JP2548570B2 - Optical recording method - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 135
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 29
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 113
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 64
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims description 21
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims description 21
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 9
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 7
- 239000000155 melt Substances 0.000 claims description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 6
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 2
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 65
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 50
- 239000000463 material Substances 0.000 description 50
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 35
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 35
- 239000010408 film Substances 0.000 description 30
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 25
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 17
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 17
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 11
- 230000008859 change Effects 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 8
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 4
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 3
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 3
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 3
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 229940085991 phosphate ion Drugs 0.000 description 3
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000006757 chemical reactions by type Methods 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229940006461 iodide ion Drugs 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 2
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000143 2-carboxyethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101710178035 Chorismate synthase 2 Proteins 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101710152694 Cysteine synthase 2 Proteins 0.000 description 1
- KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N Ethyl hydrogen sulfate Chemical compound CCOS(O)(=O)=O KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-L Oxalate Chemical compound [O-]C(=O)C([O-])=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 1
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 1
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 1
- 229940063013 borate ion Drugs 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N cefatrizine Chemical group S([C@@H]1[C@@H](C(N1C=1C(O)=O)=O)NC(=O)[C@H](N)C=2C=CC(O)=CC=2)CC=1CSC=1C=NNN=1 UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229910052798 chalcogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001787 chalcogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- NGDNCZPCIZNCQS-UHFFFAOYSA-N ctk3j8699 Chemical compound Cl=S NGDNCZPCIZNCQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 125000005805 dimethoxy phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005125 dioxazines Chemical class 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- VFRSADQPWYCXDG-LEUCUCNGSA-N ethyl (2s,5s)-5-methylpyrrolidine-2-carboxylate;2,2,2-trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F.CCOC(=O)[C@@H]1CC[C@H](C)N1 VFRSADQPWYCXDG-LEUCUCNGSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006289 hydroxybenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910052945 inorganic sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical class [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M methyl sulfate(1-) Chemical compound COS([O-])(=O)=O JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000006384 methylpyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N molybdate Chemical compound [O-][Mo]([O-])(=O)=O MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- APVPOHHVBBYQAV-UHFFFAOYSA-N n-(4-aminophenyl)sulfonyloctadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)NS(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 APVPOHHVBBYQAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 229940049964 oleate Drugs 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002987 phenanthrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000006187 pill Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- QVLTXCYWHPZMCA-UHFFFAOYSA-N po4-po4 Chemical compound OP(O)(O)=O.OP(O)(O)=O QVLTXCYWHPZMCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000379 polypropylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 125000001844 prenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L succinate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCC([O-])=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 125000001680 trimethoxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005110 triphenodithiazines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004961 triphenylmethanes Chemical class 0.000 description 1
- PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N tungstate Chemical compound [O-][W]([O-])(=O)=O PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001834 xanthenyl group Chemical class C1=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3C(C12)* 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Credit Cards Or The Like (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は光記録媒体に光学的に情報の記録を行なう記
録方法に関する。The present invention relates to a recording method for optically recording information on an optical recording medium.
［従来の技術］ 従来、クレジットカード、バンクカード、クリニック
カード等のカード類に埋設される記録材料としては、磁
気材料が主として用いられてきた。この様な磁気材料は
情報の書き込みおよび読み出しが容易に行なえるという
利点はあるが、反面、情報の内容を容易に変えたり、ま
た高密度記録ができないという問題点があった。かかる
問題点を解決する為に、多種多様の情報を効率良く取り
扱う手段として、情報を光学的に記録再生する方法が提
案されており、通常はレーザー光を用いて情報記録担体
上の光学記録層の一部を揮散させるか、反射率、透過率
の変化を生じさせる。或は変形を生じさせ、光学的な反
射率や透過率の差に依って情報を記録し、或は再生を行
なっている。この様な光学記録再生方式に於いて使用す
る情報記録担体は、磁気記録再生方式に於いて使用する
情報記録担体に比べ、記録密度が１桁以上高く、記録部
を狭い幅で形成しても記録密度を保持する事が可能であ
る。[Prior Art] Conventionally, magnetic materials have been mainly used as recording materials embedded in cards such as credit cards, bank cards, and clinic cards. Such a magnetic material has an advantage that information can be written and read easily, but on the other hand, it has a problem that the content of information can be easily changed and high-density recording cannot be performed. In order to solve such a problem, a method of optically recording / reproducing information has been proposed as a means for efficiently handling a wide variety of information, and usually an optical recording layer on an information recording carrier using a laser beam is proposed. Volatilize a part of it or cause a change in reflectance and transmittance. Or, deformation is caused, and information is recorded or reproduced depending on the difference in optical reflectance or transmittance. The information recording carrier used in such an optical recording / reproducing system has a recording density higher than that of the information recording carrier used in the magnetic recording / reproducing system by one digit or more, and even if the recording portion is formed with a narrow width. It is possible to maintain the recording density.
光学的に情報の記録・再生をする情報記録担体とし
て、例えば、銀粒子をゼラチンマトリックス中に分散し
てなる記録層を有するカード類が提案されている。この
記録層への情報の書込みは、レーザビームを記録層に照
射して記録ピットを形成して行なわれている。この記録
層はコーティング法により連続的に製造でき、しかも銀
を用いることによって広い波長域にわたって均一な反射
率が得られ、種々の波長のレーザビームを用いた記録再
生装置への適用が可能であるという利点を有している。
しかしながらこの記録層に、写真的手法で記録を行なう
場合には、光反射性と解像性とを同時に向上させること
は困難であり、たとえば現像時間を長くすると光反射性
は向上するが、記録部（露光部）が太る傾向が認められ
解像性が低下してしまう。逆に現像時間を短かくすると
解像性は向上するが光反射性が不充分になってしまうと
いう問題点があった。Cards having a recording layer in which silver particles are dispersed in a gelatin matrix have been proposed as information record carriers for optically recording and reproducing information. Writing of information to the recording layer is performed by irradiating the recording layer with a laser beam to form recording pits. This recording layer can be continuously manufactured by a coating method, and by using silver, uniform reflectance can be obtained over a wide wavelength range, and it can be applied to a recording / reproducing apparatus using laser beams of various wavelengths. It has the advantage of
However, when recording on this recording layer by a photographic method, it is difficult to improve the light reflectivity and the resolution at the same time. For example, if the developing time is lengthened, the light reflectivity is improved. A part (exposed part) tends to be thick and the resolution is lowered. On the contrary, when the developing time is shortened, the resolution is improved but the light reflectivity becomes insufficient.
一方また、記録材料の記録層にレーザビームなどのエ
ネルギービームをスポット状に照射して、記録層の一部
を状態変化させて記録する、いわゆるヒートモード記録
材料が提案されている。このヒートモード記録材料に用
いる記録層としては、テルル、ビスマスなどの金属薄
膜、ポリスチレン、ニトロセルロースなどの有機薄膜、
あるいは相転位を利用したテルル低酸化物膜などが用い
られている。これらの記録材料は、情報の書込みの後現
像処理などの必要がなく、「書いた後直読する」ことの
できる、いわゆるDRAW（direct read after write）媒
体であり、高密度記録が可能であり追加書込みも可能で
あることから、ディスク用あるいはカード用の記録材料
としての用途の拡大が期待されている。On the other hand, a so-called heat mode recording material has been proposed in which the recording layer of the recording material is irradiated with an energy beam such as a laser beam in a spot shape to change the state of a part of the recording layer for recording. The recording layer used in this heat mode recording material is a metal thin film such as tellurium or bismuth, an organic thin film such as polystyrene or nitrocellulose,
Alternatively, a tellurium low oxide film utilizing a phase transition is used. These recording materials are so-called DRAW (direct read after write) media that can be "read directly after writing" without the need for development processing after writing information, and high density recording is possible. Since writing is also possible, it is expected that the application as a recording material for discs or cards will be expanded.
これらのヒートモード記録材料のうち最も広く用いら
れている、テルルあるいはビスマスなどの金属薄膜を基
板上に蒸着してなる記録材料においては、情報の書込み
は、レーザビームなどのエネルギービームを金属薄膜上
にスポット照射することにより、この部分の金属を蒸発
除去あるいは融解移動除去してピットを形成して行なわ
れている。また情報の読出しは、読出し光を記録層上に
照射し、記録部であるピット部と未記録部である金属薄
膜とにおける反射率の違いを読取ることによって行なわ
れている。ところで、情報の書込みに際しては、読出す
べき情報そのものに相当する記録ピットを形成すること
に加えて、光の案内溝に相当するトラッキングならびに
読出すべきピットを特定するためのプレフォーマッティ
ングをも記録層に書込む必要があった。The most widely used of these heat mode recording materials is a recording material formed by depositing a metal thin film such as tellurium or bismuth on a substrate. Information is written by applying an energy beam such as a laser beam onto the metal thin film. It is carried out by spot-irradiating the metal to evaporate or remove the metal in this portion to remove migrating movement to form pits. Information is read by irradiating the recording layer with a reading light and reading the difference in reflectance between the pit portion, which is a recording portion, and the metal thin film, which is an unrecorded portion. By the way, when writing information, in addition to forming recording pits corresponding to the information itself to be read, tracking corresponding to a light guide groove and pre-formatting for specifying the pits to be read are also performed. Had to write to.
