JP2671030B2 - エポキシ基を有するオルガノシロキサン化合物 - Google Patents
エポキシ基を有するオルガノシロキサン化合物Info
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- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
- C08G77/382—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
- C08G77/385—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing halogens
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、合成樹脂の改質に好適な新規なオルガノシ
ロキサン化合物に関する。
ロキサン化合物に関する。
従来より、シロキサン化合物の持つ撥水性、離型性、
防汚性などの界面特性や耐熱性等の諸特性を合成樹脂成
型品に付与する目的で、シリコーン樹脂が使われてき
た。これらのシリコーン樹脂は、主として直鎖のポリシ
ロキサン化合物が用いられ、分子内に合成樹脂との反応
性基を持たないものはブレンドにより、反応性基を持つ
たものは化学結合によつて合成樹脂へ導入されてきた。
なかでも合成樹脂改質で最近注目されつつあるグラフト
ポリマーの原料となるポリシロキサン化合物には、片側
末端にのみ反応性基を有し他末端をトリメチルシロキシ
基で連鎖停止したいわゆる片末端変性ポリシロキサン化
合物が用いられてきた。
防汚性などの界面特性や耐熱性等の諸特性を合成樹脂成
型品に付与する目的で、シリコーン樹脂が使われてき
た。これらのシリコーン樹脂は、主として直鎖のポリシ
ロキサン化合物が用いられ、分子内に合成樹脂との反応
性基を持たないものはブレンドにより、反応性基を持つ
たものは化学結合によつて合成樹脂へ導入されてきた。
なかでも合成樹脂改質で最近注目されつつあるグラフト
ポリマーの原料となるポリシロキサン化合物には、片側
末端にのみ反応性基を有し他末端をトリメチルシロキシ
基で連鎖停止したいわゆる片末端変性ポリシロキサン化
合物が用いられてきた。
しかしながら、合成樹脂の特性改善を目的としてシロ
キサン化合物を使用する場合、最近のより高度な機能特
性の要求に対し、これまでのポリシロキサン化合物は合
成樹脂の特性の改良をポリシロキサンを持つ機能に頼つ
ていたため、十分な特性改善が得られなかつたり、目的
の特性を得るために大きな割合のポリシロキサン化合物
の添加を要し、他の物性への悪影響が生じるといつた問
題点があつた。特に両末端が同一置換基で構成された、
いわゆる両末端変性ポリシロキサンでは、両末端の置換
基が目的合成樹脂との反応性基ではない場合、ブリード
現象のためシロキサン化合物の添加量をあげられない
上、経時後の変化が著しく目的特性を長期に維持できな
いという欠点があつた。また、両末端に目的合成樹脂と
の反応性基を持つたものでも合成樹脂の表面改質に用い
た場合、目的特性を得るために大きな割合の添加量を必
要とし、このために他の物性の低下が著しいという問題
があつた。さらに、これら両末端変性ポリシロキサン化
合物では合成樹脂の表面改質等に注目されつつあるグラ
フトポリマーに用いることは困難であるといつた欠点が
あつた。
キサン化合物を使用する場合、最近のより高度な機能特
性の要求に対し、これまでのポリシロキサン化合物は合
成樹脂の特性の改良をポリシロキサンを持つ機能に頼つ
ていたため、十分な特性改善が得られなかつたり、目的
の特性を得るために大きな割合のポリシロキサン化合物
の添加を要し、他の物性への悪影響が生じるといつた問
題点があつた。特に両末端が同一置換基で構成された、
いわゆる両末端変性ポリシロキサンでは、両末端の置換
基が目的合成樹脂との反応性基ではない場合、ブリード
現象のためシロキサン化合物の添加量をあげられない
上、経時後の変化が著しく目的特性を長期に維持できな
いという欠点があつた。また、両末端に目的合成樹脂と
の反応性基を持つたものでも合成樹脂の表面改質に用い
た場合、目的特性を得るために大きな割合の添加量を必
要とし、このために他の物性の低下が著しいという問題
があつた。さらに、これら両末端変性ポリシロキサン化
合物では合成樹脂の表面改質等に注目されつつあるグラ
フトポリマーに用いることは困難であるといつた欠点が
あつた。
片末端変性ポリシロキサン化合物においても、合成樹
脂との反応性基を持たない方の分子鎖末端はトリメチル
シロキシ基で構成されているのが一般的で、特性改善を
シロキサン化合物の持つ特性に頼つていたため、上記の
ようにより優れた機能特性の要求に対しては、十分な特
性改善が得られなかつたり、目的の特性を得るために大
きな割合のポリシロキサン化合物の添加を要し、他の物
性への悪影響が生じるといつた問題点があつた。さら
に、撥油性という特性面では、末端をトリメチルシロキ
シ基で連鎖停止したジメチルシロキサンのみの化合物で
はほとんど改善が得られない。
脂との反応性基を持たない方の分子鎖末端はトリメチル
シロキシ基で構成されているのが一般的で、特性改善を
シロキサン化合物の持つ特性に頼つていたため、上記の
ようにより優れた機能特性の要求に対しては、十分な特
性改善が得られなかつたり、目的の特性を得るために大
きな割合のポリシロキサン化合物の添加を要し、他の物
性への悪影響が生じるといつた問題点があつた。さら
に、撥油性という特性面では、末端をトリメチルシロキ
シ基で連鎖停止したジメチルシロキサンのみの化合物で
はほとんど改善が得られない。
本発明の目的は、以上のような問題点を改良するのに
特に優れた、分子鎖末端にフルオロアルキル基を有する
部分と他の分子鎖末端に目的合成樹脂との反応性基を有
する部分とを同一分子内に合わせ持つ新規なオルガノシ
ロキサン化合物を提供しようとするものである。
特に優れた、分子鎖末端にフルオロアルキル基を有する
部分と他の分子鎖末端に目的合成樹脂との反応性基を有
する部分とを同一分子内に合わせ持つ新規なオルガノシ
ロキサン化合物を提供しようとするものである。
本発明者等は、上記の目的を達成するために鋭意研究
した結果、α位にフツ素原子含有置換基を有しω位にエ
ポキシ結合を持つ置換基を有するオルガノシロキサン化
合物、α，α′位にフツ素原子含有置換基を有しω位に
エポキシ結合を持つ置換基を有するオルガノシロキサン
化合物およびα，α′，α″位にフツ素原子含有置換基
を有しω位にエポキシ結合を持つ置換基を有するオルガ
ノシロキサン化合物を完成させ本発明に到達した。
した結果、α位にフツ素原子含有置換基を有しω位にエ
ポキシ結合を持つ置換基を有するオルガノシロキサン化
合物、α，α′位にフツ素原子含有置換基を有しω位に
エポキシ結合を持つ置換基を有するオルガノシロキサン
化合物およびα，α′，α″位にフツ素原子含有置換基
を有しω位にエポキシ結合を持つ置換基を有するオルガ
ノシロキサン化合物を完成させ本発明に到達した。
すなわち、第１の発明は、一般式が（Ｉ） 〔一般式（Ｉ）において、ｊは２〜2000の整数を表わ
し、R1はペンタフルオロフエニル基または下記式（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中、ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数
を表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオ
ロアルキル基である置換基を表わし、R2は下記式（II
I） （式中ｃは１〜５の整数を表わす。） もしくは下記式（IV） で示される置換基を表わし、R3およびR4はそれぞれ炭素
原子数１〜４のアルキル基またはフエニル基を表わ
す。〕で示されるオルガノシロキサン化合物である。
し、R1はペンタフルオロフエニル基または下記式（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中、ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数
を表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオ
ロアルキル基である置換基を表わし、R2は下記式（II
I） （式中ｃは１〜５の整数を表わす。） もしくは下記式（IV） で示される置換基を表わし、R3およびR4はそれぞれ炭素
原子数１〜４のアルキル基またはフエニル基を表わ
す。〕で示されるオルガノシロキサン化合物である。
第２の発明は、上記１の発明において一般式（Ｉ）中
のR1で示される置換基が、3,3,3−トリフルオロプロピ
ル基、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオ
クチル基またはヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラ
ハイドロデシル基であるオルガノシロキサン化合物であ
る。
のR1で示される置換基が、3,3,3−トリフルオロプロピ
ル基、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオ
クチル基またはヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラ
ハイドロデシル基であるオルガノシロキサン化合物であ
る。
第３の発明は一般式が（Ｖ） 〔一般式（Ｖ）において、ｋおよびｌは２〜2000の整数
を表わし、R5およびR6はそれぞれ、炭素原子数１〜４の
アルキル基、ペンタフルオロフエニル基または下記式
（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中、ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数
を表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオ
ロアルキル基である置換基を表わし、R5及びR6のうち少
なくとも１つは前記置換基のうちフツ素含有置換基であ
り、R2は下記式（III） （式中ｃは１〜５の整数を表わす。） もしくは下記式（IV） で示される置換基を表わし、R7は炭素原子数１〜４のア
ルキル基またはフエニル基を表わす。〕で示され、フツ
素原子含有置換基を分子内に少なくとも１個以上持つオ
ルガノシロキサン化合物である。
を表わし、R5およびR6はそれぞれ、炭素原子数１〜４の
アルキル基、ペンタフルオロフエニル基または下記式
（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中、ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数
を表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオ
ロアルキル基である置換基を表わし、R5及びR6のうち少
なくとも１つは前記置換基のうちフツ素含有置換基であ
り、R2は下記式（III） （式中ｃは１〜５の整数を表わす。） もしくは下記式（IV） で示される置換基を表わし、R7は炭素原子数１〜４のア
ルキル基またはフエニル基を表わす。〕で示され、フツ
素原子含有置換基を分子内に少なくとも１個以上持つオ
ルガノシロキサン化合物である。
第４の発明は、上記第３の発明において、一般式
（Ｖ）中のR5およびR6で示される置換基がそれぞれ、炭
素原子数１〜４のアルキル基、3,3,3−トリフルオロプ
ロピル基、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイド
ロオクチル基またはヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テ
トラハイドロデシル基であり、R5およびR6のうちの少な
くとも１つは前記置換基のうちフツ素含有置換基である
オルガノシロキサン化合物である。
（Ｖ）中のR5およびR6で示される置換基がそれぞれ、炭
素原子数１〜４のアルキル基、3,3,3−トリフルオロプ
ロピル基、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイド
ロオクチル基またはヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テ
トラハイドロデシル基であり、R5およびR6のうちの少な
くとも１つは前記置換基のうちフツ素含有置換基である
オルガノシロキサン化合物である。
第５の発明は、一般式が（VI） 〔一般式（VI）において、ｍ、ｎおよびｐはそれぞれ２
〜2000の整数を表わし、R8、R9およびR10はそれぞれ、
炭素原子数１〜４のアルキル基、ペンタフルオロフエニ
ル基または下記式（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中、ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数
を表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオ
ロアルキル基である置換基を表わし、R8、R9およびR10
のうち少なくとも１つは前記置換基のうちフツ素含有置
