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JP3021261B2 - Manufacturing method of plastic substrate liquid crystal display element - Google Patents

Manufacturing method of plastic substrate liquid crystal display element

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JP3021261B2
JP3021261B2 JP32012893A JP32012893A JP3021261B2 JP 3021261 B2 JP3021261 B2 JP 3021261B2 JP 32012893 A JP32012893 A JP 32012893A JP 32012893 A JP32012893 A JP 32012893A JP 3021261 B2 JP3021261 B2 JP 3021261B2
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JP
Japan
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liquid crystal
plastic substrate
crystal display
alignment film
temperature
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俊生 福地
賢治 西田
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Sharp Corp
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Sharp Corp
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、プラスチック基板を有
する液晶表示素子の製造方法に関し、たとえば、薄型、
軽量、耐衝撃性の要求が強い電子手帳、パーソナルコン
ピューター、ワードプロセッサーなどの、パーソナル、
OA機器用のディスプレーとして好適に使用されるプラ
スチック基板液晶表示素子の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device having a plastic substrate.
Personal, such as electronic notebooks, personal computers, word processors, etc., with strong demands for light weight and impact resistance
The present invention relates to a method for manufacturing a plastic substrate liquid crystal display element suitably used as a display for OA equipment.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、一般的に配向膜材料としては、ポ
リイミドを用いることが知られているが、ポリイミドは
溶剤不溶性のものであるため、基板上に印刷方式にて製
膜するには、その重合前段階のポリアミック酸溶剤の形
で印刷した後、加熱により環化させてポリイミド構造と
する必要があった。その場合、上記加熱による環化には
250℃〜350℃程度の高温処理が必要であるため、
耐熱温度が高々200℃程度であるプラスチック基板で
は、その耐熱性の面より適用が難しく、また、無理に2
00℃以下で焼成を施した場合には、素子電気光学特
性、すなわち表示品位に悪影響を及ぼし、本来のガラス
基板で得られていたような液晶表示素子のコントラスト
などの電気光学特性を得ることができず、表示品位に致
命的な影響を及ぼしていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, it is generally known to use polyimide as an alignment film material. However, since polyimide is solvent-insoluble, it is difficult to form a film on a substrate by a printing method. After printing in the form of a polyamic acid solvent at the stage before the polymerization, it was necessary to cyclize by heating to obtain a polyimide structure. In this case, since the cyclization by heating requires a high-temperature treatment of about 250 ° C. to 350 ° C.,
A plastic substrate having a heat resistance temperature of at most about 200 ° C. is difficult to apply because of its heat resistance.
When baking is performed at a temperature of 00 ° C. or less, the electro-optical characteristics of the device, that is, the display quality are adversely affected, and the electro-optical characteristics such as the contrast of the liquid crystal display device obtained on the original glass substrate may be obtained. No, it had a fatal effect on display quality.

【0003】これらの問題点を解決するため、特公平5
−37292号公報、特公平5−39288号公報、特
公平5−39287号公報に記載されているような方法
が提案されている。まず、特公平5−37292号公報
には、ポリイミドを主成分とした被膜からなる配向膜を
有する液晶表示素子について記載されている。これは、
ポリマーとして、特別に熱安定性の良いポリイミドを溶
剤に溶かし込んでから配向膜形成することを特徴として
おり、そのことにより、配向膜の形成工程を該溶剤を飛
ばす温度のみの低温焼成化を可能としている。
In order to solve these problems, Japanese Patent Publication No.
Japanese Patent Publication No. 37292/1993, Japanese Patent Publication No. 5-39288, and Japanese Patent Publication No. 5-39287 have proposed a method. First, Japanese Patent Publication No. 5-37292 describes a liquid crystal display device having an alignment film composed of a film containing polyimide as a main component. this is,
As a polymer, it is characterized in that an alignment film is formed by dissolving a specially heat-stable polyimide in a solvent, which enables low-temperature sintering of the alignment film forming process only at the temperature at which the solvent is removed. And

【0004】また、特公平5−39288号公報には、
ポリアミドを主成分とした被膜からなる配向膜を有する
液晶表示素子について記載されている。これも、ポリマ
ーとして、特別に熱安定性の良いポリアミドを溶剤に溶
かし込んでから配向膜形成することを特徴としており、
そのことにより、配向膜の形成工程を該溶剤を飛ばす温
度のみの低温焼成化を可能としている。
Further, Japanese Patent Publication No. 5-39288 discloses that
A liquid crystal display device having an alignment film composed of a coating containing polyamide as a main component is described. This is also characterized by forming an alignment film after dissolving a specially heat-stable polyamide as a polymer in a solvent.
This enables low-temperature firing at only the temperature at which the solvent is removed in the process of forming the alignment film.

