JP2870845B2 - Hologram manufacturing method - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、ホログラムの製造方法に関するものであ
る。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a hologram.
[従来技術] 従来、ホログラムは、第11図に示すように、ホログラ
ム基板1上に吸湿性結合剤を含む感光材2を配置し、さ
らに、カバーガラス3にて接着剤4を介してシールし耐
湿性や耐熱性をもたせて信頼性を確保するようにしてい
る。つまり、ホログラムを長期保存するために、水分を
通さないカバーガラス3と、水分を通しにくく透明で感
光材2及びカバーガラス3の屈折率に近い接着剤4とで
シールしている。このとき、ホログラムを作製する上で
ホログラム基板1全面に感光材2を塗布してシールする
と感光材2の端面が露出して空気と接触してしまうの
で、第12図に示すように、感光材2の端をある幅(1〜
10mm程度)、除去しなければならない。[Prior Art] Conventionally, as shown in FIG. 11, a hologram is prepared by arranging a photosensitive material 2 containing a hygroscopic binder on a hologram substrate 1 and further sealing it with a cover glass 3 via an adhesive 4. The reliability is ensured by providing moisture resistance and heat resistance. That is, in order to store the hologram for a long period of time, the hologram is sealed with a cover glass 3 that does not allow moisture to pass therethrough and an adhesive 4 that is transparent to the moisture and is close to the refractive index of the photosensitive material 2 and the cover glass 3. At this time, if the photosensitive material 2 is applied to the entire surface of the hologram substrate 1 and sealed when producing the hologram, the end face of the photosensitive material 2 is exposed and comes into contact with air, and as shown in FIG. 2 ends with a certain width (1 ~
10mm), which must be removed.
そのために、ホログラムの端の感光材2を削り落した
り、感光材2を塗布するときに端部にテープを貼り付け
てその部分に感光材2が塗布できないようにしている。
さらに、特開昭59−201081号公報には、不要部分の感光
材2を化学的処理剤を用いて除去する方法が示されてい
る。For this purpose, the photosensitive material 2 at the end of the hologram is scraped off, or when the photosensitive material 2 is applied, a tape is attached to the end so that the photosensitive material 2 cannot be applied to that portion.
Further, JP-A-59-201081 discloses a method of removing unnecessary portions of the photosensitive material 2 using a chemical treating agent.
[発明が解決しようとする課題] ところが、感光材2を削り落やすい方では、その作業
が非常に面倒であるとともに、感光材2を削り落す際に
刃物で感光材2を傷付けてしまったり削り面が汚くな
る。又、テープを貼って感光材2を塗布するやり方で
は、その作業が面倒であるとともに、テープ近傍の感光
材2の厚さが厚くなりテープを剥がす際に感光材2が剥
がれ感光材2と端面が汚くなる。さらに、特開昭59−20
1081号公報に示されている方法では化学薬品を用いた工
程が多くなりコストアップする問題があった。[Problems to be Solved by the Invention] However, for those who are likely to scrape the photosensitive material 2, the work is very troublesome, and when the photosensitive material 2 is scraped, the photosensitive material 2 may be scratched or cut with a blade. The surface becomes dirty. In the method of applying the photosensitive material 2 by applying a tape, the work is troublesome, and the thickness of the photosensitive material 2 near the tape increases, so that when the tape is peeled, the photosensitive material 2 is peeled off and the end face of the photosensitive material 2 comes off. Becomes dirty. Further, JP-A-59-20
The method disclosed in Japanese Patent No. 1081 has a problem that the number of steps using chemicals increases and the cost increases.
この発明の目的は、基板の周囲に感光材のない綺麗な
ホログラムを容易に製造することができるホログラムの
製造方法を提供することにある。An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a hologram that can easily manufacture a beautiful hologram having no photosensitive material around a substrate.
