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JP2556912B2 - Voltage detector - Google Patents

Voltage detector

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JP2556912B2
JP2556912B2 JP1311251A JP31125189A JP2556912B2 JP 2556912 B2 JP2556912 B2 JP 2556912B2 JP 1311251 A JP1311251 A JP 1311251A JP 31125189 A JP31125189 A JP 31125189A JP 2556912 B2 JP2556912 B2 JP 2556912B2
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voltage
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紳一郎 青島
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention 【産業上の利用分野】[Industrial applications]

この発明は電圧検出装置に係り、特に、被測定電圧に
よる電界の変化に対応して、通過する光の強度が変化す
る電気光学結晶を備えた電圧検出装置に関する。
The present invention relates to a voltage detecting device, and more particularly to a voltage detecting device including an electro-optic crystal in which the intensity of passing light changes in response to a change in an electric field due to a measured voltage.

【従来の技術】 従来この種の電圧検出装置、例えば電界強度によって
屈折率が変化する電気光学材料を用いた、いわゆるE−
O電圧検出装置としては、USP4、446、425号公報に開示
されるもの、特開昭63−300969号公報あるいは特開昭64
−9370号公報等に開示されているものがある。 これらの電圧検出装置は、先端に光反射面を備えた電
気光学材料からなる光プローブを備え、光反射面からの
反射光のうち所定の偏光成分を偏光素子で取り出し、こ
れを光検出器によって受光し、光電変換するものである
が、電圧変化に伴なう光強度変化が微弱であるために通
常の増幅器ではS/N良く検知することができない。この
ため被測定電気信号をオン・オフして、その変調周波数
の信号を狭帯域増幅する必要があった。 前出のUSP4,446,425号発明等においては、被測定電気
信号が、光検出器の出力信号である場合には、その光検
出器に入射する光パルスをオン・オフすればよく、容易
に行うことができるが、この場合被測定デバイス(被測
定電気信号源)は、光で電気信号を発生するものに限ら
れるという問題点がある。
2. Description of the Related Art Conventional voltage detecting devices of this type, for example, so-called E-, which use an electro-optical material whose refractive index changes according to the electric field strength, are used.
As the O-voltage detecting device, one disclosed in USP 4,446,425, JP-A-63-300969 or JP-A-64
Some of them are disclosed in Japanese Patent No. 9370. These voltage detection devices are provided with an optical probe made of an electro-optic material having a light reflecting surface at the tip, take out a predetermined polarization component of the reflected light from the light reflecting surface with a polarizing element, and use this with a photodetector. Although it receives light and photoelectrically converts it, it cannot detect S / N well with a normal amplifier because the change in light intensity accompanying a voltage change is weak. Therefore, it is necessary to turn on / off the electric signal to be measured and to narrow-band amplify the signal of the modulation frequency. In the above-mentioned USP 4,446,425 invention, etc., when the electrical signal to be measured is the output signal of the photodetector, the light pulse incident on the photodetector may be turned on and off, which is easily performed. However, in this case, there is a problem that the device under test (electrical signal source under test) is limited to one that generates an electrical signal by light.

【発明が解決しようとする課題】[Problems to be Solved by the Invention]

一方、被測定電気信号を電気チョップ素子により直接
オン・オフすることも考えられるが、この場合は、被測
定信号が電気チョップ素子を通る際に、波形歪みが生
じ、正確な波形計測が困難となるという問題点がある。 更に、直流電圧を測定する場合を考えると、E−Oプ
ローブに電圧を印加すれば、偏光素子を通過する光強度
が変化するのであるから、光検出器により通過光量をモ
ニタすれば直流電圧でも測定できるはずである。 しかしながら、E−Oプローブの感度が低いので、僅
か数Vの印加電圧では、その光量変化が極僅かであり、
通常の光パワメータではダイナミックレンジが足らず検
出できない。 一般に、第14図に示されるように、被測定電気信号を
チョップして、ロックインアンプによってその変調成分
のみを効率良く検出することが提案されている。 しかしながら、直流電圧を測定する場合は、その電気
信号をチョップできないので、第15図に示されるように
光プローブへの入射光をチョップすることが考えられ
る。 しかし、このままロックイン検出したのでは、第15図
(C)に示されるように光強度そのものを測定している
だけであって、E−Oプローブへの電圧印加による変化
分を検出することができない。 更に、前述の如く、光プローブ先端には光反射面が形
成されているが、この光反射面の反射率を100%とする
ことが困難であるので、どうしても該光反射面から被測
定信号源側に入射光の一部が洩れてしまうという問題点
がある。 入射光の一部が光反射面から被測定信号源側に洩れる
と、該被測定信号源での反射光が再び光反射面を通過し
て光プローブ内に入り込み、これが出力信号の一部とし
て検出されてしまう。 上記の場合、被測定信号源における光反射率が一定で
あれば、この反射率及び光反射面の透過率を考慮して信
号処理し、正しい測定値を得ることができる。 しかしながら、被測定信号源は、例えばLSI等の場
合、そのパターンによって、反射率が変化するために、
容易に補正をすることができない。 この発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたもので
あって、被測定信号をオン・オフすることなく該被測定
信号の変化を確実に検出することができるようにした電
圧検出装置を提供することを目的とする。 又この発明は、直流電圧等の変化のない信号をも測定
可能とした電圧検出装置を提供することを目的とする。 この発明は、光プローブの光反射面を透過する光によ
る測定誤差を補正することができるようにした電圧検出
装置を提供することを目的とする。 又、上記のような、光反射面を透過した光が、被測定
信号源表面の反射率のばらつきによって、生じる測定誤
差を補正することができるようにした電圧検出装置を提
供することをも目的とする。
On the other hand, it is possible to directly turn on / off the electric signal under measurement by the electric chop element, but in this case, waveform distortion occurs when the electric signal under measurement passes through the electric chop element, making accurate waveform measurement difficult. There is a problem that Further, considering the case of measuring the DC voltage, if a voltage is applied to the E-O probe, the intensity of light passing through the polarizing element changes, so if the amount of passing light is monitored by a photodetector, even the DC voltage can be measured. You should be able to measure. However, since the sensitivity of the E-O probe is low, the change in the amount of light is extremely small with an applied voltage of only a few V,
Ordinary optical power meters cannot detect because of insufficient dynamic range. Generally, as shown in FIG. 14, it has been proposed to chop an electric signal to be measured and efficiently detect only the modulation component by a lock-in amplifier. However, when measuring the DC voltage, the electric signal cannot be chopped, so it is conceivable to chop the incident light to the optical probe as shown in FIG. However, if the lock-in is detected as it is, only the light intensity itself is measured as shown in FIG. 15 (C), and the change due to the voltage application to the EO probe can be detected. Can not. Further, as described above, a light reflecting surface is formed at the tip of the optical probe, but it is difficult to set the reflectance of this light reflecting surface to 100%. There is a problem that part of the incident light leaks to the side. When a part of the incident light leaks from the light reflecting surface to the measured signal source side, the reflected light from the measured signal source again passes through the light reflecting surface and enters the optical probe, which is a part of the output signal. It will be detected. In the above case, if the light reflectance of the signal source to be measured is constant, signal processing can be performed in consideration of this reflectance and the transmittance of the light reflecting surface to obtain a correct measurement value. However, if the signal source under measurement is, for example, an LSI, the reflectance changes depending on the pattern,
It cannot be easily corrected. The present invention has been made in view of the above conventional problems, and provides a voltage detection device capable of reliably detecting a change in a signal under measurement without turning on / off the signal under measurement. The purpose is to do. It is another object of the present invention to provide a voltage detection device capable of measuring a signal that does not change, such as a DC voltage. It is an object of the present invention to provide a voltage detecting device capable of correcting a measurement error due to light transmitted through a light reflecting surface of an optical probe. It is also an object of the present invention to provide a voltage detection device capable of correcting a measurement error caused by the light transmitted through the light reflecting surface as described above due to the variation in the reflectance of the signal source surface to be measured. And

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

この発明は、被測定物の所定部分の電界により屈折率
変化が生じる電気光学材料からなり、先端に光反射面が
形成された光プローブと、この光プローブに入射させる
光ビームを発生させる光源装置と、この光源装置から出
射され、前記光プローブに入射し、且つ、前記光反射面
で反射された後に、該光プローブから出射された光ビー
ムを受光して、光電変換する光検出器と、を有してな
り、前記光検出器出力の変化から、被測定物の電圧を測
定する電圧検出装置において、前記光源装置は光ビーム
を繰返しオン−オフするチョップ手段を備えると共に、
前記光プローブにかかる電界による偏光状態の変化を受
けない光ビームを受光して光電変換する第2の光検出器
と、前記光検出器及び第2の光検出器の出力差を、前記
チョップ手段によるオン−オフの周波数で狭帯域検出す
る狭帯域検出手段と、前記光プローブへ電界を印加しな
い状態及び印加した状態での、前記狭域検出手段の出力
の差を演算すると共に、該出力の差を、前記光プローブ
への電界を印加しない状態での前記光検出器の出力で除
す補正回路と、を設けることにより上記目的を達成する
ものである。 又、前記光源装置を、レーザパルス光を出力するパル
スレーザとし、被測定電圧波形を高時間分解可能とする
ことにより上記目的を達成したものである。
The present invention relates to an optical probe which is made of an electro-optical material whose refractive index changes due to an electric field of a predetermined portion of an object to be measured, and has a light reflecting surface formed at its tip, and a light source device for generating a light beam to be incident on the optical probe. And a photodetector that is emitted from this light source device, is incident on the optical probe, and is reflected by the light reflecting surface, receives the light beam emitted from the optical probe, and photoelectrically converts the light beam. From the change of the photodetector output, in the voltage detection device for measuring the voltage of the DUT, the light source device is provided with a chop means for repeatedly turning on and off the light beam,
The second photodetector, which receives and photoelectrically converts a light beam whose polarization state is not changed by the electric field applied to the optical probe, and the output difference between the photodetector and the second photodetector, the chopping means. And a narrow band detecting means for detecting a narrow band at an on-off frequency, and calculating a difference between the output of the narrow band detecting means in a state in which an electric field is not applied to the optical probe and a state in which the electric field is applied to the optical probe, and The above object is achieved by providing a correction circuit that divides the difference by the output of the photodetector in the state where no electric field is applied to the optical probe. Further, the above-mentioned object is achieved by using the light source device as a pulse laser which outputs a laser pulse light, and by making it possible to decompose the voltage waveform to be measured for a long time.

【作用】[Action]

この発明においては、被測定電気信号ではなく、光プ
ローブに入射される光を、光チョップ手段によってオン
・オフしているので、被測定信号をチョップする場合と
比較して、該被測定信号の正確な波形計測が可能であ
る。又直流電圧の測定も可能である。 又、光プローブの光反射面からの漏洩光によるノイズ
を、光プローブへの被測定電気信号の印加時及び非印加
時における、狭帯域検出手段の出力の差から補正して、
正確な検出を行うことができる。 更に、光プローブへ電界を印加しない状態及び印加し
た状態での、狭帯域検出手段の出力の差を演算して、こ
の出力の差を、光プローブへの電界を印加しない状態で
の光検出器の出力で除すことにより、被測定物の反射率
のばらつきを補正することができる。