ところが記録層を構成するテルル、ビスマスなどの金
属は、ある程度毒性を有するため取扱いに充分な配慮を
要するとともに、レーザビームなどのエネルギービーム
の照射によりピットを形成することは、高度の制御技術
が必要とされ、しかもそのピット形成工程が複雑である
ためコスト面からみても必ずしも安いものではなかっ
た。したがって、光の案内溝に相当するトラッキングな
らびに読出すべきピットを特定するためのプレフォーマ
ッティングがレーザビーム照射以外の簡便な方法により
大量にしかも安価に形成しうるような記録材料が出現す
るならば、極めて有用性の高いものが得られると期待さ
れる。However, since metals such as tellurium and bismuth that compose the recording layer have toxicity to some extent, it is necessary to give due consideration to handling, and forming pits by irradiation with an energy beam such as a laser beam requires advanced control technology. However, since the pit forming process is complicated, it is not always cheap in terms of cost. Therefore, if a recording material appears in which tracking corresponding to a light guide groove and pre-formatting for specifying a pit to be read can be formed in a large amount and at a low cost by a simple method other than laser beam irradiation, It is expected that extremely useful ones will be obtained.
また、光記録層としては、上述した様に光学的特性、
例えば反射率や透過率などによって、情報が記録される
が、この場合光記録層の感度特性は光カードの性能を左
右し重要であるが、その特性は膜厚に強く依存し、微妙
な厚みの違いが光カードの均一性に影響を与える。Further, as the optical recording layer, as described above, the optical characteristics,
For example, information is recorded by reflectance or transmittance. In this case, the sensitivity characteristic of the optical recording layer influences the performance of the optical card and is important, but the characteristic strongly depends on the film thickness and the subtle thickness. Difference affects the uniformity of the optical card.
光記録層として色素の如き有機性光記録材料を使用す
る場合、色素の溶剤溶液を塗布し、乾燥して光記録層を
形成している為、基板の種類、溶剤の種類や濃度、塗布
方法によってその反射率や透過率は大きく異なる。When an organic optical recording material such as a dye is used as the optical recording layer, a solvent solution of the dye is applied and dried to form the optical recording layer. Therefore, the type of substrate, the type and concentration of the solvent, and the coating method. The reflectivity and the transmissivity vary greatly depending on the type.
さらに、従来、光ディスクのようなエアギャップの存
在する媒体の場合、一般に、これらの用途に用いること
のできる接着剤としては、紫外線硬化型、熱硬化型、化
学反応型、熱可塑性型等がある。Further, conventionally, in the case of a medium having an air gap such as an optical disk, generally, adhesives that can be used for these applications include an ultraviolet curable type, a thermosetting type, a chemical reaction type, and a thermoplastic type. .
しかし、光記録層と接着層が密着する媒体の場合、例
えばシアニン系等の有機材料を光記録材料に用いる場合
には、上記の接着剤として、例えばシリコン系等の紫外
線硬化型を用いると、照射する紫外光により光記録材料
が脱色し、機能を失うという問題があり、またエポキシ
系などの化学反応型では記録材料と化学反応して機能を
失う。さらに、熱硬化型、熱可塑型の接着剤では接着時
の加熱により記録材料が機能を失うという問題があっ
た。また硬化型接着剤では記録時に記録材料が変形しに
くく、感度が悪いという問題点もある。However, in the case of a medium in which the optical recording layer and the adhesive layer are in close contact with each other, for example, when an organic material such as cyanine is used for the optical recording material, as the above adhesive, for example, an ultraviolet curable type such as silicon is used, There is a problem that the optical recording material is decolorized by irradiation with ultraviolet light and loses its function, and in the case of a chemical reaction type such as an epoxy type, it chemically reacts with the recording material and loses its function. Further, the thermosetting and thermoplastic type adhesives have a problem that the recording material loses its function due to heating during the adhesion. In addition, the curable adhesive has a problem that the recording material is not easily deformed during recording and the sensitivity is poor.
［発明が解決しようとする問題点］ 本発明は、これら従来技術に伴なう問題点を解決しよ
うとするものであって、以下のような目的を有する。[Problems to be Solved by the Invention] The present invention is intended to solve the problems associated with these conventional techniques, and has the following objects.
光カードの様に光記録層と保護層が密着している光記
録媒体に効率良く情報記録を行なう方法を提供するこ
と。To provide a method for efficiently recording information on an optical recording medium such as an optical card in which an optical recording layer and a protective layer are in close contact with each other.
［問題点を解決するための手段］および［作用］ すなわち、本発明は、基板上にレーザービームの照射
によって変形させることで情報記録の可能な有機色素記
録層、及び保護層がこの順番で積層され、且つ該有機色
素記録層が該基板及び該保護層に密着している構成を有
する光記録媒体に、該有機色素の吸収波長域内に発振波
長を有する半導体レーザービームを照射して、該記録層
を変形せしめると共に劣化させて該記録層に情報の記録
を行なうことを特徴とする光記録方法である。[Means for Solving Problems] and [Function] That is, according to the present invention, an organic dye recording layer capable of recording information by being deformed by laser beam irradiation and a protective layer are laminated in this order on a substrate. And recording the organic dye recording layer by irradiating a semiconductor laser beam having an oscillation wavelength within the absorption wavelength range of the organic dye to an optical recording medium having a structure in which the organic dye recording layer is in close contact with the substrate and the protective layer. An optical recording method is characterized in that information is recorded on the recording layer by deforming and deteriorating the layer.
本発明においては、透明基材上に光記録層を設け、該
光記録層とカード基材とを接着層を介して貼り合わせて
なる光カードにおいて、光記録層が一般式（Ｉ）で表わ
されるポリメチン系有機色素を含有し、かつ膜厚が300
〜1500Åであることが好ましい。In the present invention, an optical recording layer is represented by the general formula (I) in an optical card in which an optical recording layer is provided on a transparent substrate and the optical recording layer and the card substrate are bonded together via an adhesive layer. Contains a polymethine organic dye that has a thickness of 300
It is preferably ˜1500Å.
一般式（Ｉ） （式中R1,R2,R3およびR4は、各々水素原子、アルキル
基、置換アルキル基、環式アルキル基、アルケニル基、
アラルキル基、置換アラルキル基、アリール基、置換ア
リール基、スチリル基、置換スチリル基、複素環基又は
置換複素環基を示し、ｎは0,1又は２、Ｘ はアニオン
基を示す。） また、本発明においては、透明基材上に光記録層とし
て有機記録層を形成し、該有機記録層とカード基材を接
着剤を介して貼り合わせてなる光ビームの選択的な照射
によって情報が記録される光カードにおいて、前記接着
剤として有機記録層が熱劣化する温度以下の温度で融解
する熱可塑性接着剤を用いることが好ましい。General formula (I)(Where R1, R2, R3And RFourAre hydrogen atom and alkyl
Group, substituted alkyl group, cyclic alkyl group, alkenyl group,
Aralkyl group, substituted aralkyl group, aryl group, substituted aralkyl group
Reel group, styryl group, substituted styryl group, heterocyclic group or
Represents a substituted heterocyclic group, n is 0, 1 or 2, X Is anion
Represents a group. ) In the present invention, an optical recording layer is formed on the transparent substrate.
To form an organic recording layer and contact the organic recording layer with the card substrate.
Selective irradiation of a light beam that is bonded through a bonding agent
In optical cards where information is recorded by
Melts at a temperature below the temperature at which the organic recording layer thermally deteriorates as an agent
It is preferable to use a thermoplastic adhesive that
以下、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
まず、本発明に係る第一の実施態様を示す光カードに
ついて説明する。本発明に係る第一の光カードは、カー
ド基材上に光記録材料が設けられている光カードであっ
て、前記光記録材料は、（ａ）トラック溝を有する透明
基材と、（ｂ）該トラック溝面上に設けられた光記録層
とからなり、この光記録材料はカード基材に光記録層が
接する様に設けられている事を特徴としている。First, an optical card showing the first embodiment according to the present invention will be described. A first optical card according to the present invention is an optical card in which an optical recording material is provided on a card base material, wherein the optical recording material is (a) a transparent base material having a track groove, and (b) ) An optical recording layer provided on the track groove surface, and the optical recording material is characterized in that the optical recording layer is provided so as to contact the card base material.
この光カードに設けられた光記録材料に情報を書き込
むには、エネルギービームをスポット照射すればよい。
これらの記録層に書き込まれた情報の読み出しは、光カ
ードの透明基材側から記録再生光を照射し、反射光の強
度と位相変化とを関連づけて検出する事によって行なわ
れる。To write information on the optical recording material provided on this optical card, an energy beam may be spot-irradiated.
The reading of the information written in these recording layers is performed by irradiating the recording / reproducing light from the transparent substrate side of the optical card and detecting the intensity of the reflected light and the phase change in association with each other.
次に、本発明に係る第一の光カードを図面に示す具体
例により説明する。第１図は本発明に係る第一の光カー
ドの一例を示す断面図である。Next, the first optical card according to the present invention will be described with reference to specific examples shown in the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing an example of a first optical card according to the present invention.
同第１図において、本発明に係る第一の光カードは、
トラック溝６を有する透明基材１のトラック溝面上に光
記録層２を設けた光記録材料７とカード基材４を接着層
３を介して接する用に設けてなるものである。In FIG. 1, the first optical card according to the present invention is
The optical recording material 7 having the optical recording layer 2 provided on the track groove surface of the transparent substrate 1 having the track groove 6 and the card substrate 4 are provided so as to be in contact with each other via the adhesive layer 3.
必要に依っては、光カードに磁気記録層、ICメモリ
ー、彫刻画像、写真、文字、マーク、インプリントと称
する浮き出し文字などを光カードの表面または裏面に併
設してもよい。この様にする事によって、１枚のカード
で種々の再生方式に対応でき、また偽造がより効果的に
防止できる。If necessary, the optical card may be provided with a magnetic recording layer, an IC memory, an engraved image, a photograph, characters, marks, and embossed characters called imprint on the front surface or the back surface of the optical card. By doing so, one card can be used for various reproduction systems, and forgery can be prevented more effectively.