換基であり、R2は下記式（III） （式中ｃは１〜５の整数を表わす。） もしくは下記式（IV） で示される置換基を表わす。〕で示されるオルガノシロ
キサン化合物である。
〜2000の整数を表わし、R8、R9およびR10はそれぞれ、
炭素原子数１〜４のアルキル基、ペンタフルオロフエニ
ル基または下記式（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中、ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数
を表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオ
ロアルキル基である置換基を表わし、R8、R9およびR10
のうち少なくとも１つは前記置換基のうちフツ素含有置
換基であり、R2は下記式（III） （式中ｃは１〜５の整数を表わす。） もしくは下記式（IV） で示される置換基を表わす。〕で示されるオルガノシロ
キサン化合物である。
第６の発明は、上記第５の発明において、一般式（V
I）中のR8、R9およびR10で示される置換基がそれぞれ、
炭素原子数１〜４のアルキル基、3,3,3−トリフルオロ
プロピル基、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基またはヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−
テトラハイドロデシル基であり、R8、R9およびR10のう
ち少なくとも１つは前記置換基のうちフツ素含有置換基
であるオルガノシロキサン化合物である。
I）中のR8、R9およびR10で示される置換基がそれぞれ、
炭素原子数１〜４のアルキル基、3,3,3−トリフルオロ
プロピル基、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基またはヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−
テトラハイドロデシル基であり、R8、R9およびR10のう
ち少なくとも１つは前記置換基のうちフツ素含有置換基
であるオルガノシロキサン化合物である。
本発明の上記第１の発明の一般式（Ｉ）、第３の発明
の一般式（Ｖ）および第５の発明の一般式（VI）で示さ
れるオルガノシロキサン化合物は、一般式からも明らか
なように、一分子内に末端エポキシ結合含有置換基の部
分と他端にフツ素原子を含有する置換基の部分とを同時
に有することを特徴としている。これは、一般式（Ｉ）
におけるｊ、一般式（Ｖ）におけるｋおよびｌ、また、
一般式（VI）におけるｍ、ｎおよびｐの値が大きな高分
子量のポリマーとなつた場合でも同様で、ポリマーを構
成する分子それぞれ同一分子内に末端エポキシ結合含有
置換基の部分と他端にフツ素原子を含有する置換基の部
分とを有し、さらに、必要に応じてポリマーの分散度が
1.1〜1.2と分子量分布が非常によく制御されていること
を特徴としている。
の一般式（Ｖ）および第５の発明の一般式（VI）で示さ
れるオルガノシロキサン化合物は、一般式からも明らか
なように、一分子内に末端エポキシ結合含有置換基の部
分と他端にフツ素原子を含有する置換基の部分とを同時
に有することを特徴としている。これは、一般式（Ｉ）
におけるｊ、一般式（Ｖ）におけるｋおよびｌ、また、
一般式（VI）におけるｍ、ｎおよびｐの値が大きな高分
子量のポリマーとなつた場合でも同様で、ポリマーを構
成する分子それぞれ同一分子内に末端エポキシ結合含有
置換基の部分と他端にフツ素原子を含有する置換基の部
分とを有し、さらに、必要に応じてポリマーの分散度が
1.1〜1.2と分子量分布が非常によく制御されていること
を特徴としている。
一般式（Ｉ）におけるｊ、一般式（Ｖ）におけるｋお
よびｌ、また一般式（VI）におけるｍ、ｎおよびｐは、
ポリジメチルシロキサン直鎖部のジメチルシロキサンユ
ニツトの個数をあらわし、その範囲は、合成樹脂へ導入
した場合にポリジメチルシロキサンの持つ機能特性の明
確な発現を得るためと合成樹脂への導入の容易性および
合成の容易性から範囲をそれぞれ２〜2000とするのがよ
い。
よびｌ、また一般式（VI）におけるｍ、ｎおよびｐは、
ポリジメチルシロキサン直鎖部のジメチルシロキサンユ
ニツトの個数をあらわし、その範囲は、合成樹脂へ導入
した場合にポリジメチルシロキサンの持つ機能特性の明
確な発現を得るためと合成樹脂への導入の容易性および
合成の容易性から範囲をそれぞれ２〜2000とするのがよ
い。
また、上記第１の発明の一般式（Ｉ）、第３の発明の
一般式（Ｖ）および第５の発明の一般式（VI）で示され
る本発明のオルガノシロキサン化合物を合成樹脂に導入
する場合は、目的とする合成樹脂の種類、重合体の特性
や要求される機能によつても違つてくるが、通常、一般
式（Ｉ）、一般式（Ｖ）および一般式（VI）における
ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、ｎおよびｐの値でそれぞれ七百以上の
物を最も好ましく用いることができる。
一般式（Ｖ）および第５の発明の一般式（VI）で示され
る本発明のオルガノシロキサン化合物を合成樹脂に導入
する場合は、目的とする合成樹脂の種類、重合体の特性
や要求される機能によつても違つてくるが、通常、一般
式（Ｉ）、一般式（Ｖ）および一般式（VI）における
ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、ｎおよびｐの値でそれぞれ七百以上の
物を最も好ましく用いることができる。
また、上記第１の発明、第３の発明、および第５の発
明における式（II）で示されるフルオロアルキル基は、
原料入手の容易性、フルオロアルキル基の持つ機能の効
果的な発現および合成の容易性からａの範囲を３〜18と
するのがよい。
明における式（II）で示されるフルオロアルキル基は、
原料入手の容易性、フルオロアルキル基の持つ機能の効
果的な発現および合成の容易性からａの範囲を３〜18と
するのがよい。
また、上記第１の発明、第３の発明、および第５の発
明における式（III）で示される置換基は、原料入手の
容易性、機能性および合成の容易性からｃの範囲を１〜
５とするのがよい。
明における式（III）で示される置換基は、原料入手の
容易性、機能性および合成の容易性からｃの範囲を１〜
５とするのがよい。
本発明のオルガノシロキサン化合物は、エポキシ結合
含有置換基を基準としたシロキサン鎖の本数が、上記第
１の発明の一般式（Ｉ）で示される１本、第３の発明の
一般式（Ｖ）で示される２本および第５の発明の一般式
（VI）で示される３本と、３種類の構造があることを特
徴としており、目的とする合成樹脂や付与したい機能特
性に合わせて任意の構造のものを選択し、これらを単独
もしくは混合して用いることができる。
含有置換基を基準としたシロキサン鎖の本数が、上記第
１の発明の一般式（Ｉ）で示される１本、第３の発明の
一般式（Ｖ）で示される２本および第５の発明の一般式
（VI）で示される３本と、３種類の構造があることを特
徴としており、目的とする合成樹脂や付与したい機能特
性に合わせて任意の構造のものを選択し、これらを単独
もしくは混合して用いることができる。
さらに、上記第３の発明の一般式（Ｖ）および第５の
発明の一般式（VI）で示された、エポキシ結合含有置換
基を基準としたシロキサン鎖本数が２本および３本の場
合のそれぞれのシロキサン鎖長は、グラフトポリマーと
して合成樹脂の改質に使用する多くの場合は、それぞれ
のシロキサン鎖長が同じものが好ましいが、目的によつ
てはそれぞれ違つた分子鎖長を設定することもできる。
また、上記第３の発明の一般式（Ｖ）中のR5およびR6、
第５の発明の一般式（VI）中のR8、R9およびR10で示さ
れる置換基もエポキシ結合含有置換基を基準とした分子
鎖本数が２本および３本の場合で、それぞれ違つた置換
基を導入することもできる。ただ、合成樹脂に特殊な機
能を付与する必要がある場合や特性をより細かくコント
ロールする必要がある場合以外は、製造工程が増え合成
条件の許容範囲が狭くなるため、それぞれ同一のシロキ
サン鎖長およびそれぞれ同一の置換基を持つ化合物とす
るのが好ましい。
発明の一般式（VI）で示された、エポキシ結合含有置換
基を基準としたシロキサン鎖本数が２本および３本の場
合のそれぞれのシロキサン鎖長は、グラフトポリマーと
して合成樹脂の改質に使用する多くの場合は、それぞれ
のシロキサン鎖長が同じものが好ましいが、目的によつ
てはそれぞれ違つた分子鎖長を設定することもできる。
また、上記第３の発明の一般式（Ｖ）中のR5およびR6、
第５の発明の一般式（VI）中のR8、R9およびR10で示さ
れる置換基もエポキシ結合含有置換基を基準とした分子
鎖本数が２本および３本の場合で、それぞれ違つた置換
基を導入することもできる。ただ、合成樹脂に特殊な機
能を付与する必要がある場合や特性をより細かくコント
ロールする必要がある場合以外は、製造工程が増え合成
条件の許容範囲が狭くなるため、それぞれ同一のシロキ
サン鎖長およびそれぞれ同一の置換基を持つ化合物とす
るのが好ましい。
本発明の上記第１の発明の一般式（Ｉ）、第３の発明
の一般式（Ｖ）および第５の発明の一般式（VI）で示さ
れるオルガノシロキサン化合物は、分子の片側末端に存
在するエポキシ基をこれと反応可能なエポキシ樹脂、ポ
リアミド、ポリウレタンなどの合成樹脂へ反応させ、化
学結合により組み込むことで合成樹脂の特性改善に有用
なシロキサン化合物として用いることができ、とくに、
合成樹脂の表面改質に優れた効果を得ることができる。
の一般式（Ｖ）および第５の発明の一般式（VI）で示さ
れるオルガノシロキサン化合物は、分子の片側末端に存
在するエポキシ基をこれと反応可能なエポキシ樹脂、ポ
リアミド、ポリウレタンなどの合成樹脂へ反応させ、化
学結合により組み込むことで合成樹脂の特性改善に有用
なシロキサン化合物として用いることができ、とくに、
合成樹脂の表面改質に優れた効果を得ることができる。
本発明の化合物の製造方法を簡単に説明する。
（１） エポキシ結合含有置換基を基準としたシロキサ
ン鎖の本数が１本の本発明のオルガノシロキサン化合物 まず、目的とするフツ素原子含有置換基を有するジメ
チルシラノールを開始剤とし、0.05〜50モル％のリチウ
ム系触媒の存在下でヘキサメチルシクロトリシロキサン
を活性水素を有しない極性溶媒中でアニオンリビング重
合させたのちジアルキルクロロシランで連鎖停止するこ
とにより、α末端にフツ素原子含有置換基を、ω末端に
ヒドロシリル基を持つジメチルシロキサン化合物（VI
I）を得る。
ン鎖の本数が１本の本発明のオルガノシロキサン化合物 まず、目的とするフツ素原子含有置換基を有するジメ
チルシラノールを開始剤とし、0.05〜50モル％のリチウ
ム系触媒の存在下でヘキサメチルシクロトリシロキサン
を活性水素を有しない極性溶媒中でアニオンリビング重
合させたのちジアルキルクロロシランで連鎖停止するこ
とにより、α末端にフツ素原子含有置換基を、ω末端に
ヒドロシリル基を持つジメチルシロキサン化合物（VI
I）を得る。
上記の操作によつて得られたシロキサン化合物（VI
I）と、式（VIII）もしくは式（IX）で示される化合物
を触媒の存在下にヒドロシリル化反応を行うことで目的
とする式（Ｉ）のオルガノシロキサン化合物を得る。以
下に上記反応の式を示す。
I）と、式（VIII）もしくは式（IX）で示される化合物
を触媒の存在下にヒドロシリル化反応を行うことで目的
とする式（Ｉ）のオルガノシロキサン化合物を得る。以
下に上記反応の式を示す。
｛式中、ｊは２〜2000の整数を表わし、ｄは０〜４の整
数を表わし、R1はペンタフルオロフエニル基、または下
記式（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中、ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数
を表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオ
ロアルキル基である置換基を表わし、R2は下記式（II
I） （式中ｃは１〜５の整数を表わす。） もしくは下記式（IV） で示される置換基を表わし、R3およびR4はそれぞれ炭素
原子数１〜４のアルキル基またはフエニル基を表わ
す。｝ （２） エポキシ結合含有置換基を基準としたシロキサ
ン鎖の本数が２本の本発明のオルガノシロキサン化合
物。
数を表わし、R1はペンタフルオロフエニル基、または下
記式（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中、ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数
を表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオ
ロアルキル基である置換基を表わし、R2は下記式（II
I） （式中ｃは１〜５の整数を表わす。） もしくは下記式（IV） で示される置換基を表わし、R3およびR4はそれぞれ炭素
原子数１〜４のアルキル基またはフエニル基を表わ
す。｝ （２） エポキシ結合含有置換基を基準としたシロキサ
ン鎖の本数が２本の本発明のオルガノシロキサン化合
物。
まず、目的とするフツ素原子含有置換基を有するジメ
チルシラノール又はこれとフツ素原子を含まない置換基
を有するジメチルシラノールの混合物を開始剤とし、0.