In the present invention, not the electrical signal to be measured but the light incident on the optical probe is turned on and off by the optical chopping means. Therefore, compared to the case where the signal to be measured is chopped, Accurate waveform measurement is possible. It is also possible to measure DC voltage. Further, noise due to light leaked from the light reflecting surface of the optical probe is corrected from the difference in the output of the narrow band detection means when the electrical signal to be measured is applied to the optical probe and when it is not applied,
Accurate detection can be performed. Further, the difference between the outputs of the narrow band detection means in the state where the electric field is not applied to the optical probe and the state where the electric field is applied is calculated, and the difference in the output is detected by the photodetector in the state where the electric field is not applied to the optical probe. It is possible to correct the variation in the reflectance of the object to be measured by dividing by the output of.

【実施例】【Example】

以下本発明の実施例を図面を参照して説明する。 本発明の第1実施例は、第1図に示されるように、電
圧変化を生じる被測定信号源10における被測定信号の変
化に対応して、通過する光の強度が変化する電気光学素
子からなる光強度変化手段12と、半導体レーザからなる
短パルス光源14と、この短パルス光源14から出射される
光を繰返し高速でオン・オフする光チョッパー16、及
び、この光チョッパー16を制御する光チョッパー制御回
路18、を含む光源装置20と、この光源装置20から出射さ
れ、前記光強度変化手段12を通過した光を光電変換する
第1の光検出器22と、前記光源装置20からの光であっ
て、光強度変化手段12に入射する前の光を側方に分離す
るビームスプリッタ24と、このビームスプリッタ24から
分離された光を受光して光電変換する第2の光検出器26
と、前記第1及び第2の光検出器22、26の出力の差を演
算すると共に、これを前記光チョッパー16におけるオン
・オフの周波数で狭帯域検出する狭帯域検出手段28と、
から電圧検出装置30を構成したものである。 前記狭帯域検出手段28は、前記第1の光検出器22と第
2の光検出器26の出力の差を演算する演算回路28Aと、
この演算回路28Aの出力信号を、前記光チョッパー16の
オン・オフの周波数で狭帯域検出する狭帯域フィルター
28Bと、この狭帯域フィルター28Bの出力を増幅するため
のアンプ28Cと、前記光強度変化手段12における被測定
信号による光強度変化がないときの、前記第1及び第2
の光検出器22、26の出力の差が0になるように、前記演
算回路28Aを調整する出力調整器28Dと、を備えて構成さ
れている。 この出力調整器28Dは、前記第1及び第2の光検出器2
2、26の出力信号の一方又は両方を調整するものであ
る。 この実施例の場合、被測定信号源10の信号を直接オン
・オフすることなく、光チョッパー16により光をオン・
オフすることによって、被測定信号をオン・オフしたと
同様の効果を得ることができる。 従って、被測定信号のオン・オフによる信号波形の歪
みを防止することができ、該被測定信号の正確な波形計
測が容易となる。 又前記短パルス光源14は、これを被測定信号と同期さ
せることによって、被測定信号の変化による光強度変化
手段12における光強度変化分を、短パルス光源14の光パ
ルス幅程度のゲート時間で検出することができる。 この場合、前記第1及び第2の光検出器22、26は、こ
れを高速型とする必要がない。 なお、上記第1実施例は、光源を短パルス光源とした
ものであるが、被測定信号を短いゲート時間で検出する
必要がなければ、連続光の光源としてもよい。 又、前記実施例において、第2の光検出器26は、光強
度変化手段12への入射前の光をビームスプリッタ24で分
離して受光するものであるが、この第2の光検出器は、
要すれば、光強度変化手段12による光強度変化を受けな
い状態の光を受光できるものであればよい。 従って、光強度変化手段12の光出射側にビームスプリ
ッタを配置して、ここから、被測定信号によって光強度
変化を受けない状態での光を受光するようにしてもよ
い。 又上記実施例において、光チョッパー16は、機械式光
チョッパー、超音波光変調器、あるいは光源駆動回路と
されている。 更に、前記狭帯域検出手段28は、狭帯域フィルターと
アンプとの組合せ以外に、スペアナ、ロックインアンプ
あるいは狭帯域バンドパスアンプであってもよい。 次に第2図に示される本発明の第2実施例について説
明する。 この第2実施例は、被測定物の所定部分の電界により
屈折率変化が生じる電気光学材料からなり、先端に光反
射面34Aが形成された光プローブ34と、この光プローブ3
4に入射させる光ビームを発生させる光源装置36と、こ
の光源装置36から出射され、前記光プローブ34に入射
し、且つ、前記光反射面34Aで反射された後に、該光プ
ローブ34から出射された光ビームを受光して、光電変換
する第1の光検出器38と、を有してなり、前記第1の光
検出器38の出力の変化から被測定物の電圧を測定する電
圧検出装置32において、前記光源装置36に、光ビームを
繰返しオン・オフする超音波光変調器36Aを備えると共
に、前記光プローブ34にかかる電界により屈折率変化を
受けない光ビームを、光プローブ34への入射前に受光し
て光電変換する第2の光検出器40と、前記第1及び第2
の光検出器38、40の出力差を、前記超音波光変調器36A
によるオン・オフの周波数で狭帯域検出する狭帯域検出
手段42と、を設けたものである。 前記光源装置36は、前記超音波光変調器36Aと、光源
としての半導体レーザ36Bと、この半導体レーザ36Bの出
射側と前記超音波光変調器36Aの入射側との間に配置さ
れた集光レンズ36C及び光アイソレータ36Dと、前記半導
体レーザ36Bを、被測定物である被測定電子デバイス46
と同期して駆動させるための半導体レーザ駆動装置36E
と、前記超音波光変調器36Aを制御するための光変調器
制御装置36Fと、から構成されている。 図の符号48は被測定電子デバイス46を駆動させるため
の電子デバイス駆動装置を示し、前記半導体レーア駆動
装置36Eに、被測定電子デバイス46と同期させるための
信号を出力するようにされている。 前記超音波光変調器36Aは、前記光変調器制御装置36F
によって制御されるものであるが、変調されないときの
0次光は、前記光プローブ34から逸れて、光ストッパー
50に向かうようにされ、超音波によって変調されたとき
コリメータレンズ52を介して、1次光が、前記光プロー
ブ34に向かうように構成されている。 このコリメータレンズ52と前記光プローブ34との間に
は、偏光ビームスプリッタ54、ビームスプリッタ56、コ
ンペンセータ58及び集光レンズ60がこの順で配置されて
いる。 前記偏光ビームスプリッタ54は、これらを通過して、
一旦光プローブ34に入射し、且つ光反射面34Aで反射さ
れてきた光を側方に分離し、第1の光検出器38に入射さ
せるものである。 又ビームスプリッタ56は、光プローブ34への入射前の
1次光を側方に分離し、前記第2の光検出器40に導くも
のである。 前記狭帯域検出手段42は、前記第2の光検出器40の出
力を調整するための可変減衰器42Aと、この可変減衰器4
2Aを第1及び第2の光検出器38、40の出力に応じて、前
記光プローブ34に電界が印加されない状態でのこれら2
つの光検出器38、40の出力が同一となるように制御する
可変減衰器制御回路42Bと、前記第1の光検出器38から
の出力及び可変減衰器42Aを経た第2の光検出器40から
の出力を、前記光変調器制御装置36Fからの参照信号に
基づいて、超音波光変調器36Aによる光のオン・オフの
周波数で、狭帯域増幅するロックインアンプ42Cと、を
備えて構成されている。 図の符号55はロックインアンプ42Cの出力を、前記半
導体レーザ駆動装置36Eからの信号に基づいて、半導体
レーザ36Bにおける光パルス発生タイミング変化量と共
に記録する記録装置を示す。又符号57は記録装置55の記
録を表示、解析するための表示解析装置を示す。 次に上記実施例の作用を説明する。 電子デバイス駆動装置48により、被測定電子デバイス
46を動作させ、この電子デバイス駆動装置48からの信号
に基づいて、半導体レーザ駆動装置36Eにより、被測定
電子デバイス46と同期して半導体レーザ36Bを駆動す
る。 半導体レーザ36Bからの出射光は、集光レンズ36C、光
アイソレータ36Dを経て超音波光変調器36Aに入射する。 この超音波光変調器36Aは、光変調器制御装置36Fによ
って駆動され、入射光は変調されたとき1次光となっ
て、コリメータレンズ52、偏光ビームスプリッタ54、ビ
ームスプリッタ56、コンペンセータ58及び集光レンズ60
を経て光プローブ34に入射する。 光プローブ34には、被測定電子デバイス46の電圧によ
り電界が作用し、その電界に応じて該光プローブ34内で
の光の偏光状態が変化する。 光プローブ34内で、入射光は光反射面34Aで反射され
た後再び集光レンズ60、コンペンセータ58、ビームスプ
リッタ56を経て偏光ビームスプリッタ54に至り、ここで
第1の光検出器38に向けて反射される。 一方、超音波光変調器36Aからの1次光は、ビームス
プリッタ56を通過する際に、その一部が反射され第2の
光検出器40に到達する。 第1の光検出器38の出力Aと、第2の光検出器40の出
力Bは、前記可変減衰器42A及び可変減衰器制御回路42B
によって、自動的に、且つ予め、光プローブ34に電界が
印加されない状態での出力がA=Bとなるように調整さ
れていて、可変減衰器42Aによって出力が調整された
後、ロックインアンプ42Cに入力される。 このロックインアンプ42Cは、光変調器制御装置36Fか
らの参照信号に基づいて、A−Bの信号成分のうち、光
変調器制御装置36Fからの参照信号に基づいて、超音波
光変調器36Aのオン・オフの変調周波数成分を狭帯域で
増幅する。 このロックインアンプ42Cの出力即ちA−B=Cは、
記録装置55に入力されて、記録装置55は、前記半導体レ
ーザ駆動装置36Eにおける光パルス発生タイミング変化
量と共に、ロックインアンプ42Cの出力を記録し、これ
が、表示解析装置57で表示、解析される。 従ってこの実施例においては、被測定電子デバイス46
における信号をオン・オフすることなく、光プローブ34
に入射する光を超音波光変調器36Aによってオン・オフ
