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JP2635674B2 - Magnetic thin film for thin film magnetic head and method of manufacturing the same - Google Patents

Magnetic thin film for thin film magnetic head and method of manufacturing the same

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Publication number
JP2635674B2
JP2635674B2 JP9807388A JP9807388A JP2635674B2 JP 2635674 B2 JP2635674 B2 JP 2635674B2 JP 9807388 A JP9807388 A JP 9807388A JP 9807388 A JP9807388 A JP 9807388A JP 2635674 B2 JP2635674 B2 JP 2635674B2
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Japan
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film
magnetic
thin film
permalloy
head
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JP9807388A
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浩司 藤井
英豪 橋本
渡辺  滋
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SHICHIZUN TOKEI KK
Original Assignee
SHICHIZUN TOKEI KK
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Publication date
Application filed by SHICHIZUN TOKEI KK filed Critical SHICHIZUN TOKEI KK
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は薄膜磁気ヘッドの磁極用材料として用いる薄
膜磁気ヘッド用磁性薄膜の構造とその製造方法に関し、
とくに高密度記録媒体に対応する薄膜磁気ヘッドを対象
とするものである。
The present invention relates to a structure of a magnetic thin film for a thin-film magnetic head used as a material for a magnetic pole of a thin-film magnetic head and a method of manufacturing the same.
In particular, it is intended for a thin film magnetic head corresponding to a high density recording medium.

〔従来の技術とその課題〕[Conventional technology and its problems]

従来、薄膜磁気ヘッド用磁性薄膜には、ニッケル80重
量パーセント、残余鉄よりなる80パーマロイ膜が使用さ
れている。これについては、たとえば特開昭60−10410
号公報に開示されている。80パーマロイ膜は高周波領域
での透磁率が高いため、これを磁極材として使用した薄
膜磁気ヘッドは読み出し性能が優れる。
Conventionally, an 80 permalloy film made of 80% by weight of nickel and the balance of iron has been used as a magnetic thin film for a thin film magnetic head. This is described, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-10410.
No. 6,086,045. Since the 80 permalloy film has a high magnetic permeability in a high frequency region, a thin film magnetic head using this as a magnetic pole material has excellent read performance.

しかしながら、この80パーマロイは飽和磁束密度が約
10キロガウスと低いため、これを磁極材として使用した
薄膜磁気ヘッドは書き込み性能が劣る。今後の高密度記
録化には、媒体の高保磁力化が不可欠であり、メタル媒
体のような高保磁力高密度媒体が使用される場合には、
80パーマロイを磁極材として薄膜磁気ヘッドでは書き込
み性能が不足し、したがってより高飽和磁束密度を有す
る磁極材が必要となる。
However, this 80 permalloy has a saturation magnetic flux density of about
Since it is as low as 10 kilogauss, the thin-film magnetic head using this as a magnetic pole material has poor writing performance. Higher coercivity of the medium is indispensable for high density recording in the future, and when a high coercivity high density medium such as a metal medium is used,
With a thin film magnetic head using 80 permalloy as the pole material, the write performance is insufficient. Therefore, a pole material having a higher saturation magnetic flux density is required.

現在80パーマロイにかわるより高飽和磁束密度を有す
る材料として、センダスト(Fe−Si−Al)や、アモルフ
ァスコバルト(Co−Nb−Zrなど)などの開発が進められ
ている。これらのセンダストやアモルファスコバルトの
形成方法は、いずれもスパッタリング法を用いるプラズ
マ中での乾式による膜形成方法を採用している。
At present, as materials having higher saturation magnetic flux density than 80 permalloy, sendust (Fe-Si-Al) and amorphous cobalt (Co-Nb-Zr, etc.) are being developed. Each of these sendust and amorphous cobalt formation methods employs a dry film formation method in plasma using a sputtering method.

