JP3012182B2 - 銀および銀合金めっき浴 - Google Patents
銀および銀合金めっき浴Info
- Publication number
- JP3012182B2 JP3012182B2 JP7319740A JP31974095A JP3012182B2 JP 3012182 B2 JP3012182 B2 JP 3012182B2 JP 7319740 A JP7319740 A JP 7319740A JP 31974095 A JP31974095 A JP 31974095A JP 3012182 B2 JP3012182 B2 JP 3012182B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compounds
- silver
- plating bath
- compound
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 51
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims description 40
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 39
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 34
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 38
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 28
- -1 thiourea compound Chemical class 0.000 claims description 28
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 27
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 22
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N aminothiocarboxamide Natural products NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims description 9
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 150000002989 phenols Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 4
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 claims description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 claims description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical class CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 2
- 150000004659 dithiocarbamates Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims 2
- APVPOHHVBBYQAV-UHFFFAOYSA-N n-(4-aminophenyl)sulfonyloctadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)NS(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 APVPOHHVBBYQAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical class N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims 1
- QAZLUNIWYYOJPC-UHFFFAOYSA-M sulfenamide Chemical class [Cl-].COC1=C(C)C=[N+]2C3=NC4=CC=C(OC)C=C4N3SCC2=C1C QAZLUNIWYYOJPC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 claims 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 21
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 10
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 10
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 7
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 7
- RYKLZUPYJFFNRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypiperidin-2-one Chemical compound OC1CCCNC1=O RYKLZUPYJFFNRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- AICMYQIGFPHNCY-UHFFFAOYSA-J methanesulfonate;tin(4+) Chemical compound [Sn+4].CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O AICMYQIGFPHNCY-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- JALQQBGHJJURDQ-UHFFFAOYSA-L bis(methylsulfonyloxy)tin Chemical compound [Sn+2].CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O JALQQBGHJJURDQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FLVIGYVXZHLUHP-UHFFFAOYSA-N N,N'-diethylthiourea Chemical compound CCNC(=S)NCC FLVIGYVXZHLUHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical class [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N allylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC=C HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229960001748 allylthiourea Drugs 0.000 description 4
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- MLKQJVFHEUORBO-UHFFFAOYSA-M silver;methanesulfonate Chemical compound [Ag+].CS([O-])(=O)=O MLKQJVFHEUORBO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- UDYXMTORTDACTG-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-tributylthiourea Chemical compound CCCCNC(=S)N(CCCC)CCCC UDYXMTORTDACTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYYXDZDBXNUPOG-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrahydro-1,3-benzothiazole-2,6-diamine;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.C1C(N)CCC2=C1SC(N)=N2 RYYXDZDBXNUPOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PIVQQUNOTICCSA-UHFFFAOYSA-N ANTU Chemical compound C1=CC=C2C(NC(=S)N)=CC=CC2=C1 PIVQQUNOTICCSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PDQAZBWRQCGBEV-UHFFFAOYSA-N Ethylenethiourea Chemical compound S=C1NCCN1 PDQAZBWRQCGBEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FCSHMCFRCYZTRQ-UHFFFAOYSA-N N,N'-diphenylthiourea Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=S)NC1=CC=CC=C1 FCSHMCFRCYZTRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WJAASTDRAAMYNK-UHFFFAOYSA-N benzyl carbamimidothioate;hydron;chloride Chemical compound Cl.NC(=N)SCC1=CC=CC=C1 WJAASTDRAAMYNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N beta-hydroxynaphthyl Natural products C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N diethyldithiocarbamic acid Chemical compound CCN(CC)C(S)=S LMBWSYZSUOEYSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- NNBBQNFHCVVQHZ-UHFFFAOYSA-N methyl carbamimidothioate;sulfuric acid Chemical compound CSC(N)=N.OS(O)(=O)=O NNBBQNFHCVVQHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 3
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- BYLSIPUARIZAHZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(1-phenylethyl)phenol Chemical compound C=1C(C(C)C=2C=CC=CC=2)=C(O)C(C(C)C=2C=CC=CC=2)=CC=1C(C)C1=CC=CC=C1 BYLSIPUARIZAHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IEORSVTYLWZQJQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-nonylphenoxy)ethanol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OCCO IEORSVTYLWZQJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYCQQPHGFMYQCF-UHFFFAOYSA-N 4-tert-Octylphenol monoethoxylate Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(OCCO)C=C1 JYCQQPHGFMYQCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPCRBOOJBPETMF-UHFFFAOYSA-N N-acetylthiourea Chemical compound CC(=O)NC(N)=S IPCRBOOJBPETMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 150000003946 cyclohexylamines Chemical class 0.000 description 2
- AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N dibenzothiazol-2-yl disulfide Chemical compound C1=CC=C2SC(SSC=3SC4=CC=CC=C4N=3)=NC2=C1 AFZSMODLJJCVPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- AUZONCFQVSMFAP-UHFFFAOYSA-N disulfiram Chemical compound CCN(CC)C(=S)SSC(=S)N(CC)CC AUZONCFQVSMFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229950004394 ditiocarb Drugs 0.000 description 2
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920000847 nonoxynol Polymers 0.000 description 2
- 229920002113 octoxynol Polymers 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GURNTNKIRDSILY-UHFFFAOYSA-M silver;ethanesulfonate Chemical compound [Ag+].CCS([O-])(=O)=O GURNTNKIRDSILY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WWGXHTXOZKVJDN-UHFFFAOYSA-M sodium;n,n-diethylcarbamodithioate;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Na+].CCN(CC)C([S-])=S WWGXHTXOZKVJDN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 150000003475 thallium Chemical class 0.000 description 2
- UVZICZIVKIMRNE-UHFFFAOYSA-N thiodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CSCC(O)=O UVZICZIVKIMRNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N thiodiglycol Chemical compound OCCSCCO YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical compound [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BJDDAXVXMQYXHL-UHFFFAOYSA-J tris(ethylsulfonyloxy)stannyl ethanesulfonate Chemical compound [Sn+4].CCS([O-])(=O)=O.CCS([O-])(=O)=O.CCS([O-])(=O)=O.CCS([O-])(=O)=O BJDDAXVXMQYXHL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N zinc nitrate Chemical compound [Zn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MLYNHXYBUIJTRF-UHFFFAOYSA-L zinc;ethanesulfonate Chemical compound [Zn+2].CCS([O-])(=O)=O.CCS([O-])(=O)=O MLYNHXYBUIJTRF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAEZSIYNWDWMMN-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-trimethylthiourea Chemical compound CNC(=S)N(C)C JAEZSIYNWDWMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIGYLAKFCGVRAN-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-thiadiazolidine-2,5-dithione Chemical compound S=C1NNC(=S)S1 BIGYLAKFCGVRAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFMQNMXVVXHZCC-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazol-2-yl n,n-diethylcarbamodithioate Chemical compound C1=CC=C2SC(SC(=S)N(CC)CC)=NC2=C1 LFMQNMXVVXHZCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORGWCTHQVYSUNL-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(hydroxymethyl)thiourea Chemical compound OCNC(=S)NCO ORGWCTHQVYSUNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLMXNQPOOVZIHK-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis[3-(dimethylamino)propyl]thiourea Chemical class CN(C)CCCNC(=S)NCCCN(C)C YLMXNQPOOVZIHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBLWRDJLKRUWJG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecoxydodecane;oxirane Chemical compound C1CO1.CCCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCCCC CBLWRDJLKRUWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCZZOZBWAZHCAN-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-3-(1,3-thiazol-2-yl)thiourea Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=S)NC1=NC=CS1 GCZZOZBWAZHCAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGIDEUICZZXBFQ-UHFFFAOYSA-N 1h-benzimidazol-2-ylmethanethiol Chemical compound C1=CC=C2NC(CS)=NC2=C1 XGIDEUICZZXBFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKZQKPRCPNGNFR-UHFFFAOYSA-N 2-(3-hydroxyphenyl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC(C=2C(=CC=CC=2)O)=C1 XKZQKPRCPNGNFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004786 2-naphthols Chemical class 0.000 description 1
- XZBJUNADPUBXEY-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanyl-3H-1,2-benzothiazole 1-oxide Chemical compound SN1S(C2=C(C1)C=CC=C2)=O XZBJUNADPUBXEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKZXZGWHTRCFPX-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-methylphenol Chemical compound CC1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1O BKZXZGWHTRCFPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPGFMWPQXUXQRX-UHFFFAOYSA-N 3-amino-3-(4-fluorophenyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CC(N)C1=CC=C(F)C=C1 CPGFMWPQXUXQRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-4-hydroxybutanoate Chemical compound OCC(N)CC(O)=O BUZICZZQJDLXJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBZWYXLQJQBKU-UHFFFAOYSA-N 4-(morpholin-4-yldisulfanyl)morpholine Chemical compound C1COCCN1SSN1CCOCC1 HLBZWYXLQJQBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N Didodecyl thiobispropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCC GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003508 Dilauryl thiodipropionate Substances 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000713575 Homo sapiens Tubulin beta-3 chain Proteins 0.000 description 1
- 239000002211 L-ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 235000000069 L-ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 241000282320 Panthera leo Species 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002359 Tetronic® Polymers 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100036790 Tubulin beta-3 chain Human genes 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L Zinc carbonate Chemical compound [Zn+2].[O-]C([O-])=O FMRLDPWIRHBCCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical group 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000001556 benzimidazoles Chemical class 0.000 description 1
- VUAQKPWIIMBHEK-UHFFFAOYSA-K bis(methylsulfonyloxy)indiganyl methanesulfonate Chemical compound [In+3].CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O VUAQKPWIIMBHEK-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001621 bismuth Chemical class 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WXDIUFKKQXJMAQ-UHFFFAOYSA-N bismuth;methane Chemical compound C.[Bi] WXDIUFKKQXJMAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSNJTIWCTNEOSW-UHFFFAOYSA-N carbamothioylsulfanyl carbamodithioate Chemical compound NC(=S)SSC(N)=S CSNJTIWCTNEOSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 229940116318 copper carbonate Drugs 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L copper;carbonate Chemical compound [Cu+2].[O-]C([O-])=O GEZOTWYUIKXWOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SSOVMNXYUYFJBU-UHFFFAOYSA-L copper;ethanesulfonate Chemical compound [Cu+2].CCS([O-])(=O)=O.CCS([O-])(=O)=O SSOVMNXYUYFJBU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BSXVKCJAIJZTAV-UHFFFAOYSA-L copper;methanesulfonate Chemical compound [Cu+2].CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O BSXVKCJAIJZTAV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SDFNZYMSEOUVIF-UHFFFAOYSA-N copper;methanesulfonic acid Chemical compound [Cu].CS(O)(=O)=O SDFNZYMSEOUVIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 229960004643 cupric oxide Drugs 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGAXJQVAHDTGBB-UHFFFAOYSA-N dibutylcarbamothioylsulfanyl n,n-dibutylcarbamodithioate Chemical compound CCCCN(CCCC)C(=S)SSC(=S)N(CCCC)CCCC PGAXJQVAHDTGBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBGTWXBPCIHUQD-UHFFFAOYSA-N diethylcarbamodithioic acid;n-ethylethanamine Chemical compound CCNCC.CCN(CC)C(S)=S NBGTWXBPCIHUQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019304 dilauryl thiodipropionate Nutrition 0.000 description 1
- VVTGHWARMCSPKY-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-amine;oxirane Chemical compound C1CO1.CCCCCCCCCCCCN VVTGHWARMCSPKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- KHKQTRJMBORFEK-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diamine;oxirane Chemical compound C1CO1.NCCN KHKQTRJMBORFEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFMTZQIBTTWXKJ-UHFFFAOYSA-K ethanesulfonate indium(3+) Chemical compound [In+3].CCS([O-])(=O)=O.CCS([O-])(=O)=O.CCS([O-])(=O)=O ZFMTZQIBTTWXKJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N hydron;methyl 4-methoxypyridine-2-carboxylate;chloride Chemical compound Cl.COC(=O)C1=CC(OC)=CC=N1 RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004337 hydroquinone Drugs 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- IUJLOAKJZQBENM-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)-2-methylpropan-2-amine Chemical compound C1=CC=C2SC(SNC(C)(C)C)=NC2=C1 IUJLOAKJZQBENM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMAUJSNXENPPOF-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)-n-cyclohexylcyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1N(C1CCCCC1)SC1=NC2=CC=CC=C2S1 CMAUJSNXENPPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)cyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1NSC1=NC2=CC=CC=C2S1 DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHMIOPLMFZVSHY-UHFFFAOYSA-N n-[2-[(2-benzamidophenyl)disulfanyl]phenyl]benzamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)NC1=CC=CC=C1SSC1=CC=CC=C1NC(=O)C1=CC=CC=C1 ZHMIOPLMFZVSHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYWSTUCDSVYLPV-UHFFFAOYSA-N nitrooxythallium Chemical compound [Tl+].[O-][N+]([O-])=O FYWSTUCDSVYLPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- WKMKTIVRRLOHAJ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);thallium(1+) Chemical compound [O-2].[Tl+].[Tl+] WKMKTIVRRLOHAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N phthalimide Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APBOZDGTRCWHKW-UHFFFAOYSA-N potassium;1,3,4-thiadiazolidine-2,5-dithione Chemical compound [K].[K].SC1=NN=C(S)S1 APBOZDGTRCWHKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- GPNLWUFFWOYKLP-UHFFFAOYSA-N s-(1,3-benzothiazol-2-yl)thiohydroxylamine Chemical compound C1=CC=C2SC(SN)=NC2=C1 GPNLWUFFWOYKLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWQWBFBJCRDINE-UHFFFAOYSA-M sodium;carbamodithioate Chemical compound [Na+].NC([S-])=S GWQWBFBJCRDINE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HUMLQUKVJARKRN-UHFFFAOYSA-M sodium;n,n-dibutylcarbamodithioate Chemical compound [Na+].CCCCN(C([S-])=S)CCCC HUMLQUKVJARKRN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZTEPAMQURYRDPM-UHFFFAOYSA-M sodium;n,n-diethylcarbamothioate Chemical compound [Na+].CCN(CC)C([O-])=S ZTEPAMQURYRDPM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 229960002920 sorbitol Drugs 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- GBECUEIQVRDUKB-UHFFFAOYSA-M thallium monochloride Chemical compound [Tl]Cl GBECUEIQVRDUKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910003438 thallium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YTQVHRVITVLIRD-UHFFFAOYSA-L thallium sulfate Chemical compound [Tl+].[Tl+].[O-]S([O-])(=O)=O YTQVHRVITVLIRD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940119523 thallium sulfate Drugs 0.000 description 1
- HQOJMTATBXYHNR-UHFFFAOYSA-M thallium(I) acetate Chemical compound [Tl+].CC([O-])=O HQOJMTATBXYHNR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000374 thallium(I) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 150000004684 trihydrates Chemical class 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
- 235000004416 zinc carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011667 zinc carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000010 zinc carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 1
