JP2697159B2 - Absolute position detector - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は位置検出装置に関し、特に高精度に絶対位置
を検出するアブソリュート式エンコーダとして利用でき
る絶対位置検出装置に関するものである。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a position detecting device, and more particularly to an absolute position detecting device that can be used as an absolute encoder that detects an absolute position with high accuracy.
従来の技術 近年、制御のデジタル化と複雑化によって位置検出装
置として絶対位置を検出するアブソリュートエンコーダ
の必要性が高まっている。2. Description of the Related Art In recent years, digitization and complexity of control have increased the need for an absolute encoder that detects an absolute position as a position detection device.
以下図面を参照しながら、上述した従来の位置検出装
置の一例について説明する。Hereinafter, an example of the above-described conventional position detecting device will be described with reference to the drawings.
第3図は従来の位置検出装置の構成を示すものであ
る。第3図において、101は光源、102は光源の光を平行
光束化するコリメートレンズ、103は図示しない移動体
に取り付けられたスケール、104は固定されたマスク、1
05は固定された受光素子アレイである。第4図(a)に
は前記スケール103に形成したパターンの詳細を示す、
スケール103上には2進化コードであるグレーコードパ
ターンC0〜C5が刻まれている。第4図(b)には前記マ
スク上に形成したパターンM0〜M5の詳細を、第4図
(c)には前記受光素子アレイ105から得られる信号波
形S0〜S5をそれぞれ示す。FIG. 3 shows the configuration of a conventional position detecting device. In FIG. 3, 101 is a light source, 102 is a collimating lens for converting the light of the light source into a parallel light beam, 103 is a scale attached to a moving body (not shown), 104 is a fixed mask, 1
05 is a fixed light receiving element array. FIG. 4A shows details of a pattern formed on the scale 103.
Gray code patterns C0 to C5, which are binary codes, are engraved on the scale 103. FIG. 4B shows details of the patterns M0 to M5 formed on the mask, and FIG. 4C shows signal waveforms S0 to S5 obtained from the light receiving element array 105, respectively.
以上のように構成された位置検出装置について、以下
その動作について説明する。The operation of the position detecting device configured as described above will be described below.
光源101から出た光はコリメートレンズ102により平行
光束化されスケール103に照射される。スケール103はス
ケール移動方向に示される移動方向に移動する。スケー
ル103、マスク104を透過した前記光源101からの光は受
光素子アレイ105上で検出され、前記光源101からのスケ
ール103の位置の変化に伴う透過光信号強度の変化を前
記受光素子アレイ105で電気信号に変換され、図示しな
い信号処理回路により各受光素子に対応した1,0の値に
デジタル化された後、信号処理され位置信号を得る。Light emitted from the light source 101 is converted into a parallel light beam by the collimator lens 102 and is irradiated on the scale 103. The scale 103 moves in the movement direction indicated by the scale movement direction. Light from the light source 101 transmitted through the scale 103 and the mask 104 is detected on the light receiving element array 105, and a change in transmitted light signal intensity accompanying a change in the position of the scale 103 from the light source 101 is detected by the light receiving element array 105. After being converted into an electric signal and digitized by a signal processing circuit (not shown) into values of 1 and 0 corresponding to each light receiving element, signal processing is performed to obtain a position signal.
発明が解決しようとする課題 しかしながら上記のような構成では、高精度な位置を
検出する際にグレーコードの最上位ビットから最下位ビ
ットの領域まで、最下位ビットの検出精度で全てのビッ
トを検出する必要があるが、スケール,マスクのスリッ
トピッチが小さくなるにつれ透過光量の変化が位置の変
化に伴い三角波状となることにより検出レベルの微妙な
変化により特定のビットの1,0の境界部でデータを読み
誤る可能性がある。例えば第4図(c)に示す、4Bの位
置では受光素子アレイのデジタル化された出力がS5=0,
S4=0,S3=1,S2=0,S1=0,S0=1となる。一方、4Aの位
置でS4のビットが、本来1と読みとられなけばならない
ところを位置による光量変化の割合が緩やかであるため
に0とノイズ等により誤って読みとることにより、受光
素子アレイのデジタル化された出力がS5=0,S4=0,S3=
1,S2=0,S1=0,S0=1となり、これは4Bの位置で出力さ
れたパターンと一致し、受光素子アレイの1ビットの1,
0の読み取り誤差が本来あるべき位置に対して位置の最
小検出単位の4ビット分の誤差を含むものとして出力さ
れる。このようにグレーコードの各ビットの1,0の境界
近辺で存在する、受光素子アレイの1ビットの1,0の読
み取り誤差により実際の位置と検出器より出力される位
置の値が大きく異なる可能性があり、これらの検出位置
に大きなエラーを生ずるという問題点がある。またグレ
ーコードを用いる場合には絶対位置を検出するためのコ
ード数が多くなり装置自体が大型化するという問題点が
ある。However, in the above configuration, when detecting a highly accurate position, all bits from the most significant bit to the least significant bit area of the gray code are detected with the least significant bit detection accuracy. However, as the slit pitch of the scale and mask becomes smaller, the change in the amount of transmitted light becomes triangular with the change in position. Data may be misread. For example, at the position 4B shown in FIG. 4C, the digitized output of the light receiving element array is S5 = 0,
S4 = 0, S3 = 1, S2 = 0, S1 = 0, S0 = 1. On the other hand, the bit of S4 at the position of 4A is erroneously read at a position where it should originally be read as 1 because of a gradual change in the amount of light depending on the position due to the gradual change of the position. Output is S5 = 0, S4 = 0, S3 =
1, S2 = 0, S1 = 0, S0 = 1, which coincides with the pattern output at the position 4B.