して、被測定信号そのものをオン・オフさせるものと同
等の効果を得ることができ、しかも、被測定電子デバイ
ス46におけるオン・オフに基づく信号波形の歪みが解消
される。 又この実施例においては、半導体レーザ36Bが、被測
定電子デバイス46の信号に同期して駆動されるので、光
パルス発生タイミングを順次変化させていくことによっ
て、被測定電子デバイス46における信号波形を正確に測
定することができる。 上記のように、この実施例は、半導体レーザ36Bを被
測定電子デバイス46と同期させることによって高速電気
波形の計測を可能としたものであるが、本発明はこれに
限定されるものでなく、被測定電子デバイス46に直流電
圧を印加するような場合についても適用され得るもので
ある。 この場合は、光源装置における光源はパルス光である
必要はなく、He Neレーザ等の直流光源であってもよ
い。 直流電圧を測定する場合は、第14図及び第15図に示さ
れるように従来不可能であったが、この実施例において
は、第3図に示されるように、入力光をチョップし、ロ
ックインアンプ42Cにおける差動入力(A−B)で、光
プローブ34への電圧印加による変化分のみを、第3図
(D)に示されるようにロックイン検出することができ
る。 又、第5図に示される光プローブ34の光反射面34Aに
対向する面に透面背面電極を設けて、これにDC信号を印
加することによって絶対電圧の測定も可能となる。 次に第4図に示される本発明の第3実施例について説
明する。 この第3実施例は、前記ロックインアンプ42の出力側
に補正回路44を設けたものである。 他の構成は前記第2図の第2実施例と同一であるの
で、同一部分には第2図と同一の符号を付することによ
り説明を省略するものとする。 前記補正回路44は、前記光プローブ34への電界を印加
しない状態及び印加した状態での、前記ロックインアン
プ42Cの出力の差を演算すると共に、該出力の差を、前
記光プローブ34への電界を印加しない状態での前記第1
の光検出器38の出力で除すようにした割算器から構成さ
れている。 次にこの実施例の作用について説明する。 通常、光プローブ34先端の光反射面34Aの反射率を100
%とすることは不可能である。 従って、光プローブ34への入射光の一部は、該光反射
面34Aを透過して被測定物表面に到達し、且つそこで反
射され、再び光反射面34Aを通って光プローブ内に入り
込み、これが光検出器にノイズとして検出され、測定誤
差の原因となる。 のみならず、被測定物表面の反射率にばらつきがある
場合は、この表面からの反射光による測定誤差も反射率
の変化に伴って変化し、更に正確な測定を困難なものと
している。 前記補正回路44は、このような光反射面34Aの反射率
の不完全性に基づく透過光による誤差の影響、更には被
測定物表面の反射率のばらつきによる誤差を解消して、
正確な測定を可能とするものである。 第5図に示されるように、被測定物、例えば前述の被
測定電子デバイス46表面における反射率の異なる第1及
び第2の領域46A、46B、及び、これらの反射率R1及びR2
を仮定する。 入射光強度を2I0、光反射面34Aの反射率をR0とする。 ここで、R0=1とした場合、光プローブ34からの基本
となる出力Iは次の(1)式で表わされる。 但し(1)式は、VがVπに比べて小さい場合の近似
式である。 I=I0(1+π/Vπ・v) …(1) ここでVπ…半波長電圧、vは被測定電圧を示す。 一方、光反射面34Aの反射率がR0<1の状態で該光反
射面34Aで反射した光の出力及び該光反射面34Aを通過
し、領域46Aで反射し、再び光反射面34Aを通過した光の
出力をそれぞれIx及びIyとすると、 Ix=I0R0(1+π/Vπ・v) …(2) Iy=(1−R0R1I0(1+π/Vπ・v) …(3) となる。 前出(1)式のIはIxとIyの和にほぼ等しい。従ってI
は次の(4)式に示されるようになる。 I=Ix+Iy =I0(1+π/Vπ・v) {R0+(1−R0R1} …(4) ここで、Ix、Iyは共に、偏光ビームスプリッタ54で光
量が半分になるものと仮定している。 前記第2実施例の場合について説明したように、狭帯
域検出手段42は可変減衰器42A及び可変減衰器制御回路4
2Bを備え、光プローブ34に電圧が印加されていない状態
での第1及び第2の光検出器38、40の出力が等しくなる
ように調整されていて、この状態で、ロックインアンプ
42Cからは、差動出力IA−IB即ち第2図のA−B=Cが
出力される。 前記第1の領域46A及び第2の領域46Bを測定する際
の、各領域における、光プローブ34への電圧印加無し及
び印加有りのときのIA、IB及びIA-Bは次のようになる。 即ち、第1の領域46Aにおいては次の(5)〜(9)
式のようになる。ここで(○)は電圧印加有り、又
(×)は電圧印加無しをそれぞれ示すものとする。 IA(×) =I0{R0+(1−R0R1} …(5) IA(○) =I0{R0+(1−R0R1} (1+π/Vπ・v) …(6) IB=IA(×) =I0{R0+(1−R0R1} …(7) IA-B(×) =IA(×)−IB=0 …(8) IA-B(○) =IA(○)−IB =I0{R0+(1−R0R1} π/Vπ・v …(9) 又第2の領域46Bにおいては次の(10)〜(13)式の
ようになる。 IA(×) =I0{R0+(1−R0R2} …(10) IA(○) =I0{R0+(1−R0R2} (1+π/Vπ・v) …(11) IA-B(×) =IA(×)−IB =I0(1−R0(R2−R1) …(12) IA-B(○)=IA(○)−IB=I0[(1−R0(R2−R
1)+{R0+(1−R0R2}π/Vπ・v] …(13) なお、IBは(7)式の通りである。 次に、光プローブ34への電圧印加の有無における差動
出力(A−B)の差を求めると、領域46Aでは次の(1
4)式に示されるようになる。 IA-B(○)−IA-B(×) =I0{R0+(1−R0R1} π/Vπ・v …(14) 又領域46Bでは次の(15)式で示されるようになる。 IA-B(○)=IA-B(×) =I0{R0+(1−R0R2} π/Vπ・v] …(15) 上記(14)及び(16)式において、R1とR2が異なるの
で、これらは完全に補正されているとはいえない(第6
図参照)。 ここで、図6(C)、(D)の円弧状部分は、二つの
電極46Bに電圧を印加した場合の電圧分布に依存したA
−B出力の分布を示している。即ち、光プローブの反射
率R0を100%と仮定した場合の出力である。一般に、二
つの電極に同じ電圧を与えて、光プローブでその電圧を
測定した場合には、出力分布は電極の形状そのものには
ならない。なぜなら、電極を外れたところでは、電位を
決定する電極が無いので、周りの電極構成に依存した電
圧分布になり、具体的には、両端では電圧が次第に下が
った分布になり、電極の間では両者の影響を受けた出力
となる。これを図示したのが、上記円弧状の出力分布で
ある。 前記(14)式及び(15)式を、電圧変化無しの状態に
おける出力IA(×)で除算すると、次の(16)式及び
(17)式のようになり、第1及び第2の領域46A、46Bに
おける反射率R1及びR2に依存せず、印加電圧cに比例す
るものとなる。 {IA-B(○)−IA-B(×)}/IA(×) =π/Vπ・v …(16) {IA-B(○)−IA-B(×)}/IA(×) =π/Vπ・v …(17) 前述の如く、前記補正回路44は、光プローブ34に電圧
が印加されていない状態での、第1の光検出器38の出力
で、ロックインアンプ42Cの差動出力を除算するので、
結果として(16)式及び(17)式が得られることにな
る。 ここで、例えば、光反射面34Aの反射率R0=90%、
又、被測定電子デバイス46における最悪条件を考慮し
て、第1の領域46Aの反射率R1=0、第2の領域46Bの反
射率R2=100%とすると、領域46AではR0+(1−R0
R1=R0=0.90、領域46BではR0+(1−R0R2=R0
(1−R0=0.91となり、前出の、(14)式及び(1
5)式の補正出力と、(16)式、(17)式の補正出力と
の間には、約1%の違いが出る。従ってこの実施例にお
ける測定精度は約1%となる。 上記実施例において、半導体レーア駆動装置36Eは、
電子デバイス駆動装置48からの信号に基づいて作動され
ているが、これは、例えば第7図に示されるように、基
準クロック発生装置62を設け、これからクロック信号を
半導体レーザ駆動装置36E及び電子デバイス駆動装置48
に出力するようにしてもよい。 又、上記実施例は、第1の光検出器38へは偏光ビーム
スプリッタ54から、又第2の光検出器40へはビームスプ
リッタ56からそれぞれ光を反射させるようにしている
が、これは、例えば第8図に示されるように、ハーフミ
ラー64を入射光上に配置し、偏光子66を通過した入射光
の一部を第2の光検出器40に反射させ、更に光プローブ
34から戻した光の一部を検光子68を介して第1の光検出
器38に入力するようにしてもよい。 更に、第9図に示されるように、前記第8図の実施例
におけるハーフミラー64の代わりに、偏光ビームスプリ
ッタ54を配置してもよい。 又、上記実施例において、第1の光検出器38及び第2
の光検出器40の出力は、可変減衰器42A及び可変減衰器
制御回路42Bによって、光プローブ34に電圧が印加され
ていないとき、両出力が等しくなるように制御されてい
るが、これは、例えば第10図に示されるように、第1の
光検出器38を増幅する可変アンプ70と、この可変アンプ
を、第1及び第2の光検出器38、40の出力に応じて制御
する可変アンプ制御回路72により制御するようにしても
よい。 又、第11図に示されるように、第1及び第2の光検出
器38、40の出力を差動増幅器74に入力させ、この出力を
ロックインアンプ42Cに入力させるようにしてもよい。 この場合、差動増幅器74は予め、光プローブ34への電
圧が印加されていない状態での第1及び第2の光検出器
38、40の出力が等しくなるように調整しておく。 又、第12図に示されるように、ロックインアンプ42C
の出力側に、割算回路76を設けるようにしてもよい。こ
の割算回路76は、ロックインアンプ42Cの差動出力を、
第2の光検出器40の出力の一部で割算し、これによっ
て、光源装置36における光源の強度変動をキャンセルす
るものである。 更に、上記各実施例は、超音波光変調器36Aや、ある
いは光チョッパー16によって光源光をオン・オフするも
のであるが、これは、例えば前記実施例における半導体
レーザ36Bを、半導体レーザ駆動装置36Eにより、電気的
にオン・オフすることによって光変調器により光をオン
・オフしたと同様の状態を形成するようにしてもよい。 又この場合、第13図に示されるように、半導体レーザ
駆動装置36Eのオン・オフの信号を、ロックインアンプ4
2Cにおける参照信号に用いてもよい。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the first embodiment of the present invention, as shown in FIG. 1, an electro-optical element in which the intensity of passing light changes in response to a change in a signal under measurement in a signal source under measurement 10 that causes a voltage change. Light intensity changing means 12, a short pulse light source 14 composed of a semiconductor laser, an optical chopper 16 for repeatedly turning on and off the light emitted from the short pulse light source 14, and a light for controlling the optical chopper 16. A light source device 20 including a chopper control circuit 18, a first photodetector 22 for photoelectrically converting the light emitted from the light source device 20 and passing through the light intensity changing means 12, and the light from the light source device 20. In addition, a beam splitter 24 that laterally separates the light before entering the light intensity changing means 12, and a second photodetector 26 that receives the light separated from the beam splitter 24 and photoelectrically converts the light.
And a narrow band detecting means 28 for calculating the difference between the outputs of the first and second photo detectors 22 and 26 and detecting the narrow band at the on / off frequency of the optical chopper 16.
The voltage detection device 30 is configured from the above. The narrow band detection means 28 includes an arithmetic circuit 28A for calculating the difference between the outputs of the first photodetector 22 and the second photodetector 26,
A narrow band filter that detects the narrow band of the output signal of the arithmetic circuit 28A at the ON / OFF frequency of the optical chopper 16.
28B, an amplifier 28C for amplifying the output of the narrow band filter 28B, and the first and the second when there is no change in the light intensity due to the signal under measurement in the light intensity changing means 12.
And an output adjuster 28D that adjusts the arithmetic circuit 28A so that the difference between the outputs of the photodetectors 22 and 26 becomes zero. This output adjuster 28D includes the first and second photodetectors 2
One or both of the output signals of 2 and 26 are adjusted. In the case of this embodiment, the light is turned on / off by the optical chopper 16 without directly turning on / off the signal of the signal source 10 to be measured.
By turning off, the same effect as turning on / off the signal under measurement can be obtained. Therefore, the distortion of the signal waveform due to the ON / OFF of the signal under measurement can be prevented, and the accurate waveform measurement of the signal under measurement becomes easy. Further, the short pulse light source 14 synchronizes this with the signal to be measured, so that the light intensity change amount in the light intensity changing means 12 due to the change of the signal to be measured can be achieved with a gate time of about the light pulse width of the short pulse light source 14. Can be detected. In this case, the first and second photodetectors 22, 26 do not need to be of high speed type. In the first embodiment described above, the light source is a short pulse light source, but if it is not necessary to detect the signal under measurement in a short gate time, a continuous light source may be used. Further, in the above-described embodiment, the second photodetector 26 separates the light before entering the light intensity changing means 12 by the beam splitter 24 and receives the light. ,
As long as it is necessary, any light can be received as long as it can receive light in a state where the light intensity change means 12 does not change the light intensity. Therefore, a beam splitter may be arranged on the light emission side of the light intensity changing means 12 so that the light can be received from here in a state where the light intensity is not changed by the signal under measurement. In the above embodiment, the optical chopper 16 is a mechanical optical chopper, an ultrasonic light modulator, or a light source drive circuit. Further, the narrow band detecting means 28 may be a spectrum analyzer, a lock-in amplifier, or a narrow band band pass amplifier other than the combination of the narrow band filter and the amplifier. Next, a second embodiment of the present invention shown in FIG. 2 will be described. The second embodiment is composed of an electro-optical material whose refractive index changes due to an electric field in a predetermined portion of the object to be measured, and an optical probe 34 having a light-reflecting surface 34A formed at its tip, and the optical probe 3
4, a light source device 36 for generating a light beam to be incident on the light source device 36, emitted from the light source device 36, incident on the optical probe 34, and after being reflected by the light reflecting surface 34A, emitted from the optical probe 34. And a first photodetector 38 for photoelectrically converting the received light beam, and measuring the voltage of the DUT from the change in the output of the first photodetector 38. In 32, the light source device 36 is provided with an ultrasonic optical modulator 36A that repeatedly turns on and off a light beam, and a light beam that is not subjected to a refractive index change due to an electric field applied to the optical probe 34 is supplied to the optical probe 34. A second photodetector 40 that receives and photoelectrically converts light before incidence, and the first and second photodetectors 40.
The output difference of the photodetectors 38 and 40 of the ultrasonic wave modulator 36A
And a narrow band detecting means 42 for detecting a narrow band at an on / off frequency. The light source device 36 includes the ultrasonic light modulator 36A, a semiconductor laser 36B as a light source, and a light collecting unit arranged between the emitting side of the semiconductor laser 36B and the incident side of the ultrasonic light modulator 36A. The lens 36C, the optical isolator 36D, and the semiconductor laser 36B are connected to the electronic device 46 to be measured which is an object to be measured.
Laser drive device 36E for driving in synchronization with
And an optical modulator control device 36F for controlling the ultrasonic optical modulator 36A. Reference numeral 48 in the figure denotes an electronic device driving device for driving the electronic device under test 46, and outputs a signal for synchronizing with the electronic device under test 46 to the semiconductor layer driving device 36E. The ultrasonic light modulator 36A is the optical modulator control device 36F.
The 0th-order light, which is controlled by, is diverted from the optical probe 34 when it is not modulated,
The primary light is directed to the optical probe 34 via the collimator lens 52 when being modulated by ultrasonic waves. A polarization beam splitter 54, a beam splitter 56, a compensator 58 and a condenser lens 60 are arranged in this order between the collimator lens 52 and the optical probe 34. The polarization beam splitter 54 passes through these,
The light that has once entered the optical probe 34 and has been reflected by the light reflecting surface 34A is laterally separated and made incident on the first photodetector 38. The beam splitter 56 laterally splits the primary light before entering the optical probe 34 and guides it to the second photodetector 40. The narrow band detection means 42 includes a variable attenuator 42A for adjusting the output of the second photodetector 40, and the variable attenuator 4A.
2A in response to the outputs of the first and second photodetectors 38, 40 in the state where no electric field is applied to the optical probe 34
A variable attenuator control circuit 42B that controls the outputs of the two photodetectors 38 and 40 to be the same, and a second photodetector 40 that passes through the output from the first photodetector 38 and the variable attenuator 42A. The output from the optical modulator control device 36F, based on the reference signal from the optical modulator 36A, at the frequency of the light on / off by the ultrasonic optical modulator 36A, lock-in amplifier 42C for narrow band amplification, and configured. Has been done. Reference numeral 55 in the figure denotes a recording device that records the output of the lock-in amplifier 42C together with the amount of change in the optical pulse generation timing in the semiconductor laser 36B based on the signal from the semiconductor laser driving device 36E. Reference numeral 57 indicates a display analysis device for displaying and analyzing the record of the recording device 55. Next, the operation of the above embodiment will be described. The electronic device drive 48 allows the electronic device under test to be measured.
46 is operated, and the semiconductor laser driving device 36E drives the semiconductor laser 36B in synchronization with the measured electronic device 46 based on the signal from the electronic device driving device 48. The emitted light from the semiconductor laser 36B enters the ultrasonic light modulator 36A through the condenser lens 36C and the optical isolator 36D. The ultrasonic light modulator 36A is driven by the light modulator control device 36F, and when the incident light is modulated, it becomes primary light, and collimator lens 52, polarization beam splitter 54, beam splitter 56, compensator 58 and collector. Light lens 60
And then enters the optical probe 34. An electric field is applied to the optical probe 34 by the voltage of the electronic device under test 46, and the polarization state of light in the optical probe 34 changes according to the electric field. In the optical probe 34, the incident light is reflected by the light reflecting surface 34A, then reaches the polarization beam splitter 54 via the condenser lens 60, the compensator 58, and the beam splitter 56 again, and is directed to the first photodetector 38 here. Is reflected. On the other hand, when the primary light from the ultrasonic light modulator 36A passes through the beam splitter 56, a part thereof is reflected and reaches the second photodetector 40. The output A of the first photodetector 38 and the output B of the second photodetector 40 are the variable attenuator 42A and the variable attenuator control circuit 42B.
Is automatically and previously adjusted by the variable attenuator 42A so that the output is A = B when no electric field is applied to the optical probe 34, and then the lock-in amplifier 42C is adjusted. Entered in. This lock-in amplifier 42C is based on the reference signal from the optical modulator control device 36F, and based on the reference signal from the optical modulator control device 36F among the signal components A-B, the ultrasonic optical modulator 36A. The on / off modulation frequency component of is amplified in a narrow band. The output of this lock-in amplifier 42C, that is, AB = C, is
When input to the recording device 55, the recording device 55 records the output of the lock-in amplifier 42C together with the optical pulse generation timing change amount in the semiconductor laser driving device 36E, which is displayed and analyzed by the display analysis device 57. . Therefore, in this embodiment, the electronic device under test 46 is
Optical probe 34 without turning on / off the signal at
It is possible to obtain the same effect as turning on / off the light incident on the ultrasonic wave modulator 36A to turn on / off the signal under measurement itself, and to turn on / off the electronic device under test 46. Based on this, the distortion of the signal waveform is eliminated. Further, in this embodiment, since the semiconductor laser 36B is driven in synchronization with the signal of the electronic device under test 46, the signal waveform in the electronic device under test 46 is changed by sequentially changing the optical pulse generation timing. Can be measured accurately. As described above, this embodiment makes it possible to measure a high-speed electric waveform by synchronizing the semiconductor laser 36B with the electronic device under test 46, but the present invention is not limited to this. The present invention can also be applied to the case where a DC voltage is applied to the electronic device under test 46. In this case, the light source in the light source device does not need to be pulsed light, and may be a DC light source such as a He Ne laser. In the case of measuring the DC voltage, it was impossible in the past as shown in FIGS. 14 and 15, but in this embodiment, as shown in FIG. 3, the input light is chopped and locked. With the differential input (AB) in the in-amplifier 42C, only the change due to the voltage application to the optical probe 34 can be lock-in detected as shown in FIG. 3 (D). Further, by providing a transparent back electrode on the surface of the optical probe 34 shown in FIG. 5 which faces the light reflecting surface 34A and applying a DC signal thereto, the absolute voltage can be measured. Next, a third embodiment of the present invention shown in FIG. 4 will be described. In the third embodiment, a correction circuit 44 is provided on the output side of the lock-in amplifier 42. Since the other structure is the same as that of the second embodiment of FIG. 2, the same parts are designated by the same reference numerals as those in FIG. 2 and the description thereof is omitted. The correction circuit 44 calculates a difference in the output of the lock-in amplifier 42C in a state in which the electric field is not applied to the optical probe 34 and a state in which the electric field is applied, and the difference in the output is supplied to the optical probe 34. The first without electric field applied
Of the photodetector 38 and is divided by the output of the photodetector 38. Next, the operation of this embodiment will be described. Normally, the reflectance of the light reflecting surface 34A at the tip of the optical probe 34 is set to 100.
% Is impossible. Therefore, a part of the incident light to the optical probe 34 reaches the DUT surface through the light reflecting surface 34A, and is reflected there, enters the optical probe through the light reflecting surface 34A again, This is detected as noise by the photodetector and causes a measurement error. Not only that, when the reflectance of the surface of the object to be measured is uneven, the measurement error due to the reflected light from this surface also changes with the change of the reflectance, which makes further accurate measurement difficult. The correction circuit 44 eliminates the influence of the error due to the transmitted light based on the incompleteness of the reflectance of the light reflecting surface 34A, and further the error due to the variation of the reflectance of the DUT surface,
It enables accurate measurement. As shown in FIG. 5, first and second regions 46A and 46B having different reflectances on the surface of the measured object, for example, the electronic device to be measured 46 described above, and their reflectances R1 and R2.
Suppose The incident light intensity is 2I 0 , and the reflectance of the light reflecting surface 34A is R 0 . Here, when R 0 = 1 is set, the basic output I from the optical probe 34 is expressed by the following equation (1). However, the expression (1) is an approximate expression when V is smaller than Vπ. I = I 0 (1 + π / Vπ · v) (1) where Vπ is a half-wave voltage, and v is a measured voltage. On the other hand, in a state where the reflectance of the light reflecting surface 34A is R 0 <1, the output of the light reflected by the light reflecting surface 34A and the light reflecting surface 34A, the light reflected by the area 46A, and the light reflecting surface 34A again are reflected. When the output of the transmitted light is I x and I y , respectively, I x = I 0 R 0 (1 + π / Vπ · v) (2) I y = (1−R 0 ) 2 R1I 0 (1 + π / Vπ · v) v) (3) I in the above equation (1) is almost equal to the sum of I x and I y . Therefore I
Becomes as shown in the following equation (4). I = I x + I y = I 0 (1 + π / Vπ · v) {R 0 + (1−R 0 ) 2 R1} (4) Here, both I x and I y are the light amounts in the polarization beam splitter 54. Is assumed to be halved. As described in the case of the second embodiment, the narrow band detection means 42 includes the variable attenuator 42A and the variable attenuator control circuit 4
2B, the outputs of the first and second photodetectors 38 and 40 are adjusted to be equal when no voltage is applied to the optical probe 34, and the lock-in amplifier is adjusted in this state.
From 42C, A-B = C differential output I A -I B i.e. second view is output. When measuring the first region 46A and the second region 46B, I A , I B, and I AB in each region when the voltage is not applied to the optical probe 34 and when the voltage is applied are as follows. . That is, in the first area 46A, the following (5) to (9)
It looks like an expression. Here, (◯) indicates that voltage is applied, and (×) indicates that voltage is not applied. I A (×) = I 0 {R 0 + (1-R 0 ) 2 R1} (5) I A (○) = I 0 {R 0 + (1-R 0 ) 2 R1} (1 + π / Vπ・ V) (6) I B = I A (×) = I 0 {R 0 + (1-R 0 ) 2 R1} (7) I AB (×) = I A (×) -I B = 0 ... (8) I AB ( ○) = I a (○) -I B = I 0 {R 0 + (1-R 0) 2 R1} π / Vπ · v ... (9) the second region 46B In, the following equations (10) to (13) are obtained. I A (×) = I 0 {R 0 + (1-R 0 ) 2 R2} (10) I A (○) = I 0 {R 0 + (1-R 0 ) 2 R2} (1 + π / Vπ · v) ... (11) I AB (×) = I A (×) -I B = I 0 (1-R 0) 2 (R2-R1) ... (12) I AB (○) = I A (○ ) -I B = I 0 [( 1-R 0) 2 (R2-R
1) + {R 0 + ( 1-R 0) 2 R2} π / Vπ · v] ... (13) Note that, I B are as (7). Next, when the difference between the differential outputs (AB) with and without the voltage applied to the optical probe 34 is obtained, the following (1
It becomes as shown in the equation 4). I AB (○) -I AB (×) = I 0 {R 0 + (1-R 0 ) 2 R1} π / Vπ · v (14) Also, in region 46B, as shown by the following formula (15) become. I AB (○) = I AB (x) = I 0 {R 0 + (1-R 0 ) 2 R2} π / Vπ · v] (15) In the above formulas (14) and (16), R1 and Since R2 is different, these cannot be said to be completely corrected (6th
See figure). Here, the arc-shaped portions in FIGS. 6C and 6D depend on the voltage distribution when a voltage is applied to the two electrodes 46B.
-B shows the distribution of the output. That is, it is an output when the reflectance R0 of the optical probe is assumed to be 100%. In general, when the same voltage is applied to two electrodes and the voltage is measured by an optical probe, the output distribution does not have the electrode shape itself. Because there is no electrode that determines the potential outside the electrodes, the voltage distribution depends on the surrounding electrode configuration. Specifically, the voltage distribution gradually decreases at both ends and between the electrodes. The output is influenced by both. This is illustrated in the arc-shaped output distribution. When the equations (14) and (15) are divided by the output I A (×) in the state without voltage change, the following equations (16) and (17) are obtained. It is proportional to the applied voltage c without depending on the reflectances R1 and R2 in the regions 46A and 46B. {I AB (○) -I AB (×)} / I A (×) = π / Vπ · v ... (16) {I AB (○) -I AB (×)} / I A (×) = π / Vπ · v (17) As described above, the correction circuit 44 outputs the differential signal of the lock-in amplifier 42C by the output of the first photodetector 38 in the state where the voltage is not applied to the optical probe 34. Divides the output, so
As a result, equations (16) and (17) are obtained. Here, for example, the reflectance R 0 = 90% of the light reflecting surface 34A,
Further, considering the worst condition in the electronic device under test 46, assuming that the reflectance R1 of the first region 46A is R1 = 0 and the reflectance R2 of the second region 46B is 100%, R 0 + (1 -R 0 ) 2
R1 = R0 = 0.90, in region 46B R0 + (1- R0 ) 2 R2 = R0 +
(1-R 0 ) 2 = 0.91, and the equation (14) and (1
There is a difference of about 1% between the corrected output of equation (5) and the corrected output of equations (16) and (17). Therefore, the measurement accuracy in this embodiment is about 1%. In the above embodiment, the semiconductor layer driving device 36E is
It is operated on the basis of a signal from the electronic device driver 48, which is provided with a reference clock generator 62, for example, as shown in FIG. 7, from which the clock signal is supplied to the semiconductor laser driver 36E and the electronic device. Drive 48
You may make it output to. Further, in the above embodiment, the light is reflected from the polarization beam splitter 54 to the first photodetector 38 and from the beam splitter 56 to the second photodetector 40, respectively. For example, as shown in FIG. 8, a half mirror 64 is arranged on the incident light, a part of the incident light passing through the polarizer 66 is reflected on the second photodetector 40, and the optical probe
A part of the light returned from 34 may be input to the first photodetector 38 via the analyzer 68. Further, as shown in FIG. 9, a polarization beam splitter 54 may be arranged instead of the half mirror 64 in the embodiment of FIG. In the above embodiment, the first photodetector 38 and the second photodetector 38
The output of the photodetector 40 is controlled by the variable attenuator 42A and the variable attenuator control circuit 42B so that both outputs become equal when no voltage is applied to the optical probe 34. For example, as shown in FIG. 10, a variable amplifier 70 that amplifies the first photodetector 38, and a variable amplifier that controls the variable amplifier 70 according to the outputs of the first and second photodetectors 38 and 40. It may be controlled by the amplifier control circuit 72. Further, as shown in FIG. 11, the outputs of the first and second photodetectors 38 and 40 may be input to the differential amplifier 74, and the outputs may be input to the lock-in amplifier 42C. In this case, the differential amplifier 74 is the first and second photodetectors in the state where the voltage is not applied to the optical probe 34 in advance.
Adjust so that the outputs of 38 and 40 are equal. Also, as shown in FIG. 12, the lock-in amplifier 42C
The division circuit 76 may be provided on the output side of the. This division circuit 76 uses the differential output of the lock-in amplifier 42C as
It is divided by a part of the output of the second photodetector 40, thereby canceling the intensity fluctuation of the light source in the light source device 36. Furthermore, in each of the above embodiments, the ultrasonic light modulator 36A or the light source light is turned on / off by the optical chopper 16. This is, for example, the semiconductor laser 36B in the above embodiment, a semiconductor laser driving device. The 36E may electrically turn on and off to form a state similar to that when light is turned on and off by the optical modulator. Further, in this case, as shown in FIG. 13, the on / off signal of the semiconductor laser driving device 36E is supplied to the lock-in amplifier 4
It may be used for the reference signal in 2C.

【発明の効果】【The invention's effect】

本発明は上記のように構成したので、電圧検出装置に
おいて、光プローブにおける光反射面から洩れた光によ
る誤差を補正して正確な測定をすることができるという
優れた効果を有する。又この場合、被測定物表面の反射
率のばらつきに対してもこれを補正し、正確な測定を行
うことができるという優れた効果を有する。
Since the present invention is configured as described above, the voltage detection device has an excellent effect that an error due to light leaked from the light reflecting surface of the optical probe can be corrected and an accurate measurement can be performed. Further, in this case, there is an excellent effect that it is possible to correct variations in reflectance of the surface of the object to be measured and perform accurate measurement.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明に係る電圧検出装置の第1実施例を示す
ブロック図、第2図は本発明の第2実施例を示すブロッ
ク図、第3図は同第2実施例の作用を示す線図、第4図
は本発明の第3実施例の要部を示すブロック図、第5図
は同第3実施例における光プローブ近傍を拡大して示す
断面図、第6図は同実施例による測定結果を示す線図、
第7図〜第13図は上記第2実施例における各部の変形例
を示すブロック図、第14図及び第15図は、従来の電圧検
出装置における電気信号をチョップした場合及び入力光
をチョップした場合の検出状態を比較して示す線図であ
る。 10…被測定信号源、12…光強度変化手段、14…短パルス
光源、16…光チョッパー、20、36…光源装置、22、38…
第1の光検出器、24…ビームスプリッター、26、40…第
2の光検出器、28、42…狭帯域検出手段、30…電圧検出
装置、32…電圧検出装置、34…光プローブ、34A…光反
射面、36A…超音波光変調器、36B…半導体レーザー、42
C…ロックインアンプ、44…補正回路、46…被測定電子
デバイス。
FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the voltage detecting device according to the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing a second embodiment of the present invention, and FIG. 3 shows the operation of the second embodiment. 4 is a block diagram showing an essential part of the third embodiment of the present invention, FIG. 5 is an enlarged sectional view showing the vicinity of the optical probe in the third embodiment, and FIG. 6 is the same embodiment. Diagram showing the measurement results by
7 to 13 are block diagrams showing modified examples of each part in the second embodiment, and FIGS. 14 and 15 are cases where an electric signal is chopped and input light is chopped in a conventional voltage detecting device. It is a diagram which compares and shows the detection state in a case. 10 ... Signal source to be measured, 12 ... Light intensity changing means, 14 ... Short pulse light source, 16 ... Optical chopper, 20, 36 ... Light source device, 22, 38 ...
1st photodetector, 24 ... Beam splitter, 26, 40 ... 2nd photodetector, 28, 42 ... Narrow band detection means, 30 ... Voltage detection device, 32 ... Voltage detection device, 34 ... Optical probe, 34A … Light reflecting surface, 36A… Ultrasonic light modulator, 36B… Semiconductor laser, 42
C ... Lock-in amplifier, 44 ... Correction circuit, 46 ... Electronic device under test.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】被測定物の所定部分の電界により屈折率変
化が生じる電気光学材料からなり、先端に光反射面が形
成された光プローブと、この光プローブに入射させる光
ビームを発生させる光源装置と、この光源装置から出射
され、前記光プローブに入射し、且つ、前記光反射面で
反射された後に、該光プローブから出射された光ビーム
を受光して、光電変換する光検出器と、を有してなり、
前記光検出器出力の変化から、被測定物の電圧を測定す
る電圧検出装置において、前記光源装置は光ビームを繰
返しオン−オフするチョップ手段を備えると共に、前記
光プローブにかかる電界による偏光状態の変化を受けな
い光ビームを受光して光電変換する第2の光検出器と、
前記光検出器及び第2の光検出器の出力差を、前記チョ
ップ手段によるオン−オフの周波数で狭帯域検出する狭
帯域検出手段と、前記光プローブへ電界を印加しない状
態及び印加した状態での、前記狭域検出手段の出力の差
を演算すると共に、該出力の差を、前記光プローブへの
電界を印加しない状態での前記光検出器の出力で除す補
正回路と、を設けたことを特徴とする電圧検出装置。
1. An optical probe made of an electro-optical material whose refractive index is changed by an electric field at a predetermined portion of an object to be measured and having a light-reflecting surface at its tip, and a light source for generating a light beam incident on the optical probe. A light detector emitted from the light source device, incident on the optical probe, reflected by the light reflection surface, and then received by the light probe, and photoelectrically converting the light beam. ,,
In a voltage detection device that measures the voltage of an object to be measured from a change in the output of the photodetector, the light source device includes a chopping unit that repeatedly turns on and off a light beam, and the polarization state of an electric field applied to the optical probe A second photodetector for receiving a light beam that does not change and photoelectrically converting it;
Narrow band detecting means for narrowing the output difference between the photo detector and the second photo detector at the on-off frequency by the chopping means, and a state in which no electric field is applied to the optical probe and a state in which an electric field is applied to the optical probe. And a correction circuit for calculating the output difference of the narrow area detection means and dividing the output difference by the output of the photodetector in a state where no electric field is applied to the optical probe. A voltage detection device characterized by the above.
【請求項2】請求項1において、前記光源装置を、レー
ザパルス光を出力するパルスレーザとし、被測定電圧波
形を高時間分解可能としたことを特徴とする電圧検出装
置。
2. The voltage detecting device according to claim 1, wherein the light source device is a pulse laser that outputs a laser pulse light, and the voltage waveform to be measured can be decomposed at high time.
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