JP3013498B2 - 水なし平版印刷版用現像液 - Google Patents
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は水なし平版印刷版用現像
液に関するものであり、特に基版上に光硬化性層とシリ
コ−ンゴム層とを積層してなる水なし平版印刷版の改善
された現像液に関するものである。
液に関するものであり、特に基版上に光硬化性層とシリ
コ−ンゴム層とを積層してなる水なし平版印刷版の改善
された現像液に関するものである。
【0002】
【従来の技術】シリコ−ンゴム層をインキ反発層とする
水なし平版印刷版については、既に種々のものが提案さ
れている。中でも特公昭54-26923号あるいは特開昭50-5
0102号などに提案された基板上に光重合性接着層とシリ
コ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、また特
開昭60-21050号などに提案された基板上に光硬化性層と
シリコ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版は湿
し水を用いることなく実用的な印刷が可能である。
水なし平版印刷版については、既に種々のものが提案さ
れている。中でも特公昭54-26923号あるいは特開昭50-5
0102号などに提案された基板上に光重合性接着層とシリ
コ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、また特
開昭60-21050号などに提案された基板上に光硬化性層と
シリコ−ンゴム層とが積層された水なし平版印刷版は湿
し水を用いることなく実用的な印刷が可能である。
【0003】水なし平版印刷版は、通常次のような露
光、現像工程を経て製版される。まず平版印刷版原版は
真空密着されたポジティブフィルムを通して活性光線に
露光される。露光の終った印刷原版はパラフィン系炭化
水素あるいはそれを主成分とする現像液に浸漬される。
その結果未露光部のシリコ−ンゴム層は現像液によって
激しく膨潤し、しわを生ずる。この状態でガ−ゼなどの
柔らかいパッドを用いて印刷版面を軽くこすると膨潤し
た未露光部のシリコ−ンゴム層のみが剥ぎとられ、下層
の未硬化の光硬化性層が露出する。この部分がインキ着
肉性の画線部となる。一方、露光部分のシリコ−ンゴム
層は現像液により若干膨潤するものの、光硬化した光硬
化性層に強く接着しているため、現像パッドで強くこす
っても侵されずに版面に残り、この部分がインキ反発性
の非画線部を形成することにより水なし平版印刷版に製
版される。このような製版過程を経て得られる水なし平
版印刷版は、シリコ−ンゴム層の切れがよくシャ−プな
網点が得られる反面、例えば現像工程における現像操作
が不充分な場合には画線部として本来シリコ−ンゴム層
が剥離除去されていなければならない部分にもシリコ−
ンゴム層が残存してしまい、このために微小網点再現性
の悪い印刷版になってしまう。また現像時に版面を強く
こすり過ぎると非画線部として印刷版面上に残すべきシ
リコ−ンゴム層まで損傷してしまう。その結果、最終製
品である印刷物に地汚れや欠点が生ずる原因となり印刷
特性の優れた印刷版が得られないという問題点をかかえ
ている。
光、現像工程を経て製版される。まず平版印刷版原版は
真空密着されたポジティブフィルムを通して活性光線に
露光される。露光の終った印刷原版はパラフィン系炭化
水素あるいはそれを主成分とする現像液に浸漬される。
その結果未露光部のシリコ−ンゴム層は現像液によって
激しく膨潤し、しわを生ずる。この状態でガ−ゼなどの
柔らかいパッドを用いて印刷版面を軽くこすると膨潤し
た未露光部のシリコ−ンゴム層のみが剥ぎとられ、下層
の未硬化の光硬化性層が露出する。この部分がインキ着
肉性の画線部となる。一方、露光部分のシリコ−ンゴム
層は現像液により若干膨潤するものの、光硬化した光硬
化性層に強く接着しているため、現像パッドで強くこす
っても侵されずに版面に残り、この部分がインキ反発性
の非画線部を形成することにより水なし平版印刷版に製
版される。このような製版過程を経て得られる水なし平
版印刷版は、シリコ−ンゴム層の切れがよくシャ−プな
網点が得られる反面、例えば現像工程における現像操作