トラック溝６を有する透明基材１としては、光学的な
記録・再生に於いて不都合の少ないものが好ましく、ま
たトラック溝の形成に成型性の良い熱可塑性のものが好
ましい。例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、
ポリカーボネート樹脂、ビニル系樹脂、ポリイミド系樹
脂、ポリアセタール樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリア
ミド樹脂、セルロース誘導体などを用いる事が出来る。The transparent base material 1 having the track grooves 6 is preferably one that is less inconvenient in optical recording / reproduction, and is preferably a thermoplastic material having good moldability for forming the track grooves. For example, acrylic resin, polyester resin,
Polycarbonate resin, vinyl resin, polyimide resin, polyacetal resin, polyolefin resin, polyamide resin, cellulose derivative and the like can be used.
カード基材４としては、通常のカード基材として用い
る事が出来る透明または不透明のあらゆる材料が使用可
能であり、具体的にはポリ塩化ビニル、塩化ビニル／酢
酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリ
ル酸メチル等アクリル系重合体、ポリスチレン、ポリビ
ニルブチラール、アセチルセルロース、スチレン／ブタ
ジエン共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
カーボネートなどが用いられる。場合に依っては、鉄、
ステンレス、アルミニウム、スズ、銅、亜鉛等の金属シ
ート、合成紙、紙等も用い得る。更には、上記の様な材
料の積層体も用いられる。これらカード基材４には、必
要に応じてコロナ放電処理、プラズマ処理、プライマー
処理などの接着性改良の為の前処理をしてもよい。As the card base material 4, any transparent or opaque material that can be used as a normal card base material can be used. Specifically, polyvinyl chloride, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, polyvinylidene chloride, Acrylic polymers such as polymethylmethacrylate, polystyrene, polyvinyl butyral, acetyl cellulose, styrene / butadiene copolymers, polyethylene, polypropylene and polycarbonate are used. In some cases, iron,
Metal sheets such as stainless steel, aluminum, tin, copper and zinc, synthetic paper, paper and the like can also be used. Furthermore, a laminate of the above materials can also be used. If necessary, these card base materials 4 may be subjected to pretreatments such as corona discharge treatment, plasma treatment, and primer treatment for improving the adhesiveness.
光記録層２としては、再生のエネルギービームの波長
が650nm以上、特に700〜900nmである場合には、記録部
であるピットに於ける反射率と未記録部のそれとの差が
大きいものが好ましい。また、記録のエネルギービーム
の照射によって反射率の変化が生ずるのに必要とされる
エネルギーが小さい方が好ましい。更に、再生のエネル
ギービームによって記録部および未記録部の反射率の変
化しないものが好ましい。例えば、Te,Sb,Mo,Ge,V,Sn等
の酸化物、Te−Sn,TeOx−Geなどの化合物等はエネルギ
ービームの照射により相転移を生じて反射率が変化す
る。また、Te−CH4,Te−CS2,Te−スチレン,Sn−SO2,GeS
−Sn,SnS−Ｓなどの金属と有機化合物または無機硫化物
との複合物や、SiO2/Ti/SiO2/Al等の多層膜も使用可能
である。更に、ニトロセルロース、ポリスチレン、ポリ
エチレンなどの熱可塑性樹脂中に銀などの金属粒子を分
散させたもの、あるいはこの熱可塑性樹脂の表面に金属
粒子を凝集させたものなども使用可能である。また、カ
ルコゲン或は発色型のMoO3−Cu,MoO3−Sn−Cuなども用
いられ、場合に依っては、泡形成型の有機薄膜と金属薄
膜との多層体も用いる事が出来る。As the optical recording layer 2, when the wavelength of the reproducing energy beam is 650 nm or more, particularly 700 to 900 nm, it is preferable that the difference between the reflectance in the pit which is the recording portion and that in the unrecorded portion is large. . Further, it is preferable that the energy required for changing the reflectance due to the irradiation of the energy beam for recording is small. Further, it is preferable that the reflectance of the recorded portion and the unrecorded portion does not change due to the reproducing energy beam. For example, oxides of Te, Sb, Mo, Ge, V, Sn and the like, compounds of Te-Sn, TeOx-Ge and the like undergo a phase transition upon irradiation with an energy beam, and the reflectance changes. Furthermore, Te-CH 4, Te- CS 2, Te- styrene, Sn-SO 2, GeS
A composite of a metal such as —Sn or SnS—S and an organic compound or an inorganic sulfide, or a multilayer film such as SiO 2 / Ti / SiO 2 / Al can also be used. Further, it is also possible to use a material in which metal particles such as silver are dispersed in a thermoplastic resin such as nitrocellulose, polystyrene or polyethylene, or a material in which metal particles are agglomerated on the surface of this thermoplastic resin. Moreover, a chalcogen or coloring type of MoO 3 -Cu, MoO 3 -Sn- Cu , etc. is also used, depending on the case, can be used also multilayers of organic thin film and the metal thin film of foam-forming.
また、エネルギービームで光学的な物性変化可能な有
機薄膜も使用可能で、例えば、アントラキノン誘導体、
特にインダスレン骨格を有する物、ジオキサジン化合物
及びその誘導体、トリフェノージチアジン化合物、フェ
ナンスレン誘導体、シアニン化合物、メロシアニン化合
物、ピリリウム系化合物、キサンテン系化合物、トリフ
ェニルメタン系化合物、クロコニウム系色素、クロコン
類、ポリメチン系色素等の色素を挙げる事が出来、これ
らは溶液塗布による連続製造が可能な事から、本発明に
は好ましい物である。Further, an organic thin film whose optical properties can be changed by an energy beam can also be used, for example, an anthraquinone derivative,
Especially those having an indasulen skeleton, dioxazine compounds and derivatives thereof, triphenodithiazine compounds, phenanthrene derivatives, cyanine compounds, merocyanine compounds, pyrylium compounds, xanthene compounds, triphenylmethane compounds, croconium dyes, crocones, Dyes such as polymethine dyes can be mentioned, and these are preferable for the present invention because they can be continuously manufactured by solution coating.
次に、本発明に係る第一の光カードの製造方法につい
て説明する。Next, a first optical card manufacturing method according to the present invention will be described.
まず、ポリメチルメタアクリレート樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂などの透明基材１にトラック溝６を熱プレス
法などにより形成する。次いで、このトラック溝面上
に、光記録層２を形成する。例えば、有機系色素を溶剤
に溶解した物を塗布し、乾燥させて膜厚0.1μｍ程度の
薄膜を形成する。この様にして得られた光記録材料をカ
ード基材４に光記録層２が接する様にし、間に熱可塑性
接着剤からなる接着層３を挟み込んで重ね合わせ、90〜
150℃程度に加熱された熱定着ロールにて圧着する事に
より光カードを製造することができる。First, the track groove 6 is formed in the transparent substrate 1 such as polymethylmethacrylate resin or polycarbonate resin by a hot pressing method or the like. Next, the optical recording layer 2 is formed on this track groove surface. For example, a material obtained by dissolving an organic dye in a solvent is applied and dried to form a thin film having a film thickness of about 0.1 μm. The optical recording material thus obtained is brought into contact with the optical recording layer 2 on the card substrate 4, and the adhesive layer 3 made of a thermoplastic adhesive is sandwiched between them to be superposed.
An optical card can be manufactured by pressing with a heat fixing roll heated to about 150 ° C.
場合によっては、上述の様にして製造されたDRAW型光
カードに於いて第２図に示す如く、透明基材１上に、キ
ズ防止の為のハードコード層５を設ける事も可能であ
る。或は、耐光性を増すために、紫外線吸収性フィルム
を透明基材上に形成する事も可能である。或は、透明基
材それ自身が紫外線吸収剤を含む樹脂である場合には、
ハードコート層５を設けるだけで、耐光性と耐久性を増
す事が出来るので好ましい構成となる。In some cases, in the DRAW type optical card manufactured as described above, a hard code layer 5 for preventing scratches can be provided on the transparent base material 1 as shown in FIG. Alternatively, in order to increase the light resistance, it is possible to form an ultraviolet absorbing film on a transparent substrate. Alternatively, when the transparent substrate itself is a resin containing an ultraviolet absorber,
Only by providing the hard coat layer 5, the light resistance and the durability can be increased, which is a preferable structure.
次に、上記の様な光記録層への情報の書き込みおよび
光カードに書き込まれた情報の読出しについて説明す
る。Next, writing of information in the optical recording layer and reading of information written in the optical card as described above will be described.
光記録層への情報の書き込みは、波長300〜1000nmの
エネルギービームをレンズ等により集光して照射し、照
射部分の記録ピットを形成する事により行なわれる。こ
の際のエネルギーの強度は0.1〜100mW、パルス幅は5nse
c〜500msec、ビーム径は0.5〜10μｍである事が好まし
い。照射されるエネルギービームとしては半導体レーザ
ー、アルゴンレーザー、ヘリウム−ネオンレーザー、ク
リプトンレーザーなどのレーザービームがトラック溝の
検出の為に好ましい。Writing of information to the optical recording layer is performed by converging and irradiating an energy beam having a wavelength of 300 to 1000 nm with a lens or the like to form recording pits in the irradiated portion. The energy intensity at this time is 0.1 to 100 mW, and the pulse width is 5 nse.
It is preferable that c to 500 msec and the beam diameter be 0.5 to 10 μm. A laser beam such as a semiconductor laser, an argon laser, a helium-neon laser, or a krypton laser is preferable as the energy beam to be irradiated for detecting the track groove.
一方、本発明に係る第一の光カードに書き込まれた情
報の読み出しは、記録層を変質させない程度の低エネル
ギーのエネルギービームを、レンズ等を介して集光して
光カードの透明基材側から照射し、ピットの有無を反射
光の強度と位相変化とを関連づけて検出する事によって
行なわれる。On the other hand, when reading information written in the first optical card according to the present invention, an energy beam of low energy that does not alter the quality of the recording layer is condensed through a lens or the like and the transparent substrate side of the optical card is read. It is performed by irradiating from the above and detecting the presence or absence of pits by associating the intensity of the reflected light with the phase change.
