、センスアンプ6から出力される構成とな
る。
[Prior Art] A first conventional example of a semiconductor memory device will be described with reference to FIG. In general, data in a memory cell 18 of the memory array 10 is supplied to an X-direction word line by an X-decoder (and word driver) 14 comprising an X-decoder and a word driver.
16 is selected, and a bit line pair (data, data bar) 24 in the Y direction is connected to a Y decoder or a Y selection switch 22.
And the data of the memory cell 18 is
And output from the sense amplifier 6.

この従来構成で大容量化した場合、(1)ワード線16
につながるメモリセル18が多くなり、このためワード線
活性時に負荷MOSトランジスタ26から、メモリセルを介
して直流電流が多く流れること、(2)ワード線遅延が
大きくなり速度が遅くなること、(3)更に、この問題
を解決するため、ワード線16を短くするとY方向すなわ
ちビット線方向のメモリセル数が増加して、ビット線容
量が増加しアクセス時間が遅くなること、等々の問題が
あった。
When the capacity is increased with this conventional configuration, (1) the word line 16
And that the DC current flows from the load MOS transistor 26 through the memory cell when the word line is activated, (2) the word line delay increases and the speed decreases, (3) Further, in order to solve this problem, if the word line 16 is shortened, the number of memory cells in the Y direction, that is, the bit line direction increases, so that the bit line capacity increases and the access time becomes slow. .

上記問題点を解決する一方法としての第2の従来例を
第3図により説明する。Xデコーダ14では主ワード線7
を選択する。ついで、分割ワードロジック11を介してメ
モリセル18を選択するグループワード線8が選択され
る。更にビット線対24を介してコモンデータ線30にデー
タが伝達される。本構成では、ワード線を細分割化する
ことで選択されるメモリセルの数を減らすことができ
る。これにより、ビット線の容量も低減でき、低電力、
高速化を達成できる。
A second conventional example as a method for solving the above problem will be described with reference to FIG. In the X decoder 14, the main word line 7
Select Next, the group word line 8 for selecting the memory cell 18 is selected via the divided word logic 11. Further, data is transmitted to the common data line 30 via the bit line pair 24. In this configuration, the number of memory cells selected can be reduced by subdividing the word line. As a result, the capacity of the bit line can also be reduced,
Higher speed can be achieved.

一方、このワード線の長さは、二重ワード線方式によ
って、更に短くできる。この二重ワード線方式は実際の
各ワード線の長さが更に効果的に各ワード線を2つに分
割する方法である。なお第3図で示した分割ワード線構
成方法については、例えば米国特許第4,554,646号に示
されている。
On the other hand, the length of the word line can be further reduced by the double word line system. This double word line system is a method in which the actual length of each word line is further effectively divided into two word lines. The method of forming the divided word lines shown in FIG. 3 is disclosed in, for example, US Pat. No. 4,554,646.

[発明が解決しようとする課題] 上記第3図で示した従来技術は低電力化に有効な技術
であるが、高速化で特に重要となるコモンデータ線の寄
生容量、抵抗等の低減、また、ワード線の分割に伴うセ
ンスアンプ等の増加については配慮されていなかった。
[Problem to be Solved by the Invention] The conventional technique shown in FIG. 3 is an effective technique for lowering the power, but the parasitic capacitance and resistance of the common data line, which are particularly important for high speed, are reduced. No consideration has been given to an increase in sense amplifiers and the like due to the division of the word lines.

本発明の目的は上記問題点を克服し、高速化及び低電
力化を同時に達成するマルチビット構成の半導体メモリ
装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a multi-bit semiconductor memory device that overcomes the above problems and achieves high speed and low power simultaneously.

[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するため、本発明にかかる半導体メモ
リ装置においては、マトリクス配置された複数のメモリ
セルを有する第1の領域とマトリクス配置された複数の
メモリセルを有する第2の領域を含むメモリブロック、
複数のメモリセルの列を指定する複数のビット線、第1
の領域のメモリセルの行のみを指定する複数の第1のワ
ード線と第2の領域のメモリセルの行のみを指定する複
数の第2のワード線を含む複数のワード線、複数のビッ
ト線の少なくとも一つを選択するyデコーダ、複数のワ
ード線の少なくとも一つを選択するxデコーダを有し、
複数の第1のワード線はxデコーダに接続され、複数の
第2のワード線はxデコーダに第1のワード線とは異な
る接続配線を介して接続され、接続配線は、一方の端部
がxデコーダに接続され、第1の領域を横切るように配
置され、接続点において第2のワード線に接続されてい
ることを特徴とする。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, in a semiconductor memory device according to the present invention, a first region having a plurality of memory cells arranged in a matrix and a plurality of memory cells arranged in a matrix are arranged. A memory block including a second area having
A plurality of bit lines for designating a plurality of memory cell columns;
Word lines and bit lines including a plurality of first word lines that specify only the rows of memory cells in the second area and a plurality of second word lines that specify only the rows of memory cells in the second area A y decoder for selecting at least one of the word lines, an x decoder for selecting at least one of the plurality of word lines,
The plurality of first word lines are connected to the x-decoder, the plurality of second word lines are connected to the x-decoder via a connection line different from the first word line, and the connection line has one end. An x-decoder is arranged to cross the first region, and is connected to a second word line at a connection point.