【0005】さらに、特公平5−39287号公報に
は、ポリアミドエステルを主成分とした被膜からなる配
向膜を有する液晶表示素子について記載されている。こ
れも、ポリマーとして、特別に熱安定性の良いポリアミ
ドエステルを溶剤に溶かし込んでから配向膜形成するこ
とを特徴としており、そのことにより、配向膜の形成工
程を該溶剤を飛ばす温度のみの低温焼成化を可能として
いる。
Further, Japanese Patent Publication No. 5-39287 discloses a liquid crystal display device having an alignment film composed of a film containing a polyamide ester as a main component. This is also characterized in that, as a polymer, a specially heat-resistant polyamide ester is dissolved in a solvent and then the alignment film is formed, whereby the process of forming the alignment film is performed at a low temperature only at the temperature at which the solvent is blown off. Sintering is possible.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような特公平5−39288号公報、特公平5−39
287号公報、特公平5−37292号公報などに開示
されているような配向膜の形成材料技術については、従
来よりも低温焼成化処理が可能となってはいるものの、
プラスチック基板液晶表示素子の配向膜としては、形成
後のポリイミド配向膜上の液晶分子配列が不十分であ
り、一定の液晶分子配向状態を保つことは不可能で、ま
た、d/pマージン(液晶分子のねじれ、d:セルギャ
ップ、p:液晶分子のピッチ)が無く、特にSTN(ス
ーパー・ツイステッド・ネマティック)モードなどには
適しておらず、電気光学特性も得られにくくてその程度
としては不十分なものであった。
However, as described above, Japanese Patent Publication No. 5-39288 and Japanese Patent Publication No. 5-39
No. 287, Japanese Patent Publication No. 5-37292, etc., with respect to the material technology for forming an alignment film, although it is possible to perform a lower-temperature baking treatment than before,
As an alignment film of a plastic substrate liquid crystal display element, the alignment of liquid crystal molecules on a polyimide alignment film after formation is insufficient, so that it is impossible to maintain a constant liquid crystal molecule alignment state, and a d / p margin (liquid crystal It has no molecular twist, d: cell gap, and p: pitch of liquid crystal molecules), and is not particularly suitable for STN (super twisted nematic) mode, etc., and it is difficult to obtain electro-optical characteristics, so that the degree is not so high. That was enough.

【0007】本発明は、これら従来得ることのできなか
った上記問題点をさらに解決しようとするものであり、
プラスチック基板の耐熱温度(200℃)以下の加熱
(焼成)プロセスで配向膜を形成することが可能で
性の優れたプラスチック基板液晶表示素子を製造するこ
とができるプラスチック基板液晶表示素子の製造方法を
提供することを目的としている。
The present invention is intended to further solve the above problems which could not be obtained conventionally.
Capable of forming an alignment film of a plastic substrate heat-resistant temperature (200 ° C.) below the heating (baking) process, producing child excellent plastic substrate liquid crystal display device characteristics
It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a plastic substrate liquid crystal display element that can be used .

【0008】[0008]