A read error of 0 is output as including a 4-bit error of the minimum detection unit of the position with respect to the position where it should be. As described above, due to the reading error of 1 bit of 1 and 0 of the light receiving element array existing near the boundary of 1 and 0 of each bit of the gray code, the value of the actual position and the value of the position output from the detector may greatly differ. Therefore, there is a problem that a large error occurs in these detection positions. Further, when the gray code is used, there is a problem that the number of codes for detecting the absolute position increases and the size of the apparatus itself increases.
本発明は上記問題点に鑑み、上記の小さな検出誤差が
大きな検出誤差を引き起こすという検出エラーを生じず
に精度良く、かつ小型に絶対位置を検出できる絶対位置
検出装置を提供するものである。The present invention has been made in view of the above problems, and provides an absolute position detecting device capable of detecting an absolute position accurately and compactly without causing a detection error that the small detection error causes a large detection error.
課題を解決するための手段 上記問題点を解決するために請求項1記載の位置検出
装置は、所定の最小検出幅で絶対位置を検出する第1の
位置検出手段と、この第1の位置検出手段による最小検
出幅の2倍を検出範囲としてその範囲内の絶対位置を検
出する第2の位置検出手段とを有し、前記第1の位置検
出手段による検出位置の境界と前記第2の位置検出手段
による検出位置の境界が前記第2の位置検出手段の検出
範囲の4分の1ピッチ分だけずらして配置し、さらに第
1の位置検出手段と第2の位置検出手段とにより得られ
た位置情報により検出値を補正する補正手段を備えたこ
とを特徴とする。Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, a position detecting device according to claim 1 comprises a first position detecting means for detecting an absolute position with a predetermined minimum detection width, and the first position detecting means. Means for detecting an absolute position within a range twice as large as a minimum detection width by the means, and a boundary between a position detected by the first position detecting means and the second position. The boundaries between the detection positions detected by the detection means are shifted by a quarter pitch of the detection range of the second position detection means, and are obtained by the first position detection means and the second position detection means. It is characterized by comprising a correcting means for correcting the detection value based on the position information.
なお、前記第1の位置検出手段を変位方向に対して斜
め方向にのびるスリットパターンにより構成し、第2の
位置検出手段を変位方向に対して斜め方向にのびるスリ
ットパターンにより構成することができる。The first position detecting means may be constituted by a slit pattern extending obliquely to the displacement direction, and the second position detecting means may be constituted by a slit pattern extending obliquely to the displacement direction.
作用 本発明は、上記構成を有するので、第1の位置検出手
段の最小検出ピッチをP1、第2の位置検出手段の最小検
出ピッチをP2とした場合に、上位の位置の真値からの検
出誤差が±(P1/2−P2)以下という粗い検出誤差でも容
易に正しい絶対位置を検出する事が可能となる。Operation Since the present invention has the above configuration, when the minimum detection pitch of the first position detection means is P 1 and the minimum detection pitch of the second position detection means is P 2 , detection error becomes possible to easily detect the correct absolute position in coarse detection error of ± (P 1/2-P 2) following.
実 施 例 以下本発明の位置検出方法について、図面を参照しな
がら説明する。Embodiment Hereinafter, a position detection method according to the present invention will be described with reference to the drawings.
