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JP2769304B2 - Liquid crystal display - Google Patents

Liquid crystal display

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Publication number
JP2769304B2
JP2769304B2 JP19134195A JP19134195A JP2769304B2 JP 2769304 B2 JP2769304 B2 JP 2769304B2 JP 19134195 A JP19134195 A JP 19134195A JP 19134195 A JP19134195 A JP 19134195A JP 2769304 B2 JP2769304 B2 JP 2769304B2
Authority
JP
Japan
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common electrode
signal line
liquid crystal
common
wiring
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP19134195A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0943633A (en
Inventor
康之 三島
啓一郎 芦沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=16272959&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2769304(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Priority to TW085102194A priority patent/TW354380B/en
Priority to US08/610,340 priority patent/US5754266A/en
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Priority to DE69637979T priority patent/DE69637979D1/en
Priority to EP02001044A priority patent/EP1202108B1/en
Priority to DE69633650T priority patent/DE69633650T2/en
Priority to EP96104131A priority patent/EP0732612B1/en
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Priority to CNB200310123863XA priority patent/CN1325985C/en
Priority to CNB2003101238593A priority patent/CN1235082C/en
Priority to CNB2003101238589A priority patent/CN1260606C/en
Priority to CNB2003101238606A priority patent/CN1234039C/en
Priority to CNB961060840A priority patent/CN1158565C/en
Priority to SG1996006460A priority patent/SG78253A1/en
Priority to KR1019960007118A priority patent/KR100371850B1/en
Publication of JPH0943633A publication Critical patent/JPH0943633A/en
Priority to KR1019980015873A priority patent/KR100390283B1/en
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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置に係わ
り、特に、表示むらを防止して表示品質を向上させた高
画質液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a high quality liquid crystal display device having improved display quality by preventing display unevenness.

【0002】[0002]

【従来の技術】画素電極と共通電極との間に基板面に対
して平行な電界を液晶に印加して液晶表示パネルに画像
を表示する横電界方式の液晶駆動装置が、例えば、特公
平2−913号公報に開示されている。
2. Description of the Related Art A horizontal electric field type liquid crystal driving device for displaying an image on a liquid crystal display panel by applying an electric field parallel to a substrate surface between a pixel electrode and a common electrode to a liquid crystal is disclosed in -913.

【0003】図16は、横電界方式の液晶表示装置の駆
動回路の概略構成を示すブロック図である。
FIG. 16 is a block diagram showing a schematic configuration of a driving circuit of a liquid crystal display device of a horizontal electric field type.

【0004】図16において、101は横電界方式のT
FT液晶表示パネル(TFT−LCD)、1はゲート駆
動回路、2はドレイン駆動回路、10はタイミングコン
トローラ(表示制御装置)、3は共通電圧発生駆動回
路、106は薄膜トランジスタ(TFT)、6はドレイ
ン信号線、7はゲート信号線、5は共通電極信号線、7
02は緑色の画素、703は青色の画素、704は赤色
の画素を示す。
[0006] In FIG. 16, reference numeral 101 denotes a transverse electric field type T.
FT liquid crystal display panel (TFT-LCD), 1 is a gate drive circuit, 2 is a drain drive circuit, 10 is a timing controller (display control device), 3 is a common voltage generation drive circuit, 106 is a thin film transistor (TFT), 6 is a drain Signal line, 7 is a gate signal line, 5 is a common electrode signal line, 7
02 indicates a green pixel, 703 indicates a blue pixel, and 704 indicates a red pixel.

【0005】図16に示す横電界方式の液晶表示装置に
おいて、複数の画素がマトリクス状に設けられ、前記複
数の画素のそれぞれは、複数の薄膜トランジスタ(TF
T)106と、前記複数の薄膜トランジスタ(TFT)
106のソース電極に接続される画素電極とを有する。
In the liquid crystal display device of the horizontal electric field type shown in FIG. 16, a plurality of pixels are provided in a matrix, and each of the plurality of pixels is provided with a plurality of thin film transistors (TFs).
T) 106 and the plurality of thin film transistors (TFT)
And a pixel electrode connected to the source electrode 106.

【0006】また、マトリクス状に設けられた薄膜トラ
ンジスタ(TFT)106の中の列方向毎の複数の薄膜
トランジスタ(TFT)106のドレイン電極は、同じ
ドレイン信号線6に接続され、前記複数のドレイン信号
線6は、TFT液晶表示パネル(TFT−LCD)10
0の上部で、ドレイン駆動回路2と接続される。
The drain electrodes of the plurality of thin film transistors (TFTs) 106 in the column direction among the thin film transistors (TFTs) 106 provided in a matrix are connected to the same drain signal line 6, and the plurality of drain signal lines are connected. 6 is a TFT liquid crystal display panel (TFT-LCD) 10
At the top of 0, it is connected to the drain drive circuit 2.

【0007】また、マトリクス状に設けられた薄膜トラ
ンジスタ(TFT)106の中の行方向毎の複数の薄膜
トランジスタ(TFT)106のゲート電極は、同じゲ
ート信号線7に接続され、前記複数のゲート信号線7
は、TFT液晶表示パネル(TFT−LCD)100の
一方の側面部で、ゲート駆動回路1と接続される。
The gate electrodes of a plurality of thin film transistors (TFTs) 106 arranged in a matrix in each row direction are connected to the same gate signal line 7, and the plurality of gate signal lines are connected to each other. 7
Is connected to the gate drive circuit 1 on one side surface of a TFT liquid crystal display panel (TFT-LCD) 100.

【0008】さらに、共通電極に駆動電圧を印加する共
通電極信号線5は、前記マトリクス状に配列された画素
の中の行方向毎の複数の画素電極と対向して形成され、
TFT液晶表示パネル(TFT−LCD)100の他方
の側面部で共通電圧発生駆動回路3と接続される。
Further, a common electrode signal line 5 for applying a drive voltage to the common electrode is formed so as to face a plurality of pixel electrodes in a row direction among the pixels arranged in the matrix,
The other side of the TFT liquid crystal display panel (TFT-LCD) 100 is connected to the common voltage generation drive circuit 3.

【0009】図16に示す横電界方式の液晶表示装置に
おいては、情報処理装置からタイミングコントローラ1
0に入力される制御信号に基づき、ゲート駆動回路1
で、薄膜トランジスタ(TFT)106を「ON」、
「OFF」し、ドレイン駆動回路2から、画素(702
〜704)に階調電圧を印加する。
In the in-plane switching mode liquid crystal display device shown in FIG.
0 based on the control signal input to the gate drive circuit 1
To turn on the thin film transistor (TFT) 106,
“OFF”, and the pixel (702) is output from the drain drive circuit 2.
To 704), a gradation voltage is applied.

【0010】また、図16に示す横電界方式の液晶表示
装置においては、2枚の基板に一定のギャップをもたせ
て液晶を封入する場合、2枚の基板は、その縁部でスペ
ーサによって一定のギャップを得る構成となっている。
In the lateral electric field type liquid crystal display device shown in FIG. 16, when a liquid crystal is sealed with a certain gap between two substrates, the two substrates are fixed at the edges by spacers. The gap is obtained.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】横電界方式の液晶表示
装置においても、液晶層に印加する電圧を交流化する交
流化駆動方式を採用しており、その中の1つに、1ライ
ン毎に液晶層に印加する駆動電圧を反転する交流化駆動
方式がある。
The in-plane switching mode liquid crystal display device also employs an alternating drive system for converting the voltage applied to the liquid crystal layer into an alternating current. There is an AC driving method in which a driving voltage applied to a liquid crystal layer is inverted.

【0012】また、抵抗Rおよび容量Cを有する信号線
に、パルス電圧を印加すると、パルス電圧に歪みが生じ
る。
When a pulse voltage is applied to a signal line having a resistor R and a capacitor C, distortion occurs in the pulse voltage.

【0013】図17は、前記図16に示す横電界方式の
液晶表示装置における、共通電極に印加される駆動電圧
の伝送経路の等価回路を示す回路図であり、図18は、
図17に示す各点における駆動電圧の波形を示す図であ
る。
FIG. 17 is a circuit diagram showing an equivalent circuit of a transmission path of a driving voltage applied to a common electrode in the in-plane switching mode liquid crystal display device shown in FIG. 16, and FIG.
FIG. 18 is a diagram illustrating a waveform of a drive voltage at each point illustrated in FIG. 17.