05〜50モル％のリチウム系触媒の存在下でヘキサメチル
シクロトリシロキサンを活性水素を有しない極性溶媒中
でアニオンリビング重合させたのちモノアルキルジクロ
ロシランで連鎖停止することにより、α，α′末端の少
なくとも１つにフツ素原子含有置換基を、ω末端にヒド
ロシリル基を持つジメチルシロキサン化合物（Ｘ）を得
る。
チルシラノール又はこれとフツ素原子を含まない置換基
を有するジメチルシラノールの混合物を開始剤とし、0.
05〜50モル％のリチウム系触媒の存在下でヘキサメチル
シクロトリシロキサンを活性水素を有しない極性溶媒中
でアニオンリビング重合させたのちモノアルキルジクロ
ロシランで連鎖停止することにより、α，α′末端の少
なくとも１つにフツ素原子含有置換基を、ω末端にヒド
ロシリル基を持つジメチルシロキサン化合物（Ｘ）を得
る。
上記の操作によつて得られたシロキサン化合物（Ｘ）
と式（VIII）もしくは式（IX）で示される化合物を触媒
の存在下にヒドロシリル化反応を行うことで式（Ｖ）の
目的オルガノシロキサン化合物を得る。
と式（VIII）もしくは式（IX）で示される化合物を触媒
の存在下にヒドロシリル化反応を行うことで式（Ｖ）の
目的オルガノシロキサン化合物を得る。
以下に式を示す。
｛式中、ｋおよびｌは２〜2000の整数を表わし、ｄは０
〜４の整数を表わし、R5およびR6はそれぞれ、炭素原子
数１〜４のアルキル基、ペンタフルオロフエニル基、ま
たは下記式（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中、ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数
を表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオ
ロアルキル基である置換基を表わし、R5及びR6のうち少
なくとも１つは前記置換基のうちフツ素含有置換基であ
り、R2は下記式（III） （式中ｃは１〜５の整数を表わす。） もしくは下記式（IV） で示される置換基を表わし、R7は炭素原子数１〜４のア
ルキル基またはフエニル基を表わす。｝ （３） エポキシ結合含有置換基を基準としたシロキサ
ン鎖の本数が３本の本発明のオルガノシロキサン化合物 まず、目的とするフツ素原子含有置換基を有するジメ
チルシラノール又はこれとフツ素原子を含まない置換基
を有するジメチルシラノールの混合物を開始剤とし、0.
05〜50モル％のリチウム系触媒の存在下でヘキサメチル
シクロトリシロキサンを活性水素を有しない極性溶媒中
でアニオンリビング重合させたのちトリクロロシランで
連鎖停止することにより、α、α′、α″末端の少なく
とも１つにフツ素原子含有置換基を、ω末端にヒドロシ
リル基を持つジメチルシロキサン化合物（XI）を得る。
〜４の整数を表わし、R5およびR6はそれぞれ、炭素原子
数１〜４のアルキル基、ペンタフルオロフエニル基、ま
たは下記式（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中、ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数
を表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオ
ロアルキル基である置換基を表わし、R5及びR6のうち少
なくとも１つは前記置換基のうちフツ素含有置換基であ
り、R2は下記式（III） （式中ｃは１〜５の整数を表わす。） もしくは下記式（IV） で示される置換基を表わし、R7は炭素原子数１〜４のア
ルキル基またはフエニル基を表わす。｝ （３） エポキシ結合含有置換基を基準としたシロキサ
ン鎖の本数が３本の本発明のオルガノシロキサン化合物 まず、目的とするフツ素原子含有置換基を有するジメ
チルシラノール又はこれとフツ素原子を含まない置換基
を有するジメチルシラノールの混合物を開始剤とし、0.
05〜50モル％のリチウム系触媒の存在下でヘキサメチル
シクロトリシロキサンを活性水素を有しない極性溶媒中
でアニオンリビング重合させたのちトリクロロシランで
連鎖停止することにより、α、α′、α″末端の少なく
とも１つにフツ素原子含有置換基を、ω末端にヒドロシ
リル基を持つジメチルシロキサン化合物（XI）を得る。
上記の操作によつて得られたシロキサン化合物（XI）
と式（VIII）もしくは式（IX）で示される化合物を触媒
の存在下にヒドロシリル化反応を行うことで式（VI）の
目的オルガノシロキサン化合物を得る。
と式（VIII）もしくは式（IX）で示される化合物を触媒
の存在下にヒドロシリル化反応を行うことで式（VI）の
目的オルガノシロキサン化合物を得る。
以下に式を示す。
｛式中のｍ、ｎおよびｐはそれぞれ２〜2000の整数を表
わし、R8、R9およびR10はそれぞれ、炭素原子数１〜４
のアルキル基、ペンタフルオロフエニル基または下記式
（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中、ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数
を表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオ
ロアルキル基である置換基を表わし、R8、R9およびR10
のうち少なくとも１つは前記置換基のうちフツ素含有置
換基であり、R2は下記式（III） （式中ｃは１〜５の整数を表わす。） もしくは下記式（IV） で示される置換基を表わす。｝ エポキシ結合含有置換基を基準としたシロキサン鎖の
本数が１本、２本および３本の本発明のオルガノシロキ
サン化合物の製造においての、分子量及び分子量分布の
制御は、上記の製造方法の例によれば、式（VII）、式
（Ｘ）および式（XI）で示されるシロキサン化合物によ
つて決定され、この場合、分子量は開始剤であるシラノ
ールとヘキサメチルシクロトリシロキサンの割合を変え
ることにより容易にコントロールできる。シロキサン鎖
１本当りの数平均分子量が約15万以下のもの（シロキサ
ンユニツトの個数で2000以下）であれば自由に目的とす
る分子量のシロキサン化合物を合成でき、これ以上の分
子量のものでも重合条件を変えることにより調整可能で
ある。
わし、R8、R9およびR10はそれぞれ、炭素原子数１〜４
のアルキル基、ペンタフルオロフエニル基または下記式
（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中、ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数
を表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオ
ロアルキル基である置換基を表わし、R8、R9およびR10
のうち少なくとも１つは前記置換基のうちフツ素含有置
換基であり、R2は下記式（III） （式中ｃは１〜５の整数を表わす。） もしくは下記式（IV） で示される置換基を表わす。｝ エポキシ結合含有置換基を基準としたシロキサン鎖の
本数が１本、２本および３本の本発明のオルガノシロキ
サン化合物の製造においての、分子量及び分子量分布の
制御は、上記の製造方法の例によれば、式（VII）、式
（Ｘ）および式（XI）で示されるシロキサン化合物によ
つて決定され、この場合、分子量は開始剤であるシラノ
ールとヘキサメチルシクロトリシロキサンの割合を変え
ることにより容易にコントロールできる。シロキサン鎖
１本当りの数平均分子量が約15万以下のもの（シロキサ
ンユニツトの個数で2000以下）であれば自由に目的とす
る分子量のシロキサン化合物を合成でき、これ以上の分
子量のものでも重合条件を変えることにより調整可能で
ある。
このアニオン重合の開始剤として使用するシラノール
は、目的とするフツ素含有置換基等を含有するモノクロ
ロシランを加水分解することにより容易に入手できる。
これらのトリ有機基置換クロロシランの例としては、ト
リメチルクロロシラン、エチルジメチルクロロシラン、
ｎ−ブチルジメチルクロロシラン、ｔ−ブチルジメチル
クロロシラン、イソプロピルジメチルクロロシラン、ｎ
−プロピルジメチルクロロシラン、ペンタフルオロフエ
ニルジメチルクロロシラン、3,3,3−トリフルオロプロ
ピルジメチルクロロシラン、（トリデカフルオロ−1,1,
2,2−テトラハイドロオクチル）ジメチルクロロシラ
ン、（ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロ
デシル）ジメチルクロロシラン等がある。
は、目的とするフツ素含有置換基等を含有するモノクロ
ロシランを加水分解することにより容易に入手できる。
これらのトリ有機基置換クロロシランの例としては、ト
リメチルクロロシラン、エチルジメチルクロロシラン、
ｎ−ブチルジメチルクロロシラン、ｔ−ブチルジメチル
クロロシラン、イソプロピルジメチルクロロシラン、ｎ
−プロピルジメチルクロロシラン、ペンタフルオロフエ
ニルジメチルクロロシラン、3,3,3−トリフルオロプロ
ピルジメチルクロロシラン、（トリデカフルオロ−1,1,
2,2−テトラハイドロオクチル）ジメチルクロロシラ
ン、（ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロ
デシル）ジメチルクロロシラン等がある。
また、本発明の化合物を合成するとき用いるリチウム
系触媒としては、金属リチウム、ブチルリチウム、水酸
化リチウムもしくは次式で表わされるリチウムトリ有機
基置換シラノレート等を挙げることができ、これらの２
種類以上を混合物として用いることもできる。
系触媒としては、金属リチウム、ブチルリチウム、水酸
化リチウムもしくは次式で表わされるリチウムトリ有機
基置換シラノレート等を挙げることができ、これらの２
種類以上を混合物として用いることもできる。
｛式中R11、R12およびR13は、炭素原子数１〜４のアル
キル基、フエニル基、ペンタフルオロフエニル基または
式（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数を
表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオロ
アルキル基を表わす。｝ これらのリチウム系触媒以外のもの、例えばナトリウ
ム系触媒やカリウム系触媒等の他のアルカリ金属系化合
物でも反応は可能であるが、目的とするオルガノシロキ
サン化合物の収率が低く触媒として使用するには不適当
である。
キル基、フエニル基、ペンタフルオロフエニル基または
式（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数を
表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオロ
アルキル基を表わす。｝ これらのリチウム系触媒以外のもの、例えばナトリウ
ム系触媒やカリウム系触媒等の他のアルカリ金属系化合
物でも反応は可能であるが、目的とするオルガノシロキ
サン化合物の収率が低く触媒として使用するには不適当
である。
また、アニオン重合に用いる触媒量は重合開始剤であ
るトリ有機基置換シラノールに対して0.05〜50モル％の
範囲であることが望ましく、特に、0.05〜10モル％の範
囲が好ましい。これは、下限の0.05モル％未満では重合
速度が遅く実用的でなく、また、上限は、合成スケール
が小さい場合および高分子量のシロキサン化合物を合成
する場合で添加する触媒の絶対量が少なく計量が不正確
になるときは50モル％以下、通常は10モル％以下の使用
量が好ましい。50モル％を越え100モル％までの量をも
ちいても問題なく合成ができるが、危険な触媒を多量に
扱うことによる安全性や製造効率の低下および製造コス
トの上昇等のデメリツトがでてくるため、特に必要があ
る場合以外は好ましくない。
るトリ有機基置換シラノールに対して0.05〜50モル％の
範囲であることが望ましく、特に、0.05〜10モル％の範
囲が好ましい。これは、下限の0.05モル％未満では重合
速度が遅く実用的でなく、また、上限は、合成スケール
が小さい場合および高分子量のシロキサン化合物を合成
する場合で添加する触媒の絶対量が少なく計量が不正確
になるときは50モル％以下、通常は10モル％以下の使用
量が好ましい。50モル％を越え100モル％までの量をも
ちいても問題なく合成ができるが、危険な触媒を多量に
扱うことによる安全性や製造効率の低下および製造コス
トの上昇等のデメリツトがでてくるため、特に必要があ
る場合以外は好ましくない。
合成に際して用いる活性水素を有しない極性溶媒とし
ては、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシドが好適であり、これら２種類以上の混合物を
用いることもできるが、これらの中でもテトラヒドロフ
ランが特に好ましい。活性水素を有する溶媒では反応が
阻害され、非極性溶媒では反応がほとんど進行しないた
めこれらを反応溶媒として用いることはできない。
ては、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシドが好適であり、これら２種類以上の混合物を
用いることもできるが、これらの中でもテトラヒドロフ
ランが特に好ましい。活性水素を有する溶媒では反応が
阻害され、非極性溶媒では反応がほとんど進行しないた
めこれらを反応溶媒として用いることはできない。
反応温度は、０〜50℃の範囲が良く、特に15〜20℃の
範囲が好ましい。０℃以下では重合速度が遅くなり実用
的ではなく、50℃を越えると生成したポリシロキサンの
分子量分布が広くなり好ましくない。反応時間は反応温
度によつて異なるが、ヘキサメチルシクロトリシロキサ
ンが約95％消費された時点で反応を停止するのが好まし
く、反応温度15〜20℃の場合10〜20時間が適当である。
必要以上に反応時間を長くすることは、分子量分布が広
くなるため好ましくない。
範囲が好ましい。０℃以下では重合速度が遅くなり実用
的ではなく、50℃を越えると生成したポリシロキサンの
分子量分布が広くなり好ましくない。反応時間は反応温
度によつて異なるが、ヘキサメチルシクロトリシロキサ
ンが約95％消費された時点で反応を停止するのが好まし
く、反応温度15〜20℃の場合10〜20時間が適当である。
必要以上に反応時間を長くすることは、分子量分布が広
くなるため好ましくない。
また、ヒドロシリル化反応において、用いられる触媒
としては、一般に周期律表第VIII属の金属元素の錯化合
物を用いることができ、特に塩化白金酸、または白金も
しくはロジウムと各種オレフインとのコンプレツクスな
