JP2675007B2 - 新規な日焼け止め剤 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明は有用な発色団化合物からなる新規な日焼け止
め剤に関する。これらの発色団化合物はUVA及びUVB両波
長範囲において強く日光を吸収する能力を有する。本明
細書においては主として上記日焼け止め剤について説明
されるが、この外、上記日焼け止め剤を含み、皮膚を日
光のUVA及びUVBの両波長放射成分から護るのに有効であ
る新規な皮膚保護組成物について、あるいは上記日焼け
止め剤を用いて日焼け及び皮膚の太陽−誘発老化などの
UVA及びUVB波長放射線の影響から皮膚を護る方法につい
ても詳しく記載される。 日光の皮膚に及ぼす損傷効果はよく文献に記されてい
る。これにも拘らず、人々は彼等の職業のために長時間
日光内にあることを強制される。その他のものは、彼等
のレジャー時間活動及び／又は日焼けした外観を有した
いために長時間日光を浴びる。 日光への長時間曝露の主たる短期間の危険は浮腫（即
ち、日焼け）である。化粧品業界により「UVB」波長領
域であると称されている290〜320ナノメータ波長の紫外
線放射領域は浮腫を生成するための最も効果的なUV放射
のタイプである。化粧品業界により「UVA」波長領域で
あると称されている320〜400ナノメータの波長紫外線放
射範囲も又浮腫を発生する。 UVA及びUVB日光により引起こされる短期間の浮腫の危
険に加えて、このUV放射曝露に伴う長期間の危険もあ
る。これらの長期間危険の一つは皮膚表面における悪性
変化である。数多くの疫学的研究が行われ、それらの結
果は日光曝露とヒト皮膚癌との間の強い相関関係を示し
ている。もう一つの紫外線放射の長期間の危険は皮膚の
早期老化である。この状態は皮膚のしわ及び黄化、並び
にその他の物理的変化例えば亀裂、毛細管拡張症（くも
血管）、太陽角化症（成長）、斑状出血（皮下出血病
巣）、及び弾力性の喪失などにより特徴づけられる。UV
A及びUVB波長放射への曝露に伴う悪影響はより十分にデ
シモン（DeSimone）、「日焼け止め及び日焼け生成物
（Sunscreen and Santan Products）」Handbook of Non
prescription Drugs、第７版、26章、499−511頁（アメ
リカ薬学会、シントン、D.C.1982）、グローブ及びフォ
ーブス（Grove and Fobes）、「UV−Ａ放射による日焼
け止め剤の光保護作用の評価方法（A Method for Evalu
ating the Photoprotective Action of Sunscreen Agen
ts Against UV−A Radiation）」、International Jour
nal of Cosmetic Science4、15〜24頁（1982）、及び米
国特許第4,387,089号明細書（1983年、６月７日発行）
により十分に記載されており、これらの文献の開示内容
は全て本発明において準用する。よって、紫外線放射の
直接の効果は化粧品上及び社会的に満足できるものであ
るが、長期間の効果は累積的であり、且つ滞在的に深刻
である。 異ったUV波長において吸収し、及びそれにより皮膚を
保護する分子の混合物を含んでなる日焼け止め組成物は
公知である。例えば、米国特許第4,264,581号（1981年
４月28日発行）は２−エチルヘキシルジメチル−パラ−
アミノベンゾエート及び２−ヒドロキシ−４−メトキシ
−ベンゾフェノンの混合物を含有する。日焼け止め組成
物を開示し、米国特許第3,751,563号（1973年８月７日
発行）は２−エトキシエチルパラ−メトキシシンナメー
ト、アミルパラ、ジメチルアミノベンゾエート、ホモメ
ンチルサリチレート及び２−ヒドロキシ−４−メトキシ
ベンゾフェノンの混合物を含有する日焼け止め組成物を
開示し、及び米国特許第3,636,077号（1972年１月18
日）は５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシ
ベンゼンスルホン酸の塩及び４−アミノ安息香酸或いは
エステルを含有する日焼け止め組成物を開示する。 前記開発にも拘らず、UVA及びUVBの両方の放射範囲に
おける紫外線放射から皮膚を保護するために有用な新し
い化合物及び組成物をつきとめる必要性が継続して存在
する。従って、本発明の目的はUVA及びUVB放射の両方に
対して有効な日焼止め剤である新規発色団化合物並びに
これらの発色団化合物を含有する日焼止め組成物を提供
することである。本発明の更に目的はヒト或いは下等動
物の皮膚を本発明の日焼止め化合物及び組成物を用いる
ことによりUVA及びUVB波長放射への曝露の効果から保護
する方法を提供することである。 本発明のもう一つの目的は、UVA及びUVB放射範囲の両
者を通じて広範且つ強い吸収スペクトルを有する新規発
色団化合物を提供することである。本発明の更にもう一
つの目的は、皮膚により容易に吸収されず、増大した日
焼止め保護及び使用から生ずるアレルギー、炎症或いは
毒性問題に対する減少した機会を有し、及び擦り落ちに
対する耐性を有する日焼止め剤及び組成物を提供するこ
とである。更に本発明の目的はUVA及びUVB両者の放射に
対して一定且つ均一な保護を与え、化粧品として許容可
能であり、且つ容易に日焼止め組成物に配合することの
できる日焼止め剤及び組成物を提供することである。 これら及びその他の目的は以下の詳細な説明から容易
に明らかとなるであろう。 発明の概要 本発明はUVA及びVUB両波長範囲において、紫外線放射
を吸収するのに有効である日焼止め剤として有用な新規
発色団−含有日焼け止め化合物に関する。これらの新し
い化合物は選ばれたUVA−吸収発色団部分及び選ばれたU
VB−吸収発色団部分を一緒に同一分子内に共有的に結合
することにより形成される。これらの発色団部分は発色
団部分の電子系がこの共有結合を介して直接にカップリ
ングされて新しい発色団−含有化合物を形成するように
結合される。 本発明は更に日焼止め組成物に関する。これらの組成
物は薬学的に許容可能な日焼け止め担体及び一般的にUV
A−吸収発色団部分及びUVB−吸収発色団部分の両者を有
することにより特徴付けられる発色団化合物を含んでな
る。ここでも又、これらの配色団部分はこれらの部分の
電子系が共有結合を介して直接にカップリングされてい
