JP2665484B2 - Epoxy resin composition - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 (発明の利用分野) 本発明は成形加工性(型汚れ、樹脂バリ、成形ボイ
ド、離型性)、捺印性、耐湿性、耐熱衝撃性、半田耐熱
性に優れた半導体封止用のエポキシ樹脂組成物に関する
ものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Application of the Invention) The present invention is excellent in moldability (mold stain, resin burr, molded void, release property), stamping property, moisture resistance, thermal shock resistance, and solder heat resistance. The present invention relates to an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation.
(従来技術) 近年IC、LSI、トランジスター、ダイオードなどの半
導体素子や電子回路等の樹脂封止には特性、コスト等の
点からエポキシ樹脂組成物が多量に、かつ最も一般的に
用いられている。(Prior art) In recent years, epoxy resin compositions have been used in large quantities and most commonly used for resin encapsulation of semiconductor elements such as ICs, LSIs, transistors, diodes, and the like, and for resin encapsulation of electronic circuits and the like, from the viewpoint of characteristics and cost. .
しかし電子部品の量産性指向、軽薄短小化、集積度の
増大等に伴い封止樹脂に対する要求は厳しくなってきて
おり、成形加工性、捺印性、耐湿性、耐熱衝撃性、半田
耐熱性の改良が強く望まれており、特に成形加工性、捺
印性の向上と耐湿性、耐熱衝撃性、半田耐熱性とのバラ
ンスのとれたエポキシ樹脂組成物が強く要求されてい
る。However, the demand for encapsulating resin has become stricter with the trend toward mass production of electronic components, lighter and thinner, more integrated, etc., and improvement in moldability, stamping, moisture resistance, thermal shock resistance, and solder heat resistance. In particular, there is a strong demand for an epoxy resin composition having a good balance between improved moldability and stamping properties, moisture resistance, thermal shock resistance, and solder heat resistance.
しかしながら耐湿性や耐熱衝撃性を改良するための添
加剤を配合しない、通常のエポキシ樹脂組成物において
も離型剤等の添加物の影響により型汚れ、樹脂バリ、ボ
イドの発生や捺印性不良が発生し易い傾向に有るが、耐
湿性や耐熱衝撃性の改良のため、シリコーンオイル、シ
リコーンゴム等のシリコーン化合物、合成ゴム、熱可塑
性樹脂等の添加剤を使用せざるを得ず、これらの添加剤
の使用により型汚れ、樹脂バリの発生、成形ボイド発
生、捺印性不良は更に悪化する傾向にある。However, it does not contain additives for improving moisture resistance and thermal shock resistance. Even in ordinary epoxy resin compositions, mold stains, resin burrs, voids, and poor printability are caused by additives such as release agents. Although it tends to occur, additives such as silicone compounds such as silicone oil and silicone rubber, synthetic rubber, and thermoplastic resin must be used to improve moisture resistance and thermal shock resistance. With the use of the agent, mold stain, generation of resin burrs, occurrence of molding voids, and poor printability tend to be further deteriorated.
型汚れ、捺印性が悪くなるのは成形加工時にこららの
添加剤成分が成形品表面に浮き出すためであり、樹脂バ
リ、成形ボイドが増加するのはこれらの成分がエポキシ
樹脂等との相溶性が悪いためである。Mold stains and poor printability are due to the fact that these additive components emerge on the surface of the molded product during molding, and resin burrs and molding voids increase because these components are not compatible with epoxy resins. This is because of poor solubility.
このような問題点を改良すべく従来種々の添加剤につ
いて検討が行われてきており、成形加工性、捺印性等に
効果のあるものとしてエポキシ樹脂と一般硬化剤系に単
にシリコーンとポリアルキレンオキサイドの共重合体か
らなるシリコーンオイルを添加することがすてに提案さ
れている(特開昭60−13841号公報、特公昭62−61215号
公報)が、これらは成形加工性、捺印性の向上に効果は
認められるものの、耐熱衝撃性、半田耐熱性には効果が
なく、更には耐湿性については逆に若干低下するもので
あった。Conventionally, various additives have been studied to improve such problems, and as a resin having an effect on molding processability, stamping property, etc., simply adding silicone and polyalkylene oxide to epoxy resin and general curing agent system. It has already been proposed to add a silicone oil consisting of a copolymer of the above (JP-A-60-13841, JP-B-62-61215). Although the effect was recognized, there was no effect on the thermal shock resistance and the soldering heat resistance, and on the contrary, the moisture resistance was slightly reduced.
