JP2537540B2 - 単量体組成物 - Google Patents
単量体組成物Info
- Publication number
- JP2537540B2 JP2537540B2 JP63178184A JP17818488A JP2537540B2 JP 2537540 B2 JP2537540 B2 JP 2537540B2 JP 63178184 A JP63178184 A JP 63178184A JP 17818488 A JP17818488 A JP 17818488A JP 2537540 B2 JP2537540 B2 JP 2537540B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- monomer
- refractive index
- high refractive
- vinyl
- benzothiazole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000178 monomer Substances 0.000 title claims description 45
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 22
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 31
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 31
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 5
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- -1 2 -(M-Vinylphenylthio) benzothiazole Chemical compound 0.000 description 21
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 16
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 2,2-dibromoethenylbenzene Chemical compound BrC(Br)=CC1=CC=CC=C1 CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GIAOMYQEFZVJFD-UHFFFAOYSA-N 2-[(3-ethenylphenyl)methylsulfanyl]-1,3-benzothiazole Chemical compound C=CC1=CC=CC(CSC=2SC3=CC=CC=C3N=2)=C1 GIAOMYQEFZVJFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AHWAAQOJHMFNIV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxy-2-ethylhexanoic acid Chemical compound CCCCC(CC)(C(O)=O)OOC(C)(C)C AHWAAQOJHMFNIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UHPCXVVTVXFZMI-UHFFFAOYSA-N C=CC1=CC(=CC(=C1)CSC2=NC3=CC=CC=C3O2)Br Chemical compound C=CC1=CC(=CC(=C1)CSC2=NC3=CC=CC=C3O2)Br UHPCXVVTVXFZMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000986 disperse dye Substances 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEZWIIUNRMEKGW-UHFFFAOYSA-N (2-bromophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1Br OEZWIIUNRMEKGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1 QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYKVVLTXXXVRT-UHFFFAOYSA-N (4-chlorobenzoyl) 4-chlorobenzenecarboperoxoate Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)OOC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OXYKVVLTXXXVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVPKLOPETWVKQD-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-tribromoethenylbenzene Chemical compound BrC(Br)=C(Br)C1=CC=CC=C1 JVPKLOPETWVKQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,6-pentaoxepane-5,7-dione Chemical compound O=C1OOOOC(=O)O1 BEQKKZICTDFVMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(4-methoxyphenyl)ethanamine;hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC(OC)=CC=C1CC(N)C1=CC=C(OC)C=C1 ROLAGNYPWIVYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLKQHBOKULLWDQ-UHFFFAOYSA-N 1-bromonaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(Br)=CC=CC2=C1 DLKQHBOKULLWDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXYATXAWBNDJDP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethenylphenyl)-1,3-benzoxazole Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2O1 KXYATXAWBNDJDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFBKNAPVRALHIK-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethenylphenyl)sulfanyl-1,3-benzothiazole Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1SC1=NC2=CC=CC=C2S1 JFBKNAPVRALHIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHQVCQDWGSXTFE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoxycarbonyloxyethoxy)ethyl prop-2-enyl carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCCOCCOC(=O)OCC=C JHQVCQDWGSXTFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VONGGQNSLGJWNV-UHFFFAOYSA-N 2-(4-ethenylphenyl)sulfanyl-1,3-benzothiazole Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1SC1=NC2=CC=CC=C2S1 VONGGQNSLGJWNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBFVZLNCMLGDCL-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-ethenylphenyl)methylsulfanyl]-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1CSC1=NC2=CC=CC=C2O1 HBFVZLNCMLGDCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFEYQLCVFGSCDH-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-9-(4-bromophenyl)carbazole Chemical compound C1=CC(Br)=CC=C1N1C2=CC(Br)=CC=C2C2=CC=CC=C21 LFEYQLCVFGSCDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFPBWZOKGZKYRE-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylperoxypropane Chemical group CC(C)OOC(C)C NFPBWZOKGZKYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZNOQFKDVAUGDH-UHFFFAOYSA-N 9-(2-ethenylphenyl)carbazole Chemical class C=CC1=CC=CC=C1N1C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 VZNOQFKDVAUGDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPPWLNAOSSMFHW-UHFFFAOYSA-N 9-(4-ethenylphenyl)carbazole Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1N1C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 IPPWLNAOSSMFHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEGPDDUGXAGPQR-UHFFFAOYSA-N 9-[(2-ethenylphenyl)methyl]carbazole Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1CN1C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 YEGPDDUGXAGPQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKGAQBRFRDFECY-UHFFFAOYSA-N 9-[(3-ethenylphenyl)methyl]carbazole Chemical compound C=CC1=CC=CC(CN2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C32)=C1 AKGAQBRFRDFECY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHIZBKTYLXRSOL-UHFFFAOYSA-N 9-[(4-ethenylphenyl)methyl]carbazole Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1CN1C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 NHIZBKTYLXRSOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSASOSOHKYBWFW-UHFFFAOYSA-N C=CC1=C(C(=C(C=C1)Br)CSC2=NC3=CC=CC=C3S2)Br Chemical compound C=CC1=C(C(=C(C=C1)Br)CSC2=NC3=CC=CC=C3S2)Br PSASOSOHKYBWFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZVUULOEZDXJLV-UHFFFAOYSA-N C=CC1=CC(=C(C=C1)CSC2=NC3=C(S2)C=CC(=C3)Br)Br