るように共有的に結合されている。 最後に、本発明は又、日焼け及び日光−誘発皮膚の老
化などのUVA及びUVB波長放射の効果からヒト或いは下等
動物の皮膚を保護する方法にも関する。その様な方法
は、本発明において有用な日焼止め剤の有効な被覆をヒ
ト或いは下等動物に局所的に適用することよりなる。 発明の具体的説明 日焼止め剤 本発明において有用な日焼止め剤は異った紫外線放射
吸収スペクトルを有する二つの発色団から誘導された新
規発色団−含有化合物である。特に、配色団部分の一方
は主としてUVB放射範囲において吸収し、及び他方は強
くUVA放射範囲において吸収する。更に、これらの分子
は分子内において共有結合により発色団部分を結合して
有し、この共有結合は発色団部分の電子系を結合を介し
て直接カップリングさせて新しい発色団を形成する。 より詳しくは、発色団部分の一方はその発色団部分が
独立の分子に単離された際に、UVA範囲における放射を
強く吸収するのに有効であると特徴付けられる。他方の
発色団部分はその配色団部分が独立の分子内に単離され
た際に主としてUVB範囲において放射を吸収するのに有
効であるとして特徴付けられる。これらの二つの発色団
部分は、これらの発色団部分の電子系が直接にカップリ
ングされて本発明の新しい発色団−含有化合物を形成す
るように共有的に結合されている。即ち、本発明におい
て有用な日焼け止め剤は下記一般構造を有する化合物で
ある： Ｘ−Ｂ−Ｚ この一般構造において、Ｘ基は置換された、カルボニ
ル−含有、芳香族環−含有部分であるUVA−吸収発色団
である。このUVA−吸収部分は独立の発色団として単離
された際に、約320〜約400nmの波長範囲内において、少
なくとも一つの最大吸収（茲においてλ_maxとして表わ
され、以下において、より十分に説明される）を示す。
この最大吸収は少なくとも約9,000、好ましくは少なく
とも約20,000及び最も好ましくは少なくとも約30,000の
モル吸収率値（茲において“ε”として表わされ、以下
に説明されるように計算される）を示す。 上記一般構造におけるＺ基は置換された、カルボニル
−含有、芳香族環−含有部分であるUVB−吸収発色団で
ある。UVB−吸収部分は独立の発色団として単離された
際に、約290〜約320nmの範囲内の少なくとも一つの波長
に対して少なくとも約4,000、好ましくは少なくとも約1
5,000及び最も好ましくは少なくとも約25,000のモル吸
収率値を示す。好ましくは、以下に規定する分子内にお
ける単一発色団として存在する場合には、Ｚ基は約290
〜約320nmの範囲内において、少なくとも一つの最大吸
収λ_maxを示す。この最大吸収は好ましくは少なくとも
約4,000より好ましくは少なくとも約15,000及び最も好
ましくは少なくとも約25,000のモル吸収率値を有するの
が好ましい。最後に、以下に規定される分子内に単一発
色団として存在する場合には、Ｚ基は更に約320nmを越
える如何なる波長に対しても約9,000より大きいεを有
するλ_maxを示すべきでない。 最後に、上記一般構造において、Ｂ基は二つのＸ及び
Ｚ発色団部分をこれらの発色団の電子系が直接にカップ
リングされるように、即ち電子が共有されるように共有
的に結合する化学的結合或いは結合部分である。本発明
ではこの結合部分Ｂは両方の発色団部分から共有される
自由電子を有する原子−Ｏ−である。 本発明の日焼止め剤は好ましくは可視波長範囲におけ
る光（即ち約400nmを越える）を僅かにのみ吸収するか
或いは全く吸収しない。従って、これらの化合物は僅か
に軽度に着色しているか（例えば、軽黄色或いはクリー
ム色）或いは本質的に白色である。これは化粧品上の理
由から望ましい。この様に、これらの日焼止め剤は約40
0nmを越える如何なる波長に対しても約500より大きいε
を有さず、最も好ましくは約400nmを越える如何なる波
長に対してもεが本質的に０であるのがよい。 本発明の化合物は低分子量化合物、好ましくは約2,50
0未満、最も好ましくは約1,000未満の分子量を有するこ
とが更に好ましい。更に、これらの化合物は約10℃を越
える温度において液体であるのが好ましい。 具体的には、本発明の日焼止め化合物に有用な適当な
Ｘ発色団部分の例としては、下記のものが挙げられる： 全ての前記式において、各ＡはＲ、−OR、−NR₂或い
は−SO₃Hよりなる群から独立に選ばれる置換基或いはそ
の薬学的に許容可能な塩或いはエステルであり、各A²は
独立に−OR或いは−NR₂であり、各A³は独立にＨ或いはO
Hであり、各A⁴及びA⁵は独立にＲ或いはORであり、及び
更にA³或いはA⁴のいづれかはOHでなければならず、各A⁶
は独立にＨ或いは−SO₃H或いはその薬学的に許容可能な
塩或いはエステルであり、各Ｒは独立にＨ、約１〜約20
個の炭素原子を有する直鎖或いは分岐鎖アルキル、（CH
₂CH₂O）_ｍ−Ｈ、或いは（CH₂CH（CH₃）Ｏ）_ｍ−Ｈであ
り、ｍは１〜約８の整数、好ましくはｍ＝１〜約３であ
る。 Ｘ発足団部分として好ましいのは、 及び特に である。好ましくはA³或いはA⁴のいづれはOHであり、他
の基はＨであり、A⁵はＲであり、及びA⁶はＨである。最
も好ましくはA³がOHであり、及びA⁴、A⁵及びA⁶がＨであ
る。Ａは好ましくはＲであり、最も好ましくはＡはＨで
ある。 又、本発明の日焼止め化合物において有用なＺ発色団
部分の具体例としては下記のものが挙げられる： これらの式において、各A¹は独立に−CN或いは−CO₂R
¹であり、各A⁷は独立に−OR或いは−O₂−Ｃ−R¹であ
り、但し、A⁷及びA³（前記Ｘ基について説明されたも
の）の両者は共に−OHであることはなく、各R¹は独立に
約１〜約20個の炭素原子を有する直鎖或いは分岐鎖アル
キルであり、及びA²及びＲは置換Ｘ基について、前述し
た如き置換基である。 Ｚ発色団部分として好ましいものは 特に である。好ましくは、−NR₂は−NR¹ ₂である。両R¹基は
異ったアルキル基であってもよい。特に好ましいのは、
一方のR¹基が約２よりも多い炭素原子を有し（特に、分
岐鎖アルキル基、例えば２−エチル−ヘキシル）を有
し、他方のR¹基がメチル或いはエチル、特にメチルであ
るものである。或いは又、Ｒ′基の両方は同一のアルキ
ル基、好ましくは２−エチルヘキシルである。又、A²が
−OR或いは−NR₂（好ましくは−NR₂が前記の如く、−NR