が不充分な場合には画線部として本来シリコ−ンゴム層
が剥離除去されていなければならない部分にもシリコ−
ンゴム層が残存してしまい、このために微小網点再現性
の悪い印刷版になってしまう。また現像時に版面を強く
こすり過ぎると非画線部として印刷版面上に残すべきシ
リコ−ンゴム層まで損傷してしまう。その結果、最終製
品である印刷物に地汚れや欠点が生ずる原因となり印刷
特性の優れた印刷版が得られないという問題点をかかえ
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、従来技
術の諸欠点に鑑みその改善対策について鋭意検討を進め
た結果、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とする水なし
平版印刷版の現像液としてジエステルを用いることによ
り著しく現像性が向上し、微小な網点まで容易に再現で
きることを見い出し以下に述べる本発明に到達した。
術の諸欠点に鑑みその改善対策について鋭意検討を進め
た結果、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とする水なし
平版印刷版の現像液としてジエステルを用いることによ
り著しく現像性が向上し、微小な網点まで容易に再現で
きることを見い出し以下に述べる本発明に到達した。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、一般
式(1)で表される構造を有するジエステルの少なくと
も一種を0.5重量%以上含有することを特徴とする水
なし平版印刷版用現像液である。
式(1)で表される構造を有するジエステルの少なくと
も一種を0.5重量%以上含有することを特徴とする水
なし平版印刷版用現像液である。
【0006】 R1OOC−X−COOR2 (1) (但し、式中Xが炭素数4〜15の二価の脂肪族炭化水
素または炭素数5〜15の脂環族炭化水素の場合は、R
1 、R 2 は炭素数1〜15の脂肪族炭化水素であり、Xが
炭素数6〜15の芳香族炭化水素の場合は、R 1 、R 2 は
炭素数4〜15の脂肪族炭化水素である。R 1 、R 2 はそ
れぞれが同じであっても良いし、異なっていても良
い。)本発明において使用されるジエステルは、一般式
(1)で表される構造を有するもので、式のが炭素数4
〜15の二価の脂肪族炭化水素または炭素数5〜15の
脂環族炭化水素の場合は、R 1 、R 2 は炭素数1〜15の
脂肪族炭化水素であり、Xが炭素数6〜15の芳香族炭
化水素の場合は、R 1 、R 2 は炭素数4〜15の脂肪族炭
化水素である。R 1 、R 2 はそれぞれが同じであっても良
いし、異なっていても良い。脂肪族炭化水素、脂環族炭
化水素、芳香族炭化水素、R1およびR2の炭素数がそれ
ぞれ15を越えるとジエステルを現像液中に含む場合
は、光硬化性層とシリコーンゴム層の界面接着力を低下
させる効果が小さく、微小な網点を再現しにくくなるた
め好ましくない。かかるジエステルは現像液総量の0.
5〜100重量%、好ましくは1.0〜100重量%の
範囲で含有されていることが重要である。
素または炭素数5〜15の脂環族炭化水素の場合は、R
1 、R 2 は炭素数1〜15の脂肪族炭化水素であり、Xが
炭素数6〜15の芳香族炭化水素の場合は、R 1 、R 2 は
炭素数4〜15の脂肪族炭化水素である。R 1 、R 2 はそ
れぞれが同じであっても良いし、異なっていても良
い。)本発明において使用されるジエステルは、一般式
(1)で表される構造を有するもので、式のが炭素数4
〜15の二価の脂肪族炭化水素または炭素数5〜15の
脂環族炭化水素の場合は、R 1 、R 2 は炭素数1〜15の
脂肪族炭化水素であり、Xが炭素数6〜15の芳香族炭
化水素の場合は、R 1 、R 2 は炭素数4〜15の脂肪族炭
化水素である。R 1 、R 2 はそれぞれが同じであっても良
いし、異なっていても良い。脂肪族炭化水素、脂環族炭
化水素、芳香族炭化水素、R1およびR2の炭素数がそれ
ぞれ15を越えるとジエステルを現像液中に含む場合
は、光硬化性層とシリコーンゴム層の界面接着力を低下
させる効果が小さく、微小な網点を再現しにくくなるた
め好ましくない。かかるジエステルは現像液総量の0.