[実施例] 以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明す
る。
[Example] Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は、本発明の第1の実施例を示すスタティック
RAMの構成図である。図中10は情報を記憶するメモリセ
ル18の集合体である、例えば1010個程の大きなメモリア
レイを示す。16はワード線、24a〜24bはビット線の対
(データ、データ・バー)、26は負荷MOSトランジス
タ、38は出力データバスである。又、22はY方向スイッ
チMOSトランジスタ等からなるYデコーダ、36はマルチ
プレクサをそれぞれ示す。このメモリアレイ10は4個の
Xデコーダ(兼ワードドライバ)14a〜14dによって8つ
のマット12a〜12hに分割される。各々、Xデコーダ14は
1つのマット12から出たワード線16に示されるようにY
方向に走る複数のワード線をコントロールする。その各
ワード線は、X方向のメモリセル18に活性信号を与え
る。1つのYデコーダ22a〜22eは複数のビット線対24を
選択する。そして、コモンデータ線のセグメント30にそ
のビット線対24を接続する。
FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a configuration diagram of a RAM. In the figure, reference numeral 10 denotes an aggregate of memory cells 18 for storing information, for example, a large memory array of about 10 10 . 16 is a word line, 24a to 24b are pairs of bit lines (data, data bar), 26 is a load MOS transistor, and 38 is an output data bus. Reference numeral 22 denotes a Y decoder including a Y-direction switch MOS transistor and the like, and reference numeral 36 denotes a multiplexer. The memory array 10 is divided into eight mats 12a to 12h by four X decoders (word drivers) 14a to 14d. In each case, the X decoder 14 has a Y
Control multiple word lines running in a direction. Each word line provides an activation signal to the memory cell 18 in the X direction. One Y decoder 22a to 22e selects a plurality of bit line pairs 24. Then, the bit line pair 24 is connected to the segment 30 of the common data line.

複数の負荷制御回路27a〜27pは、多数のビット線負荷
MOSトランジスタ26a〜26pの1つの書込みモード期間に
1つ選択した実効的なマット28aまたは28bのビット線対
24に対して選択的に接続する。
A plurality of load control circuits 27a to 27p
Bit line pair of one effective mat 28a or 28b selected during one write mode period of MOS transistors 26a to 26p
Connect selectively to 24.

クロック発生回路20はXデコーダ(兼ワードドライ
バ)14、Yデコーダ22の制御、そしてアンプドライブ回
路40を通してセンスアンプ32,34,マルチプレクサ36等を
制御する。又、負荷制御回路27はアドレス信号Aiと負荷
制御信号LCによって、負荷切替え信号φLA−φLPを発生
する。
The clock generation circuit 20 controls the X decoder (also a word driver) 14 and the Y decoder 22, and controls the sense amplifiers 32 and 34, the multiplexer 36 and the like through the amplifier drive circuit 40. The load control circuit 27 generates a load switching signal φLA-φLP based on the address signal Ai and the load control signal LC.

半導体メモリ装置の高速化にとっては、ビット線、コ
モンデータ線の配線容量、抵抗等を低減することが重要
である。例えば、メモリセルの数が1Mビット(128Kワー
ドx8ビット)のマルチビット構成の場合、Y方向すなわ
ちビット線方向を、512ビットと短くして、ビット線の
負荷(寄生)容量を減らす。更に、X方向すなわちワー
ド線方向はXデコーダ(兼ワードドライバ)14を4個で
8マット構成として、メモリセルを512ビットx2048ビッ
トの配置とし、ビット線方向対ワード線方向のメモリセ
ルを1:4とする。
To increase the speed of a semiconductor memory device, it is important to reduce the wiring capacity, resistance, and the like of bit lines and common data lines. For example, in the case of a multi-bit configuration in which the number of memory cells is 1 M bits (128 K words × 8 bits), the Y direction, that is, the bit line direction is shortened to 512 bits to reduce the load (parasitic) capacity of the bit line. Further, in the X direction, that is, in the word line direction, the memory cell is arranged in 512 bits × 2048 bits with four X decoders (also serving as word drivers) 14 and eight mats, and the memory cell in the bit line direction to the word line direction is 1: And 4.

更に、二重ワード線方式で各々のワード線はマットの
半分に減少する。
Further, each word line is reduced to half the mat in a double word line fashion.

このように、電力と速度を考える場合、マット12を2
つの実効的なマット28に分割し、28aと28b側につながる
各々実効的なマットのビット数は1024ビットになるよう
にする。ワード線16の第1の位置16aはそのビットの半
分の1つのマットをアクセスする。そして、第2のワー
ド線位置16bはその残りの半分をアクセスする。これに
より、一体のワード線につながるメモリセルの選択数を
減らし低電力化を図る。これに伴い、コモンデータ線30
は8分割し、各々8マットにつながる実効的なマット28
aと28bは8個のコモンデータ線の1つのセグメントにつ
ながる。この結果、コモンデータ線の8セグメントの分
割によりYデコーダ22のY方向スイッチMOSトランジス
タの拡散層及び配線層からなる容量、抵抗等を小さくし
て、高速化を図ることができる。
In this way, when considering power and speed, two mats 12
It is divided into two effective mats 28, and the number of bits of each effective mat connected to the 28a and 28b sides is 1024 bits. The first location 16a of the word line 16 accesses one half of the bit's mat. Then, the second word line position 16b accesses the other half. As a result, the number of memory cells connected to an integrated word line is reduced, and power consumption is reduced. Accordingly, the common data line 30
Is an effective mat 28 divided into 8 mats, each leading to 8 mats
a and 28b lead to one segment of the eight common data lines. As a result, by dividing the common data line into eight segments, the capacitance, resistance, and the like of the diffusion layer and the wiring layer of the Y-direction switch MOS transistor of the Y decoder 22 can be reduced, and the speed can be increased.

なお、このコモンデータ線は1ビット当たり2本の配
線で構成される。従って、8ビットのマルチビット構成
の場合、16本が配置され、読出しもしくは書込み時に8
ビットが活性化される。
This common data line is composed of two wires per bit. Therefore, in the case of a multi-bit configuration of 8 bits, 16 lines are arranged, and 8 bits are read or written when reading or writing.
The bit is activated.