¹ ₂）であるのが好ましい。最も好ましいのはA²が−OC
H₃、−OCH₂CH₃、OH、或いは−NR¹ ₂である（但し、一方
のR¹基は約２個の炭素原子よりも多い炭素原子を有し、
特に分岐鎖アルキル基であり、特に他方のR¹基はメチル
或いはエチル、特にメチルである）。 本発明の好ましい日焼止め剤は次の一般式を有する。 特に好ましいのは最後の二つの構造であり、最後の構
造が最も好ましい。これらの構造上のＢ基及び置換基は
好ましくは前記の通りである。 本発明の具体的日焼止め剤としては、例えば ４−ヒドロキシベンゾイルメタンとの４−N,N−ジメチ
ルアミノ安息香酸エステル（「化合物１」）； ４−ヒドロキシジベンゾイルメタンとの４−メトキシ桂
皮酸エステル（「化合物２」）； ４−ヒドロキシ−４′−メトキシジベンゾイルメタンと
の４−メトキシ桂皮酸エステル（「化合物３」），４−ヒドロキシジベンゾイルメタンとの４−N,N−（２
−エチルヘキシル）メチルアミノ安息香酸エステル
（「化合物４」）；及び 2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンとの４−N,N−ジメチ
ルアミノ安息香酸エステル（「化合物５」）； ４−ジヒドロキシジベンゾイルエタンとのN,N−ジ（２
−エチルヘキシル）−４−アミノ安息香酸エステル
（「化合物６」）；及び 2,4−ジシドロキシベンゾフェノンとの４−N,N−（２−
エチルヘキシル）メチルアミノ安息香酸（「化合物
７」）。 本発明の日焼止め剤は市販の、発色団−含有分子から
調製することができる。典型的には、これら日焼止め剤
の合成はエステル化或いはアミド化反応により達成され
る。本発明の日焼止め剤の合成に一般的に適用可能な合
成技術は例えば米国特許第4,002,733号（1977年１月11
日発行）、及び米国特許第4,115,547号（1978年９月19
日発行）に教えられており、これらの両特許の開示内容
は本発明において準用する。本発明の日焼止め剤の代表
的合成方法は以下の具体例において与えられる。 本発明において用いられる「薬学的に許容可能な塩及
びエステル」という用語は毒性の見地から許容可能であ
る日焼止め剤のエステル及び塩形態を意味する。薬学的
に可能な塩としてはアルキル金属（例、ナトリウム及び
カリウム）、アルカリ土類金属（例、カルシウム及びマ
グネシウム）、非−毒性重金属（例、スズ及びインジウ
ム）、及びアンモニウム及び低分子量置換アンモニウム
（例、メチル及び／又はエチルにより置換されたモノ
−、ジ−、トリ−及びテトラ−置換アミン）塩類であ
る。好ましくはナトリウム、カリウム及びアンモニウム
塩である。薬学的に許容可能な利用可能なエステル類と
しては１〜約20個の炭素原子を有する直鎖或いは分岐鎖
アルキルエステル、好ましくはメチル或いはエチルエス
テルが挙げられる。 本発明において用いられる「独立の発色団」という用
語はＸ−Ｂ−Ｚ化合物内のＢ結合部分に結合されている
発色団部分よりもむしろそれが−Ｏ−R²（茲にR²は短鎖
アルキル基、例えばメチル或いはエチル、好ましくはメ
チルを表わす）に結合した場合の発色団部分（即ちＸ或
いはＺのいづれか）を意味する。例えば、前記化合物５
の独立の発色団は４−N,N−ジメチルアミノ安息香酸の
エチルエステル及び２−ヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフェノンである。又、一例として、前記化合物４の独
立の発色団は４−N,N−（２−エチルヘキシル）メチル
アミノ安息香酸のメチルエステル及び４−メトキシ−ジ
ベンゾイルメタンである。 本発明において用いられる「モル吸収率値」という用
語はある分子が特定波長において紫外線を吸収する能力
の定量的目安である。このモル吸収率値は光の特別の波
長において次の式から計算されるモル吸収率係数（茲に
l/モルcmの単位で表わされる“ε”により表わされる）
として表わされる： 〔茲にに“I"は光が通過する吸収媒体の路長（cm）であ
り、“c"は発色団分子の濃度（ｌ当りモル数）であり、
及び、“A"は「吸光度」である〕。吸光度は発色団−分
子−含有吸収媒体を通して通過及び後の特別の波長の光
の強さにおける観察された相違から計算される。即ち、
吸光度は次の式より計算される： 〔個々に、“I₀"は特別の波長の吸収路上の入射放射線
の強度であり、“I"は吸収路を通過した同一の特別の波
長の透過放射線の強度である〕。 特別の波長の光に対するモル吸収率値の計算は周知で
あり、より詳しくはアトラス・オブ・スペクトル・デー
タ・アンド・フィジカル・コンスタンツ・フォ・オーガ
ニック・コンパウンズ（Atlas of Spectral Data and P
hysical Constants for Orgaanic Compounds）、第２
版、Vol.1 399−408頁〔Grasselli及びRitchey編、CRC
Press社、クリーブランド、オハイオ州、1975年〕に教
えられており、その開示内容は本発明において準用す
る。モル吸収率値の計算のための強度測定を行うために
有用な機器も又周知である（例、Varion DMS−100及びB
eckman DU−７）。本発明の代表的化合物に対するモル
吸収率値は以下の具体例において与えられる。 本発明において用いられる「最大吸収率」という用語
は発色団−含有分子がその最大吸収率波長の直ぐ上及び
下の波長に対して最大のモル吸収率値を有する放射の波
長を意味する。即ち、UV−放射吸収の典型的スペクトル
において、最大吸収はUV吸収を測定する機器により発生
されるスペクトルのグラフにおけるピークとして容易に
確認される。最大吸収（茲においてλ_maxと表わされ
る）は本発明の代表的日焼止め化合物に対して以下の具
体例において与えられる。 本発明において有用な日焼止め剤はUVA−吸収分子と
してUVB−吸収分子の単なる混合物と比較して幾つかの
望ましい性質を有する。特に有益であるのは、本発明の
新規発色団の大きい値及び広い吸収スペクトルである。
これは本発明の日焼止め剤を分子の混合物に比較してよ
り低い量で用いて同一量の日焼止め保護を達成すること
を可能にする。更に、全UVA及びUVB放射範囲を通じてよ
りよい日焼止め保護に導く。 本発明からの付加的利益は皮膚の同一箇所においてUV
A及びUVB両者の保護を与える確実性である。分子の混合
物は、皮膚を通しての一つのタイプの分子による皮膚表