どが好ましく用いられ、その添加量は、塩化白金酸の場
合で上記式（VII）、式（Ｘ）および式（XI）で示され
るそれぞれのシロキサン化合物１モルに対して、触媒量
１×10-3モルから１×10-6モルの範囲を好ましく用いる
ことができる。１×10-3モル以上では触媒によりシロキ
サン鎖が切断される可能性が高くなる上、触媒費がかさ
む等のデメリツトが出てくる。１×10-6モル以下では、
微量の水分や妨害物質などの影響を受け易く反応がスム
ーズに進行しない場合が生じることがある。反応温度と
しては、50〜150℃が好ましく、80〜120℃が最も好まし
い。50℃以下では反応がスムーズに進行しなかつたり反
応時間が掛かりすぎる等の問題が生じることがあり、15
0℃以上ではシロキサン鎖の切断やエポキシ環の開環に
よる副反応が進行することがあり好ましくない。
としては、一般に周期律表第VIII属の金属元素の錯化合
物を用いることができ、特に塩化白金酸、または白金も
しくはロジウムと各種オレフインとのコンプレツクスな
どが好ましく用いられ、その添加量は、塩化白金酸の場
合で上記式（VII）、式（Ｘ）および式（XI）で示され
るそれぞれのシロキサン化合物１モルに対して、触媒量
１×10-3モルから１×10-6モルの範囲を好ましく用いる
ことができる。１×10-3モル以上では触媒によりシロキ
サン鎖が切断される可能性が高くなる上、触媒費がかさ
む等のデメリツトが出てくる。１×10-6モル以下では、
微量の水分や妨害物質などの影響を受け易く反応がスム
ーズに進行しない場合が生じることがある。反応温度と
しては、50〜150℃が好ましく、80〜120℃が最も好まし
い。50℃以下では反応がスムーズに進行しなかつたり反
応時間が掛かりすぎる等の問題が生じることがあり、15
0℃以上ではシロキサン鎖の切断やエポキシ環の開環に
よる副反応が進行することがあり好ましくない。
以上のようにして、α位にフツ素原子含有置換基を有
しω位にエポキシ結合含有置換基を有するオルガノシロ
キサン化合物、α、α′位の少なくとも１つにフツ素原
子含有置換基を有しω位にエポキシ結合含有置換基を有
するオルガノシロキサン化合物およびα、α′、α″位
の少なくとも１つにフツ素原子含有置換基を有しω位に
エポキシ結合含有置換基を有する新規オリガノシロキサ
ン化合物を得ることができるようになつた。
しω位にエポキシ結合含有置換基を有するオルガノシロ
キサン化合物、α、α′位の少なくとも１つにフツ素原
子含有置換基を有しω位にエポキシ結合含有置換基を有
するオルガノシロキサン化合物およびα、α′、α″位
の少なくとも１つにフツ素原子含有置換基を有しω位に
エポキシ結合含有置換基を有する新規オリガノシロキサ
ン化合物を得ることができるようになつた。
以下に実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明する
が、本発明はこれらの実施例によつて何ら限定されるも
のではない。
が、本発明はこれらの実施例によつて何ら限定されるも
のではない。
参考例１ １−（トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオ
クチル）−９−ヒドロデカメチルペンタシロキサンの製
造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン100mlと（トリ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチル）ジ
メチルシラノール100.0g（0.238モル）とヘキサメチル
シクロトリシロキサン52.9g（0.238モル）をN2気流下で
仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液（1.5モル／）
0.79mlを添加し、20℃で10時間重合させた。
クチル）−９−ヒドロデカメチルペンタシロキサンの製
造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン100mlと（トリ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチル）ジ
メチルシラノール100.0g（0.238モル）とヘキサメチル
シクロトリシロキサン52.9g（0.238モル）をN2気流下で
仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液（1.5モル／）
0.79mlを添加し、20℃で10時間重合させた。
次に、ジメチルクロロシラン24.7g（0.261モル）とト
リエチルアミン27gを加え１時間撹拌し重合を停止させ
た。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗によ
り除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。
リエチルアミン27gを加え１時間撹拌し重合を停止させ
た。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗によ
り除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/100mmHgの
条件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合
物をほぼ定量的な収率で得た。
条件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合
物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物の1H−NMRスペクトル、IR
スペクトル、GPC（ゲルパーミエーシヨンクロマトグラ
フイー）のそれぞれの分析結果およびSi−Ｈ基定量デー
タは下記の通りであり、次式の構造と確認された。
スペクトル、GPC（ゲルパーミエーシヨンクロマトグラ
フイー）のそれぞれの分析結果およびSi−Ｈ基定量デー
タは下記の通りであり、次式の構造と確認された。
1H−NMR（CDCl3）：δppm 0.18（Si（ＣＨ ３）2,s,30H） 0.53〜1.80（SiCＨ 2CＨ 2,broad,4H） 4.55（Si−Ｈ,m,1H） IR（KBr） 2970cm-1（Ｃ−Ｈ） 2250cm-1（Si−Ｈ） 1260cm-1（Si−CH3） 1250〜1150cm-1（CF2,CF3） 1120〜1050cm-1（Si−Ｏ） GPC（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量（Mn） 850 重量平均分子量（Mw） 930 分散度（Mw/Mn） 1.1 （なお、計算値による分子量は702） Si−Ｈ基の定量データ Ｈ〔ppm〕 1142〔ppm〕 Ｈ〔ppm〕よりの計算分子量 実施例１ １−（トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオ
クチル）−９−（３−グリシドキシプロピル）デカメチ
ルペンタシロキサンの製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに参考例１で得られた１−（トリデカフルオロ−1,1,
2,2−テトラハイドロオクチル）−９−ヒドロデカメチ
ルペンタシロキサン34.7gとトルエン50mlを仕込み110℃
に加熱する。塩化白金酸5.2×10-4g（1.0×10-6モル）
を添加したのちにアリルグリシジルエーテル6.28g（0.0
55モル）を滴下にて添加した。滴下終了後、反応温度11
0℃を保つたまま５時間熟成させた。
クチル）−９−（３−グリシドキシプロピル）デカメチ
ルペンタシロキサンの製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに参考例１で得られた１−（トリデカフルオロ−1,1,
2,2−テトラハイドロオクチル）−９−ヒドロデカメチ
ルペンタシロキサン34.7gとトルエン50mlを仕込み110℃
に加熱する。塩化白金酸5.2×10-4g（1.0×10-6モル）
を添加したのちにアリルグリシジルエーテル6.28g（0.0
55モル）を滴下にて添加した。滴下終了後、反応温度11
0℃を保つたまま５時間熟成させた。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/100mmHgの
条件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合
物をほぼ定量的な収率で得た。
条件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合
物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物の1H−NMRスペクトル、IR
スペクトル、GPC（ゲルパーミエーシヨンクロマトグラ
フイー）、粘度のそれぞれの分析結果およびエポキシ基
定量データは下記の通りであり、次式の構造と確認され
た。
スペクトル、GPC（ゲルパーミエーシヨンクロマトグラ
フイー）、粘度のそれぞれの分析結果およびエポキシ基
定量データは下記の通りであり、次式の構造と確認され
た。
1H−NMR（CDCl3）：δppm 0.18（Si（ＣＨ ３）2,s,30H） 0.53〜1.80（SiCＨ 2CＨ ２−,broad,8H） 3.20〜3.65（−ＣＨ ２−Ｏ−ＣＨ ２−,m,4H） IR（KBr） 2970cm-1（Ｃ−Ｈ） 1260cm-1（Si−CH3） 1250〜1150cm-1（CF2,CF3） 1120〜1050cm-1（Si−Ｏ） GPC（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量（Mn） 895 重量平均分子量（Mw） 1070 分散度（Mw/Mn） 1.2 （なお、計算値による分子量は816） エポキシ基の定量データ エポキシ酸素 1.80重量％ 粘度（25℃） 12センチポイズ 参考例２ α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオ
クチル基を、ω位にヒドロシリル基を有するジメチルシ
ロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた５三口丸底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン2000mlと（トリ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチル）ジ
メチルシラノール12.0g（0.0285モル）とヘキサメチル
シクロトリシロキサン1981.1g（8.90モル）をN2気流下
で仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液（1.5モル／
）0.095mlを添加し、20℃で20時間重合させた。
クチル基を、ω位にヒドロシリル基を有するジメチルシ
ロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた５三口丸底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン2000mlと（トリ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチル）ジ
メチルシラノール12.0g（0.0285モル）とヘキサメチル
シクロトリシロキサン1981.1g（8.90モル）をN2気流下
で仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液（1.5モル／
）0.095mlを添加し、20℃で20時間重合させた。
次に、ジメチルクロロシラン2.97g（0.0313モル）と
トリエチルアミン3.17gを加え１時間撹拌し重合を停止
させた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗
により除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条件
で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物を
ほぼ定量的な収率で得た。
トリエチルアミン3.17gを加え１時間撹拌し重合を停止
させた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗
により除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条件
で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物を
ほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC（ゲ
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびSi−Ｈ基定量データは下記の通り
であつた。
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびSi−Ｈ基定量データは下記の通り
であつた。
IR（KBr） 2970cm-1（Ｃ−Ｈ） 2250cm-1（Si−Ｈ） 1260cm-1（Si−CH3） 1250〜1150cm-1（CF2,CF3） 1120〜1050cm-1（Si−Ｏ） GPC（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量（Mn） 63410 重量平均分子量（Mw） 75930 分散度（Mw/Mn） 1.2 Si−Ｈ基の定量データ Ｈ〔ppm〕 15.1〔ppm〕 Ｈ〔ppm〕 66225 粘度（25℃） 3538センチポイズ 実施例２ α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオ
クチル基を、ω位に２−（７−オキサビシクロ−〔4,1,
0〕ヘプト−３−イル）エチル基を有するジメチルシロ
キサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた３三口丸底フラス
コに参考例２で得られたジメチルシロキサン化合物662.
2gとトルエン500mlを仕込み110℃に加熱する。塩化白金
酸5.2×10-4g（1.0×10-6モル）を添加したのちに３−
エテニル−７−オキサビシクロ〔4,1,0〕ヘプタン1.36g
（0.011モル）を滴下にて添加した。滴下終了後、反応
温度110℃を保つたまま20時間熟成させた。
クチル基を、ω位に２−（７−オキサビシクロ−〔4,1,
0〕ヘプト−３−イル）エチル基を有するジメチルシロ
キサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた３三口丸底フラス
コに参考例２で得られたジメチルシロキサン化合物662.
2gとトルエン500mlを仕込み110℃に加熱する。塩化白金
酸5.2×10-4g（1.0×10-6モル）を添加したのちに３−
エテニル−７−オキサビシクロ〔4,1,0〕ヘプタン1.36g
（0.011モル）を滴下にて添加した。滴下終了後、反応
温度110℃を保つたまま20時間熟成させた。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/100mmHgの
条件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合
物をほぼ定量的な収率で得た。
条件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合
物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC（ゲ
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびエポキシ基定量データは下記の通
りであつた。
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびエポキシ基定量データは下記の通
りであつた。
IR（KBr） 2970cm-1（Ｃ−Ｈ） 1260cm-1（Si−CH3） 1250〜1150cm-1（CF2,CF3） 1120〜1050cm-1（Si−Ｏ） GPC（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量（Mn） 64400 重量平均分子量（Mw） 74700 分散度（Mw/Mn） 1.2 エポキシ基の定量データ エポキシ酸素 0.024重量％ 粘度（25℃） 4260センチポイズ 参考例３ α位にヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロ
デシル基を、ω位にヒドロシリル基を有するジメチルシ
ロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた５三口丸底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン2000mlと（ヘプ
タデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロデシル）ジ
メチルシラノール100.0g（0.1915モル）とヘキサメチル
シクロトリシロキサン1803.6g（8.10モル）をN2気流下
で仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液（1.5モル／
）0.64mlを添加し、20℃で15時間重合させた。
デシル基を、ω位にヒドロシリル基を有するジメチルシ
ロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた５三口丸底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン2000mlと（ヘプ
タデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロデシル）ジ
メチルシラノール100.0g（0.1915モル）とヘキサメチル
シクロトリシロキサン1803.6g（8.10モル）をN2気流下
で仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液（1.5モル／
）0.64mlを添加し、20℃で15時間重合させた。
次に、ジメチルクロロシラン19.9g（0.211モル）とト
リエチルアミン21.4gを加え１時間撹拌し重合を停止さ
せた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗に
より除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。こ
うして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条件で
２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物をほ
ぼ定量的な収率で得た。
リエチルアミン21.4gを加え１時間撹拌し重合を停止さ
せた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗に
より除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。こ
うして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条件で
２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物をほ
ぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC（ゲ
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびSi−Ｈ基定量データは下記の通り
であつた。
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびSi−Ｈ基定量データは下記の通り
であつた。
IR（KBr） 2970cm-1（Ｃ−Ｈ） 2250cm-1（Si−Ｈ） 1260cm-1（Si−CH3） 1250〜1150cm-1（CF2,CF3） 1120〜1050cm-1（Si−Ｏ） GPC（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量（Mn） 11710 重量平均分子量（Mw） 12896 分散度（Mw/Mn） 1.1 Si−Ｈ基の定量データ Ｈ〔ppm〕 103.3〔ppm〕 Ｈ〔ppm〕よりの計算分子量 9680 粘度（25℃） 147センチポイズ 実施例３ α位にヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロ
デシル基を、ω位に２−（７−オキサビシクロ〔4,1,
0〕ヘプト−３−イル）エチル基を有するジメチルシロ
キサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに参考例３で得られたシロキサン化合物96.8gとトル
エン100mlを仕込み110℃に加熱する。塩化白金酸5.2×1
0-4g（1.0×10-6モル）を添加したのちに３−エテニル
−７−オキサビシクロ〔4,1,0〕ヘプタン1.36g（0.011
モル）を滴下にて添加した。滴下終了後、反応温度110
℃を保つたまま20時間熟成させた。
デシル基を、ω位に２−（７−オキサビシクロ〔4,1,
0〕ヘプト−３−イル）エチル基を有するジメチルシロ
キサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに参考例３で得られたシロキサン化合物96.8gとトル
エン100mlを仕込み110℃に加熱する。塩化白金酸5.2×1
0-4g（1.0×10-6モル）を添加したのちに３−エテニル
−７−オキサビシクロ〔4,1,0〕ヘプタン1.36g（0.011
モル）を滴下にて添加した。滴下終了後、反応温度110
℃を保つたまま20時間熟成させた。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条
件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物
をほぼ定量的な収率で得た。
件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物
をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GRC（ゲ
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびエポキシ基定量データは下記の通
りであつた。
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびエポキシ基定量データは下記の通
りであつた。
IR（KBr） 2970cm-1（Ｃ−Ｈ） 1260cm-1（Si−CH3） 1250〜1150cm-1（CF2,CF3） 1120〜1050cm-1（Si−Ｏ） GPC（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量（Mn） 11440 重量平均分子量（Mw） 13500 分散度（Mw/Mn） 1.2 エポキシ基の定量データ エポキシ酸素 0.017重量％ 粘度（25℃） 183センチポイズ 参考例４ α位に3,3,3−トリフルオロプロピル基を、ω位にヒド
ロシリル基を有するジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた２三口丸底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン800mlと（3,3,3
−トリフルオロプロピル）ジメチルシラノール10.0g
（0.0581モル）とヘキサメチルシクロトリシロキサン56
7.2g（2.55モル）をN2気流下で仕込み、ブチルリチウム
ヘキサン溶液（1.5モル／）0.19mlを添加し、20℃で1
5時間重合させた。
ロシリル基を有するジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた２三口丸底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン800mlと（3,3,3
−トリフルオロプロピル）ジメチルシラノール10.0g
（0.0581モル）とヘキサメチルシクロトリシロキサン56
7.2g（2.55モル）をN2気流下で仕込み、ブチルリチウム
ヘキサン溶液（1.5モル／）0.19mlを添加し、20℃で1
5時間重合させた。
次に、ジメチルクロロシラン6.04g（0.0639モル）と
トリエチルアミン6.5gを加え１時間撹拌し重合を停止さ
せた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗に
より除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。こ
うして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条件で
２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物をほ
ぼ定量的な収率で得た。
トリエチルアミン6.5gを加え１時間撹拌し重合を停止さ
せた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗に
より除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。こ
うして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条件で
２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物をほ
ぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GRC（ゲ
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびSi−Ｈ基定量データは下記の通り
であつた。
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびSi−Ｈ基定量データは下記の通り
であつた。
IR（KBr） 2970cm-1（Ｃ−Ｈ） 2250cm-1（Si−Ｈ） 1260cm-1（Si−CH3） 1250〜1150cm-1（CF2,CF3） 1120〜1050cm-1（Si−Ｏ） GPC（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量（Mn） 9520 重量平均分子量（Mw） 10490 分散度（Mw/Mn） 1.1 Si−Ｈ基の定量データ Ｈ〔ppm〕 112.5〔ppm〕 Ｈ〔ppm〕よりの計算分子量 8890 粘度（25℃） 116センチポイズ 実施例４ α位に3,3,3−トリフルオロプロピル基を、ω位に３−
グリシドキシプロピル基を有するジメチルシロキサン化
合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに参考例４で得られたシロキサン化合物88.9gとトル
エン50mlを仕込み110℃に加熱する。塩化白金酸5.2×10
-4g（1.0×10-6モル）を添加したのちにアリルグリシジ
ルエーテル1.26g（0.011モル）を滴下にて添加した。滴
下終了後、反応温度110℃を保つたまま20時間熟成させ
た。
グリシドキシプロピル基を有するジメチルシロキサン化
合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに参考例４で得られたシロキサン化合物88.9gとトル
エン50mlを仕込み110℃に加熱する。塩化白金酸5.2×10
-4g（1.0×10-6モル）を添加したのちにアリルグリシジ
ルエーテル1.26g（0.011モル）を滴下にて添加した。滴
下終了後、反応温度110℃を保つたまま20時間熟成させ
た。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条
件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物
をほぼ定量的な収率で得た。
件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物
をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GRC（ゲ
ルバーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびエポキシ基定量データは下記の通
りであつた。
ルバーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびエポキシ基定量データは下記の通
りであつた。
IR（KBr） 2970cm-1（Ｃ−Ｈ） 1260cm-1（Si−CH3） 1250〜1150cm-1（CF2,CF3） 1120〜1050cm-1（Si−Ｏ） GPC（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量（Mn） 11400 重量平均分子量（Mw） 12900 分散度（Mw/Mn） 1.1 エポキシ基の定量データ エポキシ酸素 0.016重量％ 粘度（25℃） 166センチポイズ 参考例５ α位にペンタフルオロフエニル基を、ω位にヒドロシリ
ル基を有するジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン100mlとペンタ
フルオロフエニルジメチルシラノール10.0g（0.04127モ
ル）とヘキサメチルシクロトリシロキサン194.0g（0.13
8モル）をN2気流下で仕込み、ブチルリチウムヘキサン
溶液（1.5モル）0.14mlを添加し、20℃で15時間重合
させた。
ル基を有するジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン100mlとペンタ
フルオロフエニルジメチルシラノール10.0g（0.04127モ
ル）とヘキサメチルシクロトリシロキサン194.0g（0.13
8モル）をN2気流下で仕込み、ブチルリチウムヘキサン
溶液（1.5モル）0.14mlを添加し、20℃で15時間重合
させた。
次に、ジメチルクロロシラン4.29g（0.0454モル）と
トリエチルアミン4.6gを加え１時間撹拌し重合を停止さ
せた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗に
より除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。こ
うして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条件で
２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物をほ
ぼ定量的な収率で得た。
トリエチルアミン4.6gを加え１時間撹拌し重合を停止さ
せた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗に
より除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。こ
うして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条件で
２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物をほ
ぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GRC（ゲ
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびSi−Ｈ基定量データは下記の通り
であつた。
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびSi−Ｈ基定量データは下記の通り
であつた。
IR（KBr） 2970cm-1（Ｃ−Ｈ） 2250cm-1（Si−Ｈ） 1260cm-1（Si−CH3） 1120〜1050cm-1（Si−Ｏ） GPC（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量（Mn） 5807 重量平均分子量（Mw） 6370 分散度（Mw/Mn） 1.1 Si−Ｈ基の定量データ Ｈ〔ppm〕 203.3〔ppm〕 Ｈ〔ppm〕よりの計算分子量 4920 粘度（25℃） 64センチポイズ 実施例５ α位にペンタフルオロフエニル基を、ω位に３−グリシ
ドキシプロピル基を有するジメチルシロキサン化合物の
製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに参考例５で得られたシロキサン化合物49.2gとトル
エン50mlを仕込み110℃に加熱する。塩化白金酸5.2×10
-4g（1.0×10-6モル）を添加したのちにアリルグリシジ
ルエーテル1.26g（0.011モル）を滴下にて添加した。滴
下終了後、反応温度110℃を保つたまま20時間熟成させ
た。
ドキシプロピル基を有するジメチルシロキサン化合物の
製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに参考例５で得られたシロキサン化合物49.2gとトル
エン50mlを仕込み110℃に加熱する。塩化白金酸5.2×10
-4g（1.0×10-6モル）を添加したのちにアリルグリシジ
ルエーテル1.26g（0.011モル）を滴下にて添加した。滴
下終了後、反応温度110℃を保つたまま20時間熟成させ
た。
こうして得られた反応物の低沸点を100℃/10mmHgの条
件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物
をほぼ定量的な収率で得た。
件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物
をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GRC（ゲ
ルバーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびエポキシ基定量データは下記の通
りであつた。
ルバーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびエポキシ基定量データは下記の通
りであつた。
IR（KBr） 2970cm-1（Ｃ−Ｈ） 1260cm-1（Si−CH3） 1250〜1150cm-1（CF2,CF3） 1120〜1050cm-1（Si−Ｏ） GPC（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量（Mn） 5740 重量平均分子量（Mw） 6430 分散度（Mw/Mn） 1.1 エポキシ基の定量データ エポキシ酸素 0.25重量％ 粘度（25℃） 91センチポイズ 参考例６ α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオ
クチル基を、ω位にヒドロシリル基を有するジメチルシ
ロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷均装置を取り付けた５三口丸底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン1000mlと（トリ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチル）ジ
メチルシラノール50.0g（0.119モル）とヘキサメチルシ
クロトリシロキサン1130.2g（5.08モル）をN2気流下で
仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液（1.5モル／）
0.40mlを添加し、20℃で15時間重合させた。
クチル基を、ω位にヒドロシリル基を有するジメチルシ
ロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷均装置を取り付けた５三口丸底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン1000mlと（トリ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチル）ジ
メチルシラノール50.0g（0.119モル）とヘキサメチルシ
クロトリシロキサン1130.2g（5.08モル）をN2気流下で
仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液（1.5モル／）
0.40mlを添加し、20℃で15時間重合させた。
次に、ジメチルクロロシラン12.35g（0.1306モル）と
トリエチルアミン14gを加え１時間撹拌し重合を停止さ
せた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗に
より除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。こ
うして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条件で
２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物をほ
ぼ定量的な収率で得た。
トリエチルアミン14gを加え１時間撹拌し重合を停止さ
せた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗に
より除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。こ
うして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条件で
２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物をほ
ぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GRC（ゲ
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびSi−Ｈ基定量データは下記の通り
であつた。
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびSi−Ｈ基定量データは下記の通り
であつた。
IR（KBr） 2970cm-1（Ｃ−Ｈ） 2250cm-1（Si−Ｈ） 1260cm-1（Si−CH3） 1250〜1150cm-1（CF2,CF3） 1120〜1050cm-1（Si−Ｏ） GPC（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量（Mn） 11910 重量平均分子量（Mw） 12850 分散度（Mw/Mn） 1.1 Si−Ｈ基の定量データ Ｈ〔ppm〕 101.6〔ppm〕 Ｈ〔ppm〕よりの計算分子量 9843 粘度（25℃） 165センチポイズ 実施例６ α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオ
クチル基を、ω位に３−グリシドキシプロピル基を有す
るジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに参考例６で得られたシロキサン化合物98.4gとトル
エン50mlを仕込み110℃に加熱する。塩化白金酸5.2×10
-4g（1.0×10-6モル）を添加したのちにアリルグリシジ
ルエーテル1.26g（0.011モル）を滴下にて添加した。滴
下終了後、反応温度110℃を保つたまま20時間熟成させ
た。
クチル基を、ω位に３−グリシドキシプロピル基を有す
るジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに参考例６で得られたシロキサン化合物98.4gとトル
エン50mlを仕込み110℃に加熱する。塩化白金酸5.2×10
-4g（1.0×10-6モル）を添加したのちにアリルグリシジ
ルエーテル1.26g（0.011モル）を滴下にて添加した。滴
下終了後、反応温度110℃を保つたまま20時間熟成させ
た。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条
件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物
をほぼ定量的な収率で得た。
件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物
をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GRC（ゲ
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびエポキシ基定量データは下記の通
りであり、次式の構造と確認された。
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびエポキシ基定量データは下記の通
りであり、次式の構造と確認された。
IR（KBr） 2970cm-1（Ｃ−Ｈ） 1260cm-1（Si−CH3） 1250〜1150cm-1（CF2,CF3） 1120〜1050cm-1（Si−Ｏ） GPC（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量（Mn） 12230 重量平均分子量（Mw） 13820 分散度（Mw/Mn） 1.1 エポキシ基の定量データ エポキシ酸素 0.14重量％ 粘度（25℃） 209センチポイズ 参考例７ α，α′位にトリカデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハ
イドロオクチル基を、ω位にヒドロシリル基を有するジ
メチルシロキサン化合物（ヒドロシリル基基準のシロキ
サン鎖が２本）の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた５三口丸底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン1000mlと（トリ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチル）ジ
メチルシラノール50.0g（0.119モル）とヘキサメチルシ
クロトリシロキサン1130.2g（5.08モル）をN2気流下で
仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液（1.5モル／）
0.40mlを添加し、20℃で15時間重合させた。
イドロオクチル基を、ω位にヒドロシリル基を有するジ
メチルシロキサン化合物（ヒドロシリル基基準のシロキ
サン鎖が２本）の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた５三口丸底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン1000mlと（トリ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチル）ジ