一方、26の負荷MOSトランジスタはビット線対24を所
定の電位に保ち、メモリセルのスタティック動作を可能
にするために設けられたものである。この負荷MOSトラ
ンジスタの構成は複数個のMOSトランジスタで構成され
ているが、特に、書込み動作から読出し動作に移行する
際、ビット線の電位差を高速のプリチャージして平衡化
するため、可変インピーダンス負荷が用いられる。この
可変インピーダンス負荷は、選択されるワード線を単位
としてなされる。また、書込み時に各々の実効的なマッ
トだけ選択するので低電力となる。
On the other hand, 26 load MOS transistors are provided to keep the bit line pair 24 at a predetermined potential and enable a static operation of the memory cell. This load MOS transistor is composed of a plurality of MOS transistors.In particular, when shifting from a write operation to a read operation, a variable impedance load is used to precharge and equalize the potential difference of the bit line at high speed. Is used. This variable impedance load is performed in units of a selected word line. Further, since only the effective mats are selected at the time of writing, the power consumption is low.

更に、上記コモンデータ線30の分割に伴いセンスアン
プは各コモンデータ線毎に設けるのが高速化に適する。
例えば8ビット構成の場合、センスアンプの数は、1つ
のコモンデータ線のセグメントでメモリマット当たり1
ブロック(入出力端子I/O1〜8)として8回路を設け、
8個のメモリマットで合計64個を配置する。これによ
り、読出し時に於いて同時に活性化するセンスアンプ数
を8回路として低電力化を図り、データはマルチマルチ
プレクサ36の選択により、8ビット構成の出力データバ
ス38に転送される。この各々のセンスアンプは、2段目
のセンスアンプである出力データバス38をドライブする
駆動用のセンスアンプ34を介して接続される。
Further, it is appropriate to provide a sense amplifier for each common data line in accordance with the division of the common data line 30 for speeding up.
For example, in the case of an 8-bit configuration, the number of sense amplifiers is 1 per memory mat in one common data line segment.
Eight circuits are provided as blocks (input / output terminals I / O1 to 8),
A total of 64 memory mats are arranged with 8 memory mats. As a result, the number of sense amplifiers that are simultaneously activated at the time of reading is reduced to eight circuits to reduce power consumption, and data is transferred to an 8-bit output data bus 38 by the selection of the multi-multiplexer 36. Each of the sense amplifiers is connected via a driving sense amplifier 34 for driving an output data bus 38 which is a second stage sense amplifier.

又、マルチプレクサ36は2段目のセンスアンプ34の対
と、1対の出力データバス38の間で接続される。更に、
複数のアンプドライブ回路40は読出しデータが活性化さ
れたのを受け、そのアンプドライブ回路40がコモンデー
タ線セグメントに接続された検出用と駆動用のセンスア
ンプの活性動作を制御する。
The multiplexer 36 is connected between a pair of the second-stage sense amplifiers 34 and a pair of output data buses 38. Furthermore,
In response to the read data being activated, the plurality of amplifier drive circuits 40 control the activation operation of the detection and drive sense amplifiers connected to the common data line segment.

第4図に第1図のスタティックRAMのより詳細な構成
図を示す。ここで12は第1図で示したメモリマット、18
は負荷に高抵抗を用いた4MOS+2Rタイプのフリップフロ
ップ形のメモリセルである。このメモリセルは高レベル
と低レベルの2つの出力を持ち、そのフリップフロップ
動作時に高レベルと低レベルの出力は反転する。
FIG. 4 shows a more detailed configuration diagram of the static RAM of FIG. Here, 12 is the memory mat shown in FIG.
Is a 4MOS + 2R type flip-flop type memory cell using a high resistance as a load. This memory cell has two outputs, a high level and a low level. When the flip-flop operates, the high level and the low level outputs are inverted.

ビット線対24は上記フリップフロップの異なる2つの
端子に各々接続される。この様に各々選ばれたビットは
高レベル信号と低レベル信号を含む。そのビットの高レ
ベル信号と低レベル信号の状態はデジタル“1",“0"が
メモリセルに蓄積されたかどうかを指示する。又、26は
負荷MOSトランジスタであり、nチャネルMOSトランジス
タ60a,60b,62a,62bにより構成される。この26は読出し
時のメモリセルのデータを安定にするために使用され、
同時に、一方の負荷MOSトランジスタ60a,62aをクロック
で制御することにより、書込み動作期間の低電力化と、
読出し動作に移行する際の高速のビット線電圧の回復と
平衡化を行う。この負荷MOSトランジスタ60a,62aを制御
する信号φLは書込み/読出し信号(▲▼)で制御
されるが、特に、ワード線の細分割化に応じた信号φL
の細分割化、すなわち選択されたマット28のメモリセル
のビット線のみ、書込み時に負荷MOSトランジスタをオ
フ状態にし、他のメモリセルはオン状態にすることがメ
モリの高速動作に好適である。これは細分割化によっ
て、配線容量、抵抗が減少し信号φLの動作が高速とな
って、高速のビット線電圧回復と平衡化が可能になるか
らである。
The bit line pair 24 is connected to two different terminals of the flip-flop. Each of the bits thus selected includes a high level signal and a low level signal. The state of the high-level signal and the low-level signal of that bit indicates whether digital "1" and "0" have been stored in the memory cell. Reference numeral 26 denotes a load MOS transistor, which includes n-channel MOS transistors 60a, 60b, 62a, and 62b. This 26 is used to stabilize the data of the memory cell at the time of reading,
At the same time, by controlling one of the load MOS transistors 60a and 62a with a clock, power consumption during the write operation period can be reduced, and
High-speed recovery and equilibration of the bit line voltage at the time of shifting to the read operation are performed. The signal φL for controlling the load MOS transistors 60a and 62a is controlled by a write / read signal (▲). In particular, the signal φL corresponding to the subdivision of the word line.
It is preferable for the high-speed operation of the memory that the load MOS transistor be turned off and the other memory cells be turned on at the time of writing only in the bit line of the memory cell of the selected mat 28, that is, the subdivision of the memory cell. This is because the subdivision reduces the wiring capacitance and resistance, increases the speed of the operation of the signal φL, and enables high-speed bit line voltage recovery and balancing.