又、耐熱性(高Tg)、耐熱衝撃性や半田耐熱性(耐ク
ラック性)を改良するものとしてアルケニル基等を含有
するエポキシ樹脂とオルガノポリシロキサンとの付加重
合体をエポキシ樹脂系に添加した組成物が提案されてい
る(特開昭62−84147号公報、特開昭62−212417号公報
等)が、これらはいずれも耐熱性(高Tg)、耐熱衝撃性
や半田耐熱性(耐クラック性)を改良することを主目的
とするものであり、これらの付加重合体に含まれる未反
応の非相溶のオルガノポリシロキサンを多量に含むもの
であり成形加工性、捺印性と両立しないものでしかなか
った。Also, an addition polymer of an epoxy resin containing an alkenyl group and the like and an organopolysiloxane was added to the epoxy resin system to improve heat resistance (high Tg), thermal shock resistance and solder heat resistance (crack resistance). Compositions have been proposed (JP-A-62-84147, JP-A-62-212417, etc.), all of which have heat resistance (high Tg), thermal shock resistance and solder heat resistance (crack resistance). The main object of the present invention is to improve the processability and the imprintability of the polymer, which contains a large amount of unreacted and incompatible organopolysiloxane contained in these addition polymers. It was only.
(発明の目的) 本発明の目的とするところは、成形加工性(型汚れ、
樹脂バリ、成形ボイド離型性)、捺印性、耐湿性、耐熱
衝撃性、半田耐熱性のいずれもが良好な半導体封止用の
エポキシ樹脂組成物を提供することにある。(Object of the Invention) The object of the present invention is to provide moldability (mold stain,
It is an object of the present invention to provide an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, which is excellent in all of resin burrs, molding void release properties), printing properties, moisture resistance, thermal shock resistance, and soldering heat resistance.
(発明の構成) 本発明者らは従来技術では克服できなかったバランス
のとれた優れた半導体封止用エポキシ樹脂組成物を得ん
と鋭意検討を進めた結果、オルガノポリシロキサンとエ
ポキシ樹脂を反応させてなるランダム共重合シリコーン
変性エポキシ樹脂と硬化剤であるフェノール樹脂の双方
に相溶性があり、特定の溶解度パラメーター(以下SP値
という)を有するシリコーン系共重合体を組み合わせる
ことにより成形加工性及び捺印性が従来のものに比して
さらに向上し、これに加えてリードフレームやICチップ
と封止樹脂との密着性を向上させることにより半田耐熱
性が優れたものが得られる。(Constitution of the Invention) The present inventors have conducted intensive studies to obtain a well-balanced and excellent epoxy resin composition for semiconductor encapsulation that could not be overcome by the prior art, and as a result, reacted organopolysiloxane and epoxy resin. Both the random copolymerized silicone-modified epoxy resin and the phenolic resin as a curing agent are compatible with each other, and the moldability and processability can be improved by combining a silicone-based copolymer having a specific solubility parameter (hereinafter referred to as SP value). The sealability is further improved as compared with the conventional one. In addition, by improving the adhesion between the lead frame or the IC chip and the sealing resin, a product having excellent solder heat resistance can be obtained.
更に該シリコーン系共重合体と相溶性の良いシリコー
ンゴム、液状合成ゴムまたはシリコーンゴムと液状合成
ゴムの混合物を組み合わせることにより成形加工性、捺
印性、半田耐熱性や耐衝撃性が著しく向上し、非常にバ
ランスのとれた組成物が得られることを見いだし本発明
を完成するに至った。Further, by combining silicone rubber having good compatibility with the silicone copolymer, liquid synthetic rubber or a mixture of silicone rubber and liquid synthetic rubber, the moldability, stamping property, solder heat resistance and impact resistance are remarkably improved, The inventors have found that a very balanced composition can be obtained, and have completed the present invention.
本発明で用いられる(A)成分としてのオルガノポリ
シロキサンとエポキシ樹脂を反応させてなるランダム共
重合シリコーン変性エポキシ樹脂の原料として用いられ
るオルガノポリシロキサンはエポキシ樹脂と反応しうる
官能基を有するものであり、これらの官能基としては例
えば、アルコキシ基、水酸基、アミノ基、ヒドロシリル
基が挙げられ、オルガノポリシロキサンの分子構造は直
鎖状、分枝状のいずれでも良い。The organopolysiloxane used as a raw material of the random copolymerized silicone-modified epoxy resin obtained by reacting the organopolysiloxane as the component (A) and the epoxy resin used in the present invention has a functional group capable of reacting with the epoxy resin. These functional groups include, for example, an alkoxy group, a hydroxyl group, an amino group, and a hydrosilyl group. The molecular structure of the organopolysiloxane may be linear or branched.
これらのオルガノポリシロキサンと反応させるエポキ
シ樹脂としては1分子中に2個以上のエポキシ基を有す
るものであればいかなるものでも良く、例えばビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ
樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾー
ルノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂及び
これらの変性樹脂等が挙げられ、これらのエポキシ樹脂
は1種又は2種以上混合して用いることも出来る。The epoxy resin to be reacted with these organopolysiloxanes is not particularly limited as long as it has two or more epoxy groups in one molecule. For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin Resins, cresol novolak-type epoxy resins, alicyclic epoxy resins, and modified resins thereof, and the like, and these epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.
これらのエポキシ樹脂の中ではエポキシ当量が150〜2
50、軟化点が60〜130℃であり、かつNa+、Cl-等のイオ
ン性不純物が出来る限り少ないものが好ましい。Among these epoxy resins, the epoxy equivalent is 150 to 2
50, those having a softening point of 60 to 130 ° C. and containing as little ionic impurities as possible such as Na + and Cl − are preferable.
