JP2552298B2 - 美肌化粧料 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸お
よび（または）その誘導体を配合した化粧料に関する。

更に詳しくは、本発明は、４−ヒドロキシ−３−エト
キシケイ皮酸またはその誘導体の働きにより、紫外線に
よる日焼けを予防し、チロジナーゼ活性阻害による美白
効果ならびにしみ・そばかすの軽減効果を備え、更には
光による皮膚の老化促進を抑制することができる新規な
美肌化粧料を提供しようとするものである。

（従来技術及び発明が解決しようとする問題点） 一般に、戸外において皮膚に対して過度の紫外線が照
射されると、日光曝露後、数時間でサンバーンが起り、
ひどくなると火ぶくれを起す。更に、引続いて色素沈着
が起る。この様に、過度の紫外線曝露は、美的観念から
も、また皮膚の健康上からも極めて有害である。

これまでは上記症状の主な原因として、地上に到達す
る紫外線の中でも290〜320nmの中波長紫外線（以下UV−
Ｂという。）、特に「紅斑惹起」に最も関与する305〜3
10nm付近の紫外線が重視され、如何にこれを防ぐかが議
論されてきた。

しかし、最近になって320〜400nmの長波長紫外線（以
下UV−Ａという。）の有害作用が明らかになりつつあ
る。例えばUV−Ｂの照射前後にUV−Ａを照射するとUV−
Ｂの紅斑惹起能が促進されること、またUV−Ａは真皮内
へも到達することから、真皮内成分（コラーゲン、グリ
コサミノグリカン等）に対する長期にわたる影響に起因
する皮膚の老化などが知られるようになった。

この紫外線を防ぐため、これまでに数多くの紫外線吸
収剤が開発されてきたが、現実には効果と安全性、また
化粧品原料としての安定性、溶解性等を兼備したものは
殆どなかった。すなわち、我が国で使用前例のある紫外
線吸収剤を大別すると、ベンゾフェノン系、ウロカニン
酸系、ｐ−アミノ安息香酸系、ケイ皮酸系、その他（サ
リチル酸系、ベンゾトリアゾール系等）などに分類され
るが、例えばベンゾフェノン系は、280〜290nmと320〜3
30nm付近に吸収極大を有し、汎用されている原料の一つ
であるが、反面、紅斑惹起に最も関与する305〜310nm付
近の吸収能が相対的に低いという特性を有している。ま
た、ウロカニン酸系は生体成分であり安全性も高いが、
吸収極大が280〜290nm付近であるために特にUV−Ａに対
しては実用的な効果が低い。ｐ−アミノ安息香酸系、ケ
イ皮酸系は吸収極大が300〜310nm付近にあり吸収効果も
高いが、接触光過敏症など安全性上に問題があると言わ
れていた。更に、ベンゾトリアゾール系は安全性上から
化粧料への配合は控えられ、またサリチル酸系は吸収効
果が弱く大量に配合しなければサンスクリーンとしての
機能を保持し難いという欠点があった。

我が国では紫外線吸収剤の安全性が重視されているた
め、使用されている紫外線吸収剤においても、その配合
量が４〜５％以下に規制されているのが実情である。

従って、消費者の希望する高SPF製品には、紫外線を
物理的に反射・散乱させる酸化チタン等の無機粉体を併
用することが多いが、この場合には配合し得る剤型が限
定され、且つ塗布時の使用感が悪化する恐れもあり、ロ
ーションタイプやオイルタイプの製品には適し難いもの
であった。

（問題点を解決する手段） 本発明者らは、前記従来の問題に鑑み、真に安全で効
果面に優れ、化粧品原料としての安全性、溶解性を兼備
する素材を突き止めようと、種々探索実験研究を繰り返
した結果、これまで化粧料に実用的に用いられたことも
なく、また皮膚に対する作用についても知られていなか
った４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸系の化合物
が、290〜330nm付近に大きな紫外線吸収効果を備え化粧
料用の紫外線吸収剤として最適なものであること、また
皮膚中にあってはチロジナーゼ活性阻害効果が大きく美
白効果に優れることなどを見出し、本発明の完成に至っ
た。

すなわち、本発明は、有効成分として一般式 （式中、Ｒは水素又は直鎖状、分岐状、環状、多環状の
アルキル基、アルケニル基、アリール基、及びアルカリ
金属、アルカリ土類金属、第４鎖アミンを表わす。） で示される４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸およ
び（または）その誘導体を有効成分として配合してなる
ことを特徴とする美肌化粧料に関するものである。

以下に、本発明を詳細に説明する。

本発明の美肌化粧料において用いられる４−ヒドロキ
シ−３−エトキシケイ皮酸は前記一般式（Ｉ）（Ｒは水
素）で表わされる物質である。

４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸は、これまで
化粧料に実用的に用いられたことはないが、後記した紫
外線吸収スペクトル（第１図参照）に示される如く、29
5nmと324nm付近（エタノール中）に吸収極大を有してベ
ンゾフェノン系紫外線吸収剤と類似した吸収パターンを
示すこと、しかもベンゾフェノン系紫外線吸収剤のよう
な「紅斑惹起」領域（305〜310nm）における吸収能の低
下が殆どないことから、特に皮膚に対する紫外線照射時
の紅斑抑制効果ならびにメラノサイト数の増加抑制効果
に優れていることが、本発明者の実験により明らかとな
った。

同様に、本発明者の実験によって４−ヒドロキシ−３
−エトキシケイ皮酸はチロジナーゼ活性阻害作用を有す
ることも明らかとなり、美白効果ならびにしみ・そばか
すの軽減に有用であることも実証された。

４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸は、一般に微
黄色乃至白色の針状乃至は粉末状の結晶であり、取扱い
が容易であって、臭いはなく、且つ冷水には難溶、オリ
ーブ油、大豆油等の植物油やエステル類などに微溶であ
るがアルコール、多価アルコールには可溶であるため、
化粧料成分として用いる場合も幅広い剤型に適用が可能
である。

一方、本発明の美肌化粧料においては、４−ヒドロキ
シ−３−エトキシケイ皮酸は、その塩として用いても良
い。塩として用いることにより、水への溶解性も高ま
り、特に化粧水等に対する使用において好ましいものと
なる。４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸を塩とし
て用いる場合の、その塩形成の塩基物質としては、水酸
化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化アンモニウ
ムなどの無機塩基、アルギニン、リジン、ヒスチジン、
オルニチンなどの塩基性アミノ酸、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどの
有機塩基が用いられる。上記の塩は予め調整しておい
て、それを添加して用いても良いし、塩形成成分を別々
に添加して処方系中で反応させて塩を形成させても良
い。

更に、４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸は、そ
のエステルとして用いることも可能である。エステルと
して用いることにより、油性成分に対する溶解性は向上
し、化粧用オイル等に使用する際に好適なものとなる。
４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸をエステル化す
る方法自体は公知の方法、例えば酸ハライド法、酸無水
物法、直接法、DCC法などを用いて製造することができ
る。４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸エステル誘
導体の性状は、エステル化に使用するアルコールの種類
に応じて、結晶状乃至粘稠オイル状乃至オイル状まで幅
広く遷移する。また、これら４−ヒドロキシ−３−エト
キシケイ皮酸エステル誘導体の紫外線吸収特性は４−ヒ
ドロキシ−３−エトキシケイ皮酸酸のそれと比較して一
般に３〜4nm分だけ長波長側への吸収極大がシフト（レ
ッドシフト）する。

４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸エステル誘導
体の具体例としては、４−ヒドロキシ−３−エトキシケ
イ皮酸エチル、４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸
−２−エチルヘキシル、４−ヒドロキシ−３−エトキシ
ケイ皮酸アリル、４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮
酸セチル、４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸オレ
イル、４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸フェニ
ル、４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸メンチル、
４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸コレステリルな
どの４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸と直鎖状、
分岐状、環状、多環状のアルキル、アルケニル、アリー
ルアルコールとのエステル化合物が挙げられる。

本発明の美肌化粧料においては、前記４−ヒドロキシ
−３−エトキシケイ皮酸およびその誘導体よりなる群か
ら任意の１種または２種以上を選択して用いることがで
きる。その配合割合は、化粧料全体に対して0.01重量％
以上、特に好ましい量としては0.5重量％以上が選択さ
れる。10重量％を越える量を配合しても、効果には、ほ
とんど変りは見られないから、配合割合として10重量％
を越える必要はない。

本発明の美肌化粧料において用いられる化粧料基剤と
しては美肌化粧料に通常使用する基剤であればいずれで
もよく、特に限定されない。具体的な剤型としては、ク
リーム、軟こう、乳液、化粧水、オイル、パックなどが
挙げられる。例えば、クリーム基剤としては、ミツロ
ウ、セチルアルコール、ステアリン酸、グリセリン、プ
ロピレングリコール、プロピレングリコールモノステア
レート、ポリオキシエチレンセチルエーテルなど、化粧
水基剤としては、オレイルアルコール、エタノール、プ
ロピレングリコール、グリセリン、ラウリルエーテル、
ソルビタンモノラウリン酸エステルなどが挙げられる。

本発明の美肌化粧料はこれらの原則を適宜使用し、常
法によりクリーム、乳液、化粧水等適当な形態の化粧料
として調製される。尚、本発明の美肌化粧料において
は、上記通常の化粧料基剤に対し、必要に応じて４−ヒ
ドロキシ−３−エトキシケイ皮酸及びその誘導体以外の
紫外線吸収剤や微粒子酸化チタンに代表される紫外線散
乱剤、アラントイン、胎盤エキス等の各種薬効成分、そ
の他の増粘剤、可塑剤、カラミン、顔料、抗酸化剤、キ
レート剤、香料などを添加することができる。

次に、本発明の美肌化粧料の有用性について、更に詳
細に説明するため、４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ
皮酸のメラニン抑制作用につき、その機序として知られ
るチロジナーゼ活性を阻害する作用および紫外線による
メラノサイト数の増加に対する抑制作用ならびに紅斑の
抑制作用について行なった実験例の結果を以下に示す。

実験例1.チロジナーゼ活性阻害作用 ４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸のチロジナー
ゼ活性阻害効果について、Harding−Passayマウスメラ
ノーマから抽出した酵素チロジナーゼを使用して調べ
た。酵素活性は、ドーパを基質としてドーパクロームの
生成量を吸収極大475nmの吸光度で測定するフォトメト
リー法に従った。結果は、反応10分後のチロジナーゼ活
性阻害率を表−１に示した。

（試料溶液濃度） ５×10^-3M,1×10^-3M,5×10^-4M （反応液組成） 酵素溶液 0.2ml 5mM ドーパ 1.0 0.1Mリン酸緩衝液（pH6.8） 1.74 試料溶液 0.06 （計） 3.0ml 表−１の結果に示される如く、４−ヒドロキシ−３−
エトキシケイ皮酸には顕著なチロジナーゼ活性阻害作用
を有することが明らかとなり、美白作用ならびにしみ、
そばかすの軽減に有用であることが実証された。

実験例2.紫外線によるメラノサイト数の増加に対する抑
制作用 C57BLマウス６匹を１群として、右耳介に試験用溶
液、すなわちプロピレングリコール：エタノール＝1:1
よりなるベヒクル中に0.1W/V％,0.5W/V％の割合で４−
ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸，及び２−ヒドロキ
シ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルフォン酸を
それぞれ溶解した溶液を各10μ塗布し、同マウス左耳
介にはベヒクルのみを同量塗布した。

つぎに、FL20SE30ランプを光源として、耳介を光源直
下におき33μw/cm²の紫外線を20秒照射した（約0.07ジ
ュール）。マウス耳介に対する試料塗布は毎日１回行な
い、紫外線照射は、塗布後１回で３日間連続して繰り返
した。その後１週間放置した後に左右の耳介を採取し、
続いてNaBr処理して表皮を分離した。表皮をドーパ染色
して、組織標本を作製し、顕微鏡下でメラノサイト数を
カウントした。この結果を表−２（４−ヒドロキシ−３
−エトキシケイ皮酸）及び表−３（２−ヒドロキシ−４
−メトキシベンゾフェノン−５−スルフォン酸）に示し
た。

表−２及び表−３の比較において示された如く、４−
ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸は、従来使用されて
いた２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５
−スルフォン酸と同等乃至はそれ以上の紫外線によるメ
ラノサイト数の増加を抑制する効果を有し、特に0.5W/v
％以上においては、完全にメラノサイト数の増加を抑制
することが判った。

実験例3.紫外線による紅斑、浮腫に対する抑制作用 モルモット８匹を一群として、背部を剃毛した後、剃
毛部に２つ小孔（直径1.5cmの円）をあけた絆創膏を当
てて固定したモルモットの１つの部位に試験溶液を30μ
塗布し、もう１つの部位にベヒクルのみ（コントロー
ル）を30μ塗布した。１時間後に最少紅斑量の４倍量
にあたる約0.8J/cm²（FL20SE30ランプを光源とし、300
μW/cm²で28分間照射）を照射した後、一定時間放置し
て判定した。判定方法は照射２、４、６、24、48、72時
間後に、下記に示す判定基準に従って肉眼で観察した。
尚、試験溶液はプロピレングリコール：イソプロピルア
ルコール＝3:7（W/W）よりなるベヒクル中に、4W/V％、
10W/V％の割合で４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮
酸、及び10W/V％の割合で２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノンをそれぞれ溶解して調整した。得られ
た結果（各試験溶液毎、ｎ＝８）は、平均値を求め、そ
の最終結果を第２図に示した。

（判定基準） 軽度の紅斑 0.5（±） 明らかな紅斑 1.0（＋） 紅斑と弱い腫脹 1.5（＋〜＋＋） 紅斑と明らかな腫脹 2.0（＋＋） 小水ほう・水ほう 3.0（＋＋＋） 第２図に示された様に、４−ヒドロキシ−３−エトキ
シケイ皮酸は、4W/V％濃度下において既に、従来の２−
ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン（10W/V％）
よりも有意に紫外線による紅斑、腫脹を抑制する効果を
有することは明らかであった。

以上、詳述した如く、４−ヒドロキシ−３−エトキシ
ケイ皮酸及びその誘導体を配合してなる本発明の美肌化
粧料は、美白効果ならびにしみ・そばかすを軽減し、紫
外線に基づく各種弊害を予防し得る優れたものとなって
いる。

以下に本発明の美肌化粧料の実施例を示す。尚配合割
合は重量部である。

実施例1. ローション プロピレングリコール 10.0 エチルアルコール 20.0 流動パラフィン 2.0 ポリオキシエチレン（30）硬化ヒマシ油 1.0 ４−ヒドロキシ−３− エトキシケイ皮酸ナトリウム 8.0 ポリエチレングリコール 5.0 クエン酸 0.2 リン酸ナトリウム 0.3 アラントイン 0.05 EDTA−2Na 0.05 抗酸化剤 0.02 香料 0.2 精製水 53.18 実施例2. クリーム 固形パラフィン 2.0 ステアリルアルコール 4.0 スクワラン 2.0 流動パラフィン 6.0 グリセリルモノステアレート 2.5 ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート 2.5 エチルアルコール 9.0 プロピレングリコール 8.0 ４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸エチル 4.0 ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン 3.0 疎水性化微粒子酸化チタン 5.0 精製水 52.0 実施例3. ファンデーション 疎水性化微粒子酸化チタン 7.0 イソステアリン酸トリグリセライド 2.0 ２−オクチルドデシルオレート 8.0 流動パラフィン 3.0 セチルアルコール 5.0 キャンデリラワックス 2.0 ４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸セチル 5.0 ポリオキシエチレン（25）モノステアレート 2.0 ソルビタンモノステアレート 1.0 黄色酸化鉄 1.3 弁柄 0.8 ポリエチレングリコール 4.0 メチルパラベン 0.2 香料 0.2 精製水 58.5 実施例4. パウダー タルク 80.0 結晶性セルロース 5.0 群青 1.0 球状ケイ酸カルシウム 3.0 微粒子酸化チタン 3.5 ４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸 3.0 スクワラン 4.5

【図面の簡単な説明】

第１図は４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸の紫外
部吸収スペクトル（0.001％エタノール中）である。 第２図は、モルモットに対する紫外線照射後の紅斑強度
（ｎ＝８平均値）と時間的経過との関係を示したもので
あり、図中、（ａ）はコントロール、（ｂ）は10W/V％
の２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン溶液を
塗布、（ｃ）は4W/V％の４−ヒドロキシ−３−エトキシ
ケイ皮酸溶液を塗布、（ｄ）は10W/V％の４−ヒドロキ
シ−３−エトキシケイ皮酸溶液を塗布したものである。

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】化粧料基剤に対し、一般式（Ｉ） （式中、Ｒは水素又は直鎖状、分岐状、環状、多環状の
   アルキル基、アルケニル基、アリール基、及びアルカリ
   金属、アルカリ土類金属、第４級アミンを表わす。） で示される４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮酸およ
   び（または）その誘導体を有効成分として配合してなる
   ことを特徴とする美肌化粧料。
2. 【請求項２】前記４−ヒドロキシ−３−エトキシケイ皮
   酸および（または）その誘導体の配合量が化粧料全体に
   対し0.01〜10重量％である特許請求の範囲第１）項記載
   の美肌化粧料。