14はXデコーダ(兼ワードドライバ)であり、アドレ
ス信号Aiとワード線活性化信号φWDでワード線16が起動
される。24a,24bはビット線であり、各々データ、デー
タ・バーの配線を示し、ワード線16の活性時(高レベル
信号)にはメモリセルのデータをYデコーダ22のY方向
スイッチMOSトランジスタ66を介して、分割されたコモ
ンデータ線30に伝達される。
An X decoder (also a word driver) 14 activates a word line 16 by an address signal Ai and a word line activation signal φWD. Reference numerals 24a and 24b denote bit lines, which indicate wiring for data and data bars, respectively. When the word line 16 is activated (high-level signal), the data in the memory cell is passed through the Y-direction switch MOS transistor 66 of the Y decoder 22. Then, it is transmitted to the divided common data line 30.

64は、読出し時にビット線の電位を常に一定レベルと
して、データ“1",“0"の反転データ読出し速度を高速
にするプリチャージ回路であり、プリチャージ信号φC
により起動される。
Reference numeral 64 denotes a precharge circuit which always sets the potential of the bit line to a constant level during reading to increase the speed of reading inverted data of data "1" and "0".
It is started by

一方、データはワード線16は高レベルで活性化し、こ
のためワード線につながる全てのフリップフロップ回路
の中の1つにつながるメモリセルの出力がビット線に接
続される。更に、Yデコーダ2のスイッチMOSトランジ
スタ対66によりビット線対24のそのデータが、分割した
コモンデータ線30に転送される。8ビット構成のメモリ
の場合、メモリセルは8個のフリップフロップからな
り、そのワード線の高レベル信号はビット線対と共に全
て8個のフリップフロップに接続される。
On the other hand, for data, the word line 16 is activated at a high level, so that the output of the memory cell connected to one of all the flip-flop circuits connected to the word line is connected to the bit line. Further, the data of the bit line pair 24 is transferred to the divided common data line 30 by the switch MOS transistor pair 66 of the Y decoder 2. In the case of an 8-bit memory, the memory cell is composed of eight flip-flops, and the high-level signal of the word line is connected to the eight flip-flops together with the bit line pair.

さらにスイッチMOSトランジスタ対66の8個はコモン
データ線30の各々の配線対と共に8個のフリップフロッ
プによるビット線対に接続される。この様にして、全て
の8個のフリップフロップは同時に読出される。
Further, eight of the switch MOS transistor pairs 66 are connected to a bit line pair of eight flip-flops together with the respective wiring pairs of the common data line 30. In this way, all eight flip-flops are read out simultaneously.

更に、36はセンスアンプの出力をマルチビット構成の
出力データバス38に接続するマルチプレクサを示してい
る。この出力データバス38に伝達された読出し信号は、
出力回路80に伝達され、マルチビットの出力端子から出
力される。以上のように、コモンデータ線をメモリマッ
ト単位に分割することにより、配線容量、抵抗等を低減
し高速化できる。
Reference numeral 36 denotes a multiplexer for connecting the output of the sense amplifier to an output data bus 38 having a multi-bit configuration. The read signal transmitted to the output data bus 38 is
The signal is transmitted to the output circuit 80 and output from the multi-bit output terminal. As described above, by dividing the common data line into memory mat units, the wiring capacity, resistance, and the like can be reduced and the speed can be increased.

読出し時に於いて、ビット線対24aと24bの高,低レベ
ル信号はコモンデータ線30によってセンスアンプ32,34
に伝達される。そのセンスアンプである第1段目のアン
プはカレントミラー形アンプの対で作られ、それはアン
プドライブ回路40からのセンスアンプ活性信号φMRSに
よって活性化される。第2段目の駆動用のアンプは、
又、φMRSによって活性化される。
At the time of reading, the high and low level signals of the bit line pair 24a and 24b are applied to the sense amplifiers 32 and 34 by the common data line 30.
Is transmitted to The first stage amplifier, which is the sense amplifier, is formed by a pair of current mirror type amplifiers, and is activated by a sense amplifier activation signal φMRS from the amplifier drive circuit 40. The second stage drive amplifier is:
It is activated by φMRS.

マルチプレクサ36は出力データバス38へセンスアンプ
の出力を接続するため、マルチプレクサ制御信号φMRO
によって活性化される。その出力先となるデータバス38
は各ビットに対応する配線対を持っている。更に、各配
線対は各々、デジタル“1",“0"を持つフリップフロッ
プからの高レベル信号、低レベル信号を結合させるため
出力回路80に接続される。
The multiplexer 36 connects the output of the sense amplifier to the output data bus 38, so that the multiplexer control signal φMRO
Activated by Data bus 38 to which the data is output
Has a wiring pair corresponding to each bit. Further, each wiring pair is connected to an output circuit 80 for coupling a high-level signal and a low-level signal from a flip-flop having digital “1” and “0”.

第5図にメモリマット部分の構成図を示す。図中28は
第1図のメモリマット、14はXデコーダ(兼ワードドラ
イバ)また、16はメモリセルを選択するワード線、28C
は近端のメモリマット、28dは遠端のメモリマットを示
す。さらに、50は遠端のメモリマットを選択する第3の
配線層を示し、遠端のメモリマットを選択する16bのワ
ード線とコンタクト52で接続される。ワード線からの別
の第3の配線層50はXデコーダ14からコンタクト52へ配
線され、第2のワード線16bはコンタクト52で接続され
る。このように、Xデコーダ(兼ワードドライバ)は第
3の配線層50を通してワード線16bにワード信号を送る
ことによって遠端の実効的なマット28dのメモリセルを
選択できる。また、遠端の実効的マット28dのワード線1
6bは第3の配線層56とコンタクト54で短縮してワード線
の遅延を最小にする。一方、第3の配線層56は同50と分
離して接地することも可能であり、この場合配線のフロ
ーティング時における雑音の影響を除くことができる。
さらに、28d中のメモリセルは第3の配線層56を取り去
った構成であっても良い。
FIG. 5 shows a configuration diagram of the memory mat portion. In the figure, 28 is the memory mat of FIG. 1, 14 is an X decoder (also a word driver), 16 is a word line for selecting a memory cell, 28C
Indicates a near end memory mat, and 28d indicates a far end memory mat. Further, reference numeral 50 denotes a third wiring layer for selecting the far end memory mat, which is connected to the word line 16b for selecting the far end memory mat by a contact 52. Another third wiring layer 50 from the word line is wired from the X decoder 14 to the contact 52, and the second word line 16b is connected by the contact 52. As described above, the X decoder (also a word driver) can select a memory cell of the effective mat 28d at the far end by sending a word signal to the word line 16b through the third wiring layer 50. Also, the word line 1 of the effective mat 28d at the far end
6b is shortened by the third wiring layer 56 and the contact 54 to minimize the word line delay. On the other hand, the third wiring layer 56 can be grounded separately from the third wiring layer 50. In this case, the influence of noise when the wiring is floating can be eliminated.
Further, the memory cells in 28d may have a configuration in which the third wiring layer 56 is removed.