次に、本発明に係る光カードの第二の実施態様につい
て説明する。Next, a second embodiment of the optical card according to the present invention will be described.
本発明に係る第二の光カードは、前記第一の光カード
と同様の方法で製造することができるが、通常の保護基
板であればよく、不透明基材をつかわなくともよい。The second optical card according to the present invention can be manufactured by a method similar to that of the first optical card described above, but may be any ordinary protective substrate and does not need to use an opaque base material.
第３図は本発明に係る第二の光カードの一例を示す断
面図である。FIG. 3 is a sectional view showing an example of a second optical card according to the present invention.
透明基板1aとしては、光学的な記録・再生に於いて不
都合の少ないものが好ましく、前記第一の光カードで挙
げたものの他、ポリスルホン樹脂も用いる事が出来る。As the transparent substrate 1a, those which are less inconvenient in optical recording / reproduction are preferable, and polysulfone resin can be used in addition to those mentioned in the first optical card.
本発明において、トラック溝部6aを透明基板1aに形成
する方法は、透明基板が熱可塑性樹脂である場合には、
融点以上の温度での射出成型や熱プレス成型等の方法に
よりスタンパー型を熱転写する方法、或いは透明基板上
に光硬化性樹脂組成物を塗布しスタンパー型を密着さ
せ、紫外線等を照射して、該光硬化性樹脂組成物を硬化
させるスタンパー型を光転写する方法により実施され
る。In the present invention, the method of forming the track groove portion 6a in the transparent substrate 1a, when the transparent substrate is a thermoplastic resin,
A method of thermally transferring a stamper mold by a method such as injection molding or heat press molding at a temperature of a melting point or higher, or a photocurable resin composition is applied onto a transparent substrate to bring the stamper mold into close contact, and irradiation with ultraviolet rays or the like, It is carried out by a method of optically transferring a stamper mold for curing the photocurable resin composition.
熱転写法の場合には、トラック溝部と透明基板は同一
体に形成されるのに対して、光転写法の場合には、トラ
ック溝部は透明基板と同一体ではなく接着して形成され
る。In the case of the thermal transfer method, the track groove portion and the transparent substrate are formed in the same body, whereas in the case of the optical transfer method, the track groove portion is formed not by adhering to the transparent substrate but by bonding.
或いは、スタンパー型の転写法とは別に、エッチング
可能な所望の厚みの透光性薄膜を有する透明樹脂基板上
にレジスト膜を形成してトラック溝のパターンを有する
フォトマスクを介して露光し、現像してレジストパター
ンを形成して、レジストパターンをマスクとして前記透
光性薄膜をエッチングしてトラック溝部を透明基板に形
成することもできる。Alternatively, in addition to the stamper type transfer method, a resist film is formed on a transparent resin substrate having a translucent thin film of a desired thickness that can be etched, exposed through a photomask having a track groove pattern, and developed. Then, a resist pattern is formed, and the translucent thin film is etched using the resist pattern as a mask to form the track groove portion on the transparent substrate.
保護基材８としては、通常の保護基材として用いる事
が出来るあらゆる材料が使用可能であり、第一の光カー
ドで挙げたものの他、具体的にはエポキシ、アクリロニ
トリル−ブタジエン−スチレン共重合体などが用いられ
る。As the protective base material 8, any material that can be used as a normal protective base material can be used. In addition to the materials mentioned in the first optical card, specifically, epoxy, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer can be used. Are used.
光記録層は、第一の光カードで挙げた条件の他に、書
き込む為に上記の波長域に吸収のある事が必要である。In addition to the conditions mentioned for the first optical card, the optical recording layer needs to have absorption in the above wavelength range for writing.
この様の条件を満足する光記録層としては、有機系色
素、特に前記一般式（Ｉ）で表わされるポリメチン系有
機色素からなる薄膜で形成されたものが好ましい。As the optical recording layer satisfying these conditions, an organic dye, particularly a thin film made of a polymethine organic dye represented by the general formula (I) is preferable.
これらのポリメチン系色素は、半導体レーザーの波長
域800nm前後に於ける吸収係数も大きく、溶解性も良
く、本発明に於いて好ましいものである。かかるポリメ
チン系色素としては、特開昭58−219090号公報に開示さ
れているもの等を用いることができるが、下記に一般式
（Ｉ）で表わされるポリメチン系有機色素について説明
する。These polymethine dyes are preferable in the present invention because they have a large absorption coefficient in the wavelength region of about 800 nm of a semiconductor laser and a good solubility. As such a polymethine dye, those disclosed in JP-A-58-219090 can be used, and the polymethine organic dye represented by the general formula (I) will be described below.
前記一般式（Ｉ）において、R1,R2,R3およびR4は水素
原子またはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、iso−プロピル基、ｎ−ブチル基、sec
−ブチル基、iso−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミ
ル基、ｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル
基、ｔ−オクチル基など）を示し、さらに他のアルキル
基、例えば置換アルキル基（例えば２−ヒドロキシエチ
ル基、３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチ
ル基、２−アセトキシエチル基、カルボキシメチル基、
２−カルボキシエチル基、３−カルボキシプロピル基、
２−スルホエチル基、３−スルホプロピル基、４−スル
ホブチル基、３−スルフェートプロピル基、４−スルフ
ェートブチル基、Ｎ−（メチルスルホニル）−カルバミ
ルメチル基、３−（アセチルスルファミル）プロピル
基、４−（アセチルスルファミル）ブチル基など）、環
式アルキル基（例えば、シクロヘキシル基など）、アル
ケニル基（ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニ
ル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オ
クテニル基、ドデシニル基、プレニル基など）、アラル
キル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフ
チルメチル基、β−ナフチルメチル基など）、置換アラ
ルキル基（例えば、カルボキシベンジル基、スルホベン
ジル基、ヒドロキシベンジル基など）を包含する。さら
に、R1,R2,R3およびR4は置換もしくは未置換のアリール
基（例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシ
リル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、
トリメトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジメチ
ルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、ジプ
ロピルアミノフェニル基、ジベンジルアミノフェニル
基、ジフェニルアミノフェニル基など）、置換もしくは
未置換の複素環基（例えば、ピリジル基、キノリル基、
レピジル基、メチルピリジル基、フリル基、チエニル
基、インドリル基、ピロール基、カルバゾリル基、Ｎ−
エチルカルバゾリル基など）又は置換もしくは未置換の
スチリル基（例えば、スチリル基、メトキシスチリル
基、ジメトキシスチリル基、トリメトキシスチリル基、
エトキシスチリル基、ジメチルアミノスチリル基、ジエ
チルアミノスチリル基、ジプロピルアミノスチリル基、
ジベンジルアミノスチリル基、ジフェニルアミノスチリ
ル基、2,2−ジフェニルビニル基、２−フェニル−２−
メチルビニル基、２−（ジメチルアミノフェニル）−２
−フェニルビニル基、２−（ジエチルアミノフェニル）
−２−フェニルビニル基、２−（ジベンジルアミノフェ
ニル）−２−フェニルビニル基、2,2−ジ（ジエチルア
ミノフェニル）ビニル基、2,2−ジ（メトキシフェニ
ル）ビニル基、2,2−ジ（エトキシフェニル）ビニル
基、２−（ジメチルアミノフェニル）−２−メチルビニ
ル基、２−（ジエチルアミノフェニル）−２−エチルビ
ニル基など）を示す。ｎは０、１又は２である。In the general formula (I), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each a hydrogen atom or an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group,
n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, sec
-Butyl group, iso-butyl group, t-butyl group, n-amyl group, t-amyl group, n-hexyl group, n-octyl group, t-octyl group, etc.), and other alkyl groups such as Substituted alkyl group (for example, 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 4-hydroxybutyl group, 2-acetoxyethyl group, carboxymethyl group,
2-carboxyethyl group, 3-carboxypropyl group,
2-sulfoethyl group, 3-sulfopropyl group, 4-sulfobutyl group, 3-sulfatepropyl group, 4-sulfatebutyl group, N- (methylsulfonyl) -carbamylmethyl group, 3- (acetylsulfamyl) Propyl group, 4- (acetylsulfamyl) butyl group, etc., Cyclic alkyl group (eg, cyclohexyl group, etc.), Alkenyl group (vinyl group, allyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, heptenyl) Group, octenyl group, dodecynyl group, prenyl group, etc.), aralkyl group (eg, benzyl group, phenethyl group, α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group, etc.), substituted aralkyl group (eg, carboxybenzyl group, sulfobenzyl group) Groups, hydroxybenzyl groups, etc.). Further, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are substituted or unsubstituted aryl groups (for example, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, methoxyphenyl group, dimethoxyphenyl group,
Trimethoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, dimethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, dipropylaminophenyl group, dibenzylaminophenyl group, diphenylaminophenyl group, etc.), substituted or unsubstituted heterocyclic group (eg, pyridyl group) , Quinolyl group,
Lepidyl group, methylpyridyl group, furyl group, thienyl group, indolyl group, pyrrole group, carbazolyl group, N-
Ethylcarbazolyl group etc.) or a substituted or unsubstituted styryl group (for example, styryl group, methoxystyryl group, dimethoxystyryl group, trimethoxystyryl group,
Ethoxystyryl group, dimethylaminostyryl group, diethylaminostyryl group, dipropylaminostyryl group,
Dibenzylaminostyryl group, diphenylaminostyryl group, 2,2-diphenylvinyl group, 2-phenyl-2-
Methyl vinyl group, 2- (dimethylaminophenyl) -2
-Phenylvinyl group, 2- (diethylaminophenyl)
-2-phenylvinyl group, 2- (dibenzylaminophenyl) -2-phenylvinyl group, 2,2-di (diethylaminophenyl) vinyl group, 2,2-di (methoxyphenyl) vinyl group, 2,2- Di (ethoxyphenyl) vinyl group, 2- (dimethylaminophenyl) -2-methylvinyl group, 2- (diethylaminophenyl) -2-ethylvinyl group and the like. n is 0, 1 or 2.
Ｘ はアニオン基を示し、例えば、塩化物イオン、臭
化物イオン、ヨウ化物イオン、過塩素酸塩イオン、ベン
ゼンスルホン酸塩イオン、Ｐ−トルエンスルホン酸塩イ
オン、メチル硫酸塩イオン、エチル硫酸塩イオン、プロ
ピル硫酸塩イオン、テトラフルオロホウ酸塩イオン、テ
トラフェニルホウ酸塩イオン、ヘキサフルオロひ酸塩イ
オン、ヘキサフルオロリン酸塩イオン、ベンゼンスルフ
イン酸塩イオン、酢酸塩イオン、トリフルオロ酢酸塩イ
オン、プロピオン酢酸塩イオン、安息香酸塩イオン、シ
ュウ酸塩イオン、コハク酸塩イオン、マロン酸塩イオ
ン、オレイン酸塩イオン、ステアリン酸塩イオン、クエ
ン酸塩イオン、一水素二リン酸塩イオン、二水素一リン
酸塩イオン、ペンタクロロスズ酸塩イオン、クロロスル
ホン酸塩イオン、フルオロスルホン酸塩イオン、トリフ
ルオロメタンスルホン酸塩イオン、ヘキサフルオロアン
チモン酸塩イオン、モリブデン酸塩イオン、タングステ
ン酸塩イオン、チタン酸塩イオン、ジルコン酸塩イオン
などの陰イオンを表わす。 X Represents an anion group, for example, chloride ion, odor
Iodide ion, Iodide ion, Perchlorate ion, Ben
Zen sulfonate ion, P-toluene sulfonate a
On, methyl sulfate ion, ethyl sulfate ion, pro
Pill sulfate ion, tetrafluoroborate ion, te
Traphenyl borate ion, hexafluoroarsenate
ON, hexafluorophosphate ion, benzene sulf
Innate ion, acetate ion, trifluoroacetate salt
On, propion acetate ion, benzoate ion,
Oxalate ion, succinate ion, malonate ion
Oleate ion, stearate ion, quencher
Phosphate ion, monohydrogen diphosphate ion, dihydrogen monophosphate
Phosphate ion, pentachlorostannate ion, chlorosulfur
Fonate ion, fluorosulfonate ion, trif
Luoromethanesulfonate ion, hexafluoroan
Timonate ion, molybdate ion, tungstate
Phosphate ion, titanate ion, zirconate ion
Represents anion such as.
次に、前記一般式（Ｉ）で示されるポリメチン色素の
代表例を挙げる。Next, typical examples of the polymethine dye represented by the general formula (I) will be given.
これ等のポリメチン系有機色素は、ベルナード エス
ヴィルディー（Bernard S.Wildi）らのJ.Am.Chem.Soc
（ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエテ
ィ）80 3772〜3777（1958）やエッチ シュミット（H.
Schmidt）らのAnn（リービッヒ・アンナーレン・デル・
ケミー）623 204〜216あるいはアール ウルツィンガー
（R.Wizinger）らのHelv.Chim.Acta（ヘルベティカ・シ
ミカ・アクタ）24 369などに開示された合成法に準じ
て合成することによって容易に得られる。 These polymethine organic dyes are described in Bernard S. Wildi et al., J. Am. Chem. Soc.
(Journal of American Chemical Society) 80 3772-3777 (1958) and Etch Schmidt (H.
Schmidt) et al. Ann (Liebig Annalen del
Chemie) 623 204-216 or R. Wizinger et al., Helv. Chim. Acta (Helvetica, Shimika, Actor) 24 369, and the like.
本発明においては、上記のポリメチン系有機色素のい
ずれも使用可能であるが、溶解性の良い事、更に塗布乾
燥後に得られる塗膜の結晶化が起こり難い事、恒温・恒
湿環境（50℃、相対湿度90％）下で変化（例えば、反射
率、透過率、結晶化等）し難い事などを検討した結果、
前記Ｄ−１の下記の式（II）で表わされるポリメチン系
色素が優れている事が見い出された。In the present invention, any of the above polymethine organic dyes can be used, good solubility, further crystallization of the coating film obtained after coating drying does not occur easily, constant temperature and constant humidity environment (50 ℃ , Relative humidity 90%) As a result of examining that it is difficult to change (for example, reflectance, transmittance, crystallization, etc.),
It has been found that the polymethine dye represented by the following formula (II) of D-1 is excellent.
式（II） また、光記録層２の膜厚は、通常300Å〜1500Å、好
ましくは700〜1300Åが望ましい。Formula (II) Further, the film thickness of the optical recording layer 2 is usually 300Å to 1500Å, preferably 700 to 1300Å.
光カードに設けられた光記録層に情報を書き込むに
は、透明基板側からエネルギービームをスポット照射す
ればよい。これらの記録層に書き込まれた情報の読み出
しは、光カードの透明基板側から再生光を照射し、反射
光の強度とトラック溝部の位相変化とを関連づけて検出
する事によって行なわれる。To write information on the optical recording layer provided on the optical card, an energy beam may be spot-irradiated from the transparent substrate side. The information written in these recording layers is read by irradiating the reproducing light from the transparent substrate side of the optical card and detecting the intensity of the reflected light and the phase change of the track groove portion in association with each other.
かかるエネルギービームで光学的な物性変化可能な有
機系色素薄膜は溶液または分散系による連続塗布が可能
で量産製造には好ましいものである。Such an organic dye thin film whose optical properties can be changed by an energy beam can be continuously coated by a solution or dispersion system, which is preferable for mass production.
また、一般式（Ｉ）で示されるポリメチン系有機色素
からなる薄膜は、公知の塗布方法、例えば、ディップコ
ート、スプレーコート、スピナーコート、バーコート、
ブレードコード、ロールコート、カーテンコート等の方
法により形成される。Further, the thin film made of the polymethine organic dye represented by the general formula (I) can be formed by a known coating method, for example, dip coating, spray coating, spinner coating, bar coating,
It is formed by a method such as blade cord, roll coating or curtain coating.
次に、ポリメチン系有機色素を含有する光記録層の膜
厚と透過率および反射率の関係を示す。Next, the relationship between the film thickness and the transmittance and reflectance of the optical recording layer containing the polymethine organic dye will be shown.
第４図は、ポリメチン系有機色素として、式（II）に
示す有機色素を溶剤としてジアセトンアルコールに溶解
した溶液（３重量％濃度）をバーコート法により塗布し
た時の一実施例の結果を示すが、塗布量、濃度、バーコ
ートの塗布速度により、その膜厚や反射率、透過率は異
なる。FIG. 4 shows the results of one example when a solution (3% by weight concentration) in which the organic dye represented by formula (II) was dissolved in diacetone alcohol as a solvent was applied as the polymethine organic dye by the bar coating method. Although shown, the film thickness, reflectance, and transmittance differ depending on the coating amount, the density, and the coating speed of the bar coat.
この様に塗布方法によっても、また溶解するのに用い
た溶剤によっても、得られる有機色素薄膜の膜厚と反射
率は大きく異なることがあるが、透過率は第４図に示す
様に膜厚の増大により減少する。一方、反射率は膜厚に
対して極大値を有する山形の傾向を示し、最大反射膜厚
は作成条件により大きく変わることが見い出されてい
る。As described above, the film thickness and the reflectance of the obtained organic dye thin film may differ greatly depending on the coating method and the solvent used for dissolution, but the transmittance is as shown in FIG. It decreases with the increase of. On the other hand, it has been found that the reflectance shows a mountain-like tendency having a maximum value with respect to the film thickness, and the maximum reflective film thickness largely changes depending on the preparation conditions.
他方、前記式（II）に示す有機色素をジクロルエタン
溶剤を用い、スピンコート法により光記録層を形成した
場合には、反射率は鋭い山形となり、膜厚500Å程度で
最大反射となることが見い出されている。On the other hand, when the organic dye represented by the formula (II) is used in a dichloroethane solvent and the optical recording layer is formed by the spin coating method, it is found that the reflectance has a sharp mountain shape and the maximum reflection occurs at a film thickness of about 500Å. Has been.
従って、式（II）に示されるポリメチン系有機色素を
使用した場合には、膜厚として300〜1500Åが好まし
く、その時の透過率としては10〜40％、反射率としては
11〜17％が好ましいことが分る。Therefore, when the polymethine organic dye represented by the formula (II) is used, the film thickness is preferably 300 to 1500Å, the transmittance at that time is 10 to 40%, and the reflectance is
It turns out that 11 to 17% is preferable.
他のポリメチン系有機色素に於いても、膜厚300〜150
0Å、好ましくは700〜1300Åの範囲にあれば、それぞれ
の反射率や透過率は異なる値をとるが、ほぼ反射率の山
形の極大値はその範囲の中に存在する。また、膜厚300
Å未満では反射率が低く、また1500Åをこえても同様に
反射率が低下するために好ましくない。With other polymethine organic dyes, the film thickness is 300-150
Within the range of 0 Å, preferably 700 to 1300 Å, the respective reflectances and transmittances have different values, but the maximum value of the peak of the reflectance almost exists within the range. Also, the film thickness 300
If it is less than Å, the reflectance is low, and if it exceeds 1500 Å, the reflectance is similarly reduced, which is not preferable.
記録感度の点からは膜厚は薄く、再生のS/N比の点か
ら厚めの方が好ましく、製造管理の均一性の点からは反
射率の極大付近の方が好ましく、出来上がりの光記録層
の歩留りの安定性からは反射率の極大よりも厚めの膜厚
の方が透過率のムラが少なく、安定した光記録媒体を作
成することができる。From the viewpoint of recording sensitivity, the film thickness is thin, and from the viewpoint of reproduction S / N ratio, it is preferable to be thick, and from the viewpoint of uniformity of manufacturing control, it is preferable that the reflectance is near the maximum. From the viewpoint of the stability of the yield, the thicker film thickness has less unevenness of the transmittance than the maximum of the reflectance, and a stable optical recording medium can be prepared.