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】発明のプラスチック基
板液晶表示素子の製造方法は、透光性を有する一対のプ
ラスチック基板と、該一対のプラスチック基板の対向す
る表面上にそれぞれ形成される透明電極と配向膜とを有
し、該一対のプラスチック基板間に液晶層を介在して構
成されるプラスチック基板液晶表示素子において、ポリ
エーテルアミドまたはその誘導体を3〜10wt%の固
形分として、Nメチルピロリドン(NMP)とγブチル
ラクトン(GBL)とブチルセロソルブアセテートとを
4:3:3の割合で混合した溶剤に溶解させた後、上記
プラスチック基板上に印刷し、加熱および/または減圧
加熱によって上記溶剤のみを除去して、上記プラスチッ
ク基板耐熱温度以下の焼成により上記配向膜を作成した
ことを特徴としており、そのことにより上記目的が達成
される。
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a plastic substrate liquid crystal display device, comprising: a pair of translucent plastic substrates; and transparent electrodes formed on opposing surfaces of the pair of plastic substrates. And an alignment film, wherein a liquid crystal layer is interposed between the pair of plastic substrates, and the liquid crystal display element has a polyether amide or a derivative thereof in an amount of 3 to 10 wt%.
N-methylpyrrolidone (NMP) and γ-butyl
Lactone (GBL) and butyl cellosolve acetate
After being dissolved in a solvent mixed at a ratio of 4: 3: 3 , printing is performed on the plastic substrate, only the solvent is removed by heating and / or heating under reduced pressure, and the plastic substrate is baked at a temperature lower than the heat resistance temperature. The feature is that an alignment film is formed, thereby achieving the above object.

【0010】[0010]

【作用】本発明に従えば、上述したようにポリエーテル
アミドを高沸点溶剤に溶解しており、このとき該ポリエ
ーテルアミドは既にポリマーであるため、溶剤の揮散に
よる除去、膜焼付けのみでプラスチック基板上に配向膜
を形成することが可能となっている。
According to the present invention, as described above, polyetheramide is dissolved in a high-boiling solvent. At this time, the polyetheramide is already a polymer. It is possible to form an alignment film on a substrate.

【0011】すなわち、焼成、焼付け温度としては15
0℃〜200℃程度で十分となり、さらに減圧処理を加
えて溶剤沸点を下げることにより、さらなる低温焼成化
が実現でき、したがって、プラスチック基板における液
晶製造工程のMAX温度である配向膜焼成工程におい
て、該プラスチック基板の耐熱温度以下で処理すること
が可能となり、ガラス基板液晶表示素子と同等な電気光
学特性も確保することができる。
That is, the firing and baking temperature is 15
A temperature of about 0 ° C. to 200 ° C. is sufficient, and further lowering the solvent boiling point by adding a reduced pressure treatment can realize further lower-temperature firing. Therefore, in the alignment film firing step which is the MAX temperature of the liquid crystal manufacturing step on the plastic substrate, Processing can be performed at a temperature lower than the heat resistance temperature of the plastic substrate, and the same electro-optical characteristics as those of a glass substrate liquid crystal display element can be secured.

【0012】[0012]

【実施例】以下実施例について具体的に説明するが、本
発明はこの実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

【0013】(実施例)図1にプラスチック基板液晶表
示素子の典型的な概略図を示す。図中の符号は、1は偏
光板、2と4はハードコート、3は基板、5は透明電
極、6はトップコート、7は配向膜、8はシール、9は
液晶である。
(Embodiment) FIG. 1 shows a typical schematic view of a plastic substrate liquid crystal display device. In the figure, reference numerals 1 are polarizing plates, 2 and 4 are hard coats, 3 is a substrate, 5 is a transparent electrode, 6 is a top coat, 7 is an alignment film, 8 is a seal, and 9 is a liquid crystal.

【0014】偏光板1は、特定方向に強く振動する光だ
けを透過することを目的に設置されるもので、一般的な
製法はPVAの薄い膜を加熱しながら延伸し、ヨウ素を
大量に含有するHインキと呼ばれる溶液に接触させる。
そして、ヨウ素を吸収して偏光をもつ膜としている。
The polarizing plate 1 is provided for the purpose of transmitting only light that vibrates strongly in a specific direction. A general manufacturing method is to stretch a thin film of PVA while heating it and contain a large amount of iodine. In contact with a solution called H ink.
Then, a film having polarized light by absorbing iodine is formed.

【0015】ハードコート2、4は、ガスバリア及びI
TOアンダーコート膜の働きをするもので、アクリル
系、エポキシ系、シロキサン系コーティング膜が使用さ
れ、たとえばディップまたはロールコーターで製膜し
て、100℃、30分の焼き付けを行っている。
The hard coats 2 and 4 are composed of a gas barrier and I
An acrylic, epoxy, or siloxane-based coating film is used as a TO undercoat film. For example, a film is formed using a dip or roll coater and baked at 100 ° C. for 30 minutes.