【0014】前記図16に示す横電界方式の液晶表示装
置において、図17に示すように、共通電極に印加され
る駆動電圧の伝送経路には、共通電極信号線5の抵抗5
0、共通電圧発生駆動回路3と共通電極信号線5との間
の共通電極配線の抵抗51および画素(702〜70
4)内の蓄積容量53が存在する。
In the horizontal electric field type liquid crystal display device shown in FIG. 16, the transmission path of the driving voltage applied to the common electrode is provided with the resistance 5 of the common electrode signal line 5 as shown in FIG.
0, the resistance 51 of the common electrode wiring between the common voltage generation drive circuit 3 and the common electrode signal line 5 and the pixel (702 to 70
4) There is a storage capacity 53 in.

【0015】したがって、交流化された駆動電圧で液晶
層を駆動する場合に、共通電極信号線5の抵抗50、共
通電圧発生駆動回路3と共通電極信号線5との間の共通
電極配線の抵抗51および画素(702〜704)内の
蓄積容量53により、共通電圧発生駆動回路3内の共通
電圧駆動回路52から共通電極に供給される駆動電圧
(パルス電圧)の波形に歪みが生じる。
Therefore, when the liquid crystal layer is driven by the AC drive voltage, the resistance of the common electrode signal line 5 and the resistance of the common electrode wiring between the common voltage generation drive circuit 3 and the common electrode signal line 5 are reduced. The waveform of the drive voltage (pulse voltage) supplied to the common electrode from the common voltage drive circuit 52 in the common voltage generation drive circuit 3 is caused by the storage capacitor 53 in the pixel (702 to 704).

【0016】図18に示す、D点の画素共通電圧波形5
4、E点の画素共通電圧波形55、F点の画素共通電圧
波形56、G点の画素共通電圧波形57から分かるよう
に、この共通電極に供給される駆動電圧の波形歪みは、
D点、E点、F点、G点と遠端になる程大きくなる。
A pixel common voltage waveform 5 at a point D shown in FIG.
4. As can be seen from the pixel common voltage waveform 55 at point E, the pixel common voltage waveform 56 at point F, and the pixel common voltage waveform 57 at point G, the waveform distortion of the drive voltage supplied to this common electrode is:
It becomes larger as it becomes the far end with point D, point E, point F and point G.

【0017】その結果、各画素内の画素電極と共通電極
との間の電界が異なり、共通電極信号線5に沿って輝度
むら(表示むら)が生じ、それにより、液晶表示パネル
の表示品質が損なわれるという問題点があった。
As a result, the electric field between the pixel electrode and the common electrode in each pixel is different, and uneven brightness (uneven display) occurs along the common electrode signal line 5, thereby reducing the display quality of the liquid crystal display panel. There was a problem of being damaged.

【0018】特に、1ライン毎に液晶層に印加する駆動
電圧を反転する交流化駆動方式を採用する場合に、大き
な問題点となっていた。
In particular, this has been a serious problem when an alternating drive system in which the drive voltage applied to the liquid crystal layer is inverted for each line is employed.

【0019】また、共通電極信号線5が1箇所でも断線
した場合には、断線箇所から先の画素の共通電極には駆
動電圧を供給できなくなるため液晶が駆動できず、それ
により、液晶表示パネルの表示品質が損なわれるという
問題点があった。
Further, when the common electrode signal line 5 is broken even in one place, the driving voltage cannot be supplied to the common electrode of the pixel after the broken place, so that the liquid crystal cannot be driven. There is a problem that the display quality of the image is deteriorated.

【0020】さらに、従来の技術による構成では、ドレ
イン信号線6、ゲート信号線7の引き出し部と非引き出
し部では信号線の膜厚分だけ異なるため、パネル全体で
ギャップむらが生じ、それにより、液晶表示パネルの表
示品質が損なわれるという問題点があった。
Furthermore, in the configuration according to the conventional technique, the difference between the lead-out part and the non-lead-out part of the drain signal line 6 and the gate signal line 7 is the same as the thickness of the signal line. There is a problem that the display quality of the liquid crystal display panel is impaired.

【0021】本発明は、前記従来技術の問題点を解決す
るためになされたものであり、本発明の目的は、液晶表
示装置において、視角特性が良好で表示品質を向上させ
ることが可能となる技術を提供することにある。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device having good viewing angle characteristics and improving display quality. To provide technology.

【0022】本発明の前記目的並びにその他の目的及び
新規な特徴は、本明細書の記載及び添付図面によって明
らかにする。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0023】[0023]

【発明が解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, a typical one will be briefly described as follows.
It is as follows.

【0024】(1)一対の基板と、前記一方の基板上の
表示領域にそれぞれ形成される複数のアクティブ素子
と、前記一方の基板上に形成され前記複数のアクティブ
素子にそれぞれ接続される複数の画素電極と、前記一方
の基板上に行方向に形成され行方向のそれぞれのアクテ
ィブ素子に走査電圧を印加する複数の走査電極と、前記
一方の基板上に列方向に形成され列方向のそれぞれのア
クティブ素子に信号電圧を印加する複数の信号電極と、
前記一方の基板上に行方向に形成され、前記行方向のそ
れぞれの画素電極との間で基板面にほぼ平行な電界を液
晶層に印加する複数の共通電極と、前記一対の基板間に
挾持される液晶層と、前記走査電極を駆動する走査電極
駆動手段と、前記信号電極を駆動する信号電極駆動手段
と、前記共通電極を駆動する共通電極駆動手段とを、少
なくとも有する液晶表示装置において、行方向に配列さ
れている各共通電極と接続される共通電極信号線を備
え、列方向に並設される各共通電極信号線は、その両端
部が前記表示領域の外側に形成した共通電極配線によっ
て共通接続され、かつ、この共通電極配線は前記共通電
極信号線よりも低抵抗に構成されていることを特徴とす
る。
[0024] (1) a pair of substrates, a plurality of active elements wherein each formed on one display area on the substrate, wherein formed on one substrate of a plurality which are respectively connected to the plurality of active elements A pixel electrode, a plurality of scan electrodes formed in the row direction on the one substrate and applying a scan voltage to each active element in the row direction, and a plurality of scan electrodes formed in the column direction on the one substrate and arranged in the column direction. A plurality of signal electrodes for applying a signal voltage to the active element,
A plurality of common electrodes formed on the one substrate in the row direction and applying an electric field substantially parallel to the substrate surface to the liquid crystal layer between the respective pixel electrodes in the row direction, and sandwiched between the pair of substrates; A liquid crystal layer, a scanning electrode driving unit for driving the scanning electrode, a signal electrode driving unit for driving the signal electrode, and a common electrode driving unit for driving the common electrode. Arranged in rows
A common electrode signal line connected to each common electrode
Each of the common electrode signal lines arranged in the column direction has both ends.
Part is formed by the common electrode wiring formed outside the display area.
And the common electrode wiring is connected to the common electrode.
It is characterized by having a lower resistance than the polar signal line .

【0025】(2)前記(1)の手段において、前記一
方の基板上の非表示領域に、前記共通電極配線と同材
質、同膜厚のダミー線を有することを特徴とする。
(2) In the means (1), a dummy line having the same material and the same thickness as the common electrode wiring is provided in the non-display area on the one substrate.

【0026】(3)前記(1)または(2)の手段にお
いて、前記共通電極配線と、前記走査電極あるいは信号
電極との交差部、および、前記共通電極配線と共通電極
との接続部以外の非交差部において、前記共通電極配線
の上部あるいは下部に、走査電極と同材質、同膜厚の膜
厚調整膜を有することを特徴とする。
(3) In the means of (1) or (2), a portion other than an intersection between the common electrode wiring and the scanning electrode or the signal electrode and a connecting portion between the common electrode wiring and the common electrode are used. In a non-intersecting portion, a thickness adjusting film having the same material and the same thickness as the scanning electrode is provided above or below the common electrode wiring.

【0027】(4)前記(1)または(2)の手段にお
いて、前記共通電極配線と、前記走査電極あるいは信号
電極との交差部、および、前記共通電極配線と共通電極
との接続部以外の非交差部において、前記共通電極配線
の上部あるいは下部に、信号電極と同材質、同膜厚の膜
厚調整膜を有することを特徴とする。
(4) In the above-mentioned means (1) or (2), a portion other than an intersection between the common electrode wiring and the scanning electrode or the signal electrode and a connecting portion between the common electrode wiring and the common electrode are provided. In the non-intersecting portion, a film thickness adjustment film having the same material and the same thickness as the signal electrode is provided above or below the common electrode wiring.