さらにたとえば特開昭63−80509号公報には、Co、F
e、Niのうちすくなくとも一種を主成分とする金属の積
層膜について開示されており、Co−Fe−Ni3元合金も含
まれている。しかしながら特開昭63−80509号公報では
前述のCo−Fe−Ni3元合金、とくにパーミンバー組成に
関する記載はない。さらにこの公開公報の実施例におい
ては、イオンビームスパッタリング法、すなわち乾式の
膜形成手段が用いられており、中間層の膜厚が0.05から
5nmとかなり薄い超格子膜の形成には、膜厚の制御性を
向上させるためには、低速な膜形成がイオンビームスパ
ッタリングがふさわしいと思われる。
Further, for example, JP-A-63-80509 discloses Co, F
It discloses a laminated film of a metal containing at least one of e and Ni as a main component, and also includes a Co-Fe-Ni ternary alloy. However, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-80509 does not disclose the above-mentioned Co-Fe-Ni ternary alloy, particularly the composition of permbar. Further, in the example of this publication, the ion beam sputtering method, that is, a dry film forming means is used, and the thickness of the intermediate layer is from 0.05 to
For forming a superlattice film as thin as 5 nm, ion beam sputtering seems to be suitable for low-speed film formation in order to improve the controllability of the film thickness.

上記のように従来の高飽和磁束密度で、軟磁性を有す
る高密度記録対応の磁性膜の形成手段としては、乾式の
膜形成手段により形成可能な材料にのみ限られている。
As described above, means for forming a conventional magnetic film having high saturation magnetic flux density and soft magnetism and capable of high density recording is limited to only a material that can be formed by a dry film forming means.

しかしながらこの乾式の膜形成手段はプラズマダメー
ジや、膜形成時における基板の温度上昇や、コスト高
や、量産性の低さなどの問題点がある。このため、なか
なか薄膜磁気ヘッドの製造プロセスへの適用が難しく、
湿式メッキによる高飽和磁束密度で、軟磁性を有する材
料の開発が求められている。
However, this dry film forming means has problems such as plasma damage, a rise in substrate temperature during film formation, high cost, and low mass productivity. For this reason, it is very difficult to apply it to the manufacturing process of a thin film magnetic head,
Development of a material having high saturation magnetic flux density and soft magnetism by wet plating is required.

さらに近年、高記録密度対応の薄膜ヘッドとして注目
されている磁気抵抗効果型ヘッドにおいては、従来の薄
膜ヘッド、すなわちインダクティブヘッドが書き込み専
用に用いる。このため、高保磁力を有する媒体に充分書
き込むために、再生効率に重要な透磁率よりも書き込み
能力に重要な高飽和磁化が重要視される傾向にある。
In recent years, in a magnetoresistive head, which has attracted attention as a thin film head compatible with a high recording density, a conventional thin film head, that is, an inductive head is used exclusively for writing. For this reason, in order to sufficiently write data on a medium having a high coercive force, there is a tendency that higher saturation magnetization, which is more important for writing performance, is more important than magnetic permeability, which is more important for reproduction efficiency.

〔発明の目的〕[Object of the invention]

そこで本発明の目的は、高密度記録用薄膜磁性ヘッド
の磁極材料として望ましい透磁率(μ)1000以上、飽和
磁束密度(Bs)14キロガウス以上、保磁力(Hc)0.5エ
ルステッド以下の軟磁気特性を有する磁性膜構造と、そ
の製造方法とを提供することである。
Therefore, an object of the present invention is to provide a soft magnetic property having a magnetic permeability (μ) of 1000 or more, a saturation magnetic flux density (Bs) of 14 kGauss or more, and a coercive force (Hc) of 0.5 Oe or less, which are desirable as a magnetic pole material of a thin film magnetic head for high density recording. An object of the present invention is to provide a magnetic film structure having the same and a manufacturing method thereof.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

上記目的を達成するために本発明の薄膜磁気ヘッド用
磁性薄膜およびその製造方法は、下記記載の手段を採用
する。
In order to achieve the above object, a magnetic thin film for a thin film magnetic head according to the present invention and a method for manufacturing the same employ the following means.

(イ) 本発明の薄膜磁気ヘッド用磁性薄膜において
は、ニッケル32〜54重量パーセント、コバルト16〜48重
量パーセント、鉄10〜34重量パーセントからなるパーミ
ンバー型3元合金膜と、ニッケル75〜85重量パーセン
ト、残余鉄からなる80パーマロイ膜とを交互に積層する
合計5層以上からなり、パーミンバー型3元合金膜の膜
厚が80パーマロイ膜の2〜5倍の範囲にあることを特徴
とする。
(A) In the magnetic thin film for a thin film magnetic head of the present invention, a Perminbar type ternary alloy film composed of 32 to 54% by weight of nickel, 16 to 48% by weight of cobalt, and 10 to 34% by weight of iron; % And a total of five or more layers alternately laminated with an 80 permalloy film made of residual iron, and the film thickness of the Permimber type ternary alloy film is in the range of 2 to 5 times the 80 permalloy film.

