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JP2914851B2 - Liquid crystal display device and method of manufacturing the same - Google Patents

Liquid crystal display device and method of manufacturing the same

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JP2914851B2
JP2914851B2 JP5212722A JP21272293A JP2914851B2 JP 2914851 B2 JP2914851 B2 JP 2914851B2 JP 5212722 A JP5212722 A JP 5212722A JP 21272293 A JP21272293 A JP 21272293A JP 2914851 B2 JP2914851 B2 JP 2914851B2
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JP
Japan
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liquid crystal
substrate
alignment film
crystal display
display device
Prior art date
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善郎 小池
聡 村田
訓朗 古川
俊 露木
正 長谷川
豪 鎌田
貴 笹林
清治 田沼
剛宗 間山
克文 大室
茂 増田
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Publication date
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    • G02F1/133761Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle with different pretilt angles

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は液晶の配向状態が微小な
領域毎に異なるようにした液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device in which the alignment state of liquid crystal is different for each minute area.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置は、一対の対向する透明な
基板の間に液晶を挿入した液晶パネルからなる。一方の
基板の内面には共通電極及び配向膜が設けられ、他方の
基板の内面には画素電極及び配向膜が設けられる。最近
では、一方の基板に画素電極とともにアクティブマトリ
クス回路を形成することが多くなっている。さらに、こ
れらの基板の外側にはそれぞれ偏光板が設けられる。通
常、これらの偏光板は偏光の透過軸が互いに直交するよ
うに配置される。以下、このノーマリホワイトモードを
例に取り説明するが、ノーマリブラックモード(偏光板
平行)においても、技術的に同様のものについては、適
用されることは言うまでもない。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display device comprises a liquid crystal panel in which liquid crystal is inserted between a pair of opposed transparent substrates. A common electrode and an alignment film are provided on the inner surface of one substrate, and a pixel electrode and an alignment film are provided on the inner surface of the other substrate. Recently, active matrix circuits are often formed together with pixel electrodes on one substrate. Further, a polarizing plate is provided outside each of these substrates. Usually, these polarizing plates are arranged so that transmission axes of polarized light are orthogonal to each other. Hereinafter, the normally white mode will be described as an example. However, it is needless to say that a technically similar mode is also applied to a normally black mode (parallel polarizing plate).

【0003】液晶表示パネルでは、液晶分子は両基板の
配向膜のラビング方向に従って配向し、プレチルトす
る。ツイストネマチック型の液晶表示装置では、両基板
の配向膜のラビング方向は相互にほぼ垂直になってお
り、液晶の分子は一方の基板から他方の基板に向かうに
つれて螺旋状にツイストしていく。そして、液晶に電圧
を印加しないときに、液晶の分子は初期のツイスト及び
プレチルトを維持した状態にあり、入射光は液晶のツイ
ストに沿って旋回しながら進み、液晶パネルから出射す
る。このときに、偏光板を直交配置したノーマリホワイ
トモードでは白表示が得られる。電圧を印加すると、液
晶が立ち上がり、液晶の複屈折作用が弱くなり、上記し
た光の旋回作用が弱くなって、入射光が液晶セルを透過
しにくくなり、黒表示が得られるようになる。このよう
にして、液晶への印加電圧を制御しながら、全体で明暗
のコントラストのある画像を形成する。
In a liquid crystal display panel, liquid crystal molecules are aligned and pretilted according to the rubbing direction of the alignment films on both substrates. In a twisted nematic liquid crystal display device, the rubbing directions of the alignment films of the two substrates are substantially perpendicular to each other, and liquid crystal molecules are twisted in a spiral form from one substrate to the other substrate. Then, when no voltage is applied to the liquid crystal, the molecules of the liquid crystal maintain the initial twist and pretilt, and the incident light travels while turning along the twist of the liquid crystal and exits from the liquid crystal panel. At this time, a white display is obtained in the normally white mode in which the polarizing plates are orthogonally arranged. When a voltage is applied, the liquid crystal rises, the birefringence effect of the liquid crystal is weakened, and the above-described swirling effect of light is weakened, so that incident light is less likely to pass through the liquid crystal cell, and a black display can be obtained. In this way, an image having a bright and dark contrast as a whole is formed while controlling the voltage applied to the liquid crystal.

【0004】液晶表示装置では、観視者が、画面を見る
方向により、画像の明暗のコントラストが変化する。こ
れは、液晶表示装置の視角特性として一般に認識されて
いる。例えば、液晶表示装置を真正面から見た場合に明
暗のコントラストのよい画像が得られたとしても、同じ
画像を水平に対して30度の斜め上方及び斜め下方から
見た場合には、明暗のコントラストが低下する。例え
ば、画像を斜め上方から見た場合には全体的に白っぽい
画像となり、画像を斜め下方から見た場合には印加電圧
が低いときにはコントラストの大きい画像が得られる
が、印加電圧の上昇とともにコントラストが悪くなり、
中間色を得るのに不都合なことがある。
In the liquid crystal display device, the contrast of light and dark of an image changes depending on the direction in which a viewer views the screen. This is generally recognized as a viewing angle characteristic of a liquid crystal display device. For example, even when an image having a good contrast between light and dark is obtained when the liquid crystal display device is viewed from directly in front, when the same image is viewed from obliquely above and below 30 degrees with respect to the horizontal, the contrast between bright and dark is obtained. Decrease. For example, when the image is viewed obliquely from above, an overall whitish image is obtained, and when the image is viewed obliquely from below, an image having a high contrast is obtained when the applied voltage is low. Worse,
It may be inconvenient to obtain neutral colors.

【0005】このような視角特性の影響を解決するため
に、特開昭54─5754号公報や、特開昭63─10
6624号公報は、1画素分の単位領域を液晶の配向方
向の異なる2つの微小な領域に分割し(画素分割又は配
向分割という)、一方の領域では一方向にラビングを行
い、もう一方の領域では逆の方向にラビングを行うこと
を提案している。このような画素分割により、上記斜め
上方及び斜め下方から見た二つの視角特性を平均化し、
全体としての視角特性の向上を図ることをできる。
In order to solve the influence of the viewing angle characteristic, Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-5754 and Japanese Patent Application Laid-Open
Japanese Patent No. 6624 discloses that a unit area for one pixel is divided into two minute areas having different orientations of liquid crystal (referred to as pixel division or orientation division), and one area is rubbed in one direction and the other area is rubbed. Proposes performing rubbing in the opposite direction. By such pixel division, the two viewing angle characteristics viewed from the obliquely upper side and the obliquely lower side are averaged,
It is possible to improve the viewing angle characteristics as a whole.

【0006】画素分割した液晶表示装置では、2つの微
小な領域毎に逆方向のラビングを行わなくてはならな
い。このようなラビング処理はリソグラフィ技術を用い
て次の2回のラビング処理が必要である。すなわち、1
回目のラビング処理は、基板の内面に配向膜を塗布し、
配向膜にレジストを塗布し、このレジストに微小な一方
の領域に相当する開口部を設け、そこで一定の方向にラ
ビングし、そしてレジストを除去するステップからな
る。それから、2回目のラビング処理は、1回目のラビ
ングをした配向膜にレジストを塗布し、このレジストに
前記一方の領域とは逆の領域に相当する開口部を設け、
そこで逆の方向にラビングし、そしてレジストを除去す
るステップからなる。
In a liquid crystal display device in which pixels are divided, rubbing in the opposite direction must be performed for each of two minute regions. Such a rubbing process requires the following two rubbing processes using a lithography technique. That is, 1
In the rubbing process for the first time, an alignment film is applied to the inner surface of the substrate,
A step of applying a resist to the alignment film, providing an opening corresponding to one of the minute regions in the resist, rubbing the resist in a certain direction there, and removing the resist. Then, in the second rubbing treatment, a resist is applied to the alignment film subjected to the first rubbing, and an opening corresponding to a region opposite to the one region is provided in the resist,
Then, rubbing in the reverse direction and removing the resist are performed.

【0007】このようなラビング処理は、各基板の配向
膜に対して、2回のフォトリソグラフィ処理と、2回の
ラビング処理とを行うことが必要である。従って、両方
の基板については、合計4回のフォトリソグラフィ処理
と、4回のラビング処理とを行うことが必要であった。
しかし、このように何回もフォトリソグラフィ処理とラ
ビング処理を行うために、製造コストが上がり、かつ、
配向膜の表面が荒れて液晶の配向が安定しないという問
題点があった。
In such a rubbing process, it is necessary to perform two photolithography processes and two rubbing processes on the alignment film of each substrate. Therefore, it was necessary to perform a total of four photolithography processes and four rubbing processes on both substrates.
However, since the photolithography process and the rubbing process are performed many times as described above, the manufacturing cost increases, and
There is a problem that the surface of the alignment film is rough and the alignment of the liquid crystal is not stable.

【0008】このような問題点を解決するために、本願
の出願人は、先願において、液晶のプレチルト角を適切
に制御することにより、各基板の配向膜を1回のラビン
グ工程だけで画素分割できることを提案した。最も簡単
化したプロセスにおいては、一方の基板の配向膜はベタ
に形成され、液晶のプレチルト角がある値βになるよう
にラビングされるが、もう一方の基板の配向膜は2層構
造に形成され、上層側の配向材層が上記微小な領域に対
応する開口部を設けられ、その上から1回のラビング処
理を行うようになっていた。下層側の配向材層と上層側
の配向材層とは例えば材料を変えてあり、よって同じよ
うにラビングしたときに、上層側の配向材層では液晶の
プレチルト角がαになり、上層側の配向材層の開口部か
ら露出している下層側の配向材層では液晶のプレチルト
角がγになり、α>β>γの関係を満足するようにされ
ていた。なお、ここで、1回のラビング処理というの
は、ラビングローラを同じ方向に複数回移動させること
を含むものである。なお、これで画素分割できること
は、後で詳細に説明される。
In order to solve such a problem, the applicant of the present application has proposed in the prior application that by appropriately controlling the pretilt angle of the liquid crystal, the alignment film of each substrate can be formed in a pixel by only one rubbing step. It is proposed that it can be split. In the simplest process, the alignment film of one substrate is formed solid and rubbed so that the pretilt angle of the liquid crystal becomes a certain value β, but the alignment film of the other substrate is formed in a two-layer structure. In this case, the upper alignment material layer is provided with an opening corresponding to the fine region, and one rubbing process is performed from above. The lower alignment material layer and the upper alignment material layer have different materials, for example, so that when rubbed in the same manner, the pretilt angle of the liquid crystal becomes α in the upper alignment material layer, and In the lower alignment material layer exposed from the opening of the alignment material layer, the pretilt angle of the liquid crystal becomes γ, and the relationship α>β> γ is satisfied. Here, the single rubbing process includes moving the rubbing roller a plurality of times in the same direction. The fact that the pixel can be divided by this will be described later in detail.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上記したように、少く
とも一方の基板について液晶のプレチルト角α、γが互
いに異なる二つの微小な領域を形成することにより、画
素分割を達成でき、製造工程を簡略化できるとともに、
配向膜の表面をいためることがなくて液晶の配向が安定
するという利点があるが、先願においては、これは基板
の配向膜を2層構造に形成することにより達成されてい
た。本発明の目的は、さらに構造を簡単化するために、
一層の配向膜でそれに接触する液晶のプレチルト角が互
いに異なる二つの微小な領域を形成できるようにした液
晶表示装置及びその製造方法を提供することである。
As described above, pixel division can be achieved by forming two minute regions where the pretilt angles α and γ of the liquid crystal are different from each other on at least one substrate. Can be simplified,
There is an advantage that the alignment of the liquid crystal is stabilized without deteriorating the surface of the alignment film. However, in the prior application, this was achieved by forming the alignment film of the substrate in a two-layer structure. The object of the invention is to further simplify the structure,
It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, which are capable of forming two minute regions in which a pretilt angle of a liquid crystal in contact with the single alignment film is different from each other.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明による液晶表示装
置の製造方法は、配向膜26を有する第1の基板18
と、該第1の基板と対向し且つ配向膜22を有する第2
の基板16と、該第1及び第2の基板の間に挿入された
液晶20とからなり、少くとも該第1の基板の配向膜2
2が、第1及び第2の隣接する微小な領域A、Bを有す
る単一層の配向材層からなり、該単一層の配向材層が該
第1及び第2の微小な領域A、Bに沿って一方向に連続
的にラビングされてなる液晶表示装置の製造方法であっ
て、該第1及び第2の微小な領域A、Bにおいて選択的
な改質処理を施すことを特徴とする
According to a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention, a first substrate having an alignment film is provided.
And a second substrate facing the first substrate and having an alignment film 22.
And a liquid crystal 20 inserted between the first and second substrates, and at least the alignment film 2 of the first substrate.
2 comprises a single layer of an alignment material layer having first and second adjacent minute regions A and B, wherein the single layer of the alignment material layer is located on the first and second minute regions A and B. A method for manufacturing a liquid crystal display device which is continuously rubbed in one direction along
Selectively in the first and second minute regions A and B.
It is characterized by performing a suitable reforming treatment .

【0011】た、本発明による液晶表示装置の製造方
法は、配向膜26を有する第1の基板18と、該第1の
基板と対向し且つ配向膜22を有する第2の基板16
と、該第1及び第2の基板の間に挿入された液晶20と
からなり、少くとも該第1の基板の配向膜26が、第1
及び第2の隣接する微小な領域A、Bを有する単一層の
配向材層からなり、該単一層の配向材層が該第1及び第
2の微小な領域A、Bに沿って一方向に連続的にラビン
グされてなる液晶表示装置の製造方法であって、該第1
及び第2の微小な領域A、Bにおいて選択的な改質処理
を施し、前記改質処理は、該第1及び第2の微小な領域
A、Bの表面のプレチルト角を支配する化学成分の濃度
分布を選択的に変化させるステップからなり、前記第1
及び第2の微小な領域A、Bの表面のプレチルト角を支
配する化学成分の濃度分布を選択的に変化させるステッ
プは、該第1及び第2の微小な領域A、Bの表面に選択
的にプレチルト角を増減させる材料層を付着させるステ
ップからなることを特徴とする。また、本発明による液
晶表示装置の製造方法は、配向膜26を有する第1の基
板18と、該第1の基板と対向し且つ配向膜22を有す
る第2の基板16と、該第1及び第2の基板の間に挿入
された液晶20とからなり、少くとも該第1の基板の配
向膜26が、第1及び第2の隣接する微小な領域A、B
を有する単一層の配向材層からなり、該単一層の配向材
層が該第1及び第2の微小な領域A、Bに沿って一方向
に連続的にラビングされてなる液晶表示装置の製造方法
であって、前記第1の基板に配向材を塗布した後で溶剤
揮発時間が変わるように該第1及び第2の微小な領域
A、Bを選択的にプリキュアすることを特徴とする。
[0011] Also, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the invention, a second substrate 16 having the first substrate 18, the first substrate opposed to and oriented film 22 having an alignment film 26
And a liquid crystal 20 inserted between the first and second substrates, and at least the alignment film 26 of the first substrate
And a single-layer alignment material layer having second adjacent minute regions A and B, wherein the single-layer alignment material layer extends in one direction along the first and second minute regions A and B. A method of manufacturing a continuously rubbed liquid crystal display device, comprising:
And the second minute regions A and B are selectively subjected to a reforming process, and the reforming process is performed for a chemical component that controls the pretilt angle of the surface of the first and second minute regions A and B. Selectively changing the concentration distribution, wherein the first
And selectively changing the concentration distribution of the chemical component that governs the pretilt angle on the surface of the second minute regions A and B comprises selectively changing the concentration distribution of the chemical components governing the pretilt angles on the surfaces of the first and second minute regions A and B. And a step of attaching a material layer for increasing or decreasing the pretilt angle. Also, the liquid according to the present invention
The method for manufacturing a crystal display device includes a first substrate having an alignment film 26.
A plate 18 and an alignment film 22 facing the first substrate;
A second substrate 16 inserted between the first and second substrates.
, And at least the arrangement of the first substrate.
The facing film 26 has first and second adjacent minute regions A and B
Comprising a single layer of alignment material having
The layer is oriented in one direction along the first and second minute regions A and B.
For manufacturing liquid crystal display device continuously rubbed on a substrate
And a solvent after applying the alignment material to the first substrate.
The first and second minute regions so that the volatilization time changes
A and B are selectively cured.

【0012】[0012]

【作用】上記した構成においては、第1の基板の配向膜
26は液晶の配向方向が同じでプレチルト角α、γが互
いに異なった第1及び第2の隣接する微小な領域A、B
を有する。第2の基板については、例えば第2の基板の
配向膜22は配向方向及びプレチルト角βが第1及び第
2の隣接する微小な領域A、Bについて実質的に同じも
のでよく、α>β>γの関係がある。なお、上記構成で
は、第1及び第2の基板の配向膜はともに一層構造のも
のであり、従来のものよりも構造が簡単になる。また、
第2の基板についても、液晶の配向方向が同じで、プレ
チルト角α、γが互いに異なった第1及び第2の隣接す
る微小な領域B、Aを有するものとすることができる。
In the above-described structure, the alignment film 26 of the first substrate has the same orientation direction of the liquid crystal and the first and second adjacent minute regions A and B having different pretilt angles α and γ.
Having. For the second substrate, for example, the alignment film 22 of the second substrate may have substantially the same alignment direction and pretilt angle β in the first and second adjacent minute regions A and B, and α> β > Γ. In the above configuration, the alignment films of the first and second substrates are both of a single-layer structure, and the structure is simpler than the conventional one. Also,
The second substrate can also have first and second adjacent minute regions B and A in which the orientation directions of the liquid crystal are the same and the pretilt angles α and γ are different from each other.

【0013】α>β>γの関係がある場合、第1の領域
Aにおいては、第1の基板に接する液晶のプレチルト角
がαとなり、第2の基板に接する液晶のプレチルト角が
βとなる。第2の領域Bにおいては、第1の基板に接す
る液晶のプレチルト角がγとなり、第2の基板に接する
液晶のプレチルト角がβとなる。第1の基板と第2の基
板との間の中間に位置する液晶分子は電圧印加時に第1
の基板及び第2の基板の大きい方のプレチルト角に従っ
て立ち上がるという性質があり、第1の領域Aにおいて
は第1の基板に接する液晶の方向に従った立ち上がり
(チルト)となり、第2の領域Bにおいては第2の基板
に接する液晶の方向に従った立ち上がり(チルト)とな
り、画素分割を達成できる。
When there is a relationship of α>β> γ, in the first region A, the pretilt angle of the liquid crystal in contact with the first substrate is α, and the pretilt angle of the liquid crystal in contact with the second substrate is β. . In the second region B, the pretilt angle of the liquid crystal in contact with the first substrate is γ, and the pretilt angle of the liquid crystal in contact with the second substrate is β. The liquid crystal molecules located in the middle between the first substrate and the second substrate are in the first state when a voltage is applied.
The first region A has a property of rising according to the direction of the liquid crystal in contact with the first substrate, and the second region B has a property of rising according to the larger pretilt angle of the substrate and the second substrate. In (2), the rising (tilt) follows the direction of the liquid crystal in contact with the second substrate, and pixel division can be achieved.

【0014】[0014]

【実施例】図1は、本発明の第1実施例の液晶表示装置
の液晶パネル10を示す図である。この液晶パネル10
の両側には偏光板12、14がノーマリホワイトモード
のときに垂直な関係で、あるいはノーマリブラックモー
ドのときに平行な関係で配置される。液晶パネル10
は、一対の透明なガラス基板16、18の間に液晶20
を封入したものである。図示しない光源からの光は矢印
Lの方から液晶パネル10に入射し、観視者は入射方向
とは逆の方向から液晶パネル10を見るものとし、以後
の説明においては、光の入射側の基板16を下基板と呼
び、観視者側の基板18を上基板と呼ぶことにする。た
だし、光の入射側及び観視者側は逆とすることができ
る。
FIG. 1 is a view showing a liquid crystal panel 10 of a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention. This liquid crystal panel 10
Polarizing plates 12 and 14 are arranged on both sides in a vertical relationship in a normally white mode or in a parallel relationship in a normally black mode. LCD panel 10
Is a liquid crystal 20 between a pair of transparent glass substrates 16 and 18.
Is enclosed. Light from a light source (not shown) enters the liquid crystal panel 10 from the direction of the arrow L, and a viewer views the liquid crystal panel 10 from a direction opposite to the incident direction. The substrate 16 is called a lower substrate, and the substrate 18 on the viewer side is called an upper substrate. However, the light incident side and the viewer side can be reversed.

【0015】下基板16の内面にはITOの共通電極2
1及び配向膜22が設けられ、上基板18の内面には画
素電極24及び配向膜26が設けられる。カラーフィル
タ層(図示せず)が下基板16の共通電極21の下に設
けられる。共通電極21と画素電極24を逆に設けるこ
ともできる。図2に示されるように、上基板18に設け
られた画素電極24はアクティブマトリクス回路に接続
される。アクティブマトリクス回路は縦、横にマトリク
ス状に延びるデータバスライン30及びゲートバスライ
ン32を含み、画素電極24は薄膜トランジスタ(TF
T)34を介してデータバスライン30及びゲートバス
ライン32に接続される。
On the inner surface of the lower substrate 16, a common electrode 2 of ITO is provided.
1 and an alignment film 22 are provided, and a pixel electrode 24 and an alignment film 26 are provided on the inner surface of the upper substrate 18. A color filter layer (not shown) is provided below the common electrode 21 of the lower substrate 16. The common electrode 21 and the pixel electrode 24 can be provided in reverse. As shown in FIG. 2, the pixel electrode 24 provided on the upper substrate 18 is connected to an active matrix circuit. The active matrix circuit includes a data bus line 30 and a gate bus line 32 that extend vertically and horizontally in a matrix.
T) 34 to the data bus line 30 and the gate bus line 32.

【0016】図2に示されるように、画素電極24で代
表される各画素領域は、2つの微小な領域A、Bに分割
されている。図2に示される分割パターンは、横一列の
画素電極24の中央を通る線によりストライプ状になっ
ているが、例えば横一列の画素電極24において2つの
微小な領域A、Bを交互に配置した千鳥状のパターンと
することもできる。
As shown in FIG. 2, each pixel area represented by the pixel electrode 24 is divided into two small areas A and B. The division pattern shown in FIG. 2 is formed in a stripe shape by a line passing through the center of one horizontal row of pixel electrodes 24. For example, in the horizontal one row of pixel electrodes 24, two minute regions A and B are alternately arranged. A staggered pattern can also be used.

【0017】液晶20はツイストネマチック型液晶を使
用している。ツイストネマチック型液晶を使用する場合
のラビングの基本、及び配向分割の基本について、図1
8から図24を参照して説明する。図18は、(配向分
割なしの)ツイストネマチック型液晶を使用する場合の
ラビングの一例を示し、実線の矢印22aは下基板18
の配向膜22に施されるラビング方向を示し、破線の矢
印26aは上基板16の配向膜26に施されるラビング
方向を示する。
The liquid crystal 20 uses a twisted nematic liquid crystal. Figure 1 shows the basics of rubbing and alignment division when using a twisted nematic liquid crystal.
This will be described with reference to FIGS. FIG. 18 shows an example of rubbing when a twisted nematic liquid crystal (without alignment division) is used, and the solid arrow 22a indicates the lower substrate 18.
The rubbing direction applied to the alignment film 22 of the upper substrate 16 is shown by a dashed arrow 26a.

【0018】図19は、このようなラビング処理をした
場合の、下基板16の配向膜22に接する液晶分子20
Lと、上基板18の配向膜26に接する液晶分子20U
と、下基板16と上基板18との中間に位置する液晶分
子20Cとをそれぞれ別々に示したものである。図19
において、各段の左側の図は図18に対応して見た液晶
分子の配向方向を示す平面図、各段の右側の図はそれぞ
れ左側の図の矢印の方向から見た断面図である。下基板
16の配向膜22に接する液晶分子20Lの配向方向は
下基板16の配向膜22のラビング方向22aと一致
し、右下がり方向を向いており、上基板18の配向膜2
6に接する液晶分子20Uの配向方向は上基板18の配
向膜26のラビング方向26aと一致し、左上がり方向
を向いている。液晶は下基板16と上基板18との間で
左まわりツイストし、中間の液晶分子20Cは左上がり
の向きとなるユニフォーム配向である。
FIG. 19 shows the liquid crystal molecules 20 in contact with the alignment film 22 of the lower substrate 16 when such a rubbing process is performed.
L and liquid crystal molecules 20U in contact with the alignment film 26 of the upper substrate 18.
And a liquid crystal molecule 20C located in the middle between the lower substrate 16 and the upper substrate 18, respectively. FIG.
In each figure, the left-hand drawing of each step is a plan view showing the orientation direction of the liquid crystal molecules as viewed in correspondence with FIG. The alignment direction of the liquid crystal molecules 20L in contact with the alignment film 22 of the lower substrate 16 coincides with the rubbing direction 22a of the alignment film 22 of the lower substrate 16, and is directed downward to the right.
The alignment direction of the liquid crystal molecules 20U in contact with 6 coincides with the rubbing direction 26a of the alignment film 26 of the upper substrate 18, and is directed to the left ascending direction. The liquid crystal twists counterclockwise between the lower substrate 16 and the upper substrate 18, and the liquid crystal molecules 20 </ b> C in the middle are in a uniform orientation in which the liquid crystal molecules are directed to the left.

【0019】図20は図18で示されるラビング処理を
した液晶パネル10を図18の線XX─XXに沿って見
た断面図である。矢印Cは液晶パネル10を上基板18
の法線方向から見ることを示し、矢印Uは液晶パネル1
0を斜め上30度の方向から見ることを示し、矢印Lは
液晶パネル10を斜め下30度の方向から見ることを示
ている。
FIG. 20 is a sectional view of the rubbed liquid crystal panel 10 shown in FIG. 18 taken along the line XXXXX in FIG. Arrow C indicates that the liquid crystal panel 10 is
The arrow U indicates the liquid crystal panel 1
0 indicates that the liquid crystal panel 10 is viewed obliquely upward from 30 degrees, and the arrow L indicates that the liquid crystal panel 10 is viewed obliquely downward from 30 degrees.

【0020】図21は図18に示されるラビング処理を
した液晶パネル10の視角特性を示す図であり、一点鎖
線Cは図20の矢印Cの方向から液晶パネル10を見た
場合の電圧─透過率曲線である。破線U、Lはそれぞれ
図20の矢印U、Lの方向から液晶パネル10を見た場
合の電圧─透過率曲線である。破線Lの場合には、電圧
を高くしても透過率の低下が少ないので、黒い表示を得
ようとしても、比較的に明るい表示になってしまう。破
線Uの場合には、電圧をわずかにかけると透過率が大幅
に低下し、コントラスト比の大きい画像が得られるが、
電圧の増加とともに再び透過率が上昇し、電圧と透過率
の対応関係が反転し、白と黒の間の中間色を得るのに不
都合なことがある。
FIG. 21 is a diagram showing the viewing angle characteristics of the rubbed liquid crystal panel 10 shown in FIG. 18, and the dashed line C indicates the voltage / transmission when the liquid crystal panel 10 is viewed from the direction of arrow C in FIG. It is a rate curve. Dashed lines U and L are voltage / transmittance curves when the liquid crystal panel 10 is viewed from the directions of arrows U and L in FIG. 20, respectively. In the case of the broken line L, even if the voltage is increased, the transmittance does not decrease much, so that even if an attempt is made to obtain a black display, the display becomes relatively bright. In the case of the dashed line U, when a small voltage is applied, the transmittance is greatly reduced, and an image having a large contrast ratio is obtained.
As the voltage increases, the transmittance increases again, and the correspondence between the voltage and the transmittance reverses, which may be inconvenient for obtaining an intermediate color between white and black.

【0021】このような視角特性を改善するために、図
22に示されるような画素分割が行われる。図22は微
小な領域Aと微小な領域Bとを有する画素分割の基本形
を示し、この微小な領域Aでは図18と同じラビング処
理が行われる。微小な領域Bでは微小な領域Aと逆のラ
ビング処理が行われる。すなわち、微小な領域Bの破線
の矢印26aの向きは微小な領域Aの破線の矢印26a
の向きとは逆であり、微小な領域Bの実線の矢印22a
の向きは微小な領域Aの実線の矢印22aの向きとは逆
である。その結果、微小な領域Bの下基板16と上基板
18との中間に位置する液晶分子20Cは、微小な領域
Aのものとは逆を向くことになり、視角特性も逆にな
る。
In order to improve such viewing angle characteristics, pixel division is performed as shown in FIG. FIG. 22 shows a basic form of pixel division having a minute area A and a minute area B. In the minute area A, the same rubbing processing as in FIG. 18 is performed. In the minute area B, a rubbing process reverse to that in the minute area A is performed. That is, the direction of the dashed arrow 26a of the minute area B is the same as that of the dashed arrow 26a of the minute area A.
, The solid arrow 22a of the minute area B
Is opposite to the direction of the solid arrow 22a in the minute area A. As a result, the liquid crystal molecules 20C located in the middle between the lower substrate 16 and the upper substrate 18 of the minute region B face the opposite direction to those of the minute region A, and the viewing angle characteristics are also reversed.

【0022】このような微小な領域Aと微小な領域Bを
隣り合わせて配置すると、図20の矢印U又はLの方向
から液晶表示パネル10を見た場合、図21の実線Iの
特性が得られる。実線Iの特性は破線Lと破線Uの特性
を加えて2で割ったものになり、法線方向から見た一点
鎖線Cの特性に近くなり、極端に透過率の高い視角方向
と極端に透過率の低い視角方向とがなくなって視角特性
が改善される。これが画素分割の効果である。しかし、
図22に示されるラビングを処理を行うためには、上記
したように、各基板について2回のラビングを行うこと
が必要である。このような処理は面倒であり、そこで本
願の出願人は上記した先願において図23及び図24に
示す配向処理(一例)を提案した。
When such a minute area A and a minute area B are arranged next to each other, when the liquid crystal display panel 10 is viewed from the direction of the arrow U or L in FIG. 20, the characteristic indicated by the solid line I in FIG. 21 is obtained. . The characteristic of the solid line I is obtained by adding the characteristics of the dashed line L and the dashed line U and dividing by two, and is close to the characteristic of the one-dot chain line C viewed from the normal direction. There is no viewing angle direction with a low rate, and the viewing angle characteristics are improved. This is the effect of pixel division. But,
In order to perform the rubbing shown in FIG. 22, it is necessary to perform rubbing twice for each substrate, as described above. Such a process is troublesome, and the applicant of the present application proposed an orientation process (one example) shown in FIGS. 23 and 24 in the above-mentioned prior application.

【0023】図23においては、微小な領域Aのラビン
グ処理は、微小な領域Bのラビング処理と同じである。
すなわち、下基板16の配向膜22については微小な領
域A、Bを通して矢印22aの方向にラビングを行えば
よく、また上基板18の配向膜26については微小な領
域A、Bを通して矢印26aの方向にラビングを行えば
よい。ただし、液晶のプレチルト角が図24に示される
ようにすることが必要である。
In FIG. 23, the rubbing processing of the minute area A is the same as the rubbing processing of the minute area B.
That is, rubbing may be performed in the direction of the arrow 22a through the minute regions A and B on the alignment film 22 of the lower substrate 16, and the direction of the arrow 26a through the minute regions A and B on the alignment film 26 of the upper substrate 18. Rubbing may be performed. However, it is necessary that the pretilt angle of the liquid crystal be as shown in FIG.

【0024】図24においては、下基板16の配向膜2
2は一層構造のものであり、ラビングされたときにそれ
に接する液晶のプレチルト角がβになるようにされてい
る。上基板18の配向膜26は下層側の配向材層51と
上層側の配向材層52とからなる二層構造のものであ
り、上層側の配向材層52は微小な領域A又はBに対応
して開口するようにパターニングされている。上層側の
配向材層52はラビングされたときにそれに接する液晶
のプレチルト角αが比較的に大きくなる材料で作られ、
下層側の配向材層51はラビングされたときにそれに接
する液晶のプレチルト角γが比較的に小さくなる材料で
作られる。ここで、α>β>γの関係がある。
In FIG. 24, the alignment film 2 of the lower substrate 16 is
Reference numeral 2 denotes a single-layer structure in which the pretilt angle of the liquid crystal in contact with the rubbed film is β. The alignment film 26 of the upper substrate 18 has a two-layer structure including a lower alignment material layer 51 and an upper alignment material layer 52, and the upper alignment material layer 52 corresponds to a minute region A or B. It is patterned so as to open. The upper alignment material layer 52 is made of a material having a relatively large pretilt angle α of the liquid crystal in contact with the rubbed liquid,
The lower alignment material layer 51 is made of a material that, when rubbed, has a relatively small pretilt angle γ of the liquid crystal in contact with it. Here, there is a relationship of α>β> γ.

【0025】すると、微小な領域Aにおいては、下基板
16側の液晶分子のプレチルト角はβであり、上基板1
8側の液晶分子のプレチルト角はγであり、β>γであ
る。また、微小な領域Bにおいては、下基板16側の液
晶分子のプレチルト角はβであり、上基板18側の液晶
分子のプレチルト角はαであり、α>βである。本願の
発明者らは、先願において、このように上下でプレチル
ト角に確実な差があると、下基板16と上基板18との
間の中間の液晶分子20Cは、電圧印加時にプレチルト
角の大きい方のラビングに従って立ち上がる(チルト)
ことを発見した。液晶の光透過特性は主として中間の液
晶分子20Cの挙動により定められることが分かってい
る。
Then, in the minute region A, the pretilt angle of the liquid crystal molecules on the lower substrate 16 side is β, and the upper substrate 1
The pretilt angle of the liquid crystal molecules on the eight side is γ, and β> γ. In the minute region B, the pretilt angle of the liquid crystal molecules on the lower substrate 16 side is β, and the pretilt angle of the liquid crystal molecules on the upper substrate 18 side is α, and α> β. In the prior application, the inventors of the present application have found that if there is a certain difference between the upper and lower pretilt angles in this manner, the intermediate liquid crystal molecules 20C between the lower substrate 16 and the upper substrate 18 will have a lower pretilt angle when a voltage is applied. Stand up according to the larger rubbing (tilt)
I discovered that. It has been found that the light transmission characteristics of the liquid crystal are determined mainly by the behavior of the intermediate liquid crystal molecules 20C.

【0026】従って、図24において、微小な領域Aの
中間の液晶分子20Cは下基板16の配向膜22のラビ
ング方向に従って立ち上がる。図24の下基板16の配
向膜22のラビング方向は、図23のラビング方向22
aに対応し、そしてこれは図22の微小な領域Aのラビ
ング方向22aと同じである。従って、図23及び図2
4の微小な領域Aの視角特性は図22の微小な領域Aの
視角特性と同じである。
Therefore, in FIG. 24, the liquid crystal molecules 20C in the middle of the minute region A rise in the rubbing direction of the alignment film 22 of the lower substrate 16. The rubbing direction of the alignment film 22 of the lower substrate 16 in FIG.
a, which is the same as the rubbing direction 22a of the small area A in FIG. Therefore, FIG. 23 and FIG.
The viewing angle characteristics of the small area A in FIG. 4 are the same as the viewing angle characteristics of the small area A in FIG.

【0027】同様に、図24の微小な領域Bの中間の液
晶分子20Cは上基板18の配向膜26のラビング方向
に従って配向する。図24の上基板18の配向膜26の
ラビング方向は、図23のラビング方向26aに対応
し、そしてこれは図22の微小な領域Bのラビング方向
26aと同じである。従って、図23及び図24の微小
な領域Bの視角特性は図22の微小な領域Bの視角特性
と同じである。すなわち、図23及び図24の処理によ
り、図22と同じ画素分割の効果を達成でき、図23及
び図24の方が各基板について1回のラビングでよいた
めに製造が簡単であり、且つ液晶の配向が安定する。
Similarly, the liquid crystal molecules 20C in the middle of the minute region B in FIG. 24 are aligned according to the rubbing direction of the alignment film 26 of the upper substrate 18. The rubbing direction of the alignment film 26 on the upper substrate 18 in FIG. 24 corresponds to the rubbing direction 26a in FIG. 23, and this is the same as the rubbing direction 26a in the minute region B in FIG. Therefore, the viewing angle characteristics of the minute region B in FIGS. 23 and 24 are the same as the viewing angle characteristics of the minute region B in FIG. That is, the processing of FIGS. 23 and 24 can achieve the same effect of pixel division as that of FIG. 22, and the manufacturing of FIGS. 23 and 24 is simpler because each substrate requires only one rubbing. Is stabilized.

【0028】本発明は、この先願をさらに改善し、図1
に示されるように、例えば少くとも上基板18の配向膜
26を単一層構造として微小な領域A、B毎に異なるプ
レチルト角α、γを実現できるようにするものである。
また、図32に示されるように、上基板18、下基板1
6の配向膜26、22をともに単一層構造として微小な
領域A、B毎に異なるプレチルト角α、γを形成するこ
ともできる。上下で、プレチルト角α、γが対向する。
以下、主として図1の構成について説明する。このた
め、本発明では、図23に示されるように、単一層の配
向膜26が二つの微小な領域A、Bに沿って一方向に連
続的にラビングされているとともに、これから説明する
ように、二つの微小な領域A、Bにおいて配向膜26に
接触する液晶のプレチルト角α、γが互いに異なるよう
にラビングとは別の処理が施されている。
The present invention further improves this prior application, and FIG.
As shown in FIG. 2, for example, the orientation film 26 of the upper substrate 18 has a single-layer structure so that different pretilt angles α and γ can be realized for each of the minute regions A and B.
As shown in FIG. 32, the upper substrate 18 and the lower substrate 1
6, the pre-tilt angles α and γ different for each of the minute regions A and B can be formed as a single layer structure. The upper and lower pretilt angles α and γ face each other.
Hereinafter, the configuration of FIG. 1 will be mainly described. For this reason, in the present invention, as shown in FIG. 23, the single-layer alignment film 26 is continuously rubbed in one direction along the two minute regions A and B, and as will be described below. The rubbing process is performed so that the pretilt angles α and γ of the liquid crystal in contact with the alignment film 26 in the two minute regions A and B are different from each other.

【0029】図3は、上基板18の配向膜26の液晶の
プレチルト角α、γを異ならせる処理の第1実施例を示
す図である。図3においては、(a)において上基板1
8の表面に配向膜26をスピンコートにより塗布する。
ここで、上基板18の表面に配向膜26を塗布するとい
うことは、上基板18の上に画素電極24あるいはその
他のものが形成されていればその表面に配向膜26を塗
布するということである。配向膜26は高いプレチルト
角を示すイミド化率100パーセントのポリイミドを用
いた。この種のポリイミドは通常可溶性ポリイミドと言
われ、種々の種類のポリイミド成分を溶剤に溶かしたも
のである。ポリイミド成分の中には、ジアミン成分等
の、特にプレチルト角を支配する化学成分が含まれる。
そのような配向材としては、例えば日本合成ゴム製のJ
ALS219、214等を使用することができる。
FIG. 3 is a view showing a first embodiment of the processing for changing the pretilt angles α and γ of the liquid crystal of the alignment film 26 of the upper substrate 18. In FIG. 3, in FIG.
The alignment film 26 is applied to the surface of the substrate 8 by spin coating.
Here, the application of the alignment film 26 to the surface of the upper substrate 18 means that the alignment film 26 is applied to the surface of the pixel electrode 24 or any other material formed on the upper substrate 18. is there. As the alignment film 26, a polyimide having a high pretilt angle and an imidization ratio of 100% was used. This kind of polyimide is usually called a soluble polyimide and is obtained by dissolving various kinds of polyimide components in a solvent. The polyimide component contains a chemical component such as a diamine component, which particularly controls the pretilt angle.
As such an alignment material, for example, J. Synthetic Rubber J
ALS 219, 214, etc. can be used.

【0030】図3(b)においては、上基板18の配向
膜26をオーブン等でキュアリングし、溶剤をとばすと
ともに、配向膜26を硬化させる。それから図3(c)
において、マスク60を用いて微小な領域A、Bに選択
的に紫外線を照射する。マスク60は紫外線を透過せし
める石英又は合成石英からなる材料で作られた板60a
と、微小な領域A、Bの一方に対応して該板に設けたら
れたクロム等の紫外線遮断材料層60bとからなる。そ
れから図3(d)において、ラビングローラ57を用い
て配向膜26を図23のようにラビングする。
In FIG. 3B, the alignment film 26 of the upper substrate 18 is cured in an oven or the like to remove the solvent and cure the alignment film 26. Then, FIG. 3 (c)
, The minute regions A and B are selectively irradiated with ultraviolet rays using the mask 60. The mask 60 is a plate 60a made of a material made of quartz or synthetic quartz that transmits ultraviolet light.
And an ultraviolet shielding material layer 60b such as chromium provided on the plate corresponding to one of the minute regions A and B. 3D, the rubbing roller 57 is used to rub the alignment film 26 as shown in FIG.

【0031】図4は、上基板18の配向膜26の液晶の
プレチルト角α、γを異ならせる処理の第2実施例を示
す図である。この実施例では、図3の実施例と同様に、
(a)において上基板18の表面に配向膜26を塗布
し、(b)において上基板18の配向膜26をキュアリ
ングする。それから、図3の実施例とは逆に、(c)に
おいて配向膜26をラビングし、(d)においてマスク
60を用いて微小な領域A、Bに選択的に紫外線を照射
する。
FIG. 4 is a diagram showing a second embodiment of the processing for changing the pretilt angles α and γ of the liquid crystal of the alignment film 26 of the upper substrate 18. In this embodiment, similar to the embodiment of FIG.
(A), an alignment film 26 is applied to the surface of the upper substrate 18, and (b), the alignment film 26 of the upper substrate 18 is cured. Then, contrary to the embodiment of FIG. 3, the alignment film 26 is rubbed in (c), and the minute regions A and B are selectively irradiated with ultraviolet rays using the mask 60 in (d).

【0032】図3及び図4においては、微小な領域A、
Bに選択的に紫外線を照射することにより、紫外線を照
射されなかった微小な領域Aは配向材として使用された
ポリイミドの性質に従って且つその前後のラビングに従
って高いプレチルト角αを示すようになる。一方、紫外
線を照射された微小な領域Bはその部分の配向膜26の
表面エネルギーが増加し、当初のポリイミドの性質及び
所定のラビングをした場合よりもプレチルト角γが小さ
くなる。これによって、例えば、プレチルト角αが8
度、プレチルト角βが4度、プレチルト角γが1度の組
合せを作ることができる。
In FIGS. 3 and 4, a minute area A,
By selectively irradiating B with ultraviolet light, the minute region A not irradiated with ultraviolet light has a high pretilt angle α according to the properties of the polyimide used as the alignment material and according to the rubbing before and after it. On the other hand, in the minute region B irradiated with ultraviolet rays, the surface energy of the alignment film 26 in that portion increases, and the properties of the initial polyimide and the pretilt angle γ become smaller than in the case where a predetermined rubbing is performed. Thereby, for example, when the pretilt angle α is 8
Degree, the pretilt angle β is 4 degrees, and the pretilt angle γ is 1 degree.

【0033】紫外線を照射することによりプレチルト角
γが小さくなることは、図5及び図6の関係に示され
る。図5に示されるように、紫外線の照射時間が長くな
るほどプレチルト角は小さくなる。紫外線の照射は配向
膜26の表面エネルギーを増加させるが、図6に示され
るように、配向膜26の表面エネルギーが大きくなるほ
ど、配向膜26の濡れ性が改善され、接触角が低下し,
そしてプレチルト角は小さくなる。なお、配向膜26の
表面エネルギーが大きくなるほど、プレチルト角は小さ
くなるという実験的事実は、後の実施例で使用される。
The fact that the pretilt angle γ is reduced by irradiating ultraviolet rays is shown in the relationship between FIG. 5 and FIG. As shown in FIG. 5, the longer the irradiation time of the ultraviolet light, the smaller the pretilt angle. Irradiation of ultraviolet rays increases the surface energy of the alignment film 26. As shown in FIG. 6, as the surface energy of the alignment film 26 increases, the wettability of the alignment film 26 improves, and the contact angle decreases.
Then, the pretilt angle becomes smaller. The experimental fact that the pretilt angle decreases as the surface energy of the alignment film 26 increases will be used in later examples.

【0034】紫外線照射を利用してプレチルト角を小さ
くするためには、配向膜26の表面のポリイミド結合を
切るほどのエネルギーをもった紫外線を使用することが
必要である。このためには、300nm以下の波長の紫
外線を使用することが望ましく、さらには260nm以
下の波長の紫外線を使用することが好ましい。実施例に
おいては、主として253.7nmおよび184.9n
mの波長の紫外線を発生する低圧水銀ランプを10mW
/cm2 で使用した。
In order to reduce the pretilt angle by using ultraviolet irradiation, it is necessary to use ultraviolet light having energy enough to break the polyimide bond on the surface of the alignment film 26. For this purpose, it is desirable to use ultraviolet light having a wavelength of 300 nm or less, and more preferably to use ultraviolet light having a wavelength of 260 nm or less. In the examples, mainly 253.7 nm and 184.9 n
10mW low-pressure mercury lamp that emits ultraviolet light of wavelength m
/ Cm 2 .

【0035】図7は紫外線照射を利用して、図1に示す
ような上基板18の配向膜26及び下基板16の配向膜
22の組合せを得る例を示す図である。この実施例で
は、上基板18の配向膜26及び下基板16の配向膜2
2として、同じようなラビング処理をした場合には液晶
が同じようなプレチルト角を示すような同じ配向材を使
用している。
FIG. 7 is a diagram showing an example of obtaining a combination of the alignment film 26 of the upper substrate 18 and the alignment film 22 of the lower substrate 16 as shown in FIG. In this embodiment, the alignment film 26 of the upper substrate 18 and the alignment film 2 of the lower substrate 16 are used.
Second, the same alignment material is used so that the liquid crystal exhibits the same pretilt angle when the same rubbing treatment is performed.

【0036】図7(a)は上基板18の配向膜26の配
向処理を示し、先にラビングローラ57で全面をラビン
グし、配向膜26に接触する液晶がプレチルト角αとな
るようにする。それからマスク60を使用して紫外線を
照射し、紫外線が当たらなかった微小な領域Bではプレ
チルト角がαのままとし、紫外線が当たった微小な領域
Aではプレチルト角がγとなるようにする。なお、ラビ
ングと紫外線照射とは逆の順序で行ってもよい。図7
(b)は下基板16の配向膜22の配向処理を示し、先
にラビングローラ57で全面をラビングし、配向膜26
に接触する液晶がプレチルト角αとなるようにし、それ
からマスクを使用することなく紫外線を照射し、それに
よってプレチルト角がβとなるようにする。なお、この
場合にも、ラビングと紫外線照射とは逆の順序で行って
もよい。このようにして、α>β>γの関係を満足する
配向膜22、26を得ることができる。
FIG. 7A shows an alignment process of the alignment film 26 of the upper substrate 18. First, the entire surface is rubbed with a rubbing roller 57 so that the liquid crystal contacting the alignment film 26 has a pretilt angle α. Then, the mask 60 is used to irradiate ultraviolet rays, so that the pretilt angle is kept at α in the minute area B where the ultraviolet rays have not hit, and the pretilt angle is γ in the minute area A where the ultraviolet rays have hit. Note that rubbing and ultraviolet irradiation may be performed in the reverse order. FIG.
(B) shows the alignment treatment of the alignment film 22 of the lower substrate 16, and the entire surface is first rubbed with the rubbing roller 57.
The liquid crystal in contact with is made to have a pretilt angle α, and then is irradiated with ultraviolet light without using a mask, so that the pretilt angle becomes β. In this case, rubbing and ultraviolet irradiation may be performed in the reverse order. Thus, the alignment films 22 and 26 satisfying the relationship α>β> γ can be obtained.

【0037】図8は、上基板18の配向膜26及び下基
板16の配向膜22の組合せの別の実施例を示す。図8
(a)は上基板18の配向膜26の配向処理を示し、先
にラビングローラ57で全面をラビングし、配向膜26
に接触する液晶がプレチルト角αとなるようにする。そ
れからマスク60を使用して紫外線を照射し、紫外線が
当たらなかった微小な領域Bではプレチルト角がαのま
まとし、紫外線が当たった微小な領域Aではプレチルト
角がγとなるようにする。
FIG. 8 shows another embodiment of the combination of the alignment film 26 of the upper substrate 18 and the alignment film 22 of the lower substrate 16. FIG.
(A) shows an alignment process of the alignment film 26 of the upper substrate 18, and the entire surface is first rubbed with a rubbing roller 57.
The liquid crystal in contact with is set to have a pretilt angle α. Then, the mask 60 is used to irradiate ultraviolet rays, so that the pretilt angle is kept at α in the minute area B where the ultraviolet rays have not hit, and the pretilt angle is γ in the minute area A where the ultraviolet rays have hit.

【0038】図8(b)は下基板16の配向膜22の配
向処理を示し、配向膜26に接触する液晶がプレチルト
角βとなるようにラビングする。この場合には、配向膜
26及び配向膜22の配向材として同じ材料を使用して
も、あるいは異なった材料をしてもよい。要するに、配
向材とラビングとの組合せによりプレチルト角に差がで
るようにする。同じ配向材を使用する場合には、ラビン
グ回数を増減してプレチルト角に差がでるようにする。
そして、この場合にも、α>β>γの関係を満足するこ
とが必要である。
FIG. 8B shows the alignment treatment of the alignment film 22 of the lower substrate 16, in which the liquid crystal in contact with the alignment film 26 is rubbed so as to have a pretilt angle β. In this case, the same material may be used as the alignment material of the alignment films 26 and 22, or different materials may be used. In short, the pretilt angle is made different depending on the combination of the alignment material and the rubbing. When the same alignment material is used, the number of rubbings is increased or decreased so that the pretilt angle differs.
Also in this case, it is necessary to satisfy the relationship α>β> γ.

【0039】図9は上記した紫外線照射によりプレチル
ト角α、γを異ならせるのに使用されるマスク60の改
善に関するものである。マスク60は紫外線を透過する
石英もしくは、合成石英からなる板60aに紫外線を遮
断するクロムからなる紫外線遮断材料層60bを張りつ
けたものである。この実施例では、紫外線を透過せしめ
る板60aが突起60cを有し、紫外線遮断材料層60
bはこの突起60cの表面に取り付けられている。従っ
て、紫外線遮断材料層60bの表面は、紫外線を透過せ
しめる板60aの紫外線遮断材料層60bの間に開口す
る部分の表面60dよりも突出している。
FIG. 9 relates to the improvement of the mask 60 used for changing the pretilt angles α and γ by the above-mentioned ultraviolet irradiation. The mask 60 is formed by attaching an ultraviolet ray blocking material layer 60b made of chromium that blocks ultraviolet rays to a plate 60a made of quartz or synthetic quartz that transmits ultraviolet rays. In this embodiment, the plate 60a that transmits the ultraviolet rays has the projections 60c, and the ultraviolet shielding material layer 60
b is attached to the surface of the projection 60c. Therefore, the surface of the ultraviolet ray blocking material layer 60b protrudes from the surface 60d of a portion of the plate 60a that allows the ultraviolet ray to pass between the ultraviolet ray blocking material layers 60b.

【0040】この構成によれば、紫外線遮断材料層60
bを上基板18の配向膜26にできるだけ近づけ、ある
いは接触させて紫外線照射を行うことができる。このよ
うにすることにより、矢印Pで示されるように、紫外線
が斜めにマスク60に入射した場合に紫外線遮断材料層
60bの下の領域に入るのを防止することができる。も
し、紫外線遮断材料層60bが破線60eで示される位
置にあると、矢印Pで示される紫外線は紫外線遮断材料
層60eを回り込んで配向膜26の紫外線を遮断したい
領域に入射することになり、好ましくない。
According to this configuration, the ultraviolet shielding material layer 60
UV irradiation can be performed by bringing b closer to or in contact with the alignment film 26 of the upper substrate 18 as much as possible. In this manner, as shown by the arrow P, it is possible to prevent the ultraviolet light from entering the region below the ultraviolet shielding material layer 60b when obliquely incident on the mask 60. If the ultraviolet ray blocking material layer 60b is located at the position indicated by the broken line 60e, the ultraviolet ray indicated by the arrow P goes around the ultraviolet ray blocking material layer 60e and enters the region of the alignment film 26 where the ultraviolet ray is to be blocked. Not preferred.

【0041】板60aが平坦な場合、紫外線が紫外線遮
断材料層60eを回り込むのを防止するためには、板6
0a全体を配向膜26にできるだけ近づけるのが望まし
いが、そうすると板60aの紫外線遮断材料層60bの
間に開口する部分の表面60dが配向膜26に近づきす
ぎる。マスク60の開口部分の表面60dと上基板18
の配向膜26との間のギャップが小さいと、同ギャップ
内でオゾンの発生量が少なくなり、紫外線照射により配
向膜26の表面を改質する効果が低下することが分かっ
た。すなわち、図10は、マスク60の開口部分の表面
60dと上基板18の配向膜26との間のギャップと、
配向膜26の表面エネルギー(プレチルト角に関係す
る)との関係を示し、前記ギャップが小さいほど配向膜
26の表面エネルギーは小さくなる。従って、紫外線遮
断材料層60bは配向膜26にできるだけ近づけ、開口
部分の表面60dと上基板18の配向膜26との間には
適切なギャップがあるのが望ましいのである。
When the plate 60a is flat, in order to prevent ultraviolet rays from flowing around the ultraviolet ray blocking material layer 60e, the plate 6a
It is desirable to bring the entire Oa as close as possible to the alignment film 26, but in this case, the surface 60d of the portion of the plate 60a opened between the ultraviolet blocking material layers 60b is too close to the alignment film 26. Surface 60d of opening of mask 60 and upper substrate 18
It was found that when the gap between the film and the alignment film 26 was small, the amount of ozone generated in the gap was small, and the effect of modifying the surface of the alignment film 26 by ultraviolet irradiation was reduced. That is, FIG. 10 shows a gap between the surface 60 d of the opening portion of the mask 60 and the alignment film 26 of the upper substrate 18,
This shows the relationship with the surface energy of the alignment film 26 (related to the pretilt angle). The smaller the gap is, the smaller the surface energy of the alignment film 26 is. Therefore, it is desirable that the ultraviolet ray blocking material layer 60b be as close as possible to the alignment film 26, and that there be an appropriate gap between the surface 60d of the opening and the alignment film 26 of the upper substrate 18.

【0042】図11は、マスク60の紫外線を透過する
板60aに取り付けられる紫外線遮断材料層60bが比
較的に厚さが大きいもので作られ、よって図9のものと
同様の作用を行うようにした例を示す図である。この場
合、紫外線遮断材料層60bは紫外線遮光レジンからな
るのが望ましい。
FIG. 11 shows that the ultraviolet ray blocking material layer 60b attached to the ultraviolet ray transmitting plate 60a of the mask 60 is made of a material having a relatively large thickness, and thus performs the same operation as that of FIG. FIG. In this case, it is desirable that the ultraviolet shielding material layer 60b is made of an ultraviolet shielding resin.

【0043】図12は、マスク60の紫外線を透過する
板60aと紫外線遮断材料層60bとの間にスペーサ6
0fが設けられ、よって図9のものと同様の作用を行う
ようにした例を示す図である。この場合、紫外線遮断材
料層60bはクロムからなり、スペーサ60fは適当な
レジンからなる。
FIG. 12 shows a structure in which a spacer 6 is provided between a plate 60a of the mask 60 which transmits ultraviolet light and an ultraviolet shielding material layer 60b.
FIG. 10 is a diagram showing an example in which 0f is provided, so that the same operation as that of FIG. 9 is performed. In this case, the ultraviolet blocking material layer 60b is made of chromium, and the spacer 60f is made of an appropriate resin.

【0044】図13は、上基板18の配向膜26の液晶
のプレチルト角α、γを異ならせる処理の第3実施例を
示す図である。この実施例では、微小な領域A、Bの表
面のプレチルトを支配する化学成分の分布を選択的に変
化させる。図13においては、(a)において上基板1
8の表面に配向膜26を塗布し、(b)において上基板
18の配向膜26をキュアリングし、(c)において配
向膜26にレジストマスク54を形成して配向膜26の
微小な領域Aに相当する部分の表面を少しエッチング
し、そして(d)においてラビングローラ57を用いて
配向膜26を図23のようにラビングする。
FIG. 13 is a view showing a third embodiment of the processing for changing the pretilt angles α and γ of the liquid crystal of the alignment film 26 of the upper substrate 18. In this embodiment, the distribution of the chemical component that controls the pretilt on the surface of the minute regions A and B is selectively changed. In FIG. 13, (a) shows the upper substrate 1
8, the alignment film 26 of the upper substrate 18 is cured in (b), and a resist mask 54 is formed on the alignment film 26 in (c) to form a small region A of the alignment film 26. Is slightly etched, and the alignment film 26 is rubbed using the rubbing roller 57 as shown in FIG.

【0045】図14は図13の(c)においてエッチン
グされた配向膜26の一部を拡大して示す図である。ポ
リイミドからなる配向膜26の材料は、上記したように
通常可溶性ポリイミドと言われ、種々の種類のポリイミ
ド成分を溶剤に溶かしたものである。ポリイミド成分の
中には、ジアミン成分等の、特にプレチルト角を支配す
る化学成分と、プレチルト角にはあまり影響を与えない
化学成分とが含まれる。プレチルト角を支配する化学成
分は通常疏水性を示し、空気や窒素等の低湿度雰囲気で
は、表面に集中しやすい。配向膜26のキュアリングに
おけるプリキュアの温度をできるだけ低温度で行うと、
プレチルト角を支配する化学成分はかなり表面に集中す
るようになる。
FIG. 14 is an enlarged view showing a part of the alignment film 26 etched in FIG. As described above, the material of the alignment film 26 made of polyimide is usually referred to as soluble polyimide, and is obtained by dissolving various kinds of polyimide components in a solvent. The polyimide component includes a chemical component such as a diamine component, which particularly controls the pretilt angle, and a chemical component that does not significantly affect the pretilt angle. The chemical component that controls the pretilt angle usually shows hydrophobicity, and tends to concentrate on the surface in a low humidity atmosphere such as air or nitrogen. If the temperature of the precure in the curing of the alignment film 26 is as low as possible,
The chemical components governing the pretilt angle become considerably concentrated on the surface.

【0046】図14では、ハッチングにより、プレチル
ト角を支配する化学成分が配向膜26の表面に集中して
いることを示している。プレチルト角を支配する化学成
分が集中している配向膜26の表面を選択的に変化させ
ると、プレチルト角を支配する化学成分が多く含まれる
部分とそのような成分がなくなっている部分とが形成さ
れ、それによって液晶のプレチルト角α、γを異ならせ
ることができる。実施例においては、配向膜26の表面
の形状を変化させる手段としてエッチングが利用され、
図14では図13の(c)におけるエッチングにより配
向膜26の微小な領域Aに相当する表面部分26xが少
しだけ削りとられている。隣接の微小な領域Bでは、プ
レチルト角を支配する化学成分が多く含まれている。な
お、レジストパターニング時の現像液によるダメージを
少くするため配向膜26のキュアリングにおけるポスト
キュアの温度をできるだけ高温度(例えば約300℃)
で行うようにしている(配向材料、JALS−214
(日本合成ゴム)の場合、250℃〜300℃)。な
お、ポリアミック酸タイプのポリイミドを使用した場合
には、比較的耐薬品性が高いのでキュア温度を200℃
以下におさえることも可能である(例えば、住友ベーク
ライト製、CRD4022)。
FIG. 14 shows that the chemical components governing the pretilt angle are concentrated on the surface of the alignment film 26 by hatching. When the surface of the alignment film 26 on which the chemical components governing the pretilt angle are concentrated is selectively changed, a portion containing many chemical components governing the pretilt angle and a portion lacking such components are formed. Thus, the pretilt angles α and γ of the liquid crystal can be made different. In the embodiment, etching is used as a means for changing the shape of the surface of the alignment film 26,
In FIG. 14, the surface portion 26x corresponding to the minute region A of the alignment film 26 is slightly removed by the etching in FIG. The adjacent minute region B contains many chemical components that govern the pretilt angle. Note that the post-curing temperature in the curing of the alignment film 26 is set as high as possible (for example, about 300 ° C.) in order to reduce the damage caused by the developing solution at the time of resist patterning.
(Orientation material, JALS-214
(In the case of Japanese synthetic rubber), 250 ° C to 300 ° C). When a polyamic acid type polyimide is used, the curing temperature is set to 200 ° C. because of its relatively high chemical resistance.
The following is also possible (for example, CRD4022, manufactured by Sumitomo Bakelite).

【0047】図15は、また、微小な領域A、Bの表面
のプレチルト角を支配する化学成分の分布を選択的に変
化させる手段として、上基板18と配向膜26との間に
配向膜26の疏水性を選択的に変化させる処理が施され
ている。より詳細には、微小な領域Aに相当する領域に
配向膜26の下地としてアモルファスシリコンの層61
が形成されている。表面酸化膜の存在しないアモルファ
スシリコンは疏水性を示す。従って、微小な領域Aにあ
るアモルファスシリコンの層61に接する配向膜26
は、プレチルト角を支配する化学成分がアモルファスシ
リコンの層61の近くに集中し、総体的に配向膜26の
表面側にはプレチルト角を支配する化学成分が少なくな
る。図15においても、ハッチングにより、プレチルト
角を支配する化学成分が集中している部分が示されてい
る。隣接の微小な領域Bでは、プレチルト角を支配する
化学成分が多く含まれているのが分かる。
FIG. 15 shows an alignment film 26 between the upper substrate 18 and the alignment film 26 as means for selectively changing the distribution of a chemical component that governs the pretilt angle on the surface of the minute regions A and B. Has been treated to selectively change the hydrophobicity of the water. More specifically, an amorphous silicon layer 61 is formed as a base of the alignment film 26 in a region corresponding to the minute region A.
Are formed. Amorphous silicon having no surface oxide film is hydrophobic. Therefore, the alignment film 26 in contact with the amorphous silicon layer 61 in the minute region A
The chemical component governing the pretilt angle is concentrated near the amorphous silicon layer 61, and the chemical component governing the pretilt angle is reduced on the surface side of the alignment film 26 as a whole. FIG. 15 also shows a portion where the chemical components governing the pretilt angle are concentrated by hatching. It can be seen that the adjacent minute region B contains many chemical components that govern the pretilt angle.

【0048】図16は上基板18の配向膜26の液晶の
プレチルト角α、γを異ならせる処理の第4実施例を示
し、微小な領域A、Bの表面の形状を選択的に変化(表
面積を変化)させる手段として、微小な領域Aの表面に
凹凸を設けている。微小な領域Aの表面に凹凸を設ける
と配向膜26の表面エネルギーが増大し、図6を参照し
て説明したように、プレチルト角は小さくなる。図16
は、上基板18の表面に凹凸を設け、その結果として配
向膜26の表面に凹凸が現れる例である。凹凸を有する
基板としてNO400、600、800、1000の擦
りガラス(サンドブラスト処理)を用い、又平滑なガラ
スを用いて、その上に配向膜を形成し、ラビングしてプ
レチルト角(度)を測定した結果は次の通りであった。
サンプルは番号が大きいほど目が細かくなる。 平滑 400 600 800 1000 6 1 1 1.5 1.5
FIG. 16 shows a fourth embodiment of the processing for changing the pretilt angles α and γ of the liquid crystal of the alignment film 26 of the upper substrate 18, and selectively changes the surface shape of the minute regions A and B (surface area). As a means for changing the above, irregularities are provided on the surface of the minute region A. When irregularities are provided on the surface of the minute region A, the surface energy of the alignment film 26 increases, and the pretilt angle decreases as described with reference to FIG. FIG.
Is an example in which unevenness is provided on the surface of the upper substrate 18, and as a result, unevenness appears on the surface of the alignment film 26. As an uneven substrate, NO 400, 600, 800, 1000 frosted glass (sand blasting) was used, and smooth glass was used to form an alignment film thereon, rubbed, and the pretilt angle (degree) was measured. The results were as follows.
The larger the sample number, the finer the eyes. Smooth 400 600 800 1000 6 1 1 1.5 1.5

【0049】図17は、図16の変形例として配向膜2
6に直接凹凸を設けた例を示している。配向膜26に凹
凸を設けるために、RIE─O(リアクティブイオンエ
ッチング─酸素)、RIE─Ar(リアクティブイオン
エッチング─アルゴン)、CDE(ケミカルドライエッ
チング)、OA(オゾンアッシング)等の半導体プロセ
スで公知の処理が利用できる。ガラス基板の上に配向膜
を形成し、これらの処理をしたもの、並びにこれらの処
理をしたものについて、ラビングしてプレチルト角
(度)を測定した結果は次の通りであった。 処理なし RIE─O RIE─Ar CDE OA 6 1 1 1.5 0.5 以上の処理は全て市販のポジ型レジストをマスクとして
使用し、レジストのベーク処理はその後にレジストが容
易に剥離できるように低温(例えば120℃以下)で行
った。なお、上記ドライ処理は、凹凸のみの効果ではな
く、UV照射と同等の表面改質効果を、多分に含んでい
るものと考えられる。
FIG. 17 shows a modification of FIG.
6 shows an example in which irregularities are directly provided. A semiconductor process such as RIE─O (reactive ion etching─oxygen), RIE─Ar (reactive ion etching─argon), CDE (chemical dry etching), OA (ozone ashing), etc., for providing unevenness on the alignment film 26. And a known process can be used. The results of measuring the pretilt angle (degrees) by rubbing and measuring the pre-tilt angle (degrees) of a glass substrate on which an alignment film was formed and subjected to these treatments, and those subjected to these treatments, were as follows. No processing RIE O RIE Ar CDE OA 6 1 1 1.5 0.5 All processing above uses a commercially available positive resist as a mask, and baking of the resist is performed so that the resist can be easily peeled thereafter. The test was performed at a low temperature (for example, 120 ° C. or lower). It is considered that the dry treatment probably includes not only the effect of unevenness but also a surface modification effect equivalent to UV irradiation.

【0050】図25は、上基板18の配向膜26の液晶
のプレチルト角α、γを異ならせる処理の第5実施例を
示す図である。この実施例では、微小な領域A、Bの表
面に選択的にプレチルト角を増減させる材料層を付着さ
せるステップを備える。より詳細には、プレチルト角を
増減させる材料層を付着させるステップは、液晶を基板
面に対して垂直方向に配向させる性質を有する材料層を
選択的に付着させるステップからなる。
FIG. 25 is a view showing a fifth embodiment of the processing for changing the pretilt angles α and γ of the liquid crystal of the alignment film 26 of the upper substrate 18. This embodiment includes a step of attaching a material layer for selectively increasing or decreasing the pretilt angle to the surfaces of the minute regions A and B. More specifically, the step of depositing a material layer for increasing or decreasing the pretilt angle includes the step of selectively depositing a material layer having a property of orienting liquid crystals in a direction perpendicular to the substrate surface.

【0051】図25においては、(a)において上基板
18の表面に配向膜26を塗布し、(b)において上基
板18の配向膜26をキュアリングし、(c)において
上基板18をチャンバ63内に入れ、チャンバ63内に
シロキサンガスを1000ppm含んだ窒素ガスを導入
してシロキサンを配向膜26に付着させ、そして(d)
においてラビングローラ57を用いて配向膜26を図2
3のようにラビングする。
In FIG. 25, an alignment film 26 is applied to the surface of the upper substrate 18 in (a), the alignment film 26 of the upper substrate 18 is cured in (b), and the upper substrate 18 is placed in a chamber in (c). Then, nitrogen gas containing 1000 ppm of siloxane gas is introduced into the chamber 63 to adhere siloxane to the alignment film 26, and (d)
In FIG. 2, the alignment film 26 is
Rub like 3

【0052】(c)の前に、配向膜26にレジストマス
ク54を形成し、配向膜26の微小な領域Aに相当する
部分を被覆しておくとともに、微小な領域Bに相当する
部分を露出させておく。従って、(c)においては、シ
ロキサンが配向膜26の微小な領域Bに相当する部分に
付着する。シロキサンは液晶を基板面に対して垂直方向
に配向させる性質を有する材料として知られており、よ
って微小な領域Bにおける液晶のプレチルト角がシロキ
サンの付着していない微小な領域Aよりも大きい5〜1
0度となる。この場合には、配向材は通常のラビング処
理をすればプレチルト角が1〜2度となるものを使用
し、微小な領域Aのプレチルト角が1〜2度である。シ
ロキサンを1000ppm含んだ窒素ガス中に配向膜2
6を10分間放置した処理の場合、微小な領域Bのプレ
チルト角が6〜7度となる。なお、配向膜26をシロキ
サンガス中で処理する代わりに、配向膜26をシロキサ
ン溶液中に浸漬することもできる。
Before (c), a resist mask 54 is formed on the alignment film 26 to cover a portion corresponding to the minute region A of the alignment film 26 and to expose a portion corresponding to the minute region B. Let it be. Therefore, in (c), the siloxane adheres to a portion corresponding to the minute region B of the alignment film 26. Siloxane is known as a material having a property of orienting liquid crystal in a direction perpendicular to the substrate surface. Therefore, the pretilt angle of the liquid crystal in the minute region B is larger than that in the minute region A where siloxane is not attached. 1
It becomes 0 degrees. In this case, an alignment material having a pretilt angle of 1 to 2 degrees when a normal rubbing process is performed is used, and the pretilt angle of the minute region A is 1 to 2 degrees. Alignment film 2 in nitrogen gas containing 1000 ppm of siloxane
In the case of the process in which 6 is left for 10 minutes, the pretilt angle of the minute area B is 6 to 7 degrees. Instead of treating the alignment film 26 in a siloxane gas, the alignment film 26 can be immersed in a siloxane solution.

【0053】図26は、上基板18の配向膜26の液晶
のプレチルト角α、γを異ならせる処理の第6実施例を
示し、微小な領域A、Bを選択的に加熱するステップか
らなる。図26においては、(a)において上基板18
の表面に配向膜26を塗布し、(b)において上基板1
8の配向膜26をキュアリングし、(c)においてラビ
ングローラ57を用いて配向膜26を図23のようにラ
ビングし、そして(d)において赤外線ヒータ等の熱源
からマスク65を介して配向膜26を選択的に加熱する
(例えば200℃)。配向膜26をラビングしたときに
配向膜26に接触する液晶のプレチルト角がαとなると
すれば、ラビング後に赤外線ヒータを用いて微小な領域
Aを加熱すると、配向膜26上のラビングの痕跡が若干
緩和され、プレチルト角がαからγに低下することにな
る。
FIG. 26 shows a sixth embodiment of the process for changing the pretilt angles α and γ of the liquid crystal of the alignment film 26 of the upper substrate 18 and comprises a step of selectively heating the minute regions A and B. 26A, the upper substrate 18 in FIG.
Is coated with an alignment film 26 on the surface of the upper substrate 1 in FIG.
8, the rubbing roller 57 is used to rub the alignment film 26 as shown in FIG. 23 in (c), and the alignment film 26 is heated from a heat source such as an infrared heater through a mask 65 in (d). 26 is selectively heated (eg, 200 ° C.). Assuming that the pretilt angle of the liquid crystal that comes into contact with the alignment film 26 when the alignment film 26 is rubbed becomes α, if the minute area A is heated using an infrared heater after the rubbing, traces of rubbing on the alignment film 26 may be slightly formed. As a result, the pretilt angle is reduced from α to γ.

【0054】図27は図26の加熱手段が赤外線ヒータ
66からなる例を示す。この場合、マスク65は熱を透
過せしめる部分65aと、熱を遮断する部分65bとを
有する櫛歯状のものとなっている。熱を透過せしめる部
分65a及び熱を遮断する部分65bはそれぞれ実質的
に画素ピッチの半分の大きさからなる。図28は図26
の加熱手段がレーザー源67からなる例を示す。さら
に、レーザー源67から発射されたレーザー光線を選択
的に走査する走査手段が使用される。走査手段はポリゴ
ンミラー68からなり、ポリゴンミラー68は自己の軸
線の周りで回転可能であり、加熱されるべき微小な領域
Aの幅方向(Y方向)にレーザー光線を走査する。さら
に、レーザー源67とポリゴンミラー68とは加熱され
るべき微小な領域Aの長さ方向(Z方向)に移動可能に
なっている。従って、微小な領域Aを帯状に加熱するこ
とができる。
FIG. 27 shows an example in which the heating means of FIG. In this case, the mask 65 has a comb-like shape having a portion 65a through which heat is transmitted and a portion 65b through which heat is blocked. The heat-transmitting portion 65a and the heat-shielding portion 65b are each substantially half the pixel pitch. FIG. 28 shows FIG.
The example in which the heating means is constituted by a laser source 67 is shown. Further, scanning means for selectively scanning the laser beam emitted from the laser source 67 is used. The scanning means comprises a polygon mirror 68, which is rotatable about its own axis, and scans the laser beam in the width direction (Y direction) of the minute area A to be heated. Further, the laser source 67 and the polygon mirror 68 are movable in the length direction (Z direction) of the minute area A to be heated. Therefore, the minute region A can be heated in a belt shape.

【0055】図29は、上基板18の配向膜26の液晶
のプレチルト角α、γを異ならせる処理の第5実施例を
示す図であり、(a)において上基板18に配向材26
を塗布した後で、(b)溶剤揮発時間が変わるように微
小な領域A、Bを選択的にプリキュアする。この場合に
も、上基板18をホットプレート69上に置き、上方か
ら赤外線ヒータで加熱する。マスク65を使用し、微小
な領域Bを遮蔽しつつ微小な領域Aを積極的に加熱す
る。
FIG. 29 is a view showing a fifth embodiment of the processing for changing the pretilt angles α and γ of the liquid crystal of the alignment film 26 of the upper substrate 18, and in FIG.
Is applied, (b) the minute regions A and B are selectively precure so as to change the solvent volatilization time. Also in this case, the upper substrate 18 is placed on the hot plate 69 and heated from above by an infrared heater. Using the mask 65, the minute region A is positively heated while shielding the minute region B.

【0056】プレチルト角はプリキュア処理により変化
し、図30に示されるように、プリキュア温度が低いほ
ど(プリキュア時間が長いほど)プレチルト角は大きく
なる。従って、プリトキュアの後で、(c)においてポ
ストキュアを行い、(d)においてラビングを行うと、
マスク65で遮蔽されつつプリキュアされた微小な領域
Bのプレチルト角がαとなり、微小な領域Aのプレチル
ト角がγになる。
The pretilt angle changes by the precure process, and as shown in FIG. 30, the lower the precure temperature (the longer the precure time), the larger the pretilt angle. Therefore, after pre-curing, post-curing is performed in (c) and rubbing is performed in (d),
The pretilt angle of the minute region B that is pre-cured while being shielded by the mask 65 is α, and the pretilt angle of the minute region A is γ.

【0057】図31は図29の変形例を示し、図29の
(b)において赤外線ヒータにより上基板18の配向膜
26を選択的に加熱する代わりに、上基板18の配向膜
26を選択的に冷却している。ただし、上基板18はホ
ットプレート69上に置いてあるので、全体としては加
熱され、冷風はプリキュア温度を調節するものである。
FIG. 31 shows a modification of FIG. 29. In FIG. 29B, instead of selectively heating the alignment film 26 of the upper substrate 18 by the infrared heater, the alignment film 26 of the upper substrate 18 is selectively heated. Cooling down. However, since the upper substrate 18 is placed on the hot plate 69, it is heated as a whole, and the cool air adjusts the precure temperature.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
一方の基板の配向膜が一層だけでそれに接触する液晶の
プレチルトが互いに異なる第1及び第2の微小な領域を
形成することができ、構造が簡単で画像の安定した、視
角特性及びコントラストの優れた液晶表示装置を得るこ
とができる。
As described above, according to the present invention,
The alignment film of one of the substrates has only one layer, and the first and second minute regions in which the pretilt of the liquid crystal contacting it are different from each other can be formed, the structure is simple, the image is stable, and the viewing angle characteristics and the contrast are excellent. Liquid crystal display device can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による液晶表示装置を示す断面図であ
る。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal display device according to the present invention.

【図2】図1の画素電極の配置を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating an arrangement of pixel electrodes in FIG. 1;

【図3】プレチルトを異ならせる第1実施例を示す図で
ある。
FIG. 3 is a diagram showing a first embodiment in which a pretilt is made different.

【図4】プレチルトを異ならせる第2実施例を示す図で
ある。
FIG. 4 is a diagram showing a second embodiment in which the pretilt differs.

【図5】UV照射時間とプレチルトとの関係を示す図で
ある。
FIG. 5 is a diagram showing a relationship between UV irradiation time and pretilt.

【図6】表面エネルギーとプレチルトとの関係を示す図
である。
FIG. 6 is a diagram showing a relationship between surface energy and pretilt.

【図7】UV照射により上下基板を製造する一例を示す
図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating an example of manufacturing upper and lower substrates by UV irradiation.

【図8】UV照射により上下基板を製造する他の例を示
す図である。
FIG. 8 is a diagram showing another example of manufacturing upper and lower substrates by UV irradiation.

【図9】UV照射で使用するマスクの変形例を示す図で
ある。
FIG. 9 is a view showing a modified example of a mask used for UV irradiation.

【図10】図9の作用を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining the operation of FIG. 9;

【図11】図9の変形例を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a modification of FIG. 9;

【図12】図9の他の変形例を示す図である。FIG. 12 is a view showing another modification of FIG. 9;

【図13】プレチルトを異ならせる第3実施例を示す図
である。
FIG. 13 is a diagram showing a third embodiment in which the pretilt differs.

【図14】図13の基板の拡大図である。FIG. 14 is an enlarged view of the substrate of FIG.

【図15】図14の変形例を示す図である。FIG. 15 is a diagram showing a modification of FIG.

【図16】プレチルトを異ならせる第4実施例を示す図
である。
FIG. 16 is a diagram showing a fourth embodiment in which the pretilt differs.

【図17】図16の変形例を示す図である。FIG. 17 is a diagram showing a modification of FIG. 16;

【図18】ツイストネマチック型液晶のラビングを示す
図である。
FIG. 18 is a diagram showing rubbing of a twisted nematic liquid crystal.

【図19】図19の液晶分子の配向を示す図である。19 is a diagram showing the orientation of the liquid crystal molecules in FIG.

【図20】図18の線XX−XXに沿った断面図であ
る。
FIG. 20 is a sectional view taken along lines XX-XX in FIG. 18;

【図21】ツイストネマチック型液晶表示装置の視角特
性を示す図である。
FIG. 21 is a diagram illustrating viewing angle characteristics of a twisted nematic liquid crystal display device.

【図22】画素分割の基本形を示す図である。FIG. 22 is a diagram showing a basic form of pixel division.

【図23】画素分割の進歩形を示す図である。FIG. 23 is a diagram showing an advanced form of pixel division.

【図24】先願の液晶表示装置を示す図である。FIG. 24 is a diagram showing a liquid crystal display device of the prior application.

【図25】プレチルトを異ならせる第5実施例を示す図
である。
FIG. 25 is a diagram showing a fifth embodiment in which the pretilt differs.

【図26】プレチルトを異ならせる第6実施例を示す図
である。
FIG. 26 is a diagram showing a sixth embodiment in which the pretilt differs.

【図27】図26の加熱手段の一例を示す図である。FIG. 27 is a diagram showing an example of the heating means of FIG. 26.

【図28】図26の加熱手段の他の例を示す図である。FIG. 28 is a view showing another example of the heating means of FIG. 26;

【図29】プレチルトを異ならせる第7実施例を示す図
である。
FIG. 29 is a diagram showing a seventh embodiment in which the pretilt is made different.

【図30】キュアリング温度きプレチルト角との関係を
示す図である。
FIG. 30 is a diagram showing a relationship between a curing temperature and a pretilt angle.

【図31】図29の変形例を示す図である。FIG. 31 is a diagram showing a modification of FIG. 29;

【図32】図1の変形例を示す図である。FIG. 32 is a diagram showing a modification of FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

16、18…基板 20…液晶 22、26…配向膜 A、B…微小な領域 16, 18: substrate 20: liquid crystal 22, 26: alignment film A, B: minute area

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 露木 俊 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 長谷川 正 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 鎌田 豪 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 笹林 貴 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 田沼 清治 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 間山 剛宗 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 大室 克文 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 増田 茂 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 平6−337420(JP,A) 特開 平4−247456(JP,A) 特開 平6−281937(JP,A) 特開 平6−130396(JP,A) 特開 平6−130397(JP,A) 特開 平6−82784(JP,A) 特開 平6−148641(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G02F 1/1337 G02F 1/13 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Shun Toshiki 1015 Uedanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Tadashi Hasegawa 1015 Uedanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Fujitsu Limited ( 72) Inventor Go Kamata 1015 Uedanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Takashi Sasabayashi 1015 Kamikodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Kiyoji Tanuma Kanagawa Prefecture 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Takemune Mayama 1015 Kamiodanaka Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited (72) Inventor Katsufumi Omuro Katsufumi Omuro Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture 1015 Odanaka Fujitsu Limited (72) Inventor Shigeru Masuda 1015 Kamiodanaka Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture JP-A-6-337420 (JP, A) JP-A-4-247456 (JP, A) JP-A-6-281937 (JP, A) JP-A-6-130396 (JP) JP-A-6-130397 (JP, A) JP-A-6-82784 (JP, A) JP-A-6-148641 (JP, A) (58) Fields studied (Int. Cl. 6 , DB Name) G02F 1/1337 G02F 1/13

Claims (13)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 配向膜(26)を有する第1の基板(1
8)と、該第1の基板と対向し且つ配向膜(22)を有
する第2の基板(16)と、該第1及び第2の基板の間
に挿入された液晶(20)とからなり、少くとも該第1
の基板の配向膜(26)が、第1及び第2の隣接する微
小な領域(A、B)を有する単一層の配向材層からな
り、該単一層の配向材層が該第1及び第2の微小な領域
(A、B)に沿って一方向に連続的にラビングされてな
る液晶表示装置の製造方法であって、該第1及び第2の
微小な領域(A、B)において選択的な改質処理を施す
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
1. A first substrate (1) having an alignment film (26).
8), a second substrate (16) facing the first substrate and having an alignment film (22), and a liquid crystal (20) inserted between the first and second substrates. , At least the first
Is composed of a single layer of an alignment material layer having first and second adjacent small regions (A, B), and the single layer of the alignment material layer is composed of the first and second layers. A method for manufacturing a liquid crystal display device, which is continuously rubbed in one direction along two minute regions (A, B), wherein a selection is made in the first and second minute regions (A, B). A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising subjecting a liquid crystal display device to a general modification process.
【請求項2】 配向膜の下に、配向膜の疎水性を変化さ
せる材料層を設け、前記材料層はアモルファスシリコン
層であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装
置の製造方法。
2. A material layer for changing the hydrophobicity of the alignment film is provided under the alignment film , wherein the material layer is made of amorphous silicon.
The method according to claim 1, characterized in Sodea Rukoto.
【請求項3】 前記改質処理は、該第1及び第2の微小
な領域(A、B)を選択的に加熱するステップからなる
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造
方法。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the modification process includes a step of selectively heating the first and second minute regions (A, B). Production method.
【請求項4】 前記加熱ステップは、赤外線ヒータ及び
レーザーの一方を使用することを特徴とする請求項
記載の液晶表示装置の製造方法。
Wherein said heating step, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 3, characterized by using one of the infrared heater and laser.
【請求項5】 前記加熱ステップは、ヒータと第1の基
板との間に熱を透過せしめる部分と、熱を遮断する部分
とを有するマスクを使用することを特徴とする請求項
に記載の液晶表示装置の製造方法。
Wherein said heating step, claim 3, characterized by using a mask having a portion allowed to transmit heat between the heater and the first substrate and a portion for blocking heat
3. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to item 1.
【請求項6】 前記マスクの熱を透過せしめる部分は実
質的に画素ピッチの半分の大きさからなることを特徴と
する請求項に記載の液晶表示装置の製造方法。
6. The method according to claim 5 , wherein a portion of the mask that transmits heat has a size substantially equal to a half of a pixel pitch.
【請求項7】 前記加熱ステップは、レーザー源と、該
レーザー源から発射されたレーザー光線を選択的に走査
する走査手段とを使用することを特徴とする請求項
記載の液晶表示装置の製造方法。
Wherein said heating step is the manufacture of liquid crystal display device according to claim 3, characterized in that use a laser source, a scanning means for selectively scanning the laser beam emitted from the laser source Method.
【請求項8】 前記第1の基板の第1及び第2の微小な
領域(A、B)の加熱されるべき微小な領域は長さと幅
とを有し、前記走査手段は該加熱されるべき微小な領域
の幅方向にレーザー光線を走査するとともに、該走査手
段は該加熱されるべき微小な領域の長さ方向に移動可能
になっていることを特徴とする請求項に記載の液晶表
示装置の製造方法。
8. The minute area to be heated of the first and second minute areas (A, B) of the first substrate has a length and a width, and the scanning unit is heated. 8. The liquid crystal display according to claim 7 , wherein the laser beam is scanned in a width direction of the minute area to be heated, and the scanning means is movable in a length direction of the minute area to be heated. Device manufacturing method.
【請求項9】 配向膜(26)を有する第1の基板(1
8)と、該第1の基板と対向し且つ配向膜(22)を有
する第2の基板(16)と、該第1及び第2の基板の間
に挿入された液晶(20)とからなり、少くとも該第1
の基板の配向膜(26)が、第1及び第2の隣接する微
小な領域(A、B)を有する単一層の配向材層からな
り、該単一層の配向材層が該第1及び第2の微小な領域
(A、B)に沿って一方向に連続的にラビングされてな
る液晶表示装置の製造方法であって、該第1及び第2の
微小な領域(A、B)において選択的な改質処理を施
し、前記改質処理は、該第1及び第2の微小な領域
(A、B)の表面のプレチルト角を支配する化学成分の
濃度分布を選択的に変化させるステップからなり、前記
第1及び第2の微小な領域(A、B)の表面のプレチル
ト角を支配する化学成分の濃度分布を選択的に変化させ
るステップは、該第1及び第2の微小な領域(A、B)
の表面に選択的にプレチルト角を増減させる材料層を付
着させるステップからなることを特徴とする液晶表示装
置の製造方法。
9. A first substrate (1) having an alignment film (26).
8), a second substrate (16) facing the first substrate and having an alignment film (22), and a liquid crystal (20) inserted between the first and second substrates. , At least the first
Is composed of a single layer of an alignment material layer having first and second adjacent small regions (A, B), and the single layer of the alignment material layer is composed of the first and second layers. A method for manufacturing a liquid crystal display device, which is continuously rubbed in one direction along two minute regions (A, B), wherein a selection is made in the first and second minute regions (A, B). A modification process, wherein the modification process selectively changes a concentration distribution of a chemical component that governs a pretilt angle of a surface of the first and second minute regions (A, B). The step of selectively changing the concentration distribution of the chemical component that governs the pretilt angle on the surface of the first and second minute regions (A, B) comprises: A, B)
Forming a material layer for selectively increasing or decreasing the pretilt angle on the surface of the liquid crystal display device.
【請求項10】 前記第1及び第2の微小な領域(A、
B)の表面に選択的にプレチルト角を増減させる材料層
を付着させるステップは、液晶を基板面に対して垂直方
向に配向させる性質を有する材料層を選択的に付着させ
るステップからなることを特徴とする請求項に記載の
液晶表示装置の製造方法。
10. The first and second minute regions (A,
The step of adhering the material layer for selectively increasing or decreasing the pretilt angle to the surface of B) comprises the step of selectively adhering a material layer having a property of orienting the liquid crystal in a direction perpendicular to the substrate surface. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 9 .
【請求項11】 配向膜(26)を有する第1の基板
(18)と、該第1の基板と対向し且つ配向膜(22)
を有する第2の基板(16)と、該第1及び第2の基板
の間に挿入された液晶(20)とからなり、少くとも該
第1の基板の配向膜(26)が、第1及び第2の隣接す
る微小な領域(A、B)を有する単一層の配向材層から
なり、該単一層の配向材層が該第1及び第2の微小な領
域(A、B)に沿って一方向に連続的にラビングされて
なる液晶表示装置の製造方法であって、前記第1の基板
に配向材を塗布した後で溶剤揮発時間が変わるように該
第1及び第2の微小な領域(A、B)を選択的にプリキ
ュアすることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
11. A first substrate (18) having an alignment film (26), and an alignment film (22) opposed to the first substrate.
And a liquid crystal (20) inserted between the first and second substrates, and at least the alignment film (26) of the first substrate has And a single layer of an alignment material layer having a second adjacent minute area (A, B), wherein the single layer of the alignment material layer extends along the first and second minute areas (A, B). A method of manufacturing a liquid crystal display device which is continuously rubbed in one direction, wherein said first and second fine particles are changed so that a solvent volatilization time changes after applying an alignment material to said first substrate. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising selectively curing regions (A, B).
【請求項12】 前記加熱プリキュアステップは、ヒー
タと第1の基板との間に熱を透過せしめる部分と、熱を
遮断する部分とを有するマスクを使用することを特徴と
する請求項11に記載の液晶表示装置の製造方法。
12. The method of claim 11, wherein the heating Precure step, according to claim 11, characterized by using a mask having a portion allowed to transmit heat between the heater and the first substrate and a portion for blocking heat Of manufacturing a liquid crystal display device.
【請求項13】 前記加熱プリキュアステップは、ヒー
タにより該第1の基板を加熱するとともに、該第1及び
第2の微小な領域(A、B)を選択的に冷却することを
特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置の製造方
法。
13. The heating pre-curing step includes heating the first substrate by a heater and selectively cooling the first and second minute regions (A, B). Item 12. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to item 11 .
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