JP2577239B2 - 臭素化エポキシ化合物及び同化合物を含有する難熱化樹脂組成物 - Google Patents
臭素化エポキシ化合物及び同化合物を含有する難熱化樹脂組成物Info
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- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 title claims description 39
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 39
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 title claims description 31
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 28
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 13
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 31
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 31
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 27
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 27
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 17
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims description 12
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 11
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 17
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 14
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 9
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 9
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 description 8
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 8
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 6
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical class C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 epoxy resins Chemical class 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 4
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000000796 flavoring agent Substances 0.000 description 2
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 2
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 2
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- AHBGXHAWSHTPOM-UHFFFAOYSA-N 1,3,2$l^{4},4$l^{4}-dioxadistibetane 2,4-dioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb](=O)=O AHBGXHAWSHTPOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMQUQOHNANGDOR-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibromo-4-(2,4-dibromo-5-hydroxyphenyl)phenol Chemical compound BrC1=C(Br)C(O)=CC=C1C1=CC(O)=C(Br)C=C1Br CMQUQOHNANGDOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIAHASMJDOMQER-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CCC1=CN=C(C)N1 RIAHASMJDOMQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000411 antimony tetroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QBLDFAIABQKINO-UHFFFAOYSA-N barium borate Chemical compound [Ba+2].[O-]B=O.[O-]B=O QBLDFAIABQKINO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 1
