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JP3002611B2 - 発熱体の冷却装置 - Google Patents

発熱体の冷却装置

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Publication number
JP3002611B2
JP3002611B2 JP4261118A JP26111892A JP3002611B2 JP 3002611 B2 JP3002611 B2 JP 3002611B2 JP 4261118 A JP4261118 A JP 4261118A JP 26111892 A JP26111892 A JP 26111892A JP 3002611 B2 JP3002611 B2 JP 3002611B2
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JP
Japan
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fins
heat sink
fin
heating element
cooling
Prior art date
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JP4261118A
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JPH06112382A (ja
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祟弘 大黒
隆之 新
二三幸 小林
保 塚口
敏夫 畑田
憲一 笠井
義人 林
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP4261118A priority Critical patent/JP3002611B2/ja
Priority to US08/128,227 priority patent/US5592363A/en
Priority to DE4333373A priority patent/DE4333373B4/de
Publication of JPH06112382A publication Critical patent/JPH06112382A/ja
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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高密度実装された半導
体デバイスを効率良く冷却する冷却装置に関する。
【0002】
【従来の技術】コンピュ−タは、処理速度が早いことが
要求されるため、近年、大規模なLSIを高密度に実装
する方法が開発されている。そこで、LSI自体の発熱
量は膨大となり、かつLSIの高密度実装により半導体
デバイスの発熱密度も著しく増大している。このため、
LSIを効率良く冷却することは益々重要になってい
る。 従来、プリント基板やセラミック基板等の回路基
板上に搭載された複数の発熱半導体部品等を空気などの
冷媒で冷却する手段として、発熱半導体部品の上にそれ
ぞれフィンを搭載して、冷却用流体を発熱半導体デバイ
スの側方から供給し、発熱半導体デバイスを順次冷却し
て行く方式が多く見られた。しかし、上記のような方式
では下流側になるほど風温上昇が大きくなり、冷却性能
が低下する問題点が生じてきた。そこで、この問題点を
解決する方法として、特開平2−34993号公報,実
開平1−113355号公報等に記載されているよう
に、発熱半導体部品の上に大きな放熱面を持つ高性能な
フィンを搭載し、送風機から供給される冷却用空気を、
フィン上に設けたチャンバ−、ノズル等を介して個々の
フィンに風漏れのないように個別送風する方式が提案さ
れている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の個別送風方
式空冷装置のうち、特開平2−34993号の空冷放熱
装置は、図10に示すように、基板上(図示せず)に発
熱体であるLSI1が多数搭載され、LSI1上にはフ
ィン2により構成されるヒートシンク3が取り付けられ
たものである。冷却空気は、ヒートシンク3の上部全域
を覆うノズルを経て供給され、LSI1を冷却する。ヒ
ートシンク3からの排気は開口部4から排出さる。この
場合、冷却空気は、ヒートシンク3の上部全域を覆うノ
ズルを経てヒートシンク3内のフィン2に一様に供給さ
れても、ヒートシンク3内のフィン2間隙を通過し、開
口部4に向かって流動するうちに流体の流動損失により
流速が異なる速度分布が生じ、特に高い冷却性能が要求
されるLSI1中心部のフィン根元付近を流れる冷却空
気の速度が最も遅くなってしまう。この結果、LSI1
の中心部の温度が最も高くなり、チップ内の温度を一様
に冷却することが難しい。
【0004】そこで、実開平1−113355号では、
図11に見られるような空冷構造が提案されている。こ
の場合、ヒートシンク3の上部の送風口5がヒートシン
ク3上部全域でなく、絞られた送風口5となっている。
しかし、この様に例え送風口5を絞って冷却空気をヒー
トシンク3内のフィン中央部に強く供給しても、冷却空
気はヒートシンク3内のフィン間隙を通過し、ヒートシ
ンク3の両側の開口部6に向かって流動するうちにフィ
ン表面上の流体流動損失により速度差が生じ、半導体1
の中央部のフィン根元付近を流れる冷却空気の速度を著
しく高めることが難しい。一般に流れが壁に衝突すると
ころは澱み点と呼ばれ、流れが停滞する所であり、例え
衝突する流れを早くしても澱み点近辺の流れは、早くす
ることが出来ない。この結果、この場合でも半導体1の
中心部の温度が最も高くなり、チップ内の温度を一様に
冷却出来ない欠点が有る。
【0005】従って、上記従来技術は、何れも半導体集
積回路素子LSIの温度分布を一様にする点について考
慮されておらず、LSIの冷却性能向上に問題があっ
た。
【0006】本発明は、かかる問題点を解決するために
なされたもので、本発明の目的は、半導体集積回路素子
LSIなど高発熱する発熱体の温度分布を一様に、かつ
発熱体を効率良く冷却する発熱体の冷却装置を提供する
ことにある。本発明は、特に、近年、コンピュ−タの高
速処理速度の要求から開発された高発熱のLSIチップ
を一括して高密度に実装されたマルチチップモジュ−ル
内の多数のLSIチップを、空気などの冷媒で一様に冷
却する装置を提供することにある。
【0007】本発明の他の目的は、高性能ヒートシンク
をマルチチップモジュ−ルなどの発熱体に信頼性良く取
付けるとともに、ヒートシンクからの冷却流体の漏れを
少なくするクランプ装置を提供することにある。
【0008】本発明の更に他の目的は、マルチチップモ
ジュ−ルなどの発熱体の電気回路接続部に負担を掛けず
に、かつ冷却流体の漏れを少なくしてヒートシンクに冷
却流体を供給するノズル接続構造を提供することにあ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の発熱体の冷却装置は、発熱体を冷却するヒ
−トシンク中央部にヒ−トシンク上面からフィン根元に
至る貫通スリットを設け、ヒ−トシンク上面から噴射さ
れる冷却流体が上記貫通スリットを通って流体速度を低
下せずに、また冷却流体温度を上昇せずに、発熱体中央
の上部に直接到達する機構を備えたものである。
【0010】本発明の冷却装置の他の特徴は、ヒ−トシ
ンク上面から噴射される冷却流体をヒ−トシンク中央部
に高速に誘導するガイドをヒ−トシンク内部に備えたこ
とである。
【0011】本発明の更に他の特徴は、ヒートシンク内
に設けられた貫通スリット内に締め付け力を調節できる
板バネを入れ、マルチチップモジュ−ルなどの発熱体の
底面を支持面とするL字型のクランプ金具をヒートシン
ク両側面に設けて、上記板バネと組み合わせることによ
り、高性能ヒートシンクをマルチチップモジュ−ルなど
の発熱体に信頼性とスペ−ス効率を高めて取付けること
が出来ると共に、上記L字型のクランプ金具が貫通スリ
ットからの冷却流体の漏れを少なくするクランプ装置を
ヒ−トシンク内部に備えたことである。
【0012】本発明の更に他の特徴は、ヒートシンクに
冷却流体を供給するノズルとヒートシンクとを一体に接
続せず、ノズル先端に柔らかい緩衝部材を取付け、ヒー
トシンク上部に設けられたノズル接続口に差し込むこと
により、マルチチップモジュ−ルなどの発熱体の電気回
路接続部に負担を掛けずに、かつ冷却流体の漏れを少な
くして冷却流体を供給するノズルをヒートシンクに接続
する構造を備えたことである。
【0013】
【作用】本発明によれば、発熱体を冷却するヒ−トシン
ク中央部に、ヒ−トシンク上面からフィン根元に至りフ
ィンを縦断する貫通スリットが設けられているので、ヒ
−トシンク上面から噴射され上記貫通スリットを通る冷
却流体は、ヒ−トシンクを構成するフィンとフィンとの
間を通過する冷却流体より通過流路の圧力損失が小さい
ことにより、冷却流体の速度を低下させずに発熱体中央
上部のフィン根元に直接到達することが出来る。更に、
上記貫通スリットを通る冷却流体は、フィン間を通過し
ないため、冷却流体温度がほとんど上昇せずに低い入気
温度のまま発熱体中央上部のフィン根元に直接到達する
ことが出来る。このため、発熱体中央部の冷却性能を向
上させることが出来る。この結果、半導体集積回路素子
LSIなど高発熱する発熱体の温度分布を一様に、かつ
発熱体を効率良く冷却することが出来る。特に、近年、
コンピュ−タの高速処理速度の要求から開発された高発
熱LSIチップなどを一括して高密度に実装するマルチ
チップモジュ−ル内の多数のLSIチップを水など特別
な冷却流体を用いずに、身近な空気などの冷却流体で一
様に冷却することができる。
【0014】また、本発明によれば、ヒ−トシンク上面
から噴射される冷却流体をヒ−トシンク中央部に高速に
誘導する少なくとも一組以上の流れ誘導ガイドをヒ−ト
シンク内部に備えることにより、発熱体中央上部のフィ
ン根元付近を集中して冷却することが出来る。また、流
れ誘導ガイドを発熱分布の大きいところに制御して設け
れば、高発熱する発熱体の温度分布をより一様に、かつ
発熱体を効率良く冷却することが出来る。
【0015】更に、本発明によれば、貫通スリット内に
挿入された板バネと、マルチチップモジュ−ルなどの発
熱体の底面を支持面とするL字型のクランプ金具とを組
み合わせて、ヒートシンクをマルチチップモジュ−ルな
どの発熱体に取り付けることにより、貫通スリットを設
けた高性能ヒートシンクの冷却性能を低下せずにマルチ
チップモジュ−ルなどの発熱体に信頼性良く取付けるこ
とが出来、上記L字型のクランプ金具が貫通スリットか
らの冷却流体の漏れを少なくして冷却性能低下を防止す
ることが出来る。
【0016】更に、本発明によれば、ノズル先端に柔ら
かい緩衝部材を取付け、ヒートシンク上部に設けられた
ノズル接続口に差し込むことにより、組立て性を高めな
がらマルチチップモジュ−ルなどの発熱体の電気回路接
続部に負担を掛けずに、かつ冷却流体の漏れを少なくし
て冷却流体を供給するノズルを高性能ヒートシンクに接
続することが出来る。
【0017】
【実施例】以下、本発明の第一の実施例について図1、
図2に基づき詳細に説明する。図1は、本発明を適用し
た発熱体の冷却装置の一部断面の斜視図である。図2
は、図1の横断面図で、発熱体の冷却装置内の冷却流体
の流れを示すものである。これら図に於いては発熱体の
一例として、高発熱する半導体デバイスを多数一括して
気密封止したマルチチップモジュ−ルの一例を示す。
【0018】マルチチップモジュ−ル1は、セラッミク
製多層配線基板2上に発熱体であるLSIチップを内蔵
した半導体デバイス3を多数搭載し、ハウジング4で封
止することにより作られている。半導体デバイス3で発
生した熱は、半導体デバイス3と接触する熱伝導接触子
5を経てハウジング4に伝えられる。マルチチップモジ
ュ−ル1のハウジング4上には、その発熱を冷却空気な
どの冷却流体に効果的に伝達するためのヒートシンク6
が搭載されている。ヒートシンク6は、アルミニウムや
銅あるいは高熱伝導性セラッミクなど熱伝導性の良い材
質を用い、多数の平板フィン7とフィンベ−ス8から構
成されている。ヒ−トシンク中央部には、ヒ−トシンク
6上面から多数の平板フィン7の根元に至り多数の平板
フィン7を縦断する貫通スリット9が設けられている。
貫通スリット9の幅は平板フィン7の配列ピッチより広
く取られている。ヒートシンク6の上面には、ブロアな
どの送風機(図示せず)からの空気流をヒートシンク6
内に導く冷却流体噴射ノズル11がヒートシンク押え板
10間の冷却空気入口12に差し込まれている。
【0019】なお、ノズル11あるいはヒ−トシンク6
の冷却空気入口12のいずれか一方に柔らかい緩衝部材
13が取付けられている。更に、マルチチップモジュ−
ル1とヒートシンク6とは、例えば、熱伝導性グリース
や熱伝導性シートあるいは熱伝導性接着剤、ボルト締め
などによって熱的に接触した構造となっている。また、
ヒートシンク押え板10は多数の平板フィン7の先端と
接着あるいは接合されている。
【0020】本実施例によれば、図2に示すように、ノ
ズル11を通ってヒートシンク6内に噴射された空気流
(矢印20)は、多数の平板フィン7間と貫通スリット
9内に導かれるが、貫通スリット9内に入る空気流(矢
印21)は、貫通スリット9の幅が平板フィン7の配列
ピッチより広いので、流体の流動損失が小さく、多数の
平板フィン7間に入る空気流(矢印22)より流速が大
きい。この結果、上記貫通スリット9を通る冷却空気
(矢印21)は、速度を殆ど低下せずに発熱体であるマ
ルチチップモジュ−ル1中央上部のフィンベ−ス8およ
びフィン根元に直接到達することが出来る。更に、上記
貫通スリット9を通る冷却空気(矢印21の空気流)
は、フィン間を通過しないため、冷却流体温度がほとん
ど上昇せずに低い入気温度のまま発熱体であるマルチチ
ップモジュ−ル1中央上部のフィン根元に直接到達する
ことが出来る。このため、一般に温度上昇の大きいマル
チチップモジュ−ル1中央部の冷却性能を向上させ、多
数の半導体デバイス3を内蔵したマルチチップモジュ−
ル1でも高発熱する半導体デバイス3の温度分布を一様
に、かつ発熱体を効率良く冷却することが出来る。
【0021】なお、貫通スリット9を通る冷却空気流速
を大きくするため、貫通スリット9の幅を大きくし過ぎ
ると、平板フィン7の面積が減少して、マルチチップモ
ジュ−ル1中央上部のヒートシンクの冷却性能が低下し
てしまう。このため、貫通スリット9の幅に最適値が存
在する。
【0022】次に、図3により上記図2の実施例の一部
変形例を説明する。なお、本実施例では、図2と同じの
ものは同一の番号を付けて説明を省略する。
【0023】図に示す様に、ヒ−トシンク中央部に設け
られた貫通スリット9aは、冷却空気流入口側が広くフ
ィン根元に向かって狭くなっている。このため、貫通ス
リット9aの流入圧力損失を小さくすることが出来、貫
通スリット9aを通る冷却空気を多くなり、温度上昇の
大きいマルチチップモジュ−ル中央部の冷却性能を向上
させ、マルチチップモジュ−ルに内蔵された半導体デバ
イスをより効率良く冷却することが出来る。
【0024】次に、図4により上記図2の実施例の一部
変形例を説明する。なお、本実施例では、図2と同じの
ものは同一の番号を付けて説明を省略する。
【0025】本実施例では、ヒ−トシンク中央部に設け
た貫通スリット9bをフィン根元まで設けず、貫通スリ
ット9bの底部にはフィンベ−ス8上に平板フィン7b
が一部が残されている。このため、貫通スリット9bの
幅を大きくしてもマルチチップモジュ−ル中央部の冷却
性能を低下させることがない。
【0026】上記実施例は、何れも空気流をヒートシン
ク6内に導く冷却流体噴射ノズル11がヒートシンク6
の幅より狭い例で示したが、ノズル11の幅がヒートシ
ンク6の幅と同じであっても良い。
【0027】次に、図5により上記図1、図2の実施例
の一部変形例を説明する。なお、本実施例では、図2と
同じのものは同一の番号を付けて説明を省略する。
【0028】本実施例では、ヒートシンク6c上面のヒ
ートシンク押え板10aがL字状で、L字状に曲がった
先端部がヒ−トシンク上面から噴射される冷却流体をヒ
−トシンク中央部に高速に誘導するガイド101として
平板フィン7b内に食い込んでいる。従って、流れ誘導
ガイド101によって、ヒ−トシンク中央部に設けた貫
通スリット9により強い冷却流(矢印23)が誘導さ
れ、マルチチップモジュ−ル中央上部のフィン根元に直
接到達する。このため、温度上昇の大きいマルチチップ
モジュ−ル中央部の冷却性能を向上させ、マルチチップ
モジュ−ルに内蔵された半導体デバイスをより効率良く
冷却することが出来る。
【0029】次に、本発明の他の実施例を図6を参照し
て説明する。なお、本実施例では、図2と同じのものは
同一の番号を付けて説明を省略する。
【0030】本実施例では、ヒ−トシンク6dを構成す
る平板フィン7c間の冷却流を制御する流れ誘導ガイド
102が平板フィン7c間に設けられ、ヒ−トシンク上
面からフィンの根元に向かって延びている。前記流れ誘
導ガイド102の長さは、平板フィン7cの高さよりい
ずれも短く、ヒ−トシンク中央から端じに向かって順次
短くなっている。
【0031】本実施例によれば、ヒ−トシンク6d上部
からヒ−トシンク6dに噴射される冷却流体は、流れ誘
導ガイド102に従って平板フィン7c間に流入する
が、流れ誘導ガイド102の長さがヒ−トシンク中央部
で最も長いので、ヒ−トシンク中央部でもフィン根元ま
で直接到達することが出来る。更に、流れ誘導ガイド1
02の長さが中央部から端じに向かって順次短くなって
いるので、ヒ−トシンク中央部の流れ誘導ガイドを経て
流出する冷却流体の流れは、隣接する流れ誘導ガイドか
ら流出する冷却流体の流れによってフィン根元に押しや
られ、流速が増大していく。この結果、一番温度が高い
フィン根元の冷却性能を向上させることが出来ると共
に、温度上昇の大きい中央部の冷却性能を一層向上させ
ることが出来る。
【0032】更に、図7は、図6に示した上記実施例の
一部を変形した一実施例を説明する。なお、本実施例で
は、図6と同じのものは同一の番号を付けて説明を省略
する。
【0033】本実施例では、流れ誘導ガイド102aの
取付けピッチがヒ−トシンク中央から端じに向かって狭
くなっている点が図6に示した上記実施例と異なってい
る。ヒ−トシンク中央部の流れ誘導ガイド間が最も広い
ので、より一層流れを早く誘導することが出来る。
【0034】次に、本発明の他の実施例を図8、図9を
参照して説明する。なお、本実施例では、図1と同じの
ものは同一の番号を付けて説明を省略する。
【0035】本実施例では、ヒートシンク6内に設けら
れた貫通スリット9内にボルト30によって締め付け力
を調節できる板バネ31を入れ、発熱体であるマルチチ
ップモジュ−ル1の底面を支持面とするL字型のクラン
プ金具32をヒートシンク両側面に設け、上記板バネ3
1と組み合わせてヒートシンク6をマルチチップモジュ
−ル1に取り付けられている。上記L字型のクランプ金
具32が貫通スリット9の側面を塞ぐことが出来るの
で、貫通スリット9からの冷却流体の漏れを少なくな
る。
【0036】更に、マルチチップモジュ−ル1の組立て
性からヒートシンク6とマルチチップモジュ−ル1は、
互いに分離しておく方が好ましい。このため、マルチチ
ップモジュ−ル1とヒートシンク6とは、例えば、熱伝
導性グリースや熱伝導性シートあるいは熱伝導性接着
剤、ボルト締めなどによって熱的に接触した構造となっ
ている。しかし、マルチチップモジュ−ル1とヒートシ
ンク6とは互いに温度分布が異なるので、温度分布によ
る熱変形量も互いに異なる。このため、ヒートシンク6
はマルチチップモジュ−ル1の熱変形に常に追従しない
と、マルチチップモジュ−ル1とヒートシンク6間の熱
抵抗が変動してしまう。そこで、本実施例のクランプ装
置は、板バネ31とマルチチップモジュ−ル1の底面を
支持面とするL字型のクランプ金具32によってヒート
シンク6の中心に荷重を加え、荷重力をボルト30で調
節することによって、ヒートシンク6をマルチチップモ
ジュ−ル1に常に追従させることが出来る。この結果、
マルチチップモジュ−ル1とヒートシンク6間の熱抵抗
を安定させることが出来ると共に、スペ−ス効率向上と
冷却流体の漏れ防止などを合わせて実施することが出来
る。
【0037】
【発明の効果】本発明によれば、発熱体を冷却するヒ−
トシンク中央部にヒ−トシンク上面からフィン根元に至
りフィンを縦断する貫通スリットを設けることにより、
上記貫通スリットを通る冷却流体は、冷却流体の速度を
低下せずに発熱体中央上部のフィン根元に直接到達する
ことが出来る。更に、上記貫通スリットを通る冷却流体
は、冷却流体温度がほとんど上昇せずに低い入気温度の
まま発熱体中央上部のフィン根元に直接到達することが
出来る。このため、発熱体中央部の冷却性能を向上させ
ることが出来る。この結果、半導体集積回路素子LSI
など高発熱する発熱体の温度分布を一様に、かつ発熱体
を効率良く冷却することが出来る。特に、近年、コンピ
ュ−タの高速処理速度の要求から開発された高発熱LS
Iチップなどを一括して高密度に実装するマルチチップ
モジュ−ル内の多数のLSIチップを水など特別な冷却
流体を用いずに、身近な空気などの冷却流体で一様に冷
却することができる。
【0038】また、本発明によれば、ヒ−トシンク上面
から噴射される冷却流体をヒ−トシンク中央部に高速に
誘導する少なくとも一組以上の流れ誘導ガイドをヒ−ト
シンク内部に備えることにより、発熱体中央上部のフィ
ン根元付近を集中して冷却することが出来る。また、流
れ誘導ガイドを発熱分布の大きいところに制御して設け
れば、高発熱する発熱体の温度分布をより一様に、かつ
発熱体を効率良く冷却することが出来る。
【0039】更に、本発明によれば、貫通スリットに挿
入された板バネと、マルチチップモジュ−ルなどの発熱
体の底面を支持面とするL字型のクランプ金具とを組み
合わせて、ヒートシンクをマルチチップモジュ−ルなど
の発熱体に取り付けることにより、貫通スリットを設け
た高性能ヒートシンクの冷却性能を低下せずにマルチチ
ップモジュ−ルなどの発熱体に信頼性良くかつスペ−ス
効率良く取付けることが出来、上記L字型のクランプ金
具が貫通スリットからの冷却流体の漏れを少なくするこ
とが出来る。
【0040】更に、本発明によれば、ノズル先端に柔ら
かい緩衝部材を取付け、ヒートシンク上部に設けられた
ノズル接続口に差し込むことにより、マルチチップモジ
ュ−ルなどの発熱体の電気回路接続部に負担を掛けず
に、かつ冷却流体の漏れを少なくして冷却流体を供給す
るノズルを高性能ヒートシンクに接続することが出来
る。
【0041】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した発熱体の冷却装置の一実施例
を説明する一部断面斜視図
【図2】発熱体の冷却装置内の冷却流体の流れを示す第
1図の要部横断面図
【図3】本発明の発熱体の冷却装置の一部変形例を説明
する要部断面図
【図4】本発明の発熱体の冷却装置の一部変形例を説明
する要部断面図
【図5】本発明の発熱体の冷却装置の一部変形例を説明
する要部断面図
【図6】本発明の発熱体の冷却装置の他の実施例を説明
する要部断面図
【図7】本発明の発熱体の冷却装置の他の実施例の一部
変形した例を説明する要部断面図
【図8】本発明の発熱体の冷却装置の他の実施例を説明
する正面図
【図9】第8図の断面図
【図10】従来の発熱体の冷却装置を説明する斜視図と
要部断面図
【図11】従来の発熱体の冷却装置を説明する斜視図と
要部断面図
【符号の説明】 1・・・マルチチップモジュ−ル,2・・・セラッミク製多層
配線基板,3・・・半導体デバイス,4・・・ハウジング,5
・・・熱伝導接触子,6,6a,6b,6c,6d,6e・
・・ヒ−トシンク,7,7a,7b,7c・・・平板フィ
ン,8・・・フィンベ−ス,9,9a,9b・・・貫通スリッ
ト,10,10a・・・ヒ−トシンク押え板,11,11
a・・・ノズル,12・・・冷却空気入口,13・・・緩衝部
材,20,21,22・・・空気流矢印,30・・・ボルト,
31・・・板バネ,32・・・L字型クランプ金具,101,
102,102a・・・流れ誘導ガイド
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 二三幸 神奈川県秦野市堀山下1番地株式会社日 立製作所神奈川工場内 (72)発明者 塚口 保 神奈川県秦野市堀山下1番地株式会社日 立製作所神奈川工場内 (72)発明者 畑田 敏夫 茨城県土浦市神立町502株式会社日立製 作所機械研究所内 (72)発明者 笠井 憲一 神奈川県秦野市堀山下1番地株式会社日 立製作所神奈川工場内 (72)発明者 林 義人 神奈川県秦野市堀山下1番地株式会社日 立製作所神奈川工場内 (56)参考文献 特開 昭64−71154(JP,A) 実開 平1−167094(JP,U) 実開 平1−113355(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 7/20 H01L 23/473 H01L 23/36

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】フィンベース上に複数の板状のフィンを備
    えてなるヒートシンクにおいて、 フィンとフィンの互いの板面の間が一定の間隔を保って
    並列に配列している第一のフィン群と、フィンとフィン
    の互いの板面の間が一定の間隔を保って並列に配列して
    いる第二のフィン群とを有し、 前記第一のフィン群と前記第二のフィン群は前記複数の
    フィンの配列方向に直交する方向に一定の間隔を有して
    配置され、該間隔は各フィン群におけるフィン間隔より
    も広く構成されており、 冷却流体が前記ヒートシンク上面から供給されることに
    より前記フィンベース下面に取り付けられる発熱体を冷
    却する ことを特徴とするヒートシンク。
  2. 【請求項2】フィンベース上に複数の板状のフィンを備
    えてなるヒートシンクにおいて、 フィンとフィンの互いの板面の間に前記フィンベースま
    で到達する一定の間隔を保って並列に配列している第一
    のフィン群と、フィンとフィンの互いの板面の間に前記
    フィンベースまで到達する一定の間隔を保って並列に配
    列している第二のフィン群とを有し、 前記第一のフィン群と前記第二のフィン群は前記複数の
    フィンの配列方向に直交する方向に一定の間隔を有して
    配置され、該間隔は各フィン群におけるフィン間隔より
    も広く構成されており、 冷却流体が前記ヒートシンク上面から供給されることに
    より前記フィンベース下面に取り付けられる発熱体を冷
    却する ことを特徴とするヒートシンク。
  3. 【請求項3】フィンベース上に複数の板状のフィンを備
    えてなるヒートシンクにおいて、 フィンとフィンの互いの板面の間に前記フィンベースま
    で到達する一定の間隔を保って並列に配列している第一
    のフィン群と、フィンとフィンの互いの板面の間に前記
    フィンベースまで到達する一定の間隔を保って並列に配
    列している第二のフィン群とを有し、 前記第一のフィン群と前記第二のフィン群は前記複数の
    フィンの配列方向に直交する方向に一定の間隔を保って
    配置されることにより、前記第一のフィン群と前記第二
    のフィン群との間にフィンベースまで到達し且つフィン
    の配列方向に貫通するスリットが形成され、該スリット
    の間隔は各フィン群におけるフィン間隔よりも広く構成
    されており、 冷却流体が前記ヒートシンク上面から供給されることに
    より前記フィンベース下面に取り付けられる発熱体を冷
    却する ことを特徴とするヒートシンク。
  4. 【請求項4】請求項1乃至請求項3記載のヒートシンク
    において、 前記複数のフィンは平板状フィンであることを特徴とす
    るヒートシンク。
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