第1図は本発明の一実施例における絶対位置検出装置
の全体構成を示すものである。第1図において、1は光
源、2は光源からの光を略平行にするコリメートレン
ズ、3は図示しない移動体に取り付けられたスケール、
4は固定されたマスク、5は固定されたイメージセン
サ、6は所定の最小検出幅で絶対位置を検出する第1の
位置検出のためのスリット、7は前記第1の位置検出手
段による最小検出幅の2倍を検出範囲としてその範囲内
の絶対位置を検出する第2の位置検出のためのスリット
であり、前記第1の位置検出のためのスリット6による
検出位置の境界と前記第2の位置検出のためのスリット
7による検出位置の境界が前記第2の位置検出手段の検
出範囲の4分の1ピッチ分だけずらして配置されてい
る。8はスケールの測定しようとしていない方向への移
動による上下方向の変位による測定誤差を補正する際の
基準となる基準スリットである。FIG. 1 shows the overall configuration of an absolute position detecting device according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, 1 is a light source, 2 is a collimating lens that makes light from the light source substantially parallel, 3 is a scale attached to a moving body (not shown),
4 is a fixed mask, 5 is a fixed image sensor, 6 is a slit for detecting a first position for detecting an absolute position with a predetermined minimum detection width, and 7 is a minimum detection by the first position detecting means. A slit for detecting a second position for detecting an absolute position within the detection range with twice the width as a detection range, and a boundary between a detection position by the slit 6 for detecting the first position and the second position; The boundaries between the detection positions by the slits 7 for position detection are shifted by a quarter pitch of the detection range of the second position detection means. Reference numeral 8 denotes a reference slit that is used as a reference when correcting a measurement error due to vertical displacement due to movement of the scale in a direction not to be measured.
以上のように構成された位置検出位置について、以下
第1図を用いてその動作を説明する。光源1より出た光
はコリメートレンズ2により平行光束化され、スケール
3に照射される。スケール3はスケール移動方向として
示した矢印方向に移動する。スケール3のすぐ後ろには
マスク4が後置され、スケール3,マスク4を透過した前
記光源1からの光はイメージセンサ5で検出され、前記
光源1からのスケール3の位置の変化に伴う透過光のス
ケール1の移動方向とは略垂直方向の位置を前記イメー
ジセンサ5で読み取り電気信号に変換し、図示しない信
号処理回路により信号処理を行うことにより絶対位置を
検出する。The operation of the position detection position configured as described above will be described below with reference to FIG. Light emitted from the light source 1 is converted into a parallel light beam by the collimator lens 2 and is irradiated on the scale 3. The scale 3 moves in the arrow direction shown as the scale moving direction. Immediately behind the scale 3, a mask 4 is provided. The light from the light source 1 that has passed through the scale 3 and the mask 4 is detected by an image sensor 5, and transmitted through the scale 3 from the light source 1 with a change in the position of the scale 3. The position in the direction substantially perpendicular to the direction of movement of the light scale 1 is read by the image sensor 5, converted into an electric signal, and subjected to signal processing by a signal processing circuit (not shown) to detect an absolute position.
以下、第2図を用いて以上に述べた位置検出方法の詳
細を述べる。スリット6と基準スリット8の距離間隔を
イメージセンサ5により検出し、演算を行いデジタル化
する事によりスリット6の検出領域d1の領域を8分割し
最小検出ピッチP1=d1/8をデジタル化の最小単位として
位置を−4から3までの整数の範囲で検出し、この検出
値をiとし領域内での検出位置をi*d1/8とする。同様
に、スリット7と基準スリット8の距離間隔をイメージ
センサ5により検出し演算を行いデジタル化する事によ
りスリット7の検出領域d2の領域を8分割し最小検出ピ
ッチP2=d2/8をデジタル化の最小単位として位置を−4
から3までの整数の範囲で検出しこの検出幅をjとし領
域内での検出位置をj*d2/8とする。ここで、d2=d1/8
*2となるように配置されている。また、スリット6の
端とスリット7の端はd2/4だけ離れて配置されている。Hereinafter, the above-described position detection method will be described in detail with reference to FIG. The distance interval between the slits 6 and the reference slit 8 is detected by the image sensor 5, the digital minimum detection pitch P 1 = d 1/8 the detection area d 1 region divided into eight slits 6 by digitizing performs arithmetic position as the smallest unit of reduction is detected by an integer in the range of -4 to 3, the detection position of the detection value in the i region and i * d 1/8. Likewise, the minimum detection pitch P 2 = d 2/8 the area of the detection area d 2 of the slit 7 8 divided by digitizing performs detection calculated by the image sensor 5 the distance interval of the slit 7 and the reference slit 8 Is the minimum unit of digitization and the position is -4.