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- AOGYCOYQMAVAFD-UHFFFAOYSA-N chlorocarbonic acid Chemical group OC(Cl)=O AOGYCOYQMAVAFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 125000006222 dimethylaminomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])N(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N epibromohydrin Chemical compound BrCC1CO1 GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006735 epoxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- SLAFUPJSGFVWPP-UHFFFAOYSA-M ethyl(triphenyl)phosphanium;iodide Chemical compound [I-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(CC)C1=CC=CC=C1 SLAFUPJSGFVWPP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012796 inorganic flame retardant Substances 0.000 description 1
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012803 melt mixture Substances 0.000 description 1
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000012763 reinforcing filler Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N trizinc;diborate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] BIKXLKXABVUSMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Epoxy Compounds (AREA)
- Fireproofing Substances (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (a) 発明の目的 (産業上の利用分野) 本発明は熱安定性に優れ、各種の樹脂の難燃剤として
有用な臭素化エポキシ化合物に関する。
有用な臭素化エポキシ化合物に関する。
また、本発明はその臭素化エポキシ化合物を含有せし
めた難燃化樹脂組成物に関する。
めた難燃化樹脂組成物に関する。
さらに、本発明はその臭素化エポキシ化合物を含有せ
しめた半導体封止用難燃化エポキシ樹脂組成物に関す
る。
しめた半導体封止用難燃化エポキシ樹脂組成物に関す
る。
(従来の技術) 近年、高分子材料の難燃化は重要な課題となり、JIS
規格、自動車製品用規格、電気製品用規格、UL規格等に
おいても、その規定が設けられている。
規格、自動車製品用規格、電気製品用規格、UL規格等に
おいても、その規定が設けられている。
高分子材料用の難燃剤には種々のものがあるが、ベー
ス樹脂との相溶性や反応性、ベース樹脂物性を低下させ
ないなどの点からして、臭素化エポキシ樹脂はエポキシ
樹脂をはじめとして、フェノール樹脂、ポリエステル樹
脂、ABS樹脂等の各種の合成樹脂用難燃剤として、広く
用いられている。
ス樹脂との相溶性や反応性、ベース樹脂物性を低下させ
ないなどの点からして、臭素化エポキシ樹脂はエポキシ
樹脂をはじめとして、フェノール樹脂、ポリエステル樹
脂、ABS樹脂等の各種の合成樹脂用難燃剤として、広く
用いられている。
しかし、一般に市販されているテトラブロモビスフェ
ノールA・ジグリシジルエーテルや、ブロム化フェノー
ルノボラックポリグリシジルエーテル等の臭素化エポキ
シ樹脂は、その熱分解開始温度が230〜250℃と低く、そ
の熱分解時には多量の臭化水素ガスや臭素ガスなどを発
生する。そのため、かかる臭素化エポキシ化合物を難燃
剤として配合した樹脂組成物は、ベース樹脂と該臭素化
エポキシ樹脂との混合時、その混合後の樹脂組成物の成
形時、或いはその成形樹脂の使用時などにおける加熱の
際に、臭素化エポキシ樹脂が熱分解を起し、その発生ガ
スによって成形前又は成形後の樹脂が変質や変色を起し
たり、或いは成形装置や成形品に近接している金属部品
などを腐食する等のへい害を生じる欠点があった。
ノールA・ジグリシジルエーテルや、ブロム化フェノー
ルノボラックポリグリシジルエーテル等の臭素化エポキ
シ樹脂は、その熱分解開始温度が230〜250℃と低く、そ
の熱分解時には多量の臭化水素ガスや臭素ガスなどを発
生する。そのため、かかる臭素化エポキシ化合物を難燃
剤として配合した樹脂組成物は、ベース樹脂と該臭素化
エポキシ樹脂との混合時、その混合後の樹脂組成物の成
形時、或いはその成形樹脂の使用時などにおける加熱の
際に、臭素化エポキシ樹脂が熱分解を起し、その発生ガ
スによって成形前又は成形後の樹脂が変質や変色を起し
たり、或いは成形装置や成形品に近接している金属部品
などを腐食する等のへい害を生じる欠点があった。
特に、近年になってIC、LSIなどの半導体素子を安価
に封止するために、セラミック封止や金属封止の代りに
熱硬化性樹脂成形材料による、いわゆる樹脂封止が用い
られるようになり、その封止用樹脂成形材料としては、
低圧成形用エポキシ樹脂組成物が最も一般的に用いられ
るようになった。
に封止するために、セラミック封止や金属封止の代りに
熱硬化性樹脂成形材料による、いわゆる樹脂封止が用い
られるようになり、その封止用樹脂成形材料としては、
低圧成形用エポキシ樹脂組成物が最も一般的に用いられ
るようになった。
ところが、かかる封止用樹脂に対しては、信頼性、特
に耐湿信頼性についての厳しい要求がある。一般に、樹
脂封止の耐湿性は、その樹脂組成に大きく依存し、また
吸湿原因はバルク透湿、界面よりの水侵入、不純物レベ
ルや電気特性等にもとづく要因等が支配的要因と考えら
れ、この中でも不純物の影響が非常に大きいと考えられ
る。
に耐湿信頼性についての厳しい要求がある。一般に、樹
脂封止の耐湿性は、その樹脂組成に大きく依存し、また
吸湿原因はバルク透湿、界面よりの水侵入、不純物レベ
ルや電気特性等にもとづく要因等が支配的要因と考えら
れ、この中でも不純物の影響が非常に大きいと考えられ
る。
そして、封止用樹脂の耐浸性試験におけるAl配線腐食
の要因となる不純物には、ナトリウム、塩素、臭素等が
あげられるが、この中のナトリウムや塩素については、
原料の製法や精製等により耐湿性に対してほぼ問題がな
いレベルにまで低減できるようになった。しかし、従来
の臭素系難燃剤である前記のテトラブロモビスフェノー
ルA・ジグリシジルエーテルや、ブロム化フェノールノ
ボラックポリグリシジルエーテルなどの臭素化エポキシ
樹脂は安定性に劣り、吸湿時の加水分解やハンダフロー
時の数分解によって遊離の臭素を発生しやすい。
の要因となる不純物には、ナトリウム、塩素、臭素等が
あげられるが、この中のナトリウムや塩素については、
原料の製法や精製等により耐湿性に対してほぼ問題がな
いレベルにまで低減できるようになった。しかし、従来
の臭素系難燃剤である前記のテトラブロモビスフェノー
ルA・ジグリシジルエーテルや、ブロム化フェノールノ
ボラックポリグリシジルエーテルなどの臭素化エポキシ
樹脂は安定性に劣り、吸湿時の加水分解やハンダフロー
時の数分解によって遊離の臭素を発生しやすい。
なお、封止用樹脂の難燃化に臭素化エポキシ樹脂以外
の難燃剤を用いる提案もあるが、成形性、信頼性、価格
等の面でのバランスからして、現在、半導体封止用エポ
キシ樹脂の難燃剤としては、臭素化エポキシ樹脂/三酸
化アンチモン系が最も優れたものとして、一般的に用い
られている。
の難燃剤を用いる提案もあるが、成形性、信頼性、価格
等の面でのバランスからして、現在、半導体封止用エポ
キシ樹脂の難燃剤としては、臭素化エポキシ樹脂/三酸
化アンチモン系が最も優れたものとして、一般的に用い
られている。
(発明が解決しよとする問題点) 本発明は、安定性に優れ、難燃剤として有用な臭素化
エポキシ化合物を提供し、かつ同化合物を配合した難燃
性及び熱安定性に優れた樹脂組成物、さらには耐湿性及
び熱安定性に優れ、かつ熱水抽出性臭素含有量の少ない
半導体封止用難燃化エポキシ樹脂組成物を提供しようと
するものである。
エポキシ化合物を提供し、かつ同化合物を配合した難燃
性及び熱安定性に優れた樹脂組成物、さらには耐湿性及
び熱安定性に優れ、かつ熱水抽出性臭素含有量の少ない
半導体封止用難燃化エポキシ樹脂組成物を提供しようと
するものである。
(b) 発明の構成 (問題点を解決するための手段) 本発明の臭素化エポキシ化合物は、一般式 (式中、nは2〜10の数平均値である。) で表わされる化合物である。
前記の構造式(I)におけるnの値が2よりも小さく
なると、化合物の熱安定性が低下してくるし、10よりも
大きくなると化合物の軟化点が高くなりすぎて、たとえ
ば難燃化させる樹脂との混和がしにくくなるばかりでな
く、同化合物の製造反応(すなわちエポキシ化反応等)
が困難になるので、nの値が2〜10の範囲内のものが最
も優れている。
なると、化合物の熱安定性が低下してくるし、10よりも
大きくなると化合物の軟化点が高くなりすぎて、たとえ
ば難燃化させる樹脂との混和がしにくくなるばかりでな
く、同化合物の製造反応(すなわちエポキシ化反応等)
が困難になるので、nの値が2〜10の範囲内のものが最
も優れている。
また、本発明の難燃化樹脂組成物は、難燃化させる樹
脂に対して前記の臭素化エポキシ化合物(I)を3〜30
重量%含有せしめてなる組成物である。
脂に対して前記の臭素化エポキシ化合物(I)を3〜30
重量%含有せしめてなる組成物である。
さらに、本発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物
は、難燃化させるエポキシ樹脂に対して前記の臭素化エ
ポキシ化合物(I)を3〜30重量%含有せしめてなる組
成物である。
は、難燃化させるエポキシ樹脂に対して前記の臭素化エ
ポキシ化合物(I)を3〜30重量%含有せしめてなる組
成物である。
本発明における前記の構造式(I)で表わされる臭素
化エポキシ化合物は、一般式 (式中、nは2〜10の数平均値である。) で表わされる臭素化ポリカーボネートオリゴマーに、ア
ルカリ金属水酸化物の存在下でエピハロヒドリンは反応
させてエポキシ化することによって、容易に製造するこ
とができる。
化エポキシ化合物は、一般式 (式中、nは2〜10の数平均値である。) で表わされる臭素化ポリカーボネートオリゴマーに、ア
ルカリ金属水酸化物の存在下でエピハロヒドリンは反応
させてエポキシ化することによって、容易に製造するこ
とができる。
また、本発明の臭素化エポキシ化合物(I)の製造用
の原料である前記構造式(II)で表わされる臭素化ポリ
カーボネートオリゴマーは、次のような方法で容易に合
成することができる。すなわち、不活性有機溶媒及びア
ミン類の存在下で、アルカリ金属水酸化物水溶液に溶解
したテトラブロモビスフェノールAに、そのpHを10〜11
に調節しながらホスゲンを反応させて得られる低重合度
ポリカーボネートの末端クロロホーメート基を、アンモ
ニア水及びアルカリ金属水酸化物水溶液で加水分解すれ
ば、前記構造式(II)のオリゴマーが容易に得られる。
の原料である前記構造式(II)で表わされる臭素化ポリ
カーボネートオリゴマーは、次のような方法で容易に合
成することができる。すなわち、不活性有機溶媒及びア
ミン類の存在下で、アルカリ金属水酸化物水溶液に溶解
したテトラブロモビスフェノールAに、そのpHを10〜11
に調節しながらホスゲンを反応させて得られる低重合度
ポリカーボネートの末端クロロホーメート基を、アンモ
ニア水及びアルカリ金属水酸化物水溶液で加水分解すれ
ば、前記構造式(II)のオリゴマーが容易に得られる。
次に、この構造式(II)で表わされる臭素化ポリカー
ボネートオリゴマーにエピハロヒドリンを反応させて、
本発明の臭素化エポキシ化合物(I)を製造する方法に
ついて詳述すると、まず、臭素化ポリカーボネートオリ
ゴマー(II)を、そのフェノール性水酸基1モル当り2
〜20モルに相当する量のエピハロヒドリンに溶解させて
均一な溶液とする。次いで、その溶液を攪拌しながらこ
れにフェノール性水酸基1モル当り1〜2モル量のアル
カリ金属水酸化物を固形又は水溶液で加えて反応させ
る。
ボネートオリゴマーにエピハロヒドリンを反応させて、
本発明の臭素化エポキシ化合物(I)を製造する方法に
ついて詳述すると、まず、臭素化ポリカーボネートオリ
ゴマー(II)を、そのフェノール性水酸基1モル当り2
〜20モルに相当する量のエピハロヒドリンに溶解させて
均一な溶液とする。次いで、その溶液を攪拌しながらこ
れにフェノール性水酸基1モル当り1〜2モル量のアル
カリ金属水酸化物を固形又は水溶液で加えて反応させ
る。
その反応は、常圧下又は減圧下で行なわせることがで
き、反応温度は、通常、常圧下の反応の場合には約80〜
105℃であり、減圧下の反応の場合には約50〜80℃であ
る。反応中は、所定の温度を保持しながら反応液を共沸
させ、揮発する蒸気を冷却して得られる凝縮液を油/水
分離し、水分を除いた油分を反応系に戻す方法によって
反応系より脱水する。アルカリ金属水酸化物の添加は、
急激な反応をおさえるために、1〜8時間をかけて少量
ずつを断続的若しくは連続的に添加する。その全反応時
間は、通常、1〜10時間程度である。
き、反応温度は、通常、常圧下の反応の場合には約80〜
105℃であり、減圧下の反応の場合には約50〜80℃であ
る。反応中は、所定の温度を保持しながら反応液を共沸
させ、揮発する蒸気を冷却して得られる凝縮液を油/水
分離し、水分を除いた油分を反応系に戻す方法によって
反応系より脱水する。アルカリ金属水酸化物の添加は、
急激な反応をおさえるために、1〜8時間をかけて少量
ずつを断続的若しくは連続的に添加する。その全反応時
間は、通常、1〜10時間程度である。
反応終了後、不溶性の副生塩を別して除くか、水洗
により除去したのち、未反応のエピハロヒドリンを減圧
留去して除くか、多量のメタノール又はエタノール等の
溶媒中に投入し、析出する化合物を過すると、目的の
臭素化エポキシ化合物(I)が得られる。
により除去したのち、未反応のエピハロヒドリンを減圧
留去して除くか、多量のメタノール又はエタノール等の
溶媒中に投入し、析出する化合物を過すると、目的の
臭素化エポキシ化合物(I)が得られる。
この反応において用いられるエピハロヒドリンとして
は、通常、エピクロルヒドリン又はエピブロモヒドリン
が用いられ、またアルカリ金属水酸化物としては、通
常、NaOH又はKOHが用いれる。また、この反応において
は、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラエチル
アンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩;ベン
ジルジメチルアミン、2,4,6−(トリスジメチルアミノ
メチル)フェノール等の第三級アミン、2−エチル−4
−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール等の
イミダゾール類;エチルトリフェニルホスホニウムイオ
ダイド等のホスホニウム塩;トリフェニルホスフィン等
のホススイン類などの触媒を用いてもよい。さらに、こ
の反応においては、エタノール、イソプロパノール等の
アルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケト
ン類;ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテ
ル等のエーテル類;ジメチルスルホキシド、ジメチルホ
ルムアミド等の非プロトン性極性溶媒等の不活性な有機
溶媒を使用してもよい。
は、通常、エピクロルヒドリン又はエピブロモヒドリン
が用いられ、またアルカリ金属水酸化物としては、通
常、NaOH又はKOHが用いれる。また、この反応において
は、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラエチル
アンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩;ベン
ジルジメチルアミン、2,4,6−(トリスジメチルアミノ
メチル)フェノール等の第三級アミン、2−エチル−4
−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール等の
イミダゾール類;エチルトリフェニルホスホニウムイオ
ダイド等のホスホニウム塩;トリフェニルホスフィン等
のホススイン類などの触媒を用いてもよい。さらに、こ
の反応においては、エタノール、イソプロパノール等の
アルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケト
ン類;ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテ
ル等のエーテル類;ジメチルスルホキシド、ジメチルホ
ルムアミド等の非プロトン性極性溶媒等の不活性な有機
溶媒を使用してもよい。
かくして得られる本発明の臭素化エポキシ化合物
(I)は、自体熱安定性に優れ、かつ種々の熱硬化性樹
脂や熱可塑性樹脂の難燃剤として優れている。したがっ
て、この臭素化エポキシ化合物(I)を、種種のベース
樹脂に対して3〜30重量%、好ましくは5〜25重量%配
合した樹脂組成物は、難燃性に優れていて、難燃性の要
求される用途に有利に使用することができる。この臭素
化エポキシ化合物(I)を難燃剤として配合するのに適
するベース樹脂としては、たとえばエポキシ樹脂、フェ
ノール樹脂等の熱硬化性樹脂;ポリエステル、ポリオレ
フィン、ポリスチレン、アクリロニトリル・ブタジエン
・スチレン樹脂(ABS)、アクリロニトリル・スチレン
樹脂(AS)、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリカー
ボネート、ポリサルホン、ポリフェニレンサルフィド、
各種のナイロン、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂があげ
られる。これらの樹脂に対する臭素化エポキシ化合物
(I)の配合割合は、前記したようにベース樹脂に対し
て3〜30重量%、好ましくは5〜25重量%である。
(I)は、自体熱安定性に優れ、かつ種々の熱硬化性樹
脂や熱可塑性樹脂の難燃剤として優れている。したがっ
て、この臭素化エポキシ化合物(I)を、種種のベース
樹脂に対して3〜30重量%、好ましくは5〜25重量%配
合した樹脂組成物は、難燃性に優れていて、難燃性の要
求される用途に有利に使用することができる。この臭素
化エポキシ化合物(I)を難燃剤として配合するのに適
するベース樹脂としては、たとえばエポキシ樹脂、フェ
ノール樹脂等の熱硬化性樹脂;ポリエステル、ポリオレ
フィン、ポリスチレン、アクリロニトリル・ブタジエン
・スチレン樹脂(ABS)、アクリロニトリル・スチレン
樹脂(AS)、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリカー
ボネート、ポリサルホン、ポリフェニレンサルフィド、
各種のナイロン、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂があげ
られる。これらの樹脂に対する臭素化エポキシ化合物
(I)の配合割合は、前記したようにベース樹脂に対し
て3〜30重量%、好ましくは5〜25重量%である。
ベース樹脂にこの臭素化エポキシ化合物(I)を難燃
剤として配合するに当っては、たとえば三酸化アンチモ
ン、四酸化アンチモン、五酸化アンチモン、ピロアンチ
モンソーダ、メタホウ酸バリウム、ホウ酸亜鉛、水酸化
アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化モリブデン等の
無機系難燃助剤を併用すると、難燃化効果をさらに高め
ることができる。
剤として配合するに当っては、たとえば三酸化アンチモ
ン、四酸化アンチモン、五酸化アンチモン、ピロアンチ
モンソーダ、メタホウ酸バリウム、ホウ酸亜鉛、水酸化
アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化モリブデン等の
無機系難燃助剤を併用すると、難燃化効果をさらに高め
ることができる。
また、この臭素化エポキシ化合物(I)をエポキシ樹
脂に対して3〜30重量%、好ましくは5〜25重量%配合
したものは、半導体封止用難燃化エポキシ樹脂組成物と
して著しく優れている。
脂に対して3〜30重量%、好ましくは5〜25重量%配合
したものは、半導体封止用難燃化エポキシ樹脂組成物と
して著しく優れている。
かかる半導体封止用難燃化エポキシ樹脂組成物を調製
する際に用いられるベースとなるエポキシ樹脂として
は、ビスフェノールA、ビスフェノールF、レゾルシ
ン、ハイドロキノン、メチルレゾルシン、フェノールノ
ボラック、クレゾールノボラック、レゾルシンノボラッ
ク、ビスフェノールAノボラックなどのフェノール類と
エピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂、一般
式 (式中、mは3又は4の整数、R1,R2はそれぞれ炭素
数1〜10の炭化水素基を示す。) で表わされる三官能又は四官能のエポキシ樹脂などがあ
げられる。
する際に用いられるベースとなるエポキシ樹脂として
は、ビスフェノールA、ビスフェノールF、レゾルシ
ン、ハイドロキノン、メチルレゾルシン、フェノールノ
ボラック、クレゾールノボラック、レゾルシンノボラッ
ク、ビスフェノールAノボラックなどのフェノール類と
エピハロヒドリンとから製造されるエポキシ樹脂、一般
式 (式中、mは3又は4の整数、R1,R2はそれぞれ炭素
数1〜10の炭化水素基を示す。) で表わされる三官能又は四官能のエポキシ樹脂などがあ
げられる。
また、その半導体封止用エポキシ樹脂組成物には、硬
化剤、硬化促進剤、無機充填材、離型剤、カップリング
剤、難燃助剤等が適宜に配合される。
化剤、硬化促進剤、無機充填材、離型剤、カップリング
剤、難燃助剤等が適宜に配合される。
その硬化剤としては、一般に用いられるエポキシ樹脂
の硬化剤を使用することができ、たとえばノボラック型
フェノール樹脂、ノボラック型クレゾール樹脂などのノ
ボラック型フェノール樹脂類;テトラヒドロ無水フタル
三、無水ピロメリット酸などの酸無水物類;ジアミノジ
フェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホンなどのア
ミン類等があげられる。
の硬化剤を使用することができ、たとえばノボラック型
フェノール樹脂、ノボラック型クレゾール樹脂などのノ
ボラック型フェノール樹脂類;テトラヒドロ無水フタル