【0028】[0028]

【作用】前記(1)の手段によれば、共通電極信号線の
両終端部を共通電極配線に接続するとともに、共通電極
配線の抵抗値を共通電極信号線の抵抗値より小さくした
ので、共通電圧駆動回路より供給される共通電極の駆動
電圧の波形歪みを小さくすることが可能となり、各画素
内の画素電極と共通電極との間の電界強度がパネル内で
均一に近くなり、共通電極信号線に沿って発生する輝度
むらを軽減することが可能となる。
According to the means (1), both ends of the common electrode signal line are connected to the common electrode wiring and the resistance of the common electrode wiring is made smaller than the resistance of the common electrode signal line. It is possible to reduce the waveform distortion of the driving voltage of the common electrode supplied from the voltage driving circuit, the electric field strength between the pixel electrode and the common electrode in each pixel becomes nearly uniform in the panel, and the common electrode signal It is possible to reduce uneven brightness occurring along the line.

【0029】また、例え、共通電極信号線が途中で1本
断線しても、共通電極信号線の両端から共通電圧を供給
でき、各画素の液晶を駆動できるため、従来例のよう
に、断線箇所から先の画素の液晶を駆動できなくなるこ
とにより、表示品質が損なわれるのを防止することがで
きる。
Further, even if one common electrode signal line is broken in the middle, a common voltage can be supplied from both ends of the common electrode signal line and the liquid crystal of each pixel can be driven. It is possible to prevent the display quality from being impaired due to the inability to drive the liquid crystal of the previous pixel from the location.

【0030】また、共通電極配線が配設されている領域
の断面構造を、共通電極配線とゲート信号線あるいはド
レイン信号線の交差部と同じ断面構造にすることによ
り、共通電極配線が形成されている基板縁部の膜厚のむ
らを軽減することができ、それにより、2枚の基板間の
ギャップ長を一定することが可能となり、液晶表示装置
のギャップむらを軽減することが可能となる。
Further, by forming the cross-sectional structure of the region where the common electrode wiring is provided to be the same as the cross-section of the intersection of the common electrode wiring and the gate signal line or the drain signal line, the common electrode wiring is formed. The unevenness of the film thickness at the edge of the substrate can be reduced, whereby the gap length between the two substrates can be made constant, and the unevenness of the gap of the liquid crystal display device can be reduced.

【0031】[0031]

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0032】なお、実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り
返しの説明は省略する。
In all the drawings for explaining the embodiments, parts having identical functions are given same symbols and their repeated explanation is omitted.

【0033】[実施例1]図1は、本発明の一実施例
(実施例1)である液晶表示装置の概略構成を示すブロ
ック図である。
Embodiment 1 FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a liquid crystal display device according to an embodiment (Embodiment 1) of the present invention.

【0034】本実施例の液晶表示装置は、画素12がマ
トリックス状に構成されたマトリックス基板8、対向基
板9、タイミングコントローラ10、ドレイン駆動回路
2、ゲート駆動回路1、共通電圧発生駆動回路3、マト
リックス基板8と対向基板9の間に封入された液晶(図
示せず)から構成される。
In the liquid crystal display device of this embodiment, a matrix substrate 8 having pixels 12 arranged in a matrix, a counter substrate 9, a timing controller 10, a drain drive circuit 2, a gate drive circuit 1, a common voltage generation drive circuit 3, It is composed of liquid crystal (not shown) sealed between the matrix substrate 8 and the counter substrate 9.

【0035】さらに,マトリックス基板8には画素12
を駆動するのに必要な駆動電圧を供給するドレイン信号
線6とゲート信号線7が画素12を囲むように互いに直
交して配置され、ドレイン信号線6はドレイン駆動回路
2と接続され、ゲート信号線7はゲート駆動回路1と各
々接続されている。
The matrix substrate 8 has pixels 12
A drain signal line 6 and a gate signal line 7 for supplying a driving voltage necessary for driving the pixel 12 are arranged orthogonal to each other so as to surround the pixel 12, and the drain signal line 6 is connected to the drain drive circuit 2 to The lines 7 are each connected to the gate drive circuit 1.

【0036】さらに、画素12内の共通電極と接続され
る共通電極信号線5が、ゲート信号線7と平行して配置
され、さらに、共通電極信号線5の両終端部で共通電極
配線4を介して共通電圧発生駆動回路3に接続されてい
る。
Further, a common electrode signal line 5 connected to a common electrode in the pixel 12 is arranged in parallel with the gate signal line 7, and the common electrode signal line 5 is connected at both ends of the common electrode signal line 5. It is connected to the common voltage generation drive circuit 3 via the power supply.

【0037】また、ゲート駆動回路1、および、ドレイ
ン駆動回路2は、タイミングコントローラ10と接続さ
れている。
The gate drive circuit 1 and the drain drive circuit 2 are connected to a timing controller 10.

【0038】タイミングコントローラ10は、外部の映
像信号源11より映像信号及びタイミング信号を取り込
み、ドレイン駆動回路2によって映像信号に対応した駆
動電圧を発生させ、タイミング信号に応じてドレイン信
号線6に供給する。
The timing controller 10 receives a video signal and a timing signal from an external video signal source 11, generates a drive voltage corresponding to the video signal by the drain drive circuit 2, and supplies the drive voltage to the drain signal line 6 according to the timing signal. I do.

【0039】ゲート駆動回路1は、タイミングコントロ
ーラ10から供給される映像信号及びタイミング信号を
取り込み、映像信号に対応した駆動電圧を発生させ、タ
イミング信号に応じてゲート信号線7に供給する。
The gate drive circuit 1 takes in the video signal and the timing signal supplied from the timing controller 10, generates a drive voltage corresponding to the video signal, and supplies it to the gate signal line 7 according to the timing signal.

【0040】この結果、映像信号に応じたドレイン電圧
を、マトリックス基板8内の画素12内に順次印加する
ことが可能となる。
As a result, it becomes possible to sequentially apply the drain voltage according to the video signal to the pixels 12 in the matrix substrate 8.

【0041】本実施例においては、共通電極信号線5
が、その両終端部で共通電極配線4と接続される。
In this embodiment, the common electrode signal line 5
Are connected to the common electrode wiring 4 at both ends.

【0042】このとき、共通電極配線4は、マトリック
ス基板8の非表示領域に形成されるので、共通電極配線
4の配線幅を広くすることができるので、共通電極配線
4の抵抗値を、共通電極信号線5の抵抗値よりも小さく
することができる。
At this time, since the common electrode wiring 4 is formed in the non-display area of the matrix substrate 8, the wiring width of the common electrode wiring 4 can be widened. It can be smaller than the resistance value of the electrode signal line 5.

【0043】図2は、本実施例の液晶表示装置におけ
る、共通電極に印加される駆動電圧の伝送経路の等価回
路を示す回路図であり、図3は、図2に示す各点におけ
る駆動電圧の波形を示す図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an equivalent circuit of a transmission path of the drive voltage applied to the common electrode in the liquid crystal display device of the present embodiment. FIG. 3 is a circuit diagram showing the drive voltage at each point shown in FIG. It is a figure which shows the waveform of.

【0044】共通電極信号線5の抵抗58よりも、共通
電極配線4の抵抗59が小さいために、図2に示すD
点、E点、F点、G点における、共通電圧駆動回路60
より供給される共通電極の駆動電圧の電圧波形は、図3
に示すD点画素共通電圧62、E点画素共通電圧63、
F点画素共通電圧64、G点画素共通電圧65となる。
Since the resistance 59 of the common electrode wiring 4 is smaller than the resistance 58 of the common electrode signal line 5, the resistance D shown in FIG.
Common voltage drive circuit 60 at points E, F, and G
The voltage waveform of the common electrode driving voltage supplied from FIG.
D point pixel common voltage 62, E point pixel common voltage 63,
The F point pixel common voltage 64 and the G point pixel common voltage 65 are used.

【0045】本実施例によれば、図3から分かるよう
に、共通電圧発生駆動回路3内の共通電圧駆動回路60
から共通電極に供給される駆動電圧の波形歪みが軽減さ
れる。
According to the present embodiment, as can be seen from FIG. 3, the common voltage drive circuit 60 in the common voltage generation drive circuit 3
, The waveform distortion of the drive voltage supplied to the common electrode is reduced.

【0046】したがって、各画素12内の画素電極と共
通電極との間の電界強度がパネル内で均一に近くなり、
共通電極信号線5に沿って発生する輝度むらを軽減する
ことが可能となる。
Therefore, the electric field strength between the pixel electrode and the common electrode in each pixel 12 becomes nearly uniform in the panel,
It is possible to reduce uneven brightness generated along the common electrode signal line 5.

【0047】また、共通電極信号線5が途中で断線して
も、共通電極信号線5の両端から共通電極に駆動電圧を
供給でき、従来例のように、断線箇所から先の画素12
の共通電極に駆動電圧を供給できず液晶が駆動できなく
なることにより、表示品質が損なわれるのを防止するこ
とが可能となる。
Further, even if the common electrode signal line 5 is disconnected in the middle, a driving voltage can be supplied to the common electrode from both ends of the common electrode signal line 5, and the pixel 12 which is located beyond the disconnection point as in the conventional example.
It is possible to prevent the display quality from being impaired due to the inability to supply the driving voltage to the common electrode and the inability to drive the liquid crystal.

【0048】図4は、図1に示す画素12の等価回路を
示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an equivalent circuit of the pixel 12 shown in FIG.

【0049】次に、図4を用いて、画素12の構成につ
いて説明する。
Next, the configuration of the pixel 12 will be described with reference to FIG.

【0050】画素12は、薄膜トランジスタ(TFT)
24、画素電極25、共通電極27、蓄積容量21、さ
らに、画素電極25と共通電極27間の液晶20で構成
されている。
The pixel 12 is a thin film transistor (TFT)
24, a pixel electrode 25, a common electrode 27, a storage capacitor 21, and a liquid crystal 20 between the pixel electrode 25 and the common electrode 27.

【0051】薄膜トランジスタ24のゲート電極26、
ドレイン電極13、および、ソース電極14は、各々、
ゲート信号線17、ドレイン信号線15、および、画素
電極25に接続されている。
The gate electrode 26 of the thin film transistor 24,
The drain electrode 13 and the source electrode 14 are respectively
The gate signal line 17, the drain signal line 15, and the pixel electrode 25 are connected.

【0052】また、共通電極27は共通電極信号線16
と接続され、さらに、共通電極27と画素電極25間に
蓄積容量21が形成され、加えて、前記したマトリック
ス基板8と対向基板9との間に封入される液晶20が、
共通電極27と画素電極25間に配置される。
The common electrode 27 is connected to the common electrode signal line 16.
And a storage capacitor 21 is formed between the common electrode 27 and the pixel electrode 25. In addition, the liquid crystal 20 sealed between the matrix substrate 8 and the counter substrate 9 is
It is arranged between the common electrode 27 and the pixel electrode 25.

【0053】また、ゲート信号線17とドレイン信号線
15、および、共通電極信号線16とドレイン信号線1
5の交差部には、それぞれゲート・ドレイン交差容量1
8、および、コモン・ドレイン交差容量19が形成され
る。
The gate signal line 17 and the drain signal line 15, and the common electrode signal line 16 and the drain signal line 1
5 at the intersection of gate and drain
8 and a common-drain cross capacitance 19 are formed.

【0054】また、薄膜トランジスタ24には、寄生容
量(Cgs)23、寄生容量(Cgd)22が形成され
る。
In the thin film transistor 24, a parasitic capacitance (Cgs) 23 and a parasitic capacitance (Cgd) 22 are formed.

【0055】図5(a)は、マトリックス基板8に形成
された画素12の平面図であり、図5(b)は、図5
(a)のL−L’線で切断した断面を示す断面図であ
る。
FIG. 5A is a plan view of the pixel 12 formed on the matrix substrate 8, and FIG.
It is sectional drawing which shows the cross section cut | disconnected by the LL 'line of (a).

【0056】図5(a)、図5(b)に示すように、マ
トリックス基板8にゲート電極30と共通電極32を、
例えば、アルミニウム38を用いて形成する。
As shown in FIGS. 5A and 5B, a gate electrode 30 and a common electrode 32 are
For example, it is formed using aluminum 38.

【0057】また、ゲート信号線31および、共通電極
信号線36も同時に形成し、ゲート電極30とゲート信
号線31、および、共通電極32と共通電極信号線36
とは各々電気的に接続する。
Further, the gate signal line 31 and the common electrode signal line 36 are formed at the same time, and the gate electrode 30 and the gate signal line 31 and the common electrode 32 and the common electrode signal line 36 are formed.
Are electrically connected to each other.

【0058】次に、陽極酸化を用いて、酸化アルミニウ
ム39を形成した後、ゲート酸化膜40を、例えば、窒
化シリコン等で形成する。
Next, after the aluminum oxide 39 is formed by using anodic oxidation, the gate oxide film 40 is formed of, for example, silicon nitride or the like.

【0059】そして、ゲート酸化膜40のゲート電極3
0に対向する部分には、例えば、水素化アモルファスシ
リコンからなる半導体層44を形成し、さらに、半導体
層44上には互いに電気的に分離されたN型水素化アモ
ルファスシリコンからなるオーミック層45a,45b
を設ける。
Then, the gate electrode 3 of the gate oxide film 40 is formed.
For example, a semiconductor layer 44 made of hydrogenated amorphous silicon is formed in a portion opposing 0, and an ohmic layer 45a made of N-type hydrogenated amorphous silicon electrically separated from each other is formed on the semiconductor layer 44. 45b
Is provided.

【0060】次に、ソース電極29、ドレイン電極2
8、画素電極37、および、ドレイン信号線33を同時
に、例えば、クロム41、アルミニウム42の2層で形
成し、ソース電極29と画素電極35、および、ドレイ
ン電極28とドレイン信号線33は各々電気的に接続す
る。
Next, the source electrode 29 and the drain electrode 2
8, the pixel electrode 37 and the drain signal line 33 are simultaneously formed of, for example, two layers of chromium 41 and aluminum 42, and the source electrode 29 and the pixel electrode 35, and the drain electrode 28 and the drain signal line 33 are respectively electrically connected. Connection.

【0061】このとき、例えば、共通電極32は3本、
画素電極37は2本の櫛歯を有し、互いの櫛歯を交互に
等間隔で、ほぼドレイン信号線33とほぼ平行に画素1
2内に配置する。
At this time, for example, there are three common electrodes 32,
The pixel electrode 37 has two comb teeth, and the comb teeth are alternately arranged at equal intervals and substantially in parallel with the drain signal line 33.
2

【0062】また、共通電極32と画素電極37の交差
部には、ゲート絶縁膜40を介して蓄積容量35を形成
する。
At the intersection of the common electrode 32 and the pixel electrode 37, a storage capacitor 35 is formed via a gate insulating film 40.

【0063】さらに、窒化シリコン等の保護膜43、ポ
リイミド系の配向膜46を形成する。
Further, a protective film 43 made of silicon nitride or the like and a polyimide-based alignment film 46 are formed.

【0064】本実施例では、アクティブ素子としてアモ
ルファスシリコン薄膜トランジスタ24を使用している
が、他にポリシリコン薄膜トランジスタ、シリコンウエ
ハを上のMOS型トランジスタ、または、MIM(Me
tal−Intrinsic−metal)ダイオード
等の2端子素子を用いてることも可能である。
In this embodiment, the amorphous silicon thin film transistor 24 is used as an active element. However, a polysilicon thin film transistor, a MOS transistor on a silicon wafer, or an MIM (Me
It is also possible to use a two-terminal element such as a tal-intrinsic-metal diode.

【0065】また、各電極、信号線の材料には、特に材
料の制約は無いが駆動回路との接続端子部での腐食を考
慮すると対腐食性の強い金属が望ましい。
The material of each electrode and signal line is not particularly limited, but a metal having a high anticorrosive property is preferable in consideration of corrosion at a connection terminal portion with a drive circuit.

【0066】また、本実施例において1つの薄膜トラン
ジスタを用いたが冗長用として2つの以上の薄膜トラン
ジスタを形成しても構わない。
Although one thin film transistor is used in this embodiment, two or more thin film transistors may be formed for redundancy.

【0067】また、本実施例では共通電極32と画素電
極37の櫛歯の本数は各々3本と2本としたが、その本
数は開口率等を考慮にいれると少ないほうが望ましい。
In this embodiment, the number of the comb teeth of the common electrode 32 and the number of the comb teeth of the pixel electrode 37 are three and two, respectively. However, it is desirable that the number is small in consideration of the aperture ratio and the like.

【0068】図6(a)は、図1に示すマトリックス基
板8のA点における共通電極信号線と共通電極配線との
接続部の平面図である。
FIG. 6A is a plan view of the connection between the common electrode signal line and the common electrode wiring at point A of the matrix substrate 8 shown in FIG.

【0069】また、図6(b)は、図6(a)のI−
I’線で切断した断面を示す断面図であり、図6(c)
は、図6(a)のH−H’線で切断した断面を示す断面
図である。
FIG. 6B is a diagram showing the I-I of FIG.
FIG. 6C is a cross-sectional view showing a cross section cut along line I ′, and FIG.
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a cross section cut along the line HH ′ in FIG.

【0070】図1に示すA点において、マトリックス基
板8上にアルミニウム38を用いてゲート信号線31と
共通電極信号線36を形成した後、陽極酸化を用いて、
信号線上に酸化アルミニウム39を形成する。
At the point A shown in FIG. 1, after the gate signal line 31 and the common electrode signal line 36 are formed on the matrix substrate 8 by using aluminum 38,
Aluminum oxide 39 is formed on the signal line.

【0071】その際、共通電極信号線36の終端部は、
あらかじめレジストを用いて酸化アルミニウム39が形
成されないようにしている。
At this time, the terminal of the common electrode signal line 36 is
A resist is used in advance to prevent the aluminum oxide 39 from being formed.

【0072】次に、ゲート酸化膜40を形成するが、こ
の時、共通電極信号線36の終端部上には、コンタクト
ホール48を形成する。
Next, a gate oxide film 40 is formed. At this time, a contact hole 48 is formed on the terminal portion of the common electrode signal line 36.

【0073】次に、クロム41、アルミニウム43の2
層を用いて、ドレイン信号線33および、共通電極配線
47を同時に形成する。
Next, chromium 41 and aluminum 43
Using the layer, the drain signal line 33 and the common electrode wiring 47 are formed simultaneously.

【0074】共通電極配線47は共通電極信号線36の
終端部上にも形成し、共通電極信号線36の終端部のコ
ンタクトホール48により、共通電極配線47と共通電
極信号線36を電気的に接続する。
The common electrode wiring 47 is also formed on the end of the common electrode signal line 36, and the common electrode wiring 47 and the common electrode signal line 36 are electrically connected by the contact hole 48 at the end of the common electrode signal line 36. Connecting.

【0075】最後に、保護膜43を形成し、表面処理を
行う。
Finally, a protective film 43 is formed, and a surface treatment is performed.

【0076】図7(a)は、図1に示すマトリックス基
板8のB点における共通電極信号線と共通電極配線との
接続部の平面図であり、また、図7(b)は、図7
(a)のJ−J’線で切断した断面を示す断面図であ
る。
FIG. 7A is a plan view of a connection portion between the common electrode signal line and the common electrode wiring at a point B of the matrix substrate 8 shown in FIG. 1, and FIG. 7B is a plan view of FIG.
It is sectional drawing which shows the cross section cut | disconnected by the JJ 'line of (a).

【0077】マトリックス基板8上にアルミニウム38
を用いて、ゲート信号線35、共通電極信号線36、お
よび、共通電極配線47を、同時に形成した後、陽極酸
化を用いて、信号線上に酸化アルミニウム39形成し、
さらに、酸化アルミニウム39の上にゲート酸化膜40
を形成する。
Aluminum 38 on the matrix substrate 8
To form a gate signal line 35, a common electrode signal line 36, and a common electrode wiring 47 at the same time, and then, using anodic oxidation, an aluminum oxide 39 is formed on the signal line,
Further, a gate oxide film 40 is formed on the aluminum oxide 39.
To form

【0078】その際、共通電極信号線36の終端部、お
よび、共通電極配線47上は、あらかじめ陽極酸化を行
う際にレジストを用いて酸化アルミニウム39、およ
び、ゲート酸化膜40は形成されないようにしておく。
At this time, a resist is used to prevent the aluminum oxide 39 and the gate oxide film 40 from being formed at the terminal portion of the common electrode signal line 36 and on the common electrode wiring 47 by using a resist before performing anodic oxidation. Keep it.

【0079】次に、クロム41、アルミニウム42の2
層を用いて、ドレイン信号線33を形成し、同時に共通
信号線47上にもクロム41、アルミニウム42を形成
する。
Next, chromium 41 and aluminum 42
A drain signal line 33 is formed using the layer, and chromium 41 and aluminum 42 are also formed on the common signal line 47 at the same time.

【0080】その結果、共通電極配線47は、アルミニ
ウム38、クロム41、アルミニウム42によって構成
され低抵抗化なされている。
As a result, the common electrode wiring 47 is made of aluminum 38, chromium 41, and aluminum 42 and has a low resistance.

【0081】最後に保護膜43を形成し、表面処理を行
う。
Finally, a protective film 43 is formed, and a surface treatment is performed.

【0082】図8(a)は、図1に示すマトリックス基
板8のC点におけるドレイン信号線と共通電極配線との
交差部の平面図であり、また、図8(b)は、図8
(a)のK−K’線で切断した断面を示す断面図であ
る。
FIG. 8A is a plan view of the intersection of the drain signal line and the common electrode line at point C of the matrix substrate 8 shown in FIG. 1, and FIG. 8B is a plan view of FIG.
It is sectional drawing which shows the cross section cut | disconnected by the KK 'line of (a).

【0083】マトリックス基板8上にアルミニウム38
を用いて、ゲート信号線と共通電極信号線47を形成し
た後、陽極酸化を用いて、信号線上に酸化アルミニウム
39を形成する。
Aluminum 38 on matrix substrate 8
After forming a gate signal line and a common electrode signal line 47 by using, the aluminum oxide 39 is formed on the signal line by using anodic oxidation.

【0084】その後、ゲート酸化膜40を形成した後
に、ドレイン信号線33をクロム41、アルミニウム4
2の2層を用いて形成する。
After forming the gate oxide film 40, the drain signal line 33 is connected to chromium 41 and aluminum 4
2 is formed using two layers.

【0085】最後に保護膜43を形成し、表面処理を行
う。
Finally, a protective film 43 is formed, and a surface treatment is performed.

【0086】なお、図6においては、共通電極信号線3
6と共通電極配線47との接続部(コンタクトホール4
8)を、共通電極配線47とドレイン信号線33との間
の領域に形成するようにしたが、必ずしもこれに限定さ
れず、例えば、図9に示すように、共通電極配線47に
対してドレイン信号線33と反対側の領域に、コンタク
トホール48を形成することも可能である。
In FIG. 6, the common electrode signal line 3
6 and the common electrode wiring 47 (contact hole 4
8) is formed in a region between the common electrode wiring 47 and the drain signal line 33, but is not necessarily limited to this. For example, as shown in FIG. It is also possible to form a contact hole 48 in a region opposite to the signal line 33.

【0087】図9(a)は、図1に示すマトリックス基
板8のA点における共通電極信号線と共通電極配線との
接続部の他の例の平面図である。
FIG. 9A is a plan view of another example of the connection between the common electrode signal line and the common electrode wiring at point A of the matrix substrate 8 shown in FIG.

【0088】また、図9(b)は、図9(a)のQ−
Q’線で切断した断面を示す断面図であり、図9(c)
は、図9(a)のR−R’線で切断した断面を示す断面
図である。
FIG. 9B is a graph showing the Q-value of FIG. 9A.
FIG. 9C is a cross-sectional view showing a cross section cut along the line Q ′, and FIG.
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a cross section cut along the line RR ′ in FIG.

【0089】図1に示すA点において、マトリックス基
板8上にアルミニウム38を用いてゲート信号線31と
共通電極信号線36を形成した後、陽極酸化を用いて、
信号線上に酸化アルミニウム39を形成する。
At the point A shown in FIG. 1, after the gate signal lines 31 and the common electrode signal lines 36 are formed on the matrix substrate 8 using aluminum 38,
Aluminum oxide 39 is formed on the signal line.

【0090】その際、共通電極信号線36の終端部は、
あらかじめレジストを用いて酸化アルミニウム39が形
成されないようにしている。
At this time, the terminal of the common electrode signal line 36 is
A resist is used in advance to prevent the aluminum oxide 39 from being formed.

【0091】次に、ゲート酸化膜40を形成するが、こ
の時、共通電極信号線36の終端部上には、コンタクト
ホール48を形成する。
Next, a gate oxide film 40 is formed. At this time, a contact hole 48 is formed on the terminal portion of the common electrode signal line 36.