It detected an integer ranging from 3 to detect the position of the detected width in the j region and j * d 2/8 from. Here, d 2 = d 1/8
* 2. The end edge of the slit 7 of the slit 6 are spaced apart by d 2/4.
ここでiが偶数の場合は、位置Xは X=i*d1/8+j*d2/8 (1) となる。If i is even here, the position X becomes X = i * d 1/8 + j * d 2/8 (1).
iが奇数かつjが0以上の場合、位置Xは X=i*d1/8+j*d2/8−d2/2 (2) となる。If i is odd and j is 0 or more, the position X becomes X = i * d 1/8 + j * d 2/8-d 2/2 (2).
iが奇数かつjが0未満の場合、位置Xは X=i*d1/8+j*d2/8+d2/2 (3) となる。If i is odd and j is less than 0, the position X becomes X = i * d 1/8 + j * d 2/8 + d 2/2 (3).
例えば、第2図においてAの位置で、第1の位置検出
手段が本体i=−3,j=−3と出力し、この場合に適用
する式は前記式(3)の場合に相当し、この式を用いる
ことにより位置Xは X=−3*d1/8+(−3)*d2/8+d2/2 ={−3*4/8+(−3)/8+4/8}*d2 =−11/8*d2 と出力しなければならないところを、i=−2と出力し
た場合、この場合に適用する式は前記式(1)の場合に
相当しこの式を用いることにより、位置Xは S=−2*d1/8+(−3)*d2/8 ={−2*4/8+(+3)/8}*d2 =−11/8*d2 となり、上位のビットの値を1ビット読み違えた場合で
も上位の位置の前記第1の位置検出手段による検出位置
の境界からの検出誤差が±(P1/2−P2)以下であれば、
正しい位置を得ることができる。For example, at the position A in FIG. 2, the first position detection means outputs the main body i = −3, j = −3, and the equation applied in this case corresponds to the case of the equation (3), position X by using the equation X = -3 * d 1/8 + (- 3) * d 2/8 + d 2/2 = {- 3 * 4/8 + (- 3) / 8 + 4/8} * d 2 = −11 / 8 * d 2 where i = −2 is output, the equation applied in this case corresponds to the above equation (1), and by using this equation, position X is S = -2 * d 1/8 + (- 3) * d 2/8 = {- 2 * 4/8 + (+ 3) / 8} * d 2 = -11 / 8 * d 2 , and the upper Even if the bit value is misread by one bit, if the detection error of the upper position from the boundary of the detection position by the first position detection means is ± (P 1 / 2−P 2 ) or less,
You can get the right position.
以上のように本実施例によれば、上位のビットの値を
1ビット読み違えた場合でも正確な読み取りを行うこと
ができるので、絶対位置の検出において位置の読み取り
の誤差がなく、またスケールも簡単な構成で絶対位置の
検出を行うことができる。As described above, according to the present embodiment, accurate reading can be performed even when the value of the high-order bit is misread by one bit, so that there is no error in reading the position in the detection of the absolute position, and the scale is also small. The absolute position can be detected with a simple configuration.
本発明は上記実施例に示す外、種々の態様に構成する
ことができる。The present invention can be configured in various modes in addition to the embodiments described above.
なお、実施例において、スリット6,スリット7の内挿
数を8としているがこれ以外の数を用いても差し支えな
い。In the embodiment, the number of interpolations of the slits 6 and 7 is set to 8, but other numbers may be used.
また、実施例において、位置検出のスリットの本数を
2本として説明したがスリットの本数を2本以上にして
もよい。Further, in the embodiment, the number of slits for position detection is described as two, but the number of slits may be two or more.
また、実施例において、所定の最小検出幅で絶対位置
を検出する手段として移動方向とは斜めに傾いてスリッ
トを用いたが、モアレ縞等を用いて構成してもよい。Further, in the embodiment, as a means for detecting an absolute position with a predetermined minimum detection width, a slit is used obliquely to the moving direction, but a moire fringe or the like may be used.
また、実施例において、所定の最小検出幅で絶対位置
を検出する手段として光学的な手法により位置を検出し
ているが、磁気式,機械式等の他の方式を併用して構成
してもよい。In the embodiment, the position is detected by an optical method as a means for detecting the absolute position with a predetermined minimum detection width. However, the position may be detected by using another method such as a magnetic method or a mechanical method. Good.
