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JP2886756B2 - 板状体の非接触位置決め装置 - Google Patents

板状体の非接触位置決め装置

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JP2886756B2
JP2886756B2 JP4019493A JP4019493A JP2886756B2 JP 2886756 B2 JP2886756 B2 JP 2886756B2 JP 4019493 A JP4019493 A JP 4019493A JP 4019493 A JP4019493 A JP 4019493A JP 2886756 B2 JP2886756 B2 JP 2886756B2
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wafer
central axis
light
sensor unit
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敏治 岸村
龍二 岡本
国明 宮地
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Hitachi Ltd
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Hitachi Techno Engineering Co Ltd
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、板状体(ウエハ)をそ
の上に塵埃などを落下させずに非接触で位置決めする装
置に関する。
【0002】たとえば、半導体装置の製造方法において
は、半導体ウエハを自動的に搬送する工程が多数存在す
る。これらの搬送工程において、半導体ウエハに損傷を
与えずに、所望の位置に正確に搬送するためには、半導
体ウエハを所定位置に正確にかつ機械的衝撃を与えるこ
となく、塵埃等を付着させることなく、速やかに配置す
る技術が必要である。
【0003】
【従来の技術】従来のシリコンウエハなどの非接触位置
決め装置は、所定の大きさのウエハをその主面と平行な
方向に移動させ、静止固定している複数のホトカプラ
(発光素子と受光素子との組み合わせ)で構成されるセ
ンサユニットで位置検出をしたり、静止固定されている
所定の大きさのウエハを該ウエハの主面と平行な方向に
移動するセンサユニットで位置検出をすることにより、
所定の位置へ位置決めをするものであった。
【0004】このような従来技術を示すものとして、技
術誌『自動化技術』第19巻 第8号(1987)pp
54〜60に記載の論文や特公昭61−3637号公報
がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、位
置決めすべきウエハの真上には、前記センサユニットま
たは、その一部が存在するような配置となっていて、ク
リーンルーム内におけるダウンフローが行き届かなかっ
たり、そこに大気中の塵や微小パーティクル等が溜り、
真下にあるウエハの上面に異物が落下し付着する恐れが
ある。
【0006】また、これらの装置の構造は、クリーンル
ーム内のダウンフローの気流を乱すようなものであった
り、ダウンフローの気流を遮るものであった。さらに
は、所定の大きさのウエハとはサイズが異なるウエハを
検出しようとすると、検出に必要なウエハあるいはセン
サユニットの移動距離が大きくなり、位置検出に時間が
かかりまた移動機構も大きいものになってしまう。
【0007】この点を解決すべく光センサの数を増やし
て、各種サイズのウエハの位置検出が短時間に完了する
ようにしたとしても、多数の光センサの配置や配線さら
には各光センサの検出結果の処理回路などの面で装置が
複雑となる。
【0008】本発明の目的は、ウエハの上面に異物が落
下せず各種形状、サイズのウエハの位置検出に対して正
確かつ迅速に対応することが可能である簡素な構成のウ
エハの非接触位置決め装置を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の特徴とするところは、指向性の強い電磁波または音
波で構成される集束エネルギ線がウエハの縁に接するこ
とをセンサで検出してウエハの非接触位置決めを行なう
ものにおいて、複数の集束エネルギ線を中心軸に沿って
次第に収束、または発散する方向に放射するエミッショ
ン手段および放射されたエネルギ線をそれぞれ検出する
検出手段を有するセンサユニットと、前記中心軸にほぼ
垂直な面内にウエハを保持する手段と、前記ウエハの縁
が前記複数の集束エネルギ線のおのおのに接するように
前記センサユニットおよびウエハの一方を他方に対して
相対的に移動または回転させる手段とを備え、前記エミ
ッション手段および検出手段の双方のうち板状体より鉛
直方向上方に位置するものは板状体の周縁より外側に設
置されていることにある。
【0010】
【作用】中心軸に沿って次第に収束、または発散する方
向に複数の集束エネルギ線を放射しつつ、中心軸ににほ
ぼ垂直な面内に板状体を保持し、該板状体またはセンサ
ユニットを相対的に中心軸に沿って移動または回転させ
た場合に、複数の集束エネルギ線の各々を板状体の縁で
遮ることができる。
【0011】板状体の高さを変化させ、その縁によって
各集束エネルギ線が初めて遮られた高さから各集束エネ
ルギ線上の位置を求め、その位置を中心軸と垂直な面に
投影すると、板状体と合同または相似となる図形の形状
を特徴化できる点となる。
【0012】これら特徴化点の基準点からの距離差と集
束エネルギ線の配置より、板状体中心の面内方向での位
置偏差を知ることができる。また、集束エネルギ線また
は板状体のどちらか一方を他方に対して回転させたと
き、集束エネルギ線が板状体によって遮られた各点の出
力と回転角の関係と集束エネルギ線の配置より、板状体
の面内方向での位置決めしようとしている所定の角度か
らの角度偏差を得ることができる。
【0013】これらのデータに基づき、板状体を保持す
るハンドもしくはテーブルのセンサユニットに対する相
対的な移動または回転により板状体の位置修正を行な
う。検知ラインに用いる複数の集束エネルギ線の本数は
板状体の形状を特徴化できる数であればよいので、エミ
ッタおよび検出器の数は少なくて済み、装置全体は簡素
なものとなる。
【0014】また、中心軸に沿って次第に収束、または
発散する方向に複数の集束エネルギ線を放射する前記エ
ミッション手段、または、前記検出手段をウエハの真上
の位置に設置しないことにより、クリーンルーム内にお
けるダウンフローを乱さず、また、ウエハの真上に、大
気中の塵や微小パーティクル等が溜らないので、ウエハ
の上面に異物が落下付着することは少なく、高クリーン
度でウエハの非接触位置決めを行なうことができる。
【0015】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1により説明す
る。図1において、ベース1にガイドレール2が固定さ
れ、ガイドレール2の上をガイドブロック3が移動でき
るようになっている。ガイドブロック3にはサポート4
が固定されている。また、ベース1にはモータブラケッ
ト5が固定され、モータブラケット5にはパルスモータ
7aが固定されている。
【0016】サポート4にボールねじナット6があり、
パルスモータ7aの出力軸にはボールねじナット6に通
されたボールねじ8が取り付けられている。従って、パ
ルスモータ7aが回転すると、サポート4はガイドレー
ル2の上をZ方向に昇降する。
【0017】サポート4には水平多関節ロボットの本体
13eが取り付けられている。ロボット本体13eの上
部にはロボット軸13d、リンク13cがあり、リンク
13cはさらにリンク13b、ハンド13aに接続され
ている。
【0018】また、ロボット本体13eの下部には、ハ
ンド13aをロボット軸中心Orに対して直進的に(半
径方向に)伸縮する動作を行なう駆動用のパルスモータ
7c、また、ハンド13aをロボット軸中心Orまわり
に(円周方向に)回転させる駆動用のパルスモータ7d
が取り付けられている。この水平多関節ロボットの制御
は制御機器10が担当する。
【0019】ハンド13aには、前後機器から搬送され
てきたウエハ12が載っている。このハンド13aの先
端部は二股に分かれ、その間をウエハ12が載っている
面と平行な面を有する回転テーブル11が通過できるよ
うになっている。回転テーブル11は回転軸を内蔵した
ハウジング18上に配置されている。
【0020】ハウジング18はブラケット19上に固定
されている。ハウジング18、ブラケット19を介して
回転テーブル11の支持軸がベース1に対して回転可能
に取り付けられている。ブラケット19の下部には、回
転テーブルを回転させるパルスモータ7bが取り付けら
れている。
【0021】回転テーブル11の中心における法線であ
る仮想的中心軸に沿って次第に収束、または発散する方
向に複数の集束エネルギ線を放射する発光素子14a〜
14gと、放射された光線16(全てを図示すると複雑
になるので、16dで代表して図示した)をそれぞれ検
出する光検出器15a〜15gを有するセンサユニット
17は、ベース1とともに空間を形成するハウジング1
a(簡略化のために一部のみを図示した)に固定されて
いる。なお、発光素子14hと光検出器15hとを有す
るセンサについては後述する。
【0022】制御機器10は、発光素子14a〜14g
に駆動電流を供給して各発光素子から光線を発射させ
る。ウエハ12がない状態では、光検出器15a〜15
gはそれぞれ光線を受光する。ウエハ12によって光線
が遮られると、光検出器は受光しなくなり、その出力を
変化させる。このようにして、光検出器15の出力信号
によってウエハ12の縁端部を検出できる。
【0023】パルスモータ7a〜7dの出力軸にはエン
コーダ9a〜9dが接続され、それぞれのパルスモータ
の出力軸の回転を検出する信号を発生する。光検出器1
5a〜15gの出力信号およびエンコーダ9a〜9dの
出力信号は、制御機器10に取り込まれる。また、制御
機器10はパルスモータ7a〜7dに駆動パルスを供給
するドライバの機能も果たしている。
【0024】次に、位置決め動作について説明する。な
お、位置決めにおいては、ウエハ等の位置決め対象物の
位置がある場所で検出できればよく、必ずしも最終状態
での位置が検出されなくてもよい。その後の移動は、ハ
ンドやテーブルの移動量で知ることができる。
【0025】パルスモータ7aの回転によるボールねじ
8の駆動でウエハ12の載っているハンド13aをウエ
ハ12の主面と垂直なZ方向に昇降させることにより、
位置決めしようとしている所定の位置からの面内方向に
おける位置偏差を得ることができる。
【0026】図2は発光素子から発射される光線16a
〜16gとウエハ12の関係を示している。光線16a
〜16gは一点鎖線で示すようにZ軸を中心軸とする錐
状に放射され、その交点16Zは錐の頂点であり、二点
鎖線で示すZ軸上にある。
【0027】各光線16a〜16gとZ軸に垂直な平面
との交点を該平面上で結ぶ図形は、平面の高さに拘ら
ず、全て相似形となる。図示の場合は七角形であるがこ
の七角形が内接する円形とも等価なものとして扱える。
なお、実際の装置においては、後述するようにハンドの
挿入等のため、正多角形以外の形を取ることが多い。
【0028】まず、ウエハ12aのXY面内位置は正し
く、Z軸方向の位置のみが不明であるとする。今、ウエ
ハ12aが点線で示す位置に配置されているとする。こ
の時、全光線16a〜16gはウエハ12aの縁で遮ら
れていないため、光検出器15a〜15gは全光線16
a〜16gを検出する。これは、ウエハ12が未だ検出
されていないことを意味する。
【0029】そこで、ウエハ12をZ軸に沿って下降さ
せる。実線で示す位置において、全光線16a〜16g
をウエハ12aの縁で同時に遮ったとする。この時、光
検出器15a〜15gは全光線16a〜16gを検出し
なくなる。そこで、この位置でウエハ12のZ方向位置
が検出されたものと判断してウエハ12の移動を止め
る。
【0030】光線16a〜16gは一点鎖線で示す錐状
に放射されているから、ウエハ12をZ方向にわずかに
移動させるだけで光線16a〜16gをウエハ12で遮
ることができ、迅速に位置検出を行なうことができる。
【0031】たとえば、厚さの異なるウエハ12の表面
を所定の高さに位置決めすることが容易に行なえるし、
さらにウエハ12の径が異なる場合でも光線とウエハの
相対位置が変化するだけであり、ウエハ径を入力してお
けば、ウエハが光線を遮った高さからウエハ表面の高さ
を知ることができ、同じ光線16の配置で位置決めする
ことができる。
【0032】円形ウエハの場合、光線は位置を指定でき
る最低3本の光線を放つものでよいから、装置全体は簡
素なものとなる。ただし、より多数の光ビームを用いる
と、後述のような利点が得られる。
【0033】次に、ウエハ12がZ軸方向だけでなくX
軸やY軸の方向にもずれている場合にそのずれを検出
し、必要に応じて修正する例を説明する。本例では、ハ
ンド13a上に水平に載っているウエハ12を発光素子
14a〜14gと光検出器15a〜15gとの間に入れ
た状態で、パルスモータ7aによるボールねじ駆動によ
りZ軸に沿って移動させる。各光線がウエハと接する位
置を検出することにより、ウエハ12の位置検出を行な
う。
【0034】光線の配置における発光素子群と光検出器
群の中心軸、すなわち、錐状に放射されている各光線の
交点16Zの存在するZ軸とウエハ12の中心軸が偏心
していると、ウエハ12の端縁が光線を遮る位置は光検
出器15a〜15gで異なってくる。
【0035】それぞれの光線が遮られる位置を検出し、
その位置データを制御機器10で演算することによって
ウエハ12の中心軸が光線の配置の中心軸からどの方向
にどれだけ偏心しているか、すなわち、ウエハ12の位
置(面内偏差)を検出することができる。
【0036】この演算結果より、ウエハ12を偏心量だ
け逆方向に移動させることで、ウエハ12を測定系とは
非接触で正確にセンタリングすることが可能となる。以
下、制御機器10で行なう位置データの演算について詳
細に説明する。
【0037】図1のA1−A2矢視線の方向を水平と
し、ウエハ12を上面から見た状況を図3に示す。水平
面(XY面)上に投影した状態で考察する。本図は、ウ
エハ12の中心Obが、光線の配置の中心軸Oaから偏
心している場合について示したものである。
【0038】射影面上で光線16aと光線16eを結ぶ
線は、中心軸Oaを通る一直線上にあり、また、同じく
光線16bと光線16fを結ぶ線も、中心軸Oaを通る
一直線上にあり、また、同じく光線16cと光線16g
を結ぶ線も、中心軸Oaを通る一直線上にある。
【0039】また、光線16cと光線16eのなす角の
中央部に光線16dが中心軸Oaを通る方向に配置され
ている。光線16bと光線16fはA1−A2矢視線の
方向に向いていて、光線16a、16c、16e、16
gはA1−A2矢視線の方向に対してそれぞれ45度の
角度をなしている。すなわち、ハンド13aの挿入方向
に光線16dがあり、各光線16a〜16gはそれぞれ
隣接光線と45度の角度をなしている。
【0040】ウエハ12をZ軸に沿って移動させると、
図示の場合、ウエハ12によって光線16f、16g、
16e、16d、16a、16c、16bの順番に遮ら
れる。
【0041】各光線が初めて遮光された時、光検出器1
5a〜15gの出力が変化し、ウエハの高さを知ること
ができる。この高さから各光線16a〜16gのウエハ
12の外側の部分の長さが判明する。このウエハ12外
側部分の光線を射影面上へ投影した長さをそれぞれL
a、Lb、Lc、Ld、Le、Lf、Lgとする。
【0042】Oaを原点とし、図3に示すように、ハン
ド13aの挿入方向をY軸方向、ハンド13aの挿入方
向と直角な方向をX軸方向とする。光線の配置の中心軸
Oaとウエハ12の中心Obの各軸方向の偏差x,y
は、たとえば、
【0043】
【数1】
【0044】
【数2】 と近似できる。なお、異なる方向の光線を用いた時は数
式が変化するが、その導出は当業者に自明であろう。
【0045】図3では、ウエハ12のオリエンテーショ
ンフラットがいずれの光線にも検出されない場合につい
て示したが、オリエンテーションフラットがどれかの光
線によって検出されている場合でも、どの光軸がオリエ
ンテーションフラットやノッチ等を検出しているかをウ
エハ12の主面へ投影した光線の長さLを比較すること
によって判別でき、オリエンテーションフラットやノッ
チ等を検出していない箇所の光線の長さからウエハ12
の中心Obの各軸方向の偏差x,yを算出することがで
きる。
【0046】したがって、各光線16a〜16gがウエ
ハ12で遮光されるときの高さを表すエンコーダ9aの
信号を図1の制御機器10に取り込み、予め分かってい
る発光素子14a〜14gの位置データなどから各遮光
された部分の光線の長さLa〜Lgを求め、上記両式ま
たは対応する式で演算して偏差x,yを容易に得ること
ができる。
【0047】次に、偏差x,yだけハンド13aを逆方
向に移動させると、中心軸Oaとウエハ12の中心Ob
は一致する。このようにして、ウエハ12の面内位置を
測定し、修正することができる。
【0048】次に、オリエンテーションフラットの位置
決めについて説明する。上記に説明した方法により、ま
ず中心軸Oaとウエハ12の中心Obを一致させる。ウ
エハ12のセンタリングが完了すると、ハンド13aは
さらに下降し、回転テーブル11にウエハ12を預け
る。
【0049】図1において、発光素子14hから放射さ
れた光線16hは光検出器15hに受光されるようにな
っていて、この光線16hにより回転テーブル11上に
載っているウエハ12のオリエンテーションフラット部
を検出する。
【0050】図1におけるA1−A2矢視線の方向を水
平とし、ウエハ上面から見た状況を図4に示す。オリエ
ンテーションフラットの検出ならびに指定の方向へ向け
る動作について説明する。
【0051】回転テーブル11に載せられたウエハ12
のオリエンテーションフラットが12Taの状態であっ
たとする。このとき、発光素子14hから放射された光
線16hはウエハ12上のOc点で遮られている。
【0052】回転テーブル11の回転により矢印の方向
へウエハ12を回転させると、まず、オリエンテーショ
ンフラットが12Tbの位置にきたとき、発光素子14
hから放射された光線16hはウエハ12上のOc点で
遮られることなく光検出器15hで検出される。
【0053】さらに、ウエハ12が回転しオリエンテー
ションフラットが12Tcの位置にきたとき、発光素子
14hから放射された光線16hはウエハ12上のOc
点で再び遮られる。
【0054】オリエンテーションフラットが12Tbの
位置から12Tcの位置に変わるまでの回転角度を、回
転テーブルを回転させるパルスモータ7bの出力軸に取
り付けられているエンコーダ9bによって検出すること
により、オリエンテーションフラットの角度位置を検出
することができ、回転テーブルによってオリエンテーシ
ョンフラットを指定された方向へ向けることが可能とな
る。
【0055】本図では、第2フラットやノッチ等がない
場合について説明したが、第2フラットやノッチ等があ
っても、予め制御装置10に入力されているオリエンテ
ーションフラットの形状データならびに発光素子14h
と光検出器15hの配置の位置データ等を用いてオリエ
ンテーションフラットを判別することができる。
【0056】また、オリエンテーションフラットを指定
の方向へ向ける代わりに、第2フラットやノッチ等を指
定の方向へ向けることも可能である。ウエハ12の周縁
よりも内側領域の上方には発光素子14a〜14hや光
検出器15a〜15hがなく、ウエハ12の真上に塵埃
が溜ることはない。また、ダウンフローを形成しても、
その流れが乱れることはない。
【0057】なお、遮られた光線部分の長さを用いて偏
差を算出したが、中心軸からウエハ端縁までの長さを用
いることもできる。光線の配置は種々に設定できる。帯
状体の横方向位置のみを位置決めできればよい場合等に
は、2本の光ビームで行なうこともできる。光源と検出
器を入れ換えてもよい。
【0058】以上の実施例においては、集束エネルギ線
16として半導体レーザや発光ダイオードから放射され
る光線を用いた。しかし、光線に限らず、その原理から
明らかなように、指向性の強いビームの利用が可能であ
る。実用的検知から光を含むより広い波長範囲の電磁波
や音波の利用が好ましい。
【0059】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
板状体の上面に異物が落下付着する恐れが少なく、各種
形状、サイズの板状体の位置検出に対して正確かつ迅速
に対応することが可能である簡素な構成の板状体の非接
触位置決め装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による板状体の非接触位置決
め装置を示す部分的斜視図である。
【図2】図1に示す位置決め装置における位置決めの動
作を説明する図である。
【図3】図1に示す位置決め装置を用いて行なう別の位
置決めの動作を説明する図である。
【図4】図1に示す位置決め装置を用いて行なうオリエ
ンテーションフラットの位置決めの動作を説明する図で
ある。
【符号の説明】
1 ベース 2 ガイドレール 3 ガイドブロック 4 サポート 5 モータブラケット 6 ボールねじナット 7 パルスモータ 8 ボールねじ 9 エンコーダ 10 制御機器 11 回転テーブル 12 ウエハ 13a ハンド 14a〜14h 発光素子 15a〜15h 光検出器 16a〜16h 光線 17 センサユニット 18 ハウジング 19 ブラケット
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01B 21/00 - 21/32 H01L 21/68

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】指向性の強い電磁波または音波で構成され
    る集束エネルギ線(16)が板状体の縁に接することを
    センサで検出して板状体の非接触位置決めを行なうもの
    において、 複数の集束エネルギ線を中心軸に沿って次第に収束、ま
    たは発散する方向に放射するエミッション手段および放
    射された各エネルギ線を検出する検出手段を有するセン
    サユニットと、 前記中心軸にほぼ垂直な面内に板状体を保持する手段
    と、 前記板状体の縁が前記複数の集束エネルギ線の各々に接
    するように前記センサユニットおよび板状体のいずれか
    一方を他方に対して相対的に移動または回転させる手段
    とを備え、 前記エミッション手段および検出手段の双方のうち板状
    体より鉛直方向上方に位置するものは板状体の周縁より
    外側に設置されていることを特徴とする板状体の非接触
    位置決め装置。
  2. 【請求項2】前記中心軸の方向に前記板状体またはセン
    サユニットのいずれかを移動または回転させた場合に前
    記板状体の縁が前記複数の集束エネルギ線の各々に接す
    る時の板状体またはセンサユニットの位置データから前
    記板状体の面内方向での前記板状体の中心と前記中心軸
    との位置偏差を得る手段をさらに備えたことを特徴とす
    る請求項1記載の板状体の非接触位置決め装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112179302A (zh) * 2020-06-02 2021-01-05 南京泰普森自动化设备有限公司 位置度测量装置和位置度测量方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19916859C1 (de) 1999-04-14 2001-01-04 Inst Werkzeugmaschinen Und Bet Vorrichtung zum berührungslosen Greifen und Positionieren von Bauteilen
DE10121742A1 (de) * 2001-05-04 2003-01-23 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung zum berührungslosen Greifen und Halten eines Gegenstandes
JP2007329391A (ja) * 2006-06-09 2007-12-20 Disco Abrasive Syst Ltd 半導体ウェーハの結晶方位指示マーク検出機構
CN105097616B (zh) * 2015-06-17 2018-01-26 北京七星华创电子股份有限公司 基于机械手移动的硅片分布状态组合检测方法及装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112179302A (zh) * 2020-06-02 2021-01-05 南京泰普森自动化设备有限公司 位置度测量装置和位置度测量方法

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