JP2634483B2

JP2634483B2 - 防菌防黴清拭軟膏および光学機器の清拭方法

Info

Publication number: JP2634483B2
Application number: JP2160282A
Authority: JP
Inventors: 利明手塚; 正雄井沢
Original assignee: Olympus Corp
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1990-06-18
Filing date: 1990-06-18
Publication date: 1997-07-23
Anticipated expiration: 2012-07-23
Also published as: JPH0449207A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、光学機器に使用する防菌防黴清拭軟膏に関
する。

〔従来の技術〕

光学機器は、まれに微生物による不具合が起きる。即
ち、光学素子上に糸状菌（一般にレンズかびと呼ばれ
る）が発生して、光学系の品位を著しく低下させる。こ
のレンズかびは、光学機器の保管環境等に大きく影響を
受けるため、根絶が難しく、また光学機器を分解して手
入れしなければならないために、製造者側のメンテナン
スが重要となる場合が多い。

従来、実際に分解修理を行う場合には、有機溶剤で清
拭することが多い。また、菌の繁殖が顕著な場合には、
プラスチックによって汚れとかびを剥ぎ取ることが行わ
れていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところが、従来の有機溶剤やプラスチックによる清拭
では、レンズかびの再発に関しての考慮が欠けていた。

本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもの
で、レンズかびの再発を防止することができる防菌防黴
清拭軟膏および光学機器の清拭方法を提供することを目
的とする。

〔課題を解決するための手段および作用〕

上記目的を達成するために、本発明は、光学機器を清
拭する清拭軟膏であって、クリーム状軟膏原料と、２−
（４−チアゾリル）ベンズイミダゾール0.01〜５重量
％,10,10′−オキシビスフェノキシアルシン10〜100PP
M,α−ブロムシンナムアルデヒド0.01〜５重量％,O−フ
ェニルフェノール５〜30重量％，レゾルシノール１〜20
重量％，β−ツヤプリシン0.01〜５重量％,3,3,4′−ト
リクロロカルバニリド0.1〜５重量％，塩化デカリニウ
ム0.01〜５重量％，ジョードメチル−ｐ−トリスルホン
0.01〜５重量％，塩化メチルロザリニン0.1〜10重量
％，テトラメチルイソフタロニトリル0.5重量％，ジク
ロフェン0.01〜５重量％,p−オキシ安息香酸エステル0.
01〜５重量％，サリチル酸0.1〜20重量％，サリチル酸
塩0.1〜20重量％,2−｛3,5−ジメチルピラゾリル｝−４
−ヒドロキシ−６−フェニルピリミジン0.1〜５重量
％，安息香酸0.05〜20重量％，安息香酸ナトリウム0.05
〜20重量％，安息香酸アルミニウム0.05〜20重量％，デ
ヒドロ酢酸0.01〜５重量％，デヒドロ酢酸ナトリウム0.
01〜５重量％，マンデル酸ヘキサミン0.01〜５重量％、
ホウ酸0.1〜10重量％，ホウ酸ナトリウム0.1〜10重量
％,3−ヨード−２−プロピニルブチルカーバメート0.01
〜５重量％，ウンデシレン酸0.1〜20重量％，ソルビン
酸0.1〜20重量％またはソルビン酸カリウム0.1〜20重量
％の中から選んだ防菌防黴剤とから防菌防黴清拭軟膏を
構成した。

前記クリーム状軟膏原料は、油脂性軟膏，水を含まな
い乳剤性基剤からなる乳剤性軟膏または水溶性軟膏が適
している。

また、前記クリーム状軟膏原料は、乳剤性基剤と水溶
性基剤とからなる軟膏を用いてもよい。

本発明の防菌防黴清拭軟膏に、着色剤を添加してもよ
い。

さらに、上記目的を達成するために、本発明の光学機
器の清拭方法は、クリーム状軟膏原料と、２−（４−チ
アゾリル）ベンズイミダゾール0.01〜５重量％、10,1
0′−オキシビスフェノキシアルシン10〜100PPM、α−
ブロムシンナムアルデヒド0.01〜５重量％、ｏ−フェニ
ルフェノール５〜30重量％、レゾルシノール１〜20重量
％、β−ツヤプリシン0.01〜５重量％、3,3,4′−トリ
クロロカルバニリド0.1〜５重量％、塩化デカリニウム
0.01〜５重量％、ジョードメチル−ｐ−トリスルホン0.
01〜５重量％、塩化メチルロザリニン0.1〜10重量％、
テトラメチルイソフタロニトリル0.1〜５重量％、ジク
ロルフェン0.01〜５重量％、ｐ−オキシ安息香酸エチル
0.01〜５重量％、サリチル酸0.1〜20重量％、サリチル
酸塩0.1〜20重量％、２−｛3,5−ジメチルピラゾリル｝
−４−ヒドロキシ−６−フェニルピリミジン0.1〜５重
量％、安息香酸0.05〜20重量％、安息香酸ナトリウム0.
05〜20重量％、安息香酸アルミニウム0.05〜20重量％、
デヒドロ酢酸0.01〜５重量％、デヒドロ酢酸ナトリウム
0.01〜５重量％、マンデル酸ヘキサミン0.01〜５重量
％、ホウ酸0.1〜10重量％、ホウ酸ナトリウム0.1〜10重
量％、３−ヨード−２−プロピニルブチルカーバメート
0.01〜５重量％、ウンデシレン酸0.1〜20重量％、ソル
ビン酸0.1〜20重量％またはソルビン酸カリウム0.1〜20
重量％の中から選んだ防菌防黴剤とからなる防菌防黴清
拭軟膏により光学機器を清拭する。

添加する防菌防黴剤の量を上記各範囲としたのは、上
記各範囲より少ないと、所定の防菌防黴効果が得られ
ず、また上記各範囲より多いと、作業上の安全性確保が
困難になる。

本発明は、光学素子周辺部に起きる清拭軟膏の拭き残
りに着目し、これをレンズかび再発防止に役立てようと
するものである。すなわち、清拭軟膏に所定量の防かび
剤を添加して清拭軟膏を防菌防黴剤として活用し、周辺
部の拭き残りが防菌防黴剤としての効果を生じるように
する。

〔実施例〕

（第１実施例）軟膏原料としてのラノリンに、防菌防黴剤（薬剤）と
して２−（４−チアゾリル）ベンズイミダゾールを0.5
重量％投入し、よく撹拌して均質にし、防菌防黴清拭軟
膏を作製した。

上記本実施例の軟膏を使って、ガラス板を清拭した。
そして、薬剤未投入の軟膏で清拭したガラス板と比較培
養を実施して効果を確認した。培養には、実際にレンズ
かびの発生した部材を使用した。

・培養条件:30℃85％RH−３ヵ月・培養結果表１から判るように、薬剤添加、無添加での差は明確
であり、本実施例ではレンズかびの再発防止効果が顕著
であった。

（第２実施例）軟膏原料としての白色ワセリンに、薬剤として10,1
0′−オキシビスフェノキシアルシンを50PPM投入し、良
く攪拌して均質にして、防菌防黴清拭軟膏を作製した。

上記本実施例の軟膏を使ってガラス板を清拭した。そ
して、薬剤末投入の軟膏で清拭したガラス板と比較培養
を実施して効果を確認した。培養には、実際にレンズか
びの発生した部材を使用した。

・培養条件:30℃85％RH−３ヵ月・培養結果表２から判るように、薬剤添加、無添加での差は明確
であり、本実施例ではレンズかびの再発防止効果が顕著
であった。

（第３実施例）軟膏原料としての脂肪油（オレイン酸のグリセリンエ
ステル）に、α−ブロムシンナムアルデヒドを1.0重量
％投入し、よく攪拌して均質にし、防菌防黴清拭軟膏を
作製した。

・培養条件:30℃85％RH−３ヵ月・培養結果表３から判るように、薬剤添加、無添加での差は明確
であり、本実施例ではレンズかびの再発防止効果が顕著
であった。

（第４実施例）軟膏原料としての高級アルコール（メリシルアルコー
ル）に、薬剤ｏ−フェニルフェノールを10重量％投入
し、よく攪拌して均質にし、防菌防黴清拭軟膏を作製し
た。

・培養条件:30℃85％RH−３ヵ月・培養結果表４から判るように、薬剤添加、無添加での差は明確
であり、本実施例ではレンズかびの再発防止効果が顕著
であった。

（第５〜28実施例）軟膏原料としてのラノリンに、薬剤としてレゾルシノ
ール３重量％、β−ツヤプリシン0.5重量％、3,3,4′−
トリクロロカルバニリド0.6重量％、塩化デカリニウム
0.5重量％、ジヨードメチル−ｐ−トリスルホン0.7重量
％，塩化メチルロザリニン1.0重量％，テトラメチルイ
ソフタロニトリル0.5重量％，ジクロルフェン0.6重量
％,p−オキシ安息香酸エチル0.5重量％，サリチル酸５
重量％，サリチル酸塩７重量％,2−｛3,5−ジメチルピ
ラゾリル｝−４−ヒドロキシ−６−フェニルピリミジン
0.7重量％，安息香酸1.0重量％，安息香酸ナトリウム５
重量％，安息香酸アルミニウム５重量％，デヒドロ酢酸
0.5重量％，デヒドロ酢酸ナトリウム0.6重量％，マンデ
ル酸ヘキサン0.5重量％，ホウ酸0.3重量％，ホウ酸ナト
リウム0.5重量％,3−ヨード−２−プロピニルブチルカ
ーバメート0.1重量％，ウンデシレン酸５重量％，ソル
ビン酸0.8重量％，ソルビン酸カリウム0.5重量％をそれ
ぞれ投入し、よく攪拌して均質にし、防菌防黴清拭軟膏
を作製した。

上記各実施例の軟膏を使って、ガラス板を清拭し、第
１〜４実施例と同様の培養試験を行ったところ３ヶ月経
過しても、レンズかびの発生は見られなかった。

なお、軟膏原料は、上記実施例のものに限定されず、
油脂性軟膏、水を含まない乳剤性基剤からなる乳剤性軟
膏、水溶性基剤からなる水溶性軟膏、または乳剤性基剤
と水溶性基剤とからなる軟膏を適宜用いても同様の効果
が得られる。

また、着色剤を添加することにより、光学系への影響
をより少なくできる。

〔発明の効果〕

以上のように、本発明の防菌防黴清拭軟膏および光学
機器の清拭方法によれば、清拭軟膏にレンズかび再発防
止の機能を付加することができ、十分な防菌防黴効果を
発揮できる。

軟膏原料の入手が困難な場合、市販の軟膏やスキンク
リームとよばれるもので代用することも当然可能であ
る。なお、市販品をそのまま使用した場合、本発明のよ
うな効果が得られないことはいうまでもない。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開昭61−228412（ＪＰ，Ａ) 特開昭61−228413（ＪＰ，Ａ) 特開昭61−291503（ＪＰ，Ａ) 特開昭61−221357（ＪＰ，Ａ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】光学機器を清拭する清拭軟膏であって、ク
リーム状軟膏原料と、２−（４−チアゾリル）ベンズイ
ミダゾール0.01〜５重量％、10,10′−オキシビスフェ
ノキシアルシン10〜100PPM、α−ブロムシンナムアルデ
ヒド0.01〜５重量％、ｏ−フェニルフェノール５〜30重
量％、レゾルシノール１〜20重量％、β−ツヤプリシン
0.01〜５重量％、3,3,4′−トリクロロカルバニリド0.1
〜５重量％、塩化デカリニウム0.01〜５重量％、ジョー
ドメチル−ｐ−トリスルホン0.01〜５重量％、塩化メチ
ルロザリニン0.1〜10重量％、テトラメチルイソフタロ
ニトリル0.1〜５重量％、ジクロルフェン0.01〜５重量
％、ｐ−オキシ安息香酸エチル0.01〜５重量％、サリチ
ル酸0.1〜20重量％、サリチル酸塩0.1〜20重量％、２−
｛3,5−ジメチルピラゾリル｝−４−ヒドロキシ−６−
フェニルピリミジン0.1〜５重量％、安息香酸0.05〜20
重量％、安息香酸ナトリウム0.05〜20重量％、安息香酸
アルミニウム0.05〜20重量％、デヒドロ酢酸0.01〜５重
量％、デヒドロ酢酸ナトリウム0.01〜５重量％、マンデ
ル酸ヘキサミン0.01〜５重量％、ホウ酸0.1〜10重量
％、ホウ酸ナトリウム0.1〜10重量％、３−ヨード−２
−プロピニルブチルカーバメート0.01〜５重量％、ウン
デシレン酸0.1〜20重量％、ソルビン酸0.1〜20重量％ま
たはソルビン酸カリウム0.1〜20重量％の中から選んだ
防菌防黴剤とからなることを特徴とする防菌防黴清拭軟
膏。
【請求項２】前記クリーム状軟膏原料が、油脂性軟膏、
水を含まない乳剤性基剤からなる乳剤性軟膏または水溶
性基剤からなる水溶性軟膏であることを特徴とする請求
項１記載の防菌防黴清拭軟膏。
【請求項３】前記クリーム状軟膏原料が、乳剤性基剤と
水溶性基剤とからなる軟膏であることを特徴とする請求
項１記載の防菌防黴清拭軟膏。
【請求項４】クリーム状軟膏原料と、２−（４−チアゾ
リル）ベンズイミダゾール0.01〜５重量％、10,10′−
オキシビスフェノキシアルシン10〜100PPM、α−ブロム
シンナムアルデヒド0.01〜５重量％、ｏ−フェニルフェ
ノール５〜30重量％、レゾルシノール１〜20重量％、β
−ツヤプリシン0.01〜５重量％、3,3,4′−トリクロロ
カルバニリド0.1〜５重量％、塩化デカリニウム0.01〜
５重量％、ジョードメチル−ｐ−トリスルホン0.01〜５
重量％、塩化メチルロザリニン0.1〜10重量％、テトラ
メチルイソフタロニトリル0.1〜５重量％、ジクロルフ
ェン0.01〜５重量％、ｐ−オキシ安息香酸エステル0.01
〜５重量％、サリチル酸0.1〜20重量％、サリチル酸塩
0.1〜20重量％、２−｛3,5−ジメチルピラゾリル｝−４
−ヒドロキシ−６−フェニルピリミジン0.1〜５重量
％、安息香酸0.05〜20重量％、安息香酸ナトリウム0.05
〜20重量％、安息香酸アルミニウム0.05〜20重量％、デ
ヒドロ酢酸0.01〜５重量％、デヒドロ酢酸ナトリウム0.
01〜５重量％、マンデル酸ヘキサミン0.01〜５重量％、
ホウ酸0.1〜10重量％、ホウ酸ナトリウム0.1〜10重量
％、３−ヨード−２−プロピニルブチルカーバメート0.
01〜５重量％、ウンデシレン酸0.1〜20重量％、ソルビ
ン酸0.1〜20重量％またはソルビン酸カリウム0.1〜20重
量％の中から選んだ防菌防黴剤とからなる防菌防黴清拭
軟膏により光学機器を清拭することを特徴とする光学機
器の清拭方法。