発明の効果 以上のように本発明は、所定の最小検出幅で絶対位置
を検出する第1の位置検出手段と、この第1の位置検出
手段による最小検出幅の2倍を検出範囲としてその範囲
内の位置を検出する第2の位置検出手段とを有し、前記
第1の位置検出手段による検出位置の境界と前記第2の
位置検出手段による検出位置の境界が前記第2の位置検
出手段の検出範囲の4分の1ピッチ分だけずらして配置
し、さらに第1の位置検出手段と第2の位置検出手段と
により得られた位置情報により検出値を演算処理する信
号処理回路を備えているので、上位の最小検出ピッチを
P1、下位の最小検出ピッチをP2とした場合に上位の位置
の前記第1の位置検出手段による検出位置の境界からの
検出誤差が±(P1/2−P2)以下という粗い検出誤差でも
容易に正しい位置を検出する事が可能となる。As described above, according to the present invention, the first position detecting means for detecting an absolute position with a predetermined minimum detection width, and the detection range is set to twice the minimum detection width by the first position detection means. And a second position detecting means for detecting a position in the second position detecting means, wherein a boundary between a position detected by the first position detecting means and a boundary between positions detected by the second position detecting means is the second position detecting means. And a signal processing circuit for calculating a detection value based on the position information obtained by the first position detection means and the second position detection means. The minimum detection pitch of the upper
P 1, ± detection error from the boundary of the position detected by the first position detecting means located in the upper when the minimum detection pitch of the lower and P 2 (P 1/2- P 2) hereinafter referred to as a coarse detector It is possible to easily detect a correct position even with an error.
第1図は本発明の一実施例における位置検出装置の構成
を示す斜視図、第2図は本発明の一実施例における位置
検出方法の動作原理を示す説明図、第3図は従来の位置
検出装置の構成を示す斜視図、第4図(a)〜(c)は
従来の位置検出装置におけるスリットパターン,マスク
パターン及び信号波形を示す説明図である。 1……光源、2……コリメートレンズ、3……スケー
ル、4……マスク、5……イメージセンサ、6……第1
の位置検出のためのスリット、7……第2の位置検出の
ためのスリット、8……基準スリット。FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a position detecting device according to one embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram showing an operation principle of a position detecting method according to one embodiment of the present invention, and FIG. FIGS. 4A to 4C are explanatory views showing a slit pattern, a mask pattern and a signal waveform in a conventional position detecting device. 1 ... light source, 2 ... collimating lens, 3 ... scale, 4 ... mask, 5 ... image sensor, 6 ... first
Slit for position detection, 7... Slit for second position detection, 8... Reference slit.
Claims (2)
1の位置検出手段と、この第1の位置検出手段による最
小検出幅の2倍を検出範囲としてその範囲内の絶対位置
を検出する第2の位置検出手段とを有し、前記第1の位
置検出手段による検出位置の境界と前記第2の位置検出
手段による検出位置の境界が前記第2の位置検出手段の
検出範囲の4分の1ピッチ分だけずらして配置し、さら
に第1の位置検出手段と第2の位置検出手段とにより得
られた位置情報により検出値を補正する補正手段を備え
たことを特徴とする絶対位置検出装置。1. A first position detecting means for detecting an absolute position with a predetermined minimum detection width, and an absolute position within the range is set as a detection range twice as large as the minimum detection width by the first position detection means. And a boundary between a position detected by the first position detecting unit and a boundary between positions detected by the second position detecting unit are set to four times the detection range of the second position detecting unit. An absolute position which is displaced by one-half pitch and further comprises a correcting means for correcting a detection value based on position information obtained by the first position detecting means and the second position detecting means. Detection device.
に対して斜め方向にのびるスリットパターンにより構成
され、第2の位置検出手段がスケール変位方向と斜め方
向にのびるスリットパターンにより構成され、前記第1,
第2の位置検出の位置計測の際の基準となる信号パター
ンを備えている請求項1記載の絶対位置検出装置。2. The method according to claim 1, wherein the first position detecting means comprises a slit pattern extending obliquely with respect to the scale displacement direction, and the second position detecting means comprises a slit pattern extending obliquely with the scale displacement direction. The first,
2. The absolute position detecting device according to claim 1, further comprising a signal pattern serving as a reference when measuring the position in the second position detection.
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---|---|---|---|
JP17014989A JP2697159B2 (en) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | Absolute position detector |
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JP17014989A JP2697159B2 (en) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | Absolute position detector |
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JPH0335111A JPH0335111A (en) | 1991-02-15 |
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