【0016】基板3は、透明なプラスチック樹脂板で、
エポキシ系またはアクリル系のプラスチック樹脂、ポリ
エーテルサルフォン(PES)、ポリエーテルテレフタ
レート(PET)、ポリカーボネート(PC)などによ
り作られている。
The substrate 3 is a transparent plastic resin plate.
It is made of epoxy or acrylic plastic resin, polyether sulfone (PES), polyether terephthalate (PET), polycarbonate (PC), or the like.

【0017】透明電極5は、低温スパッタリング法によ
りITO(インジウムティンオキサイド)膜を600〜
2000オングストロームで蒸着膜付けした後、ホトエ
ッチングやレーザー光線を用いるなどの方法によりパタ
ーン化し、電極形状を作成している。
The transparent electrode 5 is made of an indium tin oxide (ITO) film having a thickness of
After depositing the deposited film at 2000 angstrom, it is patterned by a method such as photoetching or using a laser beam to form an electrode shape.

【0018】トップコート6(絶縁膜)は、一般にオー
バーコート処理と呼ばれるもので、基板電極表面に薄い
保護層として設けられている。TiやSiの酸化物が皮
膜として利用され、たとえば印刷方式によりシリカコー
ティング材料(例えば、東京応化工業(株)製 MOF
Ti−Si フィルム)を700〜1400オングス
トロームの膜厚で付着させ、硬度と絶縁性を付与してい
る。さらに、このTiやSiの酸化物にアクリル系樹脂
を合体した皮膜が硬度、絶縁性に加えて可撓性も付加さ
れるのが好ましい。この他トップコート樹脂としては、
アクリル系、エポキシ系樹脂の適用も可能であり、無機
物としてはSiOxの他にSiO2 、TiO2 などやそ
れらの混合物の適用も可能である。
The top coat 6 (insulating film) is generally called an overcoat process, and is provided as a thin protective layer on the surface of the substrate electrode. An oxide of Ti or Si is used as a film, and a silica coating material (for example, MOF manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.)
(Ti-Si film) with a film thickness of 700 to 1400 angstroms to provide hardness and insulation. Further, it is preferable that a film obtained by combining an acrylic resin with the oxide of Ti or Si has flexibility in addition to hardness and insulating properties. Other top coat resins include:
An acrylic resin or an epoxy resin can be used, and as the inorganic substance, SiO 2 , TiO 2 , or a mixture thereof can be used in addition to SiOx.

【0019】シール8は、熱融着によってシールするも
ので、材料は無機物としてはガラス、有機物としてはナ
イロン、ポリエステル、ポリイミド、熱硬化エポキシな
どが使用されている。このなかでも熱硬化エポキシを使
用することが好ましい。
The seal 8 seals by heat fusion. The material is glass as an inorganic material, and nylon, polyester, polyimide, thermosetting epoxy or the like is used as an organic material. Among these, it is preferable to use a thermosetting epoxy.

【0020】液晶9は、ネマティック、コレステリッ
ク、スメクティック液晶など多数が提案されている。代
表的なものとしても、ノナン酸コレステリンなど多数あ
る。
Many liquid crystals 9 have been proposed, such as nematic, cholesteric, and smectic liquid crystals. There are many representatives such as cholesterol nonanoate.

【0021】配向膜7は、プラスチック基板3上の液晶
分子の配向を一方向に揃えるために使用するものであ
り、上述した手順に従って、上記プラスチック基板3上
にハードコート膜2、4、透明電極5をそれぞれ形成し
た後に形成する。配向膜作成にあたっては、下記の化学
式1に示すような基本化学構造をもつポリエーテルアミ
ドを3〜10wt%の固形分として高沸点溶剤、Nメチ
ルピロリドン(NMP)、γブチルラクトン(GB
L)、ブチルセロソルブアセテートを4:3:3の割合
で混合させたインクを作成する。
The alignment film 7 is used for aligning the orientation of liquid crystal molecules on the plastic substrate 3 in one direction. According to the above-described procedure, the hard coat films 2 and 4 and the transparent electrode 5 is formed after each is formed. In preparing the alignment film, polyetheramide having a basic chemical structure represented by the following chemical formula 1 is converted into a solid content of 3 to 10% by weight, and a high boiling solvent, N-methylpyrrolidone (NMP), γ-butyl lactone (GB)
L), an ink is prepared by mixing butyl cellosolve acetate at a ratio of 4: 3: 3.

