JP2794643B2

JP2794643B2 - 情報記録媒体

Info

Publication number: JP2794643B2
Application number: JP3039250A
Authority: JP
Inventors: 由久宇佐美
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1991-02-08
Filing date: 1991-02-08
Publication date: 1998-09-10
Anticipated expiration: 2013-09-10
Also published as: JPH04255929A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザにより情報の記
録が可能な光情報記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年において、レーザ光等の高エネルギ
ー密度のビームを用いる情報記録媒体が開発され、実用
化されている。この情報記録媒体は光ディスクと称さ
れ、ビデオ・ディスク、オーディオ・ディスク、さらに
は大容量静止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用
ディスク・メモリーとして使用され得るものである。

【０００３】情報の書き込み（記録）が可能なＤＲＡＷ
（Direct Read After Write ）型の情報記録媒体が開発
され一部実用化されている。このようなＤＲＡＷ型の情
報記録媒体（光ディスク）は、基本構造として、プラス
チック、ガラス等からなる円盤状の透明基板と、この上
に設けられたＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半
金属からなる記録層又は色素からなる記録層とを有す
る。光ディスクへの情報の記録は、例えば、レーザビー
ムを光ディスクに照射することにより行なわれ、記録層
の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇する結
果、ピット形成等の物理的変化あるいは相変化等の化学
的変化を生じてその光学的特性を変えることにより情報
が記録される。光ディスクからの情報の読み取り（再
生）もまた、レーザビームを光ディスクに照射すること
などにより行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じ
た反射光または透過光を検出することにより情報が再生
される。

【０００４】上記光ディスクへの情報の記録及び再生の
ためのレーザビームの照射は、通常ディスク表面の所定
の位置に行われる。レーザビームを案内して照射予定位
置に正確にたどる（一般にトラッキングと呼ばれる）よ
うにするため、凹溝のトラッキングガイド（プリグルー
ブ）が基板の表面に設けられることが一般的である。

【０００５】ところで、色素を含む記録層は、一般にプ
リグルーブが形成された基板上に色素を含む溶液を塗布
し乾燥することによって形成されているが、その場合、
グルーブ底部の色素記録層膜厚はランド部の色素記録層
膜厚よりも厚くなる。そのため、基板のプリグルーブ溝
の形状を反映して形成された色素記録層の表面の溝の深
さは、基板のプリグルーブ溝の深さよりも浅くなり、記
録層に情報を記録してプリグルーブに記録ピットを形成
させたとき、色素記録層の表面の溝の上部（基板のラン
ド部を反映した部分）と溝の底部との位相差が小さくな
るために、記録ピットの変調度が小さくなるという問題
点がある。

【０００６】そのために、基板のプリグルーブの深さを
大きくして色素記録層の表面に形成される溝の深さを相
対的に深くすることによって記録ピットの変調度を大き
くすることが考えられるが、その場合は一般に反射率が
低下する傾向にある。

【０００７】基板のグルーブ底部の色素記録層膜厚とラ
ンド部の色素記録層膜厚とがほぼ同じになると、基板の
プリグルーブの深さを小さくすることができ、これらの
問題点を同時に解決した変調度及び反射率が共に大きい
情報記録媒体になる。

【０００８】また、基板上に予めピットが形成されたＲ
ＯＭ領域と、レーザ光の照射によりデータ再生用のピッ
トが形成される記録可能領域とを有する情報記録媒体が
提案されている（特開平２−４２６５２号公報参照）。
この情報記録媒体においては、色素からなるレーザ吸収
層が記録可能領域にのみ設けられ、プリピットが形成さ
れたＲＯＭ領域には色素からなるレーザ吸収層は設けら
れていない。その理由は、プリピットが形成された領域
に色素からなるレーザ吸収層を設けると、プリピット信
号の変調度が小さくなりＲＯＭ領域の情報を実用的に再
生することができなくなるためである。

【０００９】即ち、色素からなるレーザ吸収層は一般に
色素の溶液を塗布し乾燥することによって形成されるも
のであり、プリピット形成領域に色素溶液を塗布する
と、前記のプリグルーブ形成領域への色素溶液の塗布の
場合と同様に、ピット部（穴部）のレーザ吸収層の膜厚
がピット間部（ピットとピットとの間の部分で、前記ラ
ンド部に相当する）のレーザ吸収層の膜厚よりも大きく
なり、そのために、基板のピット部の形状を反映して形
成されたレーザ吸収層の表面の穴の深さは、基板のピッ
トの深さよりも浅くなり、ピット部とピット間部との位
相差が小さくなるために、プリピットの変調度が小さく
なるのである。

【００１０】しかしながら、特開平２−４２６５２号公
報に記載されているような、プリピット部（ＲＯＭ領
域）に色素層を設けず、記録可能領域にのみ色素層を設
けた情報記録媒体においては、色素層が設けられた部分
と色素層が設けられていない部分との境界部において、
境界を再現性よく形成することが困難であるとか、色素
層のエッジ部で膜厚が不均一になり易いとかの問題があ
り、円環状の色素層の偏心が生じ易いなどの問題があ
る。更に、実際上、ＲＯＭ領域とその外周側の記録可能
領域との二つの領域に分かれた情報記録媒体しか製造す
ることができず、ＲＯＭ領域の内周側にも追加して記録
可能領域を設けたり、ＲＯＭ領域と記録可能領域を混在
させて設けたりすることが極めて困難であり、ＲＯＭ領
域へ予め記録しておくアプリケーションソフトやその利
用方法などが制限され、実用上不便であるという問題点
もある。

【００１１】基板のプリピット部の色素層膜厚とピット
間部の色素層膜厚とがほぼ同じになると、プリピットの
位相差が大きくなり従ってプリピットの変調度の大きい
情報記録媒体になる。

【００１２】プリピット部に色素からなるレーザ光吸収
層を形成してもプリピットの変調度が大きいと、プリピ
ット形成領域（ＲＯＭ領域）及びプリグルーブ形成領域
（記録可能領域）の両方に、色素を含む光吸収層を形成
することが可能になり、上記のような問題点が解消され
る。

【００１３】ところで、通常のＤＲＡＷ型の情報記録媒
体（光ディスク）は、一般に速い線速度で記録が行なわ
れるが、特に高い反射率は要求されない。一方、コンパ
クト・ディスク（ＣＤ）に採用されているＣＤフォーマ
ット信号を用いて遅い線速度で記録を行なうＣＤ−ＤＲ
ＡＷでは、高い反射率が要求される。すなわち、高い反
射率を有することによって、情報が記録されたＣＤ−Ｄ
ＲＡＷを、市販のＣＤプレーヤーにより再生できるとい
う大きな優位性が得られる。

【００１４】反射率を向上させる方法として、一般的に
は色素を含む光吸収層上に金属反射層を設けることが行
なわれている。また、ヨーロッパ特許公開公報のＥＰ０
３５３３９３Ａ２及びＥＰ０３５３３９４Ａ２には、更
に反射率を向上させるために色素吸収層と金属反射層と
の間にエンハンス層を設けることが開示されている。エ
ンハンス層の材料としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂ 、Ｓｉ₃
Ｎ₄ 及びＡｌＮなどの無機物が記載されている。

【００１５】しかしながら、前者の反射率を高めるため
に光吸収層上に反射層やエンハンス層を設ける場合は、
反射層及びエンハンス層をスパッタリングなどの蒸着法
で形成する必要があり、設備的にも高価なものとなり、
層を形成するためにも長時間を要するなど、製造上の不
利が大きい。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】塗布による簡単な膜形
成工程を含む製造方法によって製造することができる、
レーザ光を照射して情報を記録した後、変調度の高い再
生信号を得ることができ、トラッキング特性が良好であ
り、しかも高い反射率を有する情報記録媒体を提供する
ことである。

【００１７】また、プリピットが形成された領域にも色
素を含む光吸収層が形成されており、しかもプリピット
が形成された領域から変調度の高い再生信号を得ること
ができる情報記録媒体を提供することである。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明は、表面にプリグ
ルーブが形成された円盤状の基板上に、レーザ光を照射
して再生用のピットを形成することにより情報の記録が
可能な色素を含む光吸収層が設けられてなる情報記録媒
体であって、該光吸収層が、基板側から順に、第一吸収
層及び第二吸収層からなる二層一組の複合吸収層の一組
又は二組と第三吸収層とからなり、そして、第一吸収層
が、有機物からなり且つ１．８以上の屈折率及び０．５
以下の消衰係数を有する層であり、第二吸収層が、有機
物からなり且つ１．８未満の屈折率及び０．５以下の消
衰係数を有する層であり、そして、第三吸収層が、有機
物からなり且つ１．８以上の屈折率及び０．５以下の消
衰係数を有する層、又は有機物からなり且つ１．０〜
４．０の範囲内にある屈折率及び１．０以上の消衰係数
を有する層であり、更に、光吸収層の第一吸収層及び第
二吸収層の合計の、グルーブ底部の光学的膜厚とランド
部の光学的膜厚との差がλ／８（但し、λは再生用レー
ザ光の波長）以下であることを特徴とする情報記録媒体
である。