(ロ) 本発明の薄膜磁気ヘッド用磁性薄膜の製造方法
においては、ニッケル32〜54重量パーセント、コバルト
16〜48重量パーセント、鉄10〜34重量パーセントからな
るパーミンバー型3元合金膜と、ニッケル75〜85重量パ
ーセント、残余鉄からなる80パーマロイ膜とを交互に積
層する合計5層以上からなり、パーミンバー型3元合金
膜の膜厚が80パーマロイ膜の2〜5倍の範囲にある薄膜
磁気ヘッド用磁性薄膜の製造方法は、パーミンバー型3
元合金膜と80パーマロイ膜とは湿式メッキ法により形成
することを特徴とする。
(B) In the method for producing a magnetic thin film for a thin film magnetic head of the present invention, nickel
The Perminbar type ternary alloy film consisting of 16-48% by weight and 10-34% by weight of iron and the 80% Permalloy film consisting of 75-85% by weight of nickel and the balance of iron are alternately laminated to form a total of five or more layers. The method of manufacturing a magnetic thin film for a thin-film magnetic head in which the thickness of the mold ternary alloy film is in the range of 2 to 5 times the thickness of the 80 permalloy film is disclosed in US Pat.
The original alloy film and the 80 permalloy film are formed by a wet plating method.

〔作用〕[Action]

磁気ヘッドにおいて記録密度の向上は常に技術課題と
なる。リジットディスクおよびフロッピーディスクにお
いても、ともに記録密度の向上が望まれる。このために
トラック密度と線記録密度との双方から努力が払われて
いる。本発明は線記録密度の向上に関わる。
Improving the recording density of a magnetic head is always a technical issue. For both rigid disks and floppy disks, it is desired to improve the recording density. For this purpose, efforts are being made from both track density and linear recording density. The present invention relates to improvement in linear recording density.

線記録媒体は、記録媒体とヘッド特性とによって決ま
る。「磁気記録の理論」(西川正明著、朝倉書店)によ
れば、記録媒体特性と磁化反転密度D50との間に以下の
ような関係がある。(前述の著書の159ページと163ペー
ジ) D50≒1.38/W50=1.38(Hc/Br)0.5δ−(0.70.8) ここにおいて W50:孤立再生波形の半値幅 Hc:記録媒体の保持力 Br:記録媒体の残留磁化 δ:記録媒体の厚さ である。
The linear recording medium is determined by the recording medium and the head characteristics. According to “Theory of Magnetic Recording” (by Masaaki Nishikawa, Asakura Shoten), the following relationship exists between the characteristics of the recording medium and the magnetization reversal density D50. (Pages 159 and 163 of the aforementioned book) D50 ≒ 1.38 / W50 = 1.38 (Hc / Br) 0.5 δ- (0.7 to 0.8) where W50: Half width of isolated reproduction waveform Hc: Retention force of recording medium Br: Remanent magnetization of recording medium δ: thickness of recording medium.

すなわち、磁化反転密度(線記録密度)D50は、記録
媒体の保持力と、残留磁化と、厚さとにより決定され
る。残留磁化と厚さとを減じると磁化反転密度(線記録
密度)D50を増加させることができるが、これら2つの
パラメーターは再生出力の点からおのずと限界がある。
したがってD50は主に記録媒体保持力により決定され
る。すなわち媒体保持力Hcが大きくなる程、線記録密度
D50は大きくなる。ところで媒体保持力Hcを大きくする
と、それに応じてヘッドの書き込み磁界を大きくする必
要があり、このヘッドの書き込み磁界はヘッド磁極材の
飽和磁束密度Bsで決定される。
That is, the magnetization reversal density (linear recording density) D50 is determined by the coercive force, the residual magnetization, and the thickness of the recording medium. Decreasing the remanent magnetization and thickness can increase the magnetization reversal density (linear recording density) D50, but these two parameters are naturally limited in terms of reproduction output.
Therefore, D50 is mainly determined by the recording medium holding force. That is, as the medium holding force Hc increases, the linear recording density increases.
D50 increases. By the way, when the medium holding force Hc is increased, it is necessary to increase the write magnetic field of the head accordingly, and the write magnetic field of the head is determined by the saturation magnetic flux density Bs of the head magnetic pole material.

書き込み磁界Hx maxは、 Hx max=(2Hg/π)tan-1(g/2y)で表わされる。The write magnetic field Hxmax is represented by Hxmax = (2Hg / π) tan −1 (g / 2y).

ここで、 Hg:ギャップ内磁界 g:ギャップ長 y={d(d+δ)}1/2 d:ヘッド−媒体間分離長 δ:媒体厚さ である。Here, Hg: magnetic field in the gap g: gap length y = {d (d + δ)} 1/2 d: separation length between head and medium δ: medium thickness

またギャップ内磁界Hgは、 Hg≦Bs ここで Bs:磁性材の飽和磁束密度 なる関係があり、他のパラメーターを固定した場合、書
き込み磁界Hx maxは磁極材の飽和磁束密度Bsで決定され
る。
The magnetic field Hg in the gap has the following relationship: Hg ≦ Bs where Bs: saturation magnetic flux density of the magnetic material. When other parameters are fixed, the write magnetic field Hxmax is determined by the saturation magnetic flux density Bs of the magnetic pole material.

また中西らの報告(通研研究実用化報告第28巻10号、
1979年149ページ)によれば、消去(重ね書き)に必要
な磁界は媒体保磁力Hcの3倍とされる。
Nakanishi et al.'S report (Tsukuken R & D Report No. 28, No. 10,
According to 1979, p. 149), the magnetic field required for erasing (overwriting) is three times the medium coercive force Hc.

以上の考察を踏まえて、現在使用されているあるいは
将来使用されるであろう磁気記録媒体の保磁力Hcと線記
録密度D50の、それに書き込み可能な磁極材の飽和磁束
密度Bsとの関係を第3図に示す。
Based on the above considerations, the relationship between the coercive force Hc of the magnetic recording medium currently used or that will be used in the future and the linear recording density D50, and the saturation magnetic flux density Bs of the writable magnetic pole material is described. It is shown in FIG.

この第3図の結果によれば、従来薄膜磁気ヘッドに使
用されている磁極材80パーマロイはBs=10キロガウス
(KG)であり、Co−γFe2O3(Hc=720エルステッド(O
e)、D50=28KBPI)までは充分書き込み可能であるが、
メタル塗布媒体(Hc1500Oe、D50=46KBPI)では書き込
み不足となる。したがってより高い飽和磁束密度Bsを有
する磁極材が望まれる。
According to the results shown in FIG. 3, the magnetic pole material 80 Permalloy conventionally used for the thin film magnetic head has Bs = 10 kilogauss (KG) and Co-γFe2O3 (Hc = 720 Oersted (O
e), up to D50 = 28KBPI)
Insufficient writing on metal coated media (Hc1500Oe, D50 = 46KBPI). Therefore, a pole material having a higher saturation magnetic flux density Bs is desired.

Ni45重量%、Fe30重量%、Co25重量%を中心とする組
織をもつパーミンバーは、約14〜18KGと飽和磁束密度が
高く、書き込み特性は優れている。しかし透磁率μは約
400〜600と低い。C.W.Steelらによると書き込みにはμ
>100程度がHx分布の劣化を抑えるための目安になると
されている。
Perminbar having a structure mainly composed of 45% by weight of Ni, 30% by weight of Fe, and 25% by weight of Co has a high saturation magnetic flux density of about 14 to 18KG and has excellent writing characteristics. However, the permeability μ is about
As low as 400-600. According to CWSteel et al.
It is said that about 100 is a standard for suppressing the deterioration of the Hx distribution.

また前出の「磁気記録の理論」(西川著)によれば、
再生ヘッドには記録ヘッドに比べると1桁大きい透磁率
を有するコアが要求される。(113ページ) すなわち透磁率μは、100以下では読み書き不可の領
域となり、100から1000では書き込みのみ可能の領域と
なり、1000以上で読み書き可能の領域となる。
According to "Theory of Magnetic Recording" (by Nishikawa),
The reproducing head is required to have a core having a magnetic permeability one digit larger than that of the recording head. (Page 113) That is, when the magnetic permeability μ is 100 or less, the area is not readable and writable. When the magnetic permeability μ is 100 to 1000, the area is readable only.

第4図にこれの考察を踏まえて80パーマロイとパーミ
ンバー組成の性能を評価する。80パーマロイはμ=2000
と高いがBs=10KGでメタル塗布媒体に対して書き込み性
能が不足する。一方パーミンバー組成のものはBs=15〜
18KGと高いが、μ=400〜600と低く読み取り性能に劣
る。
FIG. 4 evaluates the performance of the 80 permalloy and perminbar compositions based on this consideration. 80 permalloy is μ = 2000
However, when Bs = 10KG, the writing performance on the metal-coated medium is insufficient. On the other hand, Bs = 15 ~
Although it is as high as 18KG, it is as low as μ = 400-600 and has poor reading performance.

本発明は、80パーマロイとパーミンバー型Co−Fe−Ni
3元膜を交互に積層し、Bs>14KG、μ>1000、Hc<0.5Oe
という値をもつ磁極材を得、第2図に示すようにメタル
塗布媒体に対して読み書きともに満足する性能を有する
薄膜磁気ヘッド用磁性薄膜を提供する。以下実施例によ
り説明する。
The present invention relates to 80 permalloy and permbar type Co-Fe-Ni
Alternately stacking ternary films, Bs> 14KG, μ> 1000, Hc <0.5Oe
As shown in FIG. 2, there is provided a magnetic thin film for a thin film magnetic head having a performance satisfying both reading and writing with respect to a metal coated medium. Hereinafter, an embodiment will be described.

〔実施例〕〔Example〕

(実施例1) 湿式メッキ法を用いる80パーマロイ膜の形成方法は、
Niメッキでよく用いられるワット浴を主成分としてメッ
キ液の調整を行った。メッキ浴にはNi成分としてNiSO4
・7H2O、NiC12・6H2O、Fe成分としてFeSO4・7H2Oのほか
pH緩衝剤としてH3BO3と、光沢剤であるサッカリンナト
リウム、界面活性剤であるラウリル硫酸ナトリウムとを
適当量加えた。メッキ浴は濾過後、pHが2.2になるよう
にH2SO4で調整した。
(Example 1) A method of forming an 80 permalloy film using a wet plating method is as follows.
The plating solution was adjusted using a watt bath, which is often used in Ni plating, as a main component. NiSO4 as Ni component in plating bath
・ 7H2O, NiC12.6H2O, other than FeSO4.7H2O as Fe component
An appropriate amount of H3BO3 as a pH buffer, sodium saccharin as a brightener, and sodium lauryl sulfate as a surfactant were added. After filtration, the plating bath was adjusted with H2SO4 to a pH of 2.2.

パーミンバー膜のメッキにおいては、さらに以上説明
したメッキ浴にCo成分としてCoSO4・7H2Oを添加した。
メッキ液は浴温40℃とし、マグネティックポンプにより
液の循環を行い、循環系にはフィルターを導入した。ま
たフィルター通過後をメッキ液はカソード(基板)とア
ノード(対極)間に噴流させてメッキ液の供給、浴撹拌
を行った。これによりメッキ膜の組成分布や膜厚分布の
ばらつきを抑えることができる。アノードには、通常Ni
板が用いられるが、本実施例では浴組成に影響を与えな
いTi−Ptの網を用いた。また電源はガルバノスタットに
より定電流制御で行った。またメッキ膜の密着性を強化
するためには、通常のメッキ時電流密度の約3倍のメッ
キ電流をごく短時間、5秒程度印加するいわゆるストラ
イクメッキを行ってもよく、これによる磁気特性への影
響はほとんどないことを確認した。基板は磁気特性測定
用としてガラス基板上に、メッキ下地膜としてスパッタ
リングによりパーマロイ膜100nmの膜厚で膜形成した。
In the plating of the permbar film, CoSO4.7H2O was added as a Co component to the plating bath described above.
The plating solution was set at a bath temperature of 40 ° C., the solution was circulated by a magnetic pump, and a filter was introduced into the circulation system. After passing through the filter, the plating solution was jetted between the cathode (substrate) and the anode (counter electrode) to supply the plating solution and agitate the bath. As a result, variations in the composition distribution and film thickness distribution of the plating film can be suppressed. The anode is usually Ni
Although a plate is used, a Ti-Pt net which does not affect the bath composition is used in this example. The power supply was controlled by galvanostat under constant current control. In order to enhance the adhesion of the plating film, so-called strike plating in which a plating current of about three times the current density during normal plating is applied for a very short period of time for about 5 seconds may be performed. Has almost no effect. The substrate was formed on a glass substrate for measurement of magnetic properties by sputtering as a plating base film with a thickness of 100 nm permalloy film.

