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JP2548423B2 - ガラス製パネル - Google Patents

ガラス製パネル

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JP2548423B2
JP2548423B2 JP2089987A JP8998790A JP2548423B2 JP 2548423 B2 JP2548423 B2 JP 2548423B2 JP 2089987 A JP2089987 A JP 2089987A JP 8998790 A JP8998790 A JP 8998790A JP 2548423 B2 JP2548423 B2 JP 2548423B2
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弘一 鈴木
和夫 芝岡
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
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    • C03C3/00Glass compositions
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    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
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    • C03C21/00Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • C03C21/001Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
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  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は陰極線管、プラズマディスプレイパネル等の
ごとき電子線が照射される画像表示装置のガラス製パネ
ル、とりわけ電流量が高い電子線がガラスに照射される
陰極線管に好適に用いられるガラス製パネルに関する。
[従来の技術] 現在、陰極線関、プラズマディスプレイを用いた表示
装置は、その輝度の向上のため、電子線の加速電圧や電
流量を上げたり、装置を軽量にするために、ガラス製パ
ネルの肉厚を薄くする要求が生じてきている。
このため、ガラス製パネルとしては、電子線が照射さ
れることにより生ずるガラスの着色が少なく、かつ、ガ
ラス製パネルの肉厚が薄くても、ガラス製パネルの強度
が大きく、かつ高電圧の印加に対しても絶縁破壊が生じ
にくいという性能が必要である。一方、ガラス製パネル
に成形するためのガラス素板が大量に得られるというこ
とが重要である。このために、ガラスの重量を増加させ
るPbOを含有しないガラス組成が種々検討されている。
すならち、PbOを含有しないガラス素板を加熱成形後、
耐電子線照射に対して着色が抑制され、かつ、ガラス表
面のナトリウムイオンかカリウムイオンに置換してガラ
ス表面に圧縮層を設けることにより機械的強度を増加さ
せることができるガラス素板からガラス製パネルを成形
加工するとが検討されている。前記したガラス製パネル
においては、ガラス組成のとりわけNa2O、K2O、Li2Oの
含有量および、ガラス素板の粘度特性が重要であり、特
開昭62−288134号には、ガラス組成としてSrOとBaOを含
みNa2OとK2Oの含有量の比を調整したガラス製パネルが
開示されている。しかし、このガラス製パネルは、K2O
の含有量が多いので、電気絶縁性は良好であるが、ガラ
スをカリウムイオンを含む溶融塩中に漬けてガラス中の
ナトリウムイオンをカリウムイオンに置換するイオン交
換処理によって機械的強度を大きくすることができず、
また電子線照射による着色を抑制するのが十分でない。
さらに、このガラス製パネルの素板は、溶融ガラス素地
をフロート法で直接平板上に成形することができず、ガ
ラスゴブをプレス成形し、さらに表面に研磨するという
工程が必要である。
また、特開昭62−153143号に開示されているガラス素
板は、フロート法で直接平板上に成形できるが、このガ
ラス素板を用いたガラス製パネルは電気絶縁性は大きい