【００１９】また他の本発明は、表面にプリピット及び
プリグルーブが形成された円盤状の基板上に、レーザ光
を照射して再生用のピットを形成することにより情報の
記録が可能な色素を含む光吸収層が設けられてなる情報
記録媒体であって、該光吸収層が、基板側から順に、第
一吸収層及び第二吸収層からなる二層一組の複合吸収層
の一組又は二組と第三吸収層とからなり、そして、第一
吸収層が、有機物からなり且つ１．８以上の屈折率及び
０．５以下の消衰係数を有する層であり、第二吸収層
が、有機物からなり且つ１．８未満の屈折率及び０．５
以下の消衰係数を有する層であり、そして、第三吸収層
が、有機物からなり且つ１．８以上の屈折率及び０．５
以下の消衰係数を有する層、又は有機物からなり且つ
１．０〜４．０の範囲内にある屈折率及び１．０以上の
消衰係数を有する層であり、更に、光吸収層の第一吸収
層及び第二吸収層の合計の、ピット部の光学的膜厚とピ
ット間部の光学的膜厚との差がλ／８（但し、λは再生
用レーザ光の波長）以下であり、グルーブ底部の光学的
膜厚とランド部の光学的膜厚との差がλ／８（但し、λ
は再生用レーザ光の波長）以下であることを特徴とする
情報記録媒体である。

【００２０】上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様
は以下の通りである。（１）第一吸収層の屈折率と第二吸収層の屈折率との差
が、０．５以上であることを特徴とする上記情報記録媒
体。

【００２１】（２）第三吸収層が１．８以上の屈折率及
び０．５以下の消衰係数を有する場合の、第三吸収層の
屈折率と第二吸収層の屈折率との差が、０．５以上であ
ることを特徴とする上記情報記録媒体。

【００２２】（３）第一吸収層、第二吸収層及び第三吸
収層の少なくとも一層の消衰係数が、０．０１以上であ
ることを特徴とする上記情報記録媒体。

【００２３】（４）第一吸収層及び第三吸収層の有機物
が、いずれも色素であることを特徴とする上記情報記録
媒体。

【００２４】（５）第二吸収層の有機物が、高分子化合
物又は色素であることを特徴とする上記情報記録媒体。

【００２５】（６）第二吸収層の消衰係数が０〜０．３
の範囲にあることを特徴とする上記情報記録媒体。

【００２６】（７）第一吸収層の有機物が、インドリジ
ン系色素、イミダゾキノキサリン系色素、チアゾール系
色素、インドレニン系色素、メロシアニン系色素及びフ
タロシアニン系色素から選ばれる少なくとも一種である
ことを特徴とする上記情報記録媒体。

【００２７】（８）第三吸収層の有機物が、インドリジ
ン系色素、イミダゾキノキサリン系色素、チアゾール系
色素、インドレニン系色素、メロシアニン系色素及びフ
タロシアニン系色素から選ばれる少なくとも一種である
ことを特徴とする上記情報記録媒体。

【００２８】（９）第二吸収層の有機物が、高分子化合
物であることを特徴とする上記情報記録媒体。

【００２９】（１０）光吸収層の第一吸収層及び第二
吸収層の合計の、グルーブ底部の光学的膜厚とランド部
の光学的膜厚との差がλ／１６（但し、λは再生用レー
ザ光の波長）以下であることを特徴とする上記情報記録
媒体。

【００３０】（１１）光吸収層の第一吸収層及び第二
吸収層の合計の、ピット部の光学的膜厚とピット間部の
光学的膜厚との差がλ／１６（但し、λは再生用レーザ
光の波長）以下であることを特徴とする上記情報記録媒
体。

【００３１】（１２）上記光吸収層の、上記ランド部及
び上記ピット間部の膜厚が、４０〜４００ｎｍであるこ
とを特徴とする上記情報記録媒体。

【００３２】（１３）上記プリグルーブが０．２〜１．
４μｍの半値幅と、５〜８０ｎｍの深さを有することを
特徴とする上記情報記録媒体。

【００３３】（１４）上記プリピットが０．２〜１．４
μｍの半値幅と、６０〜３００ｎｍの深さを有すること
を特徴とする上記情報記録媒体。

【００３４】（１５）上記プリグルーブの深さが、上記
プリピットの深さよりも、光路長で表わしてλ／１６以
上短いことを特徴とする上記情報記録媒体。

【００３５】（１６）上記情報記録媒体のミラー部の反
射率が、５０％以上であることを特徴とする上記情報記
録媒体。

【００３６】（１７）ミラー部の反射率に対するグルー
ブ底部の反射率の比率が、７０％以上であることを特徴
とする上記情報記録媒体。

【００３７】（１８）第三吸収層の上に、更に保護層が
形成されていることを特徴とする上記情報記録媒体。

【００３８】尚、本発明の各吸収層の屈折率及び消衰係
数は以下のように測定した。スピンコーター法にてガラ
ス板上に形成させた５０〜１５０ｎｍの薄膜を吸収層と
し、これについて波長７８０ｎｍの光を用いて２３℃に
て測定した。

【００３９】本発明者等は、吸収層等の層構成が基板上
に塗布のみで形成できる層構成であって、且つ高い反射
率を有する情報記録媒体を得るため鋭意研究を重ね、本
発明に到達したものである。

【００４０】本発明の情報記録媒体は、基板上に色素な
どの有機物からなる光吸収層が設けられており、光吸収
層が、基板側から順に、第一吸収層及び第二吸収層から
なる二層一組の複合吸収層の一組又は二組と第三吸収層
とからなり、これらの三種類の層がそれぞれ特定された
屈折率と消衰係数とを有しており、更に、光吸収層の第
一吸収層及び第二吸収層の合計の、グルーブ底部の光学
的膜厚とランド部の光学的膜厚との差、及びプリピット
が追加的に設けられている場合は、ピット部の光学的膜
厚とピット間部の光学的膜厚との差が、λ／８（但し、
λは再生用レーザ光の波長）以下である基本構成を有し
ている。従って、光吸収層の層構成は、例えば、上記複
合吸収層の数が一組の場合は、基板側から、第一吸収層
−第二吸収層−第三吸収層であり、上記複合吸収層の数
が二組の場合は、基板側から、第一吸収層−第二吸収層
−第一吸収層−第二吸収層−第三吸収層である。

【００４１】本発明の情報記録媒体の構成について、そ
の実施例の断面図を模式的に示す図１を参照しながら説
明する。

【００４２】図１（Ａ）において、情報記録媒体１は、
基板２の上に、有機物からなる第一吸収層３、有機物か
らなる第二吸収層４及び有機物からなる第三吸収層５が
設けられている。

【００４３】基板２は、表面にプリグルーブ又はプリグ
ルーブとプリピットとが設けられたもので、通常プラス
チック材料からなるものが好ましい。基板の屈折率は一
般に１．６前後で、光の透過の程度を表わす消衰係数は
０に近い。

【００４４】第一吸収層３は、有機物（好ましくは色
素）からなり且つ下記の条件（Ｉ）：ｎ₁ ≧１．８及びｋ₁ ≦０．５（Ｉ）（但し、ｎ₁ は第一吸収層３の屈折率であり、ｋ₁ は第
一吸収層３の消衰係数である）を満足する屈折率と消衰
係数の値を有する。

【００４５】上記範囲は、一般に４．０≧ｎ₁ ≧１．８
及び０≦ｋ₁ ≦０．５、特に３．８≧ｎ₁ ≧２．０及び
０≦ｋ₁≦０．３、更に特に３．５≧ｎ₁ ≧２．２及び
０≦ｋ₁ ≦０．２であることが好ましい。