面上への非−均一分布及び／又は選択的侵入に対して他
のタイプの分子によるこの均一性に欠けるものである。
関連した利益は本発明の日焼止め剤はUVA対UVB保護の一
定の相対的保護を与えることである。発色団分子の混合
物は一つの発色団分子が他の発色団よりも皮膚からより
容易に失われる（例えばより高割合の擦り落ち或いは皮
膚浸透）であるので、一定の相対的UVA対UVB保護の比率
を維持しない。もう一つの利益は、本発明の日焼止め剤
は独立の発色団の混合物よりも皮膚によりよりゆっくり
吸収されることである。これは皮膚の保護のより長い期
間に導き、皮膚の吸収により生ずる皮膚の炎症がより少
なくなる。本発明の日焼止め化合物及び独立の発色団の
混合物のUV放射を吸収する能力は一般的に公知のin vit
roの方法、例えばセイヤー等（Sayer et al.）「in viv
o及びinvitroの日焼止め配合物の試験の比較（A Compar
ison of in vivo及びin vitro Testing of Sunscreenin
g Formulas）」フォトケミカル・フォトバイオロジー
（Photochem.Photobiol.）29:559−566（1979）により
教えられている方法により測定され、その開示内容は本
発明において準用する。本発明の化合物のいくつかは汗
或いは水泳からの水による洗落ちに対してもより耐性を
有する。 本発明の日焼止め剤は典型的には約0.1％〜約99.9％
の本発明の日焼止め組成物を含んでなり、好ましくは約
１％〜約20％、最も好ましくは約５％〜約15％を含んで
なる。 薬学的に許容可能な日焼止め担体 前記日焼止め剤に加えて、本発明の日焼止め組成物は
本質的に薬学的に許容可能な日焼止め担体を含有する。
本発明において用いられる「薬学的に許容可能な日焼止
め担体」としてはヒト或いは下等動物の皮膚に対する局
所的適用に適した１以上の実質に非・炎症性の適合性充
填剤希釈剤である。本発明において用いられる「適合
性」という用語は担体の成分が日焼止め剤並びに相互に
皮膚をUVA及びUVB波長の放射から保護するために使用す
る際に組成物の効果を実質的に減少させる相互作用がな
いように混合わせることのできることを意味する。薬学
的に許容可能な日焼止め担体は勿論それらをヒト或いは
低級動物の局所投与に適するようにするために十分に高
い純度及び十分に低い毒性でなければならない。 本発明の日焼止め組成物は所望の配合に対して適当で
あるように選ばれた薬学的に許容可能な日焼止め担体を
含有する。例えば、本発明の日焼止め組成物を有機溶媒
溶液、水性エマルジョン、ゲル、或いはエアロゾール配
合の形態で調製することが可能である。好ましいのは水
性エマルジョンとして配合された本発明の日焼止め組成
物である。本発明の組成物において有用な薬学的に許容
可能な日焼止め担体としては、例えば、水、油、脂肪、
ワックス、合成重合体、乳化剤、界面活性剤、香料、染
料、保恒剤、人工なめし剤（例、ジヒドロキシアセト
ン）、及び通常の日焼止め剤（例、オクチル−N,N−ジ
メチル−パラ−アミノベンゾエート、２−ヒドロキシ−
４−メトキシベンゾフェノン）などが挙げられる。 水は本発明の日焼止め組成物の主たる成分である。一
般的に、水は組成物の約50重量％〜約99重量％、好まし
くは約70％〜約96％、最も好ましくは約95％〜約85％の
割合で存在する。 乳化剤は本発明の日焼止め組成物に含まれることが好
ましく、好ましくは組成物の絡1.5〜約10重量％、最も
好ましくは約２％〜約５％を占める。好ましい乳化剤は
アニオン系或いはノニオン系のものであるが、その他の
タイプも使用されてよい。適当な乳化剤は例えば米国特
許第3,755,560号（1973年８月28日発行）、米国特許第
4,421,769号（1983年12月20日発行）及びマッカッチョ
ン（Mc Cutcheon）の洗剤及び乳化剤（Detergents and
Emulsifiers）、North American版、に開示されてお
り、これらの文献の開示内容は本発明において準用す
る。 本発明の日焼止め組成物において有用な乳化剤の種類
としては、エトキシ化脂肪酸、エトキシ化エステル、エ
トキシ化エーテル、エトキシ化アルコール、リン化エス
テル、ポリオキシエチレン脂肪エーテルホスフェート、
脂肪酸アミド、アシルラクチレート、石けん及びそれら
の混合物である。セチル及びステアリールアルコールな
どの脂肪アルコール及びステアリールアルコールも又本
発明の目的のための乳化剤とみなされる。 その様な乳化剤の具体例としては、ポリオキシエチレ
ン（８）ステアレート、ミリスチルエトキシ（６）ミリ
ステート、ポリオキシエチレン（100）モノステアレー
ト、ラウリックジエタノールアミド、ステアリックモノ
エタノールアミド、水素添加植物グリセリド類、ナトリ
ウムステロイル−２−ラクチレート及びカルシウムステ
アロイル−２−ラクチレートなどが挙げられる。石けん
も又許容可能な乳化剤である。石けんは組成物の加工に
際してin situで配合され、好ましくは長鎖脂肪酸のア
ルカリ金属或いはトリエタノールアミン塩である。その
様な石けんとしてはステアリン酸ナトリウム、トリエタ
ノールアミンステアレート及びラノリン脂肪酸の同様な
塩が挙げられる。 又、本発明の組成物において、使用するのが好ましい
エチレンとアクリル酸の共重合体である。これらの単量
体： エチレン:CH₂＝CH₂ は次の様な重合体形態で存在する： （茲に、ｘ対ｙの比は約1:24〜約1:9である）。重量平
均分子量は約3,500〜約4,500、このましくは約4,000〜
約4,300である。 本発明の組成物は上記成分に加えて、広範囲のその他
の油溶性材料及び／又は水溶性材料を含有してもよい。 油溶性材料の中には25℃において約10〜約100,000の
範囲の粘度を有するポリジメチルシロキサン類などの非
−揮発性シリコーン流体がある。これらのシロキサン類
はDow Corning200シリーズとしてDow Corning社から市
販されている。 その他の油溶性材料としてはセチルアルコール及びス
テアリルアルコールなどの脂肪酸アルコール類、セテア
リールパルミテート、ラウリルミリステート及びイソプ
ロピルパルミテートなどのエステル類、ひまし油、ハホ
ウバ油、綿実油、落花生油及びゴマ油などの油、ワセリ
ン、セレシンワックス、カルナウバワックス、密蝋ワッ
クス、及びひまし油ワックスなどのワックス類、ラノリ
ン、その誘導体及び成分例えばアセチル化ラノリン、ラ
ノリンアルコール、及びラノリン脂肪酸などがあげられ
る。コレステロール及びファイトステロールなども又本
発明において有用である。 これらの任意の油相材料は個々に全日焼止め組成物の
約20重量％まで、好ましくは約10％までを占めてよい。 本発明の組成物には又追加の水溶性材料が存在しても
よい。例えばグリセリン、ソルビトール、プロピレング
リコール、アルコキシ化グルコース及びヘキサントリオ
ール、チロシンなどの湿潤剤、カルボシビニル重合体
〔Carbopols^R−B.F.Goodrich社より提供されるその様な
重合体は詳細に米国特許第2,798,053号（1957年７月２
日発行）に説明されており、これは本発明において準用
する〕、エチルセルロース、ポリビニルアルコール、カ
ルボキシメチルセルロース、植物ガム及びクレー例えば
Veegum^R（マグネシウムアルミニウムシリケート、R.T.V
anderbilt社）、などの増粘剤、タンパク質及びポリペ
プチド、ヒドロキシ安息香酸のメチル、エチル、プロピ
ル及びブチルエステル類（パラベン−Mallinckrodt Che
mical社）、EDTA、メチルイソチアゾリノン及びイミダ
ソリジニル尿素（Germall 115−Sutton Laboratories）
などの保恒剤、及び所望に応じて存在する脂肪酸或いは
増粘剤を中和させるための水酸化ナトリウム或いは水酸
化カリウムなどのアルカリ剤などが挙げられる。 これらの水相材料は個々に全日焼止め組成物の約20重
量％、好ましくは約10％までを示してよい。 本発明の組成物は又香料及び／又は染料などの審美的
目的に適した試剤を含有してもよい。 本発明における日焼止め組成物のpHは好ましくは約4.
5〜約９の範囲である。 本発明の水性エマルジョン日焼止め組成物のために
は、水相中に分散される油相材料（例、日焼止め剤、重
合体、香料など）の平均粒径は約５〜約10μの範囲であ
り、粒子の約75％を越えるものが約12μ未満である。 薬学的に許容可能な日焼止め担体は合計で典型的には
本発明の日焼止め組成物の約0.1〜約99.9重量％を占
め、好ましくは約80％〜約99％、最も好ましくは約85％
〜約95％を占める。 本発明の組成物は以下の具体例に説明される方法を用
いて調製される。 日焼防止方法 本発明は更にヒト或いは下等動物の皮膚を日焼け及び
皮膚の早期老化などのUVA及びUVB波長放射の効果から保
護する方法に関する。その様な方法は、ヒト或いは下等
動物に本発明の日焼止め剤或いは好ましくは本発明の日
焼止め組成物の有効な被膜を局所的に適用することより
なる。本発明において用いる「効果的被膜」という用語
は皮膚表面に到達するUVA及びUVB波長光の量を実質的に
減少させるのに十分な日焼止め剤の膜を意味する。典型
的には、皮膚の効果的複膜は約0.5mgの本発明の日焼止
め/cm²皮膚〜約5mgの本発明の日焼止め材/cm²皮膚であ
る。 以下の具体例は本発明の範囲内の好ましい実施態様を
更に説明し、示すものである。これらの具体例は例示の
目的でのみ与えられるものであり、その趣旨及び範囲か
ら離れることな多くの変化が可能であるので本発明を限
定するものではない。 例１ 化合物４の合成 （ａ）４−N,N−（２−エチルヘキシル）メチルアミノ
安息香酸の合成： オーバーヘッド撹拌機、滴下漏斗及び還流凝縮器のつ
いた1000mlの三首丸底フラスコに４−Ｎ−メチルアミノ
安息香酸（25.0g、0.165モル、Aldrich Chemical Co.ミ
ルウォーキー、ウィスコンシン州）、130mlのトルエ
ン、氷酢酸（40.0g）、及び亜鉛粉末（42.5g、0.65g原
子）を入れた。この混合物を撹拌しながら加熱還流さ
せ、その時点で２−エチルヘキサノール（84.6g、0.66
モル）の添加を開始した。添加が終了後反応液を16時間
還流させた。TLC分析（シリカゲル、50/50ヘキサン／ア
セトン）は全ての酸は反応しなかったことを示した。追
加の7.0gの亜鉛粉末及び2mlの氷酢酸を添加した。更に
２時間還流後、TLC分析は出発酸が消費されたことを示
した。この熱い溶液を中程度に焼結したガラスロート上
のCelite フィルターケーキを通して過し、100mlの
熱トルエンで洗浄した。液を200mlの水及び500mlのク
ロロホルムを含有する分離ロート中に注いだ。この混合
物を濃塩酸で約１のpHにした。緊密に振盪後、クロロホ
ルムえ層を抜出し、水層をクロロホルムで抽出した（３
×150ml）。合一したクロロホルム抽出液を150mlの塩水
で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥した。濾過及び溶
媒をロータリエバポレーションにより除去後（0.1Tor
r、100℃水浴）、40.4gの明褐色ワックス状固体を得
た。この物質を120mlの90％エタノールから再結晶して3
0.2gのふわふわした白色固体を得た。 融点55.5〜57.5℃。 元素分析計算値（C₁₆H₂₅O₂Nとして）： Ｃ、72.96;H、9.57; Ｏ、12.15;N、5.32。 実測値:C、73.11;H、9.62; Ｏ、12.28;N、5.23。 或いは又、Ｎ−（２−エチルヘキシル）−Ｎ−メチル
−４−アミノ安息香酸は次の方法によっても調製するこ
とができる。４−アミノ安息香酸エチルエステルを２−
エチルヘキサナールと共に1:1酢酸／エタノール中に溶
解した。次いで炭素担持10％Pd（2kg安息香酸エステル/
75g触媒）を添加した。この混合物を窒素下に室温で１
時間おいた。反応を次いでTLCにより終了したことを測
定した。過剰の40％ホルムアルデヒド水溶液を添加し、
反応を再び水素下に30〜35℃で１時間置いた。反応はTL
Cにより完了した。反応液を次いでCeliteを通して濾過
し、溶媒を除去した。得られた物質を水と塩化メチレン
の間に分配した。塩化メチレン層を次いで飽和重炭酸ナ
トリウムで洗浄した。得られた塩化メチレン層を次いで
硫酸マグネシウム上で乾燥し、揮発性物質を過後除去
して目的生成物をエチルエステルとして得た。この物質
をエチルエステルの重量当り、12容のエタノール／水
（65:35）中においた。２モル当量の水酸化ナトリウム
を添加し、混合物を２時間還流させた。反応は次いでTL
Cにより完了した。殆んどのエタノールを除去し、更に
水を添加した後塩酸を添加した。得られた目的カルボン