(実施例2) 80パーマロイはNiSO4・7H2O(300g/l)、NiCl12・6H2
O(30g/l)と、FeSO4・7H2O(30g/l)、その他はH3BO3
(40g/l)、サッカリンナトリウム(1.5g/l)、ラウリ
ル硫酸ナトリウム(0.25g/l)を含むメッキ液におい
て、メッキ電流密度を7mA/cm2とすることにより得た。
(Example 2) 80 permalloy was NiSO4.7H2O (300 g / l), NiCl12.6H2
O (30g / l), FeSO4 ・ 7H2O (30g / l), others are H3BO3
(40 g / l), a saccharin sodium (1.5 g / l), and a plating solution containing sodium lauryl sulfate (0.25 g / l) were obtained by setting the plating current density to 7 mA / cm2.

またパーミンバー組成の膜については、CoSO4・7H2O
(10〜200g/l)、NiSO4・6H2O(200g/l)、NiCl2・6H2O
(30g/l)、FeSO4・7H2O(10〜150g/l)、その他H3BO3
(40g/l)、サッカリンナトリウム(1.5g/l)、ラウリ
ル硫酸ナトリウム(0.25g/l)を含むメッキ浴を用いて
作製した。浴中のCo、Fe、Ni成分量の比とメッキ電流密
度とを変化させることによって、析出する膜組成を制御
した。
In addition, for the film with the perminbar composition, CoSO4.7H2O
(10-200g / l), NiSO4.6H2O (200g / l), NiCl2.6H2O
(30g / l), FeSO4.7H2O (10-150g / l), other H3BO3
(40 g / l), a saccharin sodium (1.5 g / l), and a plating bath containing sodium lauryl sulfate (0.25 g / l). The composition of the deposited film was controlled by changing the ratio of the amounts of the Co, Fe, and Ni components in the bath and the plating current density.

(実施例3) 先の第1の実施例に記載の80パーマロイと、Bs=17K
G、μ=400のCo37Fe28Ni35膜との積層を行った。このパ
ーミンバー組成の膜は、CoSO4・7H2O(50g/l)、NiSO4
・6H2O(200g/l)、NiCl2・6H2O(30g/l)、FeSO4・7H2
O(120g/l)、その他H3BO3、サッカリンナトリウム、ラ
ウリル硫酸ナトリウムよりなるメッキ液において、メッ
キ電流密度を7.2mA/cm2とすることにより得た。
(Example 3) 80 permalloy described in the first example and Bs = 17K
Lamination with a Co37Fe28Ni35 film of G, μ = 400 was performed. The film of this Perminbar composition is composed of CoSO4.7H2O (50 g / l), NiSO4
・ 6H2O (200g / l), NiCl2.6H2O (30g / l), FeSO4.7H2
O (120 g / l), a plating solution comprising H3BO3, sodium saccharin, and sodium lauryl sulfate were obtained by setting the plating current density to 7.2 mA / cm2.

つぎにこのCo37Fe28Ni35膜と80パーマロイ膜との積層
膜を作製した。積層は上記2種類のメッキ浴に交互に浸
漬することで得ることができるが、お互いのメッキ液で
の組成変動がおこるため、好ましくは治具に付着した不
要のメッキ液は純水洗浄槽を2つのメッキ浴間に設けて
充分落とすようにするとよい。
Next, a laminated film of the Co37Fe28Ni35 film and the 80 permalloy film was prepared. The lamination can be obtained by alternately immersing in the two types of plating baths described above. However, since the composition of the respective plating solutions fluctuates, unnecessary plating solutions adhering to the jig are preferably cleaned with a pure water cleaning tank. It is preferable to provide a space between the two plating baths so as to sufficiently drop them.

このようにしてCo37Fe28Ni35膜を第1層と第3層と第
5層とに80パーマロイ膜を第2層と第4層として、交互
に計5層積層した膜の1層の膜厚に対する飽和磁束密度
Bsと透磁率μ(4Mhz測定)との関係を第1図に示す。な
お80パーマロイの1層の厚さは100nmとする。
In this way, the saturation magnetic flux with respect to the thickness of one layer of a total of five layers in which the Co37Fe28Ni35 film is alternately laminated as the first layer, the third layer, and the fifth layer, and the 80 permalloy film is the second layer and the fourth layer. density
FIG. 1 shows the relationship between Bs and the magnetic permeability μ (measured at 4 MHz). The thickness of one layer of 80 permalloy is 100 nm.