- MKRZFOIRSLOYCE-UHFFFAOYSA-L zinc;methanesulfonate Chemical compound [Zn+2].CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O MKRZFOIRSLOYCE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
っき浴に関し、更に詳細には、シアン系化合物を使用し
ない銀および銀合金めっき浴に関する。
は古くからシアン系の浴が知られている。 このシアン
系の貴金属めっき浴は、析出する金属結晶の緻密さ、均
一電着性、浴管理の容易さなどの点で優れたものであ
り、装飾品の他、半導体部品やプリント基板関係におけ
るめっきにおいても広く利用されている。
強いシアン化物を利用するものであるため、作業環境、
環境保全、排水処理等の面には多くの問題点があった。
物を利用することなく、析出皮膜や浴管理等の面では従
来のシアン化物系のめっき浴と同等である銀および銀合
金めっき浴の提供が求められていた。
化合物を使用しない銀および銀合金めっき浴に関し鋭意
研究を行っていたところ、ある種の含イオウ化合物をA
g+イオンの置換防止剤として添加し、非イオン界面活性
剤を加えた銀および銀合金めっき浴を用いれば、シアン
化物系めっき浴を使用した場合と同等な銀および銀合金
皮膜が得られることを見出し、本発明を完成した。
(c) (a)Ag+イオン (b)含イオウ化合物の1種またはそれ以上 (c)非イオン界面活性剤 を含有し、シアン系化合物を含まないことを特徴とする
銀めっき浴を提供するものである。
(d) (a)Ag+イオン (b)含イオウ化合物の1種またはそれ以上 (c)非イオン界面活性剤 (d)Sn2+、Cu2+、In3+、Tl+、Zn2+および
Bi3+からなる群から選ばれた金属イオンの1種または
それ以上 を含有し、シアン系化合物を含まないことを特徴とする
銀合金めっき浴をも提供するものである。
き浴の(a)成分であるAg+イオンは、メタンスルホン
酸銀、エタンスルホン酸銀等のアルカンスルホン酸銀
塩、イソプロパノールスルホン酸銀等のアルカノールス
ルホン酸銀塩、酸化銀、塩化銀、硝酸銀等の水溶性銀塩
を水に溶解することにより得られる。好ましい水溶性銀
塩としては、銀アルカンスルホン酸塩および銀アルカノ
ールスルホン酸塩が挙げられる。
化合物とは、分子中に硫黄原子を含む化合物であり、浴
中でAg+の置換防止剤として機能するものをいう。
二酸化チオ尿素、1−アセチル−2−チオ尿素、アリル
チオ尿素、エチレンチオ尿素、sym.−ジ−o−トリ
ルチオ尿素、sym.−ジ−p−トリルチオ尿素、1,3
−ビス(ヒドロキシメチル)チオ尿素、1−フェニル−
3−(2−チアゾリル)−2−チオ尿素、塩酸ベンジル
イソチオ尿素、2−マロニルチオ尿素、S−メチルイソ
チオ尿素硫酸塩、N,N'−ジフェニルチオ尿素、トリメ
チルチオ尿素、N,N'−ジエチルチオ尿素、1−ナフチ
ルチオ尿素、1,3−ビス(ジメチルアミノプロピル)
−2−チオ尿素、トリブチルチオ尿素等のチオ尿素系化
合物;2−メルカプトベンゾチアゾール、ジベンゾチア
ゾールジスルフィド、2−メルカプトベンゾチアゾール
のシクロヘキシルアミン塩、2−(N,N−ジエチルチ
オカルバモイルチオ)ベンゾチアゾール、2−(4'−
モルホリノジチオ)ベンゾチアゾール等のチアゾール系
化合物;N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルス
ルフェンアミド、N−tert−ブチル−2−ベンゾチ
アゾリルスルフェンアミド、N−オキシジエチレン−2
−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、N,N−ジシク
ロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド等
のスルフェンアミド系化合物;テトラメチルチウラムジ
スルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テト
ラブチルチウラムジスルフィド、テトラキス(2−エチ
ルヘキシル)チウラムジスルフィド、テトラメチルチウ
ラムモノスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラ
スルフィド等のチウラム系化合物;ペンタメチレンジチ
オカルバミン酸ピペリジン塩、ピペコリルジチオカルバ
ミン酸ピペコリン塩、ジエチルジチオカルバミン酸ナト
リウム、ジブチルジチオカルバミン酸ナトリウム等のジ
チオカルバミン酸塩系化合物;4,4'−チオビス(3−
メチル−6−tert−ブチルフェノール)等のビスフ
ェノール系化合物;2−メルカプトベンツイミダゾー
ル、2−メルカプトメチルベンツイミダゾール等のベン
ツイミダゾール系化合物;チオジプロピオン酸ジラウリ
ル等の有機チオ酸系化合物;N−シクロヘキシルチオフ
タルイミド等のスコーチ防止剤;4,4'−ジチオモルホ
リン等の加硫剤;o,o'−ジベンズアミドジフェニルジ
スルフィド等の素練促進剤;その他、2−ベンゾキサゾ
ールチオール、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チア
ジアゾール、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジ
アゾール 二カリウム、ジエチルジチオカルバミン酸ジ
エチルアンモニウム、ジエチルジチオカルバミン酸ナト
リウム三水和物、チオグリコール、チオグリコール酸、
チオジグリコール酸、β−チオジグリコール等の含イオ
ウ化合物を挙げることができる。これら含イオウ化合物
は、一種で配合してもよいが、二種以上を組み合わせて
配合することが好ましく、特にチオ尿素系化合物を中心
に複数の含イオウ化合物を組み合わせることが好まし
い。
界面活性剤は、密着性よく緻密で平滑なめっき面を得る
ために使用されるものであり、本発明において本成分を
欠くと満足の行く銀および銀合金めっき被膜が得られな
い。
は、下記一般式(1)〜(4)の何れかで表される化合
物を主成分とするものが挙げられる。
アルコール、炭素数1〜25のアルキル基で置換された
フェノール、炭素数1〜25のアルキルで置換されたβ
−ナフトール、炭素数1〜25のアルコキシル化リン
酸、炭素数8〜22の脂肪酸でエステル化したソルビタ
ンもしくはスチレン化フェノール(そのフェノール核の
水素は炭素数1〜4のアルキル基またはフェニル基で置
換されてもよい)からそれらの水酸基の水素原子を除い
て得られる残基または水素原子を示し、R2は炭素数8
〜18のアルキル基を、R3およびR4は水素原子または
炭素数1〜5のアルキル基を示し、Aは−CH2CH2O
−を、Bは−CH2CH(CH3)O−を示し、m1およ
びn1は0〜30の整数、m2、n2、m3およびn3は0
〜40の整数、m4およびn4は0〜20の整数をそれぞ
れ示す。 但し、m1とn1、m2とn2、m3とn3および
m4とn4がそれぞれ同時に0となることはなく、m1〜
m4およびn1〜n4は、置換基における総数を意味し、
AとBの存在位置は限定されないものとする]
対応する脂肪族アルコール、置換フェノール、アルキル
で置換β−ナフトール、アルコキシル化リン酸、エステ
ル化したソルビタン、スチレン化フェノール、エチレン
ジアミン、モノアルキルアミン、アルキル置換されてい
ても良いジフェノールにエチレンオキサイドおよび/ま
たはプロピレンオキサイドを所定のモル数付加させるこ
とによって調製できるものであるが、また、市販品とし
ても容易に入手できるものである。
れるものとして、プルラファックLF401(BASF
社製)等が、式(2)で表されるものとして、テトロニ
ックTR−702(旭電化工業社製)等がそれぞれ挙げ
られ、また、式(3)で表されるものはナイミーンL−
207(日本油脂社製)等、式(4)で表されるもの
は、リポノックスNC−100(ライオン社製)等がそ
れぞれ挙げられる。
n2+、Cu2+、In3+、Tl+、Zn2+およびBi3+から
選ばれた金属(以下、これら金属を「合金成分」という
ことがある)のイオンであり、合金成分の水溶性塩を水
に溶解することにより得られる。
しては、メタンスルホン酸錫、エタンスルホン酸錫、イ
ソプロパノールスルホン酸錫、塩化第一錫、酸化第一
錫、酸化第二錫、硫酸第一錫等が、銅塩の例としては、
メタンスルホン酸銅、エタンスルホン酸銅、イソプロパ
ノールスルホン酸銅、硫酸銅、酸化第二銅、硝酸銅、塩
化第一銅、塩化第二銅、炭酸銅等が、インジウム塩の例
としては、メタンスルホン酸インジウム、エタンスルホ
ン酸インジウム、イソプロパノールスルホン酸インジウ
ム、インジウム等が、タリウム塩の例としては、メタン
スルホン酸タリウム、エタンスルホン酸タリウム、イソ
プロパノールスルホン酸タリウム、酸化タリウム、硫酸
タリウム、硝酸タリウム、塩化タリウム、酢酸タリウム
等が、亜鉛塩の例としては、メタンスルホン酸亜鉛、エ
タンスルホン酸亜鉛、イソプロパノールスルホン酸亜
鉛、塩化亜鉛、硝酸亜鉛、炭酸亜鉛、硫酸亜鉛等が、ビ
スマス塩の例としては、メタンスルホン酸ビスマス、エ
タンスルホン酸ビスマス、イソプロパノールスルホン酸
ビスマス、酸化ビスマス、硝酸ビスマス等がそれぞれ挙
げられる。
い、酸性浴中に前記(a)成分〜(c)成分または
(a)成分〜(d)成分を添加することにより調製され
る。具体的には、硫酸や、アルカンスルホン酸、アルカ
ノールスルホン酸等で酸性とした水溶液中に、(b)成
分である含イオウ化合物を加え、十分に溶解させた後、
前記の水溶性銀塩および合金成分の水溶性塩を加え、さ
らに(c)成分である非イオン界面活性剤を添加するこ
とにより調製される。
性を酸性にするだけでなく、浴中の金属イオンを安定に
保つ作用もあるため、アルカンスルホン酸およびアルカ
ノールスルホン酸を用いることが好ましい。 具体的に
は、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等を用いるこ
とが好ましい。
溶性塩がアルカンスルホン酸塩またはアルカノールスル
ホン酸塩である場合は、それらの塩の酸基と共通のもの
であっても異なるものであってもよく、二種類以上を併
用してもよい。浴中のアルカンスルホン酸およびアルカ
ノールスルホン酸の濃度は、そのイオン濃度として約5
〜300g/lが適当である。
ン濃度は0.5〜240g/l程度とすることが適当で
ある。また、銀合金浴中における(a)成分と(d)成
分の量は、目標とする合金組成に合せて調製する必要が
あるが、一般には(a)成分は、Ag+として5〜20
0g/l程度であることが好ましく、また、(d)成分
は、合金成分イオンの種類によっても異なるが、一般に
0.1〜40g/l程度であることが好ましい。 (b)
成分の量は(a)成分の濃度によっても異なるが、一般
に0.01〜40g/l程度、特に0.1〜20g/l程
度であることが好ましい。 更に、(c)成分の量は、
密着性よく緻密で平滑なめっき面を得るのに十分な量で
良く、一般には、0.5〜30g/l程度である。
記した成分の他、本発明の効果を損なわない範囲で光沢
剤、酸化防止剤、湿潤剤等を必要に応じて添加すること
ができる。
防止剤として、例えばフェノール、カテコール、レゾル
シン、ヒドロキノン、ピロガロール等のヒドロキシフェ
ニル化合物や、L−アスコルビン酸、ソルビトール等を
利用することができる。
合金浴を用いてめっきを行う場合、例えば、めっき浴の
浴温は約10〜60℃程度、好ましくは約20〜30℃
程度、陰極電流密度は約0.01〜100A/dm2程
度、好ましくは約0.1〜10A/dm2程度でめっきす
ることができる。 また、陽極としては、不溶解性電極
等を利用することができる。
られる銀めっきあるいは銀合金めっき皮膜は、従来のシ
アン系めっき浴で得られる銀あるいは銀合金めっき皮膜
と同等の緻密性を有するものであり、電気部品端子やプ
リント配線基板のめっき浴として利用することができる
ものである。
本発明を説明するが、本発明はこれら実施例等になんら
制約されるものではない。
た。 ( 組 成 ) メタンスルホン酸銀(I) 10 g/l メタンスルホン酸(遊離酸) 100 g/l アリルチオ尿素 20 g/l 2−メルカプトベンツイミダゾール 1 g/l ノニルフェノールエトキシレートの 10 g/l エチレンオキサイド12モル付加物
製した。 ( 組 成 ) メタンスルホン酸銀(I) 1 g/l メタンスルホン酸錫(II) 40 g/l メタンスルホン酸(遊離酸) 120 g/l チオ尿素 5 g/l N,N'−ジエチルチオ尿素 5 g/l ラウリルアミンの 8 g/l エチレンオキサイド7モル付加物 カテコール 1 g/l
製した。 ( 組 成 ) メタンスルホン酸銀(I) 1 g/l メタンスルホン酸錫(II) 30 g/l メタンスルホン酸ビスマス(II) 3 g/l メタンスルホン酸(遊離酸) 80 g/l チオグリコール酸 5 g/l 2−ベンゾキサゾールチオール 3 g/l β−ナフトールの 4 g/l エチレンオキサイド8モル付加物
製した。 ( 組 成 ) エタンスルホン酸銀(I) 0.5 g/l エタンスルホン酸錫(II) 20 g/l エタンスルホン酸亜鉛(I) 40 g/l エタンスルホン酸(遊離酸) 100 g/l 2−メルカプトベンゾチアゾール 2 g/l ジエチルチオカルバミン酸ナトリウム 0.5 g/l エチレンジアミンのエチレンオキサイド 5 g/l 48モル、プロピレンオキサイド44モル付加物 オクチルフェノールエトキシレートの 5 g/l エチレンオキサイド10モル付加物
製した。 ( 組 成 ) メタンスルホン酸銀(I) 1 g/l メタンスルホン酸錫(II) 20 g/l メタンスルホン酸銅(II) 20 g/l メタンスルホン酸(遊離酸) 80 g/l β−チオジグリコール 4 g/l N,N'−ジエチル 4 g/l ジチオカルバミン酸ナトリウム ラウリルエーテルのエチレンオキサイド 5 g/l 15モル付加物
製した。 ( 組 成 ) メタンスルホン酸銀(I) 0.5 g/l メタンスルホン酸錫(II) 10 g/l メタンスルホン酸インジウム(III) 1 g/l メタンスルホン酸(遊離酸) 100 g/l 2−メルカプトベンツイミダゾール 0.5 g/l ジエチルジチオカルバミン酸 2 g/l ジエチルアンモニウム ドデシルアミンのエチレンオキサイド 10 g/l 8モル付加物 オクチルフェノールエトキシレートの 2 g/l エチレンオキサイド10モル付加物
た。 ( 組 成 ) メタンスルホン酸銀(I) 10 g/l メタンスルホン酸(遊離酸) 100 g/l ノニルフェノールエトキシレートの 10 g/l エチレンオキサイド12モル付加物
製した。 ( 組 成 ) メタンスルホン酸銀(I) 1 g/l メタンスルホン酸錫(II) 40 g/l メタンスルホン酸(遊離酸) 120 g/l ラウリルアミンの 8 g/l エチレンオキサイド7モル付加物 カテコール 1 g/l
製した。 ( 組 成 ) メタンスルホン酸銀(I) 1 g/l メタンスルホン酸錫(II) 30 g/l メタンスルホン酸ビスマス(II) 3 g/l メタンスルホン酸(遊離酸) 80 g/l β−ナフトールの 4 g/l エチレンオキサイド8モル付加物
用し、30mm×10mmの銅板を5分間浸漬させ、浴
の濁りおよび銀の置換を比較した。この結果を表1に示
す。
Bの二種類の組み合わせを変化させた銀合金めっき浴を
調製し、ここに30mm×10mmの銅板を5分間浸漬
させ、浴の濁りおよび銀の置換を比較した。その結果を
表2〜7に示す。
化合物 Aは、チオ尿素、X=5は一定; 表 2 ───────────────────────────────── 含イオウ化合物 B(Y=5) 浴の濁り 銀の置換 ───────────────────────────────── アリルチオ尿素 無 無 エチレンチオ尿素 無 無 二酸化チオ尿素 無 無 S−メチルイソチオ尿素硫酸塩 無 無 トリメチルチオ尿素 無 無 (チオ尿素のみ) 有 無 ─────────────────────────────────
ルチオ尿素、X=5は一定; 表 3 ───────────────────────────────── 含イオウ化合物 B(Y=5) 浴の濁り 銀の置換 ───────────────────────────────── アリルチオ尿素 無 無 エチレンチオ尿素 無 無 二酸化チオ尿素 無 無 S−メチルイソチオ尿素硫酸塩 無 無 トリメチルチオ尿素 無 無 (N,N'−ジエチルチオ尿素のみ) 有 無 ─────────────────────────────────
せ:(1)含イオウ化合物 Aは、S−メチルイソチオ尿素
硫酸塩、X=5は一定; 表 4 ───────────────────────────────── 含イオウ化合物 B(Y=1) 浴の濁り 銀の置換 ───────────────────────────────── 2−メルカプトベンゾチアゾール 無 無 ジベンゾチアジルジスルフィド 無 無 2−メルカプトベンゾチアゾールの 無 無 シクロヘキシルアミン塩 2−(N,N'−ジエチルチオ 無 無 カルバモイルチオ)ベンゾチアゾール 2−(4'−モルホリノジチオ) 無 無 ベンゾチアゾール (S−メチルイソチオ尿素硫酸塩のみ) 有 無 ─────────────────────────────────
ベンゾチアゾール、X=1は一定; 表 5 ───────────────────────────────── 含イオウ化合物 B(Y=5) 浴の濁り 銀の置換 ───────────────────────────────── 1−アセチル−2−チオ尿素 無 無 塩酸ベンジルイソチオ尿素 無 無 2−マロニルチオ尿素 無 無 1−ナフチルチオ尿素 無 無 トリブチルチオ尿素 無 無 (2−メルカプトベンゾチアゾールのみ) 有 無 ─────────────────────────────────
の組み合わせ:(1)含イオウ化合物 Aは、N,N'−ジフ
ェニルチオ尿素、X=5は一定; 表 6 ───────────────────────────────── 含イオウ化合物 B(Y=1) 浴の濁り 銀の置換 ───────────────────────────────── 2−ベンゾキサゾールチオール 無 無 ジエチルジチオカルバミン酸 無 無 ジエチルアンモニウム ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム 無 無 三水和物 チオグリコール酸 無 無 チオジグリコール酸 無 無 (N,N'−ジフェニルチオ尿素のみ) 有 無 ─────────────────────────────────
カルバミン酸ナトリウム三水和物、X=1は一定; 表 7 ───────────────────────────────── 含イオウ化合物 B(Y=5) 浴の濁り 銀の置換 ───────────────────────────────── 1−アセチル−2−チオ尿素 無 無 塩酸ベンジルイソチオ尿素 無 無 2−マロニルチオ尿素 無 無 1−ナフチルチオ尿素 無 無 トリブチルチオ尿素 無 無 (ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム 有 無 三水和物のみ) ─────────────────────────────────
で30mm×10mmの銅板にめっきを行った。
ためっき済み銅板は、どれも均一で微細な結晶を持つめ
っき皮膜を有するものであった。
得られる銀および銀合金被膜は、従来のシアン化物系め
っき浴で得られる銀あるいは銀合金めっき皮膜と同等の
緻密性を有するものである。 そして、本発明の銀およ
び銀合金めっき浴は、人体に悪影響を及ぼすシアン系化
合物を含まないため、安全性や公害防止の面から有利な
ものである。 以 上
Claims (5)
- 【請求項1】 下記4成分(a)〜(c)および(e) (a)Ag+イオン (b)チオ尿素系化合物、チアゾール系化合物、スルフ
ェンアミド系化合物、チ ウラム系化合物、ジチオカルバ
ミン酸塩系化合物、ビスフェノール系化合 物、ベンツイ
ミダゾール系化合物および有機チオ酸系化合物からなる
群よ り選ばれた含イオウ化合物の一種またはそれ以上 (c)非イオン界面活性剤(e)アルカンスルホン酸イオンまたはアルカノールス
ルホン酸イオンの少なく とも一種またはそれ以上 を含有し、シアン系化合物を含まないことを特徴とする
銀めっき浴。 - 【請求項2】 下記5成分(a)〜(e) (a)Ag+イオン (b)チオ尿素系化合物、チアゾール系化合物、スルフ
ェンアミド系化合物、チ ウラム系化合物、ジチオカルバ
ミン酸塩系化合物、ビスフェノール系化合 物、ベンツイ
ミダゾール系化合物および有機チオ酸系化合物からなる
群よ り選ばれた含イオウ化合物の一種またはそれ以上 (c)非イオン界面活性剤 (d)Sn2+、Cu2+、In3+、Tl+、Zn2+および
Bi3+からなる群から選ばれた金属イオンの1種または
それ以上(e)アルカンスルホン酸イオンまたはアルカノールス
ルホン酸イオンの少なく とも一種またはそれ以上 を含有し、シアン系化合物を含まないことを特徴とする
銀合金めっき浴。 - 【請求項3】 含イオウ化合物がチオ尿素系化合物であ
る請求項第1項または第2項記載のめっき浴 - 【請求項4】 非イオン界面活性剤が次の式(1)〜
(4) 【化1】 [式中、R 1 は、炭素数8〜22の脂肪族アルコール、
炭素数1〜25のアルキル基で置換されたフェノール、
炭素数1〜25のアルキルで置換されたβ−ナフトー
ル、炭素数1〜25のアルコキシル化リン酸、炭素数8
〜22の脂肪酸でエステル化したソルビタンもしくはス
チレン化フェノール(そのフェノール核の水素は炭素数
1〜4のアルキル基またはフェニル基で置換されてもよ
い)からそれらの水酸基の水素原子を除いて得られる残
基または水素原子を示し、R 2 は炭素数8〜18のアル
キル基を、R 3 およびR 4 は水素原子または炭素数1〜5
のアルキル基を示し、Aは−CH 2 CH 2 O−を、Bは−
CH 2 CH(CH 3 )O−を示し、m 1 およびn 1 は0〜3
0の整数、m 2 、n 2 、m 3 およびn 3 は0〜40の整数、
m 4 およびn 4 は0〜20の整数をそれぞれ示す。但し、
m 1 とn 1 、m 2 とn 2 、m 3 とn 3 およびm 4 とn 4 がそれぞ
れ同時に0となることはなく、m 1 〜m 4 およびn 1 〜n 4
は、置換基における総数を意味し、AとBの存在位置は
限定されないもの とする]で表わされるものの何れかで
ある請求項第1項または第2項記載のめっき浴。 - 【請求項5】 成分(b)が次の成分(b 1 )および
(b 2 ) (b 1 )チオ尿素系化合物、 (b 2 )チアゾール系化合物、スルフェンアミド系化合
物、チウラム系化合物、ジチオカルバミン酸塩系化合
物、ビスフェノール系化合物、ベンツイミダゾール系化
合物および有機チオ酸系化合物から選ばれた化合物の一
種またはそれ以上を組み合わせたものである請求項第1
項または第2項記載のめっき浴。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7319740A JP3012182B2 (ja) | 1995-11-15 | 1995-11-15 | 銀および銀合金めっき浴 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7319740A JP3012182B2 (ja) | 1995-11-15 | 1995-11-15 | 銀および銀合金めっき浴 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09143786A JPH09143786A (ja) | 1997-06-03 |
JP3012182B2 true JP3012182B2 (ja) | 2000-02-21 |
Family
ID=18113653
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7319740A Expired - Lifetime JP3012182B2 (ja) | 1995-11-15 | 1995-11-15 | 銀および銀合金めっき浴 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3012182B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8888984B2 (en) | 2012-02-09 | 2014-11-18 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Plating bath and method |
US20220307149A1 (en) * | 2021-03-29 | 2022-09-29 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Silver electroplating compositions and methods for electroplating silver with low coefficients of friction |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3433291B2 (ja) * | 1999-09-27 | 2003-08-04 | 石原薬品株式会社 | スズ−銅含有合金メッキ浴、スズ−銅含有合金メッキ方法及びスズ−銅含有合金メッキ皮膜が形成された物品 |
US7628903B1 (en) | 2000-05-02 | 2009-12-08 | Ishihara Chemical Co., Ltd. | Silver and silver alloy plating bath |
CN1180132C (zh) * | 2000-05-18 | 2004-12-15 | 克里斯铝轧制品有限公司 | 铝或铝合金工件的制备方法、含水镀液和其应用、组件和其制备方法 |
DE10026680C1 (de) * | 2000-05-30 | 2002-02-21 | Schloetter Fa Dr Ing Max | Elektrolyt und Verfahren zur Abscheidung von Zinn-Silber-Legierungsschichten und Verwendung des Elektrolyten |
JP4816839B2 (ja) * | 2000-10-16 | 2011-11-16 | トヨタ自動車株式会社 | 高分子電解質型燃料電池用セパレータの製造方法 |
JP4660806B2 (ja) * | 2001-05-30 | 2011-03-30 | 石原薬品株式会社 | 無電解銀メッキ浴 |
US7122108B2 (en) | 2001-10-24 | 2006-10-17 | Shipley Company, L.L.C. | Tin-silver electrolyte |
ITMI20021388A1 (it) * | 2002-06-24 | 2003-12-24 | Milano Politecnico | Bagno elettrolitico per l'elettrodeposizione di metalli nobili e loroleghe con stagno |
US7273540B2 (en) | 2002-07-25 | 2007-09-25 | Shinryo Electronics Co., Ltd. | Tin-silver-copper plating solution, plating film containing the same, and method for forming the plating film |
WO2004011698A1 (ja) * | 2002-07-25 | 2004-02-05 | Shinryo Electronics Co., Ltd. | 錫−銀−銅含有めっき液及び同めっき被膜並びにそのめっき方法 |
JP4758614B2 (ja) | 2003-04-07 | 2011-08-31 | ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. | 電気めっき組成物および方法 |
KR100727483B1 (ko) * | 2006-04-29 | 2007-06-13 | 주식회사 잉크테크 | 유기 은 착체 화합물을 포함하는 반사막 코팅액 조성물 및이를 이용한 반사막 제조방법 |
KR101025122B1 (ko) * | 2006-07-13 | 2011-03-25 | 도오까이 료가구 데쓰도오 가부시끼가이샤 | 도포액,도포액을 이용하여 형성한 산화티탄박막 및 그 형성방법 |
JP5150016B2 (ja) * | 2009-05-12 | 2013-02-20 | 石原薬品株式会社 | スズ又はスズ合金メッキ浴、及び当該メッキ浴を用いたバレルメッキ方法 |
SG179380A1 (en) * | 2010-09-21 | 2012-04-27 | Rohm & Haas Elect Mat | Cyanide-free silver electroplating solutions |