以上の二重ワード線方式によりワード線で選択される
メモリセルの数は半減して、例えば256ビットが128ビッ
トになり、低電力化が可能になる。
The number of memory cells selected by a word line by the above-mentioned double word line method is reduced by half, for example, 256 bits becomes 128 bits, and low power can be achieved.

なお、第3の配線層はメモリセルの接地線として用い
ることも可能であり、その場合は、メモリセル面積の縮
小化に役立つ。これにより、メモリチップの面積が縮小
化し、配線容量、抵抗等が低減でき、更に高速化、低電
力化できる。
Note that the third wiring layer can be used as a ground line of a memory cell, and in this case, it is useful for reducing the area of the memory cell. As a result, the area of the memory chip can be reduced, the wiring capacitance, the resistance, and the like can be reduced, and the speed and power consumption can be further reduced.

第6図は、第1図に於ける読出し時の各タイミングを
示すものである。これにより、本発明の読出し動作を説
明する。
FIG. 6 shows each timing at the time of reading in FIG. Thus, the read operation of the present invention will be described.

同図に於いて、半導体メモリ装置のチップセレクト信
号(▲▼)が低レベルの状態で入力アドレス信号
(Ai)が変化すると、そのアドレスに応じたアドレス変
化検出信号が発生され、これを基に基本クロックφtota
lが作られる。次にこのφtotalを基にビット線のプリチ
ャージ信号φC、データラッチ信号φDL、Xデコーダ
(兼ワードドライバ)の活性化信号φWD、センスアンプ
の活性化信号φMRS,マルチプレクサの活性化信号φMRO
が各々作られる。一方、アドレス信号にスキューがある
場合もしくはアドレスが変化した場合には、φtotalは
再度発生され、プリチャージ信号φCが作られる。しか
し、他のクロック(φDL,φWD,φMRS,φMRO)等はその
まま継続され、内部動作に影響が与えられることがない
様、タイミング設計は行われる。これらの信号の応答は
φtotal信号でクロック発生回路20が内部のチップセレ
クト信号(▲▼)低レベルにより起動され、Y
デコーダ22に適用するプリチャージ信号φCが反転して
作られ、φDL,φWDはφtotalのエッジから遅延され作ら
れる。センスアンプの活性化信号φMRS,マルチプレクサ
の活性化信号φMROはアドレスAi信号変化の最初のエッ
ジの遅延で作られる。
In the figure, when the input address signal (Ai) changes while the chip select signal (▲ ▼) of the semiconductor memory device is at a low level, an address change detection signal corresponding to the address is generated, and based on this, Basic clock φtota
l is made. Next, based on this φtotal, a precharge signal φC for the bit line, a data latch signal φDL, an activation signal φWD for the X decoder (also a word driver), an activation signal φMRS for the sense amplifier, and an activation signal φMRO for the multiplexer
Are each made. On the other hand, when there is a skew in the address signal or when the address changes, φtotal is generated again, and the precharge signal φC is generated. However, other clocks (φDL, φWD, φMRS, φMRO) and the like are continued as they are, and the timing is designed so that the internal operation is not affected. The response of these signals is the φtotal signal, the clock generation circuit 20 is activated by the internal chip select signal (▲ ▼) low level,
The precharge signal φC applied to the decoder 22 is generated by inversion, and φDL and φWD are generated with a delay from the edge of φtotal. The activation signal φMRS of the sense amplifier and the activation signal φMRO of the multiplexer are generated by delaying the first edge of the address Ai signal change.

以上のタイミング・パルスに対応したメモリの読出し
動作は次のようになる。
The read operation of the memory corresponding to the above timing pulse is as follows.

アドレス(Ai)が変化すると、プリチャージ信号φC
が入力されたプリチャージ回路64で全ビット線をプリチ
ャージし、φWDによりXデコーダ14が活性化され、所定
のメモリセルから高レベル,低レベルの微小な信号を読
出し、センスアンプ32へ伝達される。更に、センスアン
プ活性化信号φMRSが活性化して、この微小信号は、検
出用と駆動用の2段のカレントミラー形センスアンプで
2度増幅され、高速に伝達され、マルチプレクサ36を介
して出力される。この一連のクロックはSRAMのアクセス
時間の高速化にとり重要となる。例えば、各クロックが
適切な遅延時間と幅を持つことはもちろん、φtotalの
立上りエッジは、プリチャージが確実に実施できるプリ
チャージ信号φCの最小幅を決定すること、等が高速化
設計のポイントになる。また、アドレスが変化してか
ら、一定時間後にデータラッチ信号φDLが低レベルにな
り、データをラッチし、ついでφMRS,φMRO,φWDの順に
低レベルになって、内部回路を非活性化する。従って、
読出し時間が長いサイクルで内部回路が一定時間以外働
かないため消費電力が小さくなる。
When the address (Ai) changes, the precharge signal φC
Is precharged by the precharge circuit 64 to which all the bit lines are precharged, the X decoder 14 is activated by φWD, and a small signal of a high level and a low level is read from a predetermined memory cell and transmitted to the sense amplifier 32. You. Further, the sense amplifier activation signal φMRS is activated, and this small signal is amplified twice by a two-stage current mirror type sense amplifier for detection and driving, transmitted at high speed, and output via the multiplexer 36. You. This series of clocks is important for shortening the access time of the SRAM. For example, not only that each clock has an appropriate delay time and width, but also the rising edge of φtotal determines the minimum width of the precharge signal φC for which precharge can be performed reliably. Become. Also, after a certain time from the change of the address, the data latch signal φDL goes low to latch data, and then goes low in the order of φMRS, φMRO, φWD to deactivate the internal circuit. Therefore,
In a cycle in which the read time is long, power consumption is reduced because the internal circuit does not operate except for a fixed time.