【0092】次に、クロム41、アルミニウム43の2
層を用いて、ドレイン信号線33および、共通電極配線
47を同時に形成する。
Next, chromium 41 and aluminum 43
Using the layer, the drain signal line 33 and the common electrode wiring 47 are formed simultaneously.

【0093】共通電極配線47は共通電極信号線36の
終端部上にも形成し、共通電極信号線36の終端部のコ
ンタクトホール48により、共通電極配線47と共通電
極信号線36を電気的に接続する。
The common electrode wiring 47 is also formed on the end of the common electrode signal line 36, and the common electrode wiring 47 and the common electrode signal line 36 are electrically connected by the contact hole 48 at the end of the common electrode signal line 36. Connecting.

【0094】最後に、保護膜43を形成し、表面処理を
行う。
Finally, a protective film 43 is formed and a surface treatment is performed.

【0095】図9に示す例では、共通電極信号線36と
共通電極配線47との交差部には酸化アルミニウム39
が形成される。
In the example shown in FIG. 9, aluminum oxide 39 is provided at the intersection of common electrode signal line 36 and common electrode line 47.
Is formed.

【0096】また、一般に、ゲート信号線31の上にも
酸化アルミニウム39を形成しており、そのため、ゲー
ト信号線31とゲート駆動回路1とを接続する接続部に
もコンタクトホールを形成する必要がある。
In general, aluminum oxide 39 is also formed on gate signal line 31. Therefore, it is necessary to form a contact hole in a connection portion connecting gate signal line 31 and gate drive circuit 1. is there.

【0097】そして、コンタクトホールを形成する部分
には、あらかじめレジストを用いて酸化アルミニウム3
9が形成されないようにしている。
Then, in a portion where a contact hole is to be formed, aluminum oxide 3
9 is not formed.

【0098】この場合に、図6に示す例では、共通電極
信号線36と共通電極配線47とを接続するコンタクト
ホール48を形成するためのレジストを精度良く形成す
る必要がある。
In this case, in the example shown in FIG. 6, it is necessary to accurately form a resist for forming a contact hole 48 connecting the common electrode signal line 36 and the common electrode wiring 47.

【0099】しかしながら、図9に示す例では、共通電
極配線47に対してドレイン信号線33と反対側の領域
の、マトリックス基板8上の周辺部にレジストを形成す
ることにより、共通電極信号線36と共通電極配線47
とを接続するコンタクトホール48、および、ゲート信
号線31とゲート駆動回路1とを接続するコンタクトホ
ールを一緒に形成することが可能となり、さらに、レジ
ストを直接描画する場合にその精度を緩和することが可
能となる。
However, in the example shown in FIG. 9, by forming a resist on the periphery of the matrix substrate 8 in a region opposite to the drain signal line 33 with respect to the common electrode wiring 47, the common electrode signal line 36 is formed. And common electrode wiring 47
And the contact hole connecting the gate signal line 31 and the gate drive circuit 1 can be formed together, and the precision of direct writing of resist can be reduced. Becomes possible.

【0100】以上説明したように、ゲート信号線31、
ドレイン信号線33と同一の材料、および、同一の製造
工程により、共通電極配線47をパネルの縁部に形成
し、さらに、共通電極信号線36の両終端に接続するこ
とが可能となる。
As described above, the gate signal lines 31,
With the same material and the same manufacturing process as the drain signal line 33, the common electrode wiring 47 can be formed at the edge of the panel, and can be connected to both ends of the common electrode signal line 36.

【0101】図10、図11は、本実施例における、共
通電極配線の他の配置例を示す図である。
FIGS. 10 and 11 are diagrams showing another example of the arrangement of the common electrode wiring in this embodiment.

【0102】共通電極配線47は、図1に示すようにパ
ネル縁部すべてに引き回す必要はなく、図10に示すよ
うに、共通電極配線49は、ドレイン信号線33がドレ
イン駆動回路2に接続される領域を避けて引き回すこと
も可能である。
The common electrode wiring 47 does not need to be routed to the entire panel edge as shown in FIG. 1, and the common electrode wiring 49 has the drain signal line 33 connected to the drain drive circuit 2 as shown in FIG. It is also possible to route around avoiding the area.

【0103】これにより、共通電極配線47とドレイン
信号線33との交差部に発生する交差寄生容量を低減す
ることが可能となる。
As a result, it is possible to reduce the cross parasitic capacitance generated at the intersection between the common electrode wiring 47 and the drain signal line 33.

【0104】また、図11に示すように、共通電極配線
47を複数の共通電極配線34a、34bに分割して、
パネルから引き出し、周辺の駆動回路内で結線すること
も可能である。
As shown in FIG. 11, the common electrode wiring 47 is divided into a plurality of common electrode wirings 34a and 34b,
It is also possible to pull out from the panel and connect it in the peripheral drive circuit.

【0105】これにより、パネル内の共通電極配線長を
低減させることができる。
As a result, the length of the common electrode wiring in the panel can be reduced.

【0106】[実施例2]本実施例2の液晶表示装置の
概略構成は、前記実施例1の液晶表示装置と同じであ
る。
[Embodiment 2] The schematic configuration of the liquid crystal display device of Embodiment 2 is the same as that of the liquid crystal display device of Embodiment 1 described above.

【0107】以下、本実施例2の液晶表示装置におけ
る、前記実施例1との相違点について説明する。
Hereinafter, differences between the liquid crystal display device of the second embodiment and the first embodiment will be described.

【0108】図12(a)は、本実施例2の液晶表示装
置における、図1に示すマトリックス基板8のA点に相
当する点の共通電極信号線と共通電極配線との接続部の
平面図である。
FIG. 12A is a plan view of a connection portion between the common electrode signal line and the common electrode wiring at a point corresponding to the point A of the matrix substrate 8 shown in FIG. 1 in the liquid crystal display device of the second embodiment. It is.

【0109】また、図12(b)は、図12(a)のM
−M’線で切断した断面を示す断面図であり、図12
(c)は、図12(a)のN−N’線で切断した断面を
示す断面図である。
FIG. 12B is a diagram showing the relationship between M and M in FIG.
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a cross section cut along line -M ′,
FIG. 12C is a cross-sectional view illustrating a cross section cut along the line NN ′ in FIG.

【0110】図12(a)に示すように、図1に示すA
点に相当する点において、マトリックス基板8上にアル
ミニウム38を用いてゲート信号線31と共通電極信号
線36を形成するとともに、同時に、膜厚調整膜66を
形成する。
As shown in FIG. 12A, A shown in FIG.
At points corresponding to the points, the gate signal lines 31 and the common electrode signal lines 36 are formed on the matrix substrate 8 using aluminum 38, and at the same time, the film thickness adjusting film 66 is formed.

【0111】膜厚調整膜66は、少なくともゲート信号
線31の間に島状に形成上にされ、ゲート信号線31と
電気的に接続されない構造とする。
The film thickness adjusting film 66 is formed in an island shape at least between the gate signal lines 31 and has a structure that is not electrically connected to the gate signal lines 31.

【0112】次に、ドレイン信号線33と同じ信号線材
料を用いて共通電極配線67を少なくとも膜厚調整膜6
6上を通過するように形成する。
Next, using the same signal line material as the drain signal line 33, the common electrode wiring 67 is
6 so as to pass therethrough.

【0113】図13(a)は、本実施例2の液晶表示装
置における、図1に示すマトリックス基板8のB点に相
当する点の共通電極信号線と共通電極配線との接続部の
平面図である。
FIG. 13A is a plan view of a connection portion between the common electrode signal line and the common electrode wiring at a point corresponding to the point B on the matrix substrate 8 shown in FIG. 1 in the liquid crystal display device of the second embodiment. It is.

【0114】また、図13(b)は、図13(a)のO
−O’線で切断した断面を示す断面図である。
FIG. 13B is a diagram showing an example of O in FIG.
It is sectional drawing which shows the cross section cut | disconnected by the -O 'line.

【0115】図13(a)に示すように、図1に示すB
点に相当する点において、マトリックス基板8上にアル
ミニウム38を用いて、ゲート信号線35、共通電極信
号線36、および、共通電極配線67を、同時に形成し
た後、ゲート酸化膜40を介して、ドレイン信号線3
3、および、膜厚調整膜66を形成する。
As shown in FIG. 13A, B shown in FIG.
At a point corresponding to the point, the gate signal line 35, the common electrode signal line 36, and the common electrode wiring 67 are simultaneously formed using aluminum 38 on the matrix substrate 8, and then, via the gate oxide film 40, Drain signal line 3
3, and a film thickness adjusting film 66 is formed.

