JP2796398B2 - 液晶デイスプレイ - Google Patents
液晶デイスプレイInfo
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- JP2796398B2 JP2796398B2 JP2064220A JP6422090A JP2796398B2 JP 2796398 B2 JP2796398 B2 JP 2796398B2 JP 2064220 A JP2064220 A JP 2064220A JP 6422090 A JP6422090 A JP 6422090A JP 2796398 B2 JP2796398 B2 JP 2796398B2
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- Japan
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- liquid crystal
- defect
- crystal panel
- roughening
- crystal display
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は液晶パネルにおける白欠陥の修正構成及びそ
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
液晶デイスプレイ用液晶パネルの欠陥対策として、製
造プロセスにおける欠陥の発生を防止したり、プロセス
欠陥が発生しても冗長方式によりデイスプレイの画像と
しては見えなく又は見難くする各種の方法が知られてい
る。
造プロセスにおける欠陥の発生を防止したり、プロセス
欠陥が発生しても冗長方式によりデイスプレイの画像と
しては見えなく又は見難くする各種の方法が知られてい
る。
一方、製造後に検出される欠陥に対しては修正法、例
えば欠陥部分の電極配線のトリミング等がある。
えば欠陥部分の電極配線のトリミング等がある。
これに類似した製品としてホトマスクがあり、その修
正装置の１つに集束イオンビーム照射により基板表面の
白欠陥部分をスパツタして不透明化する装置がある。こ
の装置については日経マイクロデバイス1985年７月（創
刊）号241ページのニユースレターに紹介されている。
正装置の１つに集束イオンビーム照射により基板表面の
白欠陥部分をスパツタして不透明化する装置がある。こ
の装置については日経マイクロデバイス1985年７月（創
刊）号241ページのニユースレターに紹介されている。
上記従来技術における製造プロセスにおける欠陥対策
は、製造後に検出された欠陥に対しては対応できない。
製造後に検出される欠陥修正としてのレーザトリミング
は、予め液晶パネル内のパターンにトミング位置を設定
しておかなければならず画素設計上制約があつたり、ま
た基板上のトリミング可能な層が限定されるため、基板
上の全ての層に適用することはできない。更に、トリミ
ング後の切削が液晶パネル内に含有され、液晶パネルの
信頼性を劣化させる要因になる可能性がある。
は、製造後に検出された欠陥に対しては対応できない。
製造後に検出される欠陥修正としてのレーザトリミング
は、予め液晶パネル内のパターンにトミング位置を設定
しておかなければならず画素設計上制約があつたり、ま
た基板上のトリミング可能な層が限定されるため、基板
上の全ての層に適用することはできない。更に、トリミ
ング後の切削が液晶パネル内に含有され、液晶パネルの
信頼性を劣化させる要因になる可能性がある。
ホトマスクの集束イオンビーム修正法は液晶パネルの
修正にも適用できるが、真空排気系を設けた高価な装置
を要し実用的でない。これはホトマスクの修正は液晶パ
ネルの修正に比べて１〜２桁微細加工を要するためであ
る。
修正にも適用できるが、真空排気系を設けた高価な装置
を要し実用的でない。これはホトマスクの修正は液晶パ
ネルの修正に比べて１〜２桁微細加工を要するためであ
る。
本発明の目的は、液晶パネルの製造後検出される欠陥
を極めて容易に修正する方法を提供することにある。
を極めて容易に修正する方法を提供することにある。
上記目的を達成するために、液晶パネルを組立て画像
を表示させて検出される白欠陥（本来黒く表示すべき部
分が白又はカラーフイルタ通した色を表示してしまう欠
陥）の発生した部分の基板表面を粗面化したものであ
る。この粗面化は画素サイズと同等の大きさ（例えば10
0μｍ□）でよく、ホトマスクの修正の場合の様に微細
化は必要としないため、空気中でレーザビームを照射し
たり、サンドブラスト法を用いることができる。
を表示させて検出される白欠陥（本来黒く表示すべき部
分が白又はカラーフイルタ通した色を表示してしまう欠
陥）の発生した部分の基板表面を粗面化したものであ
る。この粗面化は画素サイズと同等の大きさ（例えば10
0μｍ□）でよく、ホトマスクの修正の場合の様に微細
化は必要としないため、空気中でレーザビームを照射し