メチルシラノール50.0g（0.119モル）とヘキサメチルシ
クロトリシロキサン1130.2g（5.08モル）をN2気流下で
仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液（1.5モル／）
0.40mlを添加し、20℃で15時間重合させた。
次に、メチルジクロロシラン7.51g（0.0653モル）と
トリエチルアミン14gを加え１時間撹拌し重合を停止さ
せた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗に
より除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。こ
うして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条件で
２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物をほ
ぼ定量的な収率で得た。
トリエチルアミン14gを加え１時間撹拌し重合を停止さ
せた。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗に
より除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。こ
うして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条件で
２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物をほ
ぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GRC（ゲ
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびSi−Ｈ基定量データは下記の通り
であり、GPCデータおよびＨ〔ppm〕よりの分子量の値
が、同条件、同スケールで添加クロロシランの種類のみ
を変えた参考例６（ヒドロシリル基基準のシロキサン鎖
が１本）の値のほぼ２倍であることから、次式のヒドロ
シリル基基準のシロキサン鎖が２本の構造のものと確認
された。
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびSi−Ｈ基定量データは下記の通り
であり、GPCデータおよびＨ〔ppm〕よりの分子量の値
が、同条件、同スケールで添加クロロシランの種類のみ
を変えた参考例６（ヒドロシリル基基準のシロキサン鎖
が１本）の値のほぼ２倍であることから、次式のヒドロ
シリル基基準のシロキサン鎖が２本の構造のものと確認
された。
IR（KBr） 2970cm-1（Ｃ−Ｈ） 2250cm-1（Si−Ｈ） 1260cm-1（Si−CH3） 1250〜1150cm-1（CF2,CF3） 1120〜1050cm-1（Si−Ｏ） GPC（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量（Mn） 19740 重量平均分子量（Mw） 23720 分散度（Mw/Mn） 1.2 Si−Ｈ基の定量データ Ｈ〔ppm〕 53.9〔ppm〕 Ｈ〔ppm〕よりの計算分子量 18550 粘度（25℃） 423センチポイズ 実施例７ α，α′位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基を、ω位に３−グリシドキシプロピル基
を有するジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに参考例７で得られたシロキサン化合物185.5gとトル
エン100mlを仕込み110℃に加熱する。塩化白金酸5.2×1
0-4g（1.0×10-6モル）を添加したのちにアリルグリシ
ジルエーテル1.26g（0.011モル）を滴下にて添加した。
滴下終了後、反応温度110℃を保つたまま20時間熟成さ
せた。
ドロオクチル基を、ω位に３−グリシドキシプロピル基
を有するジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに参考例７で得られたシロキサン化合物185.5gとトル
エン100mlを仕込み110℃に加熱する。塩化白金酸5.2×1
0-4g（1.0×10-6モル）を添加したのちにアリルグリシ
ジルエーテル1.26g（0.011モル）を滴下にて添加した。
滴下終了後、反応温度110℃を保つたまま20時間熟成さ
せた。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条
件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物
をほぼ定量的な収率で得た。
件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物
をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC（ゲ
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびエポキシ基定量データは下記の通
りであり、次式の構造と確認された。
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびエポキシ基定量データは下記の通
りであり、次式の構造と確認された。
IR（KBr） 2970cm-1（Ｃ−Ｈ） 1260cm-1（Si−CH3） 1250〜1150cm-1（CF2,CF3） 1120〜1050cm-1（Si−Ｏ） GPC（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量（Mn） 20790 重量平均分子量（Mw） 24800 分散度（Mw/Mn） 1.2 エポキシ基の定量データ エポキシ酸素 0.075重量％ 粘度（25℃） 553センチポイズ 参考例８ α，α′，α″位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テト
ラハイドロオクチル基を、ω位にヒドロシリル基を有す
るジメチルシロキサン化合物（ヒドロシリル基基準のシ
ロキサン鎖が３本）の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた５三口丸底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン1000mlと（トリ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチル）ジ
メチルシラノール50.0g（0.119モル）とヘキサメチルシ
クロトリシロキサン1130.2g（5.08モル）をN2気流下で
仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液（1.5モル／）
0.40mlを添加し、20℃で15時間重合させた。
ラハイドロオクチル基を、ω位にヒドロシリル基を有す
るジメチルシロキサン化合物（ヒドロシリル基基準のシ
ロキサン鎖が３本）の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた５三口丸底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン1000mlと（トリ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチル）ジ
メチルシラノール50.0g（0.119モル）とヘキサメチルシ
クロトリシロキサン1130.2g（5.08モル）をN2気流下で
仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液（1.5モル／）
0.40mlを添加し、20℃で15時間重合させた。
次に、トリクロロシラン5.90g（0.0435モル）とトリ
エチルアミン14gを加え１時間撹拌し重合を停止させ
た。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗によ
り除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。
エチルアミン14gを加え１時間撹拌し重合を停止させ
た。合成物を分液ロートに移し、生成した塩を水洗によ
り除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。
こうして得られた反応物の低沸点を100℃/10mmHgの条
件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物
をほぼ定量的な収率で得た。
件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物
をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GRC（ゲ
ルパーミエーシヨクロマトグラフイー）、粘度のそれぞ
れの分析結果およびSi−Ｈ基定量データは下記の通りで
あり、GPCデータおよびＨ〔ppm〕よりの分子量の値が、
同条件、同スケールで添加クロロシランの種類のみを変
えた参考例６（ヒドロシリル基基準のシロキサン鎖が１
本）の値のほぼ３倍であることから、次式のヒドロシリ
ル基基準のシロキサン鎖が３本の構造のものと確認され
た。
ルパーミエーシヨクロマトグラフイー）、粘度のそれぞ
れの分析結果およびSi−Ｈ基定量データは下記の通りで
あり、GPCデータおよびＨ〔ppm〕よりの分子量の値が、
同条件、同スケールで添加クロロシランの種類のみを変
えた参考例６（ヒドロシリル基基準のシロキサン鎖が１
本）の値のほぼ３倍であることから、次式のヒドロシリ
ル基基準のシロキサン鎖が３本の構造のものと確認され
た。
IR（KBr） 2970cm-1（Ｃ−Ｈ） 2250cm-1（Si−Ｈ） 1260cm-1（Si−CH3） 1250〜1150cm-1（CF2,CF3） 1120〜1050cm-1（Si−Ｏ） GPC（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量（Mn） 33790 重量平均分子量（Mw） 37710 分散度（Mw/Mn） 1.1 Si−Ｈ基のデータ Ｈ〔ppm〕 33.8〔ppm〕 Ｈ〔ppm〕よりの計算分子量 29590 粘度（25℃） 681センチポイズ 実施例８ α，α′，α″位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テト
ラハイドロオクチル基を、ω位に３−グリシドキシプロ
ピル基を有するジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに参考例８で得られたシロキサン化合物295.9gとトル
エン100mlを仕込み110℃に加熱する。塩化白金酸5.2×1
0-4g（1.0×10-6モル）を添加したのちにアリルグリシ
ジルエーテル1.26g（0.011モル）を滴下にて添加した。
滴下終了後、反応温度110℃を保つたまま20時間熟成さ
せた。
ラハイドロオクチル基を、ω位に３−グリシドキシプロ
ピル基を有するジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた１三口丸底フラス
コに参考例８で得られたシロキサン化合物295.9gとトル
エン100mlを仕込み110℃に加熱する。塩化白金酸5.2×1
0-4g（1.0×10-6モル）を添加したのちにアリルグリシ
ジルエーテル1.26g（0.011モル）を滴下にて添加した。
滴下終了後、反応温度110℃を保つたまま20時間熟成さ
せた。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10mmHgの条
件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物
をほぼ定量的な収率で得た。
件で２時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン化合物
をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GRC（ゲ
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびエポキシ基定量データは下記の通
りであり、次式の構造と確認された。
ルパーミエーシヨンクロマトグラフイー）、粘度のそれ
ぞれの分析結果およびエポキシ基定量データは下記の通
りであり、次式の構造と確認された。
IR（KBr） 2970cm-1（Ｃ−Ｈ） 1260cm-1（Si−CH3） 1250〜1150cm-1（CF2,CF3） 1120〜1050cm-1（Si−Ｏ） GPC（トルエン）ポリスチレン換算分子量 数平均分子量（Mn） 33200 重量平均分子量（Mw） 38500 分散度（Mw/Mn） 1.2 エポキシ基の定量データ エポキシ酸素 0.050重量％ 粘度（25℃） 694センチポイズ 〔発明の効果〕 本発明によるα位にフツ素原子含有置換基を有しω位
にエポキシ結合含有置換基を有するオルガノシロキサン
化合物、α，α′位の少なくとも１つにフツ素原子含有
置換基を有しω位にエポキシ結合含有置換基を有するオ
ルガノシロキサン化合物又はα，α′，α″位の少なく
とも１つにフツ素原子含有置換基を有しω位にエポキシ
結合含有置換基を有する新規なオルガノシロキサン化合
物をエポキシ樹脂、ポリアミド、ポリウレタンなどのエ
ポキシ基と反応可能な置換基を有する合成樹脂等へ組み
込んだ場合、下記のような効果を得ることができる。
にエポキシ結合含有置換基を有するオルガノシロキサン
化合物、α，α′位の少なくとも１つにフツ素原子含有
置換基を有しω位にエポキシ結合含有置換基を有するオ
ルガノシロキサン化合物又はα，α′，α″位の少なく
とも１つにフツ素原子含有置換基を有しω位にエポキシ
結合含有置換基を有する新規なオルガノシロキサン化合
物をエポキシ樹脂、ポリアミド、ポリウレタンなどのエ
ポキシ基と反応可能な置換基を有する合成樹脂等へ組み
込んだ場合、下記のような効果を得ることができる。
１）反応性基であるエポキシ結合によつてエポキシ樹
脂、ポリアミド、ポリウレタンあるいはエポキシ基と反
応可能な置換基を有する合成樹脂などに化学結合によつ
て組み込むことができるため、経時後の特性の低下を抑
えることができる。
脂、ポリアミド、ポリウレタンあるいはエポキシ基と反
応可能な置換基を有する合成樹脂などに化学結合によつ
て組み込むことができるため、経時後の特性の低下を抑
えることができる。
２）フルオロアルキル基が同一分子内に存在することに
より、フツ素原子含有置換基のもつ、撥水性、防汚性、
離型性、非接着性、撥油性、低摩擦性および耐着雪性な
ど従来のトリメチルシロキシ基末端のポリシロキサン化
合物では得られない、もしくは、これよりさらに優れた
フルオロアルキル基特有の諸機能をポリシロキサンの持
つ特性を損なうことなく前記合成樹脂等に付与する事が
できる。
より、フツ素原子含有置換基のもつ、撥水性、防汚性、
離型性、非接着性、撥油性、低摩擦性および耐着雪性な
ど従来のトリメチルシロキシ基末端のポリシロキサン化
合物では得られない、もしくは、これよりさらに優れた
フルオロアルキル基特有の諸機能をポリシロキサンの持
つ特性を損なうことなく前記合成樹脂等に付与する事が
できる。
３）本発明のオルガノシロキサン化合物として分子量分
布（分散度）が1.1〜1.2と非常に狭く、分子鎖長がそろ
つているものを得ることができるため、これを合成樹脂
へ導入した場合も分子鎖長のふぞろいのものに比べより
均一な構造をとり、加えてアニオンリビング重合による
本発明の化合物は、従来の酸性触媒や塩基性触媒による
平衡化反応ではどうしても避けられなかつた除去不可能
なジメチルシロキサンの環状物の生成がないためこれが
原因となつての物性低下やブリードおよび製品のばらつ
きが抑えられ諸特性の向上が可能である。
布（分散度）が1.1〜1.2と非常に狭く、分子鎖長がそろ
つているものを得ることができるため、これを合成樹脂
へ導入した場合も分子鎖長のふぞろいのものに比べより
均一な構造をとり、加えてアニオンリビング重合による
本発明の化合物は、従来の酸性触媒や塩基性触媒による
平衡化反応ではどうしても避けられなかつた除去不可能
なジメチルシロキサンの環状物の生成がないためこれが
原因となつての物性低下やブリードおよび製品のばらつ
きが抑えられ諸特性の向上が可能である。
４）本発明のオルガノシロキサン化合物は、これをグラ
フトポリマーとして合成樹脂の撥水性、防汚性、離型
性、非接着性、撥油性、低摩擦性等の特性の改善に使用
した場合も、シロキサンの持つ機能に加えフルオロアル
キル基特有の機能を付与することができる上、分子鎖長
がそろつているため一定の構造をとらせることが可能
で、しかも使用目的に合わせシロキサン部分とフルオロ
アルキル基部分の分子鎖長を変えることで特性をコント
ロールすることができる。このためこれまでのフルオロ
アルキル基を持たないジメチルシロキサンタイプに比べ
さらに高性能を要求される用途、特に合成樹脂の表面改
質などへと広く用途展開できる。また、従来得られてい
た特性をより少ない使用量で実現することができるた
め、対象となる合成樹脂の基本物性に与えるシロキサン
による悪影響を極力抑えることができる。
フトポリマーとして合成樹脂の撥水性、防汚性、離型
性、非接着性、撥油性、低摩擦性等の特性の改善に使用
した場合も、シロキサンの持つ機能に加えフルオロアル
キル基特有の機能を付与することができる上、分子鎖長
がそろつているため一定の構造をとらせることが可能
で、しかも使用目的に合わせシロキサン部分とフルオロ
アルキル基部分の分子鎖長を変えることで特性をコント
ロールすることができる。このためこれまでのフルオロ
アルキル基を持たないジメチルシロキサンタイプに比べ
さらに高性能を要求される用途、特に合成樹脂の表面改
質などへと広く用途展開できる。また、従来得られてい
た特性をより少ない使用量で実現することができるた
め、対象となる合成樹脂の基本物性に与えるシロキサン
による悪影響を極力抑えることができる。
５）本発明のオルガノシロキサン化合物は、反応性基で
あるエポキシ結合含有置換基を基準とした１から３本ま
でシロキサン鎖の本数、要求に応じて制御されたシロキ
サン鎖の鎖長、シロキサン鎖末端のフツ素原子含有置換
基の種類の３条件を任意に選択したものを得ることがで
き、目的合成樹脂の要求機能特性に合わせてより微妙な
コントロールされた特性が付与できる。
あるエポキシ結合含有置換基を基準とした１から３本ま
でシロキサン鎖の本数、要求に応じて制御されたシロキ
サン鎖の鎖長、シロキサン鎖末端のフツ素原子含有置換
基の種類の３条件を任意に選択したものを得ることがで
き、目的合成樹脂の要求機能特性に合わせてより微妙な
コントロールされた特性が付与できる。
Claims (6)
- 【請求項１】一般式が（Ｉ） 〔一般式（Ｉ）において、ｊは２〜2000の整数を表わ
し、R1はペンタフルオロフエニル基または下記式（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中、ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数
を表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオ
ロアルキル基である置換基を表わし、R2は下記式（II
I） （式中ｃは１〜５の整数を表わす。） もしくは下記式（IV） で示される置換基を表わし、R3およびR4はそれぞれ炭素
原子数１〜４のアルキル基またはフエニル基を表わ
す。〕で示されるオルガノシロキサン化合物。 - 【請求項２】第（１）項記載のオルガノシロキサン化合
物において、一般式（Ｉ）中のR1で示される置換基が、
3,3,3−トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロ−
1,1,2,2−テトラハイドロオクチル基またはヘプタデカ
フルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロデシル基であるオ
ルガノシロキサン化合物。 - 【請求項３】一般式が（Ｖ） 〔一般式（Ｖ）において、ｋおよびｌは２〜2000の整数
を表わし、R5およびR6はそれぞれ、炭素原子数１〜４の
アルキル基、ペンタフルオロフエニル基または下記式
（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中、ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数
を表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオ
ロアルキル基である置換基を表わし、R5及びR6の内少な
くとも１つは前記置換基のうちフツ素含有置換基であ
り、R2は下記式（III） （式中ｃは１〜５の整数を表わす。） もしくは下記式（IV） で示される置換基を表わし、R7は炭素原子数１〜４のア
ルキル基またはフエニル基を表わす。〕で示されるオル
ガノシロキサン化合物。 - 【請求項４】第（３）項記載のオルガノシロキサン化合
物において、一般式（Ｖ）中のR5およびR6で示される置
換基が、それぞれ、炭素原子数１〜４のアルキル基、3,
3,3−トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロ−1,
1,2,2−テトラハイドロオクチル基またはヘプタデカフ
ルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロデシル基であり、R5
およびR6の内の少なくとも１つは前記置換基のうちフツ
素含有置換基であるオルガノシロキサン化合物。 - 【請求項５】一般式が（VI） 〔一般式（VI）において、ｍ、ｎおよびｐはそれぞれ２
〜2000の整数を表わし、R8、R9およびR10はそれぞれ、
炭素原子数１〜４のアルキル基、ペンタフルオロフエニ
ル基または下記式（II） CaHbF2a-b+1 ……（II） （式（II）中、ａは３〜18の整数、ｂは０から2aの整数
を表わす。）で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオ
ロアルキル基である置換基を表わし、R8、R9およびR10
のうち少なくとも１つは前記置換基のうちフツ素含有置
換基であり、R2は下記式（III） （式中ｃは１〜５の整数を表わす。） もしくは下記式（IV） で示される置換基を表わす。〕で示されるオルガノシロ
キサン化合物。 - 【請求項６】第（５）項記載のオルガノシロキサン化合
物において、一般式（VI）中のR8、R9およびR10で示さ
れる置換基がそれぞれ、炭素原子数１〜４のアルキル
基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、トリデカフルオ
ロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチル基またはヘプタ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロデシル基であ
り、R8、R9およびR10のうち少なくとも１つは前記置換
基のうちフツ素含有置換基であるオルガノシロキサン化
合物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63268754A JP2671030B2 (ja) | 1988-10-25 | 1988-10-25 | エポキシ基を有するオルガノシロキサン化合物 |
| US07/426,030 US4987203A (en) | 1988-10-25 | 1989-10-24 | Polyorganosiloxane compounds with epoxy group |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63268754A JP2671030B2 (ja) | 1988-10-25 | 1988-10-25 | エポキシ基を有するオルガノシロキサン化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02115191A JPH02115191A (ja) | 1990-04-27 |
| JP2671030B2 true JP2671030B2 (ja) | 1997-10-29 |
Family
ID=17462866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63268754A Expired - Lifetime JP2671030B2 (ja) | 1988-10-25 | 1988-10-25 | エポキシ基を有するオルガノシロキサン化合物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4987203A (ja) |
| JP (1) | JP2671030B2 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5140087A (en) * | 1988-04-22 | 1992-08-18 | Chisso Corporation | Organosiloxane and process for preparing the same |
| JPH02255689A (ja) * | 1989-03-29 | 1990-10-16 | Toshiba Silicone Co Ltd | グリシドキシ基含有有機ケイ素化合物 |
| JP3029686B2 (ja) * | 1991-02-13 | 2000-04-04 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | オルガノペンタシロキサンおよびその製造方法 |
| US5178959A (en) * | 1991-03-27 | 1993-01-12 | General Electric Company | Epoxy-functional fluorosilicones |
| US5317073A (en) * | 1991-03-27 | 1994-05-31 | General Electric Company | Fluorosilicone hydrides |
| JP3187464B2 (ja) * | 1991-07-31 | 2001-07-11 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | ジフェニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体およびその製造方法 |
| US5529847A (en) * | 1992-06-10 | 1996-06-25 | Eastman Kodak Company | Cured epoxy polysiloxane coated articles useful in toner fusing members |
| US5260455A (en) * | 1992-07-08 | 1993-11-09 | General Electric Company | Polyepoxysilanes and radiation-curable polyepoxysilicone compositions |
| EP0703938B1 (en) * | 1993-05-28 | 1999-11-24 | AlliedSignal Inc. | Polydiorganosiloxane-modified polymer and a process for making the same |
| WO1994028053A1 (en) * | 1993-05-28 | 1994-12-08 | Alliedsignal Inc. | Polydiorganosiloxane and polymer modified by the same |
| KR101383125B1 (ko) * | 2005-04-12 | 2014-04-11 | 다우 코닝 코포레이션 | 에폭시 관능성 폴리실록산, 실리콘 조성물 및 피복 광섬유 |
| US7799888B2 (en) * | 2007-04-27 | 2010-09-21 | Gelest, Inc. | Low molecular weight siloxanes with one functional group |
| CN117777455B (zh) * | 2024-02-28 | 2024-05-10 | 山东同益光刻胶材料科技有限公司 | 一种含氟聚硅氧烷及其制备方法、光刻胶组合物及其应用 |
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