第1図から明らかなように、80パーマロイの対するパ
ーミンバーの膜厚比が2〜5の範囲でBs>14KG、μ>10
00であり、メタル塗布媒体を読み書きするのに充分な性
能を有する軟磁性薄膜が得られることがわかった。
As is clear from FIG. 1, when the film thickness ratio of perminbar to 80 permalloy is in the range of 2 to 5, Bs> 14KG and μ> 10
00, which proves that a soft magnetic thin film having sufficient performance for reading and writing on the metal-coated medium can be obtained.

(実施例4) 第1の実施例に記載の80パーマロイと、Bs=15.6KG、
μ=600のCo31Fe21Ni48膜との積層を行った。このパー
ミンバー組成の膜は、CoSO4・7H2O(40g/l)、NiSO4・6
H2O(200g/l)、NiCl2・6H2O(30g/l)、FeSO4・7H2O
(140g/l)、その他H3BO3、サッカリンナトリウム、ラ
ウリル硫酸ナトリウムよりなるメッキ液において、メッ
キ電流密度を7.5mA/cm2とすることにより得た。
(Example 4) 80 permalloy described in the first example, Bs = 15.6KG,
Lamination with a Co31Fe21Ni48 film of μ = 600 was performed. The film of this Perminver composition is composed of CoSO4.7H2O (40 g / l), NiSO4.6
H2O (200g / l), NiCl2.6H2O (30g / l), FeSO4.7H2O
(140 g / l), and a plating solution comprising H3BO3, sodium saccharin, and sodium lauryl sulfate at a plating current density of 7.5 mA / cm2.

このCo31Fe21Ni48膜を第1層と第3層と第5層とに、
80パーマロイを第2層と第4層として交互に計5層積層
した膜の1層の膜厚に対する飽和磁束密度Bsと透磁率μ
(4MHz測定)との関係を第2図に示す。なお80パーマロ
イの1層の厚さは100nmとした。
This Co31Fe21Ni48 film is formed into a first layer, a third layer, and a fifth layer,
Saturation magnetic flux density Bs and magnetic permeability μ relative to the thickness of one layer of a total of five layers of 80 permalloy alternately laminated as a second layer and a fourth layer
(4 MHz measurement) is shown in FIG. The thickness of one layer of 80 permalloy was 100 nm.

第2図から明らかなように、80パーマロイに対するパ
ーミンバーの膜厚比が2〜5の範囲で、Bs>14KG、μ>
1000であり、メタル塗布媒体を読み書きするのに充分な
性能を軟磁性薄膜が得られることがわかった。
As is clear from FIG. 2, when the thickness ratio of perminbar to 80 permalloy is in the range of 2 to 5, Bs> 14KG, μ>
It was 1000, which proved that a soft magnetic thin film having sufficient performance for reading and writing a metal-coated medium was obtained.

(実施例5) 上・下部両磁極厚2.3μm、トラック幅40μm、ギャ
ップ長0.3μm、ギャップ深さ2μm、およびコイル巻
数50ターン(2重コイル)のフロッピーディスク用の薄
膜磁気ヘッドを作製した。ヘッドAはCo37Fe28Ni35膜が
500nmで4層、80パーマロイが100nmの膜厚で3層、総積
層数7層、全膜厚が2.3μmからなる積層磁性薄膜を磁
極材とした。ヘッドBは、80パーマロイ単層膜を磁極材
とした。ヘッドCは、Co37Fe28Ni35単層膜を磁極材とし
た。
(Example 5) A thin-film magnetic head for a floppy disk having both upper and lower magnetic pole thicknesses of 2.3 µm, a track width of 40 µm, a gap length of 0.3 µm, a gap depth of 2 µm, and a coil turn of 50 turns (double coil) was manufactured. Head A has Co37Fe28Ni35 film
The magnetic pole material was a laminated magnetic thin film consisting of four layers at 500 nm, three layers of 80 permalloy having a thickness of 100 nm, a total of seven layers, and a total thickness of 2.3 μm. The head B was made of an 80 permalloy single-layer film as a magnetic pole material. The head C was made of a Co37Fe28Ni35 single layer film as a magnetic pole material.

下記の表1にヘッドAとヘッドBとヘッドCとのメタ
ル塗布媒体(Hc=1500Oe)への読み書き性能、すなわち
出力電圧およびオーバーライト特性を示す。ヘッドBは
オーバーライトが不足し、ヘッドCは出力電圧が不足し
ている。すなわち本発明によるパーミンバー型合金膜と
80パーマロイとを交互積層した磁性薄膜を磁極材とした
ヘッドAのみが充分な読み書き性能を示した。
Table 1 below shows the read / write performance of the head A, the head B, and the head C on the metal coating medium (Hc = 1500 Oe), that is, the output voltage and the overwrite characteristics. The head B lacks overwriting, and the head C lacks output voltage. That is, with the Perminbar type alloy film according to the present invention,
Only the head A using a magnetic thin film obtained by alternately laminating 80 permalloy with magnetic pole material showed sufficient read / write performance.

〔発明の効果〕 以上の説明から明らかなように、本発明によれば高保
磁力、高密度磁気記録媒体に対して優れた読み書き性能
を有する薄膜磁気ヘッド用磁性薄膜を量産性、プロセス
マッチングに優れた湿式メッキ法により得ることができ
る。
[Effects of the Invention] As is clear from the above description, according to the present invention, a magnetic thin film for a thin film magnetic head having high coercive force and excellent read / write performance for a high-density magnetic recording medium is excellent in mass productivity and process matching. Can be obtained by a wet plating method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図と第2図とは本発明の実施例における積層磁性薄
膜の形成要因と飽和磁束密度Bsと透磁率μとの関係を示
す図表、第3図は各種磁気記録媒体の線記録密度とこれ
に書き込み性能を有するヘッド磁極材の飽和磁束密度Bs
との関係を示す図表、第4図はヘッド磁極材の飽和磁束
密度Bsと透磁率μとヘッドの読み書き性能の関係を示す
図表である。
1 and 2 are tables showing the relationship between the formation factor of the laminated magnetic thin film and the saturation magnetic flux density Bs and the magnetic permeability μ in the embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a table showing the linear recording densities of various magnetic recording media. The saturation magnetic flux density Bs of the head magnetic pole material with write performance
FIG. 4 is a chart showing the relationship between the saturation magnetic flux density Bs of the head magnetic pole material, the magnetic permeability μ, and the read / write performance of the head.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ニッケル32〜54重量パーセント、コバルト
16〜48重量パーセント、鉄10〜34重量パーセントからな
るパーミンバー型3元合金膜と、ニッケル75〜85重量パ
ーセント、残余鉄からなる80パーマロイ膜とを交互に積
層する合計5層以上からなり、パーミンバー型3元合金
膜の膜厚が80パーマロイ膜の2〜5倍の範囲にあること
を特徴とする薄膜磁気ヘッド用磁性薄膜。
1. The method of claim 1 wherein the nickel is 32 to 54 weight percent cobalt.
The Perminbar type ternary alloy film consisting of 16-48% by weight and 10-34% by weight of iron and the 80% Permalloy film consisting of 75-85% by weight of nickel and the balance of iron are alternately laminated to form a total of five or more layers. A magnetic thin film for a thin-film magnetic head, wherein the thickness of the mold ternary alloy film is in the range of 2 to 5 times the 80 permalloy film.
【請求項2】ニッケル32〜54重量パーセント、コバルト
16〜48重量パーセント、鉄10〜34重量パーセントからな
るパーミンバー型3元合金膜と、ニッケル75〜85重量パ
ーセント、残余鉄からなる80パーマロイ膜とを交互に積
層する合計5層以上からなり、パーミンバー型3元合金
膜の膜厚が80パーマロイ膜の2〜5倍の範囲にある薄膜
磁気ヘッド用磁性薄膜の製造方法は、パーミンバー型3
元合金膜と80パーマロイ膜とは湿式メッキ法により形成
することを特徴とする薄膜磁気ヘッド用磁性薄膜の製造
方法。
2. The method of claim 1 wherein the nickel is 32 to 54 weight percent cobalt.
The Perminbar type ternary alloy film consisting of 16-48% by weight and 10-34% by weight of iron and the 80% Permalloy film consisting of 75-85% by weight of nickel and the balance of iron are alternately laminated to form a total of five or more layers. The method of manufacturing a magnetic thin film for a thin-film magnetic head in which the thickness of the mold ternary alloy film is in the range of 2 to 5 times the thickness of the 80 permalloy film is disclosed in US Pat.
A method for producing a magnetic thin film for a thin film magnetic head, wherein the original alloy film and the 80 permalloy film are formed by a wet plating method.
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