酸が次いで沈澱した。全プロセスはほぼ定量的であっ
た。生成物の再結晶は4.5のエタノール当り2kgの酸中
で行った。約70％の物質の回収率が観察された。 （ｂ）４−ヒドロキシジベンゾイルメタンの合成オーバ
ーヘッド撹拌機、滴下漏斗及び還流凝縮器を備えた1000
mlの三首丸底フラスコに２回ヘキサンで洗浄した水素化
ナトリウム80％油分散体（12.0g、0.40モル）を入れ
た。次いで、200mlの新たに蒸留したグライムを添加
し、スラリーを撹拌しながら加熱還流した。 100mlのグライム中に溶解した４−ヒドロキシアセト
フェノン（13.62g、0.10モル）を滴加した。反応液を添
加後45分間還流させた。次いで100mlのグライム中に溶
解したメチルベンゾエート（13.62g、0.10モル）の溶液
を滴加した。反応液を16時間還流させた後、殆んどのグ
ライムはアスピレータ圧力において留去された。ポット
残渣を氷浴中で冷却し、300mlのエーテルを添加後200ml
の水を注意深く添加した。この混合物を分離漏斗に注
ぎ、近密に振盪し、水層を除去した。エーテル層を冷水
（２×200ml）で洗浄後100mlの冷１％NaOH水溶液で洗浄
した。合一した水相を注意深く400gの氷プラス90mlの濃
HClの混合物上に注いだ。沈澱した黄緑色固体を吸入
過により集め、少しの冷水で洗浄した。この物質を95％
エタノールから再結晶して13.1gの黄色固体を得た。 融点153〜156℃。 元素分析計算値（C₁₅H₁₂O₃として）： Ｃ、74.99;H、5.03; Ｏ、19.98; 実測値:C、74.72;H、5.02; Ｏ、19.80 （ｃ）化合物４の合成 磁石撹拌棒を備えた50mlの丸底フラスコに４−N,N−
（２−エチルヘキシル）メチルアミノ安息香酸（1.22
g、4.62mモル）、４−ヒドロキシジベンゾイルメタン
（1.11g、4.62mモル）及び10mlのDMFを入れた。この金
色の溶液に9.2mlのポリホスフェートエステル及び追加
の10mlのDMFを添加した。反応混合物を85℃に40時間加
熱した。深赤色反応混合物を25mlの冷水中に注ぎ、黄色
沈澱を得、これを吸入過により集めて少量の水で洗浄
した。この物質をエタノールから再結晶して1.45gの明
黄色固体を得た。融点90〜91.5℃。元素分析計算値（C
₃₁H₃₅O₄Nとして）： Ｃ、76.68;H、7.26; Ｏ、13.18;N、2.88 実測値:C、76.13;H、7.50; Ｏ、13.59;N、2.84。 化合物４のUVスペクトル（イソプロパノール溶液）は
λ_max＝338nm（ε＝51,350）を示す。 例２ 前記例１で説明したのと同様な方法により化合物５を
４−N,N−ジメチルアミノ安息香酸及び2,4−ジヒドロキ
シベンゾフェノン（共にArdrich Chemical社、ミルウォ
ーキー、ウィスコンシン州からのもの）から合成した。
化合物５のUVスペクトル（イソプロパノール溶液）はλ
_max＝321.5（ε＝42,490）を示した。 例３ 化合物１の合成 前記例１において説明したと同様な方法により、化合
物１を４−N,N−ジメチルアミノ安息香酸（Ardrich Che
mical社、ミルウォーキー ウィスコンシン州）及び４
−ヒドロキシジベンゾイルメタン（例１（ｂ）において
説明したのと同様にして調製された）から合成した。融
点＝195〜197℃。化合物１のUVスペクトル（イソプロパ
ノール溶液）はλ_max＝336（ε＝44,920）を示す。 例４ 化合物２の合成 （ａ）４−メトキシシンナモイルクロライドの合成 磁石撹拌棒、還流凝縮器、滴下漏斗及びアルゴン入口
を備えた1000mlの丸底フラスコに30.0g（0.17モル）の
４−メトキシ桂皮酸及び500mlのベンゼンを入れた。次
いで40.5ml（66.1g、0.56モル）の塩化チオニルを滴加
した。滴加終了後反応混合物を５時間加熱還流した。加
熱を中止し、混合物を一晩撹拌させた。ベンゼンをロー
タリーエバポレーションで除去して33.6g（0.17モル、1
00％）のベージュ色固体を得た。プロトンNMR及びIRは
提案された構造と一致した。この物質を更に精製するこ
となく用いた。 （ｂ）化合物２の合成 磁石撹拌棒及び還流凝縮器を備えた50mlの丸底フラス
コに４−メトキシシンナモイルクロライド（1.0g、5.0m
モル）及び25mlの新たに蒸留したTHFを入れた。この混
合物を次いで氷塩浴中で冷却した。次いで3mlの乾燥ピ
リジン及び5mlのTHFの混合物に溶解した４−ヒドロキシ
ベンゾイルメタン（1.0g、4.0mモル；例１（ｂ）と同様
にして精製された）の溶液を反応フラスコに滴加した。
反応混合物を次いで１時間加熱撹拌し、その後反応混合
物を冷却し、20gの氷及び3mlの濃塩酸の混合物中に注い
だ。沈澱した微細白色固体を吸入過により集めた。融
点＝149〜151℃。 元素分析計算値（C₂₅H₂₀O₅として）： Ｃ、74.99;H、5.03; Ｏ、19.88、 実測値:C、74,77;H、5.03; Ｏ、20.12。 化合物２のUVスペクトル（イソプロパノール溶液）は
λ_max＝338（ε＝47,200）を示した。 例５ 化合物３の合成 （ａ）４−ヒドロキシ−４′−メトキシジベンゾイルメ
タンの合成 この化合物は４−ヒドロキシジベンゾイルメタンを調
製するのに用いた方法と同様の方法により、但し、例１
（ｂ）において用いたメチルベンゾエートの代りにメチ
ル４−メトキシベンゾエートを用いて調製した。融点＝
180〜182℃。 元素分析計算値（C₁₆H₁₄O₄として）： Ｃ、71.10;H、5.22; Ｏ、23.6、８、 実測値:C、71.15;H、5.54; Ｏ、23.47。 （ｂ）化合物３の合成 前記例４において説明したのと実質的に同様な方法に
より化合物３を４−メトキシシンナモイルクロライド
（例４（ａ）と同様にして調製）及び４−ヒドロキシ−
４′−メトキシジベンゾイルメタンから合成した。粗製
物質をアセトンから再結晶して明黄色固体を得た。融点
＝147.5〜149℃。化合物３のUVスペクトル（イソプロパ
ナール溶液）はλ_max＝351（ε＝45,000）を示した。 例６ 化合物６の合成 磁石撹拌棒、凝縮器及び正圧の窒素を備えた100mlの
丸底フラスコにN,N−ジ−（２−エチルヘキシル）−４
−アミノ安息香酸（5.0g、0.0138モル、F.W.361）を入
れた。これに４−ヒドロキシジ−ベンゾイルメタン（3.