これらの原料を用いてランダム共重合シリコーン変性
エポキシ樹脂の反応方法は特に限定されるものではない
が、例えば2ケ以上のアミノ基を有するオルガノポリシ
ロキサンとエポキシ樹脂の一部のエポキシ基を反応せし
めてランダム共重合物となすとかアルケニル基含有エポ
キシ樹脂と2ケ以上のハイドロシリル基を有するオルガ
ノポリシロキサンとを反応させてランダム共重合物を得
るなどの方法がある。The reaction method of the random copolymerized silicone-modified epoxy resin using these raw materials is not particularly limited. For example, an organopolysiloxane having two or more amino groups is reacted with a part of epoxy groups of the epoxy resin. To form a random copolymer by reacting an alkenyl group-containing epoxy resin with an organopolysiloxane having two or more hydrosilyl groups to obtain a random copolymer.
本発明のランダム共重合シリコーン変性エポキシ樹脂
はオルガノポリシロキサンがランダムに共重合したもの
であり、単にブロック共重合したものに較べシリコーン
ドメインが均一に分散しているため成形加工性、捺印
性、耐湿性、耐熱衝撃性に優れるものとなる。The random copolymerized silicone-modified epoxy resin of the present invention is obtained by randomly copolymerizing an organopolysiloxane, and since the silicone domains are more uniformly dispersed than those obtained by simply block copolymerizing, the molding processability, stamping property, and moisture resistance are improved. Excellent in heat resistance and thermal shock resistance.
尚、本願発明において該ランダム共重合シリコーン変
性エポキシ樹脂は単独もしくは従来からあるエポキシ樹
脂と混合して用いても良いが、これら混合系においては
該ランダム共重合シリコーン変性エポキシ樹脂は50%以
上とすることが必要である。In the present invention, the random copolymerized silicone-modified epoxy resin may be used alone or as a mixture with a conventional epoxy resin. In these mixed systems, the proportion of the random copolymerized silicone-modified epoxy resin is 50% or more. It is necessary.
本発明で用いられる(B)成分としてのフェノール樹
脂は硬化剤としての働きをするものである。これらのフ
ェノール樹脂としてはフェノールノボラック、クレゾー
ルノボラック及びこれらの変性樹脂等が挙げられ、これ
らは1種又は2種以上混合して用いることも出来る。The phenol resin as the component (B) used in the present invention functions as a curing agent. Examples of these phenolic resins include phenol novolak, cresol novolak, and modified resins thereof, and these can be used alone or in combination of two or more.
用いられるフェノール樹脂は水酸基当量が80〜150、
軟化点が60〜120℃であり、Na+,Cl-等のイオン性不純物
ができるだけ少ないものが好ましい。The phenolic resin used has a hydroxyl equivalent of 80 to 150,
Those having a softening point of 60 to 120 ° C. and containing as little ionic impurities as possible such as Na + and Cl − are preferable.
本発明で用いられる(C)成分としてのSP値が7〜9
のシリコーン系共重合体は、エポキシ樹脂とランダム共
重合シリコーン変性フェノール樹脂との相溶性改善に効
果があり成形加工性、捺印性さらにリードフレームやIC
チップと封止樹脂との密着性向上による半田耐熱性向上
に効果も有している。The SP value as the component (C) used in the present invention is 7 to 9
Is effective in improving the compatibility between epoxy resin and random copolymerized silicone-modified phenolic resin.
It also has the effect of improving solder heat resistance by improving the adhesion between the chip and the sealing resin.
該シリコーン系共重合体のSP値が7を下回ると疎水性
になりすぎランダム共重合シリコーン変性エポキシ樹
脂、フェノール樹脂との相溶性が低下し、又9を上回れ
ば親水性になりすぎ、エポキシ樹脂との相溶性は向上す
るがランダム共重合シリコーン変性フェノール樹脂との
相溶性が低下するためシリコーン系共重合体のSP値は7
〜9の範囲内に有ることが必要である。If the SP value of the silicone-based copolymer is less than 7, it becomes too hydrophobic, and the compatibility with the random copolymerized silicone-modified epoxy resin and phenol resin is reduced. If it is more than 9, it becomes too hydrophilic, and the epoxy resin becomes too hydrophilic. The SP value of the silicone-based copolymer is 7 because the compatibility with the silicone-modified phenolic resin is reduced but the compatibility with the random copolymerized silicone-modified phenolic resin is reduced.
Must be within the range of 99.
シリコーン系共重合体についてはSP値が7〜9の範囲
内にあるものであれば特に構造に制限はないが具体例を
あげれば B;CH2 rOC2H4OiC3H6OjCH3 但し、R1〜R6は同じ基であってもそれぞれ異なる基で
あっても良い。The structure of the silicone copolymer is not particularly limited as long as the SP value is within the range of 7 to 9. B; CH 2 r OC 2 H 4 O i C 3 H 6 O j CH 3 However, R 1 to R 6 may be the same group or different groups.
のような構造を有するオルガノポリシロキサンとアルキ
レンオキサイドとの共重合体、あるいは 但し、R1〜R4は同じ基であってもそれぞれ異なる基で
あっても良い。A copolymer of an organopolysiloxane having the structure and an alkylene oxide, or However, R 1 to R 4 may be the same group or different groups.
のような構造を有するオルガノポリシロキサンとスチレ
ンとの共重合体等があげられる。And a copolymer of an organopolysiloxane having the following structure and styrene.
これらのシリコーン系共重合体は樹脂分(A+B)に
対して0.1〜15重量%の範囲内で用いられる。These silicone copolymers are used within a range of 0.1 to 15% by weight based on the resin component (A + B).
これらの添加量が0.1重量%を下回れば半田耐熱性の
向上効果が不十分となり、又15重量%を上回れば成形加
工性が低下する。If the amount is less than 0.1% by weight, the effect of improving the solder heat resistance becomes insufficient, and if the amount exceeds 15% by weight, the formability decreases.
更に本発明の(D)成分として用いられるSP値が7〜
9の範囲にあるシリコーンゴム、液状合成ゴム又はシリ
コーンゴムと液状合成ゴムの混合物は、(C)成分とし
て用いられるシリコーン系共重合体と相溶性の良い低応
力剤であり、(A)成分のランダム共重合シリコーン変
性エポキシ樹脂と(C)成分のシリコーン系共重合体と
組み合わせて用いることにより成形加工性、捺印性、半
田耐熱性、耐熱衝撃性のいずれもが著しく向上する。Further, the SP value used as the component (D) of the present invention is 7 to
The silicone rubber, the liquid synthetic rubber or the mixture of the silicone rubber and the liquid synthetic rubber in the range of No. 9 is a low-stress agent having good compatibility with the silicone copolymer used as the component (C). When used in combination with the random copolymer silicone-modified epoxy resin and the silicone copolymer of the component (C), all of the moldability, stamping property, solder heat resistance and thermal shock resistance are remarkably improved.
この理由は、シリコーン系共重合体(C)により改善
されたランダム共重合シリコーン変性エポキシ樹脂
(A)と他の封止樹脂成分との相溶性がシリコーンゴ
ム、液状合成ゴム又はシリコーンゴムと液状合成ゴムと
の混合物(D)を組み合わせることにより更に向上する
ため、成形加工性、捺印性、半田耐熱性が著しく向上す
るためである。The reason for this is that the compatibility between the random copolymerized silicone-modified epoxy resin (A) improved by the silicone-based copolymer (C) and the other sealing resin components is a silicone rubber, a liquid synthetic rubber, or a liquid synthetic resin. This is because the further improvement is achieved by combining the mixture (D) with the rubber, so that the moldability, stamping property and solder heat resistance are remarkably improved.
又低応力効果のあるランダム共重合シリコーン変性エ
ポキシ樹脂(A)とシリコーンゴム、液状合成ゴム又は
シリコーンゴムと液状合成ゴムとの混合物(D)が組み
合わさることにより耐熱衝撃性が著しく向上するものと
考えられる。Further, the combination of a random copolymerized silicone modified epoxy resin (A) having a low stress effect and silicone rubber, liquid synthetic rubber or a mixture of silicone rubber and liquid synthetic rubber (D) significantly improves thermal shock resistance. Conceivable.
本発明の(D)成分として用いられるもののうちシリ
コーンゴムは三次元架橋したいわゆる硬化したものであ
り、そのSP値が7〜9の範囲のものであれば特に制限は
ない。シリコーンゴムの形状としては平均粒径が30μm
以下で、球状(アスペクト比が1.5以下)のものが望ま
しく、またエポキシ樹脂又はランダム共重合シリコーン
変性フェノール樹脂のあるいはこれらの樹脂両方に反応
性もしくは親和性を有するシリコーンゴムが望ましく、
更にはこれらの平均粒径が15μm以下の球状のものが好
ましい。これらのシリコーンゴムとしては例えばビニル
基を有するオルガノポリシロキサンと水素基を有するオ
ルガノポリシロキサンを界面重合させて得られる球状の
シリコーンゴム等が挙げられる。Among those used as the component (D) of the present invention, the silicone rubber is a so-called cured one which is three-dimensionally cross-linked, and is not particularly limited as long as its SP value is in the range of 7 to 9. Silicone rubber has an average particle size of 30μm
In the following, those having a spherical shape (the aspect ratio is 1.5 or less) are desirable, and silicone rubber having reactivity or affinity with epoxy resin or random copolymerized silicone-modified phenolic resin or both of these resins is desirable,
Further, spherical particles having an average particle diameter of 15 μm or less are preferred. Examples of these silicone rubbers include spherical silicone rubbers obtained by interfacially polymerizing an organopolysiloxane having a vinyl group and an organopolysiloxane having a hydrogen group.
これらのシリコーンゴムは樹脂分(A+B)に対して
1〜25重量%の範囲内で用いられる。These silicone rubbers are used in a range of 1 to 25% by weight based on the resin component (A + B).
これらの添加量が1重量%を下回れば成形加工性、捺
印性、耐熱衝撃性、半田耐熱性の向上効果が不十分にな
り、又25重量%を上回れば成形時の熱時硬度、成形品の
強度が低下してしまう。If the amount is less than 1% by weight, the effects of improving moldability, stamping properties, thermal shock resistance, and soldering heat resistance will be insufficient. The strength of the material is reduced.
又液状合成ゴムはジエン系ゴム質ポリマーで分子内に
硬化剤と反応しうるエポキシ基を1個以上有するものが
望ましいく、例えばエポキシ化ポリブタジエンゴム等が
挙げられる。The liquid synthetic rubber is preferably a diene-based rubbery polymer having at least one epoxy group capable of reacting with a curing agent in the molecule, such as epoxidized polybutadiene rubber.
これらの液状合成ゴムは樹脂分(A+B)に対して0.
5〜20重量%の範囲内で用いられる。These liquid synthetic rubbers have a resin content (A + B) of 0.1%.
It is used in the range of 5 to 20% by weight.
これらの添加量が0.5重量%を下回れば成形加工性、
捺印性、耐熱衝撃性、半田耐熱性の向上効果が不十分に
なり、又20重量%を上回れば成形時の熱時硬度、成形品
の強度が低下してしまう。If the amount of these additives is less than 0.5% by weight, moldability,
The effects of improving the printability, thermal shock resistance, and solder heat resistance become insufficient, and if it exceeds 20% by weight, the hardness at the time of molding and the strength of the molded product decrease.
更にシリコーンゴムと液状合成ゴムとの混合物として
は、シリコーンゴム分100部にたいして液状合成ゴム分
が20〜100部の範囲で混合したものが望ましい。Further, as the mixture of the silicone rubber and the liquid synthetic rubber, a mixture in which the liquid synthetic rubber component is mixed in the range of 20 to 100 parts with respect to 100 parts of the silicone rubber component is desirable.
又これらのシリコーンゴムと液状合成ゴムとの混合物
は樹脂分(A+B)に対して0.5〜15重量%の範囲内で
用いられる。The mixture of the silicone rubber and the liquid synthetic rubber is used within a range of 0.5 to 15% by weight based on the resin component (A + B).
これらの添加量が0.5重量%を下回れば成形加工性、
捺印性、耐熱衝撃性、半田耐熱性の向上効果が不十分に
なり、又15重量%を上回れば成形時の熱時硬度、成形品
の強度が低下してしまう。If the amount of these additives is less than 0.5% by weight, moldability,
The effects of improving the printability, thermal shock resistance, and solder heat resistance become insufficient, and if the content exceeds 15% by weight, the hardness at the time of molding and the strength of the molded product decrease.
本発明で用いられる(E)成分としての無機充填剤と
しては結晶シリカ、熔融シリカ、アルミナ、炭酸カルシ
ウム、タルク、マイカ、ガラス繊維等が挙げられこれら
は1種又は2種以上混合して使用される。Examples of the inorganic filler as the component (E) used in the present invention include crystalline silica, fused silica, alumina, calcium carbonate, talc, mica, and glass fiber. These may be used alone or in combination of two or more. You.
これらの中で特に結晶シリカ又は熔融シリカが好適に
用いられる。Among them, crystalline silica or fused silica is particularly preferably used.
本発明において、ランダム共重合シリコーン変性エポ
キシ樹脂(A)、フェノール樹脂(B)、シリコーン系
共重合体(C)、シリコーンゴムおよび/または合成ゴ
ム(D)及び無機充填剤(E)の他に必要に応じてBDMA
等の第3級アミン類、イミダゾール類、1.8−ジアザビ
シクロ〔5,4,0〕ウンデセン−7、トリフェニルホスフ
ィン等の有機リン化合物等の硬化促進剤、天然ワックス
類、合成ワックス類等の離型剤、ヘキサブロムベンゼ
ン、デカブロムビフェニルエーテル、三酸化アンチモン
等の難燃剤、カーボンブラック、ベンガラ等の着色剤、
シランカップリング剤その他熱可塑性樹脂等を適宜添加
配合することが出来る。In the present invention, in addition to the random copolymerized silicone-modified epoxy resin (A), phenolic resin (B), silicone-based copolymer (C), silicone rubber and / or synthetic rubber (D), and inorganic filler (E) BDMA as needed
Curing accelerators such as tertiary amines such as tertiary amines, imidazoles, 1.8-diazabicyclo [5,4,0] undecene-7, and triphenylphosphine; release of natural waxes and synthetic waxes Agents, flame retardants such as hexabromobenzene, decabromobiphenyl ether, antimony trioxide, and coloring agents such as carbon black and red iron,
A silane coupling agent and other thermoplastic resins can be appropriately added and blended.
本発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物を製造する
場合の一般的な方法としては、所定の組成比の原料をミ
キサー等によって十分均一に混合した後、更にロールや
ニーダー等により溶融混合処理し、次いで冷却固化させ
適当な大きさに粉砕することにより、容易に行うことが
できる。As a general method for producing the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation of the present invention, after sufficiently mixing raw materials of a predetermined composition ratio by a mixer or the like, further melt-mixing treatment by a roll or a kneader or the like. Then, it can be easily performed by cooling, solidifying and pulverizing to an appropriate size.
(実施例) 実施例1 ランダム共重合シリコーン変性エポキシ樹脂(イ)*1
90重量部 臭素化フェノールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当
量270、軟化点71℃、臭素含有率30wt%) 10 〃 フェノールノボラック樹脂(OH当量105、軟化点95℃)4
0 〃 オルガノポリシロキサンとアルキレンオキサイドとの共
重合体*3 5 〃 シリコーンゴム 6 〃 溶融シリカ 500 〃 三酸化アンチモ 20 〃 シランカップリング剤 2 〃 トリフェニルホスフィン 3 〃 カルナバワックス 3 〃 カーボンブラック 3 〃 を常温で十分に混合し、さらに95〜100℃で混練し、冷
却した後粉砕してタブレット化して本願発明の半導体封
止用エポキシ樹脂組成物を得た。(Example) Example 1 Random copolymerized silicone modified epoxy resin (A) * 1
90 parts by weight Brominated phenol novolak epoxy resin (epoxy equivalent 270, softening point 71 ° C, bromine content 30 wt%) 10 〃 Phenol novolak resin (OH equivalent 105, softening point 95 ° C) 4
0 〃 organopolysiloxane and copolymers of alkylene oxide * 3 5 〃 silicone rubber 6 〃 fused silica 500 〃 trioxide antimony 20 〃 silane coupling agent 2 〃 triphenylphosphine 3 〃 carnauba wax 3 〃 Carbon black 3 〃 The mixture was sufficiently mixed at room temperature, further kneaded at 95 to 100 ° C., cooled, pulverized and tabletted to obtain an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation of the present invention.
この材料の型汚れ性、樹脂バリをトランスファー成形
機(成形条件:金型温度175℃、硬化時間2分)を用い
て判定すると共に、得られた成形品を175℃、8時間で
後硬化しパッケージ内部のボイド、捺印性、耐熱衝撃
性、耐湿性および半田耐熱性を評価した。The stain resistance and resin burr of this material were determined using a transfer molding machine (molding conditions: mold temperature: 175 ° C., curing time: 2 minutes), and the obtained molded product was post-cured at 175 ° C. for 8 hours. The void inside the package, the sealability, the thermal shock resistance, the moisture resistance, and the solder heat resistance were evaluated.
その結果を第2表に示した。 The results are shown in Table 2.
実施例2 実施例1においてランダム共重合シリコーン変性エポ
キシ樹脂(イ)をランダム共重合シリコーン変性エポキ
シ樹脂(ロ)*2にかえ、更にオルガノポリシロキサン
とアルキレンオキサイドとの共重合体をスチレンとオル
ガノポリシロキサンとの共重合体に変え、更にシリコー
ンゴムを液状合成ゴムに変えた以外は実施例1と同様に
して半導体封止用エポキシ樹脂組成物を得た。Example 2 In Example 1, the random copolymerized silicone-modified epoxy resin (a) was replaced with the random copolymerized silicone-modified epoxy resin (b) * 2 , and the copolymer of organopolysiloxane and alkylene oxide was replaced with styrene and organopolypropylene. An epoxy resin composition for encapsulating a semiconductor was obtained in the same manner as in Example 1, except that the copolymer was changed to a copolymer with siloxane and the silicone rubber was changed to a liquid synthetic rubber.
この材料の型汚れ性、樹脂バリをトランスファー成形
機(成形条件:金型温度175℃、硬化時間2分)を用い
て判定すると共に、得られた成形品を175℃、8時間で
後硬化しパッケージ内部のボイド、捺印性、耐熱衝撃
性、耐湿性および半田耐熱性を評価した。The stain resistance and resin burr of this material were determined using a transfer molding machine (molding conditions: mold temperature: 175 ° C., curing time: 2 minutes), and the obtained molded product was post-cured at 175 ° C. for 8 hours. The void inside the package, the sealability, the thermal shock resistance, the moisture resistance, and the solder heat resistance were evaluated.
その結果を第2表に示した。 The results are shown in Table 2.
実施例3〜6 同様にし第1表に示す組成物の半導体封止用エポキシ
樹脂組成物を得た。Examples 3 to 6 Similarly, epoxy resin compositions for encapsulating semiconductors having the compositions shown in Table 1 were obtained.
この半導体封止用エポキシ樹脂組成物の評価結果を第
2表に示す。Table 2 shows the evaluation results of the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation.
比較例1〜8 同様にし第1表に示す組成物の半導体封止用エポキシ
樹脂組成物を得た。Comparative Examples 1 to 8 In the same manner, epoxy resin compositions for semiconductor encapsulation having the compositions shown in Table 1 were obtained.
この半導体封止用エポキシ樹脂組成物の評価結果を第
2表に示す。Table 2 shows the evaluation results of the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation.
*1式〔I〕で示されるエポキシ樹脂とオルソアリルフ
ェノールとの共重合エポキシ樹脂と式〔II〕で示される
オルガノポリシロキサンとをランダム共重合エポキシ樹
脂/オルガノポリシロキサンを100/20(重量比)で反応
させたランダム共重合シリコーン変性エポキシ樹脂(エ
ポキシ当量250、軟化点75℃) 但しm/n+m=0.08 *2式〔III〕で示されるエポキシ樹脂とビスフェノー
ルAとの共重合エポキシ樹脂と式〔IV〕で示されるオル
ガノポリシロキサンとをランダム共重合エポキシ樹脂/
オルガノポリシロキサンを100/20(重量比)で反応させ
たランダム共重合シリコーン変性エポキシ樹脂(エポキ
シ当量265、軟化点77℃) 但しm/n+m=0.06 *3式〔V〕で示される共重合体 Y;CH2 3OC2H4O30C3H6O30CH3 *4式〔VI〕で示される共重合体 *5ビニル基含有オルガノポリシロキサンと水素含有オ
ルガノポリシロキサンとの界面重合により三次元架橋さ
せて得られる球状の固形シリコーンゴム(平均粒径15
μ、球状、SP値7.5) *6ブタジエンゴムの不飽和二重結合の一部を酸化し、
エポキシ化した液状エポキシ化ポリブタジエンゴム(酸
素含有量7%、粘度5500ポイズ、SP値8.4) *7型曇りが発生するまでの成形ショツト数にて判定。 * 1 A random copolymerized epoxy resin of an epoxy resin represented by the formula [I] and orthoallylphenol and an organopolysiloxane represented by the formula [II]: 100/20 (weight ratio) ) Random copolymerized silicone modified epoxy resin (epoxy equivalent 250, softening point 75 ℃) However, m / n + m = 0.08 * 2 A random copolymerized epoxy resin comprising a copolymerized epoxy resin of bisphenol A and an epoxy resin of formula [III] and an organopolysiloxane of formula [IV]
Random copolymerized silicone-modified epoxy resin obtained by reacting organopolysiloxane at 100/20 (weight ratio) (epoxy equivalent: 265, softening point: 77 ° C) However, m / n + m = 0.06 * 3 Copolymer represented by formula [V] Y; CH 2 3 OC 2 H 4 O 30 C 3 H 6 O 30 CH 3 * 4 Copolymer represented by the formula [VI] * 5 Spherical solid silicone rubber (average particle size of 15) obtained by three-dimensionally cross-linking by interfacial polymerization of 5- vinyl group-containing organopolysiloxane and hydrogen-containing organopolysiloxane.
μ, spherical, SP value 7.5) * 6 Oxidizes some of the unsaturated double bonds of butadiene rubber,
Epoxidized liquid epoxidized polybutadiene rubber (oxygen content 7%, viscosity 5500 poise, SP value 8.4) * Judgment by the number of molding shots until type 7 fogging occurs.
*8得られた成形品のベント部の樹脂バリの長さを測
定。* 8 The length of the resin burr at the vent of the obtained molded product was measured.
*910ショツト目の成形品を使用し、捺印後セロテープ
をはがした時、捺印が取られた数で判定。表中には成形
品50個中の捺印のはがれた個数を示す。* 9 Using the molded product of the 10th shot, when the cellophane tape is peeled off after marking, the judgment is based on the number of stamps. In the table, the number of peeled seals out of 50 molded products is shown.
*10成形品20個(後硬化175℃、8Hrs)を温度サイクル
テスト(150℃〜−65℃)にかけ、500サイクルのテスト
を行いクラックの発生した個数で判定。表中には成形品
20個中のクラックの発生した個数を示す。* 10 Twenty molded products (post-curing 175 ° C, 8Hrs) are subjected to a temperature cycle test (150 ° C to -65 ° C) and tested for 500 cycles. Judgment is based on the number of cracks. Molded products in the table
Shows the number of cracks out of 20.
*11成形品100個(後硬化175℃、8Hrs)を120℃の高圧
水蒸気中で1000時間の耐湿テストを行い発生した不良個
数で判定。表中には成形品100個中の不良の発生した個
数を示す。* 11 100 molded products (post-curing 175 ° C, 8Hrs) were subjected to a 1000-hour moisture resistance test in high-pressure steam at 120 ° C, and judged based on the number of defective products. The table shows the number of defective products out of 100 molded products.
*12成形品16個(後硬化175℃、8Hrs)を85℃、85%の
水蒸気中で72時間処理後、260℃の半田浴に10秒浸漬し
シラックの発生した個数で判定。表中には成形品16個中
のクラックの発生した個数を示す。* Twelve 16 molded products (post-cured 175 ° C, 8Hrs) were treated in 85 ° C, 85% water vapor for 72 hours, then immersed in a 260 ° C solder bath for 10 seconds, and judged by the number of generated syrac. The table shows the number of cracks in 16 molded products.
(発明の効果) ランダム共重合シリコーン変性エポキシ樹脂及びラン
ダム共重合シリコーン変性フェノール樹脂の両者に相溶
性のある溶解度パラメーター(SP値)を有するシリコー
ン系共重合体を組み合わせることにより成形加工性、捺
印性及び密着性の向上による半田耐熱性の向上が図ら
れ、さらにシリコーン系共重合体と相溶性の良いシリコ
ーンゴム、液状合成ゴムまたはシリコーンゴムと液状合
成ゴムとの混合物を組み合わせることによりさらにいっ
そうの成形加工性、捺印性、半田耐熱性の向上が図ら
れ、更に耐衝撃性が顕著に向上した半導体封止用エポキ
シ樹脂組成物が得られる。(Effects of the Invention) By combining a silicone-based copolymer having a solubility parameter (SP value) compatible with both a random copolymerized silicone-modified epoxy resin and a random copolymerized silicone-modified phenolic resin, moldability and printability are improved. Improved solder heat resistance due to improved adhesiveness, and further molding by combining silicone rubber, liquid synthetic rubber, or a mixture of silicone rubber and liquid synthetic rubber with good compatibility with the silicone copolymer. An epoxy resin composition for semiconductor encapsulation with improved processability, stamping properties, and solder heat resistance, and with significantly improved impact resistance is obtained.
この半導体封止用エポキシ樹脂組成物は耐衝撃性に優
れることから大きなチップを封止することが可能で、且
つ半田耐熱性にも非常に優れることから薄いパッケージ
に用いても信頼性の高いものである。This epoxy resin composition for semiconductor encapsulation is excellent in impact resistance, so it can seal large chips, and it has very good heat resistance in soldering, so it is highly reliable even when used for thin packages. It is.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 //(C08L 63/00 83:04) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Reference number in the agency FI Technical display location // (C08L 63/00 83:04)
Claims (3)
樹脂を反応させてなるランダム共重合シリコーン変性エ
ポキシ樹脂 (B)フェノール樹脂硬化剤 (C)SP値が7〜9の範囲にあるシリコーン系共重合体 (D)SP値が7〜9の範囲にあるシリコーンゴム (E)無機充填剤 を必須成分とし、樹脂成分(A+B)に対してシリコー
ン系共重合体(C)を0.1〜15重量%、シリコーンゴム
(D)を1〜25重量%含有することを特徴とするエポキ
シ樹脂組成物。1. A random copolymerized silicone-modified epoxy resin obtained by reacting an organopolysiloxane with an epoxy resin. 2. A phenolic resin curing agent. 3. A silicone copolymer having an SP value in the range of 7 to 9. Incorporation (D) Silicone rubber having an SP value in the range of 7 to 9 (E) Inorganic filler as an essential component, 0.1 to 15% by weight of silicone copolymer (C) based on resin component (A + B), An epoxy resin composition containing 1 to 25% by weight of a silicone rubber (D).
樹脂を反応させてなるランダム共重合シリコーン変性エ
ポキシ樹脂 (B)フェノール樹脂硬化剤 (C)SP値が7〜9の範囲にあるシリコーン系共重合体 (D)SP値が7〜9の範囲にある液状合成ゴム (E)無機充填剤 を必須成分とし、樹脂成分(A+B)に対してシリコー
ン系共重合体(C)を0.1〜15重量%、液状合成ゴム
(D)を0.5〜20重量%含有することを特徴とするエポ
キシ樹脂組成物。2. A random copolymerized silicone-modified epoxy resin obtained by reacting an organopolysiloxane with an epoxy resin. 2. A phenolic resin curing agent. 2. A silicone copolymer having an SP value in the range of 7 to 9. (D) Liquid synthetic rubber having an SP value in the range of 7 to 9 (E) Inorganic filler is an essential component, and the silicone copolymer (C) is 0.1 to 15% by weight based on the resin component (A + B). An epoxy resin composition comprising 0.5 to 20% by weight of a liquid synthetic rubber (D).
樹脂を反応させてなるランダム共重合シリコーン変性エ
ポキシ樹脂 (B)フェノール樹脂硬化剤 (C)SP値が7〜9の範囲にあるシリコーン系共重合体 (D)SP値が7〜9の範囲にあるシリコーンゴムと液状
合成ゴムの混合物 (E)無機充填剤 を必須成分とし、樹脂成分(A+B)に対してシリコー
ン系共重合体(C)を0.1〜15重量%、シリコーンゴム
と液状合成ゴムの混合物(D)を0.5〜20重量%含有す
ることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。3. A random copolymerized silicone modified epoxy resin obtained by reacting an organopolysiloxane with an epoxy resin. 2. A phenolic resin curing agent. 3. A silicone copolymer having an SP value in the range of 7 to 9. Combination (D) Mixture of silicone rubber and liquid synthetic rubber having an SP value in the range of 7 to 9 (E) Inorganic filler is an essential component, and silicone copolymer (C) is added to resin component (A + B). An epoxy resin composition comprising 0.1 to 15% by weight, and 0.5 to 20% by weight of a mixture (D) of a silicone rubber and a liquid synthetic rubber.
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