5〜100重量%、好ましくは1.0〜100重量%の
範囲で含有されていることが重要である。
【0007】本発明において使用されるジエステルの具
体例として例えば下記のものがあげられるがこれらに限
定されない。
体例として例えば下記のものがあげられるがこれらに限
定されない。
【0008】アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジブチ
ル、アジピン酸ジヘキシル、アジピン酸ジオクチル、ア
ジピン酸ジドデシル、エチルコハク酸ジメチル、エチル
コハク酸ジブチル、エチルコハク酸ジヘキシル、エチル
コハク酸ジオクチル、エチルコハク酸ジドデシル、ピメ
リン酸ジメチル、ピメリン酸ジブチル、ピメリン酸ジヘ
キシル、ピメリン酸ジオクチル、ピメリン酸ジドデシ
ル、スベリン酸ジメチル、スベリン酸ジブチル、スベリ
ン酸ジヘキシル、スベリン酸ジオクチル、スベリン酸ジ
ドデシル、アゼライン酸ジメチル、アゼライン酸ジブチ
ル、アゼライン酸ジヘキシル、アゼライン酸ジオクチ
ル、アゼライン酸ジドデシル、セバシン酸ジメチル、セ
バシン酸ジブチル、セバシン酸ジヘキシル、セバシン酸
ジオクチル、セバシン酸ジドデシル、1,10−デカン
ジカルボン酸ジメチル、1,10−デカンジカルボン酸
ジブチル、1,10−デカンジカルボン酸ジヘキシル、
1,10−デカンジカルボン酸ジオクチル、1,10−
デカンジカルボン酸ジドデシル、シクロヘキサン−1,
2−ジカルボン酸ジメチル、シクロヘキサン−1,2−
ジカルボン酸ジブチル、シクロヘキサン−1,2−ジカ
ルボン酸ジヘキシル、シクロヘキサン−1,2−ジカル
ボン酸ジオクチル、シクロヘキサン−1,2−ジカルボ
ン酸ジドデシル、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン
酸ジメチル、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸ジ
ブチル、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸ジヘキ
シル、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸ジオクチ
ル、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸ジドデシ
ル、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ジメチル、
シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ジブチル、シク
ロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ジヘキシル、シクロ
ヘキサン−1,4−ジカルボン酸ジオクチル、シクロヘ
キサン−1,4−ジカルボン酸ジドデシル、フタル酸ジ
ブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、フ
タル酸ジドデシル、テレフタル酸ジブチル、テレフタル
酸ジヘキシル、テレフタル酸ジオクチル、テレフタル酸
ジドデシル、フェニルマロン酸ジブチル、フェニルマロ
ン酸ジヘキシル、フェニルマロン酸ジオクチル、フェニ
ルマロン酸ジドデシル、フェニルコハク酸ジブチル、フ
ェニルコハク酸ジヘキシル、フェニルコハク酸ジオクチ
ル、フェニルコハク酸ジドデシルなど。
ル、アジピン酸ジヘキシル、アジピン酸ジオクチル、ア
ジピン酸ジドデシル、エチルコハク酸ジメチル、エチル
コハク酸ジブチル、エチルコハク酸ジヘキシル、エチル
コハク酸ジオクチル、エチルコハク酸ジドデシル、ピメ
リン酸ジメチル、ピメリン酸ジブチル、ピメリン酸ジヘ
キシル、ピメリン酸ジオクチル、ピメリン酸ジドデシ
ル、スベリン酸ジメチル、スベリン酸ジブチル、スベリ
ン酸ジヘキシル、スベリン酸ジオクチル、スベリン酸ジ
ドデシル、アゼライン酸ジメチル、アゼライン酸ジブチ
ル、アゼライン酸ジヘキシル、アゼライン酸ジオクチ
ル、アゼライン酸ジドデシル、セバシン酸ジメチル、セ
バシン酸ジブチル、セバシン酸ジヘキシル、セバシン酸
ジオクチル、セバシン酸ジドデシル、1,10−デカン
ジカルボン酸ジメチル、1,10−デカンジカルボン酸
ジブチル、1,10−デカンジカルボン酸ジヘキシル、
1,10−デカンジカルボン酸ジオクチル、1,10−
デカンジカルボン酸ジドデシル、シクロヘキサン−1,
2−ジカルボン酸ジメチル、シクロヘキサン−1,2−
ジカルボン酸ジブチル、シクロヘキサン−1,2−ジカ
ルボン酸ジヘキシル、シクロヘキサン−1,2−ジカル
ボン酸ジオクチル、シクロヘキサン−1,2−ジカルボ
ン酸ジドデシル、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン
酸ジメチル、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸ジ
ブチル、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸ジヘキ
シル、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸ジオクチ
ル、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸ジドデシ
ル、シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ジメチル、
シクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ジブチル、シク
ロヘキサン−1,4−ジカルボン酸ジヘキシル、シクロ
ヘキサン−1,4−ジカルボン酸ジオクチル、シクロヘ
キサン−1,4−ジカルボン酸ジドデシル、フタル酸ジ
ブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、フ
タル酸ジドデシル、テレフタル酸ジブチル、テレフタル
酸ジヘキシル、テレフタル酸ジオクチル、テレフタル酸
ジドデシル、フェニルマロン酸ジブチル、フェニルマロ
ン酸ジヘキシル、フェニルマロン酸ジオクチル、フェニ
ルマロン酸ジドデシル、フェニルコハク酸ジブチル、フ
ェニルコハク酸ジヘキシル、フェニルコハク酸ジオクチ
ル、フェニルコハク酸ジドデシルなど。
【0009】上記のうちでもR1 、R2 が炭素数1〜1
2の脂肪族炭化水素であるジエステルが特に有用であ
る。
2の脂肪族炭化水素であるジエステルが特に有用であ
る。
【0010】本発明の現像液としては、ジエステルに他
の溶媒を添加したものを用いることもできる。かかる溶
媒としては、石油の分留製品から容易に入手できるパラ
フィン系炭化水素あるいはそれを主成分とするもの、ペ
ンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンのような精練さ
れたパラフィン系炭化水素、水、アルコ−ル類、エステ
ル類、ポリエチレングリコ−ル類およびその誘導体、ポ
リプロピレングリコ−ル類およびその誘導体、ケトン
類、エ−テル類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水
素類などがあげられる。この中でも、ポリエチレングリ
コ−ル類およびその誘導体、ポリプロピレングリコ−ル
類およびその誘導体が特に有効である。
の溶媒を添加したものを用いることもできる。かかる溶
媒としては、石油の分留製品から容易に入手できるパラ
フィン系炭化水素あるいはそれを主成分とするもの、ペ
ンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタンのような精練さ
れたパラフィン系炭化水素、水、アルコ−ル類、エステ
ル類、ポリエチレングリコ−ル類およびその誘導体、ポ
リプロピレングリコ−ル類およびその誘導体、ケトン
類、エ−テル類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水
素類などがあげられる。この中でも、ポリエチレングリ
コ−ル類およびその誘導体、ポリプロピレングリコ−ル
類およびその誘導体が特に有効である。
【0011】本発明の現像液が好都合に適用できる水な
し平版印刷版は、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とす
る平版印刷版であり、特に基板上に光硬化性層とシリコ
−ンゴム層とを積層した水なし平版印刷版である。
し平版印刷版は、シリコ−ンゴム層をインキ反発層とす
る平版印刷版であり、特に基板上に光硬化性層とシリコ
−ンゴム層とを積層した水なし平版印刷版である。
【0012】平版印刷版の基板は通常の平版印刷機にセ
ットできるたわみ性と、印刷時にかかる荷重に耐えうる
ものでなければならない。代表的な基板としては、コ−
ト紙、アルミ、スチ−ルのような金属板あるいはポリエ
チレンテレフタレ−トのようなプラスチックフィルムを
あげることができる。
ットできるたわみ性と、印刷時にかかる荷重に耐えうる
ものでなければならない。代表的な基板としては、コ−
ト紙、アルミ、スチ−ルのような金属板あるいはポリエ
チレンテレフタレ−トのようなプラスチックフィルムを
あげることができる。
【0013】光硬化性層は基板に均一に塗布されてお
り、基板に密着しているならば、層の厚みは任意である
が、好ましくは100 ミクロン以下であり、50ミクロン以
下のものがさらに有用である。もし必要であれば、光硬
化性層と基板との間の接着性向上あるいは、ハレ−ショ
ン防止のために基板と光硬化性層との間にアンカ−コ−
ト層をもうけることも有用である。
り、基板に密着しているならば、層の厚みは任意である
が、好ましくは100 ミクロン以下であり、50ミクロン以
下のものがさらに有用である。もし必要であれば、光硬
化性層と基板との間の接着性向上あるいは、ハレ−ショ
ン防止のために基板と光硬化性層との間にアンカ−コ−
ト層をもうけることも有用である。
【0014】本発明に用いられる光硬化性層としては、
光重合性層と光架橋性層とがあげられる。