いずれにしても、光記録媒体を作成した場合、光記録
層からの反射光と透明基板面からの反射光の比率は、２
倍以上は必要で、さもないと自動焦点制御が効かない。
通常、前記した透明基板の表面反射は、ほぼ５％前後な
ので、光記録層の反射率は最低10％以上、好ましくは11
％以上は必要とされる。In any case, when an optical recording medium is created, the ratio of the reflected light from the optical recording layer and the reflected light from the transparent substrate surface is 2
It is necessary to double or more, otherwise automatic focus control will not work.
Usually, the surface reflection of the transparent substrate is about 5%, so the reflectance of the optical recording layer is at least 10% or more, preferably 11%.
% Or more is required.
本発明においては、接着層３は熱可塑性接着剤による
接着が好ましく、ポリメチン系有機色素からなる光記録
層を損うことがない。公知の接着剤のうちから、ポリエ
ステル系、アミド系、ビニル系或いはこれらの共重合体
等が使用可能であるが、ビニル系共重合体が本発明にお
いては好ましい。例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、エチレン−エチルメタアクリレート共重合体、酢酸
ビニル−アクリレート共重合体及びその変性樹脂が挙げ
られる。これらのうちから有機色素の耐熱性を考慮して
適宜選択することができる。接着方法は熱ロール圧着法
または熱プレス圧着法等により行うことができ、接着剤
をドライフィルムにして三層貼り合わせ法或いはカード
基材上にあらかじめ接着剤を配設した二層貼り合わせ法
のいずれでも良い。In the present invention, the adhesive layer 3 is preferably adhered by a thermoplastic adhesive and does not damage the optical recording layer made of a polymethine organic dye. Among known adhesives, polyester-based, amide-based, vinyl-based or copolymers thereof can be used, but vinyl-based copolymers are preferred in the present invention. Examples thereof include an ethylene-vinyl acetate copolymer, an ethylene-ethyl methacrylate copolymer, a vinyl acetate-acrylate copolymer and a modified resin thereof. It can be appropriately selected from these, considering the heat resistance of the organic dye. The bonding method can be performed by a heat roll pressure bonding method or a heat press pressure bonding method, and a three-layer bonding method using an adhesive as a dry film or a two-layer bonding method in which the adhesive is previously arranged on a card substrate is used. Either is fine.
接着層の厚さは、特に限定することはないが、通常５
〜200μｍ、好ましくは10〜80μｍが望ましい。The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is usually 5
˜200 μm, preferably 10˜80 μm.
本発明に係る第二の光カードは、透明基板1a上に光記
録層２を設け、該光記録層２と保護基材８とを接着層３
を介して貼り合わせてなる光カードにおいて、光記録層
２が前記一般式（Ｉ）で表わされるポリメチン系有機色
素を含有し、かつ膜厚が300〜1500Åのとき、前記透明
基板側からの入射光に対して、光記録層の透過率が10〜
40％および／または反射率が11〜17％となり、良好な記
録特性を得ることができる。The second optical card according to the present invention is provided with the optical recording layer 2 on the transparent substrate 1a, and the optical recording layer 2 and the protective substrate 8 are bonded together by the adhesive layer 3
When the optical recording layer 2 contains the polymethine organic dye represented by the general formula (I) and the film thickness is 300 to 1500 Å, the optical card formed by adhering through the transparent substrate side is incident. The transmittance of the optical recording layer for light is 10-
40% and / or the reflectance is 11 to 17%, and good recording characteristics can be obtained.
次に、本発明に係る光カードの第三の実施態様につい
て説明する。Next, a third embodiment of the optical card according to the present invention will be described.
第５図は本発明に係る第三の光カードの一例を示す断
面図である。同第５図において、本発明に係る第三の光
カードは透明基板１上に有機記録層10を形成し、該有機
記録層10と保護基材８を接着剤として有機記録層10が熱
劣化する温度以下の温度で融解する熱可塑性接着剤3aを
介在せしめて貼り合わせてなるものである。FIG. 5 is a sectional view showing an example of a third optical card according to the present invention. Referring to FIG. 5, a third optical card according to the present invention has an organic recording layer 10 formed on a transparent substrate 1, and the organic recording layer 10 and the protective base material 8 are used as an adhesive to cause the organic recording layer 10 to be thermally deteriorated. It is formed by interposing a thermoplastic adhesive 3a that melts at a temperature equal to or lower than the temperature at which the adhesive is applied.
本発明に係る第三の光カードおいて、構成は第一の光
カードと同様である。特記すべき事項は、接着剤として
熱可塑性接着剤が用いられるが、該熱可塑性接着剤は有
機記録層が熱劣化する温度以下の温度で融解するもので
あれば如何なるものでもよい。The configuration of the third optical card according to the present invention is the same as that of the first optical card. It should be noted that a thermoplastic adhesive is used as the adhesive, and any thermoplastic adhesive may be used as long as it melts at a temperature below the temperature at which the organic recording layer is thermally deteriorated.
なお、有機記録層が熱劣化する温度とは、有機記録層
に含有される有機材料のガラス転移温度、融点、エネル
ギービームを照射した時の脱色温度、熱分解温度のいず
れかの最低温度を意味する。The temperature at which the organic recording layer thermally deteriorates means the lowest temperature of the glass transition temperature, melting point, decolorization temperature when irradiated with an energy beam, and thermal decomposition temperature of the organic material contained in the organic recording layer. To do.
また、熱可塑性接着剤の融解する温度とは、融点、も
しくは軟化点を言う。The melting temperature of the thermoplastic adhesive refers to the melting point or softening point.
上記の様な条件を満足する熱可塑性接着剤としては、
例えばエバフレックス系、ポリエステル系等の接着剤が
挙げられる。As a thermoplastic adhesive satisfying the above conditions,
For example, an EVA flex-based or polyester-based adhesive may be used.
次に、本発明に係る第三の光カードを製造する方法に
ついて説明する。第７図は本発明に係る第三の光カード
の製造方法のラミネート工程を示す概略図である。同第
７図において、本発明に係る第三の光カードは、有機記
録層10を形成する有機材料が塗布された透明基材１と保
護基材８の間に熱可塑性接着剤3aを介在せしめて熱接着
することにより容易に得ることができる。Next, a method of manufacturing the third optical card according to the present invention will be described. FIG. 7 is a schematic view showing a laminating step of the third optical card manufacturing method according to the present invention. Referring to FIG. 7, a third optical card according to the present invention has a thermoplastic adhesive 3a interposed between a transparent base material 1 coated with an organic material forming an organic recording layer 10 and a protective base material 8. It can be easily obtained by thermal bonding.
本発明に係る第三の光カードにレーザービームを照射
して記録を行なうと、第６図に示す様に記録された部分
にはピット９が形成される。また、熱可塑性接着剤3aが
融解する温度は、有機記録層10が熱劣化する温度よりも
低いので熱可塑性接着剤は記録時に変形してピット形成
を助ける様に働く。When recording is performed by irradiating the third optical card according to the present invention with a laser beam, pits 9 are formed in the recorded portion as shown in FIG. Further, since the temperature at which the thermoplastic adhesive 3a melts is lower than the temperature at which the organic recording layer 10 thermally deteriorates, the thermoplastic adhesive functions to deform during recording and to help pit formation.
本発明に係る第三の光カードは、透明基材上に有機記
録層を形成し、該有機記録層と保護基材を接着剤を介し
て貼り合わせてなる光ビームの選択的な照射によって情
報が記録される光カードにおいて、前記接着剤として有
機記録層が熱劣化する温度以下の温度で融解する熱可塑
性接着剤を用いるので、情報を記録するためにレーザー
ビームが照射された記録部分において、熱可塑性接着剤
が先に融解し、その後、有機記録層が熱劣化してピット
が形成されるために、高感度で安定性の良好な記録を行
なうことができる。A third optical card according to the present invention has an organic recording layer formed on a transparent base material, and the organic recording layer and the protective base material are bonded to each other with an adhesive to selectively irradiate a light beam to record information. In the optical card in which is recorded, since a thermoplastic adhesive that melts at a temperature equal to or lower than the temperature at which the organic recording layer is thermally deteriorated is used as the adhesive, in the recording portion irradiated with the laser beam for recording information, Since the thermoplastic adhesive is melted first and then the organic recording layer is thermally deteriorated to form pits, highly sensitive and stable recording can be performed.
［実施例］ 以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこ
れにより何ら限定されるものではない。[Examples] Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.
実施例１ 透明基材として、厚さ0.4mmの紫外線吸収剤入りのポ
リメチルメタアクリレート基板（日東樹脂（株）製）に
熱プレスにて、トラック溝を形成した。トラック溝ピッ
チ10μｍ、トラック溝幅３μｍ、溝の深さを0.2μｍと
した。次に、このトラック溝面上に、記録層を次の様に
して形成した。Example 1 As a transparent base material, track grooves were formed by hot pressing on a 0.4 mm-thick polymethylmethacrylate substrate containing an ultraviolet absorber (manufactured by Nitto Resin Co., Ltd.). The track groove pitch was 10 μm, the track groove width was 3 μm, and the groove depth was 0.2 μm. Next, a recording layer was formed on this track groove surface as follows.
下記式（III）の色素を２−ブタノン混合溶媒に溶解
した溶液をスピナー塗布して厚さ約900Åの記録層を形
成した。A solution of the dye of the formula (III) below dissolved in a 2-butanone mixed solvent was applied by spinner to form a recording layer having a thickness of about 900Å.
一方、カード基材として厚さ0.3mmの白色硬質塩化ビ
ニルフィルムに熱可塑性接着剤（ダイセル化学工業、プ
ラクセルＨ−７）を介して、上記光記録材料の記録層と
接する様にして、重ね合わせ、表面温度120℃の熱ロー
ルにて圧着して貼り合わせた。その後、透明基材表面を
シリコン系表面硬化剤により処理して、光カードを製造
した。 On the other hand, as a card substrate, a white hard vinyl chloride film having a thickness of 0.3 mm was overlaid with a thermoplastic adhesive (Daicel Chemical Industries, Plaxel H-7) in contact with the recording layer of the above optical recording material. Then, they were bonded by pressure bonding with a hot roll having a surface temperature of 120 ° C. Then, the surface of the transparent substrate was treated with a silicon-based surface hardening agent to manufacture an optical card.
次に、この様にして得られた光カードに、透明基材側
から、波長790nmの半導体レーザービームをトラック溝
をガイドとして、色素薄膜層の表面に5mWでビーム径３
μｍに集光してパルス幅10μsecで照射した。この色素
薄膜層には、レーザービームの照射による該色素薄膜層
の劣化及び該色素薄膜層の変形によって直径３μｍの円
形状の記録ピットが形成された。Next, a semiconductor laser beam with a wavelength of 790 nm was used as a guide on the surface of the dye thin film layer from the transparent substrate side to the optical card thus obtained, and a beam diameter of 3 m was applied to the surface of the dye thin film layer.
The light was focused to a size of μm and irradiated with a pulse width of 10 μsec. A circular recording pit having a diameter of 3 μm was formed on the dye thin film layer due to deterioration of the dye thin film layer due to laser beam irradiation and deformation of the dye thin film layer.
実施例２ 透明基材として、厚さ0.4mmの紫外線吸収剤入りのポ
リメチルメタアクリレート基板（日東樹脂（株）製）に
熱プレスにて、トラック溝を形成した。トラック溝ピッ
チ10μｍ、トラック溝幅３μｍ、溝の深さを0.2μｍと
した。次に、このトラック溝面上に、記録層を次の様に
して形成した。Example 2 As a transparent substrate, a track groove was formed on a polymethylmethacrylate substrate (manufactured by Nitto Plastic Co., Ltd.) having a thickness of 0.4 mm and containing an ultraviolet absorber by hot pressing. The track groove pitch was 10 μm, the track groove width was 3 μm, and the groove depth was 0.2 μm. Next, a recording layer was formed on this track groove surface as follows.
下記式（IV）の色素を塩化エチレンに溶解した溶液を
スピナー塗布して厚さ約1000Åの記録層を形成した。A solution in which the dye of the following formula (IV) was dissolved in ethylene chloride was applied by spinner to form a recording layer having a thickness of about 1000Å.
一方、カード基材として厚さ0.3mmの白色硬質塩化ビ
ニルフィルムに熱可塑性接着剤（ダイセル化学工業、プ
ラクセルＨ−７）を介して、上記光記録材料の記録層と
接する様にして、重ね合わせ、表面温度120℃の熱ロー
ルにて圧着して貼り合わせた。その後、透明基材表面を
シリコン系表面硬化剤により処理して、光カードを製造
した。 On the other hand, as a card substrate, a 0.3 mm thick white hard vinyl chloride film was overlaid with a thermoplastic adhesive (Daicel Chemical Industries, Plaxel H-7) in contact with the recording layer of the above optical recording material. Then, they were bonded by pressure bonding with a hot roll having a surface temperature of 120 ° C. Then, the surface of the transparent substrate was treated with a silicon-based surface hardening agent to manufacture an optical card.
次に、この様にして得られた光カードに、透明基材側
から、波長790nmの半導体レーザービームをトラック溝
をガイドとして、色素薄膜層の表面に5mWでビーム径３
μｍに集光してパルス幅10μsecで照射した。この色素
薄膜層には、レーザービームの照射による該色素薄膜層
の劣化及び該色素薄膜層の変形によって直径３μｍの円
形状の記録ピットが形成された。Next, a semiconductor laser beam with a wavelength of 790 nm was used as a guide on the surface of the dye thin film layer from the transparent substrate side to the optical card thus obtained, and a beam diameter of 3 m was applied to the surface of the dye thin film layer.
The light was focused to a size of μm and irradiated with a pulse width of 10 μsec. A circular recording pit having a diameter of 3 μm was formed on the dye thin film layer due to deterioration of the dye thin film layer due to laser beam irradiation and deformation of the dye thin film layer.
実施例３ 透明樹脂基板として、厚さ0.4mmのポリメチルメタア
クリレートのキャスティング板に、前記Ｄ−１と同じ式
（II）に示されるポリメチン系色素のジアセトンアルコ
ール溶液の濃度を種々に変えてバーコート法（塗布速度
一定）により塗布し、厚さ1000Åの光記録層を形成した
透明基板を得た。Example 3 As a transparent resin substrate, a polymethylmethacrylate casting plate having a thickness of 0.4 mm was used, while varying the concentration of the diacetone alcohol solution of the polymethine dye represented by the same formula (II) as that of D-1. Coating was carried out by the bar coating method (constant coating speed) to obtain a transparent substrate on which an optical recording layer having a thickness of 1000 Å was formed.
カード基材として、厚さ0.3mmのポリメチルメタクリ
レートのキャスティング板を用い、エチレン−酢酸ビニ
ル共重合体から成る厚さ50μｍの熱可塑性接着剤のドラ
イフィルムを介在して、上記の光記録層付き透明基板を
光記録層と接着剤とが接する様に重ね合わせ、表面温度
110℃の熱ロールにて圧着して貼り合わせ、打抜いて光
カードを作成した。A 0.3 mm thick polymethylmethacrylate casting plate was used as the card substrate, and a 50 μm thick thermoplastic adhesive dry film made of an ethylene-vinyl acetate copolymer was used to interpose the above optical recording layer. The transparent substrate is placed so that the optical recording layer and the adhesive are in contact, and the surface temperature is
An optical card was prepared by pressing and bonding with a hot roll of 110 ° C and punching.
得られた光カードの波長830nmに対する透過率、反射
率を測定した。また、光記録層を形成した透明基板上の
光記録層の膜厚を測定する目的で、ガラス基板上に前記
のポリメチン系色素を塗布したものの透過率と膜厚（タ
リステップによる測定）の関係を求めた。これにより、
各膜厚に対して波長830nmに対する透過率と反射率のグ
ラフが得られた。結果は第４図に示したグラフである。The transmittance and reflectance of the obtained optical card at a wavelength of 830 nm were measured. In addition, for the purpose of measuring the film thickness of the optical recording layer on the transparent substrate on which the optical recording layer is formed, the relationship between the transmittance and the film thickness (measured by Taristep) of the glass substrate coated with the above polymethine dye. I asked. This allows
A graph of transmittance and reflectance at a wavelength of 830 nm was obtained for each film thickness. The result is the graph shown in FIG.
得られた光カード（但し、トラック溝なし）に波長83
0nm、レーザーパワー3.9mW、ビーム径4.5μｍφ、80μ
ｓのパルス幅で、光カードを60mm/sの速度で駆動させて
記録を行なった結果、光記録層には、レーザービームの
照射による光記録層の劣化と変形とによって記録ピット
が形成された。The obtained optical card (but without track groove) has a wavelength of 83
0nm, laser power 3.9mW, beam diameter 4.5μmφ, 80μ
Recording was performed by driving the optical card at a speed of 60 mm / s with a pulse width of s, and as a result, recording pits were formed in the optical recording layer due to deterioration and deformation of the optical recording layer due to laser beam irradiation. .
この記録ピットは、コントラスト比として、透過率10
〜30％のサンプルに対して、0.62〜0.40（単調減少関
係）を得た。但し、コントラスト比とは、未記録部の反
射率に対する記録部の反射率の比を１から差し引いた値
である。This recording pit has a transmittance of 10 as a contrast ratio.
We obtained 0.62-0.40 (monotonically decreasing relationship) for ~ 30% samples. However, the contrast ratio is a value obtained by subtracting 1 from the ratio of the reflectance of the recorded portion to the reflectance of the unrecorded portion.
実施例４ 透明基板およびカード基板として、厚さ0.4mmおよび
0.3mmのポリカーボネートの溶融押し出し板を使用し、
色素として前記Ｄ−12式に示されるポリメチン系色素を
使用した以外は実施例２と全く同様にして光カードを作
成した。Example 4 As a transparent substrate and a card substrate, a thickness of 0.4 mm and
Using a 0.3 mm polycarbonate melt extrusion plate,
An optical card was prepared in exactly the same manner as in Example 2 except that the polymethine dye represented by the formula D-12 was used as the dye.
得られた光カードの透過率、反射率と膜厚の関係は第
４図とほぼ同様の結果を得たが、最大反射率は実施例１
のものが14.5％であったのに対し、本実施例においては
13.5％であった。The relationship between the transmittance and the reflectance of the obtained optical card and the film thickness was almost the same as that in FIG. 4, but the maximum reflectance was the same as in Example 1.
In contrast to that of 14.5% in the present example,
It was 13.5%.
一方、コントラスト比については、透過率10〜30％の
サンプルに対して、0.73〜0.52（単調減少関係）を得
た。On the other hand, regarding the contrast ratio, 0.73 to 0.52 (monotonically decreasing relationship) was obtained for samples with a transmittance of 10 to 30%.
実施例５ 厚さ0.4mmの透明ポリメチルメタクリル基板（日東樹
脂（株）製、クラレックスＳ）上に、実施例２と同じ光
記録材料（ガラス転移点120℃）を溶剤塗布法により0.1
μｍの厚さに塗布して有機記録層を形成した。Example 5 The same optical recording material (glass transition point 120 ° C.) as in Example 2 was applied by a solvent coating method on a transparent polymethylmethacrylate substrate (Clarex S, manufactured by Nitto Plastic Co., Ltd.) having a thickness of 0.4 mm by a solvent coating method.
The coating was applied to a thickness of μm to form an organic recording layer.
次いで、有機記録層と、前記基板と同様のポリメチル
メタクリル保護基板との間に、実施例３と同じ接着剤を
介在せしめてドライフィルムラミネーターを用いて、1.
5kg/cm2の圧力をかけて100℃で接着した。接着の前後で
光記録層の反射率の変化はなかった。Then, the same adhesive as in Example 3 was interposed between the organic recording layer and the polymethylmethacrylate protective substrate similar to the above substrate, and a dry film laminator was used to 1.
Bonding was performed at 100 ° C. by applying a pressure of 5 kg / cm 2 . There was no change in the reflectance of the optical recording layer before and after adhesion.
この様にして得られたカードを60mm/secの速さで一定
方向に移動させながら、830nmの波長のレーザー光をビ
ーム径4.5nmφに集光して200μsecのパルス幅で照射し
たところ、該記録層には記録層の劣化及び変形によって
記録ピットが形成された。While moving the card thus obtained in a fixed direction at a speed of 60 mm / sec, a laser beam with a wavelength of 830 nm was focused on a beam diameter of 4.5 nmφ and irradiated with a pulse width of 200 μsec, Recording pits were formed in the layer due to deterioration and deformation of the recording layer.
そして記録部と未記録部のコントラストとして0.77が
得られた。Then, 0.77 was obtained as the contrast between the recorded portion and the unrecorded portion.
実施例６ 厚さ0.4mmの透明ポリカーボネートの基板（帝人化
（株）製、パンライト202）上に前記Ｄ−13式で表わさ
れる色素を溶剤塗布法により0.1μｍの厚さに塗布し
た。Example 6 On a substrate of transparent polycarbonate having a thickness of 0.4 mm (manufactured by Teijin Chemicals Co., Ltd., Panlite 202), the dye represented by the formula D-13 was applied to a thickness of 0.1 μm by a solvent application method.
次いで、前記基板と同じポリカーボネートの保護基板
との間に実施例１と同じ熱可塑性接着剤を介在してドラ
イフィルムラミネーターで1.5kg/cm2の圧力を加えて110
℃で接着した。接着の前後で実施例５と同様に反射率の
変化がなかった。Then, the same thermoplastic adhesive as in Example 1 was interposed between the substrate and the same polycarbonate protective substrate, and a pressure of 1.5 kg / cm 2 was applied using a dry film laminator.
Bonded at ° C. Similar to Example 5, the reflectance did not change before and after adhesion.
実施例５と同様に記録したところ記録層には、レーザ
ービームの照射による該記録層の劣化と変形とによって
記録ピットが形成され、この記録ピットを再生したとこ
ろコントラストとして0.83が得られた。When recording was performed in the same manner as in Example 5, recording pits were formed in the recording layer due to deterioration and deformation of the recording layer due to irradiation of the laser beam, and when the recording pit was reproduced, a contrast of 0.83 was obtained.
実施例７ 実施例６と同じ基板、保護基板を用い、接着剤とし
て、実施例２と同じ接着剤を用いて実施例６と同様に接
着を行なった。反射率の変化は接着の前後でなかった。Example 7 The same substrate and protective substrate as in Example 6 were used, and the same adhesive as in Example 2 was used as the adhesive to perform adhesion in the same manner as in Example 6. The change in reflectance was not before and after adhesion.
実施例５と同様に記録したところ記録層には、レーザ
ービームの照射による該記録層の劣化と変形とによって
記録ピットが形成され、この記録ピットを再生したとこ
ろコントラストとして0.82が得られた。When recording was performed in the same manner as in Example 5, recording pits were formed on the recording layer due to deterioration and deformation of the recording layer due to irradiation of the laser beam, and when the recording pit was reproduced, a contrast of 0.82 was obtained.
［発明の効果］ 本発明に係る光記録方法は、レーザービームの照射に
よって記録層を変形せしめて情報の記録を行ない得る記
録層に保護層が密着してなる光記録媒体に対する新たな
記録モードを見出したものであり、この記録モードによ
れば上記したような光記録媒体に対して効率よく高品質
の情報記録を行なうことができるという効果がある。EFFECTS OF THE INVENTION The optical recording method according to the present invention provides a new recording mode for an optical recording medium in which a protective layer is in close contact with a recording layer capable of recording information by deforming the recording layer by irradiation of a laser beam. The present invention has been found out, and according to this recording mode, there is an effect that high-quality information recording can be efficiently performed on the above-described optical recording medium.
第１図は本発明の光カードの一実施態様を示す断面図、
第２図は他の例を示す断面図、第３図は本発明の光カー
ドの他の実施態様を示す断面図、第４図はポリメチン系
有機色素を使用した光記録層の反射率、透過率と膜厚の
関係を示すグラフ、第５図は本発明の光カードのさらに
他の実施態様を示す断面図、第６図は記録時のピットを
形成した状態を示す部分断面図および第７図は第５図の
光カードを製造する際のラミネート工程を示す説明図で
ある。 １……透明基材、1a……透明基板 ２……光記録層、３……接着層 3a……熱可塑性接着剤、４……カード基材 ５……ハードコート層、６……トラック溝 6a……トラック溝部、７……光記録材料 ８……保護基材、９……ピット 10……有機記録層FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of an optical card of the present invention,
2 is a cross-sectional view showing another example, FIG. 3 is a cross-sectional view showing another embodiment of the optical card of the present invention, and FIG. 4 is a reflectance and transmission of an optical recording layer using a polymethine organic dye. FIG. 5 is a cross-sectional view showing still another embodiment of the optical card of the present invention, FIG. 6 is a partial cross-sectional view showing a state in which pits are formed during recording, and FIG. The figure is an explanatory view showing a laminating step in manufacturing the optical card of FIG. 1 ... Transparent substrate, 1a ... Transparent substrate 2 ... Optical recording layer, 3 ... Adhesive layer 3a ... Thermoplastic adhesive, 4 ... Card substrate 5 ... Hard coat layer, 6 ... Track groove 6a: track groove portion, 7: optical recording material 8: protective base material, 9: pit, 10: organic recording layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小口 芳弘 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キ ヤノン株式会社内 (72)発明者 宮川 昌士 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キ ヤノン株式会社内 (72)発明者 芳野 斉 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キ ヤノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−96538（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−214995（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−214996（ＪＰ，Ａ) 実開 昭60−34663（ＪＰ，Ｕ) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Yoshihiro Oguchi 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (72) Inventor Masashi Miyagawa 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Incorporated (72) Inventor Hitoshi Yoshino 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inc. (56) Reference JP 61-96538 (JP, A) JP 60-214995 (JP) , A) JP-A-60-214996 (JP, A) Actual development 60-34663 (JP, U)
Claims (3)
形させることで情報記録の可能な有機色素記録層、及び
保護層がこの順番で積層され、且つ該有機色素記録層が
該基板及び該保護層に密着している構成を有する光記録
媒体に、該有機色素の吸収波長域内に発振波長を有する
半導体レーザービームを照射して、該記録層を変形せし
めると共に劣化させて該記録層に情報の記録を行なうこ
とを特徴とする光記録方法。1. An organic dye recording layer capable of recording information by being deformed by irradiation with a laser beam and a protective layer are laminated in this order on a substrate, and the organic dye recording layer is the substrate and the protective layer. A semiconductor laser beam having an oscillation wavelength within the absorption wavelength range of the organic dye is applied to an optical recording medium having a structure in which the recording layer is deformed and deteriorated to record information on the recording layer. An optical recording method comprising:
ポリメチン色素である特許請求の範囲第１項記載の光記
録方法。 一般式（Ｉ） （式中R1,R2,R3およびR4は、各々水素原子、アルキル
基、置換アルキル基、環式アルキル基、アルケニル基、
アラルキル基、置換アラルキル基、アリール基、置換ア
リール基、スチリル基、置換スチリル基、複素環基又は
置換複素環基を示し、ｎは0,1又は２、Ｘ はアニオン
基を示す。）2. The organic dye is represented by the following general formula (I).
The optical recording according to claim 1, which is a polymethine dye.
Recording method. General formula (I)(Where R1, R2, R3And RFourAre hydrogen atom and alkyl
Group, substituted alkyl group, cyclic alkyl group, alkenyl group,
Aralkyl group, substituted aralkyl group, aryl group, substituted aralkyl group
Reel group, styryl group, substituted styryl group, heterocyclic group or
Represents a substituted heterocyclic group, n is 0, 1 or 2, X Is anion
Represents a group. )
下の温度で融解する熱可塑性接着剤層を含む特許請求の
範囲第１項記載の光記録方法。3. The optical recording method according to claim 1, wherein the protective layer includes a thermoplastic adhesive layer that melts at a temperature equal to or lower than a temperature at which the recording layer thermally deteriorates.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20586486 | 1986-09-03 | ||
| JP61-205864 | 1986-09-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63225938A JPS63225938A (en) | 1988-09-20 |
| JP2548570B2 true JP2548570B2 (en) | 1996-10-30 |
Family
ID=16513983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62156602A Expired - Fee Related JP2548570B2 (en) | 1986-09-03 | 1987-06-25 | Optical recording method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2548570B2 (en) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6034663U (en) * | 1983-08-15 | 1985-03-09 | ソニー株式会社 | optical information card |
| JPH0724118B2 (en) * | 1984-04-10 | 1995-03-15 | 大日本印刷株式会社 | Light card |
| JPH0724117B2 (en) * | 1984-04-10 | 1995-03-15 | 大日本印刷株式会社 | Light card |
| JPS6196538A (en) * | 1984-10-16 | 1986-05-15 | Tdk Corp | Optical card |
-
1987
- 1987-06-25 JP JP62156602A patent/JP2548570B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63225938A (en) | 1988-09-20 |
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