32g、0.0138モル、F.W.240）を添加した後30mlのポリホ
スフェート試薬（例えば161g（1.14モル）の五酸化リ
ン、151mlの無水エーテル及び322mlのクロロホルムの混
合物を16時間還流させて作製）を添加した。この溶液を
磁石で撹拌し、80℃において油浴中で16時間加熱した。 この反応混合物を次いで冷却させ、100mlの無水ジエ
チルエーテルを添加した。得られた二つの相を分離し
た。エーテル層を50mlの飽和重炭酸ナトリウムで洗浄
し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。この混合物を
次いで過し、ロト蒸発させて5.64gの橙色油を得た。
（目的化合物の理論収量8.04g）。TLC（70/30 ヘキサン
／アセトン）は殆んど生成物r.f.0.75を示す。 この物質を更にHPLCにより精製してTLCにより純粋で
ある物質を得、及びＨ−NMR、Ｃ−13NMR、IR及び質量ス
ペクトルはこの構造及び純度と一致した。Ｈ−NMR:DCC1
₃/TMS:0.6−2.0（ｍ）、3.3（ｄ）、6.5−6.8（ｍ）、
7.1−7.6（ｍ）、7.8−82（ｍ）。Ｃ−13NMR;DCCl₃/TM
S:185.26、164.88、154.92、152.21、135.45、132.40、
132.05、128.66、127.10、122.21、114.26、93.01、56.
21、36.86、30.58、28.68、23.90、23.15、14.06、10.7
1、IR塩盤:2957m、2912m、2863m、1715m、1600s、1520
w、1460w、1271m、1210m、1180s、1163s、1060m、1050
m、1015s、1007s、735s、650m。質量スペクトル親イオ
ン＝583。 化合物６のUVスペクトル （ClCH₂CH₂Cl溶液）はλ_max＝342.1nm（ε＝31.000）を
示す。 例７ 化合物７の合成 次の試薬を磁性撹拌機及び乾燥管を備えた50mlフラス
コに入れた： Ｎ−（２−エチルヘキシル）−Ｎ−メチル−４−アミノ
ベンゾエート及び5.0mlのポリホスフェートエステル（2
04gの五塩化リン、200mlの無水ジエチルエーテル及び42
5mlのクロロホルムを16時間還流させた結果均質溶液を
得て調製）。この混合物を次いで80℃で４時間加熱し
た。この均質反応溶液を次いで冷却させたところ、TLC
（シリカゲルＧ上塩化メチレン／メタノール 99/1）は
殆んどの出発材料はなくなっており、より大きいr.f.値
における二つの新してスポットが存在することを示し
た。この反応溶液を50mlの塩化メチレン中に注ぎ25mlの
飽和重炭酸ナトリウム及び10mlの水で洗浄した。得られ
た塩化メチレン層を次いで硫酸マグネシウム上で乾燥し
た。混合物を過し、揮発物質をロト蒸発により除去し
て1.2gの油を得た。この油を次いでHPLCにより精製して
二つの異性体を得た。質量スペクトル及びNMRデータは
これらの化合物の構造を確認した。 化合物７のUVスペクトルはλ_max＝331.1nm（ε＝26,48
0）を示す。 例８〜14 以下の日焼止め組成物は本発明の代表的なものであ
る： 上記組成物は次の成分を説明した如く添加することに
より作ることができる：パート 物質 Ｉ 水 Carbopol 934 Carbopol 941 メチルパラベン プロピルパラベン グリセリン II 日焼止め剤 セチルアルコール グリセロールステアレート Stearth−100 ステアリン酸 Dimethicon ワセリン エチレン／アクリレート共重合体 III 四ナトリウムEDTA 水酸化カリウム 二酸化チタン IV チロシン イミダゾリジニル尿素 香料 組成物は水相（パートＩ）材料を71〜99℃において邪
魔板及び撹拌機を付したスケール−取付け混合タンク内
において混合することによって作られた。油相（パート
II）は撹拌機を備えた別の混合タンク内において71〜11
0℃で混合された。パートＩ及びパートIIの両方を均質
な相が得られるまで混合した。 水相（パートＩ）を次いで油相（パートII）の60〜11
0％に等しい量で油相（パートIII）にポンプ送りした。
この油／水予備混合物を約71〜99℃の温度に保持し、均
質混合物が得られるまで撹拌した。この油／水予備混合
物を次いで残りの水相（パートＩ）にポンプ送りし、約
71〜99℃の温度に保持した。パートIIIの成分を次いで
撹拌を維持し、温度を71〜99℃に保ちながら添加した。
この組成物を次いで超音波探針を備えた閉じられた容器
を0.5〜6.5kg/分の流速で通過させた。超音波周波数は1
5〜40kHzの範囲である。この組成物を更に熱交換器及び
／又はジャケットを通して処理して71〜99℃の温度に冷
却した。パートIVの成分を次いで撹拌を維持しながら均
質な混合物が得られるまで添加した。 この組成物を次いで熱交換によりポンプ送りして21〜
32℃に冷却した。定常状態操作に到達するまで待ちなが
ら、組成物は混合タンクに再循環されてよい。この組成
物を次いでガラス瓶中に包装した。 例11の日焼止め組成物をUVA及びUVB波長放射からの保
護を必要とするヒトの皮膚に塗込んだ。この日焼止め組
成物の薄層を放射に曝される皮膚に塗布した。この日焼
止め組成物は皮膚に容易に塗布され、及び日焼止め剤は
皮膚により容易に吸収されず或いは容易に擦り落されな
かった。更に、それはUVA及びUVBの両放射に対して一定
且つ均一の保護を与える。 例15 本発明の日焼止め剤による皮膚浸透 皮膚浸透はすりガラス拡散セルに取付けられたヒト腹
部皮膚（Shriner's Burns Institute）を用いて行われ
た。曝露された皮膚表面積は0.785cm²であった。日焼止
め剤はビヒクル（エタノール或いはジメチルイソソルバ
イド）中の溶液（100μ）として塗布された。受取り
貯蔵器は4.5mlのビヒクルのものであった。貯蔵器を撹
拌し、37℃に維持した。浸透度は貯蔵器のUV吸光度を読
取ることにより求めた。アッセイは３回行われた。 本発明において有用な日焼止め剤の定量の皮膚浸透は
UVA及びUVB放射の両者に対して皮膚のための均一な保護
層を与えた。このUVA及びUVB放射に対する保護は異った
速度で吸収及び／又は擦り落される分子を含有する混合
物を用いる場合におきるように時間と共に変化しない。
又、本発明の日焼止め剤については相対的UVA対UVB保護
は時間と共に変化しない。更に、本発明の日焼止め剤に
よる保護はそれが皮膚を介しての吸収により容易に失わ
れないので長時間持続する。最後にこの低い量の皮膚浸
透のために本発明の日焼止め剤については毒性（典型的
には皮膚炎症の形態）に対する可能性が少ない。

Claims (1)

1. (57)【特許請求の範囲】 １．下記一般構造を有する発色団−含有日焼け止め剤： Ｘ−Ｂ−Ｚ 〔式中、 （ａ）Ｘは次のものよりなる群から選ばれたUVA−吸収
   部分である： （ｂ）Ｚは次のものよりなる群から選ばれたUVB−吸収
   部分である： （茲に、前記全ての式において、各ＡはＲ、−OR、−NR
   ₂或いは−SO₃H、或いはその薬学的に許容可能な塩或い
   はエステルよりなる群から独立に選ばれた置換基であ
   り、各A¹は独立に−CN或いは−CO₂R¹であり、各A²は独
   立に−OR或いは−NR₂であり、各A³は独立にＨ或いはOH
   であり、各A⁴及びA⁵は独立にＲ或いはORであり、及び更
   にA³或いはA⁴のいづれかはOHでなければならず、各A⁶は
   独立にＨ或いは−SO₃H、或いはその薬学的に許容可能な
   塩或いはエステルであり、各A⁷は独立に−OR或いは−O₂
   C−R¹であり、但し、A⁷及びA³が共にOHであることはな
   く、各Ｒは独立にＨ、１〜20個の炭素数を有する直鎖或
   いは分岐鎖アルキル、（CH₂CH₂O）_ｍ−Ｈ、或いは（CH₂
   CH（CH₃）Ｏ）_ｍ−Ｈであり、ｍは１〜８の整数であ
   り、及び各R¹は独立に１〜20個の炭素原子を有する直鎖
   或いは分岐鎖アルキルである）、及び （ｃ）Ｂは−Ｏ−である。 ２．（ａ）Ｘ UVA−吸収部分が よりなる群から選ばれ、及び （ｂ）Ｚ UVB−吸収部分が よりなる群から選ばれる特許請求の範囲第１項記載の発
   色団−含有日焼け止め剤。 ３．下記一般式を有する特許請求の範囲第２項記載の発
   色団−含有日焼け止め剤： 或いは、 （式中、Ｂは−Ｏ−であり、及び更にＲはＨ、或いは１
   〜20個の炭素数を有する直鎖又は分岐鎖アルキルであ
   る。）。 ４．ＡがＲ基であり、A²が−OR或いは−NR₂から選ばれ
   及びＢが−Ｏ−である特許請求の範囲第３項記載の発色
   団−含有日焼け止め剤。 ５．Ｂが−Ｏ−であり、ＡがＨであり、A²が−OCH₃、−
   OCH₂CH₃、−OH或いは−NR¹ ₂であり、及び−NR₂が−NR¹ ₂
   であり、更に−NR₂基が２個より多い炭素原子を有する
   一つのR¹基を有し、他方のR¹がメチル或いはエチルであ
   る特許請求の範囲第３項記載の発色団−含有日焼け止め
   剤。 ６．Ｂが−Ｏ−であり、ＡがＨであり、A²が−OCH₃、−
   OCH₂CH₃、−OH、或いは−NR¹ ₂であり、及び−NR₂が−NR
   ¹ ₂であり、更に両方のR¹基が２−エチル−ヘキシルであ
   る特許請求の範囲第３項記載の発色団−含有日焼け止め
   剤。 ７．４−ヒドロキシベンゾイルメタンとの４−N,N−ジ
   メチルアミノ安息香酸エステル、４−ヒドロキシベンゾ
   イルメタンとの４−メトキシ桂皮酸エステル、４−ヒド
   ロキシ−４′−メトキシジベンゾイルメタンとの４−メ
   トキシ桂皮酸エステル、４−ヒドロキシジベンゾイルメ
   タンとの４−N,N−（２−エチルヘキシル）メチルアミ
   ノ安息香酸エステル、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノ
   ンとの４−N,N−ジメチルアミノ安息香酸エステル、４
   −ヒドロキシジベンゾイルメタンとのN,N−ジ−（２−
   エチルヘキシル）−４−アミノ安息香酸エステル、及び
   2,4−シヒドロキシベンゾフェノンと４−N,N−（２−エ
   チルヘキシル）メチルアミノ安息香酸エステルよりなる
   群から選ばれる特許請求の範囲第１項記載の日焼け止め
   剤。