光重合性層と光架橋性層とがあげられる。
【0015】本発明に用いられる光重合性接着層として
はたとえば以下に示すような組成のものがあげられる。 (1) 沸点100 ℃以上の光重合性不飽和モノマ−あるいはオリゴマ …1.0 〜99.9重量部 (2) 光増感剤 …0.1 〜20.0重量部 (3) 熱重合禁止剤 …0.01〜10.0重量部 (4) 光重合性層の形態保持用充填剤(ポリマ−あるいは無機粉末) …0.01〜95.0重量部 光重合性不飽和モノマ−あるいはオリゴマの代表的な例
としては、炭素数30以下の1価のアルコ−ルあるいは1
価のアミンから誘導された沸点100 ℃以上のアクリル酸
エステルまたはメタアクリル酸エステル(以下これらを
(メタ)アクリル酸エステルと略称する。また以下の説
明で(メタ)□□□とあるのは同様に□□□またはメタ
□□□を略したものである。)、あるいは(メタ)アク
リルアミド、炭素数30以下の多価アルコ−ルあるいは多
価アミンから誘導された沸点100℃以上の(メタ)アク
リル酸エステル、あるいは(メタ)アクリルアミド、ア
ミンとグリシジル(メタ)アクリレ−トとの付加反応生
成物などをあげることができる。
はたとえば以下に示すような組成のものがあげられる。 (1) 沸点100 ℃以上の光重合性不飽和モノマ−あるいはオリゴマ …1.0 〜99.9重量部 (2) 光増感剤 …0.1 〜20.0重量部 (3) 熱重合禁止剤 …0.01〜10.0重量部 (4) 光重合性層の形態保持用充填剤(ポリマ−あるいは無機粉末) …0.01〜95.0重量部 光重合性不飽和モノマ−あるいはオリゴマの代表的な例
としては、炭素数30以下の1価のアルコ−ルあるいは1
価のアミンから誘導された沸点100 ℃以上のアクリル酸
エステルまたはメタアクリル酸エステル(以下これらを
(メタ)アクリル酸エステルと略称する。また以下の説
明で(メタ)□□□とあるのは同様に□□□またはメタ
□□□を略したものである。)、あるいは(メタ)アク
リルアミド、炭素数30以下の多価アルコ−ルあるいは多
価アミンから誘導された沸点100℃以上の(メタ)アク
リル酸エステル、あるいは(メタ)アクリルアミド、ア
ミンとグリシジル(メタ)アクリレ−トとの付加反応生
成物などをあげることができる。
【0016】光増感剤の代表例としては、ベンゾフェノ
ン、チオキサントン、ミヒラ−氏ケトン、ベンゾインメ
チルエ−テル、ジベンジルジスルフイドおよび硝酸ウラ
ニルなどがあり、熱重合禁止剤の代表例としては、ハイ
ドロキノン、フェノチアジンンなどをあげることができ
る。さらに充填剤としては、ポリ(メタ)アクリル酸エ
ステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステルなど
のポリマ−やコロイダルシリカ、炭酸カルシウムなどの
無機粉末がそれぞれ有効である。
ン、チオキサントン、ミヒラ−氏ケトン、ベンゾインメ
チルエ−テル、ジベンジルジスルフイドおよび硝酸ウラ
ニルなどがあり、熱重合禁止剤の代表例としては、ハイ
ドロキノン、フェノチアジンンなどをあげることができ
る。さらに充填剤としては、ポリ(メタ)アクリル酸エ
ステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステルなど
のポリマ−やコロイダルシリカ、炭酸カルシウムなどの
無機粉末がそれぞれ有効である。
【0017】本発明に用いられる光架橋性層としては以
下に示すようなものがあげられる。 (1) 光二量化型の感光性樹脂、例えばポリ桂皮酸ビニル
などを含む感光層。 (2) エポキシ基を有するモノマ、オリゴマまたはポリマ
とジアゾニウム塩との組み合わせからなる感光層。これ
は露光するとジアゾニウム塩の光分解によりルイス酸が
生成し、エポキシ基がカチオン重合して架橋する。ジア
ゾニウム塩として、例えば2,5-ジエトキシ-4-(P-トルイ
ルチオ)ベンゼンジアゾニウムヘキサフロロフオスフェ
−トなどがもちいられる。 (3) アリル基を有するモノマ、オリゴマまたはポリマと
チオ−ル基を有するモノマ、オリゴマまたはポリマとの
組み合わせからなる感光層。これは露光するとチオ−ル
基がアリル基に付加して架橋する。 (4) ジアゾニウム塩、例えばP-ジアゾジフェニルアミン
とホルムアルデヒドの縮合物など。 (5) アジド化合物と環化ゴムを主成分とする感光層。
下に示すようなものがあげられる。 (1) 光二量化型の感光性樹脂、例えばポリ桂皮酸ビニル
などを含む感光層。 (2) エポキシ基を有するモノマ、オリゴマまたはポリマ
とジアゾニウム塩との組み合わせからなる感光層。これ
は露光するとジアゾニウム塩の光分解によりルイス酸が
生成し、エポキシ基がカチオン重合して架橋する。ジア
ゾニウム塩として、例えば2,5-ジエトキシ-4-(P-トルイ
ルチオ)ベンゼンジアゾニウムヘキサフロロフオスフェ
−トなどがもちいられる。 (3) アリル基を有するモノマ、オリゴマまたはポリマと
チオ−ル基を有するモノマ、オリゴマまたはポリマとの
組み合わせからなる感光層。これは露光するとチオ−ル