【００４６】この第一吸収層３は、吸収層材料として一
般に使用される色素などを用いて形成することができ
る。すなわち、色素等を溶剤に溶解した塗布液をスピン
コート法等により塗布することにより形成することがで
きる（光吸収層のグルーブ底部、ランド部、ピット部及
びピット間部の光学的膜厚が前記のような関係になるよ
うに各吸収層を形成する方法については、後に記載す
る）。第一吸収層３は高い屈折率（ｎ₁ ）と低い消衰係
数（ｋ₁ ）を有している。従って、基板２と第一吸収層
３との屈折率の差は大きく、基板２と第一吸収層３との
界面での反射率は一般に３０〜４０％程度得られる。消
衰係数（ｋ₁ ）は低く、反射した光以外の殆どの光は透
過する。

【００４７】第二吸収層４は、有機物（好ましくは高分
子化合物）からなり且つ下記の条件（II）：ｎ₂ ＜１．８及びｋ₂ ≦０．５（II）（但し、ｎ₂ は第二吸収層４の屈折率であり、ｋ₂ は第
二吸収層４の消衰係数である）を満足する屈折率と消衰
係数の値を有する。

【００４８】上記範囲は、一般に１．０≦ｎ₂ ＜１．８
及び０≦ｋ₂ ≦０．５、特に１．０≦ｎ₂ ≦１．７及び
０≦ｋ₂≦０．３、更に特に１．０≦ｎ₂ ≦１．６及び
０≦ｋ₂ ≦０．１あることが好ましい。

【００４９】この第二吸収層４は、一般に屈折率の低い
高分子化合物あるいは色素などを用いて、これらを溶剤
に溶解した塗布液をスピンコート法等により塗布するこ
とにより形成することができる。第二吸収層４は、屈折
率（ｎ₂ ）は低く、第一吸収層３との屈折率の差により
第一吸収層３と第二吸収層４との界面で光は少し反射す
る。この屈折率の差は、０．５以上が好ましく、特に好
ましくは１．０以上である。このように差を大きくとる
ことにより、反射光以外の記録再生時に検出することが
できない散乱光の量を小さくすることができる。第二吸
収層４の消衰係数（ｋ₂ ）は低いので反射しなかった光
の殆どは透過する。この第二吸収層４は、いわゆるエン
ハンス層に当たるもので、第一吸収層３と第三吸収層５
に介在させることにより反射率を向上させることができ
る。

【００５０】第三吸収層５は、有機物（好ましくは色
素）からなり且つ第三吸収層５が、下記の条件（III ）
又は（IV）を満足する屈折率と消衰係数の値を有する有
機物からなる層である。ｎ₃ ≧１．８及びｋ₃ ≦０．５（III ）（但し、ｎ₃ は第三吸収層５の屈折率であり、ｋ₃ は第
三吸収層５の消衰係数である）

【００５１】上記範囲は、一般に４．０≧ｎ₃ ≧１．８
及び０≦ｋ₃ ≦０．５、特に３．８≧ｎ₃ ≧２．０及び
０≦ｋ₃≦０．３、更に特に３．５≧ｎ₃ ≧２．２及び
０≦ｋ₃ ≦０．２であることが好ましい。

【００５２】１．０≧ｎ₄ ≧４．０及びｋ₄ ≧１．０（IV）（但し、ｎ₄ は第三吸収層５の屈折率であり、ｋ₄ は第
三吸収層５の消衰係数である）

【００５３】上記範囲は、一般に４．０≧ｎ₄ ≧１．０
及び１．０≦ｋ₄ ≦１０、特に３．５≧ｎ₄ ≧１．０及
び１．２≦ｋ₄ ≦８．０、更に特に３．０≧ｎ₄ ≧１．
０及び１．５≦ｋ₄ ≦５．０であることが好ましい。

【００５４】この第三吸収層５は、好ましくは色素から
なる層であって、条件（III ）を満足する層でも、条件
（IV）を満足する層でも、どちらでも良い。

【００５５】第三吸収層５の形成も前記と同様に、色素
等を溶剤に溶解した塗布液をスピンコート法等により塗
布することにより形成することができる。

【００５６】上記第三吸収層５は、第二吸収層４と比較
して屈折率が高く、第二吸収層４と第三吸収層５との界
面では、基板と第一吸収層との界面での反射光量と同等
以上の大きな反射光量が得られる。これは、第二吸収層
４の屈折率は、基板の屈折率より小さく設定されている
ためである。第二と第三吸収層５の屈折率の差は第一と
第二吸収層４の差と同様、０．５以上が好ましく、特に
好ましくは１．０以上である。消衰係数（ｋ₃ ）は低い
が、上記のように反射率が高く、透過する光量は小さ
い。

【００５７】上記条件（IV）を満足する第三吸収層５
は、屈折率（ｎ₄ ）は高くなくても良いが、消衰係数
（ｋ₄ ）が高いことが必要である。すなわち、消衰係数
が高いので、第二吸収層４からのレーザ光はほとんど第
三吸収層５を透過せず、大部分の光は反射され、高い反
射率を示す。

【００５８】このように、本発明の情報記録媒体は、上
記第一吸収層３、第二吸収層４及び第三吸収層５を全て
塗布により形成することができる情報記録媒体であるに
もかかわらず、従来色素吸収層上に金属反射層やエンハ
ンス層をスパッタリング等の塗布法以外の方法により設
けた場合にのみ得られる高い反射率と同程度以上の反射
率を有する。すなわち、高い屈折率と低い消衰係数を有
する第一吸収層（通常の色素吸収層に当たる）、低い屈
折率と極く低い消衰係数を有する第二吸収層４（通常の
エンハンス層に当たる）そして第一吸収層と同じ高い屈
折率と低い消衰係数を有するか、あるいは通常の金属な
どのように高い消衰係数を有する第三吸収層５（通常の
反射層に当たる）からなる構成を採ることによって、高
い反射率を有する情報記録媒体を得ることができる。上
記反射率は一般に５０％以上、好ましくは５５％以上、
特に好ましくは６０％以上、そして最も好ましくは６５
％以上である。そして屈折率と消衰係数を上記範囲内に
することによって、記録再生特性も損なうことはない。
また、本発明の情報記録媒体は、色素吸収層上に金属反
射層を有する光ディスクに比較して、長いピットの信号
を歪が極めて小さい状態で記録することができる。

【００５９】図１（Ｂ）の情報記録媒体１は、基板２の
上に第一吸収層３、第二吸収層４、第一吸収層３、第二
吸収層４、及び第三吸収層５が形成されてなり、各層の
内容は図１（Ａ）について説明したものと同様である。

【００６０】次に、本発明の情報記録媒体の構成、使用
できる材料及び製造方法について詳述する。

【００６１】本発明における円盤状の基板の材料として
は、従来の情報記録媒体の基板として用いられている各
種の材料から任意に選択することができる。基板の光学
的特性、平面性、加工性、取扱い性、経時安定性および
製造コストなどの点から、基板材料の例としては、ガラ
ス、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ
塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹
脂；エポキシ樹脂；ポリカーボネート樹脂；アモルファ
スポリオレフィンおよびポリエステルを挙げることがで
きる。好ましくは、ポリカーボネート、ポリオレフィ
ン、ガラスおよびポリメチルメタクリレートを挙げるこ
とができる。

【００６２】光吸収層が設けられる側の基板表面には、
平面性の改善、接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善お
よび記録層の変質の防止の目的で、下塗層が設けられて
もよい。下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメ
タクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、ス
チレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコー
ル、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・スルホ
ン酸共重合体、スチレン・ビニルトルエン共重合体、ク
ロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ
塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポ
リイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン
・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、エポキシ樹脂等の高分子物質；
シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤な
どの有機物質；および無機誘電体（ＳｉＯ₂ 、ＺｎＳ、
ＡｌＮ、Ｓｉ₃ Ｎ₄等）、無機フッ化物（ＭｇＦ₂ ）な
どの無機物質を挙げることができる。

【００６３】下塗層は、例えば上記物質を適当な溶剤に
溶解または分散して塗布液を調製したのち、この塗布液
をスピンコート、ディップコート、エクストルージョン
コートなどの塗布法により基板表面に塗布することによ
り形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．０
０５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１
０μｍの範囲である。

【００６４】本発明においては、上記基板表面（または
下塗層表面）に、記録又は再生時のトラッキングを良好
に行なうために、プリグルーブ（トラッキング用溝）が
形成されている。プリグルーブの形状は、グルーブの深
さ（添付する図２のｄ₁ ）が５〜８０ｎｍの範囲にあり
且つグルーブの半値幅（グルーブの深さの１／２の深さ
におけるグルーブの幅）が０．２〜１．４μｍであるも
のが好ましく、グルーブの深さが１５〜６０ｎｍの範囲
にあり且つグルーブの半値幅が０．３〜０．７μｍであ
るものが更に好ましく、グルーブの深さが２０〜５０ｎ
ｍの範囲にあり且つグルーブの半値幅が０．３５〜０．
６μｍであるものが最も好ましい。アドレッシング、或
は線速制御用にグルーブをウォブリングさせても良い。