【0116】その際、膜厚調整膜66は、共通電極配線
67上に形成する。
At this time, the film thickness adjusting film 66 is formed on the common electrode wiring 67.

【0117】図14(a)は、本実施例2の液晶表示装
置における、図1に示すマトリックス基板8のC点に相
当する点のドレイン信号線と共通電極配線との交差部の
平面図である。
FIG. 14A is a plan view of the intersection of the drain signal line and the common electrode wiring at a point corresponding to the point C of the matrix substrate 8 shown in FIG. 1 in the liquid crystal display device of the second embodiment. is there.

【0118】また、図14(b)は、図14(a)のP
−P’線で切断した断面を示す断面図である。
FIG. 14B is a graph showing the relationship between P and P in FIG.
It is sectional drawing which shows the cross section cut | disconnected by the -P 'line.

【0119】図14(a)に示すように、図1に示すC
点に相当する点において、マトリックス基板8上にアル
ミニウム38を用いて、ゲート信号線と共通電極信号線
67を形成した後、ゲート酸化膜40を介してドレイン
信号線33、および、膜厚調整膜66を形成する。
As shown in FIG. 14A, the C shown in FIG.
At a point corresponding to the point, a gate signal line and a common electrode signal line 67 are formed using aluminum 38 on the matrix substrate 8, and then the drain signal line 33 and the film thickness adjusting film are formed via the gate oxide film 40. 66 is formed.

【0120】膜厚調整膜66は、少なくともドレイン信
号線33の間に島状に形成上にされ、ドレイン信号線3
3と電気的に接続されることはなく、また、共通電極配
線67上に形成する。
The film thickness adjusting film 66 is formed on at least the drain signal lines 33 in an island shape.
3 and is formed on the common electrode wiring 67.

【0121】これにより、共通電極配線67が形成され
ている部分の膜厚は、膜厚調整膜66を挿入したことで
断面構造が等しくなるため同じ膜厚となる。
As a result, the thickness of the portion where the common electrode wiring 67 is formed becomes the same because the cross-sectional structure becomes equal due to the insertion of the thickness adjusting film 66.

【0122】それにより、基板縁部に形成される共通電
極配線67の膜厚を一定にすることができ、基板縁部の
膜厚むらが低減され、2枚の基板間のギャップ長を一定
することが可能となり、液晶表示装置のギャップむらを
軽減することが可能となる。
As a result, the film thickness of the common electrode wiring 67 formed at the edge of the substrate can be made constant, the thickness unevenness at the edge of the substrate can be reduced, and the gap length between the two substrates can be made constant. It is possible to reduce gap unevenness of the liquid crystal display device.

【0123】図15は、本実施例2における、共通電極
配線の他の配置例を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing another arrangement example of the common electrode wiring in the second embodiment.

【0124】共通電極配線67をパネル縁部に引き回す
際に、共通電極配線67が配設されない領域には、図1
5に示すように、共通電極配線と同じ材質、膜厚でダミ
ー信号線68を形成し、パネル縁部の膜厚むらを低減さ
せることも可能である。
When the common electrode wiring 67 is routed to the edge of the panel, the area where the common electrode wiring 67 is not provided is placed in the region where the common electrode wiring 67 is not provided.
As shown in FIG. 5, it is also possible to form the dummy signal line 68 with the same material and the same film thickness as the common electrode wiring to reduce the unevenness of the film thickness at the edge of the panel.

【0125】以上、本発明者によってなされた発明を、
前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前
記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲において種々変更可能であることは勿論であ
る。
As described above, the invention made by the present inventor is:
Although the present invention has been described in detail with reference to the embodiment, the present invention is not limited to the embodiment, and it is needless to say that various changes can be made without departing from the scope of the invention.

【0126】[0126]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。
The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0127】(1)本発明によれば、共通電極信号線の
両終端部を共通電極配線と接続するとともに、共通電極
配線の抵抗値を共通電極信号線の抵抗値より小さくした
ので、共通電圧駆動回路より供給される共通電極の駆動
電圧の波形歪みを軽減することが可能となり、各画素内
の画素電極と共通電極との間の電界強度がパネル内で均
一に近くなり、共通電極信号線に沿って発生する輝度む
らを軽減することが可能となる。
(1) According to the present invention, both ends of the common electrode signal line are connected to the common electrode wiring, and the resistance of the common electrode wiring is made smaller than the resistance of the common electrode signal line. It is possible to reduce the waveform distortion of the drive voltage of the common electrode supplied from the drive circuit, the electric field strength between the pixel electrode in each pixel and the common electrode becomes nearly uniform in the panel, and the common electrode signal line Can be reduced.

【0128】(2)本発明によれば、共通電極信号線の
両端部を共通電極配線と接続するようにしたので、例
え、共通電極信号線が途中で1本断線しても、共通電極
信号線の両端から共通電圧を供給でき、各画素の液晶を
駆動できるため、従来例のように、断線箇所から先の画
素の液晶を駆動できなくなることにより、表示品質が損
なわれるのを防止することができる。
(2) According to the present invention, since both ends of the common electrode signal line are connected to the common electrode wiring, even if one of the common electrode signal lines is broken halfway, the common electrode signal line is disconnected. Since a common voltage can be supplied from both ends of the line and the liquid crystal of each pixel can be driven, it is possible to prevent the liquid crystal of the previous pixel from being driven from a broken portion as in the conventional example, thereby preventing display quality from being impaired. Can be.

【0129】(3)本発明によれば、共通電極配線が配
設されている領域の断面構造を、共通電極配線とゲート
信号線あるいはドレイン信号線との交差部と同じ断面構
造にするようにしたので、共通電極配線が形成されてい
る基板縁部の膜厚のむらを軽減することができ、それに
より、2枚の基板間のギャップ長を一定することが可能
となり、液晶表示装置のギャップむらを軽減することが
可能となる。
(3) According to the present invention, the cross-sectional structure of the region where the common electrode wiring is provided is the same as the cross-sectional structure of the intersection between the common electrode wiring and the gate signal line or the drain signal line. Therefore, it is possible to reduce the unevenness of the film thickness at the edge of the substrate on which the common electrode wiring is formed, thereby making it possible to make the gap length between the two substrates constant, and to make the gap unevenness of the liquid crystal display device. Can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例(実施例1)である液晶表示
装置の概略構成を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a liquid crystal display device according to an embodiment (Example 1) of the present invention.

【図2】本実施例の液晶表示装置における、共通電極に
印加される駆動電圧の伝送経路の等価回路を示す回路図
である。
FIG. 2 is a circuit diagram illustrating an equivalent circuit of a transmission path of a driving voltage applied to a common electrode in the liquid crystal display device of the present embodiment.

【図3】図2に示す各点における駆動電圧の波形を示す
図である。
FIG. 3 is a diagram showing a waveform of a driving voltage at each point shown in FIG. 2;

【図4】図1に示す画素の等価回路を示す図であるFIG. 4 is a diagram showing an equivalent circuit of the pixel shown in FIG.

【図5】マトリックス基板に形成された画素の平面およ
び断面を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a plane and a cross section of a pixel formed on a matrix substrate.

【図6】図1に示すマトリックス基板のA点における共
通電極信号線と共通電極配線との接続部の一例の平面お
よび断面を示す図である。
6 is a diagram showing a plane and a cross section of an example of a connection portion between a common electrode signal line and a common electrode wiring at a point A on the matrix substrate shown in FIG. 1;

【図7】図1に示すマトリックス基板のB点における共
通電極信号線と共通電極配線との接続部の平面および断
面を示す図である。
7 is a diagram showing a plane and a cross section of a connection portion between a common electrode signal line and a common electrode wiring at a point B on the matrix substrate shown in FIG. 1;

【図8】図1に示すマトリックス基板のC点におけるド
レイン信号線と共通電極配線との交差部の平面および断
面を示す図である。
8 is a diagram showing a plane and a cross section of an intersection between a drain signal line and a common electrode line at a point C of the matrix substrate shown in FIG. 1;

【図9】図1に示すマトリックス基板のA点における共
通電極信号線と共通電極配線との接続部の他の例の平面
および断面を示す図である。
9 is a diagram showing a plane and a cross section of another example of a connection portion between the common electrode signal line and the common electrode wiring at a point A on the matrix substrate shown in FIG. 1;

【図10】実施例1における、共通電極配線の他の配置
例を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing another arrangement example of the common electrode wiring in the first embodiment.