【0022】[0022]

【化1】 Embedded image

【0023】上述したようにして作成したインクを、オ
フセット印刷により所定のパターンに凸版印刷して、3
00〜800オングストロームの膜厚で膜付けを行う。
焼成は熱風循環オーブンにて、150〜200℃、2時
間の設定で行い焼付け製膜をするが、さらに、上記印刷
後、バキュームオーブンにて、0.1〜0.01tor
r、30分の減圧処理をしてから、150〜200℃の
焼成を行うか、または、上記減圧処理中に、150〜2
00℃の焼成を行うことが、時間短縮のうえでは好まし
い。その条件の詳細としては、0.1torrの減圧下
で30分間放置後、180℃で1時間30分焼成を行い
配向膜を形成するか、または、0.01torrの減圧
下で30分間の処理中に150℃の焼成を行い配向膜を
形成することが良好であると確認できた。(図2参照) その後、上述した手順と同様に、2枚のプラスチック基
板3間に液晶9を封入した後、シール材8で封止するこ
とにより、本実施例のプラスチック基板液晶表示素子は
完成する。
The ink prepared as described above is letterpress-printed in a predetermined pattern by offset printing, and 3
The film is formed with a thickness of 00 to 800 angstroms.
Baking is performed in a hot air circulating oven at 150 to 200 ° C. for 2 hours to form a baked film. Further, after the above printing, 0.1 to 0.01 torr in a vacuum oven.
r, after 30 minutes of decompression, baking at 150 to 200 ° C. or during the decompression, 150 to 2
Performing calcination at 00 ° C. is preferable in terms of shortening the time. The details of the conditions are as follows: after leaving under a reduced pressure of 0.1 torr for 30 minutes, baking at 180 ° C. for 1 hour and 30 minutes to form an alignment film, or during the processing under a reduced pressure of 0.01 torr for 30 minutes. It was confirmed that baking at 150 ° C. to form an alignment film was favorable. After that, similar to the above-described procedure, the liquid crystal 9 is sealed between the two plastic substrates 3 and then sealed with the sealing material 8 to complete the plastic substrate liquid crystal display element of this embodiment. I do.

【0024】(比較例1)比較例1においては、従来方
法によって配向膜を作成した。構成要素のうち、配向膜
の作成条件以外については上述した実施例をそのまま適
用した。配向膜の材料としてポリアミック酸を用いて、
250℃で30分間の焼成を行い配向膜を形成した。
Comparative Example 1 In Comparative Example 1, an alignment film was formed by a conventional method. Among the constituent elements, the above-described embodiment was applied as it was except for the conditions for forming the alignment film. Using polyamic acid as the material of the alignment film,
The resultant was baked at 250 ° C. for 30 minutes to form an alignment film.

【0025】(比較例2)比較例2においても、従来方
法によって配向膜を作成した。構成要素のうち、配向膜
の作成条件以外については上述した実施例をそのまま適
用した。配向膜の材料としてポリアミック酸を用いて、
150℃で30分間の焼成を行い配向膜を形成した。
Comparative Example 2 In Comparative Example 2, an alignment film was formed by a conventional method. Among the constituent elements, the above-described embodiment was applied as it was except for the conditions for forming the alignment film. Using polyamic acid as the material of the alignment film,
Baking was performed at 150 ° C. for 30 minutes to form an alignment film.

【0026】本実施例により得られるプラスチック基板
液晶表示素子と、従来技術により得られるプラスチック
基板液晶表示素子の特性を比較して図2に示した。ただ
し、液晶表示素子システム条件として、ラビング角22
0℃、基板PES0.1mmt、セル厚6μmで、シク
ロヘキサン、トラン系の液晶を使用している。
FIG. 2 shows a comparison between the characteristics of the plastic substrate liquid crystal display device obtained according to the present embodiment and the plastic substrate liquid crystal display device obtained according to the prior art. However, a rubbing angle of 22
At 0 ° C., the substrate PES is 0.1 mmt, the cell thickness is 6 μm, and cyclohexane and tolan liquid crystals are used.