三、無水ピロメリット酸などの酸無水物類;ジアミノジ
フェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホンなどのア
ミン類等があげられる。
その硬化促進剤としては、たとえば2−メチルイミダ
ゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾールなどのイ
ミダゾール類;2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)
フェノール、ベンジルジメチルアミンなどのアミン類;
トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどの
有機リン化合物等があげられる。
ゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾールなどのイ
ミダゾール類;2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)
フェノール、ベンジルジメチルアミンなどのアミン類;
トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどの
有機リン化合物等があげられる。
また、その無機充填材としては、たとえば溶融シリ
カ、結晶性シリカ、ガラス粉、アルミナ、ジルコンなど
があげられ、その離型剤としては、たとえば天然ワック
ス、合成ワックス、高級脂肪酸、高級脂肪酸の金属塩、
パラフィン等があげられ、さらにその難燃助剤として
は、たとえば三酸化アンチモン、リン酸、リン化合物な
どがあげられる。
カ、結晶性シリカ、ガラス粉、アルミナ、ジルコンなど
があげられ、その離型剤としては、たとえば天然ワック
ス、合成ワックス、高級脂肪酸、高級脂肪酸の金属塩、
パラフィン等があげられ、さらにその難燃助剤として
は、たとえば三酸化アンチモン、リン酸、リン化合物な
どがあげられる。
ベース用エポキシ樹脂、臭素化エポキシ化合物(I)
及び前記した硬化剤をはじめとする種々の添加剤を配合
して本発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物を調製す
るには、種々の方法を用いることが可能であるが、一般
的にはミキシングロールや押出機等を用いて溶融混合す
る方法が簡便で、好ましい。
及び前記した硬化剤をはじめとする種々の添加剤を配合
して本発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物を調製す
るには、種々の方法を用いることが可能であるが、一般
的にはミキシングロールや押出機等を用いて溶融混合す
る方法が簡便で、好ましい。
(実施例等) 以下に、臭素化ポリカーボネート合成例(以下、これ
を単に「合成例」という。)、実施例及び比較例をあげ
てさらに詳述する。これらの例において記載の「部」及
び「%」は、「重量部」及び「重量%」をそれぞれ意味
する。
を単に「合成例」という。)、実施例及び比較例をあげ
てさらに詳述する。これらの例において記載の「部」及
び「%」は、「重量部」及び「重量%」をそれぞれ意味
する。
合成例1〜4 2lの各フラスコに、メチレンクロライド500g、10%水
酸化ナトリウム水溶液300gに溶解させたテトラブロモビ
スフェノールAの163g、及びトリエチルアミン0.75gを
仕込んだ。フラスコ内を攪拌しながら内温を20℃に保
ち、pHを約11に調整するために10%水酸化ナトリウム水
溶液を滴下しながら、第1表に示した量のホスゲンを60
分かけて吸混んだのち、さらに20分間攪拌して反応させ
た。
酸化ナトリウム水溶液300gに溶解させたテトラブロモビ
スフェノールAの163g、及びトリエチルアミン0.75gを
仕込んだ。フラスコ内を攪拌しながら内温を20℃に保
ち、pHを約11に調整するために10%水酸化ナトリウム水
溶液を滴下しながら、第1表に示した量のホスゲンを60
分かけて吸混んだのち、さらに20分間攪拌して反応させ
た。
次いで、その各反応生成物を静置して水層と有機層に
分離し、有機層をリン酸で中和してから水洗したのち、
メチレンクロライドを蒸去して除き、白色粉末状の各生
成物を得た。
分離し、有機層をリン酸で中和してから水洗したのち、
メチレンクロライドを蒸去して除き、白色粉末状の各生
成物を得た。
その各生成物150gをメチレンクロライド500gに溶解
し、3%水酸化ナトリウム水溶液500g及び28%アンモニ
ア水30gを加えて室温で60分間攪拌した。その各生成物
にリン酸を水層が酸性になるまで加えてから、層分離し
て水層と有機層に分け、有機層からメチレンクロライド
を蒸留によって除き、白色粉末状の前記の構造式(II)
で表わされる臭素化ポリカーボネートオリゴマー〔ただ
し、合成例3及び4で得られたもののnの値は前記構造
式(II)におけるnの値からはずれている。〕が得られ
た。各合成例で得られたオリゴマーの数平均分子量及び
nの値は第1表に示すとおりであった。
し、3%水酸化ナトリウム水溶液500g及び28%アンモニ
ア水30gを加えて室温で60分間攪拌した。その各生成物
にリン酸を水層が酸性になるまで加えてから、層分離し
て水層と有機層に分け、有機層からメチレンクロライド
を蒸留によって除き、白色粉末状の前記の構造式(II)
で表わされる臭素化ポリカーボネートオリゴマー〔ただ
し、合成例3及び4で得られたもののnの値は前記構造
式(II)におけるnの値からはずれている。〕が得られ
た。各合成例で得られたオリゴマーの数平均分子量及び
nの値は第1表に示すとおりであった。
実施例1〜2 比較例1〜2 攪拌装置、温度計、アルカリ金属水酸化物水溶液の連
続添加用滴下ロート、及び反応系から蒸発する水及びエ
ピハロヒドリン等の蒸気を冷却、液化させ、その液化液
を有機層と水層の2層に分離し、水層を反応系外に除去
し、有機層を反応系に還流する(戻す)ための装置を取
付けた各反応器内に、上記の各合成例で得られた各臭素
化ポリカーボネートオリゴマーの第2表に示す各量をそ
れぞれ仕込み、それぞれエピクロルヒドリン556gを加え
て溶解させた。
続添加用滴下ロート、及び反応系から蒸発する水及びエ
ピハロヒドリン等の蒸気を冷却、液化させ、その液化液
を有機層と水層の2層に分離し、水層を反応系外に除去
し、有機層を反応系に還流する(戻す)ための装置を取
付けた各反応器内に、上記の各合成例で得られた各臭素
化ポリカーボネートオリゴマーの第2表に示す各量をそ
れぞれ仕込み、それぞれエピクロルヒドリン556gを加え
て溶解させた。
各反応器内を攪拌しながらそれぞれ48.5%水酸化ナト
リウム水溶液20gを60分かけて滴下した。この間に、内
温を92〜95℃に保ち、共沸してくるエピクロルヒドリン
と水の蒸気を冷却、液化させて層分離し、エピクロルヒ
ドリン層のみを反応器内に還流した。水酸化ナトリウム
水溶液の滴下終了後、さらに20分間攪拌を続けて反応さ
せた。
リウム水溶液20gを60分かけて滴下した。この間に、内
温を92〜95℃に保ち、共沸してくるエピクロルヒドリン
と水の蒸気を冷却、液化させて層分離し、エピクロルヒ
ドリン層のみを反応器内に還流した。水酸化ナトリウム
水溶液の滴下終了後、さらに20分間攪拌を続けて反応さ
せた。
反応終了後、各反応生成物より副生した塩化ナトリウ
ムを過して除き、その各液を3lのメタノール中に攪
拌下に加え、析出した沈澱を過して、淡黄色の前記構
造式(I)で表わされる臭素化エポキシ化合物〔ただ
し、比較例の場合のnの値は前記構造式(I)の限定値
からはずれている。〕が得られた。その各臭素化エポキ
シ化合物のnの値、エポキシ当量、及び軟化点は第2表
に示すとおりであった。
ムを過して除き、その各液を3lのメタノール中に攪
拌下に加え、析出した沈澱を過して、淡黄色の前記構
造式(I)で表わされる臭素化エポキシ化合物〔ただ
し、比較例の場合のnの値は前記構造式(I)の限定値
からはずれている。〕が得られた。その各臭素化エポキ
シ化合物のnの値、エポキシ当量、及び軟化点は第2表
に示すとおりであった。
実施例3〜5 比較例3〜8 第3表に示したように、種々の合成樹脂に対して実施
例1若しくは2で得られた臭素化エポキシ化合物(実施
例3〜5の場合)、又は比較例1若しくは2で得られた
臭素化エポキシ化合物(比較例3若しくは4の場合)、
又はその他の難燃剤(比較例5〜8の場合)をそれぞれ
配合し、かつ第3表に示すように三酸化アンチモン及び
強化充填材を配合して種々の樹脂組成物を調製し、得ら
れた各樹脂組成物について難燃性、熱安定性(変色性と
異臭)、及びブリード性を試験した。
例1若しくは2で得られた臭素化エポキシ化合物(実施
例3〜5の場合)、又は比較例1若しくは2で得られた
臭素化エポキシ化合物(比較例3若しくは4の場合)、
又はその他の難燃剤(比較例5〜8の場合)をそれぞれ
配合し、かつ第3表に示すように三酸化アンチモン及び
強化充填材を配合して種々の樹脂組成物を調製し、得ら
れた各樹脂組成物について難燃性、熱安定性(変色性と
異臭)、及びブリード性を試験した。
その結果は第3表に示すとおりであった。
第3表の注: *1…UL-94による *2…210℃/2時間 ○ 原色のまま △ 褐色に変色 × 黒褐色に変色 *3…230℃に加熱したときの異臭の発生の有無 *4…エピコート180 H64(油化シエルエポキシ株式会
社商品名、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹
脂)69部と、フェノールノボラック型硬化剤30部と、エ
ピキユアEMI-24(油化シエルエポキシ株式会社商品名、
2−メチル−4−エチルイミダゾール)1部との混合物 *5…油化シエルエポキシ株式会社商品名、テトラブロ
モビスフェノール型エポキシ樹脂、エポキシ当量620、
軟化点105℃、臭素含有量50% *6…日本化薬社商品名、臭素化フェノールノボラック
型エポキシ樹脂、エポキシ当量280、軟化点85℃、臭素
含有率36% 実施例6〜7 比較例9〜10 エポキシ樹脂、種々の臭素化エポキシ化合物、硬化
剤、硬化促進剤、充填材、三酸化アンチモン、表面処理
剤、及び離型剤を、第4表に示すように配合した。この
場合の各臭素化エポキシ化合物の配合量は、いずれのも
のも臭素量が組成物全体に対して1.0重量%になる配合
で配合した。次いで、その各配合物をミキシングロール
を用いて90℃の温度で5分間溶融混合してから、得られ
た各溶融混合物をシート状で取出し、冷却後に粉砕して
各成形材料を得た。
社商品名、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹
脂)69部と、フェノールノボラック型硬化剤30部と、エ
ピキユアEMI-24(油化シエルエポキシ株式会社商品名、
2−メチル−4−エチルイミダゾール)1部との混合物 *5…油化シエルエポキシ株式会社商品名、テトラブロ
モビスフェノール型エポキシ樹脂、エポキシ当量620、
軟化点105℃、臭素含有量50% *6…日本化薬社商品名、臭素化フェノールノボラック
型エポキシ樹脂、エポキシ当量280、軟化点85℃、臭素
含有率36% 実施例6〜7 比較例9〜10 エポキシ樹脂、種々の臭素化エポキシ化合物、硬化
剤、硬化促進剤、充填材、三酸化アンチモン、表面処理
剤、及び離型剤を、第4表に示すように配合した。この
場合の各臭素化エポキシ化合物の配合量は、いずれのも
のも臭素量が組成物全体に対して1.0重量%になる配合
で配合した。次いで、その各配合物をミキシングロール
を用いて90℃の温度で5分間溶融混合してから、得られ
た各溶融混合物をシート状で取出し、冷却後に粉砕して
各成形材料を得た。
得られた各成形材料の抽出性ハロゲン量、ガラス転移
点、熱安定性を試験した。その結果は第4表に示すとお
りであり、実施例6及び実施例7の成形材料は、抽出性
ハロゲン量が少なく、ガラス転移点が高く、熱安定性に
優れていて、半導体封止用エポキシ樹脂組成物として優
れたものであった。
点、熱安定性を試験した。その結果は第4表に示すとお
りであり、実施例6及び実施例7の成形材料は、抽出性
ハロゲン量が少なく、ガラス転移点が高く、熱安定性に
優れていて、半導体封止用エポキシ樹脂組成物として優
れたものであった。
第7表の注: *1…油化シエルエポキシ株式会社商品名 エピコート
180H65、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキ
シ当量201 *2…群栄化学社製フェノールノボラック、軟化点85℃ *3…トリフェニルホスフィン *4…龍森社商品名 RD−8(溶融シリカ粉末) *5…信越化学社商品名 KBM-403(エポキシシラン系
カップリング剤) *6…カルナバワックス *7…油化シエルエポキシ株式会社商品名、テトラブロ
モビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量38
5、臭素含有量49% *8……第3表の*6に同じ *9…125℃、24時間熱水抽出後、イオンクロマトグラ
フィ分析により定量した *10…熱膨張曲線の転移点より求めた (c) 発明の効果 本発明の臭素化エポキシ化合物(I)は熱安定性に優
れ、難燃剤として有用である。また、この臭素化エポキ
シ化合物(I)を配合した本発明の難燃化樹脂組成物は
難燃性及び耐熱性に優れており、さらにこの臭素化エポ
キシ化合物(I)を配合した本発明のエポキシ樹脂組成
物は半導体封止用エポキシ樹脂成形材として優れてい
る。
180H65、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキ
シ当量201 *2…群栄化学社製フェノールノボラック、軟化点85℃ *3…トリフェニルホスフィン *4…龍森社商品名 RD−8(溶融シリカ粉末) *5…信越化学社商品名 KBM-403(エポキシシラン系
カップリング剤) *6…カルナバワックス *7…油化シエルエポキシ株式会社商品名、テトラブロ
モビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量38
5、臭素含有量49% *8……第3表の*6に同じ *9…125℃、24時間熱水抽出後、イオンクロマトグラ
フィ分析により定量した *10…熱膨張曲線の転移点より求めた (c) 発明の効果 本発明の臭素化エポキシ化合物(I)は熱安定性に優
れ、難燃剤として有用である。また、この臭素化エポキ
シ化合物(I)を配合した本発明の難燃化樹脂組成物は
難燃性及び耐熱性に優れており、さらにこの臭素化エポ
キシ化合物(I)を配合した本発明のエポキシ樹脂組成
物は半導体封止用エポキシ樹脂成形材として優れてい
る。
Claims (3)
- 【請求項1】構造式 (式中、nは2〜10の数平均値である。) で表わされる臭素化エポキシ化合物。
- 【請求項2】第1請求項記載の臭素化エポキシ化合物を
難燃化させる樹脂に対して3〜30重量%含有せしめてな
る難燃化樹脂組成物。 - 【請求項3】第1請求項記載の臭素化エポキシ化合物を
難燃化させるエポキシ樹脂に対して3〜30重量%含有せ
しめてなる半導体封止用難燃化エポキシ樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63047507A JP2577239B2 (ja) | 1988-03-02 | 1988-03-02 | 臭素化エポキシ化合物及び同化合物を含有する難熱化樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63047507A JP2577239B2 (ja) | 1988-03-02 | 1988-03-02 | 臭素化エポキシ化合物及び同化合物を含有する難熱化樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01224368A JPH01224368A (ja) | 1989-09-07 |
JP2577239B2 true JP2577239B2 (ja) | 1997-01-29 |
Family
ID=12777025
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63047507A Expired - Fee Related JP2577239B2 (ja) | 1988-03-02 | 1988-03-02 | 臭素化エポキシ化合物及び同化合物を含有する難熱化樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2577239B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2738104B2 (ja) * | 1990-01-31 | 1998-04-08 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 難燃剤マスターバッチ |
JP2006151854A (ja) * | 2004-11-29 | 2006-06-15 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | メタクリル酸グリシジルの製造方法 |
-
1988
- 1988-03-02 JP JP63047507A patent/JP2577239B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01224368A (ja) | 1989-09-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |