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JP2986861B2 - Magneto-optical recording medium, its initialization method, storage device and its recording method - Google Patents

Magneto-optical recording medium, its initialization method, storage device and its recording method

Info

Publication number
JP2986861B2
JP2986861B2 JP2180346A JP18034690A JP2986861B2 JP 2986861 B2 JP2986861 B2 JP 2986861B2 JP 2180346 A JP2180346 A JP 2180346A JP 18034690 A JP18034690 A JP 18034690A JP 2986861 B2 JP2986861 B2 JP 2986861B2
Authority
JP
Japan
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area
magneto
initialized
recording medium
optical recording
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP2180346A
Other languages
Japanese (ja)
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JPH0467450A (en
Inventor
宏明 池田
正明 傅林
真 宮本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH0467450A publication Critical patent/JPH0467450A/en
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、コンピューター・画像記録などで用いるメ
モリ媒体として、大容量、高密度記録に適する光磁気デ
ィスクなどの光磁気記録媒体、およびその初期化方法に
関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a magneto-optical recording medium such as a magneto-optical disk suitable for large-capacity and high-density recording as a memory medium used for computer / image recording, and the like. About the method of conversion.

[従来の技術] 従来技術を説明するために、光磁気記録媒体の1例で
ある光磁気ディスクの周知の基本構成の一例を第13図に
示す。
[Prior Art] FIG. 13 shows an example of a well-known basic configuration of a magneto-optical disk, which is an example of a magneto-optical recording medium, for explaining the conventional technology.

同図は、光磁気ディスクの部分拡大断面図と、レーザ
ビームの照射される様子を説明する説明図とを示す。
FIG. 1 shows a partially enlarged cross-sectional view of a magneto-optical disk and an explanatory diagram for explaining a state where a laser beam is irradiated.

光磁気ディスク1000の構成は、例えば、同図に示すよ
うに、アクリル(PMMA)やポリカーボネート(PC)等の
樹脂でできた厚さ約1.2mmの透明な円盤、または、ガラ
スの表面に厚さ3μm程度のフォトポリマーを被覆した
厚さ約1.2mm円盤を基板1001とし、その表面に凹凸ピッ
ト(図示せず)や案内溝1002をスパイラル状に形成した
後、その基板1001の同図における下側表面に、防湿効果
の高いSiO2やSiNでできた厚さ100nm程度の保護膜1003を
形成し、その保護膜1003の下側表面には、厚さ100nm程
度の磁性膜1004を形成し、さらに、その磁性膜1004の下
側表面に保護膜1003を形成した構造になっている。
The configuration of the magneto-optical disk 1000 is, for example, as shown in the figure, a transparent disk having a thickness of about 1.2 mm made of a resin such as acrylic (PMMA) or polycarbonate (PC), or a glass disk having a thickness of about 1.2 mm. An approximately 1.2 mm-thick disk coated with a photopolymer of about 3 μm is used as a substrate 1001, and irregular pits (not shown) and guide grooves 1002 are formed in a spiral shape on the surface thereof, and then the lower side of the substrate 1001 in the same figure. On the surface, a protective film 1003 of about 100 nm thickness made of SiO 2 or SiN having high moisture proof effect is formed, and on the lower surface of the protective film 1003, a magnetic film 1004 of about 100 nm thickness is formed. The protective film 1003 is formed on the lower surface of the magnetic film 1004.

また、使用するにあたって、2枚の光磁気ディスク
を、互いに基板1001を外向きにして接着剤で張り合わせ
る場合もある。
In use, two magneto-optical disks may be bonded together with the substrate 1001 facing outward with an adhesive.

磁性膜は、公知技術であるスパッタリングなどを用い
て形成した磁性体からなり、Tb−Fe−Co系合金、Dy−Fe
−Co系合金などの多くの種類があり、一般に、200℃付
近の比較的低いキュリー温度をもつTb−Fe−Co系合金が
光磁気記録媒体の磁性膜として、広く用いられている。
The magnetic film is made of a magnetic material formed by using a known technique such as sputtering, and a Tb-Fe-Co alloy, Dy-Fe
There are many types such as -Co-based alloys, and generally, Tb-Fe-Co-based alloys having a relatively low Curie temperature of around 200 ° C are widely used as magnetic films of magneto-optical recording media.

上記の光磁気ディスク1000を用いて、情報を記録する
場合について説明する。
A case where information is recorded using the above-described magneto-optical disk 1000 will be described.

光磁気ディスク1000への情報の記録は、第13図に示す
ように、レンズ1006で絞ったレーザービーム1005を、高
速で回転する基板1001に入射し、そのビームスポットを
案内溝(情報の記録は行なわない磁性膜の一部分)1002
に沿うようにして、ランド部(情報の記録を行なう磁性
膜の一部分)1007の上を走らせ、情報の有無に対応して
レーザビーム1005の強度を変調し、磁性膜1004を加熱す
るとともに、外部から磁場(図示せず)をかけることに
より行なう。
To record information on the magneto-optical disk 1000, as shown in FIG. 13, a laser beam 1005 focused by a lens 1006 is incident on a substrate 1001 rotating at high speed, and the beam spot is guided into a guide groove (for recording information). Part of the magnetic film that is not performed) 1002
Along the land (part of the magnetic film for recording information) 1007, modulating the intensity of the laser beam 1005 according to the presence or absence of information, heating the magnetic film 1004, From a magnetic field (not shown).

この記録方法は、キュリー温度付近の温度に磁性膜10
04が加熱されると、その保磁力は非常に小さくなるの
で、キュリー温度付近の温度において、磁性膜1004の磁
化の方向が垂直に反転するような比較的弱い磁場を外部
から印加し、磁性膜1004の磁化の方向を容易に反転させ
るという原理を利用している。
This recording method uses a magnetic film 10 near the Curie temperature.
When 04 is heated, its coercive force becomes very small.At a temperature near the Curie temperature, a relatively weak magnetic field such that the direction of magnetization of the magnetic film 1004 is vertically reversed is applied from the outside, and the magnetic film It utilizes the principle of easily reversing the direction of magnetization of 1004.

磁性膜1004の磁化の方向は、磁性膜1004がキュリー温
度付近の温度に保持されている時の外部磁場の方向に従
うので、情報は、磁性膜1004の磁化の方向を、上または
下と変えることにより、案内溝1002に沿って、次々とラ
ンド部1007に記録される。
Since the direction of magnetization of the magnetic film 1004 follows the direction of the external magnetic field when the magnetic film 1004 is maintained at a temperature near the Curie temperature, the information is to change the direction of the magnetization of the magnetic film 1004 up or down. Accordingly, the data is sequentially recorded on the land portion 1007 along the guide groove 1002.

次に、上下光磁気ディスク1000に記録された情報の再
生について説明する。
Next, reproduction of information recorded on the upper and lower magneto-optical disks 1000 will be described.

磁性膜1004によりレーザビーム1005が反射された時、
レーザービーム1005の偏光面が回転することは周知の事
実である。
When the laser beam 1005 is reflected by the magnetic film 1004,
It is a well-known fact that the plane of polarization of the laser beam 1005 rotates.

そして、磁化の方向が反転すると、レーザビーム1005
の偏光面の回転方向も、磁化の方向に従って反転するの
で、この現象を利用して、記録している情報を再生す
る。
When the direction of magnetization is reversed, the laser beam 1005
The direction of rotation of the polarization plane is also reversed according to the direction of magnetization, and this phenomenon is used to reproduce recorded information.

すなわち、記録された情報の再生は、磁性膜1004の磁
化の方向の違いにより、反射ビーム(図示せず)の偏向
面の回転角が違うので、その回転角を光量の差に変換
し、検出器で判定し、磁化の方向を読み取ることにより
行なう。
In other words, when the recorded information is reproduced, the rotation angle of the deflection surface of the reflected beam (not shown) is different due to the difference in the direction of magnetization of the magnetic film 1004. It is determined by reading the direction of magnetization.

次に、情報の記録を行なう前に、光磁気ディスクに対
して、現在行なわれている初期化(情報の記録を行う前
に、予め、磁性膜全体を一様に同じ方向に磁化させるこ
とをいう。)方法について説明する。
Next, before recording information, the magneto-optical disk is initialized (currently, the entire magnetic film is uniformly magnetized in the same direction before recording information). The method will be described.

これには2つの方法がある。 There are two ways to do this.

第1の方法について、第13図を用いて説明する。 The first method will be described with reference to FIG.

情報の記録を行う前に、まず、一定磁場の下で、無変
調のビームスポットを案内溝1002に沿って、磁性膜1004
上を一周走らせながら、ランド部1007を加熱し、磁性膜
1004のランド部1007の磁化の向きをそろえる。これによ
り、新たに記録した部分の磁化の方向と区別することが
できる。
Before recording the information, first, under a constant magnetic field, an unmodulated beam spot is guided along the guide groove 1002 by the magnetic film 1004.
While running over the top, the land 1007 is heated and the magnetic film
The magnetization directions of the land portions 1007 of 1004 are aligned. Thereby, it is possible to distinguish the magnetization direction from the newly recorded portion.

しかし、磁性膜1004のなかで、初期化されないため磁
化の方向のそろっていない案内溝1002は、反射されるレ
ーザビーム1005の偏向面の回転角が不均一になる原因と
なるので、情報再生時にノイズ発生源となる問題があ
る。
However, in the magnetic film 1004, the guide groove 1002, which is not initialized because the magnetization direction is not initialized, causes the rotation angle of the deflection surface of the reflected laser beam 1005 to become non-uniform. There is a problem that is a source of noise.

次に、第2の方法について説明する。 Next, the second method will be described.

上記第1の方法の問題点からわかるように、情報の記
録を行う前には、あらかじめ磁性膜全体が一様に同じ方
向に磁化されていることが望ましく、これにより、ノイ
ズ低減ができる。
As can be seen from the problem of the first method, it is desirable that the entire magnetic film is uniformly magnetized in the same direction before recording information, thereby reducing noise.

光磁気ディスクの磁性膜の初期化方法としては、特開
平1−227242号公報に記載のように、プラスチックある
いはガラスを基板とした光磁気ディスク全体に対し、予
熱後、Xeフラッシュランプの閃光を短時間照射すること
により、磁性膜をキュリー温度に加熱するとともに、外
部から一様な磁場を印加し、磁化の向きをそろえる方法
が知られている。
As a method for initializing a magnetic film of a magneto-optical disk, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-227242, after preheating the entire magneto-optical disk having a plastic or glass substrate, the flash of a Xe flash lamp is shortened. There is known a method in which a magnetic film is heated to the Curie temperature by irradiating with time, and a uniform magnetic field is applied from the outside to align the magnetization directions.

この方法においては、短時間で、光磁気ディスク全域
を一括初期化させ、生産性を向上するために、Xeフラッ
シュランプなどのフラッシュランプが必要であり、光磁
気ディスクの全体が、加熱・冷却される。
In this method, a flash lamp such as a Xe flash lamp is required to collectively initialize the entire area of the magneto-optical disk in a short time and improve productivity, and the entire magneto-optical disk is heated and cooled. You.

[発明が解決しようとする課題] 一般に、磁性膜のような無機材料と、PC基板のような
有機材料とを密着させた光磁気ディスクは、加熱・冷却
を繰り返すと、両者の熱膨張率が大きく異なるので、無
機材料と有機材料との界面に熱応力が生じることが知ら
れている。
[Problems to be Solved by the Invention] Generally, a magneto-optical disk in which an inorganic material such as a magnetic film and an organic material such as a PC substrate are adhered to each other, when heating and cooling are repeated, the coefficient of thermal expansion of both materials increases. It is known that thermal stress occurs at an interface between an inorganic material and an organic material because of a great difference.

また、光磁気ディスクの基板として、プラスチック、
特に、PCを用いた基板は、光弾性係数が大きいので、基
板の残留応力、あるいは、基板にかかる外部応力が原因
で、光学的異方性が大きくなるという性質があり、この
ため、基板に応力がかかると、基板の複屈折が大きく変
化する。
In addition, plastic,
In particular, the substrate using PC has a large photoelastic coefficient, and therefore has the property that the optical anisotropy increases due to the residual stress of the substrate or external stress applied to the substrate. When stress is applied, the birefringence of the substrate changes significantly.

従って、PC基板を用いた光磁気ディスクを、閃光を利
用して初期化する場合においては、磁性膜の熱膨張の程
度と、磁性膜からの熱伝播に起因した保護膜およびPC基
板の熱膨張の程度とが、それぞれ異なるので、閃光が照
射され磁性膜が昇温し、その後、冷却する過程で、これ
らの膜の間に熱応力が生じ、室温では、その熱応力が残
留応力として残る。この残留応力は、磁性膜の端部およ
びその近傍に生じやすい。
Therefore, when a magneto-optical disk using a PC substrate is initialized by using flash light, the degree of thermal expansion of the magnetic film and the thermal expansion of the protective film and the PC substrate caused by heat propagation from the magnetic film Are different from each other, a thermal stress is generated between these films in the process of irradiating the flash light to raise the temperature of the magnetic film and then cooling, and at room temperature, the thermal stress remains as a residual stress. This residual stress is likely to occur at the end of the magnetic film and in the vicinity thereof.

上記従来技術においては、磁性膜を初期化するとき、
光磁気ディスクの全域を短時間に一括して加熱するの
で、冷却過程において、各膜の境界や基板内に熱応力が
発生し、冷却後は、熱応力が残留応力として残り、その
結果、基板に、この応力が作用し、基板の複屈折が増加
するので、偏向面の乱れを生じ、再生時のノイズの原因
となるという問題がある。
In the above prior art, when initializing the magnetic film,
Since the entire area of the magneto-optical disk is heated collectively in a short period of time, thermal stress is generated at the boundary of each film and in the substrate during the cooling process, and after cooling, the thermal stress remains as residual stress, and as a result, the substrate In addition, since this stress acts to increase the birefringence of the substrate, there is a problem that the deflection surface is disturbed and causes noise during reproduction.

また、この残留応力が、基板や磁性膜などの引張強度
を超えると、それらには、クラックが発生し、その光磁
気ディスクは、不良品になるという問題がある。
Further, if the residual stress exceeds the tensile strength of the substrate, the magnetic film, or the like, cracks are generated in them, and there is a problem that the magneto-optical disk becomes defective.

さらに、光磁気ディスクを部分的に初期化した場合で
は、初期化する領域と初期化しない領域の境界部におい
ては、応力が集中するために、クラックの発生にまで至
らなくても、PC基板の複屈折が増加するという問題があ
る。
Furthermore, when the magneto-optical disk is partially initialized, stress concentrates at the boundary between the area to be initialized and the area not to be initialized. There is a problem that birefringence increases.

なお、上記問題は、上述したように磁性膜の端部およ
びその近傍に、残留応力が生じやすいので、特に、この
場所に発生することがほとんどである。
Note that the above-described problem is likely to occur particularly at this location because a residual stress is likely to be generated at and near the end of the magnetic film as described above.

本発明は、光磁気記録媒体の初期化過程に発生する残
留応力を低減することにより、クラックの発生を防止
し、また、基板の複屈折を低減することにより、ノイズ
を低減し、光磁気記録媒体の品質を向上させるための、
光磁気記録媒体の初期化方法、および、その方法で製造
した光磁気記録媒体を提供することを目的とする。
The present invention reduces the residual stress generated in the process of initializing a magneto-optical recording medium, thereby preventing the occurrence of cracks, and reducing the birefringence of the substrate, thereby reducing noise and improving magneto-optical recording. To improve the quality of the media,
An object of the present invention is to provide a method for initializing a magneto-optical recording medium and a magneto-optical recording medium manufactured by the method.

[課題を解決するための手段] 上記目的は、磁性体のうち、データを記録再生する領
域以外の部分に初期化しない領域を設け、他は全て初期
化した光磁気記録媒体により達成できる。
[Means for Solving the Problems] The above object can be achieved by a magneto-optical recording medium in which a non-initialized region is provided in a portion of a magnetic material other than a region for recording and reproducing data, and all other portions are initialized.

また、磁性体が初期化される領域は、データを記録再
生する領域よりも広い光磁気記録媒体により達成でき
る。
The area where the magnetic material is initialized can be achieved by a magneto-optical recording medium wider than the area for recording and reproducing data.

また、磁性体のうち、データを記録再生する領域以外
の部分に初期化しない領域を設け、他は全て初期化する
とともに、データを記録再生する領域よりも広く領域の
磁性体を初期化する光磁気記録媒体の初期化方法により
達成できる。
In addition, a non-initializing region is provided in a portion of the magnetic material other than the data recording / reproducing region, and all other components are initialized, and the magnetic material in a region wider than the data recording / reproducing region is initialized. This can be achieved by a method for initializing a magnetic recording medium.

[作 用] 本発明の作用は、第15図を用いて説明する。[Operation] The operation of the present invention will be described with reference to FIG.

同図は、光磁気記録媒体の一例である光磁気ディスク
105の平面図を示す。
The figure shows a magneto-optical disk as an example of a magneto-optical recording medium.
FIG. 105 shows a plan view of 105.

同図において、円盤状の基板の中心104には、この光
磁気ディスクを回転するモータ(図示せず)の軸孔があ
る。
In the figure, at the center 104 of the disk-shaped substrate, there is a shaft hole of a motor (not shown) for rotating this magneto-optical disk.

基板と同心円状に、磁性膜の領域100がある。 Concentrically with the substrate, there is a region 100 of the magnetic film.

磁性膜の領域100より、狭い領域を初期化する領域101
とする。
A region 101 for initializing a smaller region than the region 100 of the magnetic film
And

さらに、初期化する領域101より狭い領域をデータ記
録再生領域102とする。
Further, an area smaller than the area 101 to be initialized is defined as a data recording / reproducing area 102.

なお、保護膜は、図示していない。 The protective film is not shown.

この光磁気ディスク105の初期化を行なう場合におい
て、同図に示すように、磁性膜の内周106および外周107
から一定の領域は、初期化しないようにする。
When the magneto-optical disk 105 is initialized, as shown in FIG.
From a certain area is not initialized.

すなわち、同図に示すように、初期化する領域101
は、磁性膜の領域100より内側の狭い領域とする。
That is, as shown in FIG.
Is a narrow region inside the region 100 of the magnetic film.

従って、初期化においては、上記磁性膜の内周106お
よび外周107から一定の領域に存在する磁性膜は、加熱
されないので、この領域には、加熱・冷却による熱応力
は生じない。
Therefore, in the initialization, the magnetic film existing in a certain region from the inner periphery 106 and the outer periphery 107 of the magnetic film is not heated, and no thermal stress is generated in this region by heating and cooling.

その結果、上記領域の保護膜やPC基板などにおける、
クラックの発生は低減できる。
As a result, in the protective film and the PC substrate in the above-described region,
The occurrence of cracks can be reduced.

また、磁性膜のなかで、初期化する領域101と初期化
しない領域108との境界を、データ記録再生領域102か
ら、所定の距離以上離すと、データ記録再生領域102の
内周と外周の近傍は、上記境界からの熱応力の伝播がな
い。
When the boundary between the area 101 to be initialized and the area 108 not to be initialized in the magnetic film is separated from the data recording / reproducing area 102 by a predetermined distance or more, the vicinity of the inner and outer peripheries of the data recording / reproducing area 102 is reduced. Has no thermal stress propagation from the boundary.

その結果、データ記録再生領域102におけるPC基板の
複屈折は増加せず、再生のための光の位相差は生じない
ので、再生時におけるノイズの増加は防止できる。
As a result, the birefringence of the PC substrate in the data recording / reproducing area 102 does not increase, and a phase difference of light for reproduction does not occur, so that an increase in noise during reproduction can be prevented.

[実施例] 次に、図面を用いて、本発明の実施例について説明す
る。
Example Next, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

(第1実施例) 第1図は、第1実施例の光磁気ディスク初期化方法を
断面図で説明する説明図を示す。
First Embodiment FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining a method of initializing a magneto-optical disk according to a first embodiment in a cross-sectional view.

この初期化装置50としては、Xeフラッシュランプを用
いた周知の露光装置(理想科学工業株式会社、商品名:
ゼノファックス)を使用し、この装置は、2つの磁極6
a,6b、Xeフラッシュランプ110、反射板8、ガラス板な
どを備えて構成され、磁場31を、同図の矢印Aで示す方
向に、そして、閃光32を、同図の矢印Bで示す方向に、
光磁気ディスク全体に、一様に与えることができる構造
になっている。
As the initialization device 50, a known exposure device using an Xe flash lamp (Riso Kagaku Corporation, trade name:
Xenofax), this device has two magnetic poles 6
a, 6b, a Xe flash lamp 110, a reflection plate 8, a glass plate, etc., and a magnetic field 31 is directed in a direction indicated by an arrow A in FIG. To
The structure can be applied uniformly to the entire magneto-optical disk.

また、光磁気ディスク10な、直径5.25インチ、厚さ1.
2mmの円盤形のポリカーボネート樹脂基板(以下、基板
と称す)1と、SiO2をターゲットとする周知技術のスパ
ッタリング法を用いて、その基板10の一方の面に形成し
た厚さ100nmの2層の保護膜2a,2bと、Tb−Fe−Co系合金
のターゲットとする周知技術のスパッタリングを用い
て、その保護膜2a,2bの間に形成した厚さ100nmの磁性膜
3とを備えて構成されている。
Also, the magneto-optical disk 10 has a diameter of 5.25 inches and a thickness of 1.
A 2 mm disc-shaped polycarbonate resin substrate (hereinafter, referred to as a substrate) 1 and a two-layer 100 nm-thick layer formed on one surface of the substrate 10 using a well-known sputtering method targeting SiO 2 . Protective films 2a and 2b, and a magnetic film 3 having a thickness of 100 nm formed between the protective films 2a and 2b by using a well-known sputtering method as a target of a Tb-Fe-Co alloy. ing.

なお、磁性膜3の室温での保磁力は3K(Oe)である。 The coercive force of the magnetic film 3 at room temperature is 3K (Oe).

次に、上記の初期化装置を用いて、光磁気ディスク10
を初期化する場合において、いかなる範囲を初期化すれ
ば、本発明の目的が達成できるかを調べるための実験に
ついて説明する。
Next, using the above-described initialization device, the magneto-optical disk 10
An experiment will be described for examining what range can be initialized to achieve the object of the present invention.

まず、光磁気ディスク10のデータ記録再生領域4に対
してのみ、一定の磁場の下で、Xeフラッシュランプ110
の閃光を照射し、初期化する。
First, the Xe flash lamp 110 is applied only to the data recording / reproducing area 4 of the magneto-optical disk 10 under a constant magnetic field.
Irradiates the flash and initializes.

なお、光磁気ディスク10の一定領域だけに、Xeフラッ
シュランプ110の閃光を照射する方法には、同図におけ
る、保護膜2bの下側表面に、マスク(図示せず)をする
方法や、Xeフラッシュランプ110の反射板8の一定領域
をマスク(図示せず)する方法などがある。
The method of irradiating the flash of the Xe flash lamp 110 only to a certain area of the magneto-optical disk 10 includes a method of masking the lower surface of the protective film 2b (not shown) in FIG. There is a method of masking a certain area of the reflector 8 of the flash lamp 110 (not shown).

ここで、Xeフラッシュランプ110には、電源(図示せ
ず)から2000Jのエネルギーを供給し、外部トリガ回路
(図示せず)から、2msecの発光時間でエネルギーを放
射する。
Here, energy of 2000 J is supplied to the Xe flash lamp 110 from a power supply (not shown), and energy is emitted from an external trigger circuit (not shown) for a light emission time of 2 msec.

また、磁場31の強さは、磁極のコイルに流す電流の大
きさにより変化できるようにする。
The strength of the magnetic field 31 can be changed according to the magnitude of the current flowing through the coil of the magnetic pole.

本実施例では、その磁場31の強さを400(Oe)に固定
し、閃光が照射されている間、同じ方向に、一様に、光
磁気ディスク10に磁場31を印加できるようにする。
In the present embodiment, the strength of the magnetic field 31 is fixed at 400 (Oe) so that the magnetic field 31 can be uniformly applied to the magneto-optical disk 10 in the same direction while the flash is being irradiated.

次に、閃光が照射される領域5を、光磁気ディスク回
転軸側11に向かって1mmずつ広げてゆき、そのつど、デ
ータ記録再生領域4の最も内側の周(以下、最内周51と
いう。)付近の基板1の複屈折を測定した。
Next, the area 5 to be irradiated with the flash is expanded by 1 mm toward the magneto-optical disk rotation axis side 11 each time, and each time, the innermost circumference of the data recording / reproducing area 4 (hereinafter referred to as the innermost circumference 51). ) The birefringence of the substrate 1 in the vicinity was measured.

その結果を、第2図を用いて説明する。 The result will be described with reference to FIG.

同図は、データ記録再生領域4の最内周51と、閃光が
照射された領域5の最内周52との距離の差を横軸にと
り、データ記録再生領域4の最内周51付近の複屈折変化
を表わしたものである。
In the figure, the horizontal axis represents the difference between the innermost circumference 51 of the data recording / reproducing area 4 and the innermost circumference 52 of the area 5 illuminated with flash light, and the vicinity of the innermost circumference 51 of the data recording / reproducing area 4 is plotted. This is a representation of birefringence change.

複屈折の測定は、波長830nmの半導体レーザーの収束
光を使用し、基板1の回転数を1800rpmにして行った。
The measurement of the birefringence was performed by using the convergent light of a semiconductor laser having a wavelength of 830 nm and setting the rotation speed of the substrate 1 to 1800 rpm.

第2図に示す実験結果から、データ記録再生領域4
と、閃光の照射領域5とが一致するほど、複屈折の変化
は大きいが、閃光の照射領域5が広くなるに従い、デー
タ記録再生領域4の最内周51付近の複屈折の変化は小さ
くなっていくことがわかる。
From the experimental results shown in FIG.
The more the flash irradiation area 5 matches, the greater the change in birefringence, but as the flash irradiation area 5 becomes wider, the change in birefringence near the innermost periphery 51 of the data recording / reproducing area 4 becomes smaller. You can see that it goes.

具体的には、初期化を行った場合において、データ記
録再生領域4の最内周51付近で基板の複屈折の変化を無
くすためには、閃光を照射する範囲を、データ記録再生
領域の最内周51より少なくとも1.0mm以上、望ましくは
3.0mm以上広くすればよいことがわかる。
Specifically, in the case where the initialization is performed, in order to eliminate the change in the birefringence of the substrate near the innermost periphery 51 of the data recording / reproducing area 4, the range in which the flash is applied is set to the maximum value in the data recording / reproducing area. At least 1.0 mm more than the inner circumference 51, preferably
It can be seen that it should be wider by 3.0 mm or more.

この理由は次のように考えられる。 The reason is considered as follows.

閃光の照射により、光磁気ディスク10に生ずる熱応力
は、閃光を照射する領域と、照射しない領域との境界部
に集中し、冷却後には、この境界部に残る残留応力が、
周囲に向かって、減少しながら伝播していくと考えられ
る。
The thermal stress generated in the magneto-optical disk 10 by the irradiation of the flash is concentrated on the boundary between the region where the flash is irradiated and the region where the light is not irradiated, and after cooling, the residual stress remaining at this boundary is
It is thought that it propagates while decreasing toward the surroundings.

従って、複屈折の変化を無くす方法としては、データ
記録再生領域の最内周51から、閃光を照射する領域と照
射しない領域との境界を遠ざける、言い換えれば、閃光
を照射する範囲を、データ記録再生領域より広くすれば
よいことがわかる。
Therefore, as a method of eliminating the change in birefringence, the boundary between the area to be irradiated with the flash and the area not to be irradiated is moved away from the innermost periphery 51 of the data recording / reproducing area. It can be seen that it is sufficient to make the area wider than the reproduction area.

また、上記と同じ理由により、外周については、デー
タ記録再生領域の最外周53より、外側に向かって1.0mm
以上離れた広い範囲を初期化すれば、データ記録再生領
域の最外周53付近の複屈折は変化しない。ただし、広く
しすぎると、データ記録再生領域が、実質的に狭くなる
ので、データ記録再生領域が狭くならない範囲にする。
Further, for the same reason as above, the outer circumference is 1.0 mm outward from the outermost circumference 53 of the data recording / reproducing area.
If a wide range separated as above is initialized, the birefringence near the outermost periphery 53 of the data recording / reproducing area does not change. However, if the width is too large, the data recording / reproducing area becomes substantially narrow.

次に、光磁気ディスク10に、閃光を照射した場合にお
ける、基板1、保護膜2、磁性膜3の間の、熱の発生お
よび熱の収支について説明する。
Next, heat generation and heat balance between the substrate 1, the protective film 2, and the magnetic film 3 when the magneto-optical disk 10 is irradiated with flash light will be described.

磁性膜3は、閃光の赤外波長領域のほとんどを吸収
し、発熱する。一方、閃光の発行スペクトルと、基板1
および保護膜2の吸収スペクトルとは合わないので、基
板1および保護膜2は、閃光を良く透過し、発熱はほと
んどない。
The magnetic film 3 absorbs most of the infrared wavelength region of the flash and generates heat. On the other hand, the flash emission spectrum and the substrate 1
Since the substrate 1 and the protective film 2 do not match the absorption spectrum of the protective film 2, the substrate 1 and the protective film 2 transmit the flash light well and generate little heat.

従って、初期化を行う場合においては、磁性膜3は、
閃光を吸収し、磁性膜3のキュリー温度前後まで昇温す
る。
Therefore, when performing initialization, the magnetic film 3
Absorbs the flash light and raises the temperature to around the Curie temperature of the magnetic film 3.

この結果、磁性膜3の温度は、200℃程度になるの
で、基板1の熱変形温度である130℃より高くなり、基
板1の閃光照射領域の周縁部だけではなく、全体の耐熱
性が問題になる。
As a result, the temperature of the magnetic film 3 becomes about 200 ° C., which is higher than the thermal deformation temperature of the substrate 1 of 130 ° C., and not only the peripheral portion of the flash irradiation area of the substrate 1 but also the entire heat resistance is a problem. become.

しかし、Xeフラッシュランプの発光時間は、0.5〜10m
sec程度であり、磁性膜3は昇温しても、その後の冷却
(放熱)が速いので、磁性膜3の昇温に起因した、基板
1の閃光照射領域の周縁部以外での熱変形は起こらな
い。また、保護膜2は無機材料でできており、一般に、
耐熱性が高く、熱変形は問題にはならないことが、本実
施例でわかった。
However, the emission time of the Xe flash lamp is 0.5 ~ 10m
Even if the temperature of the magnetic film 3 rises, the subsequent cooling (heat radiation) is fast, so that the thermal deformation of the substrate 1 other than the peripheral portion of the flash irradiation area of the substrate 1 due to the temperature rise of the magnetic film 3 is small. Does not happen. The protective film 2 is made of an inorganic material.
In this example, it was found that heat resistance was high and thermal deformation was not a problem.

なお、本実施例では、Xeフラッシュランプを用いた
が、これに限らず、発光時間が0.5〜10msecの種々のフ
ラッシュランプを用いてもよく、例えば、ハロゲンラン
プを用いてもよい。
In this embodiment, the Xe flash lamp is used. However, the present invention is not limited to this, and various flash lamps having a light emission time of 0.5 to 10 msec may be used. For example, a halogen lamp may be used.

また、光磁気ディスク10への照射時間が0.5〜10msec
になるように、フラッシュランプの前面にシャッター
(図示せず)を設置してもよい。
The irradiation time on the magneto-optical disk 10 is 0.5 to 10 msec.
, A shutter (not shown) may be provided in front of the flash lamp.

また、本実施例ではPC基板を用いたが、他のプラスチ
ック基板、例えばPMMA基板を用いてもよく、例えば、ガ
ラス基板を用いてもよい。
Although a PC substrate is used in this embodiment, another plastic substrate, for example, a PMMA substrate may be used. For example, a glass substrate may be used.

また、本実施例では無機保護膜を形成したが、これに
限らず有機保護膜を形成してもよい。
Further, although the inorganic protective film is formed in this embodiment, the invention is not limited to this, and an organic protective film may be formed.

また、基板の下に記録媒体を形成し、その記録媒体の
下に保護膜を形成してもよい。
Alternatively, a recording medium may be formed below the substrate, and a protective film may be formed below the recording medium.

また、反射膜を設けたディスク構成でもよい。 Further, a disk configuration provided with a reflective film may be used.

また、保護膜を形成しなくてもよい。 Further, the protective film need not be formed.

本実施例によれば、初期化を行なう際に、データ記録
再生領域4の、最内周51と最外周53付近における基板の
複屈折の増加を防止することができるので、データ再生
時のノイズの発生を抑えることができ、再生C/Nが向上
するという効果がある。
According to the present embodiment, it is possible to prevent an increase in the birefringence of the substrate near the innermost periphery 51 and the outermost periphery 53 of the data recording / reproducing area 4 at the time of initialization. And the reproduction C / N is improved.

(第2実施例) 第3図は、第2実施例である、光磁気ディスク初期化
方法を説明するための説明図を示す。
Second Embodiment FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a method of initializing a magneto-optical disk according to a second embodiment.

同図には、矢印Gの方向である一定磁場60の下で、遮
光マスク(以下、マスクと称す)12を用いて、光磁気デ
ィスク10に、Xeフラッシュランプ(図示せず)の閃光61
を照射している様子が断面図で示されている。
In FIG. 1, a flash 61 of a Xe flash lamp (not shown) is applied to the magneto-optical disk 10 by using a light shielding mask (hereinafter, referred to as a mask) 12 under a constant magnetic field 60 in the direction of arrow G.
Is shown in a cross-sectional view.

この光磁気ディスク10の磁性膜3の周縁部およびその
近傍を覆うように、マスク12を保護膜2に密着させた
後、一定磁場60の下で、Xeフラッシュランプの閃光61を
保護膜2側から照射する。
After the mask 12 is brought into close contact with the protective film 2 so as to cover the peripheral portion of the magnetic film 3 of the magneto-optical disk 10 and the vicinity thereof, the flash 61 of the Xe flash lamp is irradiated with the protective film 2 under a constant magnetic field 60. Irradiate from

ここで、Xeフラッシュランプには、電源(図示せず)
から2000Jのエネルギーを供給し、外部トリガ回路(図
示せず)により2msecの発光時間でエネルギーを放射す
る。
Here, the Xe flash lamp has a power supply (not shown)
Supplies 2000J of energy and emits energy with an external trigger circuit (not shown) with a light emission time of 2msec.

また、磁場60は、磁性膜3の保磁力3KOeより小さい値
である400(Oe)に固定し、閃光61が照射されている
間、光磁気ディスク10に印加する。
The magnetic field 60 is fixed to 400 (Oe), which is smaller than the coercive force 3KOe of the magnetic film 3, and is applied to the magneto-optical disk 10 while the flash 61 is being irradiated.

このとき、磁性膜3の周縁部およびその近傍はマスク
12で覆い、閃光61が照射されないようするとともに、デ
ータ記録再生領域の全体あるいはそれより広い領域が露
出するようにし、この部分には、閃光61が照射されるよ
うにする。また、このとき、磁場60は、マスク12で覆わ
れた部分と覆われない部分とで差が無く、磁性膜3に対
し、一様に、同じ方向に印加する。
At this time, the periphery of the magnetic film 3 and its vicinity are masked.
12 so that the flash 61 is not irradiated, and the entire data recording / reproducing area or a wider area is exposed, and the flash 61 is irradiated to this portion. At this time, the magnetic field 60 is applied uniformly to the magnetic film 3 in the same direction with no difference between the portion covered by the mask 12 and the portion not covered.

上記のようにして製造した光磁気ディスク10を、第4
図を用いて説明する。
The magneto-optical disk 10 manufactured as described above is
This will be described with reference to the drawings.

第4図は、光磁気ディスク10の平面図を示す。 FIG. 4 is a plan view of the magneto-optical disk 10.

基板1に形成した全磁性膜3に対し、閃光61および磁
場60が与えられた磁性膜3aは、磁場60の方向に沿って一
様に磁化される。一方、閃光61が照射されない磁性膜3
b,3cは、加熱されず、保磁力は大きい状態のままなの
で、磁場60の影響を全く受けず、磁化方向は磁場60を印
加する前と変わらない。なお、13はデータ記録再生領域
を示す。
The magnetic film 3a to which the flash 61 and the magnetic field 60 are applied to the entire magnetic film 3 formed on the substrate 1 is uniformly magnetized along the direction of the magnetic field 60. On the other hand, the magnetic film 3 not irradiated with the flash 61
Since b and 3c are not heated and have a large coercive force, they are not affected by the magnetic field 60 at all, and the magnetization direction is the same as before applying the magnetic field 60. Reference numeral 13 denotes a data recording / reproducing area.

また、遮光マスク12で覆われる磁性膜3の周縁部の範
囲が0.5mm未満であると、閃光61を照射したときに、磁
性膜3の周縁部およびその近傍において、保護膜2とPC
基板1とにわたる範囲でクラックが発生するが、0.5mm
以上であると発生しないことが実験から確認された。
Further, when the range of the peripheral portion of the magnetic film 3 covered with the light shielding mask 12 is less than 0.5 mm, when the flash 61 is irradiated, the protective film 2 and the PC are formed at the peripheral portion of the magnetic film 3 and in the vicinity thereof.
Cracks occur in the range over substrate 1 but 0.5 mm
Experiments have confirmed that the above does not occur.

なお、本実施例では、Xeフラッシュランプを用いた
が、これに限らず、発光時間が0.5〜10msecの種々のフ
ラッシュランプを用いてもよく、例えば、ハロゲンラン
プを用いてもよい。
In this embodiment, the Xe flash lamp is used. However, the present invention is not limited to this, and various flash lamps having a light emission time of 0.5 to 10 msec may be used. For example, a halogen lamp may be used.

また、照射時間が0.5〜10msecになるようにフラッシ
ュランプの前面にシャッタ(図示せず)を設置してもよ
い。
Further, a shutter (not shown) may be provided in front of the flash lamp so that the irradiation time is 0.5 to 10 msec.

また、本実施例ではPC基板を用いたが、他のプラスチ
ック基板、例えばPMMA基板を用いてもよく、ガラス基板
を用いてもよい。
In this embodiment, the PC substrate is used, but another plastic substrate, for example, a PMMA substrate may be used, or a glass substrate may be used.

また、本実施例では無機保護膜を形成したが、これに
限らず有機保護膜を形成してもよい。
Further, although the inorganic protective film is formed in this embodiment, the invention is not limited to this, and an organic protective film may be formed.

また、基板1の下に磁性膜3を形成し、その磁性膜3
の下に保護膜2を形成してもよい。
Further, a magnetic film 3 is formed under the substrate 1 and the magnetic film 3 is formed.
The protective film 2 may be formed below.

また、反射膜(図示せず)を設けたディスク構成でも
よい。
Also, a disk configuration provided with a reflective film (not shown) may be used.

また、保護膜2を形成しなくてもよい。 Further, the protective film 2 need not be formed.

本実施例の光磁気ディスクの初期化方法よれば、磁性
膜の周縁部およびその近傍を加熱しないようにしたの
で、上記周縁部における熱応力の発生を防止でき、基板
・保護膜におけるクラックの発生を防ぎ、光磁気ディス
クの信頼性が向上するという効果がある。
According to the method for initializing the magneto-optical disk of the present embodiment, the peripheral portion of the magnetic film and the vicinity thereof are not heated, so that the occurrence of thermal stress at the peripheral portion can be prevented, and the generation of cracks in the substrate / protective film can be prevented. And the reliability of the magneto-optical disk is improved.

(第3実施例) 第5図は、本実施例の光磁気ディスク初期化方法を説
明するための説明図である。
Third Embodiment FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining a magneto-optical disk initialization method according to the present embodiment.

同図は、一定磁場70の下で、マスク7を用いて、光磁
気ディスク10にXeフラッシュランプ(図示せず)の閃光
71を矢印B方向に照射している様子を断面図で示す。
The figure shows a flash of a Xe flash lamp (not shown) on a magneto-optical disk 10 using a mask 7 under a constant magnetic field 70.
The state of irradiating 71 in the direction of arrow B is shown in a sectional view.

この光磁気ディスク72は、第2実施例の光磁気ディス
ク10を2枚貼りあわせ、1枚の光磁気ディスク72とした
ものであり、基板1a,1b、保護膜2a,2b、磁性膜3a,3bを
備えて構成されている。
This magneto-optical disk 72 is obtained by bonding two magneto-optical disks 10 of the second embodiment to form one magneto-optical disk 72, and includes substrates 1a and 1b, protective films 2a and 2b, and magnetic films 3a and 3a. 3b.

これらを不透明な接着剤14を用いて、同図に示すよう
に、基板1a,1bが外側になるように、向かいあわせて貼
りあわせる。
These are adhered to each other using an opaque adhesive 14 so that the substrates 1a and 1b face outward as shown in FIG.

まず、この光磁気ディスク72の一方の基板1aに、マス
ク7を密着し、その基板1a側から、閃光71を照射し、初
期化を行なう。
First, the mask 7 is brought into close contact with one substrate 1a of the magneto-optical disk 72, and a flash 71 is irradiated from the substrate 1a side to perform initialization.

その結果、閃光71が照射された側の光磁気ディスク10
aにおいて、マスク7で覆われずに露出した領域の磁性
膜3aは磁場70の方向に一様に磁化され、マスク7で覆わ
れた領域の磁性膜3aは、加熱されず、保磁力が低下しな
いので、磁場70の影響を全く受けず、磁化方向は磁場70
を印加する前と変わらない。
As a result, the magneto-optical disk 10 on the side irradiated with the flash 71
In a, the magnetic film 3a in the region exposed without being covered by the mask 7 is uniformly magnetized in the direction of the magnetic field 70, and the magnetic film 3a in the region covered by the mask 7 is not heated, and the coercive force is reduced. Is not affected by the magnetic field 70 at all, and the magnetization direction is
Is the same as before.

一方、閃光71が照射されない側の光磁気ディスク10b
は、磁性膜3bの温度が上昇しない。そのため、保磁力が
低下しないので、磁場70の影響を全く受けず、磁化方向
は磁場70を印加する前と変わらない。
On the other hand, the magneto-optical disk 10b on the side where the flash 71 is not irradiated
Does not increase the temperature of the magnetic film 3b. Therefore, since the coercive force does not decrease, it is not affected by the magnetic field 70 at all, and the magnetization direction is the same as before applying the magnetic field 70.

次に、光磁気ディスク72を、最初の状態と上下を逆に
して、最初と同様に初期化を行ったところ、閃光71が照
射された側の光磁気ディスク10bで、磁性膜3bは磁場70
の方向に沿って、一様に磁化された。このとき、閃光71
が照射されない側の光磁気ディスク10aの磁性膜3aは、
加熱されず、保磁力は低下しないので、磁場70の影響を
全く受けず、磁化方向は変わらない。
Next, when the magneto-optical disk 72 was initialized upside down from the initial state in the same way as the first, the magneto-optical disk 10b on the side where the flash 71 was irradiated, the magnetic film 3b
, And was uniformly magnetized. At this time, flash 71
The magnetic film 3a of the magneto-optical disk 10a that is not irradiated with
Since it is not heated and its coercive force does not decrease, it is not affected by the magnetic field 70 at all and its magnetization direction does not change.

また、磁性膜3a,3bの周縁部およびその近傍における
保護膜2a,2bとPC基板1a,1bとにわたる範囲で、クラック
などの発生はない。
Further, cracks and the like do not occur in the range between the protective films 2a and 2b and the PC substrates 1a and 1b in the peripheral portions of the magnetic films 3a and 3b and in the vicinity thereof.

本実施例の光磁気ディスク初期化方法によれば、2枚
の光磁気ディスク10a,10bを貼りあわせた後でも、1枚
ずつ光磁気ディスクを初期化することができるという効
果がある。
According to the magneto-optical disk initialization method of this embodiment, there is an effect that the magneto-optical disks can be initialized one by one even after the two magneto-optical disks 10a and 10b are bonded.

(第4実施例) 本実施例は、2層構造の磁性膜を初期化する方法につ
いての実施例である。
(Fourth Embodiment) This embodiment is an embodiment of a method for initializing a magnetic film having a two-layer structure.

第6図は、本実施例による光磁気ディスク50の初期化
方法を説明するための説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram for explaining a method of initializing the magneto-optical disk 50 according to the present embodiment.

同図は、一定磁場80の下で、光磁気ディスク50に、Xe
フラッシュランプ(図示せず)の閃光81を、矢印B方向
に照射している様子を示す。
The figure shows that the Xe
A state in which a flash 81 of a flash lamp (not shown) is irradiated in the direction of arrow B is shown.

光磁気ディスク50は、直径5.25インチ、厚さ1.2mmの
円盤形のポリカーボネート樹脂基板(以下、基板と称
す)1と、この基板1の下側に、SiO2ターゲットを用い
た公知のスパッタリング方法を用いて形成した厚さ80nm
の保護膜2と、Tb−Fe−Co系合金ターゲット、および、
Tb−Dy−Fe−Co系合金ターゲットとを用いて、公知のス
パッタリング方法により、それぞれ厚さ20nmのTb−Fe−
Co系の磁性膜15および厚さ60nmのTb−Dy−Fe−Co系の磁
性膜16を二層連続して形成した磁性膜を順次積層して構
成されている。
The magneto-optical disk 50 is made of a disc-shaped polycarbonate resin substrate (hereinafter, referred to as a substrate) 1 having a diameter of 5.25 inches and a thickness of 1.2 mm, and a known sputtering method using an SiO 2 target below the substrate 1. 80nm thickness formed using
Protective film 2, a Tb-Fe-Co alloy target, and
Using a Tb-Dy-Fe-Co alloy target, by a known sputtering method, a Tb-Fe-
It is formed by sequentially laminating a magnetic film formed by continuously forming two layers of a Co-based magnetic film 15 and a Tb-Dy-Fe-Co-based magnetic film 16 having a thickness of 60 nm.

磁性膜15のキュリー温度をT1=200(℃)、室温での
保磁力をHc1=5K(Oe)、 記録媒体16のキュリー温度をT2=300(℃)、室温で
の保磁力をHc2=3K(Oe)とする。
The Curie temperature of the magnetic film 15 is T 1 = 200 (° C.), the coercive force at room temperature is Hc 1 = 5 K (Oe), the Curie temperature of the recording medium 16 is T 2 = 300 (° C.), and the coercive force at room temperature is Hc 2 = 3K (Oe).

この結果、次に示すような関係になる。 As a result, the following relationship is obtained.

T1<T2, Hc1>Hc2 この光磁気ディスク50の保護膜2の下側表面にマスク
7を密着し、磁性膜15、16の周縁部およびその近傍に閃
光81が照射されないようにして、一定磁場400(Oe)の
下で、Xeフラッシュランプの閃光81を照射する。
T 1 <T 2 , Hc 1 > Hc 2 A mask 7 is adhered to the lower surface of the protective film 2 of the magneto-optical disk 50 so that the flash 81 is not irradiated to the peripheral portions of the magnetic films 15 and 16 and the vicinity thereof. Then, a flash 81 of a Xe flash lamp is irradiated under a constant magnetic field of 400 (Oe).

ここで、Xeフラッシュランプには、電源(図示せず)
から2000Jのエネルギーを供給し、外部トリガ回路(図
示せず)により2msecの発光時間でエネルギーを放射す
る。また、磁場80の強さは、磁極のコイル(図示せず)
に流す電流の大きさにより変化できるようにし、本実施
例では、400(Oe)に固定し、閃光81が照射されている
間、光磁気ディスク50に対し、一様に、同じ方向に印加
する。
Here, the Xe flash lamp has a power supply (not shown)
Supplies 2000J of energy and emits energy with an external trigger circuit (not shown) with a light emission time of 2msec. The strength of the magnetic field 80 is determined by the magnetic pole coil (not shown).
In this embodiment, the current is fixed at 400 (Oe), and the light is uniformly applied to the magneto-optical disk 50 in the same direction while the flash 81 is irradiated. .

次に、上記の結果を、第7図に示す。 Next, the above results are shown in FIG.

第7図は、第6図に示す光磁気ディスク50が、初期化
されたときの磁化の方向を断面図で説明する説明図を示
す。
FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining, in a sectional view, the direction of magnetization when the magneto-optical disk 50 shown in FIG. 6 is initialized.

同図において、磁性膜15、16の中の白抜き矢印17は、
磁化された方向を示す。他の番号は、第6図と同様なの
で、その説明は省略する。
In the same figure, white arrows 17 in the magnetic films 15 and 16 indicate
Indicates the direction of magnetization. Other numbers are the same as those in FIG. 6, and the description thereof is omitted.

閃光81が照射された結果、磁性膜15、16は、200℃ま
で加熱される。
As a result of the irradiation of the flash 81, the magnetic films 15, 16 are heated to 200 ° C.

この結果、磁性膜15は、そのキュリー温度近くまで加
熱されるので、基板に垂直な磁場80の方向に沿って一様
に磁化される。一方、磁性膜16は、そのキュリー温度付
近まで加熱されず、保磁力は低下しないので、磁場80の
影響を全く受けず、磁化方向は磁場80を印加する前と変
わらない。
As a result, the magnetic film 15 is heated to a temperature close to its Curie temperature, so that it is uniformly magnetized along the direction of the magnetic field 80 perpendicular to the substrate. On the other hand, the magnetic film 16 is not heated to the vicinity of its Curie temperature, and the coercive force does not decrease. Therefore, the magnetic film 16 is not affected by the magnetic field 80 at all, and the magnetization direction is the same as before applying the magnetic field 80.

また、マスク7で覆われ閃光81が照射されない磁性体
の部分は、保磁力が低下しないので、磁場80の影響を全
く受けず、磁化方向は磁場80を印加する前と変わらな
い。
Further, the portion of the magnetic material covered with the mask 7 and not irradiated with the flash 81 is not affected by the magnetic field 80 because the coercive force does not decrease, and the magnetization direction is the same as before applying the magnetic field 80.

また、磁性体15,16の周縁部およびその近傍におい
て、保護膜2とPC基板1とにわたる範囲で、クラックの
発生はない。
In addition, cracks do not occur in the range between the protective film 2 and the PC board 1 at and near the periphery of the magnetic bodies 15 and 16.

次に、第8図に示すように、磁場82を基板1の表面に
対し、斜めの方向Dから印加して、上記と同様の実験を
行った。
Next, as shown in FIG. 8, an experiment similar to the above was performed by applying a magnetic field 82 to the surface of the substrate 1 from an oblique direction D.

その結果、磁性膜15、16が磁化された方向を、第8図
の白抜き矢印18で示す。
As a result, the directions in which the magnetic films 15 and 16 are magnetized are indicated by white arrows 18 in FIG.

磁性膜15は、磁場82の方向に沿って、一様に磁化され
る。一方、磁性膜16は、保磁力が大きいため磁場82の影
響を全く受けず、磁化の方向は磁場82を印加する前と変
わらない。
The magnetic film 15 is uniformly magnetized along the direction of the magnetic field 82. On the other hand, since the magnetic film 16 has a large coercive force, it is not affected by the magnetic field 82 at all, and the magnetization direction is the same as before the magnetic field 82 is applied.

また、磁性膜15,16の周縁部およびその近傍におい
て、保護膜2とPC基板1とにわたる範囲で、クラックの
発生はない。
In addition, no crack is generated in the range between the protective film 2 and the PC board 1 in the peripheral portions of the magnetic films 15 and 16 and in the vicinity thereof.

次に、第9図を用いて、Xeフラッシュランプ(図示せ
ず)に、2500Jのエネルギーを供給し、2msecの発光時間
で、エネルギーを放射した場合について説明する。
Next, a case where energy of 2500 J is supplied to a Xe flash lamp (not shown) and light is emitted for a light emission time of 2 msec will be described with reference to FIG.

なお、磁場83は、400(Oe)に設定し、閃光81が照射
されている間、光磁気ディスク50に対し、一様に、矢印
Eで示す方向に印加した。
The magnetic field 83 was set to 400 (Oe), and was uniformly applied to the magneto-optical disk 50 in the direction indicated by the arrow E during the irradiation of the flash 81.

同図において、磁性膜15,16の白抜き矢印20は、磁化
された方向を示し、その他の番号は、第6図と同じであ
るので、その説明は省略する。
In this figure, the outline arrows 20 of the magnetic films 15 and 16 indicate the direction of magnetization, and the other numbers are the same as those in FIG.

閃光81を吸収した磁性膜15,16は300℃まで加熱され、
その結果、両者ともに、その保磁力が低下し、両者とも
に基板1面に垂直な磁場83の方向Eに沿って、一様に磁
化される。
The magnetic films 15, 16 absorbing the flash 81 are heated to 300 ° C.
As a result, in both cases, the coercive force is reduced, and both are uniformly magnetized along the direction E of the magnetic field 83 perpendicular to the surface of the substrate 1.

一方、マスク7で覆われ、閃光81が照射されない磁性
膜15,16の一部分は、加熱されず、保磁力の低下はない
ので、磁場83の影響を全く受けず、磁化方向は磁場83を
印加する前と変わらない。
On the other hand, the portions of the magnetic films 15 and 16 which are covered with the mask 7 and are not irradiated with the flash 81 are not heated and the coercive force is not reduced. The same as before.

また、磁性膜15,16の周縁部およびその近傍におい
て、保護膜2とPC基板1とにわたる範囲で、クラックの
発生はない。
In addition, no crack is generated in the range between the protective film 2 and the PC board 1 in the peripheral portions of the magnetic films 15 and 16 and in the vicinity thereof.

次に、第10図を用いて、磁性膜15と磁性膜16との間
に、界面の耐食性を向上させることを主な目的とした中
間層19として、窒化処理したTb−Fe−Co層をごく薄く形
成した光磁気ディスク51の初期化方法について説明す
る。
Next, referring to FIG. 10, a nitrided Tb-Fe-Co layer is provided between the magnetic film 15 and the magnetic film 16 as the intermediate layer 19 whose main purpose is to improve the corrosion resistance of the interface. A method of initializing a very thin magneto-optical disk 51 will be described.

光磁気ディスク51に対し、一定の磁場400(Oe)の下
で、Xeフラッシュランプ(図示せず)の閃光91を2000J
照射して、初期化する。
A flash 91 of a Xe flash lamp (not shown) is applied to the magneto-optical disk 51 under a constant magnetic field 400 (Oe) by 2000 J.
Irradiate and initialize.

その初期化の結果、磁性膜15,16が磁化された方向
を、第10図の白抜き矢印21で示す。
As a result of the initialization, directions in which the magnetic films 15 and 16 are magnetized are indicated by white arrows 21 in FIG.

閃光91を吸収した磁性膜15、16は、約200℃まで加熱
される。その結果、磁性膜15は、そのキュリー点付近ま
で加熱されるので、保磁力は低下し、基板面に垂直な磁
場90の方向Fに沿って、一様に磁化される。一方、磁性
膜16は、そのキュリー点付近まで加熱されず、保磁力が
大きいままであるので、磁場90の影響を全く受けず、磁
化方向は磁場90を印加する前と変わらない。
The magnetic films 15, 16 having absorbed the flash 91 are heated to about 200 ° C. As a result, the magnetic film 15 is heated to the vicinity of the Curie point, so that the coercive force decreases and the magnetic film 15 is uniformly magnetized along the direction F of the magnetic field 90 perpendicular to the substrate surface. On the other hand, the magnetic film 16 is not heated to the vicinity of its Curie point and has a large coercive force, so it is not affected by the magnetic field 90 at all, and the magnetization direction is the same as before the magnetic field 90 was applied.

また、マスク7で覆われた閃光91が照射されない磁性
膜15,16の一部分は、加熱されず、保磁力が大きいまま
であるので、磁場90の影響を全く受けず、磁化方向は磁
場90を印加する前と変わらない。
Further, the portions of the magnetic films 15 and 16 which are not irradiated with the flash light 91 covered with the mask 7 are not heated and have a large coercive force. It is the same as before applying.

また、磁性膜の周縁部およびその近傍において、保護
膜2とPC基板1とにわたる範囲で、クラックの発生はな
い。
In addition, cracks do not occur in the range between the protective film 2 and the PC substrate 1 at and around the periphery of the magnetic film.

本実施例では、磁場を保護膜側から基板側へ印加した
が、これに限らず、この逆方向でもよい。
In this embodiment, the magnetic field is applied from the protective film side to the substrate side. However, the present invention is not limited to this, and the magnetic field may be applied in the opposite direction.

また、本実施例では、中間層19として、窒化処理した
Tb−Fe−Co層を用いたが、これに限らず、他の処理方
法、他の磁性材料を用いてもよい。
In the present embodiment, as the intermediate layer 19, a nitriding treatment was performed.
Although the Tb-Fe-Co layer is used, the present invention is not limited to this, and another processing method or another magnetic material may be used.

さらに、中間層としては、SiO2,SiN等の無機材料を用
いてもよい。
Further, as the intermediate layer, an inorganic material such as SiO 2 or SiN may be used.

本実施例の光磁気ディスクの初期化方法によれば、2
層構造の磁性膜の各層を、別個に初期化することができ
る。
According to the method of initializing the magneto-optical disk of this embodiment, 2
Each layer of the magnetic film having a layer structure can be initialized separately.

なお、2層構造以上の多層構造の磁性膜を有する光磁
気ディスクに対しても、上記方法は適用できる。
The above method can be applied to a magneto-optical disk having a magnetic film having a multilayer structure of two or more layers.

(第5実施例) 第11図を用いて、第5実施例の光磁気ディスクについ
て説明する。
Fifth Embodiment A magneto-optical disk according to a fifth embodiment will be described with reference to FIG.

第11図は、本実施例の光磁気ディスクの平面図を示
す。
FIG. 11 is a plan view of the magneto-optical disk of this embodiment.

この平面図において、一番内側と外側の円周は基板の
内周47bと外周47aとをそれぞれ示し、磁性膜は、基板と
同心円であり、その幅は40で示される。また、磁性膜の
うち、その幅40の内側と外側の部分は、初期化しない領
域42,42であり、これらの初期化しない領域42,42に挾ま
れて、初期化する領域43がある。
In this plan view, the innermost and outermost circumferences indicate the inner circumference 47b and the outer circumference 47a of the substrate, respectively, and the magnetic film is concentric with the substrate, and its width is indicated by 40. In the magnetic film, portions inside and outside of the width 40 are uninitialized regions 42, 42, and there are regions 43 to be initialized sandwiched between the uninitialized regions 42, 42.

また、第14図に示すように、磁性膜の外周48aと内周4
8b、および、初期化する領域43と初期化しない領域42,4
2との境界部41を含むように、ピット列またはグルーブ
列が、一定の幅44,44をもって、帯状に形成されてい
る。
Further, as shown in FIG. 14, the outer circumference 48a and the inner circumference 4
8b, and the area 43 to be initialized and the areas 42, 4 not to be initialized
The pit row or the groove row is formed in a band shape with constant widths 44, 44 so as to include the boundary portion 41 with 2.

また、マスクを用いてレーザ光を遮光する場合の光の
まわり込み、および、初期化する領域43から初期化しな
い領域42へ熱伝播し、初期化しない領域42が昇温され、
初期化されるのを防止するために、このピット列または
グルーブ列の幅44,44は、0.5mm以上とし、磁性膜の外周
48aと内周48bと、境界41とを全て含むようにする。
In addition, when the laser light is shielded by using a mask, the light wraps around, and heat propagates from the initialized area 43 to the uninitialized area 42, and the temperature of the uninitialized area 42 is increased.
In order to prevent initialization, the width 44,44 of this pit row or groove row should be 0.5 mm or more, and
48a, the inner circumference 48b, and the boundary 41 are all included.

上記の構成とした場合の作用および効果について説明
する。
The operation and effect of the above configuration will be described.

ピット列またはグルーブ列の凹凸により、基板と、保
護膜および磁性膜との密着性が向上するので、昇温、冷
却の過程で生じる熱応力に対し、強くなり、次に示す耐
剥離試験においてわかるように、基板、保護膜、磁性膜
のそれぞれの界面で剥離が生じることは無く、信頼性が
向上される。
Due to the unevenness of the pit rows or groove rows, the adhesion between the substrate, the protective film and the magnetic film is improved. As described above, the separation does not occur at the respective interfaces of the substrate, the protective film, and the magnetic film, and the reliability is improved.

上記の剥離試験は、グルーブ列またはピット列を有し
ている基板と、これらのいずれをも有していない境面状
態の基板とを用いて、セロテープを用いる試験により、
両者の磁性膜の密着性を調べたものである。
The above-mentioned peeling test is performed using a substrate having a groove row or a pit row, and a substrate in a boundary state having neither of them, by a test using a cellophane tape.
This is an examination of the adhesion between the two magnetic films.

この試験の結果は、グルーブ列またはピット列を有し
ている基板には、磁性膜の剥離は全く起こらなかった
が、一方、境面状態の基板においては、面積にして約50
%の磁性膜の剥離が生じた。
The results of this test show that no peeling of the magnetic film occurred on the substrate having the groove rows or the pit rows, while the area of the substrate in the boundary state was about 50%.
% Of the magnetic film occurred.

(第6実施例) 第12図を用いて、第6実施例である光磁気ディスクの
初期化方法について説明する。
Sixth Embodiment A method for initializing a magneto-optical disk according to a sixth embodiment will be described with reference to FIG.

この光磁気ディスク34の初期化方法に用いる装置は、
アルゴンレーザビーム照射装置30と、このアルゴンレー
ザビーム照射装置30から照射されたアルゴンレーザビー
ム36を必要に応じて遮るシャッタ31と、光磁気ディスク
34に照射するアルゴンレーザビーム36の径を絞るレンズ
32と、このアルゴンレーザビーム36が照射される光磁気
ディスク34と、この光磁気ディスク34を回転するディス
ク回転モータ33と、図示していない磁場発生装置を備え
て構成されている。
An apparatus used for the method of initializing the magneto-optical disk 34 includes:
An argon laser beam irradiator 30; a shutter 31 for blocking an argon laser beam 36 emitted from the argon laser beam irradiator 30 as necessary;
A lens that narrows the diameter of the argon laser beam 36 that irradiates 34
32, a magneto-optical disk 34 irradiated with the argon laser beam 36, a disk rotating motor 33 for rotating the magneto-optical disk 34, and a magnetic field generator (not shown).

このアルゴンレーザビーム照射装置30は、出力400mW
のアルゴンレーザビーム36を照射することが可能であ
り、また、レンズ32の開口数(NA)は0.1である。ま
た、ディスク回転モーター33は、回転しながら矢印35の
方向に移動する構造になっている。
This argon laser beam irradiation device 30 has an output of 400 mW
And the numerical aperture (NA) of the lens 32 is 0.1. Further, the disk rotation motor 33 is structured to move in the direction of the arrow 35 while rotating.

この装置を用いて、光磁気ディスク34を初期化する方
法について説明する。
A method for initializing the magneto-optical disk 34 using this device will be described.

光磁気ディスク34を回転させながら、アルゴンレーザ
ビーム照射装置30からレーザービーム36を光磁気ディス
ク34に照射し、さらに、ステージを移動させることによ
り光磁気ディスクの半径方向にアルゴンレーザービーム
36を移動させる。
While rotating the magneto-optical disk 34, the argon laser beam irradiator 30 irradiates the magneto-optical disk 34 with the laser beam 36 from the argon laser beam irradiating device 30, and further moves the stage to move the argon laser beam in the radial direction of the magneto-optical disk.
Move 36.

このとき、400mWのアルゴンレーザービーム36を、直
接、光磁気ディスク34に照射するだけでは、磁性膜の温
度上昇は少ないので、印加磁場の大きさを非常に大きく
しなければ、初期化が不十分になる。
At this time, simply irradiating the magneto-optical disk 34 directly with the 400 mW argon laser beam 36 causes only a small increase in the temperature of the magnetic film. become.

そこで、開口数(NA)0.1のレンズ32を用いて、アル
ゴンレーザービーム36のスポットを約20μmに絞る。そ
して、光磁気ディスク34の磁性膜の一部分に、集中的
に、アルゴンレーザービーム36を照射し、その部分の温
度を上昇させ、初期化する。この方法を繰返し、必要と
する磁性膜の部分を初期化する。
Therefore, the spot of the argon laser beam 36 is narrowed to about 20 μm by using a lens 32 having a numerical aperture (NA) of 0.1. Then, a part of the magnetic film of the magneto-optical disk 34 is intensively irradiated with the argon laser beam 36 to raise the temperature of the part and initialize the part. This method is repeated to initialize a necessary portion of the magnetic film.

この結果、アルゴンレーザービーム36が照射された磁
性膜は、矢印Gで示す磁場100の方向に一様に磁化さ
れ、一方、アルゴンレーザービーム36が照射されない磁
性膜は、昇温せず、保磁力が大きいままなので、磁場10
0の影響を全く受けず、磁化方向は磁場100を印加する前
と変わらない。
As a result, the magnetic film irradiated with the argon laser beam 36 is uniformly magnetized in the direction of the magnetic field 100 indicated by the arrow G, while the magnetic film not irradiated with the argon laser beam 36 does not rise in temperature and has a coercive force. Remains large, so the magnetic field 10
It is not affected by 0 at all, and the magnetization direction is the same as before applying the magnetic field 100.

この方法では、アルゴンレーザービーム36を絞って、
光磁気ディスク34の一部にだけ照射しているので、熱応
力による基板の熱変形はまったく問題ないことが実験か
ら確認された。
In this method, squeeze the argon laser beam 36,
Experiments have confirmed that since only a part of the magneto-optical disk 34 is irradiated, there is no problem in thermal deformation of the substrate due to thermal stress.

従って、この方法を用いて、光磁気ディスク34のデー
タ記録再生領域より1.0mm以上広い領域の記録媒体を初
期化させた場合、データ記録再生領域で複屈折は増加し
ない。
Therefore, when this method is used to initialize a recording medium that is at least 1.0 mm wider than the data recording / reproducing area of the magneto-optical disk 34, the birefringence does not increase in the data recording / reproducing area.

また、光磁気ディスク34の磁性膜の端部から0.5mm以
上の領域に、アルゴンレーザービーム36を照射せずに、
磁性膜を形成したときの状態のままにした場合において
は、磁性膜の周縁部およびその近傍において、保護膜と
PC基板とにわたる範囲でクラックの発生はない。
Also, without irradiating the argon laser beam 36 to a region 0.5 mm or more from the end of the magnetic film of the magneto-optical disk 34,
In the case where the state in which the magnetic film was formed is maintained, the protective film and the protective film are formed at and around the periphery of the magnetic film.
There is no crack in the range extending to the PC board.

なお、本実施例では、アルゴンレーザーを用いたが、
これに限らず、ヘリウムネオン(He−Ne)レーザー、ヘ
リウムカドミウム(He−Cd)レーザー、または、半導体
レーザー、その他のレーザーを用いてもよい。
In this example, although an argon laser was used,
The invention is not limited thereto, and a helium neon (He-Ne) laser, a helium cadmium (He-Cd) laser, a semiconductor laser, or another laser may be used.

[発明の効果] 本発明によれば、光磁気記録媒体の磁性体を初期化す
る際に、初期化する領域をデータ記録再生領域から1.0m
m以上離すので、基板の複屈折増加を防止でき、ノイズ
が低減できるという効果がある。
[Effects of the Invention] According to the present invention, when the magnetic material of the magneto-optical recording medium is initialized, the area to be initialized is 1.0 m from the data recording / reproducing area.
Since the distance is at least m, an increase in the birefringence of the substrate can be prevented, and the noise can be reduced.

また、磁性体を備えて構成される光磁気記録媒体の周
縁部およびその近傍をマスクで覆い、少なくとも0.5mm
以上の領域に閃光が照射されないようにしたので、上記
周縁部およびその近傍において、保護膜とPC基板とにわ
たる範囲でクラックは発生せず、製品の品質が向上する
という効果がある。
Further, the periphery of the magneto-optical recording medium including the magnetic material and the vicinity thereof are covered with a mask, and at least 0.5 mm
Since the above-mentioned area is not irradiated with the flash light, cracks do not occur in the range between the protective film and the PC substrate in the peripheral portion and in the vicinity thereof, and the quality of the product is improved.

また、磁性膜の外周と内周、および、初期化する領域
と初期化しない領域との境界部を含むようにピット列ま
たはグルーブ列を、一定の幅をもって、帯状に形成した
ので、ピット列またはグルーブ列の凹凸により、基板、
保護膜、磁性膜との間の密着性が向上し、昇温、冷却の
過程で生じる熱応力に対し、強くなり、基板、保護膜、
磁性膜の界面で剥離が生じることは無く、製品の信頼性
が向上するという効果がある。
In addition, the pit row or groove row is formed in a band shape with a constant width so as to include a boundary between an outer circumference and an inner circumference of the magnetic film, and a boundary between a region to be initialized and a region not to be initialized. Due to the unevenness of the groove row, the substrate,
The adhesion between the protective film and the magnetic film is improved, and it becomes stronger against the thermal stress generated in the process of heating and cooling, and the substrate, the protective film,
Separation does not occur at the interface of the magnetic film, and there is an effect that the reliability of the product is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は光磁気ディスクの初期化方法の1例を説明する
説明図、第2図は複屈折の変化を表わすグラフ、第3図
は光磁気ディスクの製造方法を説明するための説明図、
第4図は光磁気ディスクの平面図、第5図は光磁気ディ
スクの初期化方法の1例を説明するための説明図、第6
図は光磁気ディスクの初期化方法の1例を説明するため
の説明図、第7図は第6図に示す光磁気ディスクが初期
化されたときの磁化の方向を説明するための説明図、第
8図は磁場を基板の表面に対し斜めの方向から印加する
場合を説明する説明図、第9図は磁場を基板の表面に対
し垂直の方向から印加する場合を説明する説明図、第10
図は記録媒体の間に中間層をごく薄く形成した光磁気デ
ィスクの初期化方法を説明するための説明図、第11図は
光磁気ディスクの平面図、第12図は光磁気ディスクの初
期化方法を説明するための説明図、第13図は光磁気ディ
スクにレーザビームが照射される様子を説明する説明
図、第14図は光磁気記録ディスクに設けるピット列とグ
ルーブ列を説明するためにピット列とグルーブ列とを拡
大して示した説明図、第15図は本発明の作用を説明する
ための光磁気ディスクの平面図である。 1,1001……基板、2,1003……保護膜、3,1004……磁性
膜、4、102……データ記録再生領域、5……閃光の照
射領域、7……マスク、10,34,50……光磁気ディスク、
14……接着剤、19……中間層、43,101……初期化する領
域、42,108……初期化しない領域、1005……レーザービ
ーム。
FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining an example of a method for initializing a magneto-optical disk, FIG. 2 is a graph showing a change in birefringence, FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a method for manufacturing a magneto-optical disk,
FIG. 4 is a plan view of the magneto-optical disk, FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining an example of a method of initializing the magneto-optical disk, and FIG.
FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining an example of a method of initializing the magneto-optical disk, FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining the direction of magnetization when the magneto-optical disk shown in FIG. 6 is initialized, FIG. 8 is an explanatory view for explaining a case where a magnetic field is applied from an oblique direction to the substrate surface, FIG. 9 is an explanatory view for explaining a case where a magnetic field is applied to a direction perpendicular to the substrate surface, and FIG.
FIG. 11 is an explanatory view for explaining a method of initializing a magneto-optical disk in which an intermediate layer is formed extremely thin between recording media, FIG. 11 is a plan view of the magneto-optical disk, and FIG. 12 is initialization of the magneto-optical disk FIG. 13 is an explanatory diagram for explaining a method, FIG. 13 is an explanatory diagram for explaining a state in which a laser beam is irradiated on a magneto-optical disk, and FIG. 14 is a diagram for explaining pit rows and groove rows provided on a magneto-optical recording disk. FIG. 15 is an enlarged explanatory view showing a pit row and a groove row, and FIG. 15 is a plan view of a magneto-optical disk for explaining the operation of the present invention. 1,1001, substrate, 2,1003, protective film, 3,1004, magnetic film, 4, 102, data recording / reproducing area, 5, flash light irradiation area, 7, mask, 10, 34, 50 ... magneto-optical disk,
14 ... adhesive, 19 ... intermediate layer, 43,101 ... area to be initialized, 42,108 ... area not to be initialized, 1005 ... laser beam.

Claims (13)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】磁性体と基板とを備えた構成される光磁気
記録媒体において、 磁性体が設けられている領域に、データを記録再生する
領域を設けると共に、磁性体領域の一部に初期化しない
領域を設け、該初期化しない領域を除く他の領域を初期
化した領域とし、 前記初期化した領域は、磁性体領域中において前記初期
化しない領域に囲まれて存在し、かつ、前記データを記
録再生する領域は、その領域を囲む周縁が前記初期化し
た領域を囲む周縁と重ならない状態で前記初期化した領
域内に存在することを特徴とする光磁気記録媒体。
1. A magneto-optical recording medium comprising a magnetic body and a substrate, wherein an area for recording and reproducing data is provided in an area where the magnetic body is provided, and an initial portion is provided in a part of the magnetic body area. A region not to be initialized is provided, and other regions except the region not to be initialized are defined as initialized regions, and the initialized region is surrounded by the non-initialized region in the magnetic material region, and The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the data recording / reproducing area exists in the initialized area so that a periphery surrounding the area does not overlap with a periphery surrounding the initialized area.
【請求項2】磁性体と基板とを備えて構成される光磁気
記録媒体において、 磁性体が設けられている領域に、その周縁部に沿って配
置される初期化しない領域と、その内側にあって初期化
されている領域と、初期化されている領域内にあって、
データを記録再生する領域とが設けられ、 磁性体が初期化されている領域の周縁部は、データを記
録再生する領域の周縁部より、この領域の外側へ少なく
とも1mmは離れていることを特徴とする光磁気記録媒
体。
2. A magneto-optical recording medium comprising a magnetic body and a substrate, wherein an area where the magnetic body is provided, a non-initialized area arranged along a peripheral edge thereof, and a And the area that is initialized and in the area that is initialized
An area for recording and reproducing data is provided, and the peripheral edge of the area where the magnetic material is initialized is at least 1 mm outside the peripheral area of the area for recording and reproducing data. Magneto-optical recording medium.
【請求項3】磁性体と基板とを備えて構成される光磁気
記録媒体において、 磁性体が設けられている領域に、データを記録再生する
領域と、データを記録再生する領域を含み、それよりも
広い初期化されている領域とを有し、 基板の中心から半径方向に、磁性体の内周、初期化され
ている領域の内周、データ記録再生領域の内周、データ
記録再生領域の外周、初期化されている領域の外周、お
よび、磁性体の外周の順に、それぞれの領域を囲む周縁
が他の領域を囲む周縁と重なり合わない状態で位置し、
磁性体の内周と初期化されている領域の内周との間、お
よび、初期化されている領域の外周と磁性体の外周との
間で、初期化しない領域として残されることを特徴とす
る光磁気記録媒体。
3. A magneto-optical recording medium comprising a magnetic body and a substrate, wherein the area provided with the magnetic body includes an area for recording and reproducing data and an area for recording and reproducing data. An inner area of the magnetic material, an inner area of the initialized area, an inner area of the data recording / reproducing area, and a data recording / reproducing area in a radial direction from the center of the substrate. The outer periphery of the region, the outer periphery of the region being initialized, and the outer periphery of the magnetic material, in the order of the periphery surrounding each region are positioned so as not to overlap with the periphery surrounding the other regions,
Between the inner circumference of the magnetic body and the inner circumference of the area to be initialized, and between the outer circumference of the area to be initialized and the outer circumference of the magnetic body, it is characterized as being left as an uninitialized area. Magneto-optical recording medium.
【請求項4】請求項3に記載の光磁気記録媒体におい
て、 磁性体が初期化されている領域の周縁部は、データを記
録再生する領域の周縁部より、この領域の外側へ少なく
とも1mmは離れていることを特徴とする光磁気記録媒
体。
4. The magneto-optical recording medium according to claim 3, wherein a peripheral portion of the area where the magnetic material is initialized is at least 1 mm outside the peripheral area of the data recording / reproducing area. A magneto-optical recording medium characterized by being separated.
【請求項5】磁性体と基板とを備えて構成される光磁気
記録媒体において、 磁性体が設けられている領域に、その周縁部に沿って配
置される初期化しない領域と、その内側にあって初期化
されている領域に、初期化されている領域内にあって、
データを記録再生する領域とが設けられ、かつ、磁性体
が初期化されている領域は、データを記録再生する領域
よりも広くするとともに、磁性体の周縁部と、磁性体の
初期化されている領域および初期化しない領域との境界
を含むように、グルーブ列またはピット列を形成するこ
とを特徴とする光磁気記録媒体。
5. A magneto-optical recording medium comprising a magnetic material and a substrate, wherein: a region where the magnetic material is provided; an uninitialized region arranged along a peripheral portion thereof; In the area being initialized and in the area being initialized,
An area where data is recorded / reproduced is provided, and the area where the magnetic material is initialized is wider than the area where data is recorded / reproduced, and the periphery of the magnetic substance and the magnetic substance are initialized. 1. A magneto-optical recording medium, wherein a groove row or a pit row is formed so as to include a boundary between a region where the recording is performed and a region not to be initialized.
【請求項6】請求項1,2,3,4および5のいずれか一項に
記載の光磁気記録媒体は、光磁気ディスクであることを
特徴とする光磁気記録媒体。
6. A magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the magneto-optical recording medium is a magneto-optical disk.
【請求項7】光照射と磁場印加による磁化とを同時に行
なう光磁気記録媒体の初期化方法において、 磁性体が設けられている領域に、その周縁部に沿って初
期化しない領域を残し、初期化しない領域を除く、それ
より内側の領域を全て初期化することを特徴とする光磁
気記録媒体の初期化方法。
7. A method for initializing a magneto-optical recording medium in which light irradiation and magnetization by applying a magnetic field are performed simultaneously, wherein an area not to be initialized is left in a region where a magnetic material is provided along a peripheral portion thereof. A method for initializing a magneto-optical recording medium, comprising initializing all areas inside the area except for the area not to be initialized.
【請求項8】光照射と磁場印加による磁化とを同時に行
なう光磁気記録媒体の初期化方法において、 磁性体が設けられている領域に、データを記録再生する
領域を設けると共に、磁性体領域の周縁部より内側で、
前記データを記録再生する領域を内側に含む領域につい
て初期化を行い、 前記初期化に際し、初期化を行った領域の外周と前記磁
性体が設けられている領域の周縁部との間に初期化しな
い領域を残すことを特徴とする光磁気記録媒体の初期化
方法。
8. A method for initializing a magneto-optical recording medium, comprising simultaneously irradiating light and magnetizing by applying a magnetic field, wherein an area for recording and reproducing data is provided in an area where the magnetic material is provided, and Inside the periphery,
Initialization is performed for an area including the area for recording and reproducing the data inside, and at the time of the initialization, initialization is performed between an outer periphery of the initialized area and a peripheral portion of the area where the magnetic body is provided. A method for initializing a magneto-optical recording medium, characterized by leaving a region not to be left.
【請求項9】光照射と磁場印加による磁化とを同時に行
なう光磁気記録媒体の初期化方法において、 磁性体が設けられている領域に、その周縁部に沿って配
置される初期化しない領域と、その内側にあって初期化
されている領域と、初期化されている領域内にあって、
データを記録再生する領域とを設け、かつ、データを記
録再生する領域よりも広い領域について磁性体を初期化
することを特徴とする光磁気記録媒体の初期化方法。
9. A method for initializing a magneto-optical recording medium for simultaneously irradiating light and magnetizing by applying a magnetic field, the method comprising the steps of: , The area that is inside and initialized, and the area that is initialized,
A method for initializing a magneto-optical recording medium, comprising: providing an area for recording and reproducing data; and initializing a magnetic material in an area wider than the area for recording and reproducing data.
【請求項10】光照射と磁場印加による磁化とを同時に
行なう光磁気記録媒体の初期化方法において、 遮光手段を用いて、磁性体の一部を、光照射しないこと
を特徴とする光磁気記録媒体の初期化方法。
10. A method for initializing a magneto-optical recording medium for simultaneously irradiating light and magnetizing by applying a magnetic field, wherein a part of a magnetic material is not irradiated with light using a light-shielding means. Media initialization method.
【請求項11】請求項1,2,3,4,5および6のいずれか一
項に記載の光磁気記録媒体を用いることを特徴とする記
憶装置。
11. A storage device using the magneto-optical recording medium according to any one of claims 1, 2, 3, 4, 5, and 6.
【請求項12】磁性体と基板とを備えて構成される光磁
気記録媒体の記録方法において、 磁性体が設けられている領域に、その周縁部に沿って配
置される初期化しない領域を残して、その内側を初期化
し、 前記初期化されている領域内にデータを記録し、 前記データの記録は、前記磁性体が初期化されている領
域がデータを記録再生する領域よりも広くなる領域内で
行うことを特徴とする光磁気記録媒体の記録方法。
12. A recording method for a magneto-optical recording medium comprising a magnetic material and a substrate, wherein an uninitialized region arranged along a peripheral portion is left in a region where the magnetic material is provided. Then, the inside is initialized, data is recorded in the initialized area, and the data is recorded in an area where the area in which the magnetic material is initialized is wider than the area for recording and reproducing data. A recording method for a magneto-optical recording medium, wherein the recording method is performed in a medium.
【請求項13】磁性体と基板とを備えて構成される光磁
気記録媒体の記録方法において、 磁性体が設けられている領域に、その周縁部に沿って配
置される初期化しない領域を残して、その内側を初期化
し、 前記初期化されている領域内にデータを記録し、 前記データの記録は、磁性体が初期化されている領域の
周縁部より少なくとも1mmは内側となる領域内に行うこ
とを特徴とする光磁気記録媒体の記録方法。
13. A recording method for a magneto-optical recording medium comprising a magnetic material and a substrate, wherein an uninitialized region arranged along a peripheral portion is left in a region where the magnetic material is provided. Then, the inside thereof is initialized, and data is recorded in the initialized area, and the data is recorded in an area at least 1 mm inside the periphery of the area where the magnetic material is initialized. Recording method for a magneto-optical recording medium.
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