このように、複数のセンスアンプをアドレス信号によ
り選択し、活性化し、その出力をマルチプレクサにて選
択して取り出す場合、読出し時の始まりと終わりに、そ
れぞれφMRS,φMROが同図の関係になるようにすること
で、確実にデータを転送できるようになる。
As described above, when a plurality of sense amplifiers are selected by an address signal, activated, and their outputs are selected and taken out by a multiplexer, φMRS and φMRO at the beginning and end of the read operation are set to have the relationship shown in FIG. By doing so, data can be transferred reliably.

第7図は、第1図に於ける書込み時の各タイミングを
示すものである。これにより、本発明の書込み動作を説
明する。
FIG. 7 shows each timing at the time of writing in FIG. Thus, the write operation of the present invention will be described.

書込みサイクルでは書込み/読出し信号(▲▼)
が高レベルから低レベルに変化すると、データ入力活性
化信号DIGが高レベルになって、メモリのXデコーダ
(兼ワードドライバ)のワード線活性化信号φWDを高レ
ベルにし、所定のワード線が高レベルになり、データが
コモンデータ線に転送される。更にY方向スイッチMOS
トランジスタを介してビット線に転送され、所定のメモ
リセルにデータが書込まれる。
Write / read signal in write cycle (▲ ▼)
Changes from the high level to the low level, the data input activation signal DIG goes high, the word line activation signal φWD of the memory X decoder (also word driver) goes high, and a predetermined word line goes high. Level, and data is transferred to the common data line. Furthermore, Y direction switch MOS
The data is transferred to the bit line via the transistor, and data is written to a predetermined memory cell.

書込みサイクルでは、センスアンプの検出用と駆動用
アンプ,マルチプレクサ及びその周辺回路はオフ状態と
なる。そして、書込みデータは直接、出力バッファ回路
内のデータラッチ回路に取込まれる。従って同一番地内
に於いて、▲▼信号が低レベルから高レベルと変化
し、読出し状態に移行すると、そのラッチ回路のデータ
が読出される。同時に一連の信号DIC,φWDを低レベルと
する。これによって、従来回路で発生したようなセンス
アンプが一度活性化状態に戻り、出力のみ不安定動作を
起こす現象を予防でき、常に出力信号を高レベル,低レ
ベルに固定できる。さらに、書込み状態から読出し状態
に移る時、同図に於けるLCなる負荷制御信号はオフ状態
になる。従ってそのビット線の負荷MOSトランジスタ
は、所定のアドレス信号とLCとの論理を取った信号でオ
ン状態になる。この結果、大きな電圧振幅を持つビット
線電圧が高速にプリチャージと平衡化され、書込後のリ
カバリー速度が改善される。さらに、高速動作には、こ
のLC信号が高速に遷移することが必要で、選択ワード線
単位に信号線を細分割化し、制御する方法は、最適の構
成と言える。
In the write cycle, the detection and drive amplifiers of the sense amplifier, the multiplexer, and peripheral circuits thereof are turned off. Then, the write data is directly taken into the data latch circuit in the output buffer circuit. Therefore, in the same address, when the signal changes from the low level to the high level and shifts to the read state, the data of the latch circuit is read. At the same time, a series of signals DIC and φWD are set to low level. As a result, it is possible to prevent a phenomenon in which the sense amplifier once returns to the active state, which occurs in the conventional circuit, and the unstable operation of only the output can be prevented, and the output signal can always be fixed at a high level and a low level. Further, when shifting from the writing state to the reading state, the load control signal LC in FIG. Therefore, the load MOS transistor of the bit line is turned on by a signal obtained by taking a logic of a predetermined address signal and LC. As a result, the bit line voltage having a large voltage amplitude is quickly balanced with the precharge, and the recovery speed after writing is improved. Furthermore, high-speed operation requires that the LC signal transition at a high speed, and a method of subdividing and controlling signal lines for each selected word line can be said to be an optimal configuration.

第8図は第1図で示したメモリマット28a,28bと同構
成の配置を示すものであり、8ビット構成のマルチビッ
ト構成メモリを説明するものである。70はY方向のアド
レス信号を示す。
FIG. 8 shows an arrangement having the same configuration as the memory mats 28a and 28b shown in FIG. 1, and explains an 8-bit configuration memory. 70 indicates an address signal in the Y direction.

14a〜14dはXデコーダ(兼ワードドライバ)、74はY
方向スイッチMOSトランジスタを選択する信号を示し、
各々入出力(I/O)端子により、I/O1〜4のメモリセル
とI/O5〜8のメモリセルを選択する。72はYデコーダ回
路のロジックであり、74を選択する。
14a to 14d are X decoder (also word driver), 74 is Y
A signal for selecting a direction switch MOS transistor;
Memory cells of I / O1 to 4 and memory cells of I / O5 to 8 are selected by input / output (I / O) terminals. 72 is the logic of the Y decoder circuit, and selects 74.