基がアリル基に付加して架橋する。 (4) ジアゾニウム塩、例えばP-ジアゾジフェニルアミン
とホルムアルデヒドの縮合物など。 (5) アジド化合物と環化ゴムを主成分とする感光層。
【0018】本発明のシリコ−ンゴム層は0.5 〜50ミク
ロン好ましくは0.5 〜5 ミクロンの厚さと、紫外線が透
過しうる透明性を有する。有用なシリコ−ンゴムは末端
基同志の縮合によって架橋する分子量1000〜1000000 の
線状ジオルガノポリシロキサン(好ましくはジメチルポ
リシロキサン)を主成分とし、必要に応じて架橋剤、触
媒が添加されたものである。シリコ−ンゴム層はインキ
反発性を有するものであり、その表面はいくぶん粘着性
を有し、埃などが付着しやすく、そのため露光工程にお
いてポジフイルムが十分に密着しにくいなどの問題が起
こりやすいので、シリコ−ンゴム層の表面に、薄い透明
性の保護フイルムを張りつけることもできる。また、こ
の保護フイルムは空気中の酸素の光硬化性層への浸透を
抑制し、光硬化性層の光硬化を促進する役割をも演ず
る。この様に、保護フイルムは露光工程において有用で
あるが、勿論、現像工程において剥離または溶解によっ
て除去され、印刷工程においては不必要なものである。
有用な保護フイルムは紫外線を透過し得る透明性と、10
0 ミクロン以下、好ましくは10ミクロン以下の厚みを有
し、その代表例として次のようなプラスチックのフイル
ムをあげることができる。 ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニ
ルアルコ−ルポリエチレンテレフタレ−ト、セロファン
など。
ロン好ましくは0.5 〜5 ミクロンの厚さと、紫外線が透
過しうる透明性を有する。有用なシリコ−ンゴムは末端
基同志の縮合によって架橋する分子量1000〜1000000 の
線状ジオルガノポリシロキサン(好ましくはジメチルポ
リシロキサン)を主成分とし、必要に応じて架橋剤、触
媒が添加されたものである。シリコ−ンゴム層はインキ
反発性を有するものであり、その表面はいくぶん粘着性
を有し、埃などが付着しやすく、そのため露光工程にお
いてポジフイルムが十分に密着しにくいなどの問題が起
こりやすいので、シリコ−ンゴム層の表面に、薄い透明
性の保護フイルムを張りつけることもできる。また、こ
の保護フイルムは空気中の酸素の光硬化性層への浸透を
抑制し、光硬化性層の光硬化を促進する役割をも演ず
る。この様に、保護フイルムは露光工程において有用で
あるが、勿論、現像工程において剥離または溶解によっ
て除去され、印刷工程においては不必要なものである。
有用な保護フイルムは紫外線を透過し得る透明性と、10
0 ミクロン以下、好ましくは10ミクロン以下の厚みを有
し、その代表例として次のようなプラスチックのフイル
ムをあげることができる。 ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニ
ルアルコ−ルポリエチレンテレフタレ−ト、セロファン
など。
【0019】このようにして構成された平版印刷版原版
に、通常の平版用真空焼枠を用いてポジフイルムを真空
密着し、該フイルムを通して活性光線を照射する。保護
フイルムが存在する場合は、保護フイルムを取り去った
後、本発明の現像液を用いて、ガ−ゼ、不織布などの柔
らかいパッドで版面を軽くこすることにより、実質的に
画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部の光
硬化性層を露出させることができる。必要なら、特開昭
54-103103 号公報に記載の方法に従って画線部を染色す
る。また、本現像液中に浸漬するなどして版面をしめら
せた後、別の溶媒、好ましくは水または水を主成分とす
る溶媒で洗浄しながら、版面をこすることにより、実質
的に画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部
の光硬化性層を露出させる方法を採用することもでき
る。この際、洗浄溶媒中に染料を添加することにより、
画線部を染色することも可能である。
に、通常の平版用真空焼枠を用いてポジフイルムを真空
密着し、該フイルムを通して活性光線を照射する。保護
フイルムが存在する場合は、保護フイルムを取り去った
後、本発明の現像液を用いて、ガ−ゼ、不織布などの柔
らかいパッドで版面を軽くこすることにより、実質的に
画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部の光
硬化性層を露出させることができる。必要なら、特開昭
54-103103 号公報に記載の方法に従って画線部を染色す
る。また、本現像液中に浸漬するなどして版面をしめら
せた後、別の溶媒、好ましくは水または水を主成分とす
る溶媒で洗浄しながら、版面をこすることにより、実質
的に画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥ぎ取り、画線部
の光硬化性層を露出させる方法を採用することもでき
る。この際、洗浄溶媒中に染料を添加することにより、
画線部を染色することも可能である。
【0020】本発明の現像液を適用することにより、従
来よりも短い現像時間で微小網点再現性が良好で、かつ
スクラッチ傷や欠点などの少ない印刷版が得られる。
来よりも短い現像時間で微小網点再現性が良好で、かつ
スクラッチ傷や欠点などの少ない印刷版が得られる。
【0021】
【実施例】以下実施例により本発明をさらに詳しく説明
するが、本発明はこれらに限定されない。
するが、本発明はこれらに限定されない。
【0022】実施例1〜4、比較例1、2 アルミニウム基板上に、次の組成を有する厚さ4ミクロ
ンの光重合性層を設けた。 (a) アジピン酸とヘキサン−1,6ジオ−ルおよび2,2−ジメチルプロパン −1,3−ジオ−ルからなるポリエステルポリオ−ルとイソホロンジイソシアネ −トとのポリウレタン 56重量部 (b) メタクリル酸グリシジルとキシリレンジアミンの4モル/1モル付加反応 物 40重量部 (c) ミヒラ−氏ケトン 4重量部 次いでこの光重合性接着層の上に次の組成を有するシリ
コ−ンの10%n−ヘキサン希釈液を塗布し、50℃熱風中
で乾燥して厚さ3ミクロンのシリコ−ンゴム層を設け
た。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量約80000 ) 100重量部 (b) エチルトリアセトキシシラン 5重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ 0.2重量部 上述のように作製した版に厚さ10ミクロンのポリエチレ
ンテレフタレ−トフイルム“ルミラ−”(東レ(株)
製)を保護フイルムとしてラミネ−トして平版印刷用原
版とした。
ンの光重合性層を設けた。 (a) アジピン酸とヘキサン−1,6ジオ−ルおよび2,2−ジメチルプロパン −1,3−ジオ−ルからなるポリエステルポリオ−ルとイソホロンジイソシアネ −トとのポリウレタン 56重量部 (b) メタクリル酸グリシジルとキシリレンジアミンの4モル/1モル付加反応 物 40重量部 (c) ミヒラ−氏ケトン 4重量部 次いでこの光重合性接着層の上に次の組成を有するシリ
コ−ンの10%n−ヘキサン希釈液を塗布し、50℃熱風中
で乾燥して厚さ3ミクロンのシリコ−ンゴム層を設け
た。 (a) ジメチルポリシロキサン(分子量約80000 ) 100重量部 (b) エチルトリアセトキシシラン 5重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ 0.2重量部 上述のように作製した版に厚さ10ミクロンのポリエチレ
ンテレフタレ−トフイルム“ルミラ−”(東レ(株)
製)を保護フイルムとしてラミネ−トして平版印刷用原
版とした。
【0023】この平版印刷用原版に網点面積率を段階的
に変えた(200 線、2%〜98%)ポジフイルムを密着
し、 3kwの超高圧水銀灯(オ−ク製作所製)で1mの距離
から90秒露光した。
に変えた(200 線、2%〜98%)ポジフイルムを密着
し、 3kwの超高圧水銀灯(オ−ク製作所製)で1mの距離
から90秒露光した。
【0024】露光版からラミネ−トしてある保護フイル
ムを取り除き、第1表に示すような現像液を用いて露光
版をそれぞれ現像し水なし平版印刷版を得た。これらの
現像液によって得られた印刷版の現像に要した時間およ
び印刷版の網点再現域についての結果を別表に示す。
ムを取り除き、第1表に示すような現像液を用いて露光
版をそれぞれ現像し水なし平版印刷版を得た。これらの
現像液によって得られた印刷版の現像に要した時間およ
び印刷版の網点再現域についての結果を別表に示す。
【0025】一般式(1)のジエステルを含む実施例1
〜4の現像液を用いると、光重合性層を実質的に溶解さ
せずに、画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥離除去で
き、かついずれの場合も網点再現域は 2%〜98%であっ
た。一般式(1)のジエステルを含まない比較例1の場
合は、光重合性層を実質的に溶解させずに、画線部のシ
リコ−ンゴム層のみを剥離除去できるが、現像時間が長
くかかり、網点再現性も不充分である。また、特許請求
の範囲外であるアジピン酸ジステアリルを含む比較例2
の現像液は、光重合性層とシリコ−ンゴム層の界面接着
力を低下させる効果が小さく、微小な網点を再現しにく
くなっているため、現像液としては不適当である。
〜4の現像液を用いると、光重合性層を実質的に溶解さ
せずに、画線部のシリコ−ンゴム層のみを剥離除去で
き、かついずれの場合も網点再現域は 2%〜98%であっ
た。一般式(1)のジエステルを含まない比較例1の場
合は、光重合性層を実質的に溶解させずに、画線部のシ
リコ−ンゴム層のみを剥離除去できるが、現像時間が長
くかかり、網点再現性も不充分である。また、特許請求
の範囲外であるアジピン酸ジステアリルを含む比較例2
の現像液は、光重合性層とシリコ−ンゴム層の界面接着
力を低下させる効果が小さく、微小な網点を再現しにく
くなっているため、現像液としては不適当である。
【0026】
【表1】
【0027】実施例5 実施例1と同様にして得た露光版から保護フイルムを取
り除き、アジピン酸ジオクチル10重量部とポリプロピ
レングリコ−ル(重量平均分子量200)90部の混合
溶液の中に1分間浸漬した後、アストラゾンレッド6B
(バイエル社製)を2重量%溶解した水で版面を洗浄し
ながらブラシでこすることにより現像を行った。その結
果、画線部の光重合性接着層が赤く染色された検版性の
良好な刷版が得られた。
り除き、アジピン酸ジオクチル10重量部とポリプロピ
レングリコ−ル(重量平均分子量200)90部の混合
溶液の中に1分間浸漬した後、アストラゾンレッド6B
(バイエル社製)を2重量%溶解した水で版面を洗浄し
ながらブラシでこすることにより現像を行った。その結
果、画線部の光重合性接着層が赤く染色された検版性の
良好な刷版が得られた。
【0028】現像所要時間は約3分で、網点再現域は20
0 線、 2〜98%と極めて良好であった。
0 線、 2〜98%と極めて良好であった。
【0029】
【発明の効果】本発明は上述のごとく構成したので、現
像性が著しく向上するとともに、微小な網点まで容易に
再現することができたものである。
像性が著しく向上するとともに、微小な網点まで容易に
再現することができたものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/00 - 7/42
Claims (1)
- 【請求項1】一般式(1)で表される構造を有するジエ
ステルの少なくとも一種を0.5重量%以上含有するこ
とを特徴とする水なし平版印刷版用現像液。 R1OOC−X−COOR2 (1) (但し、式中Xが炭素数4〜15の二価の脂肪族炭化水
素または炭素数5〜15の脂環族炭化水素の場合は、R
1 、R 2 は炭素数1〜15の脂肪族炭化水素であり、Xが
炭素数6〜15の芳香族炭化水素の場合は、R 1 、R 2 は
炭素数4〜15の脂肪族炭化水素である。R 1 、R 2 はそ
れぞれが同じであっても良いし、異なっていても良
い。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11603191A JP3013498B2 (ja) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | 水なし平版印刷版用現像液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11603191A JP3013498B2 (ja) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | 水なし平版印刷版用現像液 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04343361A JPH04343361A (ja) | 1992-11-30 |
JP3013498B2 true JP3013498B2 (ja) | 2000-02-28 |
Family
ID=14677042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11603191A Expired - Fee Related JP3013498B2 (ja) | 1991-05-21 | 1991-05-21 | 水なし平版印刷版用現像液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3013498B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018222395A1 (en) * | 2017-05-29 | 2018-12-06 | 3M Innovative Properties Company | Use of a cleaning composition for 3d-printed articles and related process |
EP3720618B1 (en) | 2017-12-08 | 2024-01-24 | 3M Innovative Properties Company | System and method for washing a 3d-printed object |
EP4028252B1 (en) | 2019-09-12 | 2025-06-04 | Solventum Intellectual Properties Company | Apparatus, system and method of post-curing an article |
-
1991
- 1991-05-21 JP JP11603191A patent/JP3013498B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04343361A (ja) | 1992-11-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |