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JP2585422B2 - １―（２―ハロエトキシ）―４―（２―アルコキシエチル）ジアルキルベンゼン類及びその合成中間体並びにそれらの製造法 - Google Patents

１―（２―ハロエトキシ）―４―（２―アルコキシエチル）ジアルキルベンゼン類及びその合成中間体並びにそれらの製造法

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Publication number
JP2585422B2
JP2585422B2 JP1100175A JP10017589A JP2585422B2 JP 2585422 B2 JP2585422 B2 JP 2585422B2 JP 1100175 A JP1100175 A JP 1100175A JP 10017589 A JP10017589 A JP 10017589A JP 2585422 B2 JP2585422 B2 JP 2585422B2
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JP
Japan
Prior art keywords
compound
chloroethoxy
reaction
alkyl group
lower alkyl
Prior art date
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JP1100175A
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JPH02282344A (ja
Inventor
幹人 加島
登 掛谷
公一 柏木
結実樹 野田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sankyo Co Ltd
Ube Corp
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
Ube Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Sankyo Co Ltd, Ube Industries Ltd filed Critical Sankyo Co Ltd
Priority to JP1100175A priority Critical patent/JP2585422B2/ja
Publication of JPH02282344A publication Critical patent/JPH02282344A/ja
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Publication of JP2585422B2 publication Critical patent/JP2585422B2/ja
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、新規な１−（２−ハロエトキシ）−４−
（２−アルコキシエチル）ジアルキルベンゼン類（以
下、「化合物（Ｉ）」という）及びその合成中間体並び
にそれらの製造法に関する。
化合物（Ｉ）は、一般に、医薬、農薬の有用な中間体
であること、特に、殺虫剤として高活性を示す化合物の
中間体の一群に属することが知られているが、従来、文
献未記載の新規な化合物である。
（従来の技術及び発明が解決しようとする課題） 従来の公知技術を利用して化合物（Ｉ）を製造する場
合、工業的に安価なジアルキルフェノール類を出発原料
とし、これにまずクロロエチル基を導入し、１−（２−
クロロエトキシ）ジアルキルベンゼン類を製造し、次い
でアルコキシエチル基を導入し、化合物（Ｉ）を製造す
る方法が工程数も少なく有利である。
まず、クロロエチル基の導入については、フェノール
類のハロエチルエーテル化法がよく知られており（例え
ば、Organic Synthesis Coll.１,435）、この場合、同
様の方法でジアルキルフェノールに、安価な1,2−ジク
ロロエタンを作用させることにより、容易に１−（２−
クロロエトキシ）ジアルキルベンゼン類を製造すること
ができる。
しかし、次工程のアルコキシエチル基の導入は、従来
の公知の方法で、収率よく行なうことは困難である。例
えば、芳香環へのエトキシエチル基の導入例である、
（２−アルコキシエチル）ベンゼン類の合成法として
は、従来、１−アルコキシ−２−フェニルアセチレンの
還元（T.L.Jacobs,W.R.Scott Jr.,J.Am.Chem.Soc.,75,5
497（1953））、フェニルリチウムと１−クロロ−２−
アルコキシエタンとの反応（L.Summers,M.L.Larson,J.A
m.Chem.Soc.,74,4498（1952））、フェネチルアルコー
ル体のＯ−エチル化（S.Mamedov,D.N.Khydyrov,Zh.Obs
h.Khim.,32,1431（1962）;A.Mers,Angew.Chem.Interna
t.Edit.,12,816（1973））などの方法が知られている。
しかし、これらは工業的に実施するには、原料が高価
で経済性に乏しい、あるいは、工程数が多くなるなどの
欠点があり、工業的製法としては満足できるものではな
かった。
本発明者らは、これらの実情に鑑み、安価な原料から
少ない工程数で化合物（Ｉ）を製造できる工業的製法を
開発することを目的として鋭意検討を行なった結果、１
−（２−ハロエトキシ）ジアルキルベンゼン類から少な
い工程数で安価に製造できる各種合成中間体を利用する
ことにより化合物（Ｉ）を製造することに成功し、本発
明を完成した。
［発明の構成］ （課題を解決するための手段及び作用） 本発明は、 次式（Ｉ）： （式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、低級アル
キル基を表わし;X1はハロゲン原子を表わす。） で示される化合物及びその合成中間体並びにそれらの製
造法に関するものである。
本発明の化合物（Ｉ）は、以下に示す種々のルートに
従って合成することができる。
前記式中、R1、R2、R3及びR5は、それぞれ独立して、
低級アルキル基を表わし;X1、X2及びX4は、それぞれ独
立して、ハロゲン原子を表わす。
前記低級アルキル基とは、炭素数１〜６の直鎖状又は
分枝状のアルキル基をいい、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基が挙げられ、前記ハロゲン原子としては、例
えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
本発明の化合物（Ｉ）の具体例としては以下のような
化合物が挙げられる。
１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエ
チル）−2,3−ジメチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエ
チル）−2,3−ジメチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエ
チル）−2,5−ジメチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエ
チル）−2,5−ジメチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエ
チル）−2,6−ジメチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエ
チル）−2,6−ジメチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエ
チル）−3,5−ジメチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエ
チル）−3,5−ジメチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエ
チル）−3,5−ジ−tert−ブチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエ
チル）−3,5−ジ−tert−ブチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエ
チル）−3,5−ジ−sec−ブチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエ
チル）−3,5−ジ−sec−ブチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエ
チル）−2,5−ジ−tert−ブチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエ
チル）−2,5−ジ−tert−ブチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエ
チル）−2,6−ジ−tert−ブチルベンゼン、 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエ
チル）−2,6−ジ−tert−ブチルベンゼン。
工程（III）→（II） 前記式（III）で示される化合物と、ホルムアルデヒ
ド又はその重合物と、ハロゲン化水素とを反応させるこ
とにより前記式（II）で示される化合物を製造すること
ができる。
本反応は、通常、化合物（III）を適当な有機溶媒と
ハロゲン化水素酸中に入れておき、そこへホルムアルデ
ヒド又はその重合物とハロゲン化水素ガスを導入するこ
とにより行う。また、本反応は有機溶媒だけ又はハロゲ
ン化水素酸だけでも行うこともできる。
本反応に用いられるホルムアルデヒドは、そのまま、
又は水溶液（ホルマリン）の状態で用いられる。ホルマ
リンを用いる場合、その濃度が50〜10重量％のものが好
ましい。濃度が高すぎると沈殿が生じやすく、濃度が低
すぎると反応速度が遅くなり収率が低下する。ホルムア
ルデヒドの重合物としては、パラホルムアルデヒドやト
リオキサンが用いられる。ホルムアルデヒドは化合物
（III）に対して、通常１〜20倍（モル比）、好ましく
は２〜10倍（モル比）が用いられる（ホルマリンや重合
物の場合にはホルムアルデヒドに換算して用いる）。ホ
ルムアルデヒドが少なすぎると反応液がうまく混ざらな
くなり収率が低下し、多すぎると副生物が増加する。
本反応に用いられる有機溶媒としては、例えば四塩化
炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、
テトラクロロエタン、ジオキサン、酢酸、ベンゼン、ト
ルエン、クロルベンゼン、炭素数が４〜10の飽和炭化水
素が挙げられる。この中でも四塩化炭素が最も好適に用
いられる。化合物（III）の濃度は、有機溶媒に対し
て、通常0.1〜15モル／、好ましくは0.5〜10モル／
である。あまり濃度が高すぎると攪拌が困難となり、低
すぎると反応速度が遅くなり収率が低下する。
ハロゲン化水素酸（ハロゲン化水素の10〜60％水溶
液）は化合物（III）１モルに対して、通常０〜50モ
ル、好ましくは0.2〜10モル用いる。ハロゲン化水素酸
が多すぎると反応速度が遅くなり、導入するハロゲン化
水素ガスが多量に必要となる。少なすぎると導入するハ
ロゲン化水素が充分吸収されなくなる。このハロゲン化
水素酸を相当する水に置き換えて導入するハロゲン水素
ガスをその分増加させてもよい。
ハロゲン化水素ガスは、化合物（III）１モルに対し
て、通常１〜200モル、好ましくは５〜50モル用いる。
ハロゲン化水素ガスが少なすぎると反応速度が非常に遅
く収率が低下し、多すぎると過剰のハロゲン化水素ガス
が吸収されずむだになり、かつ副生成物が増加する。
反応温度は、通常−30〜20℃、好ましくは−20〜10℃
である。反応温度が高すぎると副反応が進行してしまい
収率が低下し、低すぎると反応速度が低下して収率が低
下する。
ハロゲン化水素ガスの導入は、通常0.5〜50時間、好
ましくは１〜20時間で行う。短すぎるとハロゲン化水素
ガスが充分には吸収されず、温度制御も困難になる。長
すぎると副生成物が増加して収率が低下する。ホルムア
ルデヒド又はその重合物はハロゲン化水素ガス導入中に
加え終るようにする。
ハロゲン化水素ガス導入終了後に未反応原料が残って
いる場合は、更に0.5〜５時間反応させる。長すぎると
副反応が進行する。
また、前記式（II）で示される化合物は、前記式（II
I）で示される化合物と、 次式（Ｃ）： R4OCH2X2 （Ｃ） （式中、R4は前述の低級アルキル基を表わし;X2は前記
と同義である。） で示される化合物を、酢酸及びX2に対応するハロゲン化
水素水溶液の存在下で反応させることによっても製造す
ることができる。
本反応は、高価な金属触媒を必要とせず、かつ、ハロ
ゲン化水素ガス又は硫酸、発煙硫酸等の取り扱いの難し
い酸を使用することなく、温和な条件下、簡便な設備、
簡便な装置で化合物（II）を製造できることから、工業
的に適した優れた製造法である。
前記式（Ｃ）で示される化合物の具体例としては、ク
ロロメチルメチルエーテル、ブロモメチルメチルエーテ
ル、ヨードメチルメチルエーテル、クロロメチルエチル
エーテル、ブロモメチルエチルエーテル、ヨードメチル
エチルエーテル、クロロメチルブチルエーテル、クロロ
メチル−tert−ブチルエーテル、クロロメチルプロピル
エーテル等が挙げられる。
化合物（Ｃ）は、化合物（III）に対して、通常0.1〜
20.0倍モル、好ましくは1.0〜5.0倍モル使用する。
酢酸の使用量は化合物（III）に対して、通常0.5倍モ
ル以上であることが好ましい。これ以下でも構わない
が、反応速度が低下する。
ハロゲン化水素水溶液のハロゲン水素濃度は５％以
上、好ましくは15％以上で、特に好ましくは20〜50％で
ある。ハロゲン化水素量は、化合物（III）に対して、
通常0.2モル以上、好ましくは0.5モル以上である。
溶媒は使用しても、しなくてもよいが、使用する場合
は、溶媒として、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチ
レン、ジクロロエタン、ジオキサン、ベンゼン、クロロ
ベンゼン、炭素数５〜10の飽和炭化水素が用いられる。
中でも四塩化炭素が好適である。反応温度は、通常80℃
以下、好ましくは０〜40℃である。これ以下でも構わな
いが反応速度が低下する。
工程（II）→（Ｉ） 前記式（II）で示される化合物と、 次式（Ａ）： X3CH2OR1 （Ａ） （式中、R1は前記と同義であり;X3は前述のハロゲン原
子を表わす。） で示される化合物を、金属マグネシウムの存在下で反応
させることにより前記式（Ｉ）で示される化合物を製造
することができる。
金属マグネシウムは、通常グリニャール反応に使用す
るものであれば、形状その他、特に制限はない。
化合物（Ａ）は、化合物（II）に対して、通常0.1〜2
0.0倍モル、好ましくは1.0〜5.0倍モル使用する。金属
マグネシウムは、化合物（II）に対して、通常0.1〜20.
0倍グラム原子、好ましくは1.0〜5.0倍グラム原子使用
する。
溶媒は、化合物（II）が溶解さえしていれば、使用し
ても、しなくてもよいが、使用する場合は、一般にグリ
ニャール反応に用いられる溶媒、即ち、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルセロソ
ルブ、ジグリム、ジメトキシメタン、ジエトキシメタン
等のエーテル類、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン等の炭化水素類の単一又は混合系溶媒が挙
げられる。
反応温度は、通常80℃以下、好ましくは30℃以下、特
に好ましくは０℃〜−20℃である。
この反応を行うに際し、触媒を共存させてもよい。共
存させる場合、触媒としては、ヨウ素、塩化第二水銀、
臭化メチル、臭化エチル等グリニャール反応で一般に使
用されているものが挙げられる。
この反応は、空気存在下で行っても構わないが、通常
はアルゴン、ヘリウム、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気
下に行う方が好適である。
次に、反応の実施方法について説明する。
溶媒又は触媒の共存下又は非共存下、マグネシウムに
化合物（II）を作用させ、グリニャール反応剤を製造
し、これに化合物（Ａ）を作用させることにより、化合
物（Ｉ）を製造することができる。
ただし、マグネシウムに化合物（II）及び（Ａ）を作
用させる順序は、これに限られることはなく、マグネシ
ウムに化合物（Ａ）を作用させた後、化合物（II）を作
用させても、また化合物（II）及び（Ａ）をマグネシウ
ムに同時に作用させてもよい。
本反応に用いる前記式（Ａ）で示される化合物は、好
ましくは、アルカリを含有する、 次式（Ｂ）： R1OH （Ｂ） （式中、R1は前記と同義である。） で示されるアルコールと、パラホルムアルデヒドを反応
させた後、ハロゲン化水素で処理することにより製造す
ることができる。
本反応に用いられるパラホルムアルデヒドは、好まし
くは市販の純度80％以上のものである。
アルコール（Ｂ）は、パラホルムアルデヒドに対し
て、通常0.5〜２倍モル、好ましくは0.7〜1.5倍モル、
更に好ましくは0.9〜1.1倍モルが用いられる。アルコー
ル（Ｂ）が少なすぎると未反応のパラホルムアルデヒド
が残り、多すぎるとホルムアルデヒドアルキルアセター
ルの副生が増加する。
本反応で用いるアルカリとしては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カル
シウム、水酸化リチウム、ナトリウムアルコラート、カ
リウムアルコラート、マグネシウムアルコラート、リチ
ウムアルコラートが挙げられ（アルコラートは反応に用
いるアルコール由来のものが好ましい。）、好ましく
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムア
ルコラート、カリウムアルコラートが用いられる。
これらのアルカリは、そのまま又は水溶液もしくはア
ルコール溶液としてアルコール中に加えられる。用いら
れるアルカリの量は、パラホルムアルデヒドに対して、
通常0.00001〜0.1倍モル、好ましくは0.0001〜0.01倍モ
ルである。アルカリ量が少なすぎるとパラホルムアルデ
ヒドの溶解速度が遅くなり、多すぎるとハロゲン化水素
ガス導入初期の発熱が多くなり温度調節が困難になる。
パラホルムアルデヒドにアルカリ含有アルコールを作
用させる温度は、通常10〜200℃、好ましくは30〜100℃
である。温度が低すぎるとパラホルムアルデヒドの溶解
に時間を要し、高すぎるとハロゲン化水素導入前の冷却
に時間を要する。
塩化水素ガスの量は、通常、パラホルムアルデヒドの
1.2〜３倍モルである。ハロゲン化水素ガスが少なすぎ
るとホルムアルデヒドジアルキルアセタールが増加し
て、多すぎるとハロメチルアルキルエーテルの水層への
溶解量が増加してしまう。
ハロゲン化水素ガス導入次の温度は、通常15〜−25
℃、好ましくは10〜−20℃である。反応温度が高すぎる
とホルムアルデヒドジアルキルアセタールが増加し、低
すぎると反応速度が遅くなる。ハロゲン化水素導入の時
間は、冷却能力により大きく異なる。通常１〜10時間程
度で導入を行うが、短すぎると温度調節が困難となる。
しかし、ハロゲン化水素ガス導入の時間が10時間をはる
かに超えても反応には何らさしつかえない。
工程（VIII）→（Ｖ） 前記式（VIII）で示される化合物を、 次式（Ｄ）： （R5COO）nM （Ｄ） （式中、R5は前記と同義であり;Mは１価又は２価の金属
を表わし;nは１又は２を表わす。） で示される化合と反応させることにより前記式（Ｖ）で
示される化合物を製造することができる。
前記式（Ｄ）において、Ｍで表わされる金属原子は、
１価又は２価のアルカリ金属又はアルカリ土類金属であ
り、好ましくはナトリウム又はカリウムである。
用いる溶媒は、原料（VIII）を溶解し、カルボン酸金
属塩（Ｄ）の全部又は一部を溶解し、反応を阻害しない
ものであれば如何なるものでもよく、例えばメタノー
ル、エタノール、アセトン、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチ
ルピロリドン等が挙げられ、特にジメチルホルムアミド
が好ましい。反応温度は、通常０〜100℃、好ましくは3
0〜60℃である。カルボン酸金属塩（Ｄ）の使用量は、
原料（VIII）に対して、通常１〜10倍、好ましくは1.5
〜３倍当量である。
反応の進行は、反応溶液の一部をとり、ガスクロマト
グラフィーにより分析し、追跡することができる。原料
（VIII）が消費されたところで常圧又は減圧下において
反応溶媒を留去し、残渣を水中にあけ、有機溶媒で抽出
後、水洗、乾燥し、抽出溶媒を留去すると化合物（Ｖ）
が得られる。必要に応じて、カラムクロマトグラフィ
ー、再結晶、蒸留等の方法を用いて精製することができ
るが、通常は精製なしで十分な純度のものが得られる。
本反応で用いる前記式（VIII）で示される化合物は、
例えば以下のようにして製造することができる。
前記式（IX）で示されるフェノール類と、 次式（Ｅ）： Z1CH2CH2X1 （Ｅ） （式中、Z1はハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ
基又はアリールスルホニルオキシ基を表わし;X1は前記
と同義である。） で示される化合物を塩基の存在下で反応させると、前記
式（III）で示される化合物が得られる。
次いで、この化合物（III）をルイス酸の存在下、 次式（Ｆ）： X5COCH2X4 （Ｆ） （式中、X5はハロゲン原子、水酸基又は式： で示される基を表わし;X4は前記と同義である。） で示される化合物と反応させることにより化合物（VII
I）を製造することができる。
前記式（Ｆ）で示される化合物としては、クロロ酢酸
クロリド、ブロモ酢酸ブロミド等の酸ハロゲン化物；無
水クロロ酢酸、無水ブロモ酢酸等の酸無水物；及びクロ
ロ酢酸、ブロモ酢酸等のカルボン酸が挙げられるが、好
ましくはクロロ酢酸クロリドが挙げられる。その使用量
は、化合物（III）に対して、通常１〜３倍当量、好ま
しくは１〜1.5倍当量である。
用いる溶媒としては、ニトロベンゼン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、ニトロメタン、塩化メチレン、
四塩化炭素、二硫化炭素等、反応に関与しないものであ
れば如何なるものでもよい。
反応温度は、通常−20〜100℃、好ましくは０〜30℃
である。
用いるルイス酸としては、塩化アルミニウム、臭化ア
ルミニウム、三塩化ホウ素、四塩化チタン、三フッ化ホ
ウ素、塩化第二スズ、塩化亜鉛等が挙げられる。その使
用量は、化合物（III）に対して、通常１〜５倍当量、
好ましくは１〜３倍当量である。
反応の進行は、反応液の一部に水を加えて反応を停止
し、有機層をガスクロマトグラフィーにより分析して追
跡することができる。化合物（III）が消費されたら、
水を加えてルイス酸を分解し、有機溶媒で抽出後、水
洗、乾燥する。溶媒を留去することにより、化合物（VI
II）を得ることができる。必要に応じてカラムクロマト
グラフィー、再結晶、蒸留等により精製することができ
る。
工程（Ｖ）→（IV） 前記式（Ｖ）で示される化合物を、水素化ホウ素ナト
リウム及び三フッ化ホウ素エーテル錯塩からなる還元剤
で処理することにより前記式（IV）で示される化合物を
製造することができる。
従来、芳香族ケトンをメチレン鎖に還元する方法はい
くつか知られているが、例えば亜鉛アマルガムを用いる
クレメンゼン還元、ヒドラジンと水酸化アルカリを用い
るウォルフ−キッシュナー還元及び金属触媒を用いた水
素添加法等が一般的である。しかし、これらの方法を用
い、化合物（Ｖ）を還元する場合、次のような問題点が
ある。
１）ウォルフ−キッシュナー還元では、強塩基を用いる
ため原料のアシルオキシアシル基の分解、重合が起こ
る。
２）クレメンゼン還元では、水銀を用いるため医農薬中
間体合成には適当でなく、またアマルガムの発火の危険
及び反応後の処理の問題がある。
３）金属触媒を用いる水素添加では、例えばR.L.Clark
らがJ.Am.Chem.Soc.,77,661（1955）中で示しているよ
うに、Pd−炭素ではアシルオキシアシル基はアシル基に
還元され、本反応で目的とするヒドロキシエチル基を与
えない。
また、H.Adkinsらは、J.Am.Chem.Soc.53,1091（193
1）及び70,3121（1948）中でCu−CrO触媒を用い、アセ
ト酢酸エチルを還元し、３−ヒドロキシ酪酸及び1,3−
ブタンジオールをそれぞれ選択的に合成しているが、従
来、ケトエステルのケトン部をメチレンにエステル部を
アルコールに選択的に同時に還元する方法は文献記載が
なかった。
水素化ホウ素ナトリウムの使用量は、原料（Ｖ）に対
して、通常１〜10倍当量、好ましくは２〜５倍当量であ
る。
三フッ化ホウ素エーテル錯塩の使用量は、原料（Ｖ）
に対して、５〜50倍当量、好ましくは10〜30倍当量であ
る。
本反応は無溶媒でも行うことができるが、通常は溶媒
を用いる。溶媒としては、反応を阻害しないものであれ
ば如何なるものでもよいが、好ましくはテトラヒドロフ
ラン、ジグリム、ジオキサン、ジエチルエーテル、イソ
プロピルエーテル等のエーテル系溶媒を挙げられる。
反応温度は、通常０〜80℃である。
反応の進行は、反応液の一部をとり、水又は希酸によ
り反応試薬を分解した後、適当な有機溶媒で抽出し、有
機層をガスクロマトグラフィー又は薄層クロマトグラフ
ィー等により分析して追跡することができる。原料が消
費されたところで、水又は希鉱酸を加えて反応試薬を分
解し、適当な有機溶媒で抽出後、水洗、乾燥して抽出溶
媒を留去すると化合物（IV）が得られる。必要に応じて
カラムクロマトグラフィー、蒸留等の方法を用いて精製
することができるが、通常は精製なしで充分な純度のも
のが得られる。
工程（IV）→（Ｉ） 前記式（IV）で示される化合物を、アルカリの存在下
でジアルキル硫酸と反応させることにより前記式（Ｉ）
で示される化合物を製造することができる。
工程（Ｖ）→（VI） 前記式（Ｖ）で示される化合物を、ラネーニッケルの
存在下、水素加圧下で処理することにより前記式（VI）
で示される化合物を製造することができる。
従来、アシルオキシアシル基を２−アシルオキシエチ
ル基に選択的に還元する方法は知られていない。
用いる溶媒は、通常の接触水素添加に用いられる溶媒
であれば如何なるものでもよく、例えばメタノール、エ
タノール、ジエチルエーテル、酢酸エチル、ジオキサ
ン、シクロヘキサン、水、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルホルムアミド等が挙げられる。
反応温度は、通常50〜200℃、好ましくは80〜150℃で
ある。
ラネーニッケルの使用量は、原料（Ｖ）に対して、通
常１〜100重量％、好ましくは５〜50重量％である。
水素圧は、通常10〜100kg/cm2Gであり、好ましくは20
〜70kg/cm2Gである。反応の進行は、反応中の圧力の減
少、又は反応液の一部をとりガスクロマトグラフィーで
分析して追跡することができる。反応後は、放冷して水
素を解放後、ラネーニッケルを別し、反応溶媒を留去
することにより粗製の化合物（VI）を得ることができ
る。必要に応じてカラムクロマトグラフィー、蒸留、再
結晶等の方法を用いて精製することができる。
工程（Ｖ）→（VII） 前記式（Ｖ）で示される化合物を、ラネーニッケルの
存在下、常圧で処理することにより前記式（VII）で示
される化合物を製造することができる。
従来、アシルオキシアシル基を１−ヒドロキシ−２−
アシルオキシエチル基に選択的に還元する方法は知られ
ていない。
用いる溶媒は、通常の接触水素添加に用いられるもの
であれば如何なるものでもよく、例えばメタノール、エ
タノール、酢酸エチル、ジオキサン、水、テトラヒドロ
フラン、ジメチルホルムアミド等が挙げられるが、好ま
しくはエタノール及びメタノールである。
反応温度は、通常０〜100℃、好ましくは20〜80℃で
ある。
ラネーニッケルの使用量は、原料（Ｖ）に対して、通
常１〜150重量％、好ましくは５〜50重量％である。
反応の進行は、反応液の一部をとり、薄層クロマトグ
ラフィーにより分析して追跡することができる。反応後
は、ラネーニッケルを別し、反応溶媒を留去すること
により化合物（VII）を得ることができる。通常は精製
なしで充分な純度のものが得られるが、必要に応じてカ
ラムクロマトグラフィー、再結晶等で精製することがで
きる。
工程（VII）→（VI） 前記式（VII）で示される化合物を、ラネーニッケル
の存在下、常圧水素で還元することにより前記式（VI）
で示される化合物を製造することができる。
工程（VI）→（Ｉ） 前記式（VI）で示される化合物を、アルカリの存在下
でジアルキル硫酸と反応させることにより前記式（Ｉ）
で示される化合物を製造することができる。
以上詳述したように、本発明の化合物（Ｉ）は、 ルート［１］： （IX）→（III）→（II）→（Ｉ）、 ルート［２］： （IX）→（III）→（VIII）→（Ｖ）→（IV）→
（Ｉ）、 ルート［３］： （IX）→（III）→（VIII）→（Ｖ）→（VI）→（I
V）→（Ｉ）、 ルート［４］： （IX）→（III）→（VIII）→（Ｖ）→（VII）→（V
I）→（IV）→（Ｉ）、 及び ルート［５］： （IX）→（III）→（VIII）→（Ｖ）→（VII）→（V
I）→（Ｉ） の５通りの合成ルートで製造することができるが、工程
数が少ないルート［１］が特に好ましい。
（発明の実施例） 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、
これらの実施例は、本発明の範囲を何ら制限するもので
はない。
実施例１ １−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−
2,3−ジメチルベンゼン（II）の合成 １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼ
ン184.69g（1.00モル）を四塩化炭素400mlに溶解させて
おき、36％濃塩酸300mlを加え−５℃に冷却した。攪拌
しながら塩化水素ガスの導入と35％ホルマリン430.90g
（5.00モル）の滴下を行った。ホルマリンは３時間で滴
下した。塩化水素ガスは４時間で665.0g（18.20モル）
の導入を終了した。この間、温度は−10〜０℃に保っ
た。塩化水素ガス導入終了後に−５℃で45分間攪拌し
た。
有機相を分取して無水塩化カルシウムで乾燥した。窒
素を導入して塩化水素ガスを除き、濃縮して得た293.00
gの残渣は減圧蒸留で精製した。
収量 195.84g（84％） bp 145〜152℃（2.5mmHg） mp 58〜61℃ 元素分析 Ｃ Ｈ Cl 理論値 56.67％ 6.05％ 30.41％ 実測値 56.43％ 6.01％ 30.69％ MS（m/e）:2331 H−NMR（CDCl3）δ:2.20（3H,s）,2.33（3H,s）,3.82
（2H,t,J＝6Hz）,4.21（2H,t,J＝6Hz）,4.61（2H,s）,
6.65（1H,d,J＝8Hz）,7.11（1H,d,J＝8Hz） IR（KBr）cm-1:2915,1585,1475,1295,1255,1100,1030,7
95,650 実施例２ １−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−
2,3−ジメチルベンゼン（II）の合成 １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼ
ン60.00g（0.348モル）を四塩化炭素170mlに溶解させて
おき、水68mlを加え室温で20分間塩化水素ガスを導入し
た。−５℃まで冷却して35％ホルマリン149.39g（1.671
モル）を1.5時間で滴下した。ホルマリンの滴下中も塩
化水素ガスは続けて導入して224.0g（6.145モル）を３
時間で加えた。この間温度は−８〜−２℃に保ち激しく
攪拌した。更にその温度で0.5時間攪拌した。後処理と
精製は実施例１と同様に行った。
収量 59.79g（73.7％） 実施例３ １−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−
2,3−ジメチルベンゼン（II）の合成 １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼ
ン89.20g（0.483モル）を四塩化炭素200mlに溶解させて
おき、36％濃塩酸145mlを加え−４℃に冷却した。攪拌
しながら塩化水素ガスの導入と35％ホルマリン85.78g
（1.000モル）の滴下を行った。ホルマリンは２時間で
滴下した。塩化水素ガスは４時間で820g（22.50モル）
の導入を終了した。この間、温度は−５〜０℃に保っ
た。塩化水素ガス導入終了後、更にその温度で２時間攪
拌した。後処理と精製は実施例１と同様に行った。
収量 80.40g（71％） 実施例４ １−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−
2,3−ジメチルベンゼン（II）の合成 １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼ
ン2.98g（15.6mmol）、酢酸5ml、濃塩酸（35％）5ml、
四塩化炭素5mlを採り、これにクロロメチルエチルエー
テル3.10g（32.4mmol）を滴下して加えた。室温下２時
間攪拌後、分液した。有機相を塩化カルシウムで乾燥
後、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、１−
（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−2,3
−ジメチルベンゼンが92％の収率で生成していた。
実施例５ １−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−
2,3−ジメチルベンゼン（II）の合成 １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼ
ン9.35g（48.9mmol）、酢酸45ml、濃塩酸（35％）15m
l、四塩化炭素15mlを採り、これにクロロメチルエチル
エーテル9.56g（100.1mmol）を滴下して加えた。室温下
３時間攪拌後、分液した。有機相を塩化カルシウムで乾
燥後、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、１−
（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−2,3
−ジメチルベンゼンが86％の収率で生成していた。
実施例６ １−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−
2,3−ジメチルベンゼン（II）の合成 １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼ
ン46.0g（240.5mmol）、酢酸50ml、濃塩酸（35％）50m
l、四塩化炭素50mlを採り、これにクロロメチルエチル
エーテル47.56g（497.8mmol）を滴下して加えた。室温
下３時間攪拌後、分液した。有機相を塩化カルシウムで
乾燥後、溶媒を留去して53.77gの残渣を得た。これを減
圧下蒸留して120〜125℃/0.5mmHgの留分として45.60gの
１−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−
2,3−ジメチルベンゼンを得た。（収率80％） 比較例１ １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼン
3.01g（15.7mmol）、酢酸5ml、四塩化炭素5mlを採り、
クロロメチルエチルエーテル3.08g（32.2mmol）を滴下
して加えた。室温下13時間攪拌後、分液し有機相をガス
クロマトグラフィーで分析したところ、１−（２−クロ
ロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼンが79％未反応の
まま残存し、ビス［４−（２−クロロエトキシ）−2,3
−ジメチルフェニル］メタンが19％の収率で生成してい
た。
比較例２ １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼン
9.32g（48.7mmol）、酢酸15ml、四塩化炭素15mlを採
り、水冷下塩化水素ガスを吹き込みながら、クロロメチ
ルエチルエーテル9.63g（100.8mmol）を滴下して加え
た。５時間反応後、塩化水素ガスの吹き込みを止め分液
した。有機相をガスクロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、ビス［４−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチ
ルフェニル］メタンが92％の収率で生成していた。
比較例３ １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼン
3.00g（15.7mmol）、四塩化炭素5ml、濃塩酸（35％）5m
lを採り、これにクロロメチルエチルエーテル3.10g（3
2.4mmol）を滴下して加えた。室温下１時間攪拌後、分
液し有機相をガスクロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベン
ゼンが57％未反応のまま残存し、ビス［４−（２−クロ
ロエトキシ）−2,3−ジメチルフェニル］メタンが38％
の収率で生成していた。
比較例４ １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼン
3.03g（15.8mmol）、酢酸5ml、四塩化炭素5ml、濃塩酸
（35％）5mlを採り、これにホルマリン（37％）2.55g
（31.4mmol）を滴下して加えた。室温下20時間攪拌後、
分液した。有機相をガスクロマトグラフィーで分析した
ところ、１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチル
ベンゼンが35％未反応のまま残存し、ビス［４−（２−
クロロエトキシ）−2,3−ジメチルフェニル］メタンが4
4％の収率で生成していた。
実施例７ クロロメチルエチルエーテル（Ａ）の合成 エタノール1018.6g（22.00モル）に水酸化ナトリウム
1.20g（0.0279モル）を加え65℃で攪拌して溶解させ
た。そこへ、パラホルムアルデヒド（市販80％）825.8g
（ホルムアルデヒドに換算して、22.00モル）を加え、
１時間65℃で加熱攪拌してパラホルムアルデヒドを溶解
させた。
パラホルムアルデヒド溶解後に冷却して０〜10℃に保
ちながら、塩化水素ガス1127g（30.92モル）を6.5時間
かけて導入攪拌した。
反応終了後に有機相を分取して無水塩化カルシウム5.
00gを加えて乾燥後に別して、液を80℃で1.5時間加
熱して塩化水素ガスを除き、続いて蒸留した。
収量 1613.4g（78％） bp 80〜84℃ 実施例８ クロロメチルブチルエーテル（Ａ）の合成 ブタノール74.12g（1.000モル）に水酸化ナトリウム
0.05g（0.001モル）を加え65℃で攪拌して溶解させた。
そこへ、パラホルムアルデヒド（市販80％）37.54g（ホ
ルムアルデヒドに換算して1.000モル）を加え、１時間6
5℃で加熱攪拌した。
パラホルムアルデヒド溶解後に冷却して０〜10℃に保
ちながら、塩化水素ガス51.23g（1.406モル）を３時間
かけて導入攪拌した。
反応終了後に有機相を分取して無水塩化カルシウム0.
30gを加えて乾燥後に別して、液を130℃で1.5時間
加熱して塩化水素ガスを除き、続いて蒸留した。
収量 105.43g（86％） bp 130〜134℃ 比較例５ 35％ホルマリン128.70g（1.500モル）とエタノール6
9.45g（1.500モル）を混合しておき、塩化水素ガス199.
0g（5.614モル）を5.5時間かけて導入して攪拌した。塩
化水素ガス導入中は３〜８℃に保った。
塩化水素ガス導入終了後に無水塩化カルシウム30.0g
を加えて攪拌して溶解させた（この塩析を行わないと目
的物が水層に溶解する。）。有機物を分取して無水塩化
カルシウムで乾燥した。
乾燥剤を別して窒素を30分間通して塩化水素を除
き、蒸留した。
収量 95.95g bp 77〜83℃ ここで得られたオイルのNMRスペクトルを測定した結
果、クロロメチルエチルエーテル：クロロメチルメチル
エーテル＝87:13のモル比であることがわかった。従っ
て、クロロメチルエチルエーテルの収率は61％と低かっ
た。また、蒸留だけでクロロメチルエチルエーテルを単
離しようとすると、その収率は20〜30％程度まで低下し
てしまった。
実施例９ １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエチ
ル）−2,3−ジメチルベンゼン（Ｉ）の合成 金属マグネシウム27.43g（1.13g atm）、テトラヒド
ロフラン200mlを採り、窒素気流下−５℃に攪拌しなが
ら冷却した。これに、１−（２−クロロエトキシ）−４
−（クロロメチル）−2,3−ジメチルベンゼン188.8g（8
09.8mmol）のテトラヒドロフラン（1140ml）溶液を反応
液温が０℃を越えないように3.5時間かけて滴下して加
えた。次いで、クロロメチルエチルエーテル108.2g（11
32.5mmol）のテトラヒドロフラン（200ml）溶液を２時
間かけて滴下して加えた。−５〜10℃で30分反応した。
水300ml加え30分攪拌後、トルエン500mlを加えた。分液
後、有機層を飽和食塩水200mlで洗浄した。これを濃縮
して213.84gの釜残を得た。これを減圧蒸留して137〜13
8℃/2mmHgの留分として、166.3gの１−（２−クロロエ
トキシ）−４−（２−エトキシエチル）−2,3−ジメチ
ルベンゼンを得た。収率80％ 元素分析 C H Cl 理論値 65.49 8.24 13.87 実測値 65.26 8.01 13.91 MS（m/e）:256（M+）,197（M+−CH2OC2H5）,135（197−
CH2＝CHCl）1 H−NMR（CCl4）δ:1.15〜1.23（3H,t）,2.15（3H,s）,
2.20（3H,s）,2.82〜2.90（2H,t）,3.45〜3.60（4H,
m）,3.75〜3.80（2H,t）,4.10〜4.20（2H,t）,6.60〜6.
65（1H,d）,6.95〜7.00（1H,d） IR（NaCl板）cm-1:2850〜2960,1590,1480,1370,1300,12
60,1100,800,660 実施例10 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエチ
ル）−2,3−ジメチルベンゼン（Ｉ）の合成 金属マグネシウム9.75g（401.2mg atm）、テトラヒド
ロフラン50mlを採り、窒素気流下攪拌しながら０℃に冷
却した。これに、１−（２−クロロエトキシ）−４−
（クロロメチル）−2,3−ジメチルベンゼン46.92g（20
1.3mmol）のテトラヒドロフラン（150ml）溶液を数ml加
えた。グリニャール化反応が開始したことを確認後、上
記溶液をテトラヒドロフラン（150ml）で更に希釈し、
これを反応液温が０℃を越えないように滴下して加え
た。滴下後、−８〜０℃で２時間反応させた。不溶のマ
グネシウムを別後、クロロメチルエチルエーテル21.2
6g（222.5mmol）のテトラヒドロフラン（50ml）溶液を
滴下して加えた。滴下後、同温度で２時間更に反応させ
た。トルエン500ml、水50mlを加えた後、1N塩酸を20ml
加え酸性にした。分液後、水相をトルエン250mlで抽出
し、有機相を合わせて水200mlで２回洗浄した。芒硝で
乾燥後、溶媒を留去して淡黄色液体54.44gを得た。これ
を減圧下蒸留して136〜139℃/2mmHgの留分として、32.8
2gの１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシ
エチル）−2,3−ジメチルベンゼンを得た。収率67％ 実施例11 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエチ
ル）−2,3−ジメチルベンゼン（Ｉ）の合成 金属マグネシウム1.81g（74.47mg atm）、痕跡量のヨ
ウ素を採り、室温下、窒素気流下１−（２−クロロエト
キシ）−４−（クロロメチル）−2,3−ジメチルベンゼ
ン9.96g（42.72mmol）のテトラヒドロフラン40ml溶液を
数ml加えた。グリニャール化反応が起こったことを確認
後、上記溶液に更にテトラヒドロフラン30mlで希釈後、
冷却し反応液温が０℃を越えないように滴下して加え
た。滴下後、−５〜０℃で３時間反応後、クロロメチル
エチルエーテル7.00g（73.27mmol）のテトラヒドロフラ
ン50ml溶液を同温度で滴下して加えた。滴下後２時間同
温度で反応させた後、10％塩化アンモニウム水溶液300m
lを加え、１時間攪拌後、トルエン500mlを加え抽出し
た。芒硝で乾燥後、溶媒留去して得た残渣にヘキサン50
mlを加え不溶物を別した。液を濃縮し淡黄液体10.4
7gを得た。これをシリカゲルカラム（展開液トルエン）
にかけ、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エト
キシエチル）−2,3−ジメチルベンゼン9.02gを分離し
た。収率82％ 実施例12 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエチ
ル）−2,3−ジメチルベンゼン（Ｉ）の合成 金属マグネシウム12.51g（514.6mg atm）、痕跡量の
ヨウ素、テトラヒドロフラン100mlを窒素気流下採り、
冷却下１−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチ
ル）−2,3−ジメチルベンゼン100.3g（430.2mmol）、ク
ロロメチルエチルエーテル49.20g（515.0mmol）のテト
ラヒドロフラン600ml溶液を反応液温が０℃を越えない
ように2.5時間かけて滴下して加えた。更に、−５〜−1
0℃で２時間反応させた後、水150mlを加えた。30分攪拌
後、トルエン250mlを加え分液した。有機相を濃縮して
釜残115.72gを得た。これを減圧蒸留し、142〜149℃/3m
mHgの留分として１−（２−クロロエトキシ）−４−
（２−エトキシエチル）−2,3−ジメチルベンゼン69.59
gを得た。収率63％ 実施例13 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエチ
ル）−2,3−ジメチルベンゼン（Ｉ）の合成 金属マグネシウム1.94g（79.82mg atm）、痕跡量のヨ
ウ素を採り、室温下、窒素気流下１−（２−クロロエト
キシ）−４−（クロロメチル）−2,3−ジメチルベンゼ
ン12.41g（53.23mmol）のテトラヒドロフラン50ml溶液
を数ml加えた。グリニャール化反応が起こったことを確
認後、上記溶液を更にテトラヒドロフラン30mlで希釈
後、冷却し反応液温が０℃を越えないように滴下して加
えた。滴下後、−５〜０℃で３時間反応後、クロロメチ
ルメチルエーテル6.40g（79.49mmol）のテトラヒドロフ
ラン50ml溶液を同温度で滴下して加えた。滴下後２時間
同温度で反応させた後、10％塩化アンモニウム水溶液30
0mlを加え、１時間攪拌後、トルエン500mlを加え抽出し
た。芒硝で乾燥後、溶媒留去して得た残渣にヘキサン50
mlを加え不溶物を別した。液を濃縮し淡黄液体9.69
gを得た。これをシリカゲルカラム（展開液トルエン）
にかけ、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メト
キシエチル）−2,3−ジメチルベンゼン8.40gを分離し
た。収率65％ 元素分析 Ｃ Ｈ Cl 理論値 63.93％ 8.61％ 14.34％ 実測値 63.75％ 8.53％ 14.52％ MS（m/e）:244（M+）,197,135 実施例14 １−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロアセチル）
−2,3−ジメチルベンゼン（VIII）の合成 ニトロベンゼン360mlに塩化アルミニウム87.25g（0.6
5mol）を溶解し氷冷した。これに、クロロ酢酸クロリド
65.05g（0.66mol）を30分間で滴下し、次いで１−（２
−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼン92.35g
（0.5mol）を滴下した。氷冷下で１時間攪拌した後、室
温で1.5時間攪拌した。再び氷冷し、氷水400mlを加え塩
化アルミニウムを分解した。塩化アルミニウムを完全に
分解した後、静置し、ニトロベンゼン層を分液した。水
層を塩化メチレン200mlで抽出し、これを先のニトロベ
ンゼン層と合わせて３％塩酸300mlで２回、次いで飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液300mlで２回、最後に水洗し
乾燥した。溶媒を留去した後、塩化メチレン100mlに溶
解し、これにヘキサン400mlを加え、析出する白色固体
を集した。集物を減圧乾燥し、97.22gの１−（２−
クロロエトキシ）−４−（クロロアセチル）−2,3−ジ
メチルベンゼンを得た。収率75％ MS（m/e）:M+260,211,149,121 IR（cm-1）:1770,1260,1220,1095,7951 H−NMR（CDCl3）δ:2.20（3H,s）,2.40（3H,s）,3.87
（2H,t）,4.27（2H,t）,4.56（3H,s）,6.70（1H,d）,7.
44（1Hd） 実施例15 ４−アセトキシアセチル−１−（２−クロロエトキシ）
−2,3−ジメチルベンゼン（Ｖ）の合成 １−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロアセチ
ル）−2,3−ジメチルベンゼン13.06g（0.05mol）、酢酸
ナトリウム8.20g（0.1mol）をジメチルホルムアミド（D
MF）120mlに加え、50℃で1.5時間攪拌した。その後、減
圧下（５〜8mmHg）でDMFを留去した。放冷後、５％塩酸
100ml、トルエン100mlを加え分液した。水層をトルエン
70mlで抽出し、先のトルエン層と合わせ５％塩酸100ml
で１回、水100mlで２回洗浄し乾燥した。その後、トル
エンを留去し、４−アセトキシアセチル−１−（２−ク
ロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼン13.61gを得
た。収率96％ MS（m/e）:M+284,211,149,121 IR（cm-1）:1745,1590,1230,1110,10601 H−NMR（CDCl3）δ:2.15（6H,s）,2.38（3H,s）,3.82
（2H,t）,4.22（2H,t）,5.10（2H,s）,6.68（1H,d）,7.
42（1H,d） 実施例16 １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチル−４−
（２−ヒドロキシエチル）ベンゼン（IV）の合成 窒素気流下、水素化ホウ素ナトリウム1.33gをテトラ
ヒドロフラン（THF）15mlに懸濁し氷冷した。これに、
同温で三フッ素ホウ素エーテル錯塩24.5g（173mmol）を
10分間で滴下し、これに４−アセトキシアセチル−１−
（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼン4.72g
（16.6mmol）をTHF5mlに溶解した溶液を５分間で滴下し
た。氷冷下で１時間攪拌した後、２時間還流した。反応
後、再び氷冷し、５％塩酸を滴下し、完全に反応試薬を
分解し、イソプロピルエーテル100mlを加え抽出した。
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水で有機相を洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムにより乾燥した。硫酸ナ
トリウムを別後、イソプロピルエーテルを留去し１−
（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチル−４−（２−
ヒドロキシエチル）ベンゼン3.63gを得た。収率96％ IR（cm-1）:3400,1260,1105,8001 H−NMR（CDCl3）δ:1.69（1H,s）,2.19（3H,s）,2.22
（3H,s）,2.86（2H,t）,3.76（2H,t）,3.80（2H,t）,4.
18（2H,t）,6.64（1H,d）,6.96（1H,d） MS（m/e）:M+228,197,135,105 実施例17 １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチル−４−
（２−ヒドロキシエチル）ベンゼン（IV）の合成 窒素気流下、水素化ホウ素ナトリウム0.27g（7.02mmo
l）をTHF6mlに懸濁し氷冷した。これに、４−アセトキ
シアセチル−１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメ
チルベンゼン1.00gを三フッ化ホウ素エーテル錯塩5.57g
に溶解したものを１時間で滴下した。滴下後、更に１時
間還流した。反応後、氷冷し、５％塩酸で反応試薬を完
全に分解した後、イソプロピルエーテル50mlを加え抽出
した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水で洗浄
した後、無水硫酸ナトリウムにより乾燥し、イソプロピ
ルエーテルを留去すると１−（２−クロロエトキシ）−
2,3−ジメチル−４−（２−ヒドロキシエチル）ベンゼ
ン0.73gが得られた。収率91％ 実施例18 １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチル−４−
（２−アセトキシエチル）ベンゼン（VI）の合成 ４−アセトキシアセチル−１−（２−クロロエトキ
シ）−2,3−ジメチルベンゼン0.89g（3.1mmol）、ジオ
キサン10ml、ラネーニッケル（W2）0.5gをオートクレー
ブに仕込み、水素を30kg/cm2Gまで圧入し、120℃で６時
間反応させた。放冷後、水素を解放しニッケルを別
し、溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィー
（シリカゲル／塩化メチレン）により分離し、１−（２
−クロロエトキシ）−2,3−ジメチル−４−（２−アセ
トキシエチル）ベンゼン0.80gを得た。収率72％ MS（m/e）:M+270,210,197,148,135 IR（cm-1）:1730,1260,12351 H−NMR（CDCl3）δ:2.04（3H,s）,2.19（3H,s）,2.24
（3H,s）,2.91（2H,t）,3.80（2H,t）,4.1〜4.25（4H,
m）,6.64（1H,d）,6.96（1H,d） 実施例19 １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチル−４−
（１−ヒドロキシ−２−アセトキシエチル）ベンゼン
（VII）の合成 ４−アセトキシアセチル−１−（２−クロロエトキ
シ）−2,3−ジメチルベンゼン1.29g（4.5mmol）をエタ
ノール10ml溶解し、これにラネーニッケル（W2）0.6gを
加えた後、反応容器内を水素で満たした。常に反応容器
内が水素で常圧に保たれている状態で50℃で８時間攪拌
した。反応後、ラネーニッケルを別し、溶媒を留去
し、１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチル−４
−（１−ヒドロキシ−２−アセトキシエチル）ベンゼン
1.22gを得た。収率94％ IR（cm-1）:3400,1740,1260,1230 MS（m/e）:M+286,269,226,197,179,149,1351 H−NMR（CDCl3）δ:2.11（3H,s）,2.19（3H,s）,2.25
（3H,s）,2.50（1H,s）,3.82（2H,t）,4.0〜4.3（4H,
m）,5.17（1H,dd）,6.72（1H,dd）,7.31（1H,d） ［発明の効果］ 本発明によれば、医薬、農薬、特に殺虫剤として有用
な化合物を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柏木 公一 千葉県市原市五井南海岸８―１ 宇部興 産株式会社千葉研究所内 (72)発明者 野田 結実樹 千葉県市原市五井南海岸８―１ 宇部興 産株式会社千葉研究所内

Claims (14)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】次式（Ｉ）： （式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、低級アル
    キル基を表わし;X1はハロゲン原子を表わす。） で示される化合物。
  2. 【請求項２】次式（II）： （式中、R2及びR3は、それぞれ独立して、低級アルキル
    基を表わし;X1及びX2は、それぞれ独立して、ハロゲン
    原子を表わす。） で示される化合物。
  3. 【請求項３】請求項２記載の化合物と、 次式（Ａ）： X3CH2OR1 （Ａ） （式中、R1は低級アルキル基を表わし;X3はハロゲン原
    子を表わす。） で示される化合物を、金属マグネシウムの存在下で反応
    させることを特徴とする請求項１記載の化合物の製造
    法。
  4. 【請求項４】次式（III）： （式中、R2及びR3は、それぞれ独立して、低級アルキル
    基を表わし;X1はハロゲン原子を表わす。） で示される化合物と、ホルムアルデヒド又はその重合物
    と、ハロゲン化水素とを反応させることを特徴とする請
    求項２記載の化合物の製造法。
  5. 【請求項５】請求項４において式（III）で示される化
    合物と、 次式（Ｃ）： R4OCH2X2 （Ｃ） （式中、R4は低級アルキル基を表わし;X2はハロゲン原
    子を表わす。） で示される化合物を、酢酸及びX2に対応するハロゲン化
    水素水溶液の存在下で反応させることを特徴とする請求
    項２記載の化合物の製造法。
  6. 【請求項６】次式（IV）： （式中、R2及びR3は、それぞれ独立して、低級アルキル
    基を表わし;X1はハロゲン原子を表わす。） で示される化合物。
  7. 【請求項７】次式（Ｖ）： （式中、R2、R3及びR5は、それぞれ独立して、低級アル
    キル基を表わし;X1はハロゲン原子を表わす。）
  8. 【請求項８】請求項７記載の化合物を、水素化ホウ素ナ
    トリウム及び三フッ化ホウ素エーエル錯塩からなる還元
    剤で処理することを特徴とする請求項６記載の化合物の
    製造法。
  9. 【請求項９】次式（VI）： （式中、R2、R3及びR5は、それぞれ独立して、低級アル
    キル基を表わし;X1はハロゲン原子を表わす。） で示される化合物。
  10. 【請求項１０】請求項７記載の化合物を、ラネーニッケ
    ルの存在下、水素加圧下で処理することを特徴とする請
    求項９記載の化合内の製造法。
  11. 【請求項１１】次式（VII）： （式中、R2、R3及びR5は、それぞれ独立して、低級アル
    キル基を表わし;X1はハロゲン原子を表わす。） で示される化合物。
  12. 【請求項１２】請求項７記載の化合物を、ラネーニッケ
    ルの存在下、常圧で処理することを特徴とする請求項11
    記載の化合物の製造法。
  13. 【請求項１３】次式（VIII）： （式中、R2及びR3は、それぞれ独立して、低級アルキル
    基を表わし;X1及びX4は、それぞれ独立して、ハロゲン
    原子を表わす。） で示される化合物を、 次式（Ｄ）： （R5COO）nM （Ｄ） （式中、R5は低級アルキル基を表わし;Mは１価又は２価
    の金属を表わし;nは１又は２を表わす。） で示される化合物と反応させることを特徴とする請求項
    ７記載の化合物の製造法。
  14. 【請求項１４】請求項13において式（VIII）で示される
    化合物。
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