本構成により、一本のワード線につながるI/O1〜8の
メモリセルアレイを2分割配置(I/O1〜4、I/O5〜8)
することができ、データ出力時の遅延をI/O間で2〜3ns
設けることができる。この結果、活性時に出力トランジ
スタに流れるピーク電流を分割し、活性時の内部回路に
対するノイズの影響を低減することができる。
With this configuration, the memory cell array of I / O1-8 connected to one word line is divided into two (I / O1-4, I / O5-8)
Data output delay between I / O 2-3ns
Can be provided. As a result, the peak current flowing through the output transistor when activated can be divided, and the effect of noise on the internal circuit when activated can be reduced.

第9図は第5図のφWD,φDL,φC等、各種制御信号の
クロック発生回路20を示すものであり、論理回路より構
成される。
FIG. 9 shows a clock generation circuit 20 for various control signals such as φWD, φDL, φC, etc. of FIG. 5, and is constituted by a logic circuit.

同図に於いて、φtotalはアドレス変化検出信号を基
に作られた基本クロック、DICは書込み/読出し信号
(▲▼)により作られたデータ入力活性化信号、▲
▼はチップセレクト信号(▲▼)から作ら
れ、φWD,φDLを活性するチップ内部活性信号である。
In the figure, φtotal is a basic clock generated based on an address change detection signal, DIC is a data input activation signal generated by a write / read signal (▲ ▼), ▲
▼ is a chip internal activation signal generated from the chip select signal (▲ ▼) and activating φWD and φDL.

第10図は第1図に示したアンプドライブ回路40であ
り、φMRS,φMRO等のセンスアンプ、マルチプレクサを
制御する信号を発生し、論理回路より構成される。同図
に於いて、Aiはセンスアンプ選択用のアドレス信号であ
る。φMWIはメモリのデータ書込み回路の活性化信号で
あり、Aiのアドレス信号と書込み/読出し信号(▲
▼)によるデータ入力活性化信号DICで作られる。ま
た、センスアンプ活性化信号φMRS,マルチプレクサ活性
化信号φMRO,及びその反転信号▲▼を発生する
構成となっている。
FIG. 10 shows the amplifier drive circuit 40 shown in FIG. 1, which generates a signal for controlling a sense amplifier such as φMRS, φMRO, etc. and a multiplexer, and is constituted by a logic circuit. In the figure, Ai is an address signal for selecting a sense amplifier. φMWI is an activation signal for the data write circuit of the memory, and the Ai address signal and the write / read signal (▲
The data input activation signal DIC according to ▼) is used. Further, it is configured to generate a sense amplifier activating signal φMRS, a multiplexer activating signal φMRO, and its inverted signal ▼.

このアンプドライブ回路40は1段目の検出用と2段目
の駆動用のセンスアンプのそれぞれを選択して活性化さ
せる。また、読出したメモリセルの部分だけセンスアン
プを活性化させるため電力は最小にできる。
The amplifier drive circuit 40 selects and activates each of the first-stage detection sense amplifier and the second-stage drive sense amplifier. Further, since the sense amplifier is activated only in the portion of the read memory cell, the power can be minimized.

以上の第9図及び第10図に示した回路は、第1図で示
した細分割したメモリマットに応じて、分割したコモン
データ線及びセンスアンプ等を効果的に駆動する回路で
ある。
The above-described circuits shown in FIGS. 9 and 10 are circuits for effectively driving the divided common data lines, sense amplifiers, and the like according to the subdivided memory mats shown in FIG.

上記実施例では、8ビット構成を例にとって説明した
が、他の一般的なマルチビット構成である4ビット,16
ビット,32ビット等についても同様な高速化及び低電力
化が期待できる。又、本発明の骨子は、半導体メモリ装
置の構成方法を示すものであり、そのメモリを構成する
素子及び制御回路等を限定するものではない。
In the above-described embodiment, the description has been made by taking the 8-bit configuration as an example.
Similar high speed and low power can be expected for bits, 32 bits, etc. In addition, the gist of the present invention shows a method of configuring a semiconductor memory device, and does not limit elements, control circuits, and the like that configure the memory.

なお、メモリマットの外部で分割したコモンデータ
線、センスアンプ等を制御する、又はつなぐことによる
影響、例えばメモリチップの占有面積等の増加は考えら
れるが、それらは、大容量メモリにおけるアクセス時間
の高速化と消費電力の低減によって得られる利益に比べ
て無視し得るものである。
The influence of controlling or connecting the divided common data lines and sense amplifiers outside the memory mat, such as an increase in the occupied area of the memory chip, can be considered. It is negligible compared to the benefits gained by speeding up and reducing power consumption.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、スタティック
RAMの高速、低電力化を達成できるという効果がある。
[Effect of the Invention] As described above, according to the present invention, the static
There is an effect that high speed and low power of the RAM can be achieved.

更に、従来技術に於けるビット線容量とコモンデータ
線容量の増大に於ける電流増加、アクセス時間の遅延、
更に電流増大によるチップ温度上昇からくる寿命の低下
を防止できる効果がある。
Furthermore, the current increases due to the increase in the bit line capacity and the common data line capacity in the prior art, the access time is delayed,
Further, there is an effect that a reduction in the life due to an increase in the chip temperature due to an increase in the current can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の実施例のスタティックRAMの構成図、
第2図は第1の従来例を示す図、第3図は第2の従来例
を示す図、第4図は第1図のスタティックRAMのより詳
細な構成図、第5図は本発明の実施例に適用した二重ワ
ード線構成を示す図、第6図は本発明の実施例における
読出し時の各タイミングを示す図、第7図は本発明の実
施例における書込み時の各タイミングを示す図、第8図
は本発明のメモリマット部分の構成を示す図、第9図は
第1図のクロック発生回路の構成を示す図、第10図は、
第1図のアンプドライブ回路の構成を示す図である。 18……メモリセル、10……ワード線、24……ビット線
対、12……メモリマット、14……メデコーダ(兼ワード
ドライバ)、26……負荷MOSトランジスタ、27……負荷
制御回路、22……Yデコーダ、30……コモンデータ線、
32……第1段目の検出用アンプ、34……第2段目の駆動
用アンプ、36……マルチプレクサ、38……出力データバ
ス、20……クロック発生回路、40……アンプドライブ回
路、28……実効的なメモリマット、10……メモリアレ
イ。
FIG. 1 is a configuration diagram of a static RAM according to an embodiment of the present invention,
FIG. 2 is a diagram showing a first conventional example, FIG. 3 is a diagram showing a second conventional example, FIG. 4 is a more detailed configuration diagram of the static RAM of FIG. 1, and FIG. FIG. 6 is a diagram showing a double word line configuration applied to the embodiment, FIG. 6 is a diagram showing each timing at the time of reading in the embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a diagram showing each timing at the time of writing in the embodiment of the present invention. FIG. 8, FIG. 8 is a diagram showing the configuration of the memory mat portion of the present invention, FIG. 9 is a diagram showing the configuration of the clock generation circuit of FIG. 1, and FIG.
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of an amplifier drive circuit of FIG. 18 memory cell, 10 word line, 24 bit line pair, 12 memory mat, 14 decoder (word driver), 26 load MOS transistor, 27 load control circuit, 22 ... Y decoder, 30 common data line,
32: first stage detection amplifier, 34: second stage drive amplifier, 36: multiplexer, 38: output data bus, 20: clock generation circuit, 40: amplifier drive circuit 28: Effective memory mat, 10: Memory array.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 本城 繁 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 石橋 孝一郎 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 増原 利明 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (56)参考文献 特開 昭59−210588(JP,A) 特開 昭56−118369(JP,A) 特開 昭54−148442(JP,A) 特開 昭61−96589(JP,A) 特開 昭59−155954(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Shigeru Honjo 1-280 Higashi-Koikekubo, Kokubunji-shi, Tokyo Inside the Hitachi, Ltd. Central Research Laboratory (72) Inventor Koichiro Ishibashi 1-280 Higashi-Koikekubo, Kokubunji-shi, Tokyo Hitachi Inside the Central Research Laboratory of the Works (72) Inventor Toshiaki Masuhara 1-280 Higashi Koigakubo, Kokubunji-shi, Tokyo Inside the Central Research Laboratory of the Hitachi, Ltd. (56) References JP-A-59-210588 (JP, A) JP-A-56-118369 ( JP, A) JP-A-54-148442 (JP, A) JP-A-61-96589 (JP, A) JP-A-59-155954 (JP, A)

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】マトリクス配置された複数のメモリセルを
有する第1の領域とマトリクス配置された複数のメモリ
セルを有する第2の領域を含むメモリブロック、 上記複数のメモリセルの列を指定する複数のビット線、 上記第1の領域のメモリセルの行のみを指定する複数の
第1のワード線と上記第2の領域のメモリセルの行のみ
を指定する複数の第2のワード線を含む複数のワード
線、 上記複数のビット線の少なくとも一つを選択するyデコ
ーダ、 上記複数のワード線の少なくとも一つを選択するxデコ
ーダ、 を有し、 上記複数の第1のワード線は上記xデコーダに接続さ
れ、 上記複数の第2のワード線は上記xデコーダに上記第1
のワード線とは異なる接続配線を介して接続され、 上記接続配線は、一方の端部が上記xデコーダに接続さ
れ、上記第1の領域を横切るように配置され、接続点に
おいて上記第2のワード線に接続されていることを特徴
とする半導体メモリ装置。
A memory block including a first area having a plurality of memory cells arranged in a matrix and a second area having a plurality of memory cells arranged in a matrix; and a plurality of columns designating columns of the plurality of memory cells. A plurality of first word lines designating only the rows of the memory cells in the first region and a plurality of second word lines designating only the rows of the memory cells in the second region A word line, a y decoder for selecting at least one of the plurality of bit lines, and an x decoder for selecting at least one of the plurality of word lines, wherein the plurality of first word lines are the x decoder. And the plurality of second word lines are connected to the x-decoder to the first word line.
The connection wiring is connected at one end to the x-decoder, is disposed so as to cross the first region, and is connected at a connection point to the second wiring at a connection point. A semiconductor memory device which is connected to a word line.
【請求項2】上記第1の領域は、上記第2の領域と上記
xデコーダの間に配置されていることを特徴とする請求
項1記載の半導体メモリ装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said first region is disposed between said second region and said x decoder.
【請求項3】上記接続配線と上記第2のワード線は異な
る配線層で形成され、上記接続点において第1のコンタ
クトによって接続されていることを特徴とする請求項1
または2記載の半導体メモリ装置。
3. The connection line and the second word line are formed in different wiring layers, and are connected by a first contact at the connection point.
Or the semiconductor memory device according to 2.
【請求項4】上記接続配線の上記一方の端部と他方の端
部との間に上記第1のコンタクトを配置することを特徴
とする請求項3記載の半導体メモリ装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein said first contact is disposed between said one end and said other end of said connection wiring.
【請求項5】上記他方の端部にさらに第2のコンタクト
を設け、上記接続配線と上記第2のワード線を接続する
ことを特徴とする請求項4記載の半導体メモリ装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 4, wherein a second contact is further provided at said other end, and said connection wire is connected to said second word line.
【請求項6】上記接続配線は上記第1の領域及び上記第
2の領域を横断しており、上記接続点は、上記第1の領
域と上記第2の領域の間にあることを特徴とする請求項
1乃至5のうちのいずれかに記載の半導体メモリ装置。
6. The connection line traverses the first region and the second region, and the connection point is between the first region and the second region. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein:
【請求項7】上記接続配線と上記xデコーダあるいは上
記第2のワード線の間には論理回路が存在せず、直接接
続されていることを特徴とする請求項1乃至6のうちい
ずれかに記載の半導体メモリ装置。
7. The semiconductor device according to claim 1, wherein no logic circuit exists between said connection wiring and said x decoder or said second word line, and the connection wiring is directly connected. The semiconductor memory device according to claim 1.
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