【００６５】本発明においては、更に、上記基板表面
（または下塗層表面）に、種々のアプリケーションソフ
ト、アドレス信号などの情報を予め記録したプリピット
（ＲＯＭ領域）が形成されていてもよい。プリピットの
形状は、ピットの深さ（添付する図３のｄ₂ ）が６０〜
３００ｎｍの範囲にあり且つピットの半値幅（ピットの
深さの１／２の深さにおけるピットの幅）が０．２〜
１．４μｍであるものが好ましく、ピットの深さが７０
〜２５０ｎｍの範囲にあり且つピットの半値幅が０．３
〜１．０μｍであるものが更に好ましく、ピットの深さ
が９０〜２００ｎｍの範囲にあり且つピットの半値幅が
０．４〜０．７μｍであるものが最も好ましい。

【００６６】また、プリピットが形成される場合、プリ
グルーブの深さは、プリピットの深さよりも光路長で表
わしてλ／１６（但し、λは再生用レーザ光の波長であ
って、以下の記載において同じである）以上短いことが
好ましく、λ／１４以上短いことが更に好ましく、λ／
１２以上短いことが特に好ましい。その理由は、プリグ
ルーブの深さを、変調度が十分大きくなるプリピットの
深さと同じように大きくすると、プリグルーブの反射率
が低くなり過ぎるからである。

【００６７】基板材料がプラスチックの場合は、射出成
形あるいは押出成形などにより基板表面に上記プリグル
ーブ又はプリグルーブとプリピットとを直接設けてもよ
い。また、基板の表面上に、上記プリグルーブ又はプリ
グルーブとプリピットとを形成するためのプリグルーブ
層を設けてもよい。

【００６８】プリグルーブ層の材料としては、アクリル
酸のモノエステル、ジエステル、トリエステルおよびテ
トラエステルのうちの少なくとも一種のモノマー（また
はオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用いること
ができる。プリグルーブ層の形成は、まず精密に作られ
た母型（スタンパー）上に上記のアクリル酸エステルお
よび重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗
布液層上に基板を載せたのち、基板または母型を介して
紫外線の照射により液層を硬化させて基板と液相とを固
着させる。次いで、基板を母型から剥離することにより
プリグルーブ層の設けられた基板が得られる。プリグル
ーブ層の層厚は一般に０．１〜１００μｍの範囲にあ
り、好ましくは０．１〜５０μｍの範囲である。

【００６９】プリグルーブ又はプリピットを形成した基
板（またはプリグルーブ層）上に、前記下塗層を形成す
る材料と同様の材料を使用して、光吸収層を形成するた
めの塗布液中の溶剤から保護するための耐溶剤層を設け
てもよい。

【００７０】基板（または下塗層）上には、前記のよう
な第一吸収層、第二吸収層及び第三吸収層からなる光吸
収層が設けられている。基板側からレーザ光を照射して
光吸収層に再生用のピットを形成することにより、光吸
収層に情報を記録する。従って、基板のプリグルーブが
形成された領域の光吸収層は記録層として機能する。

【００７１】第一吸収層の材料の有機物としては、前記
の条件（Ｉ）を満足する屈折率と消衰係数の値を有する
ものであれば何でもよい。一般に吸収極大の波長が、レ
ーザーの記録または再生波長より５０〜２００ｎｍ程度
短波長側にある色素の中から選択される。

【００７２】本発明に使用される色素は特に限定される
ものではなく、どのようなものでも良い。例えば、シア
ニン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン
系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、ア
ズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ，Ｃｒ
などの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラ
キノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリ
ン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタ
ン系色素、アミニウム系色素、ジインモニウム系色素、
ニトロソ系色素、ロイコ系色素、クロコニウム系色素、
等々の色素を挙げることができる。

【００７３】これらの色素は、ライト・ワンス（ＷＯ）
型に限らず、リライタブル（ＲＷ）型（又は可逆型）の
ものであってもよい。これらの色素のうちでも、記録再
生用レーザーとして近赤外光を発振する半導体レーザー
の利用が実用化されている点から、６００〜９００ｎｍ
の近赤外領域の光に対する吸収率が高い色素が好まし
い。

【００７４】これらの色素は単独でもあるいは二種以上
の混合物として用いてもよい。また、シアニン系色素を
用いる場合に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系
色素又はジインモニウム系色素をクエンチャーとして一
緒に用いることが好ましい。その場合、クエンチャーと
して金属錯塩系色素などを全色素１モルに対して０．０
０１〜０．３モルの割合で含むことが好ましい。

【００７５】第一吸収層の材料として使用される色素と
しては、特に、シアニン系色素、アズレニウム系色素及
びスクワリリウム系色素が好ましく、シアニン系色素の
中でも、メロシアニン系色素、フタロシアニン系色素、
ナフタロシアニン系色素、ナフトインドレニン系色素及
びイミダゾキノキサリン系色素が好ましい。

【００７６】本発明の情報記録媒体においては、光吸収
層の第一吸収層及び第二吸収層の合計の、グルーブ底部
の光学的膜厚とランド部の光学的膜厚との差が、λ／８
以下であることを特徴とする。また、本発明の情報記録
媒体が基板上に更にプリピットを有する場合には、光吸
収層の第一吸収層及び第二吸収層の合計の、ピット部の
光学的膜厚とピット間部の光学的膜厚との差が、λ／８
以下であることを特徴とする。光吸収層の光学的膜厚が
上記のような関係になるように光吸収層を形成するため
には、光吸収層を構成する各吸収層、即ち、第一吸収層
及び第二吸収層の光学的膜厚が、上記の条件を満足する
ように各吸収層を形成することが必要である。

【００７７】ところで、第二吸収層が高分子化合物から
なる場合には、後記するようにグルーブ底部の光学的膜
厚とランド部の光学的膜厚との差、及びピット部の光学
的膜厚とピット間部の光学的膜厚との差は実質的にな
い。従って、光吸収層の第一吸収層及び第二吸収層の合
計の、上記の光学的膜厚の差をλ／８以下にするために
は、第一吸収層が一個の場合には、第一吸収層のグルー
ブ底部の光学的膜厚とランド部の光学的膜厚との差、及
びピット部の光学的膜厚とピット間部の光学的膜厚との
差をλ／８以下にすればよい。また、第一吸収層が二個
の場合には、二個の第一吸収層の合計の、グルーブ底部
の光学的膜厚とランド部の光学的膜厚との差、及びピッ
ト部の光学的膜厚とピット間部の光学的膜厚との差をλ
／８以下にすればよい。

【００７８】従って、上記光吸収層の第一吸収層の光学
的膜厚について、添付する図面を参照して詳細に説明す
る。

【００７９】図２は、本発明の情報記録媒体の一実施例
の製造過程において、基板に第一吸収層を形成させた中
間製品の、プリグルーブ領域における断面の一部を模式
的に示す断面図である。図３は、上記中間製品の、プリ
ピット領域における断面の一部を模式的に示す断面図で
ある。図４は、従来公知の情報記録媒体の、プリグルー
ブ領域における断面の一部を模式的に示す断面図であ
る。

【００８０】図４において、プラスチックからなる基板
３１の表面に色素からなる光吸収層３２が形成されてい
る。基板３１には、プリグルーブ３３が形成されてい
る。光吸収層３２は色素をその溶剤に溶解して調製した
光吸収層形成用溶液をスピンコート法により塗布し乾燥
することによって形成されたものである。プリグルーブ
３３のグルーブ底部３５の光吸収層３２の膜厚ｔ₆ は、
基板３１のランド部３４の光吸収層３２の膜厚ｔ₅ より
も大きくなっている。その結果、光吸収層３２の空気と
接触する外表面における溝形状の深さがグルーブ３４の
深さｄ₃ よりも小さくなり、情報を記録するためにレー
ザ光を照射してプリグルーブ３３に記録ピットを形成し
たとき、光吸収層３２の溝の上部（基板のランド部に対
応する部分）と底部との位相差が小さくなるために、記
録ピットの変調度が小さくなるという問題があった。こ
の問題を解消するために、グルーブの深さを大きくして
いる。しかし、グルーブの深さを大きくし過ぎるとグル
ーブ部の反射率が低下するという問題が生じる。