[課題を解決するための手段] この発明は、基板の周囲に、マスクとなる撥水性材料
を配置する工程と、前記基板上に、前記撥水性材料をマ
スクとして、吸湿性結合剤を含む感光材を塗布する工程
と、前記感光材を露光する工程と、前記感光材をシール
材にてシールする工程と、を有するホログラムの製造方
法をその要旨とするものである。Means for Solving the Problems According to the present invention, there is provided a step of arranging a water-repellent material serving as a mask around a substrate, and a method comprising: using the water-repellent material as a mask on the substrate and including a hygroscopic binder. A method for producing a hologram, comprising: applying a material, exposing the photosensitive material, and sealing the photosensitive material with a sealing material.
[作用] 基板の周囲に撥水性材料が配置された後に、撥水性材
料をマスクとして感光材が塗布される。この際に、感光
材は撥水性材料にてはじかれ、感光材のない部分が形成
される。[Operation] After the water-repellent material is arranged around the substrate, a photosensitive material is applied using the water-repellent material as a mask. At this time, the photosensitive material is repelled by the water-repellent material, and a portion without the photosensitive material is formed.
[実施例] 以下、この発明を具体化した一実施例を図面に従って
説明する。Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
第4図にはホログラムの製造工程を示す。まず、第1
図及び第2図に示す四角形状のホログラム基板11を洗浄
する(第1工程)。このホログラム基板11としてはガラ
ス、又は、透明樹脂(例えば、ポリカーボネイト、アク
リル)等の材料が使用される。FIG. 4 shows a hologram manufacturing process. First, the first
The rectangular hologram substrate 11 shown in FIGS. 2 and 3 is cleaned (first step). As the hologram substrate 11, a material such as glass or a transparent resin (for example, polycarbonate or acrylic) is used.
次に、ホログラム基板11の周辺部にスプレー等により
撥発性材料12を薄く塗布する(第2工程)。ここで、撥
発性材料12としては、ふっ素樹脂系撥水剤、四沸化エチ
レン、三沸化エチレン等が使用される。そして、この撥
発性材料12は後記感光材13をはじき、かつ、後工程での
処理剤にて除去されないものである。即ち、シール材除
去(第7工程)でのエタノール、硬膜処理(第8工程)
での硬膜液(酸性硬膜定着液)、水洗(第9工程)での
水、湯浴(第10工程)での湯、脱水処理(第11工程)で
のイソプロピルアルコールに、不溶又は難溶なものであ
る。Next, the repellent material 12 is thinly applied to the peripheral portion of the hologram substrate 11 by spraying or the like (second step). Here, as the repellent material 12, a fluororesin-based water repellent, ethylene tetrafluoride, ethylene trifluoride, or the like is used. The repellent material 12 repels the photosensitive material 13, which will be described later, and is not removed by a processing agent in a later step. That is, ethanol and hardening treatment (eighth step) in removing the sealing material (seventh step)
Insoluble or difficult in hardening solution (acid hardening fixer), water in washing (9th step), hot water in hot water bath (10th step), isopropyl alcohol in dehydration treatment (11th step) It is soluble.
そして、ホログラム基板11上に、吸湿性結合剤(ゼラ
チン)と重クロム酸アンモニウムを含む感光材13を塗布
する(第3工程)。この感光材13には30℃〜50℃の湯に
1〜20重量%のゼラチンを溶かしたゼラチン水溶液が含
まれている。Then, a photosensitive material 13 containing a hygroscopic binder (gelatin) and ammonium bichromate is applied onto the hologram substrate 11 (third step). The photosensitive material 13 contains an aqueous gelatin solution in which 1 to 20% by weight of gelatin is dissolved in hot water at 30 ° C. to 50 ° C.
次に、感光材13のゼラチン水溶液の水分量を減少させ
るためにホログラム基板11を乾燥させる(第4工程)。
さらに、感光材13のゼラチン水溶液中の水分量を一定に
保つためにカバーガラスでシールする(第5工程)。こ
のとき、カバーガラスと感光材13との間に屈折率調整液
(インデックスマッチング液)としてシリコンオイルを
挟み込み、カバーガラスと感光材13との境界面での屈折
率の変化をなくす。尚、屈折率調整液はシリコンオイル
の他にも、キシレン、ベンゼン等でもよい。Next, the hologram substrate 11 is dried in order to reduce the water content of the aqueous gelatin solution of the photosensitive material 13 (fourth step).
Further, the photosensitive material 13 is sealed with a cover glass in order to keep the amount of water in the aqueous gelatin solution constant (fifth step). At this time, silicon oil is interposed between the cover glass and the photosensitive material 13 as a refractive index adjusting liquid (index matching liquid) to eliminate a change in the refractive index at the boundary surface between the cover glass and the photosensitive material 13. Note that the refractive index adjusting liquid may be xylene, benzene, or the like in addition to silicon oil.
そして、干渉縞を記録するために露光を行なう(第6
工程)。さらに、第5工程で配設したカバーグラスを取
除いた後、エタノールにて屈折率調整液を除去する(第
7工程)。尚、揮発性の屈折率調整液、例えば、キシレ
ン、ベンゼン等を用いた場合には常温で蒸発してしまう
ので、この第7工程は省かれる。Exposure is performed to record interference fringes (6th.
Process). Further, after removing the cover glass provided in the fifth step, the refractive index adjusting liquid is removed with ethanol (seventh step). When a volatile refractive index adjusting liquid such as xylene or benzene is used, it evaporates at room temperature, so that the seventh step is omitted.
その後、酸性硬膜定着液による硬膜処理(第8工
程)、水洗処理(第9工程)、20〜40℃での湯浴(第10
工程)、イソプロピルアルコールによる脱水処理(第11
工程)、100〜130℃の高温乾燥(第12工程)を行なう。
これらの処理を行なっても、ホログラム基板11の周囲に
塗布した撥水性材料12は除去されない。Thereafter, a hardening treatment with an acidic hardening fixer (8th step), a water washing treatment (9th step), a hot water bath at 20 to 40 ° C. (10th step)
Process), dehydration treatment with isopropyl alcohol (11th
Step) and high-temperature drying at 100 to 130 ° C. (twelfth step).
Even if these processes are performed, the water-repellent material 12 applied around the hologram substrate 11 is not removed.
そして、第3図に示すようにカバーガラス14による接
着剤15を介してのシールを行なう(第13工程)。その結
果、信頼性(耐湿性、耐熱性)の高いホログラムが完成
する。Then, as shown in FIG. 3, sealing with the cover glass 14 via the adhesive 15 is performed (13th step). As a result, a hologram having high reliability (moisture resistance, heat resistance) is completed.
このように本実施例によれば、ホログラム基板11の周
囲に撥水性材料12を配置した後に、撥水性材料12をマス
クとして感光材13(ゼラチンと重クロム酸アンモニウム
とを含む水溶液)を塗布し、さらに、感光材13をシール
材(カバーガラス14,接着剤15)にてシールした。この
感光材13の塗布の際に、感光材13が撥水性材料12にては
じかれて、ホログラム基板11の周囲に感光材13のない部
分が形成される。その結果、従来方式での感光材2の削
り落しやテープの貼付けによらずにホログラム基板の周
囲に感光材のないホログラムを製造することができる。
よって、感光材を削り落すやり方では感光材は傷付けた
り削り面が汚くなったり、又、テープを貼って感光材を
塗布するやり方では感光材の端面が汚くなってしまった
が、本実施例ではそのようなことが回避される。又、特
開昭59−201081号公報に示されているような感光材の不
要部分を除去するために化学薬品を用いる工程が無くな
りコストアップを招くことはない。As described above, according to the present embodiment, after arranging the water repellent material 12 around the hologram substrate 11, the photosensitive material 13 (an aqueous solution containing gelatin and ammonium bichromate) is applied using the water repellent material 12 as a mask. Further, the photosensitive material 13 was sealed with a sealing material (cover glass 14, adhesive 15). When the photosensitive material 13 is applied, the photosensitive material 13 is repelled by the water-repellent material 12, so that a portion without the photosensitive material 13 is formed around the hologram substrate 11. As a result, it is possible to manufacture a hologram having no photosensitive material around the hologram substrate without removing the photosensitive material 2 or attaching a tape in the conventional method.
Therefore, in the method of scraping off the photosensitive material, the photosensitive material is scratched or the shaved surface becomes dirty, and in the method of applying the photosensitive material by applying tape, the end surface of the photosensitive material becomes dirty, but in this embodiment, Such a thing is avoided. Further, there is no need to use a chemical agent for removing unnecessary portions of the photosensitive material as disclosed in JP-A-59-201081, so that no cost increase is caused.
このように、ホログラム基板11の周囲に感光材13のな
い綺麗なホログラムを容易に製造することができること
となる。Thus, a beautiful hologram having no photosensitive material 13 around the hologram substrate 11 can be easily manufactured.
尚、この発明は上記実施例に限定されるものではな
く、例えば、撥水性材料として、撥水性材料塗布後の感
光材13の配置後に除去されるものを使用してもよい。即
ち、シール材除去(第7工程)でのエタノールや脱水処
理(第11工程)でのイソプロピルアルコールに可溶なも
の、例えば、シリコンオイル等を用いてもよい。Note that the present invention is not limited to the above embodiment. For example, a material that is removed after the photosensitive material 13 is applied after the application of the water-repellent material may be used as the water-repellent material. That is, a material that is soluble in ethanol for removing the sealing material (the seventh step) or isopropyl alcohol for the dehydration treatment (the eleventh step), for example, silicon oil, may be used.
又、第5図に示すように、撥水性材料として、ふっ素
系、シリコン系のOリング16を用いてもよい。即ち、ス
トッパ17によりOリング16をホログラム基板11に押しつ
けてOリング16とホログラム基板11の間に隙間ができな
いようにする。そして、この状態で、感光材13は塗布す
る。その後、感光材13がゲル化若しくは乾燥してからO
リング16とストッパ17を外せばよい。この場合、Oリン
グ16の代りにシリコンラバーを用いてもよい。As shown in FIG. 5, a fluorine-based or silicon-based O-ring 16 may be used as the water-repellent material. That is, the O-ring 16 is pressed against the hologram substrate 11 by the stopper 17, so that no gap is formed between the O-ring 16 and the hologram substrate 11. Then, in this state, the photosensitive material 13 is applied. Thereafter, after the photosensitive material 13 is gelled or dried, O
The ring 16 and the stopper 17 may be removed. In this case, silicon rubber may be used instead of the O-ring 16.
さらに、撥水性材料としてシリコンラバーを使用した
他の例としては、第6図に示すように実施してもよい。
即ち、ホログラム基板11上にシリコンラバー18を載置す
る。この時、感光材13がホログラム基板11とシリコンラ
バー18との隙間に入らないように第4図におけるカバー
ガラスシール工程(第5工程)でシール材として使用す
るものと同じシリコンオイル19でこの隙間を埋める。
尚、この時、シリコンラバー18をシリコンオイルの中に
浸した後、ホログラム基板11上に載置すると、隙間を埋
める作業がしやすい。その後、感光材13を塗布する。Further, as another example using silicon rubber as the water repellent material, the present invention may be implemented as shown in FIG.
That is, the silicon rubber 18 is placed on the hologram substrate 11. At this time, the same silicone oil 19 as that used as a sealing material in the cover glass sealing step (fifth step) in FIG. 4 is used to prevent the photosensitive material 13 from entering the gap between the hologram substrate 11 and the silicon rubber 18. Fill.
At this time, if the silicon rubber 18 is immersed in silicon oil and then placed on the hologram substrate 11, the work of filling the gap is easy. After that, the photosensitive material 13 is applied.
この実施例の場合、第7図に示すように、シリコンラ
バー18とシリコンオイル19の合計の厚さが感光材13の厚
さ(乾燥前の厚さ)より薄い場合はゲル化後にシリコン
ラバー18を除去して乾燥する。しかし、第8図に示すよ
うに、シリコンラバー18とシリコンオイル19の合計の厚
さが感光材13の厚さよりも厚い場合は、第9図に示すよ
うに感光材13のエッヂが尖ってしまうので、第10図に示
すように、一度ゲル化した後、ゼラチンの融点以上に
(ゲルからゾルに変る温度に)暖めてゼラチンをゾル化
して先端を丸くし、その後、再びゲル化させて乾燥する
ようにすればよい。In the case of this embodiment, as shown in FIG. 7, when the total thickness of the silicone rubber 18 and the silicone oil 19 is smaller than the thickness of the photosensitive material 13 (thickness before drying), the silicone rubber 18 after gelation is formed. Is removed and dried. However, when the total thickness of the silicone rubber 18 and the silicone oil 19 is larger than the thickness of the photosensitive material 13 as shown in FIG. 8, the edge of the photosensitive material 13 becomes sharp as shown in FIG. Therefore, as shown in Fig. 10, after gelling once, warm it to the melting point of gelatin or higher (to the temperature that changes from gel to sol) to gelatinize and round the tip, then gel again and dry. What should I do?
[発明の効果] 以上詳述したようにこの発明によれば、基板の周囲に
感光材のない綺麗なホログラムを容易に製造することが
できる優れた効果を発揮する。[Effects of the Invention] As described above in detail, according to the present invention, an excellent effect of easily producing a beautiful hologram having no photosensitive material around the substrate is exhibited.
第1図は実施例のホログラムの製造工程を説明するため
の斜視図、第2図はホログラムの製造工程を説明するた
めの断面図、第3図は完成したホログラムの断面図、第
4図はホログラムの製造工程図、第5図は別例のホログ
ラムの製造工程を説明するための断面図、第6図は他の
別例のホログラムの製造工程を説明するための断面図、
第7図は他の別例のホログラムの製造工程を説明するた
めの断面図、第8図は他の別例のホログラムの製造工程
を説明するための断面図、第9図は他の別例のホログラ
ムの製造工程を説明するための断面図、第10図は他の別
例のホログラムの製造工程を説明するための断面図、第
11図は従来技術を説明するための断面図、第12図は従来
技術を説明するための断面図である。 11はホログラム基板、12は撥水性材料、13は感光材、14
はシール材としてのカバーガラス、15はシール材として
の接着剤。FIG. 1 is a perspective view for explaining a hologram manufacturing process of the embodiment, FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining a hologram manufacturing process, FIG. 3 is a cross-sectional view of a completed hologram, and FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing process of a hologram of another example, FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing process of a hologram of another example,
FIG. 7 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing process of another alternative hologram, FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing process of another alternative hologram, and FIG. 9 is another alternative example. FIG. 10 is a cross-sectional view for explaining a manufacturing process of the hologram of FIG. 10;
FIG. 11 is a cross-sectional view for explaining the prior art, and FIG. 12 is a cross-sectional view for explaining the prior art. 11 is a hologram substrate, 12 is a water-repellent material, 13 is a photosensitive material, 14
Is a cover glass as a sealing material, and 15 is an adhesive as a sealing material.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−201081(JP,A) 特開 昭57−146283(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03H 1/02 G03H 1/18 G03F 7/16 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-59-201081 (JP, A) JP-A-57-146283 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) G03H 1/02 G03H 1/18 G03F 7/16
Claims (1)
配置する工程と、 前記基板上に、前記撥水性材料をマスクとして、吸湿性
結合剤を含む感光材を塗布する工程と、 前記感光材を露光する工程と、 前記感光材をシール材にてシールする工程と、 を有することを特徴とするホログラムの製造方法。A step of disposing a water-repellent material serving as a mask around the substrate; a step of applying a photosensitive material containing a hygroscopic binder on the substrate using the water-repellent material as a mask; A method for manufacturing a hologram, comprising: exposing a photosensitive material; and sealing the photosensitive material with a sealing material.
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JP23062789A JP2870845B2 (en) | 1989-09-06 | 1989-09-06 | Hologram manufacturing method |
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