たり、サンドブラスト法を用いることができる。
液晶デイスプレイにおいて、ノーマリブラツクモード
における白欠陥は、たとえ点欠陥で全体の表示面積にお
ける割合は小さくても、非常に眼に付きやすく、見苦し
い。これはあたかも夜空に輝く星の如く輝いて見え、デ
イスプレイの製品としては不合格である。しかし、この
白欠陥部分の基板表面を粗面化することにより、バツク
ライトの光は粗面部分で屈折散乱され、眼の見える輝度
を１〜２桁以上小さくすることができ、見苦さを防止で
きる。
における白欠陥は、たとえ点欠陥で全体の表示面積にお
ける割合は小さくても、非常に眼に付きやすく、見苦し
い。これはあたかも夜空に輝く星の如く輝いて見え、デ
イスプレイの製品としては不合格である。しかし、この
白欠陥部分の基板表面を粗面化することにより、バツク
ライトの光は粗面部分で屈折散乱され、眼の見える輝度
を１〜２桁以上小さくすることができ、見苦さを防止で
きる。
以下、本発明の実施例を第１図により説明する。第１
図は本発明の液晶デイスプレイの模式図を示す。10は液
晶パネルで、２枚のガラス基板11,12,液晶13及び駆動回
路14より成る。ガラス基板には図面では省略したが、薄
膜トランジスタによる液晶素子及び透明電極，配向膜，
偏光膜，カラーフイルタ並びにガラス基板間の間隔を調
節するためのガラスビーズ又はガラスフアイバーが付設
してある。20はバツクライトで２本のＵ字型蛍光ランプ
21と反射板22より成る。ここまでは通常の液晶デイスプ
レイと同様である。
図は本発明の液晶デイスプレイの模式図を示す。10は液
晶パネルで、２枚のガラス基板11,12,液晶13及び駆動回
路14より成る。ガラス基板には図面では省略したが、薄
膜トランジスタによる液晶素子及び透明電極，配向膜，
偏光膜，カラーフイルタ並びにガラス基板間の間隔を調
節するためのガラスビーズ又はガラスフアイバーが付設
してある。20はバツクライトで２本のＵ字型蛍光ランプ
21と反射板22より成る。ここまでは通常の液晶デイスプ
レイと同様である。
図中液晶13中の×印30は欠陥部分を示す。これは点灯
試験により白欠陥が検出された場所を示している。欠陥
部分30に対応するガラス基板の表面部分31を粗面化する
ことによりバツクライト光は屈折散乱して、外部へ投写
される光33を極めて弱くすることができる。
試験により白欠陥が検出された場所を示している。欠陥
部分30に対応するガラス基板の表面部分31を粗面化する
ことによりバツクライト光は屈折散乱して、外部へ投写
される光33を極めて弱くすることができる。
ガラス基板の欠陥部分の粗面化は次の様にして実施し
た。バツクライト20を液晶パネル10の裏面（図面ではガ
ラス基板11の側）から投光する。次に液晶パネル10に画
像を表示させ、欠陥の位置を明確にする。液晶パネルの
１画素サイズと同じ大きさの開口パターンを有するステ
ンレス製マスクをガラス基板12に密着させる。この時、
欠陥部分31とステンレス製マスクの開口パターンを一致
させる。このアライメントは肉眼で対応できる大きさで
ある。次にマスク面に4000メツシユのアルミナ又はカー
ボランダム紛をサンドブラスト法により５気圧の窒素ガ
スで吹きつけ、マスクの開口パターンに相対するガラス
表面を粗面化することができる。この後、粗面化部分に
インク等の着色剤をしみ込ませることもできる。粗面化
されているため着色剤の付着力は平滑面に比べて非常に
大きく、長寿命である。粗面化の深さは、透過光を散乱
を大きくするための欠陥サイズの３倍以上が好ましい。
た。バツクライト20を液晶パネル10の裏面（図面ではガ
ラス基板11の側）から投光する。次に液晶パネル10に画
像を表示させ、欠陥の位置を明確にする。液晶パネルの
１画素サイズと同じ大きさの開口パターンを有するステ
ンレス製マスクをガラス基板12に密着させる。この時、
欠陥部分31とステンレス製マスクの開口パターンを一致
させる。このアライメントは肉眼で対応できる大きさで
ある。次にマスク面に4000メツシユのアルミナ又はカー
ボランダム紛をサンドブラスト法により５気圧の窒素ガ
スで吹きつけ、マスクの開口パターンに相対するガラス
表面を粗面化することができる。この後、粗面化部分に
インク等の着色剤をしみ込ませることもできる。粗面化
されているため着色剤の付着力は平滑面に比べて非常に
大きく、長寿命である。粗面化の深さは、透過光を散乱
を大きくするための欠陥サイズの３倍以上が好ましい。
また粗面化の他の方法として、レーザビーム照射法が
ある。XeClエキシマレーザを欠陥画素サイズに集光して
パネル照射することにより、ガラス基板表面を粗面化す
る。エネルギー密度0.3J/cm2のビームを200μｍ□に絞
つて３パルス照射することにより、ガラス表面は約400
μｍ深さの粗面を形成できる。レーザビーム照射の場合
はマスクを用いる必要となる。その後着色剤を付着させ
ることは前述と同様である。
ある。XeClエキシマレーザを欠陥画素サイズに集光して
パネル照射することにより、ガラス基板表面を粗面化す
る。エネルギー密度0.3J/cm2のビームを200μｍ□に絞
つて３パルス照射することにより、ガラス表面は約400
μｍ深さの粗面を形成できる。レーザビーム照射の場合
はマスクを用いる必要となる。その後着色剤を付着させ
ることは前述と同様である。
バツクライト20を通常の位置に設置して液晶デイスプ
レイを組立てる。
レイを組立てる。
尚、欠陥部の光透過率は粗面化により17〜４％に減少
できた。この程度の減少率は欠陥を目立なくし、一方ON
時（画像を表示する場合）の識別もできる。着色剤を付
着させた場合の光透過率は６〜１％でバツクライトが約
104lux以上の強い場合に適している。
できた。この程度の減少率は欠陥を目立なくし、一方ON
時（画像を表示する場合）の識別もできる。着色剤を付
着させた場合の光透過率は６〜１％でバツクライトが約
104lux以上の強い場合に適している。
上記記載では、白欠陥の修正を中心に記述したが、黒
欠陥についても上記修正を施こすことも可能である。ま
た、表面の粗面化等により光の散乱を行う箇所として
は、光源から、眼に到るまでの光路の途中であればよ
い。
欠陥についても上記修正を施こすことも可能である。ま
た、表面の粗面化等により光の散乱を行う箇所として
は、光源から、眼に到るまでの光路の途中であればよ
い。
本発明によれば、液晶パネルの欠陥、特に白欠陥を容
易に修正でき、液晶デイスプレイのコストダウンに効果
的である。
易に修正でき、液晶デイスプレイのコストダウンに効果
的である。
第１図は本発明の液晶デイスプレイの模式図を示す。 10……液晶パネル、30……欠陥部分、31……表面部分。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02F 1/1335 G02F 1/13 101 G02F 1/1333 500
Claims (2)
- 【請求項１】液晶パネルにおける白欠陥部分の基板表面
を粗面化して不透明にしたことを特徴とする液晶ディス
プレイ。 - 【請求項２】請求項第１項において、液晶パネルはノー
マルブラックモードであり、白欠陥は点欠であることを
特徴とする液晶ディスプレイ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2064220A JP2796398B2 (ja) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | 液晶デイスプレイ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2064220A JP2796398B2 (ja) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | 液晶デイスプレイ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03265820A JPH03265820A (ja) | 1991-11-26 |
| JP2796398B2 true JP2796398B2 (ja) | 1998-09-10 |
Family
ID=13251802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2064220A Expired - Lifetime JP2796398B2 (ja) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | 液晶デイスプレイ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2796398B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2740583B2 (ja) * | 1991-05-31 | 1998-04-15 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置および液晶表示装置の欠陥修正方法 |
| JPH0980476A (ja) * | 1995-09-12 | 1997-03-28 | Nec Corp | アクティブマトリックス基板とその製造方法 |
| JPH11311806A (ja) | 1998-04-28 | 1999-11-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶パネル及びその製造方法 |
-
1990
- 1990-03-16 JP JP2064220A patent/JP2796398B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03265820A (ja) | 1991-11-26 |
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