【００８１】図２において、プラスチックからなる基板
１１の表面に色素からなる第一吸収層１２が形成されて
いる。基板１１には、プリグルーブ１３が形成されてい
る。第一吸収層１２は色素を溶剤に溶解して調製した後
記のような特定の性状を有する第一吸収層形成用溶液
を、スピンコート法により塗布し乾燥することによって
形成されたものである。プリグルーブ１３のグルーブ底
部１５の第一吸収層１２の光学的膜厚（ｎ_r ・ｔ₂ ）
（但し、ｎ_r は第一吸収層の屈折率であり、ｔ₂ はグル
ーブ底部１５の第一吸収層１２の膜厚である）と、基板
１１のランド部１４の第一吸収層１２の光学的膜厚（ｎ
_r ・ｔ₁ ）（但し、ｎ_r は第一吸収層の屈折率であり、
ｔ₁ はランド部１４の第一吸収層１２の膜厚である）と
の差は、λ／８以下であるように形成されている。その
結果、第一吸収層１２の空気と接触する外表面における
溝形状の深さはグルーブ１３の深さｄ₁ と同じか又は光
学的膜厚でλ／８以下ほど小さくなっており、第一吸収
層１２のグルーブ部とランド部とで位相差が大きく記録
ピットの変調度が大きいものである。更にｎ_r ・ｔ₁ と
ｎ_r ・ｔ₂ との差を上記のようにすることにより、グル
ーブ１３の深さｄ₁ を小さくすることが可能となりグル
ーブ部の反射率が大きくなる。

【００８２】上記のｎ_r ・ｔ₁ とｎ_r ・ｔ₂ との差は、
λ／１１以下であることが好ましく、λ／１３以下であ
ることが更に好ましく、λ／１６以下であることがより
一層好ましい。

【００８３】また、ミラー部の反射率に対するグルーブ
底部の反射率の比率が、７０％以上、特に８０％以上、
更に特に９０％以上にすることが好ましい。ミラー部の
反射率に対するグルーブ底部の反射率の比率を増大させ
るためには、グルーブ部の光路長とランド部の光路長と
の差を小さくすればよい。

【００８４】図３において、プラスチックからなる基板
２１の表面に色素からなる第一吸収層２２が形成されて
いる。基板２１には、プリピット２３が形成されてい
る。第一吸収層２２は色素を溶剤に溶解して調製した後
記のように特定の性状を有する第一吸収層形成用溶液
を、スピンコート法により塗布し乾燥することによって
形成されたものである。プリピット２３のピット部２５
の第一吸収層２２の光学的膜厚（ｎ_r ・ｔ₄ ）（但し、
ｎ_r は第一吸収層の屈折率であり、ｔ₄ はピット部２５
の第一吸収層２２の膜厚である）と、基板２１のピット
間部２４の第一吸収層２２の光学的膜厚（ｎ_r ・ｔ₃ ）
（但し、ｎ_r は第一吸収層の屈折率であり、ｔ₃ はピッ
ト間部２４の第一吸収層２２の膜厚である）との差は、
λ／８以下であるように形成されている。その結果、第
一吸収層２２の空気と接触する外表面における穴形状の
深さはピット２４の深さｄ₂ と同じか又は光学的膜厚で
λ／８以下ほど小さくなっており、第一吸収層２２のピ
ット部とピット間部とで位相差が大きくピットの変調度
が大きいものである。その結果、基板のピット形成領域
に第一吸収層が形成されていても、基板のピットを高い
変調度で再生することが可能となる。

【００８５】上記のｎ_r ・ｔ₃ とｎ_r ・ｔ₄ との差は、
λ／１１以下であることが好ましく、λ／１３以下であ
ることが更に好ましく、λ／１６以下であることがより
一層好ましい。

【００８６】基板にプリグルーブとプリピットとの両方
が形成されている場合は、グルーブの深さｄ₁ はピット
部の深さｄ₂ よりも、光路長（ｎ・ｄ：ｎは基板の屈折
率で、ｄは深さ寸法である）で表わしてλ／１６以上、
特にλ／１４以上、更に特にλ／１２以上小さいことが
好ましい。

【００８７】上記第一吸収層の、上記ランド部及び上記
ピット間部の膜厚は、１０〜１０００ｎｍ、特に３０〜
５００ｎｍ、更に特に４０〜３００ｎｍであることが好
ましい。

【００８８】上記のような特定の光学的膜厚を有する第
一吸収層、即ち、グルーブ底部の第一吸収層の光学的膜
厚とランド部の第一吸収層の光学的膜厚との差がλ／８
以下であり、ピット部の第一吸収層の光学的膜厚とピッ
ト間部の第一吸収層の光学的膜厚との差がλ／８以下で
ある第一吸収層を形成するための色素溶液は、濃縮限界
が９９〜２０％である色素溶液である。本明細書におい
て、「濃縮限界」の用語は、色素溶液の塗布温度におい
て該色素溶液から該溶剤を蒸発させることにより色素の
析出が始まったときの色素懸濁溶液の体積の、該色素溶
液の元の体積に対する比率と意味するものとして定義さ
れる。例えば、色素を溶剤に溶解した色素溶液を第一吸
収層を形成するための塗布温度に維持して溶剤を蒸発さ
せたとき、溶剤の蒸発に伴なってその体積が減少し、や
がて溶解していた色素が析出してくるが、色素の析出が
始まったときの色素溶液（厳密には色素懸濁溶液であ
る）の体積が、元の色素溶液の体積の９０％である色素
溶液を、濃縮限界が９０％の色素溶液という。

【００８９】従って、色素溶液の濃縮限界（以下、限界
濃度ということがある）は、色素と溶剤（単一溶剤又は
混合溶剤）との組合せ、溶剤を二種以上の溶剤の組合せ
としたときその種類と比率、色素溶液中の色素の濃度、
塗布温度、等々によって変化する。そのために、特定の
濃縮限界を有する色素溶液を特定の色素について一律に
定めることはできないが、上記のような条件を種々変え
て所望の濃縮限界を有する色素溶液を調製することは、
当業者が容易になし得ることである。

【００９０】第一吸収層を形成するために使用する色素
溶液は、濃縮限界が９９〜２０％である色素溶液である
が、濃縮限界が９９〜３０％、特に９５〜４０％、更に
特に９０〜５０％である色素溶液であることが好まし
い。色素溶液の濃縮限界が、上記範囲よりも大きいと第
一吸収層の膜厚が全体的に不均一になり、また上記範囲
よりも小さいとグルーブ底部とランド部との第一吸収層
の光学的膜厚の差及びピット部とピット間部との第一吸
収層の光学的膜厚の差が大きくなる。

【００９１】上記色素溶液を調製するために使用する溶
剤は、色素溶液の濃縮限界を満足するものである限り、
単一の溶剤であってもよく、二種以上の溶剤の混合溶剤
であってもよい。上記溶剤が混合溶剤である場合、使用
する色素の良溶剤（好ましくは、色素溶液の塗布温度に
おいて使用する色素を２重量％以上溶解し得る溶剤）
と、使用する色素の貧溶剤（好ましくは、色素溶液の塗
布温度において使用する色素を２重量％以上溶解しない
溶剤）との混合物であることが好ましい。その際に、該
良溶剤と該貧溶剤とは相溶性であり、上記塗布温度にお
いて該貧溶剤の蒸発速度が該良溶剤の蒸発速度よりも大
きくないことが必要である。一般に該貧溶剤の混合割合
を増大させるほど濃縮限界は大きくなる。

【００９２】上記の溶剤としては、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼンなどのような芳香族炭化
水素系溶剤；ヘキサン、オクタン、ノナン、シクロヘキ
サンなどのような脂肪族炭化水素系溶剤；酢酸のような
有機酸系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、アセテート、
セロソルブアセテートなどのようなエステル系溶剤；ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノンなどのようなケトン系溶剤；ジク
ロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム、
メチルクロロホルム、トリクレン、四塩化炭素、テトラ
クロロエチレンなどのようなハロゲン化炭化水素系溶
剤；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、イソプロピ
ルエーテル、ジオキサン、ダイグライムなどのようなエ
ーテル系溶剤；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプ
ロパノール、ｎ−ブタノール、アミルアルコール、ジア
セトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル、ベンジルアルコー
ルなどのようなアルコール系溶剤；ジメチルホルムアミ
ドのようなアミド系溶剤；２，２，３，３−テトラフロ
ロプロパノールなどのようなフッ素化アルコール、フッ
素置換ケトン、フッ素置換エステル、フッ素置換アミ
ド、フッ素置換エーテル、フッ素置換芳香族炭化水素、
フッ素置換脂肪族炭化水素などのようなフッ素系溶剤な
どを挙げることができる。

【００９３】上記色素溶液が上記濃縮限界を満足するも
のである限り特に限定されるものではないが、その取扱
いの便宜上及びスピンコート法により基板状の全体的に
均一な膜厚の第一吸収層を形成させるために、上記色素
溶液中の上記色素の濃度は０．５〜１４重量％、特に１
〜１０重量％、更に特に１．５〜８重量％であることが
好ましい。

【００９４】上記色素溶液中には、さらに酸化防止剤、
ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に
応じて添加してもよい。

【００９５】結合剤を使用する場合に結合剤としては、
例えばゼラチン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等
のセルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなど
の天然有機高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系
樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化
ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポ
リアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアク
リル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィ
ン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期
縮合物などの合成有機高分子物質を挙げることができ
る。

【００９６】上記色素溶液をスピンコート法により基板
上に塗布するに際しては、それ自体公知の装置及び方法
を使用して行なうことができる。上記色素溶液を、一般
に０〜１００℃、特に５〜８０℃、更に特に１０〜６０
℃の温度で塗布することが好ましい。基板の回転数は、
色素溶液を塗布するときは、一般に１０〜１０００r.p.
m.、特に１００〜５００r.p.m.にすることが好ましく、
色素塗膜を乾燥するときは、一般に３００〜１００００
r.p.m.、特に５００〜７０００r.p.m.、更に特に７００
〜４０００r.p.m.にすることが好ましい。

【００９７】第一吸収層の上に第二吸収層を設ける。第
二吸収層の材料の有機物としては前記の条件（II）を満
足する屈折率と消衰係数の値を有するものであれば何で
もよい。

【００９８】上記式（II）を満足する材料とし高分子化
合物を挙げることができる。例えば、フェノール樹脂、
メラミン樹脂、アリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミ
ド、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビ
ニル・ポリ酢酸ビニル共重合体、ポリフッ化ビニリデ
ン、ポリエチレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ア
イオノマー樹脂、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリ
スチレン、アクリルニトリル・スチレン共重合体、ＡＢ
Ｓ樹脂、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポ
リ酢酸ビニル、ポリカーボネート、ポリアセタール、塩
素化ポリエチレン、塩素化ポリエーテル、ポリアミド、
弗素樹脂、ポリフェニレンオキシド、酢酸セルロース系
樹脂、硝酸セルロース系樹脂、酢酸酪酸セルロース系樹
脂、ポリブタジエン、アクリルニトリル樹脂、ポリエチ
レンテレフタレートおよびポリブテンを挙げることがで
きる。

【００９９】また第二吸収層の材料として色素を用いる
こともできる。そのような色素としては、一般に吸収極
大の波長が、レーザーの記録または再生波長より２００
ｎｍ程度以上短波長側にある色素、あるいは１００ｎｍ
程度以上長波長側にある色素の中から選択できる。好ま
しくは、シアニン系色素、メロシアニン系色素、フタロ
シアニン系色素およびナフタロシアニン系色素である。

【０１００】第二吸収層の材料として高分子化合物を使
用する場合は、前記のような溶剤を使用して溶液を調製
し、スピンコート法により第二吸収層を形成することが
できる。この場合は、色素含有層を形成する場合とは異
なり、グルーブ底部の第二吸収層の光学的膜厚とランド
部の第二吸収層の光学的膜厚との差、及び、ピット部の
第二吸収層の光学的膜厚とピット間部の第二吸収層の光
学的膜厚との差は実質的にない。第二吸収層の材料とし
て色素を使用する場合は、第一吸収層の形成について記
載したような特定の濃縮限界を有する色素溶液を使用し
て、スピンコート法により第二吸収層を形成することが
できる。

【０１０１】第二吸収層の上に第三吸収層を設ける。第
三吸収層の材料の有機物としては、前記の条件（III ）
または（IV）を満足する屈折率および消衰係数の値を有
するものであれば何でもよい。

【０１０２】上記式（III ）を満足する有機物は実質的
に第一吸収層の材料と同じ材料を用いることができる。

【０１０３】上記式（IV）を満足する有機物としては、
吸収極大の波長が、レーザーの記録または再生波長の付
近にある色素が好ましい。好ましくは、シアニン系色
素、メロシアニン系色素、フタロシアニン系色素および
ナフタロシアニン系色素である。

【０１０４】第三吸収層は前記のように反射層として機
能するので、第一吸収層について説明したようにグルー
ブ底部の光学的膜厚とランド部の光学的膜厚との差、及
びピット部の光学的膜厚とピット間部の光学的膜厚との
差を小さくすることについて、特に考慮する必要はな
い。従って、従来の色素膜形成方法を使用して形成する
ことができる。勿論、第一吸収層の形成について記載し
たような特定の濃縮限界を有する色素溶液を使用して、
スピンコート法により形成することもできる。

【０１０５】上記第一吸収層、第二吸収層および第三吸
収層の層厚は、前記ランド部又は前記ピット間部で測定
して、それぞれ一般的に１０〜１０００ｎｍの範囲であ
り、好ましくは３０〜５００ｎｍの範囲であり、特に好
ましくは４０〜３００ｎｍの範囲である。

【０１０６】色素層の材料として結合剤を併用する場合
は、上記第一吸収層、第二吸収層および第三吸収層の本
発明の特定の屈折率および消衰係数の範囲を逸脱しない
ように使用することが必要である。結合剤に対する色素
の比率は一般に０．０１〜９９％（重量比）の範囲にあ
り、好ましくは１．０〜９５％（重量比）の範囲にあ
る。

【０１０７】上記第一吸収層、第二吸収層および第三吸
収層の三層は、例えばスピンコートに用いるスピナーに
ノズルを三つ取り付けて、各層形成について塗布と乾燥
とを行なう操作を、順に連続的に行なうことによって形
成することができる。従って、基板上に吸収層の形成は
極めて容易に行なうことができる。

【０１０８】本発明の情報記録媒体においては、光吸収
層の上に光吸収層を物理的及び化学的に保護する目的で
保護層を設けてもよい。また、この保護層は、基板の光
吸収層が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高め
るために設けてもよい。

【０１０９】保護層に用いられる材料の例としては、無
機物質としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂ 、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 、Ｍｇ
Ｆ₂ 、ＳｎＯ₂ 等を挙げることができる。また、有機物
質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性
樹脂等を挙げることができ、好ましくはＵＶ硬化性樹脂
である。

【０１１０】保護層は、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性
樹脂などを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したの
ち、この塗布液を塗布し、乾燥することによって形成す
ることができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのまま
もしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこ
の塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることに
よって保護層を形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂
としては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ
（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレ
ート等の（メタ）アクリレートのオリゴマー類、（メ
タ）アクリル酸エステル等のモノマー類等と光重合開始
剤等との通常のＵＶ硬化性樹脂を使用することができ
る。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止
剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加して
もよい。保護層の材料としてＵＶ硬化性樹脂を用いるこ
とが好ましい。

【０１１１】保護層の層厚は一般には０．１〜１００μ
ｍ、好ましくは０．５〜２０μｍの範囲にある。

【０１１２】上記の保護層形成用材料を光吸収層の第三
吸収層形成材料と混合して第三吸収層を形成し、第三吸
収層が保護層の役割も兼ねるようにすることもできる。

【０１１３】上記以外にも、保護層は、たとえばプラス
チックの押出加工で得られたフィルムを接着層を介して
光吸収層の上にラミネートすることにより形成すること
ができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等
の方法により設けられてもよい。

【０１１４】また、本発明の情報記録媒体の二枚を、そ
れらの光吸収層が内側になるように対面させ、二枚の情
報記録媒体の間に空間が形成されるようにリング状内側
スペーサとリング状外側スペーサとを介在させて二枚の
情報記録媒体を接合して、エアーサンドイッチ構造の情
報記録媒体にすることができる。このエアーサンドイッ
チ構造の情報記録媒体は、光吸収層は直接外気に接する
ことがなく、情報の記録、再生は基板を透過するレーザ
光で行なわれるために、光吸収層が物理的又は化学的な
損傷を受けたり、或いはその表面に塵埃が付着して情報
の記録、再生の障害となることがない。エアーサンドイ
ッチ構造の情報記録媒体の片方の情報記録媒体は光吸収
層が設けられていない基板（プリピットが設けられてい
てもよい）であってもよく、また、情報記録媒体は光吸
収層の上に及び／又は基板の光吸収層が設けられていな
い面に保護層が設けられたものであってもよい。

【０１１５】上記のような構成を有する本発明の情報記
録媒体は、極めて高い反射率を有するものであるが、上
記第三吸収層の上に、又は第三吸収層と保護層との間に
反射層を設けてもよい。この場合、更に高い反射率を得
ることができるが、情報記録媒体を塗布のみで製造でき
るという利点が失われる。

【０１１６】反射層の材料である光反射性物質はレーザ
ー光に対する反射率が高い物質であり、その例としては
Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、
Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒ
ｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚ
ｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐ
ｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｓｂなどの金属および半金属を
挙げることができる。これらのうちで好ましいものはＡ
ｌ、Ａｕ、ＣｒおよびＮｉである。これらの物質は単独
で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せでまたは
合金として用いてもよい。

【０１１７】反射層は、たとえば上記光反射性物質を蒸
着、スパッタリングまたはイオンプレーティングするこ
とにより基板の上に形成することができる。反射層の層
厚は一般には１０〜３００ｎｍの範囲にある。

【０１１８】本発明の情報記録媒体への情報の記録は、
情報記録媒体を定線速度（好ましくは１．２〜２．８ｍ
／秒、特に好ましくは１．２〜１．４ｍ／秒）にて回転
させながら、基板側から該プレグルーブの底部にレーザ
ー光を照射してグルーブ上にある光吸収層に再生用のピ
ットを形成して信号を記録することにより行なう。信号
としてはＣＤフォーマットのＥＦＭ信号を記録すること
が本発明の効果を得る上で好ましい。一般に、記録光と
しては７００〜９００ｎｍの範囲の発振波長を有する半
導体レーザービームが用いられる。本発明の情報記録媒
体では、１０ｍＷ以下のレーザーパワーで記録すること
ができる。

【０１１９】上記の記録後のピットは、基板及び／又は
色素がレーザ光の照射により発熱し、溶融、蒸発、昇
華、変形或るいは変質することにより、基板−色素間に
凸状、波状、凹状等の変化が起こったり、色素内で変化
が起こったり、色素−金属反射層間で変化が起こったり
するなどの形態のものである。

【０１２０】上記吸収層のピット形成は、第一吸収層の
消衰係数が０に近い場合は第三吸収層のみにピットが形
成され、そうでない場合は第一吸収層にピット形成およ
び第三吸収層も変形すると考えられる。また、レーザー
のエネルギーが大き時は第二吸収層にもピット形成、変
形が起こることも考えられる。さらに、第一および第三
吸収層の消衰係数をほぼ０にして第二吸収層に色素を用
いた場合、第二吸収層に記録することが可能である。し
かしながら、一般にどれか一層のみに記録するのは困難
で他の層への影響は避けられない。

【０１２１】記録に際しては、上記トラッキング用プレ
グルーブを用いてプッシュプル法などによるトラッキン
グ制御が行なわれる。情報の記録は、プレグルーブのグ
ルーブまたはグルーブ間のランドに行なわれる。

【０１２２】情報の再生は、例えば記録媒体を上記と同
一の定線速度または定角速度で回転させながら半導体レ
ーザー光を基板側から照射してその反射光を検出するこ
とにより、３ビーム法などによるトラッキング制御を行
ないながら情報を再生することができる。

【０１２３】上記記録方法により、本発明の情報記録媒
体にＣＤフォーマット信号などを定線速度で記録を行う
ことにより、信号の変調度、再生Ｃ／Ｎなどの優れた記
録再生特性を得ることができ、さらに記録時のトラッキ
ング性、特にプッシュプル法によるトラッキング性が優
れたものとなる。更にＲＯＭ領域が設けられた本発明の
情報記録媒体の場合は、ＲＯＭ領域においても高い変調
度の再生信号を得ることができる。

【０１２４】

【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を記載す
る。ただし、これらの各例は本発明を制限するものでは
ない。

【０１２５】［実施例１］直径４６ｍｍ〜８０ｍｍの領
域にＥＦＭ信号を記録したプリピット（ピットの半値
幅：０．６μｍ、ピットの深さ：１２０ｎｍ）が形成さ
れ、直径８０ｍｍ〜１１８ｍｍの領域にプリグルーブ
（トラックピッチ：１．６μｍ、グルーブの半値幅：
０．５５μｍ、グルーブの深さ：４０ｎｍ）が形成され
た円盤状のポリカーボネート基板（外径：１２０ｍｍ、
内径：１５ｍｍ、厚さ：１．２ｍｍ、屈折率：１．５
８）を用意した。

【０１２６】一方、下記の構造式（Ａ）を有する色素
（Ａ）を、２，２，３，３−テトラフロロプロパノール
とエチルセロソルブとの８０：２０の体積比の混合溶剤
に溶解して、色素（Ａ）を２．２５重量％含有する第一
吸収層形成用塗布液を調製し、２３℃に維持した。この
塗布液の２３℃における濃縮限界は６０％であった。

【０１２７】

【化１】

【０１２８】また、１，２−ポリブタジエン（サイエン
ティフィックポリマープロダクツ製、Ｎｏ．６６８、）
０．６ｇをシクロヘキサン１５ｃｃとｎ−ノナン１０ｃ
ｃとの混合溶媒に溶解して第二吸収層形成用塗布液を調
製し、２３℃に維持した。

【０１２９】更に、第三吸収層形成用塗布液として、上
記第一吸収層形成用塗布液と同じものを調製した。

【０１３０】２３℃の上記基板のプリピット及びプリグ
ルーブ形成面に、上記第一吸収層形成用塗布液をスピン
コート法により基板回転数２００r.p.m.の速度で５秒間
塗布した後、回転数１４００r.p.m.で３０秒間乾燥し
て、表１に示す光学的膜厚の第一吸収層を形成した。

【０１３１】第一吸収層上に、上記第二吸収層形成用塗
布液をスピンコート法により回転数１４００r.p.m.の速
度で３０秒間で塗布、乾燥して、表１に示す光学的膜厚
の第二吸収層を形成した。

【０１３２】第二吸収層上に、上記第三吸収層形成用塗
布液を第一吸収層の形成と同様にして、ランド部の光学
的膜厚が２２０ｎｍの第三吸収層を形成した。

【０１３３】このようにして、基板、第一吸収層、第二
吸収層および第三吸収層からなる光情報記録媒体（図１
（Ａ）参照）を製造した。

【０１３４】得られた情報記録媒体について、プリグル
ーブ形成領域では、グルーブ底部の第一吸収層及び第二
吸収層の光学的膜厚、ランド部の第一吸収層及び第二吸
収層の光学的膜厚、ミラー部反射率を、プリピット形成
領域では、ピット部の第一吸収層及び第二吸収層の光学
的膜厚、ピット間部の第一吸収層及び第二吸収層の光学
的膜厚、及び１１Ｔ変調度を、下記の評価方法により測
定した。評価結果を表１に記載する。

【０１３５】なお、各吸収層の屈折率及び消衰係数（各
材料を上記のように塗布してガラス板に薄層（５０〜１
５０ｎｍ）を形成し、その反射率と透過率を測定して求
めた）は下記の通りであった。第一吸収層［屈折率（ｎ₁ ）：２．６、消衰係数（ｋ₁ ）：０．０
６］第二吸収層［屈折率（ｎ₂ ）：１．５、消衰係数（ｋ₂ ）：０］第三吸収層［屈折率（ｎ₃ ）：２．６、消衰係数（ｋ₃ ）：０．０
６］

【０１３６】［実施例２］実施例１において、第一吸収
層形成用塗布液及び第三吸収層形成用塗布液に使用した
色素Ａを下記の構造式（Ｂ）を有する色素Ｂに変えた以
外は実施例１と同様にして光情報記録媒体を製造した。

【０１３７】

【化２】

【０１３８】得られた情報記録媒体について、実施例１
に記載したのと同じ評価項目について同様にして測定し
た。評価結果を表１に記載する。

【０１３９】なお、各吸収層の屈折率及び消衰係数は下
記の通りであった。第一吸収層［屈折率（ｎ₁ ）：２．６、消衰係数（ｋ₁ ）：０．０
７］第二吸収層［屈折率（ｎ₂ ）：１．５、消衰係数（ｋ₂ ）：０］第三吸収層［屈折率（ｎ₃ ）：２．６、消衰係数（ｋ₃ ）：０．０
７］

【０１４０】［比較例１］第一吸収層形成用塗布液及び
第三吸収層形成用塗布液として、下記のようにして調製
した塗布液を使用した他は実施例１におけると同様にし
て情報記録媒体を製造した。

【０１４１】第一吸収層形成用塗布液：前記の色素
（Ａ）を、２，２，３，３−テトラフロロプロパノール
に溶解して、色素（Ａ）を２．２５重量％含有する第一
吸収層形成用塗布液を調製した。この塗布液の２３℃に
おける限界濃度は１０％以下であった。

【０１４２】第三吸収層形成用塗布液：上記第一吸収層
形成用塗布液と同じものである。

【０１４３】得られた情報記録媒体について、実施例１
に記載したのと同じ評価項目について同様にして測定し
た。評価結果を表１に記載する。なお、各吸収層の屈折
率及び消衰係数は実施例１と同じであった。

【０１４４】［比較例２］第一吸収層形成用塗布液及び
第三吸収層形成用塗布液として、下記のようにして調製
した塗布液を使用した他は実施例１におけると同様にし
て情報記録媒体を製造した。

【０１４５】第一吸取層形成用塗布液：前記の色素（Ｂ）を、２，２，３，３−テトラフロロプ
ロパノールに溶解して、色素（Ｂ）を２．２５重量％含
有する第一吸収層形成用塗布液を調製した。この塗布液
の２３℃における濃縮限界は１０％以下であった。

【０１４６】第三吸収層形成用塗布液：上記第一吸収層
形成用塗布液と同じものである。

【０１４７】得られた情報記録媒体について、実施例１
に記載したのと同じ評価項目について同様にして測定し
た。評価結果を表１に記載する。なお、各吸収層の屈折
率及び消衰係数は実施例１と同じであった。

【０１４８】［情報記録媒体の評価］上記で得られた情
報記録媒体を、ディスク評価装置（ＮＡ：０．５、レー
ザー波長：７８０ｎｍ) 及びＥＦＭエンコーダ(KEN-WOO
D)を用いて、記録する際のレーザーパワー（記録パワ
ー）を４ｍＷ、定線速度：１．３ｍ／秒にてプレグルー
ブの底部に記録を行なった。

【０１４９】１）グルーブ底部の吸収層の光学的膜厚吸収層の絶対膜厚を、断面部の超高分解能電子顕微鏡
（株式会社日立製作所製Ｓ９００）観察によって測定
し、吸収層の屈折率を、別に形成した色素薄膜の反射
率、透過率、及び絶対膜厚を測定した結果から求め、こ
れらの絶対膜厚と屈折率とから光学的膜厚を算出した。

【０１５０】２）ランド部の吸収層の光学的膜厚上記１）の方法と同様にして求めた。

【０１５１】３）ピット部の吸収層の光学的膜厚上記１）の方法と同様にして求めた。

【０１５２】４）ピット間部の吸収層の光学的膜厚上記１）の方法と同様にして求めた。

【０１５３】５）ミラー部反射率反射率が既知のアルミニウム板をリファレンスとして、
分光光度計（株式会社島津製作所製ＵＶ１３０）を使用
して測定した。

【０１５４】６）１１Ｔ変調度上記記録されたＣＤフォーマット信号のうち記録長１１
Ｔの直流再生信号について、信号部分とミラー部（信号
の無い部分）の信号強度を測定し、その変調度（Ｃ）を
次式により求めた。Ｃ＝［（ＳH −ＳL ）／ＳH ］×１００（ＳH:信号の最大強度、ＳL:信号の最小強度）

【０１５５】

【表１】

【０１５６】第１表より明らかなように、実施例の情報
記録媒体は、プリグルーブ形成領域（情報記録領域）で
反射率が大きく、プリピット形成領域（ＲＯＭ領域）で
１１Ｔ変調度が大きく優れた性能を有しているものであ
る。

【０１５７】これに対して、比較例の情報記録媒体は、
プリグルーブ形成領域で反射率は実施例の情報記録媒体
のそれと同程度であったが、プリピット形成領域（ＲＯ
Ｍ領域）での１１Ｔ変調度は実施例の情報記録媒体に比
較して低いものであった。

【０１５８】

【発明の効果】本発明の情報記録媒体は、塗布により容
易に形成することができる特定の屈折率と消衰係数を有
する三個以上の吸収層を基板上に有する情報記録媒体で
ある。このような構成を採ることによって、簡易な製造
方法により得られることができるという大きな利点を有
しながら且つ高い反射率を有する情報記録媒体を得るこ
とができる。

【０１５９】本発明の情報記録媒体は、色素を含む光吸
収層の光学的膜厚が、グルーブ底部とランド部とで差が
少ないので、プリグルーブの深さを浅くしても光吸収層
の表面の溝の深さが十分大きく、感度が高く、レーザ光
を照射して情報を記録した後、変調度の高い再生信号を
得ることができるという顕著に優れた情報記録媒体であ
る。

【０１６０】また、本発明の情報記録媒体は、プリピッ
トが形成された領域にも色素を含む光吸収層が形成され
ており、しかもプリピットが形成された領域から変調度
の高い再生信号を得ることができるので、上記光吸収層
の膜厚を情報記録媒体の全面に亙って均一にすることが
でき、プリピットが形成されたＲＯＭ領域と、プリグル
ーブが形成された記録可能領域とを、例えば両領域を混
在させるなど任意の場所に設けることが可能であり、ア
プリケーションソフトの種類や利用方法に制限がなく広
範囲の用途に使用できるという顕著に優れた情報記録媒
体である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の情報記録媒体の実施例の断面を模式的
に示す断面図である。（Ａ）は光吸収層が三層からなる
ものであり、（Ｂ）は光吸収層が五層からなるものであ
る。

【図２】本発明の情報記録媒体の一実施例のプリグルー
ブ領域における断面の一部を模式的に示す断面図であ
る。

【図３】本発明の情報記録媒体の一実施例のプリピット
領域における断面の一部を模式的に示す断面図である。

【図４】従来公知の情報記録媒体のプリグルーブ領域に
おける断面の一部を模式的に示す断面図である。

【符号の説明】

１情報記録媒体２基板３第一吸収層４第二吸収層５第三吸収層１１、２１、３１基板１２、２２、３２吸収層１３、３３プリグルーブ２３プリピット１４、３４ランド部２４ピット間部１５、３５グルーブ底部２５ピット部

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】表面にプリグルーブが形成された円盤状の
基板上に、レーザ光を照射して再生用のピットを形成す
ることにより情報の記録が可能な色素を含む光吸収層が
設けられてなる情報記録媒体であって、該光吸収層が、
基板側から順に、第一吸収層及び第二吸収層からなる二
層一組の複合吸収層の一組又は二組と第三吸収層とから
なり、そして、第一吸収層が、有機物からなり且つ１．８以上の屈折率
及び０．５以下の消衰係数を有する層であり、第二吸収層が、有機物からなり且つ１．８未満の屈折率
及び０．５以下の消衰係数を有する層であり、そして、第三吸収層が、有機物からなり且つ１．８以上の屈折率
及び０．５以下の消衰係数を有する層、又は有機物から
なり且つ１．０〜４．０の範囲内にある屈折率及び１．
０以上の消衰係数を有する層であり、更に、光吸収層の第一吸収層及び第二吸収層の合計の、グルー
ブ底部の光学的膜厚とランド部の光学的膜厚との差がλ
／８（但し、λは再生用レーザ光の波長）以下であるこ
とを特徴とする情報記録媒体。
【請求項２】表面にプリピット及びプリグルーブが形成
された円盤状の基板上に、レーザ光を照射して再生用の
ピットを形成することにより情報の記録が可能な色素を
含む光吸収層が設けられてなる情報記録媒体であって、
該光吸収層が、基板側から順に、第一吸収層及び第二吸
収層からなる二層一組の複合吸収層の一組又は二組と第
三吸収層とからなり、そして、第一吸収層が、有機物からなり且つ１．８以上の屈折率
及び０．５以下の消衰係数を有する層であり、第二吸収層が、有機物からなり且つ１．８未満の屈折率
及び０．５以下の消衰係数を有する層であり、そして、第三吸収層が、有機物からなり且つ１．８以上の屈折率
及び０．５以下の消衰係数を有する層、又は有機物から
なり且つ１．０〜４．０の範囲内にある屈折率及び１．
０以上の消衰係数を有する層であり、更に、光吸収層の第一吸収層及び第二吸収層の合計の、ピット
部の光学的膜厚とピット間部の光学的膜厚との差がλ／
８（但し、λは再生用レーザ光の波長）以下であり、グ
ルーブ底部の光学的膜厚とランド部の光学的膜厚との差
がλ／８（但し、λは再生用レーザ光の波長）以下であ
ることを特徴とする情報記録媒体。