【図11】実施例1における、共通電極配線の他の配置
例を示す図である。
FIG. 11 is a diagram illustrating another arrangement example of the common electrode wiring in the first embodiment.

【図12】実施例2の液晶表示装置における、図1に示
すマトリックス基板のA点に相当する点の共通電極信号
線と共通電極配線との接続部の平面および断面を示す図
である。
12 is a diagram showing a plane and a cross section of a connection portion between a common electrode signal line and a common electrode wiring at a point corresponding to point A on the matrix substrate shown in FIG. 1 in the liquid crystal display device of Example 2. FIG.

【図13】実施例2の液晶表示装置における、図1に示
すマトリックス基板のB点に相当する点の共通電極信号
線と共通電極配線との接続部の平面および断面を示す図
である。
13 is a diagram showing a plane and a cross section of a connection portion between a common electrode signal line and a common electrode wiring at a point corresponding to point B on the matrix substrate shown in FIG. 1 in the liquid crystal display device of Example 2. FIG.

【図14】実施例2の液晶表示装置における、図1に示
すマトリックス基板のC点に相当する点のドレイン信号
線と共通電極配線との交差部の平面および断面を示す図
である。
14 is a diagram showing a plane and a cross section of an intersection between a drain signal line and a common electrode line at a point corresponding to point C on the matrix substrate shown in FIG. 1 in the liquid crystal display device of Example 2. FIG.

【図15】実施例2における、共通電極配線の他の配置
例を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing another example of the arrangement of the common electrode wiring in the second embodiment.

【図16】横電界方式の液晶表示装置の駆動回路の概略
構成を示すブロック図である。
FIG. 16 is a block diagram illustrating a schematic configuration of a driving circuit of a liquid crystal display device of a horizontal electric field type.

【図17】図16に示す横電界方式の液晶表示装置にお
ける、共通電極に印加される駆動電圧の伝送経路の等価
回路を示す回路図である。
17 is a circuit diagram showing an equivalent circuit of a transmission path of a drive voltage applied to a common electrode in the in-plane switching mode liquid crystal display device shown in FIG.

【図18】図17に示す各点における駆動電圧の波形を
示す図である。
18 is a diagram showing a waveform of a driving voltage at each point shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ゲート駆動回路、2…ドレイン駆動回路、3…共通
電圧発生駆動回路、4,47,49,67…共通電極配
線、5,16,36…共通電極信号線、6,15,33
…ドレイン信号線、7,17,31…ゲート信号線、8
…マトリックス基板、9…対向基板、10…タイミング
コントローラ、11…映像信号源、12…画素、13,
28…ドレイン電極、14,29…ソース電極、18…
ゲート・ドレイン交差容量、19…コモン・ドレイン交
差容量、20…液晶、21…蓄積容量、22…寄生容量
(Cgd)、23…寄生容量(Cgs)、24…薄膜ト
ランジスタ、25,37…画素電極、26,30…ゲー
ト電極、27,32…共通電極、34a,34b…共通
電極配線、35,61…蓄積容量、38…アルミニウ
ム、39…酸化アルミニウム、40…ゲート酸化膜、4
1…クロム、42…アルミニウム、43…保護膜、44
…半導体層、45a,45b…オーミック層、46…配
向膜、48…コンタクトホール、66…膜厚調整層、6
8…ダミー信号線。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Gate drive circuit, 2 ... Drain drive circuit, 3 ... Common voltage generation drive circuit, 4,47,49,67 ... Common electrode wiring, 5,16,36 ... Common electrode signal line, 6,15,33
... Drain signal lines, 7, 17, 31 ... Gate signal lines, 8
... Matrix substrate, 9 counter substrate, 10 timing controller, 11 video signal source, 12 pixels, 13,
28 ... drain electrode, 14, 29 ... source electrode, 18 ...
Gate-drain cross capacitance, 19 common-drain cross capacitance, 20 liquid crystal, 21 storage capacitance, 22 parasitic capacitance (Cgd), 23 parasitic capacitance (Cgs), 24 thin-film transistor, 25, 37 pixel electrode, 26, 30 ... gate electrode, 27, 32 ... common electrode, 34a, 34b ... common electrode wiring, 35, 61 ... storage capacitor, 38 ... aluminum, 39 ... aluminum oxide, 40 ... gate oxide film, 4
1: Chromium, 42: Aluminum, 43: Protective film, 44
... semiconductor layers, 45a and 45b ... ohmic layers, 46 ... alignment films, 48 ... contact holes, 66 ... film thickness adjustment layers, 6
8 ... Dummy signal line.

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一対の基板と、前記一方の基板上の表示
領域に形成される複数のアクティブ素子と、前記一方の
基板上に形成され前記複数のアクティブ素子にそれぞれ
接続される複数の画素電極と、前記一方の基板上に行方
向に形成され行方向のそれぞれのアクティブ素子に走査
電圧を印加する複数の走査電極と、前記一方の基板上に
列方向に形成され行方向のそれぞれのアクティブ素子に
信号電圧を印加する複数の信号電極と、前記一方の基板
上に行方向に形成され、前記行方向のそれぞれの画素電
極との間で基板面にほぼ平行な電界を液晶層に印加する
複数の共通電極と、前記一対の基板間に挾持される液晶
層と、前記走査電極を駆動する走査電極駆動手段と、前
記信号電極を駆動する信号電極駆動手段と、前記共通電
極を駆動する共通電極駆動手段とを、少なくとも有する
液晶表示装置において、行方向に配列されている各共通電極と接続される共通電
極信号線を備え、列方向に並設される各共通電極信号線
は、その両端部が前記表示領域の外側に形成した共通電
極配線によって共通接続され、かつ、この共通電極配線
は前記共通電極信号線よりも低抵抗に構成されている
とを特徴とする液晶表示装置。
1. A pair of substrates, a plurality of active elements formed in a display area on the one substrate, and a plurality of pixel electrodes formed on the one substrate and connected to the plurality of active elements, respectively. A plurality of scan electrodes formed on the one substrate in a row direction and applying a scan voltage to each active element in the row direction; and a plurality of active elements formed on the one substrate in a column direction and in the row direction A plurality of signal electrodes for applying a signal voltage to the liquid crystal layer; and A common electrode, a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates, a scan electrode driving means for driving the scan electrodes, a signal electrode drive means for driving the signal electrodes, and a common electrode for driving the common electrodes. And a common electrode connected to each common electrode arranged in the row direction in a liquid crystal display device having at least
Each common electrode signal line having a pole signal line and arranged in the column direction
Are common electrodes whose both ends are formed outside the display area.
Are connected in common by pole wiring, and this common electrode wiring
Is a liquid crystal display device having a lower resistance than the common electrode signal line .
【請求項2】 前記共通電極配線が配設されない領域
に、前記共通電極配線と同材質、同膜厚のダミー線を有
することを特徴とする請求項1に記載された液晶表示装
置。
2. An area where the common electrode wiring is not provided.
2. The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a dummy line having the same material and the same thickness as the common electrode wiring.
【請求項3】 前記共通電極配線と、前記走査電極ある
いは信号電極との交差部、および、前記共通電極配線と
共通電極との接続部以外の非交差部において、前記共通
電極配線の上層あるいは下層に、走査電極と同材質、同
膜厚の膜厚調整膜を有することを特徴とする請求項1ま
たは請求項2に記載された液晶表示装置。
3. An upper or lower layer of the common electrode wiring at an intersection between the common electrode wiring and the scanning electrode or the signal electrode and at a non-intersection other than a connection between the common electrode wiring and the common electrode. 3. The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a film thickness adjusting film having the same material and the same thickness as the scanning electrode.
【請求項4】 前記共通電極配線と、前記走査電極ある
いは信号電極との交差部、および、前記共通電極配線と
共通電極との接続部以外の非交差部において、前記共通
電極配線の上層あるいは下層に、信号電極と同材質、同
膜厚の膜厚調整膜を有することを特徴とする請求項1ま
たは請求項2に記載された液晶表示装置。
4. An upper layer or a lower layer of the common electrode wiring at an intersection between the common electrode wiring and the scanning electrode or the signal electrode, and at a non-intersection other than a connection between the common electrode wiring and the common electrode. 3. The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a film thickness adjustment film having the same material and the same thickness as the signal electrode.
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