WO2013001673A1 (ja) * | 2011-06-29 | 2013-01-03 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 酸化物層を有する銀合金層を備える積層構造物 |
JP5879093B2 (ja) * | 2011-10-26 | 2016-03-08 | 株式会社フジクラ | コネクタの製造方法及び銀のめっき方法 |
US8980077B2 (en) | 2012-03-30 | 2015-03-17 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Plating bath and method |
US20180016690A1 (en) * | 2016-07-18 | 2018-01-18 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Indium electroplating compositions containing 2-imidazolidinethione compounds and methods for electroplating indium |
US11434577B2 (en) * | 2019-10-17 | 2022-09-06 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Acid aqueous binary silver-bismuth alloy electroplating compositions and methods |
US20210172082A1 (en) * | 2019-12-10 | 2021-06-10 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Acidic aqueous binary silver-bismuth alloy electroplating compositions and methods |
US11280014B2 (en) * | 2020-06-05 | 2022-03-22 | Macdermid Enthone Inc. | Silver/tin electroplating bath and method of using the same |
JP6916971B1 (ja) * | 2020-09-15 | 2021-08-11 | Dowaメタルテック株式会社 | 銀めっき材およびその製造方法 |
-
1995
- 1995-11-15 JP JP7319740A patent/JP3012182B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8888984B2 (en) | 2012-02-09 | 2014-11-18 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Plating bath and method |
US20220307149A1 (en) * | 2021-03-29 | 2022-09-29 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Silver electroplating compositions and methods for electroplating silver with low coefficients of friction |
US11578418B2 (en) * | 2021-03-29 | 2023-02-14 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc (Rhem) | Silver electroplating compositions and methods for electroplating silver with low coefficients of friction |
US20230160085A1 (en) * | 2021-03-29 | 2023-05-25 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Silver electroplating compositions and methods for electroplating silver with low coefficients of friction |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09143786A (ja) | 1997-06-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3012182B2 (ja) | 銀および銀合金めっき浴 | |
EP0598763B1 (de) | Saures bad zur galvanischen abscheidung von kupfer und dessen verwendung | |
JP4559019B2 (ja) | 基体上に金属層を堆積させるためのメッキ浴および方法 | |
US4473448A (en) | Electrodeposition of chromium | |
DE1521062B2 (de) | Waessriges saures galvanisches kupferbad zur abscheidung von duktilem glaenzendem kupfer | |
JP5574912B2 (ja) | スズめっき液 | |
EP0854206A1 (en) | Acid tin-silver alloy electroplating bath and method for electroplating tin-silver alloy | |
US20040035714A1 (en) | Electrolyte and method for depositing tin-copper alloy layers | |
JP3365866B2 (ja) | 非シアン性貴金属めっき浴 | |
JP2003535222A (ja) | 錫−銀合金層を電着させるための電解液および方法 | |
US6183619B1 (en) | Metal alloy sulfonic acid electroplating baths | |
JP3274766B2 (ja) | 低融点錫合金めっき浴 | |
JP2001107287A (ja) | Sn−Cu合金めっき浴 | |
TWI648437B (zh) | SnAg合金鍍敷液 | |
EP0100133B1 (en) | Zinc and nickel tolerant trivalent chromium plating baths and plating process | |
JP4605359B2 (ja) | 鉛フリーの酸性スズ−ビスマス系合金電気メッキ浴 | |
US4496439A (en) | Acidic zinc-plating bath | |
KR20070120592A (ko) | 전해질 및 주석-비스무트 합금층의 도금 방법 | |
JP4524483B2 (ja) | スズ又はスズ合金メッキ方法 | |
JP3920983B2 (ja) | 銀又は銀合金酸性電気めっき浴 | |
JPS61235592A (ja) | 改良された電気メツキ方法 | |
JP3645955B2 (ja) | 錫−銀合金酸性めっき浴 | |
JP3013150B2 (ja) | 電着皮膜組成比安定用の錫―鉛合金メッキ浴 | |
CZ20011633A3 (cs) | Vodný roztok pro elektrolytické pokovování slitinami cínu a zinku | |
JP3425646B2 (ja) | 電着皮膜組成比安定用の錫―鉛合金めっき浴 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071210 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081210 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081210 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091210 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091210 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101210 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101210 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111210 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111210 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121210 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131210 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131210 Year of fee payment: 14 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131210 Year of fee payment: 14 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |