JP2886956B2 - Semiconductor device - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 [概要] 半導体装置に係り、詳しくは半導体装置の降圧回路の
制御に関し、 高速試験等で使用される高電圧が印加された時にはそ
の高電圧がそのまま各内部回路に印加されて高速試験が
行え、通常の外部電圧が印加された時には降圧した内部
電圧を各内部回路に印加することができ、高速試験が非
常に効率よく行えることを目的とし、 外部電圧を降圧して内部回路に降圧電圧を供給する降
圧電圧発生回路を有する半導体装置において、前記外部
電圧が所定の電圧以上である場合には、前記降圧電圧発
生回路の降圧動作を無効化して該外部電圧を前記内部回
路に供給する無効化回路を備えている構成とした。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Summary] The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to control of a step-down circuit of a semiconductor device. When a high voltage used in a high-speed test or the like is applied, the high voltage is applied to each internal circuit as it is. High-speed testing can be performed, and when a normal external voltage is applied, the reduced internal voltage can be applied to each internal circuit.The purpose is to perform high-speed testing very efficiently. In a semiconductor device having a step-down voltage generating circuit for supplying a step-down voltage to an internal circuit, when the external voltage is equal to or higher than a predetermined voltage, the step-down operation of the step-down voltage generating circuit is invalidated to reduce the external voltage to the internal voltage. The configuration is such that an invalidation circuit for supplying the circuit is provided.
[産業上の利用分野] 本発明は半導体装置に係り、詳しくは半導体装置の降
圧電圧発生回路(以下、「降圧回路」という。)の制御
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly, to control of a step-down voltage generation circuit (hereinafter, referred to as a "step-down circuit") of a semiconductor device.
半導体装置では内部回路の微細化に伴って、降圧回路
によって外部電圧を降圧し、その降圧した電圧を内部電
圧として各内部回路に利用している。一方、半導体装置
の寿命を確認する高速試験等においては内部回路に高電
圧をかけて行われる。従って、高速試験を行うとき、印
加される高電圧が降圧回路によって影響を受けないよう
にすることが望ましい。In a semiconductor device, an external voltage is stepped down by a step-down circuit in accordance with miniaturization of an internal circuit, and the stepped-down voltage is used as an internal voltage in each internal circuit. On the other hand, in a high-speed test or the like for checking the life of a semiconductor device, a high voltage is applied to an internal circuit. Therefore, when performing a high-speed test, it is desirable that the applied high voltage is not affected by the step-down circuit.
[従来の技術] 近年、半導体装置は内部回路等の微細化に伴い高集積
化が図られてきている。そして、内部回路が微細化され
るに伴って内部回路の耐圧も低くなるため、内部電圧も
下げる必要がある。そのために、第5図に示すようにパ
ッド1から印加される外部電圧VCCを降圧して内部電圧
VINTを作り、各内部回路2に供給する降圧回路3が半
導体装置には設けられている。[Related Art] In recent years, high integration of a semiconductor device has been achieved with miniaturization of internal circuits and the like. Since the breakdown voltage of the internal circuit decreases as the internal circuit is miniaturized, it is necessary to reduce the internal voltage. To this end, as shown in FIG. 5, a semiconductor device is provided with a step-down circuit 3 which steps down an external voltage VCC applied from a pad 1 to generate an internal voltage VINT and supplies it to each internal circuit 2.
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、前記降圧回路3は第6図に示すように
外部電圧VCCに対して一律に降圧電圧ΔV分だけ下がっ
た内部電圧VINTを作るだけなので、加速試験等で高電
圧を外部から前記パッド1に印加しても降圧回路3にて
降圧されてしまうため高速試験ができなくなる。そこ
で、降圧回路3の降圧電圧ΔVを見越して降圧電圧ΔV
分だけ高くした高電圧を印加して行っていた。従って、
高速試験を行う場合、常に試験のために印加したい電圧
に降圧電圧ΔVを加えた高電圧をいちいち作らなければ
ならず非常に面倒であった。[Problems to be Solved by the Invention] However, as shown in FIG. 6, the step-down circuit 3 only generates the internal voltage VINT which is uniformly lower than the external voltage VCC by the step-down voltage ΔV. Even if a high voltage is applied to the pad 1 from the outside, the voltage is reduced by the step-down circuit 3 so that a high-speed test cannot be performed. Accordingly, the step-down voltage ΔV is anticipated in view of the step-down voltage ΔV of the step-down circuit 3.
It was performed by applying a high voltage that was increased by a certain amount. Therefore,
When a high-speed test is performed, a high voltage obtained by adding a step-down voltage ΔV to a voltage to be always applied for the test must be created one by one, which is very troublesome.
本発明は前記問題点を解消するためになされたもので
あって、その目的は高速試験等で使用される高電圧が印
加された時にはその高電圧がそのまま各内部回路に印加
されて高速試験が行え、通常の外部電圧が印加された時
には降圧した内部電圧を各内部回路に印加することがで
き、高速試験が非常に効率よく行えることができる半導
体装置を提供することにある。The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and has an object to apply a high voltage used in a high-speed test or the like to the high voltage as it is applied to each internal circuit to perform a high-speed test. An object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of performing a high-speed test very efficiently by applying a reduced internal voltage to each internal circuit when a normal external voltage is applied.
[課題を解決するための手段] 第1図は本発明の原理を説明するための原理説明図で
ある。[Means for Solving the Problems] FIG. 1 is a principle explanatory diagram for explaining the principle of the present invention.
降圧回路11はパッド12から外部電圧VCCが印加され、
外部電圧VCCに対して一律に予め定めた降下電圧ΔV分
だけ降圧し、その降圧した電圧を内部電圧VINTとして
内部回路13に印加する。The step-down circuit 11 receives an external voltage VCC from the pad 12,
The external voltage VCC is uniformly reduced by a predetermined voltage drop ΔV, and the reduced voltage is applied to the internal circuit 13 as the internal voltage VINT.
そして、第2図に示すように、無効化回路14はパッド
12から外部電圧VCCが印加され、パッド12に印加される
外部電圧VCCの電圧値を検知し、外部電圧VCCが高速試
験等のための印加された試験用高電圧としての所定電圧
Vd以上であるとき、活性化信号φを降圧回路11に出力す
る。そして、この活性化信号φによって降圧回路11の降
圧動作を無効化する。Then, as shown in FIG.
The external voltage Vcc is applied from the pad 12, the voltage value of the external voltage Vcc applied to the pad 12 is detected, and the external voltage Vcc is a predetermined voltage as an applied test high voltage for a high-speed test or the like.
When the voltage is equal to or higher than Vd, the activation signal φ is output to the step-down circuit 11. Then, the step-down operation of the step-down circuit 11 is invalidated by the activation signal φ.
[作用] 第2図に示すように、高速試験等のために所定電圧Vd
以上の試験用高電圧がパッド12に印加されると、無効化
回路14から出力される活性化信号φによって降圧回路11
の降圧動作が無効化される。従って、試験用高電圧が内
部回路13に印加され高速試験等が行われる。[Operation] As shown in FIG. 2, a predetermined voltage Vd
When the test high voltage is applied to the pad 12, the activation signal φ output from the invalidation circuit 14
Is disabled. Therefore, a high test voltage is applied to the internal circuit 13 to perform a high-speed test and the like.
一方、試験用高電圧としての所定電圧Vdより低い通常
の外部電圧がパッド12に印加されると、無効化回路14は
高速試験等のための高電圧でないとし活性化信号φを出
力しない。その結果、降圧回路11は正常に外部電圧VCC
を降圧して内部回路13に印加する。On the other hand, when a normal external voltage lower than the predetermined voltage Vd as the test high voltage is applied to the pad 12, the invalidation circuit 14 does not output the activation signal φ unless it is a high voltage for a high-speed test or the like. As a result, the step-down circuit 11 normally operates with the external voltage VCC.
Is reduced and applied to the internal circuit 13.
[実施例] 以下、本発明を具体化した半導体装置の一実施例第2
〜4図に従って説明する。Embodiment Hereinafter, a second embodiment of the semiconductor device according to the present invention will be described.
This will be described with reference to FIGS.
第3図に示すように、半導体装置の内部にはパッド12
を介して外部電圧VCCが供給されており、この外部電圧
VCCには降圧電圧発生回路としての降圧回路11を構成す
るNMOSトランジスタT1のドレイン端子が接続されてい
る。又、NMOSトランジスタT1のゲート端子は前記外部電
圧VCCに接続されるとともに、同NMOSトランジスタT1の
リース端子は無効化回路14を介して内部回路13に接続さ
れている。As shown in FIG. 3, a pad 12 is provided inside the semiconductor device.
An external voltage Vcc is supplied via an external voltage Vcc. The drain terminal of an NMOS transistor T1 constituting a step-down circuit 11 as a step-down voltage generating circuit is connected to the external voltage VCC. The gate terminal of the NMOS transistor T1 is connected to the external voltage VCC, and the lease terminal of the NMOS transistor T1 is connected to the internal circuit 13 via the invalidation circuit 14.
よって、前記NOMSトランジスタT1は外部電圧VCCがH
レベルの状態においては常にオン状態となり、NMOSトラ
ンジスタT1による電圧ドロップに基づいて所定の内部電
圧VINTに降圧し、無効化回路14を介して内部回路13に
供給するようになっている。Therefore, the NOMS transistor T1 has the external voltage VCC high.
In the state of the level, the voltage is always turned on, the voltage is reduced to a predetermined internal voltage VINT based on the voltage drop by the NMOS transistor T1, and is supplied to the internal circuit 13 via the invalidation circuit 14.
次に、無効化回路14の構成に付いて詳述する。前記外
部電圧VCCにはPMOSトランジスタT2のソース端子が接続
されるとともに、ドレイン端子は前記内部回路13に接続
されている。又、ソース端子が前記内部回路13に接続さ
れるNMOSトランジスタT3のドレイン端子は前記降圧回路
11におけるNMOSトランジスタT1のソース端子が接続され
ている。Next, the configuration of the invalidation circuit 14 will be described in detail. The source terminal of the PMOS transistor T2 is connected to the external voltage VCC, and the drain terminal is connected to the internal circuit 13. The drain terminal of the NMOS transistor T3 whose source terminal is connected to the internal circuit 13 is connected to the step-down circuit.
The source terminal of the NMOS transistor T1 in 11 is connected.
即ち、前記NMOSトランジスタT1により所定の電圧に降
圧された内部電圧VINTがこのNMOSトランジスタT3を介
して内部回路13に供給されるようになっている。That is, the internal voltage VINT stepped down to a predetermined voltage by the NMOS transistor T1 is supplied to the internal circuit 13 via the NMOS transistor T3.
又、外部電圧VCCにはゲート端子を自己のドレイン端
子に接続したNMOSトランジスタT4a〜T4dが直列に接続さ
れ、そのNMOSトランジスタT4dのソース端子は抵抗R1を
介して接地されている。Further, NMOS transistors T4a to T4d each having a gate terminal connected to its own drain terminal are connected in series to the external voltage VCC, and the source terminal of the NMOS transistor T4d is grounded via a resistor R1.
更に、外部電圧VCCには抵抗R2の一端が接続されると
ともに、その他端はNMOSトランジスタT5のドレイン端子
が接続されている。同NMOSトランジスタT5のソース端子
は接地されるとともに、ゲート端子は前記抵抗R1とNMOS
トランジスタT4dのソース端子との間に接続されてい
る。Further, one end of the resistor R2 is connected to the external voltage VCC, and the other end is connected to the drain terminal of the NMOS transistor T5. The source terminal of the NMOS transistor T5 is grounded, and the gate terminal is connected to the resistor R1 and the NMOS.
It is connected between the source terminal of the transistor T4d.
従って、NMOSトランジスタT5のゲート端子にはNMOSト
ランジスタT4a〜T4dと抵抗R1とで決定される外部電圧V
CCの分圧電圧が印加される。Accordingly, the gate terminal of the NMOS transistor T5 has an external voltage V determined by the NMOS transistors T4a to T4d and the resistor R1.
The divided voltage of CC is applied.
そして、前記NMOSトランジスタT4a〜T4dのオン状態に
おける電圧降下は抵抗R1の電圧降下より大きくなってお
り、通常の状態においてはNMOSトランジスタT5がオフ状
態となるようにNMOSトランジスタT4a〜T4dと抵抗R1とに
より外部電圧VCCを分圧している。The voltage drop in the ON state of the NMOS transistors T4a to T4d is larger than the voltage drop of the resistor R1, and in the normal state, the NMOS transistors T4a to T4d and the resistor R1 are turned off so that the NMOS transistor T5 is turned off. Divides the external voltage VCC.
又、前記PMOSトランジスタT2及びNMOSトランジスタT3
のゲート端子は、抵抗R2とNMOSトランジスタT5のドレイ
ン端子との間に接続されている。Further, the PMOS transistor T2 and the NMOS transistor T3
Is connected between the resistor R2 and the drain terminal of the NMOS transistor T5.
そして、通常NMOSトランジスタT5はオフ状態にあるた
め、NMOSトランジスタT3及びPMOSトランジスタT2のゲー
ト端子はHレベルとなり、NMOSトランジスタT3はオン状
態、PMOSトランジスタT4はオフ状態となる。その結果、
降圧回路11のNMOSトランジスタT1によって降圧された内
部電圧VINTがNMOSトランジスタT3を介して内部回路13
に供給されるようになっている。Since the NMOS transistor T5 is normally in the off state, the gate terminals of the NMOS transistor T3 and the PMOS transistor T2 are at the H level, the NMOS transistor T3 is in the on state, and the PMOS transistor T4 is in the off state. as a result,
The internal voltage VINT stepped down by the NMOS transistor T1 of the step-down circuit 11 is supplied to the internal circuit 13 via the NMOS transistor T3.
It is supplied to.
一方、第4図に示すように外部電圧VCCが徐々に上昇
していくと徐々に抵抗R1の電位が上昇し、やがて外部電
圧VCCの電圧が高速試験のための所定電圧Vd以上になる
と、同抵抗R1の電圧はNMOSトランジスタT5がオン動作す
るゲート電圧となる。そのため、NMOSトランジスタT5の
ドレイン端子の電位はLレベルとなり、NMOSトランジス
タT3をオフ、PMOSトランジスタT2をオンさせるようにな
っている。従って、この場合直接外部電圧VCC、即ち高
速試験用の電圧Vdが内部回路13に供給される。On the other hand, as shown in FIG. 4, when the external voltage VCC gradually rises, the potential of the resistor R1 gradually rises, and when the voltage of the external voltage VCC becomes higher than or equal to a predetermined voltage Vd for a high-speed test, the same occurs. The voltage of the resistor R1 is a gate voltage at which the NMOS transistor T5 turns on. Therefore, the potential of the drain terminal of the NMOS transistor T5 becomes L level, turning off the NMOS transistor T3 and turning on the PMOS transistor T2. Therefore, in this case, the external voltage VCC, that is, the voltage Vd for the high-speed test is directly supplied to the internal circuit 13.
次に、上記のように構成された半導体装置の作用に付
いて説明する。Next, the operation of the semiconductor device configured as described above will be described.
上記のように構成された半導体装置の加速試験等を行
う場合、所定電圧Vdを越えた高電圧をパッド12を介して
外部電圧VCCとして供給する。すると、抵抗R1の電位が
上昇するため、NMOSトランジスタT5がオン動作する。When performing an acceleration test or the like of the semiconductor device configured as described above, a high voltage exceeding a predetermined voltage Vd is supplied as an external voltage VCC through the pad 12. Then, the potential of the resistor R1 increases, so that the NMOS transistor T5 is turned on.
そのため、無効化回路14におけるNMOSトランジスタT5
のドレイン端子の電位がLレベルとなり、NMOSトランジ
スタT3をオフ、PMOSトランジスタT2をオンさせる。この
結果、降圧回路11から降圧された内部電圧VINTはNMOS
トランジスタT3のオフにより内部回路13に供給されず、
PMOSトランジスタT2を介して高速試験用の高電圧が内部
電圧VINTとして内部回路13に供給される。Therefore, the NMOS transistor T5 in the invalidation circuit 14
The potential of the drain terminal becomes L level, the NMOS transistor T3 is turned off, and the PMOS transistor T2 is turned on. As a result, the internal voltage VINT stepped down from the step-down circuit 11 becomes the NMOS
Not supplied to the internal circuit 13 due to the turning off of the transistor T3,
A high voltage for a high-speed test is supplied to the internal circuit 13 as an internal voltage VINT via the PMOS transistor T2.
従って、従来とは異なり高速試験を行う際に降圧回路
11による降圧電圧ΔVを見越した電圧をパッド12に供給
する必要がなくなり、高速試験を非常に効率よく行うこ
とができる。Therefore, unlike the past, when performing a high-speed test, the step-down circuit
There is no need to supply a voltage anticipating the step-down voltage ΔV by the pad 11 to the pad 12, and a high-speed test can be performed very efficiently.
又、通常の使用状態においては外部電圧VCCにより無
効化回路14の抵抗R1の電位が小さいので、NMOSトランジ
スタT5をオンさせることができない。In a normal use state, the potential of the resistor R1 of the invalidation circuit 14 is small due to the external voltage VCC, so that the NMOS transistor T5 cannot be turned on.
その結果、NMOSトランジスタT5のドレイン端子の電位
はHレベルとなるため、NMOSトランジスタT3はオン、PM
OSトランジスタT2はオフとなり、PMOSトランジスタT2か
ら直接外部電圧VCCが内部回路13に供給されることはな
い。そして、外部電圧VCCは降圧回路11のNMOSトランジ
スタT1により所定の電圧に降圧され、無効化回路14のNM
OSトランジスタT3を介して内部回路13に内部電圧VINT
として供給することができる。As a result, the potential of the drain terminal of the NMOS transistor T5 becomes H level.
The OS transistor T2 is turned off, and the external voltage VCC is not directly supplied to the internal circuit 13 from the PMOS transistor T2. Then, the external voltage VCC is stepped down to a predetermined voltage by the NMOS transistor T1 of the step-down circuit 11, and
The internal voltage VINT is applied to the internal circuit 13 via the OS transistor T3.
Can be supplied as
[発明の効果] 以上詳述したように、本発明は高速試験等で使用され
る高電圧が印加された時にはその高電圧がそのまま各内
部回路に印加されて高速試験が行え、通常の外部電圧が
印加された時には降圧した内部電圧を各内部回路に印加
することができ、高速試験が非常に効率よく行えること
ができる優れた効果を有する。[Effects of the Invention] As described above in detail, according to the present invention, when a high voltage used in a high-speed test or the like is applied, the high voltage is applied to each internal circuit as it is to perform a high-speed test. Is applied, the reduced internal voltage can be applied to each internal circuit, and a high-speed test can be performed very efficiently.
第1図は本発明の原理説明図、 第2図は原理図に基づく特性図、 第3図は本発明を具体化した半導体装置の電気回路図、 第4図は無効化回路を動作させて降圧回路を無効化する
ための特性図、 第5図は従来の半導体装置を示す構成図、 第6図は従来の半導体装置の特性図である。 図において、 11は降圧回路(降圧電圧発生回路)、 13は内部回路、 14は無効化回路、 VCCは外部電圧、 VINTは内部電圧である。1 is a diagram illustrating the principle of the present invention, FIG. 2 is a characteristic diagram based on the principle diagram, FIG. 3 is an electric circuit diagram of a semiconductor device embodying the present invention, and FIG. FIG. 5 is a characteristic diagram for disabling the step-down circuit, FIG. 5 is a configuration diagram showing a conventional semiconductor device, and FIG. 6 is a characteristic diagram of the conventional semiconductor device. In the figure, 11 is a step-down circuit (step-down voltage generating circuit), 13 is an internal circuit, 14 is a nullification circuit, VCC is an external voltage, and VINT is an internal voltage.
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 27/04,21/822 Continuation of the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) H01L 27 / 04,21 / 822
Claims (1)
供給する降圧電圧発生回路を有する半導体装置におい
て、 前記外部電圧が所定の電圧以上である場合には、前記降
圧電圧発生回路の降圧動作を無効化して該外部電圧を前
記内部回路に供給する無効化回路を備えていることを特
徴とする半導体装置。1. A semiconductor device having a step-down voltage generation circuit for stepping down an external voltage and supplying a step-down voltage to an internal circuit, wherein the step-down voltage generation circuit includes a step-down circuit when the external voltage is equal to or higher than a predetermined voltage. A semiconductor device comprising an invalidating circuit for invalidating an operation and supplying the external voltage to the internal circuit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2236556A JP2886956B2 (en) | 1990-09-05 | 1990-09-05 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2236556A JP2886956B2 (en) | 1990-09-05 | 1990-09-05 | Semiconductor device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04115562A JPH04115562A (en) | 1992-04-16 |
JP2886956B2 true JP2886956B2 (en) | 1999-04-26 |
Family
ID=17002399
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2236556A Expired - Lifetime JP2886956B2 (en) | 1990-09-05 | 1990-09-05 | Semiconductor device |
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Families Citing this family (1)
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---|---|---|---|---|
JP2885187B2 (en) * | 1996-05-17 | 1999-04-19 | 日本電気株式会社 | Semiconductor storage device |
-
1990
- 1990-09-05 JP JP2236556A patent/JP2886956B2/en not_active Expired - Lifetime
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