【0027】[0027]

【発明の効果】上述してきたように、本発明に従えば、
ポリエーテルアミドを高沸点溶剤に溶解し、その溶剤の
揮散による除去、膜焼付けのみでプラスチック基板上に
配向膜を形成することが可能となっている。
As described above, according to the present invention,
It is possible to form an alignment film on a plastic substrate by dissolving polyetheramide in a high boiling point solvent, removing the solvent by evaporation, and baking the film only.

【0028】すなわち、焼成、焼付け温度としては15
0℃〜200℃程度で十分となり、さらに減圧処理を加
えて溶剤沸点を下げることにより、さらなる低温焼成化
が実現でき、したがって、プラスチック基板における液
晶製造工程のMAX温度である配向膜焼成工程におい
て、該プラスチック基板の耐熱温度以下で処理すること
が可能となり、さらに、従来のガラス基板液晶表示素子
と同等な電気光学特性をもつようなプラスチック液晶表
示素子を製造することができるプラスチック基板液晶表
示素子の製造方法を提供することが可能となった。
That is, the firing and baking temperature is 15
A temperature of about 0 ° C. to 200 ° C. is sufficient, and further lowering the solvent boiling point by adding a reduced pressure treatment can realize further lower-temperature firing. Therefore, in the alignment film firing step which is the MAX temperature of the liquid crystal manufacturing step on the plastic substrate, The plastic substrate liquid crystal display can be processed at a temperature not higher than the heat resistance temperature of the plastic substrate, and can produce a plastic liquid crystal display having the same electro-optical characteristics as a conventional glass substrate liquid crystal display.
It has become possible to provide a method for manufacturing the display element .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、最も典型的なプラスチック基板液晶表
示素子の断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of the most typical plastic substrate liquid crystal display device.

【図2】図2は、本願実施例と従来技術との各配向膜処
理条件の素子での電気光学特性を比較した図である。
FIG. 2 is a diagram comparing the electro-optical characteristics of the device of the embodiment of the present invention and those of the prior art under various alignment film processing conditions.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 偏光板 2 ハードコート 3 基板 4 ハードコート 5 透明電極 6 トップコート 7 配向膜 8 シール 9 液晶 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Polarizer 2 Hard coat 3 Substrate 4 Hard coat 5 Transparent electrode 6 Top coat 7 Alignment film 8 Seal 9 Liquid crystal

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1337 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/1337

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 透光性を有する一対のプラスチック基板
と、該一対のプラスチック基板の対向する表面上にそれ
ぞれ形成される透明電極と配向膜とを有し、該一対のプ
ラスチック基板間に液晶層を介在して構成されるプラス
チック基板液晶表示素子において、 ポリエーテルアミドまたはその誘導体を3〜10wt%
の固形分として、Nメチルピロリドン(NMP)とγブ
チルラクトン(GBL)とブチルセロソルブアセテート
とを4:3:3の割合で混合した溶剤に溶解させた後、
上記プラスチック基板上に印刷し、加熱および/または
減圧加熱によって上記溶剤のみを除去して、上記プラス
チック基板耐熱温度以下の焼成により上記配向膜を作成
したことを特徴とするプラスチック基板液晶表示素子の
製造方法。
1. A liquid crystal layer comprising a pair of translucent plastic substrates, a transparent electrode and an alignment film respectively formed on opposing surfaces of the pair of plastic substrates, and a liquid crystal layer interposed between the pair of plastic substrates. In a plastic substrate liquid crystal display element constituted by interposing a polyether amide or a derivative thereof, 3 to 10 wt%
N-methylpyrrolidone (NMP) and gamma
Cyllactone (GBL) and butyl cellosolve acetate
Are dissolved in a solvent mixed at a ratio of 4: 3: 3 ,
A method for manufacturing a plastic substrate liquid crystal display device, comprising printing on the plastic substrate, removing only the solvent by heating and / or heating under reduced pressure, and sintering the plastic substrate at a temperature not higher than the allowable temperature limit. Method.
JP32012893A 1993-12-20 1993-12-20 Manufacturing method of plastic substrate liquid crystal display element Expired - Fee Related JP3021261B2 (en)

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