が、イオン交換処理をおこなっても、耐電子線着色性を
良好にし、機械的強度を大きくすることができないとい
う問題点がある。
また、特開昭63−195146号に開示されているガラス製
パネルは、フロート法で成形された市販の窓ガラス用の
ソーダライムシリカ組成のガラス素板を用い、カリウム
溶融塩中に漬けるイオン交換処理により表面にカリウム
イオンに富む表面層を設けて耐電子線照射による着色性
と機械的強度を確保したものであるが、ガラス容器の電
気絶縁性が小さいために、ガラス性パネルの一部分に局
部的に高電圧がかかった場合に、ガラス製パネルの絶縁
破壊が生ずるという問題点があった。
[発明が解決しようとする課題] 本発明の目的は、前記した従来の技術が有する問題点
を解決するためになされたもので、電子線照射により着
色が抑制され、かつ、イオン交換処理をしてガラスの表
面に圧縮応力層を形成することにより機械的強度が確保
でき、かつガラス製パネル自体の電気絶縁性が大きく、
したがって高電圧が印加されても電気絶縁破壊が生じに
くいガラス容器であって、さらにガラス容器に成形する
ためのガラス素板が、溶融ガラス素地から直接フロート
法で成形し得るという特徴をもつガラス製パネルを提供
するものである。
[課題を解決するための手段] 本発明は、下記組成のガラス素板を加熱成形して得ら
れるガラス製パネルであって、前記ガラス SiO2 64 〜75 重量% Al2O3 1.5〜2.0重量% MgO 0 〜5.0重量% CaO 6.5〜9.0重量% Li2O 0.5〜2.5重量% Na2O 7.0〜12 重量% K2O 1.6〜5.0重量% SrO+BaO+ZrO2 0 〜10 重量% CeO2 0 〜0.5重量% 製パネルの少なくとも電子線が照射される部分の表面の
ナトリウムイオンの一部がカリウムを含む溶融塩中での
イオン交換処理によりカリウムイオンに置換され、前記
表面層のナトリウムイオンとカリウムイオンのモル比率
がNa2O/(Na2O+K2O)で表して0.3〜0.75とした電子線
照射による着色を防止し、かつ、電気抵抗率を1×1010
Ωcm以上としたガラス製パネルである。本発明のガラス
容器のガラス中に含まれるNa2O、K2O、Li2O含有量は、
電子線の照射による着色が抑制され、イオン交換処理に
より圧縮応力歪が大きい表面層が形成され、かつガラス
製パネル全体の電気抵抗率を1×1010Ωcm以上となるよ
うに定められている。また、同時にフロート法で直接平
板状に成形することができるように定められている。Na
2O含有量が7%以下では、カリウムイオンとのイオン交
換処理によりガラス表面近傍に発生する層の圧縮応力が
小さくなり、ガラス製パネルの強度を大きくすることが
できないとともに、ガラス素板を成形するに際しては粘
度が高くなりすぎ、溶融、成形が困難となる。また、Na
2O含有量が、12%以上の場合には、電子線照射による着
色が顕著となる。K2O含有量量が1.6%以下の場合には、
電子線照射による着色が顕著になるとともに、ガラスの
電気抵抗が小さくなり、ガラス製パネルに局部的に高電
圧が印可された場合、絶縁破壊が発生しやすくなる。ま
た、K2Oの含有量が、5%以上の場合には、イオン交換
処理によるガラス表面に発生する層の圧縮応力を大きく
することができず、したがって、ガラス製パネルの強度
を大きくすることができないとともに、ガラス素板を成
形するに際しては粘度が高くなりすぎ、溶融、成形が困
難となる。
また、本発明のガラス製パネルの少なくとも電子線が
照射される部分のガラス表面には、電子線が照射され表
面から侵入する深さについて、イオン交換処理によりカ
リウムイオンが内部のガラスより富む表面層が形成さ
れ、前記表面層のNa2OとK2Oの含有比率はモル%でNa2O/
(Na2O+K2O)で表して0.3〜0.75になるようにされる。
上記の式で表される値が0.3より小さいか、0.75を越え
る場合は、電子線が照射されるとNa2OやK2Oのアルカリ
成分の移動がガラス中で生じやすく、電子線の照射によ
る着色を抑制することができず、ガラス製パネルの光透
過率が低下して、発光を効率よく外部に取り出すことが
できない。
また、上記した範囲内のNa2OおよびK2Oに、Li2Oが添
加されることにより、電子線照射により着色がさらに抑
制されるとともに、ガラスの電気抵抗率を1×1010Ωcm
以上の高い抵抗率にすることができる。Li2Oの含有量が
0.5%より少ないと、電子線照射による着色を抑制する
効果が小さく、2.5%を越えると低温度域(500〜800
℃)でガラスの粘度が小さくなり、ガラス素板を成形す
る上で好ましい。
SiO2は、ガラス形成成分であり、含有量が64%以下で
はガラスの粘度が小さくなりすぎ、また、75%を越える
と粘度が高くなりすぎ、ガラス素板の溶解、成形が困難
となる。
Al2O3は、含有量が1.5%以上では、ガラスの化学的耐
久性が劣り、2%以上では粘度が高くなり、ガラス素板
の溶解が困難となる。さらに、Al2O3の含有量を1.5%以
上にすることにより、化学的耐久性を向上させるととも
にガラスパネル全体の電気抵抗率を大きくする。
CaOの含有量が6.5%以下では、ガラスの電気抵抗が低
下し、ガラスに高電圧が印加された場合に、絶縁破壊を
起こし易くなり、また、高温での粘度が高くなり、溶融
し難くなるので好ましくない。9%以上では、ガラスの
粘度が、低温度域(500〜800℃)で高くなり、高温度域
(800〜1500℃)で低くなりすぎ、フロート法で素板を
成形するときに、フロートの溶融錫のバスでの温度分布
のばらつきにより、ガラスの厚みのばらつきが生じやす
い。
MgOは、CaOと共に使用されるが、含有量が5%以上で
は、高温域(800〜1500℃)での粘度を上昇させ、ガラ
ス素地の溶融を困難にするので好ましくない。高い加速
電圧で電子線がガラスに照射される場合には、発生する
X線が外部に出ないようにするために、SrO、BaO、ZrO2
等を、10%を越えない範囲内でX線によるガラスの着色
を抑制するため、CeO2、TiO2を、それぞれ0.5%を越え
ない範囲で添加しても良い。この他に、Fe2O3等がガラ
ス原料の不純物としてガラス中に含まれていたり、ガラ
スの着色のため、NiO、CoO、Cr2O3、Nd2O3、MnO2等の着
色成分を添加することができる。
本発明のガラス製パネルをガラス素板から成形加工す
る方法としては、公知の方法たとえば特開平1−122932
号に記載された凸金型にガラス素板を載置し、周辺部に
より高温に加熱してガラス製パネルを製造する方法を用
いることができる。
本発明のガラス製パネルは、所定形状に成形加工され
た後、430℃ないし510℃のカリウムイオンを含む溶融塩
中に、浸漬し、成形加工したガラス製パネルの表面のナ
トリウムイオンの一部をカリウムイオンに、イオン交換
により置換することにより得られる。イオン交換処理温
度が430℃より低い場合には、イオン交換に要する時間
が長くなり、また、510℃より高い場合には、イオン交
換処理により生ずる表め圧縮応力が緩和し、強化の効果
が得られないので好ましくない。
溶融塩の陽イオンがナトリウムイオンとカリウムイオ
ンからなる場合、ナトリウムイオンとカリウムイオンの
モル比Na+/K+は0.25〜0.75の範囲にするのが好ましい。
上記した範囲外では、イオン交換処理によりガラス製パ
ネルの表面層のNa2OとK2Oのモル比は、Na2O/(Na2O+K2
O)で表して0.3〜0.75にすることができなくなるので好
ましくない。
イオン交換処理は上記した温度範囲で、温度と時間と
の条件を適当に選んでおこなわれる。通常ガラス製パネ
ルと溶融塩との接触時間は、30〜300分に調整されるの
が好ましい。30分より短い場合は、ナトリウムイオンと
カリウムイオン交換が充分におこなわれず、300分より
長いと上記したNa2O/(Na2O+K2O)で表されるガラス製
パネルの表面層の組成は0.3〜0.75にすることが困難と
なる。さらに、陽イオンとしてカリウムイオンのみから
なる溶融塩を用いる場合は、成形されたガラスの表面に
カリウムイオンの層を形成し、その後、例えば大気中で
加熱してガラス中のカリウムイオンとナトリウムイオン
を相互拡散させ、前記成形されたガラスの表面層のNa2O
/(Na2O+K2O)で表されるモル比を、0.3〜0.75にする
ことができる。表面層の厚みは、使用される電子線の加
速電圧が10から30KVであるときは、1.5〜6μmに調整
される。
[作用] 本発明のガラス製パネルは、ガラス中のNa2O、K2O、L
i2Oの含有量が調整されて、電気絶縁性が大きくなって
いる。これにより、電子線が照射されてガラス製パネル
に高電圧が印加されても、ガラス製パネルは絶縁破壊が
生じにくい。また本発明のガラス製パネルは、少なくと
も電子線が照射される部分に設けられたガラスの表面近
傍には、圧力応力歪があり、かつ、Na2OとK2Oの含有率
が調整された表面層が設けられているので、電子線が照
射されていても着色が生じにくく、かつ、機械的強度が
大きい。
[実施例] 本発明を以下に実施例に基いて説明する。第1図は、
本発明のガラス製パネルの一実施例の一部断面図であ
る。
実施例 第1表のサンプル1の欄に示すガラス組成のガラスを
白金るつぼで溶融し、溶融したガラス素地を金属板の上
に流し出し、冷却後、5mmの厚みのガラス板に研磨し
た。このガラス板を凸形に金型上にのせ電気炉内で周辺
部分をより高温に加熱して、画像表示部が表方形でその
対角の長さが15cmのガラス容器の形をしたガラス製パネ
ルを製作した。このガラス製パネルについて体積抵抗率
の対数logρ、電子線照射後の透過率の低下量△T(△
T=照射前の透過率−照射後の透過率)を測定した。ま
た、硝酸カリウム溶融塩中でのイオン交換処理をおこな
い、その後、450℃で3時間熱処理をして得られた別の
ガラス板について表面層の圧縮応力を測定した。結果を
第1表に示す。体積抵抗率は、150℃での測定値であ
り、電子線照射後の透過率の低下量△Tは、真空中で10
kv、40μA/cm2電子を100時間照射後、波長400nmでの光
の透過率の低下量で示してある。表面圧縮応力の測定
は、偏光顕微鏡を用いて行った。サンプル1と同じよう
にして、ガラス組成の異なるサンプル2〜13を製作し、
その結果得られた特性をまとめて第1表および第3表に
示す。
[従来例] 実施例と同じようにして、前記した従来技術で開示さ
れているガラス組成を有するガラス製パネルおよびガラ
ス板を製作した。得られた比較サンプルの体積抵抗率の
対数logρ、電子線照射後の透過率の低下量△T(△T
=照射前の透過率−照射後の透過率)硝酸カリウム溶融
塩中でのイオン交換処理により得られた表面層の圧縮応
力を測定し、結果を第2表および第4表に示した。体積
抵抗率は、150℃での測定値であり電子線照射後の透過
率の低下量△Tは、真空中で10kv、 40μA/cm2電子を100時間照射後、波長400nでの 透過率の低下量を示してある。表面圧縮応力の測定は、
偏光顕微鏡を用いて行った。
以上から分かるように、本発明の実施例は、絶縁破壊
が生じない体積抵抗率が目安である1×1010Ωcmより大
きい電気絶縁性を有し、かつ、機械的強度が40kg/mm2
上と大きく、さらに電子線が照射されても透過率の低下
量が小さいガラス製パネルであることが分かる。従来技
術のガラス製パネルより、機械的強度の指標になる表面
層の圧縮応力および耐電子線着色性が改善されているこ
とが分かる。
[発明の効果] 本発明のガラス製パネルは、電子線が照射される画像
表示装置に使用されるに際しては、ガラスの表面に、電
子線照射により着色が生じるのを抑制する圧縮応力層が
形成されているので、発光を外部に効率よく取り出せ
る。また、外部からの機械的な衝撃に対して強いので、
ガラスの厚みを薄くすることができ、画像表示装置を軽
量化するとができる。また、本発明のガラス製パネル
は、高電圧が印加されても、ガラスの体積抵抗率が大き
いので絶縁破壊が生じにくい。また本発明のガラス製パ
ネルを成形加工するためのガラス素板は、フロート法に
より直接溶融素地から成形できるので、大量のガラス素
板を安価に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明のガラス製パネルの一実施例の一部断
面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01J 29/86 H01J 29/86 Z

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記組成のガラス板を加熱成形して得られ
    るガラス製パネルであって、 SiO2 64 〜75 重量% Al2O3 1.5〜2.0重量% MgO 0 〜5.0重量% CaO 6.5〜9.0重量% Li2O 0.5〜2.5重量% Na2O 7.0〜12 重量% K2O 1.6〜5.0重量% SrO+BaO+ZrO2 0 〜10 重量% CeO2 0 〜0.5重量% 前記ガラス製パネルの少なくとも電子線が照射される
    部分の表面のナトリウムイオンの一部がカリウムを含む
    溶融塩中でのイオン交換処理によりカリウムイオンに置
    換され、前記表面層のナトリウムイオンとカリウムイオ
    ンのモル比率がNa2O/(Na2O+K2O)で表して0.3〜0.75
    とし、かつ、電気抵抗率を1×1010Ωcm以上とした電子
    線照射による着色を防止したガラス製パネル。
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