JP3000734B2 - オキシフラバン類の精製法 - Google Patents
オキシフラバン類の精製法Info
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- JP3000734B2 JP3000734B2 JP3195306A JP19530691A JP3000734B2 JP 3000734 B2 JP3000734 B2 JP 3000734B2 JP 3195306 A JP3195306 A JP 3195306A JP 19530691 A JP19530691 A JP 19530691A JP 3000734 B2 JP3000734 B2 JP 3000734B2
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、下記一般式（Ｉ）
【０００２】
【化２】
【０００３】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ5 はそれぞれ
独立に、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル
基、アラルキル基もしくはアリール基を表し、Ｒ3 およ
びＲ4 はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アル
ケニル基、シクロアルキル基、アラルキル基もしくはア
リール基を表すか、またはＲ1 とＲ2 およびＲ4 とＲ5
がそれぞれ独立に、環を形成する）で示されるオキシフ
ラバン類の精製法に関するものである。
独立に、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル
基、アラルキル基もしくはアリール基を表し、Ｒ3 およ
びＲ4 はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アル
ケニル基、シクロアルキル基、アラルキル基もしくはア
リール基を表すか、またはＲ1 とＲ2 およびＲ4 とＲ5
がそれぞれ独立に、環を形成する）で示されるオキシフ
ラバン類の精製法に関するものである。
【０００４】
【従来の技術】一般式（Ｉ）で示されるオキシフラバン
類は、例えば、英国特許第 822,659号明細書、特開昭 5
5-139375号公報および特開昭 61-27980 号公報に示され
るように、ケトン類とレゾルシンを酸触媒の存在下に反
応させることにより製造されており、この反応生成物を
濾別し、得られたケーキを水洗浄して、乾燥することに
より精製されている。
類は、例えば、英国特許第 822,659号明細書、特開昭 5
5-139375号公報および特開昭 61-27980 号公報に示され
るように、ケトン類とレゾルシンを酸触媒の存在下に反
応させることにより製造されており、この反応生成物を
濾別し、得られたケーキを水洗浄して、乾燥することに
より精製されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような水
洗による精製では、未反応のレゾルシンおよび副生成物
（特にポリマー成分）が洗浄しきれず、純度の高いオキ
シフラバン類が得られなかった。本発明の目的は、未反
応レゾルシンおよび副生成物を効果的に除去し、オキシ
フラバン類を高純度で得るための精製法を提供すること
にある。
洗による精製では、未反応のレゾルシンおよび副生成物
（特にポリマー成分）が洗浄しきれず、純度の高いオキ
シフラバン類が得られなかった。本発明の目的は、未反
応レゾルシンおよび副生成物を効果的に除去し、オキシ
フラバン類を高純度で得るための精製法を提供すること
にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するために鋭意検討を行った結果、反応で得られ
たオキシフラバン類をメタノール−水の混合溶媒で再結
晶することによって、この目的が達成されることを見出
した。
を達成するために鋭意検討を行った結果、反応で得られ
たオキシフラバン類をメタノール−水の混合溶媒で再結
晶することによって、この目的が達成されることを見出
した。
【０００７】すなわち本発明は、前記一般式（Ｉ）で示
されるオキシフラバン類をメタノールに溶解した後、そ
の溶液に水を添加し、このメタノール−水の混合溶媒か
ら再結晶することによって、前記一般式（Ｉ）で示され
るオキシフラバン類を精製する方法を提供するものであ
る。
されるオキシフラバン類をメタノールに溶解した後、そ
の溶液に水を添加し、このメタノール−水の混合溶媒か
ら再結晶することによって、前記一般式（Ｉ）で示され
るオキシフラバン類を精製する方法を提供するものであ
る。
【０００８】以下、本発明について、さらに詳細に説明
する。前記一般式（Ｉ）において、Ｒ1 〜Ｒ5 で表され
るアルキル基は分岐していてもよく、例えば炭素数１〜
５のものを挙げることができる。アルケニル基として
は、例えば炭素数２〜５のものを挙げることができる。
アラルキル基のアルキル部位としては、例えば炭素数１
〜３のものを挙げることができる。また、アリール基と
しては、例えばフェニル基およびナフチル基を挙げるこ
とができる。
する。前記一般式（Ｉ）において、Ｒ1 〜Ｒ5 で表され
るアルキル基は分岐していてもよく、例えば炭素数１〜
５のものを挙げることができる。アルケニル基として
は、例えば炭素数２〜５のものを挙げることができる。
アラルキル基のアルキル部位としては、例えば炭素数１
〜３のものを挙げることができる。また、アリール基と
しては、例えばフェニル基およびナフチル基を挙げるこ
とができる。
【０００９】一般式（Ｉ）で示されるオキシフラバン類
の具体例としては、例えば、以下の化合物が挙げられ
る。
の具体例としては、例えば、以下の化合物が挙げられ
る。
【００１０】
【化３】
【００１１】一般式（Ｉ）で示されるオキシフラバン類
は、例えば、英国特許第 822,659号明細書、特開昭 55-
139375号公報および特開昭 61-27980 号公報に記載され
ている方法に準じて、レゾルシンとケトン類を酸触媒の
存在下に、反応溶媒中で反応させることにより合成され
る。この際、本発明者らが先に特願平 3-186182 号で提
案したように、反応溶媒としてメタノールを使用する方
法を採用することもできる。
は、例えば、英国特許第 822,659号明細書、特開昭 55-
139375号公報および特開昭 61-27980 号公報に記載され
ている方法に準じて、レゾルシンとケトン類を酸触媒の
存在下に、反応溶媒中で反応させることにより合成され
る。この際、本発明者らが先に特願平 3-186182 号で提
案したように、反応溶媒としてメタノールを使用する方
法を採用することもできる。
【００１２】反応終了後は、析出物を濾別し、必要によ
り水洗、乾燥して得られるオキシフラバン類の粗生成物
を精製するのであるが、本発明では、この粗生成物をま
ずメタノールに溶解し、次にそこへ水を添加し、このメ
タノール−水の混合溶媒から上記オキシフラバン類を再
結晶する。具体的には、以下のようにして処理するのが
好ましい。まずこの粗生成物を、その中の固形分１００
重量部あたり１００〜１６００重量部のメタノールに溶
解したのち、溶解に使用したメタノール１００重量部あ
たり５０〜１０００重量部の水を添加する。この際、水
添加後のメタノール濃度が３０〜５０重量％、溶媒量が
上記粗生成物中の固形分１００重量部あたり３００〜５
５０重量部となるようにするのが好ましい。水添加後の
液温は、通常２０〜７０℃、好ましくは５０〜７０℃で
ある。添加する水の温度は、通常１０〜１００℃、好ま
しくは５０〜７０℃である。その後所定時間撹拌を行
い、濾過などにより固体を分取する。得られた固体は、
適当量のメタノール水、特にメタノール濃度３０〜５０
重量％のメタノール水で洗浄することにより、目的物で
ある白色粉末状のオキシフラバン類を高純度で得ること
ができる。
り水洗、乾燥して得られるオキシフラバン類の粗生成物
を精製するのであるが、本発明では、この粗生成物をま
ずメタノールに溶解し、次にそこへ水を添加し、このメ
タノール−水の混合溶媒から上記オキシフラバン類を再
結晶する。具体的には、以下のようにして処理するのが
好ましい。まずこの粗生成物を、その中の固形分１００
重量部あたり１００〜１６００重量部のメタノールに溶
解したのち、溶解に使用したメタノール１００重量部あ
たり５０〜１０００重量部の水を添加する。この際、水
添加後のメタノール濃度が３０〜５０重量％、溶媒量が
上記粗生成物中の固形分１００重量部あたり３００〜５
５０重量部となるようにするのが好ましい。水添加後の
液温は、通常２０〜７０℃、好ましくは５０〜７０℃で
ある。添加する水の温度は、通常１０〜１００℃、好ま
しくは５０〜７０℃である。その後所定時間撹拌を行
い、濾過などにより固体を分取する。得られた固体は、
適当量のメタノール水、特にメタノール濃度３０〜５０
重量％のメタノール水で洗浄することにより、目的物で
ある白色粉末状のオキシフラバン類を高純度で得ること
ができる。
【００１３】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら
限定されるものではない。例中の％は、特にことわらな
いかぎり重量基準である。
に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら
限定されるものではない。例中の％は、特にことわらな
いかぎり重量基準である。
【００１４】 参考例１ 攪拌器、冷却器、滴下ロートおよび温度計を装着した四
つ口フラスコに、 レゾルシン２００ｇ（１.8２モ
ル）、３６％塩酸９１.2ｇ（０.9モル）、および水３３
０ｇを仕込み、４２℃で攪拌下、アセトン３５.2ｇ
（０.6１モル）を１時間かけて滴下した。滴下終了後、
５０℃で３時間反応させた。次に反応生成物を濾別し、
得られたウェットケーキを水洗後、乾燥して、２，４，
４−トリメチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）−７−ヒドロキシクロマン（先に例示した式（１）
の化合物）を得た。結果は表１に示す。
つ口フラスコに、 レゾルシン２００ｇ（１.8２モ
ル）、３６％塩酸９１.2ｇ（０.9モル）、および水３３
０ｇを仕込み、４２℃で攪拌下、アセトン３５.2ｇ
（０.6１モル）を１時間かけて滴下した。滴下終了後、
５０℃で３時間反応させた。次に反応生成物を濾別し、
得られたウェットケーキを水洗後、乾燥して、２，４，
４−トリメチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）−７−ヒドロキシクロマン（先に例示した式（１）
の化合物）を得た。結果は表１に示す。
【００１５】 参考例２ 攪拌器、冷却器、滴下ロートおよび温度計を装着した四
つ口フラスコに、レゾルシン２００ｇ（１.8２モル）、
ｐ−トルエンスルホン酸１.3８ｇ（０.0０７モル）、お
よびメタノール６６ｇを仕込み、５５℃で攪拌下、アセ
トン３５.1６ｇ（０.6１モル）を１時間かけて滴下し
た。滴下終了後６５℃で３時間反応させ、次に１４５ｇ
の水を加えて、５５℃でさらに３時間攪拌した。反応生
成物を濾別し、得られたウェットケーキを水洗後、乾燥
して、２，４，４−トリメチル−２−（２，４−ジヒド
ロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマンを得た。結
果は表１に示す。
つ口フラスコに、レゾルシン２００ｇ（１.8２モル）、
ｐ−トルエンスルホン酸１.3８ｇ（０.0０７モル）、お
よびメタノール６６ｇを仕込み、５５℃で攪拌下、アセ
トン３５.1６ｇ（０.6１モル）を１時間かけて滴下し
た。滴下終了後６５℃で３時間反応させ、次に１４５ｇ
の水を加えて、５５℃でさらに３時間攪拌した。反応生
成物を濾別し、得られたウェットケーキを水洗後、乾燥
して、２，４，４−トリメチル−２−（２，４−ジヒド
ロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマンを得た。結
果は表１に示す。
【００１６】 実施例１ 攪拌器、冷却器および温度計を装着した四つ口フラスコ
に、上記参考例１で得られた２，４，４−トリメチル−
２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキ
シクロマンのウェットケーキ１０２ｇ（うち固形分重量
７２ｇ）およびメタノール１１９ｇを入れて、加熱撹拌
下に溶解し、６５℃で結晶が溶解したことを確認した
後、６５℃の温水１７９ｇを添加し、次いで５５℃まで
冷却した。５５℃で３時間撹拌した後、析出物を濾別
し、４０％のメタノール水で洗浄し、乾燥して、２，
４，４−トリメチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェ
ニル）−７−ヒドロキシクロマンの精製物を得た。結果
は表１に示す。
に、上記参考例１で得られた２，４，４−トリメチル−
２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキ
シクロマンのウェットケーキ１０２ｇ（うち固形分重量
７２ｇ）およびメタノール１１９ｇを入れて、加熱撹拌
下に溶解し、６５℃で結晶が溶解したことを確認した
後、６５℃の温水１７９ｇを添加し、次いで５５℃まで
冷却した。５５℃で３時間撹拌した後、析出物を濾別
し、４０％のメタノール水で洗浄し、乾燥して、２，
４，４−トリメチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェ
ニル）−７−ヒドロキシクロマンの精製物を得た。結果
は表１に示す。
【００１７】 実施例２ 参考例１で得られたウェットケーキの代わりに、参考例
２で得られた２，４，４−トリメチル−２−（２，４−
ジヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマンのウ
ェットケーキ９５ｇ（うち固形分重量７０ｇ）を用い、
メタノールの量を１１０ｇに変え、そして６５℃の温水
の量を１６６ｇに変えた以外は、実施例１と同様にし
て、２，４，４−トリメチル−２−（２，４−ジヒドロ
キシフェニル）−７−ヒドロキシクロマンの精製物を得
た。結果は表１に示す。
２で得られた２，４，４−トリメチル−２−（２，４−
ジヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマンのウ
ェットケーキ９５ｇ（うち固形分重量７０ｇ）を用い、
メタノールの量を１１０ｇに変え、そして６５℃の温水
の量を１６６ｇに変えた以外は、実施例１と同様にし
て、２，４，４−トリメチル−２−（２，４−ジヒドロ
キシフェニル）−７−ヒドロキシクロマンの精製物を得
た。結果は表１に示す。
【００１８】
【表１】
【００１９】1) 純度およびレゾルシン含量は、液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）絶対検 量線法で求めた。 装 置：（株）島津製作所製 LC-4A カラム：Sumipax ODS A-212 (5μm) 6 mmφ×150 mm 溶離液：Ａ液 0.5%ギ酸／水；Ｂ液 0.5%ギ酸／アセトニトリル Ｂ液濃度 10%→100%（3%／min.） 流 量：1.5 ml/min. 検出器：UV 280 nm 2) ポリマー含量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）面積百分率法で求 めた。 装 置：東ソー（株）製 HLC-8020 カラム：TSKgel G4000HXL＋G2000HXL 移動相：テトラヒドロフラン 40℃ 流 量：1 ml/min. 検出器：UV 254 nm
【００２０】
【発明の効果】本発明の方法を採用することにより、粗
生成物から未反応のレゾルシンや副生成物であるポリマ
ーを除去でき、したがって、高純度のオキシフラバン類
を得ることができる。
生成物から未反応のレゾルシンや副生成物であるポリマ
ーを除去でき、したがって、高純度のオキシフラバン類
を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桑名 耕治 大阪府大阪市此花区春日出中３丁目１番 98号 住友化学工業株式会社内 (72)発明者 富岡 淳 大阪府大阪市此花区春日出中３丁目１番 98号 住友化学工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−157113（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−27980（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−139375（ＪＰ，Ａ) 国際公開91／9346（ＷＯ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 311/60 - 311/96 ＣＡ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】下記一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ5 はそれぞれ独立に、アル
キル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラルキル
基もしくはアリール基を表し、Ｒ3 およびＲ4 はそれぞ
れ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シク
ロアルキル基、アラルキル基もしくはアリール基を表す
か、またはＲ1 とＲ2 およびＲ4 とＲ5 がそれぞれ独立
に、環を形成する）で示されるオキシフラバン類の粗生
成物をメタノールに溶解した後、その溶液に水を添加
し、このメタノール−水の混合溶媒から該オキシフラバ
ン類を再結晶することを特徴とする、該オキシフラバン
類の精製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3195306A JP3000734B2 (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | オキシフラバン類の精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3195306A JP3000734B2 (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | オキシフラバン類の精製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0539285A JPH0539285A (ja) | 1993-02-19 |
| JP3000734B2 true JP3000734B2 (ja) | 2000-01-17 |
Family
ID=16338964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3195306A Expired - Lifetime JP3000734B2 (ja) | 1991-08-05 | 1991-08-05 | オキシフラバン類の精製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3000734B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6147546B2 (ja) * | 2013-04-10 | 2017-06-14 | 株式会社トクヤマ | 酢酸が低減されたテルミサルタンａ型結晶の製造方法 |
-
1991
- 1991-08-05 JP JP3195306A patent/JP3000734B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0539285A (ja) | 1993-02-19 |
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