Chemical compound C=CC1=CC(=C(C=C1)CSC2=NC3=C(S2)C=CC(=C3)Br)Br AZVUULOEZDXJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFYYQLXYFRYEGN-UHFFFAOYSA-N C=CC1=CC(=C(C=C1)CSC2=NC3=CC(=C(C=C3S2)Cl)Cl)Cl Chemical compound C=CC1=CC(=C(C=C1)CSC2=NC3=CC(=C(C=C3S2)Cl)Cl)Cl PFYYQLXYFRYEGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBTXGXJFQLUEOK-UHFFFAOYSA-N C=CC1=CC(=C(C=C1)CSC2=NC3=CC=CC=C3S2)Cl Chemical compound C=CC1=CC(=C(C=C1)CSC2=NC3=CC=CC=C3S2)Cl CBTXGXJFQLUEOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSHJLSKMCBVSHK-UHFFFAOYSA-N C=CC1=CC=C(C=C1)CC2=NC3=CC=CC=C3O2 Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C1)CC2=NC3=CC=CC=C3O2 OSHJLSKMCBVSHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSJSNHHPEWQNMH-UHFFFAOYSA-N C=CC1=CC=C(C=C1)CCCCCSC2=NC3=CC=CC=C3S2 Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C1)CCCCCSC2=NC3=CC=CC=C3S2 FSJSNHHPEWQNMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILVSCEKZJDHFRL-UHFFFAOYSA-N C=CC1=CC=C(C=C1)CCCSC2=NC3=CC=CC=C3S2 Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C1)CCCSC2=NC3=CC=CC=C3S2 ILVSCEKZJDHFRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBNQJGHCOCZISJ-UHFFFAOYSA-N C=CC1=CC=C(C=C1)CSC2=NC3=C(S2)C=C(C=C3)Br Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C1)CSC2=NC3=C(S2)C=C(C=C3)Br PBNQJGHCOCZISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- VSVDQVJQWXJJSS-UHFFFAOYSA-N [2,6-dibromo-4-[2-(3,5-dibromo-4-prop-2-enoyloxyphenyl)propan-2-yl]phenyl] prop-2-enoate Chemical compound C=1C(Br)=C(OC(=O)C=C)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(OC(=O)C=C)C(Br)=C1 VSVDQVJQWXJJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKRRNHGDZIXAEC-UHFFFAOYSA-N [2,6-dibromo-4-[2-[3,5-dibromo-4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl]propan-2-yl]phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=C(Br)C(OC(=O)C(=C)C)=C(Br)C=C1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(OC(=O)C(C)=C)C(Br)=C1 FKRRNHGDZIXAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- CJKWEXMFQPNNTL-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) 1,2,3,4,7,7-hexachlorobicyclo[2.2.1]hept-2-ene-5,6-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1C(C(=O)OCC=C)C2(Cl)C(Cl)=C(Cl)C1(Cl)C2(Cl)Cl CJKWEXMFQPNNTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- IKBVWGOHCLVYTA-UHFFFAOYSA-N butan-2-yl butan-2-yloxy carbonate Chemical compound CCC(C)OOC(=O)OC(C)CC IKBVWGOHCLVYTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- XJOBOFWTZOKMOH-UHFFFAOYSA-N decanoyl decaneperoxoate Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCC XJOBOFWTZOKMOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000012933 diacyl peroxide Substances 0.000 description 1
- ZFTFAPZRGNKQPU-UHFFFAOYSA-N dicarbonic acid Chemical compound OC(=O)OC(O)=O ZFTFAPZRGNKQPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- HVYCQBKSRWZZGX-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-yl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1=CC=C2C(OC(=O)C(=C)C)=CC=CC2=C1 HVYCQBKSRWZZGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 7,7-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CCCCCC(=O)OOC(C)(C)C NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高屈折率樹脂の製造に適した単量体組成物
とそれを重合して高屈折率樹脂を製造する方法に関す
る。詳しくは、高屈折率,耐候性,透明性,硬度,染色
性などに優れた高屈折率樹脂の製造に適した単量体組成
物とその高屈折率樹脂の製造方法に関する。
とそれを重合して高屈折率樹脂を製造する方法に関す
る。詳しくは、高屈折率,耐候性,透明性,硬度,染色
性などに優れた高屈折率樹脂の製造に適した単量体組成
物とその高屈折率樹脂の製造方法に関する。
従来、無機ガラスに代る合成樹脂については種々研究
されているが、欠点も多く、まだ十分に満足し得る性状
のものは得られていない。例えば、メチルメタクリレー
トやジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)
を主成分とする単量体を重合した重合体は、光学用樹脂
やレンズとして使用されているが、その屈折率は約1.50
と低い。
されているが、欠点も多く、まだ十分に満足し得る性状
のものは得られていない。例えば、メチルメタクリレー
トやジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)
を主成分とする単量体を重合した重合体は、光学用樹脂
やレンズとして使用されているが、その屈折率は約1.50
と低い。
この欠点を改良した高屈折率樹脂も種々提案されてい
る。例えば、ポリカーボネート,ポリスルホン系の高屈
折率樹脂が提案されている。これらの樹脂は、屈折率が
約1.60と高いものの、光透過率が低く、光学的均質性に
欠け、また着色するなどの問題がある。
る。例えば、ポリカーボネート,ポリスルホン系の高屈
折率樹脂が提案されている。これらの樹脂は、屈折率が
約1.60と高いものの、光透過率が低く、光学的均質性に
欠け、また着色するなどの問題がある。
このため、架橋性の高屈折率樹脂が種々提案されてい
る。例えば、特開昭61−28901号公報などにフエニル基
をハロゲン原子で置換したフエニルメタクリレートなど
ハロゲン原子を多数含んだ樹脂が提案されている。しか
し、これらの樹脂は比重が大きくなり、耐候性も劣る。
また、特開昭60−197711号公報などにα−ナフチルメタ
クリレートを主成分とする高屈折率樹脂用組成物が提案
されている。これから得られる樹脂は、高屈折率を有す
るものの、ナフチル基を有するために耐候性が劣ってい
る。
る。例えば、特開昭61−28901号公報などにフエニル基
をハロゲン原子で置換したフエニルメタクリレートなど
ハロゲン原子を多数含んだ樹脂が提案されている。しか
し、これらの樹脂は比重が大きくなり、耐候性も劣る。
また、特開昭60−197711号公報などにα−ナフチルメタ
クリレートを主成分とする高屈折率樹脂用組成物が提案
されている。これから得られる樹脂は、高屈折率を有す
るものの、ナフチル基を有するために耐候性が劣ってい
る。
以上のような先行技術の下で、光学的に用途に好適に
使用し得る樹脂、即ち、高屈折率,良好な透明性,硬
度,耐候性,重合の容易性などの諸性質のバランスのと
れた樹脂が強く望まれている。
使用し得る樹脂、即ち、高屈折率,良好な透明性,硬
度,耐候性,重合の容易性などの諸性質のバランスのと
れた樹脂が強く望まれている。
従って、本発明が解決しようとする課題は、屈折率が
1.590以上で、透明性,硬度,耐候性,染色性等に優れ
た高屈折率樹脂を提供することである。
1.590以上で、透明性,硬度,耐候性,染色性等に優れ
た高屈折率樹脂を提供することである。
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意研究
を重ねた結果、特定の構造を有するビニル単量体を含ん
だ単量体組成物を重合して得た重合体が、上記の諸性質
を具備した優れたものであることを見い出し、本発明を
完成するに至った。
を重ねた結果、特定の構造を有するビニル単量体を含ん
だ単量体組成物を重合して得た重合体が、上記の諸性質
を具備した優れたものであることを見い出し、本発明を
完成するに至った。
即ち、本発明は、 (A) 下記一般式〔I〕 で表わされるビニル単量体(以下、単量体(A)ともい
う。
う。
及び (B) 上記のビニル単量体と共重合可能な他の単量体
であって、単独重合体の屈折率が1.560以上であるラジ
カル重合可能な単量体(以下、単量体(B)ともい
う。) より主としてなる単量体組成物である。
であって、単独重合体の屈折率が1.560以上であるラジ
カル重合可能な単量体(以下、単量体(B)ともい
う。) より主としてなる単量体組成物である。
前記一般式〔I〕中、X及びZは、夫々塩素,臭素又
はヨウ素の各ハロゲン原子である。得られる高屈折率樹
脂の耐候性の観点からは、塩素原子又は臭素原子である
ことが好ましい。また、前記一般式〔I〕中、i,j及び
kは、夫々0〜4の整数から任意に選ぶことが可能であ
る。i,j及びkを大きく選択するほど高屈折率の樹脂を
得ることが可能であるが、i,j及びkが増大するに従っ
て得られる樹脂は着色し、耐候性が低下するため、i+
j+kを0〜6の整数、特に0〜4の整数とすることが
好ましい。
はヨウ素の各ハロゲン原子である。得られる高屈折率樹
脂の耐候性の観点からは、塩素原子又は臭素原子である
ことが好ましい。また、前記一般式〔I〕中、i,j及び
kは、夫々0〜4の整数から任意に選ぶことが可能であ
る。i,j及びkを大きく選択するほど高屈折率の樹脂を
得ることが可能であるが、i,j及びkが増大するに従っ
て得られる樹脂は着色し、耐候性が低下するため、i+
j+kを0〜6の整数、特に0〜4の整数とすることが
好ましい。
前記一般式〔I〕中、nは0以上の整数であるが、得
られる樹脂がより高屈折率であるためにはnは0〜5、
特に0〜2が好適である。
られる樹脂がより高屈折率であるためにはnは0〜5、
特に0〜2が好適である。
前記一般式〔I〕で示されるビニル単量体の中でも、
得られる樹脂の屈折率及び染色の容易さ等の観点から、
Rが である化合物が好ましく、さらに、Yがイオウ原子であ
る化合物がより好ましい。
得られる樹脂の屈折率及び染色の容易さ等の観点から、
Rが である化合物が好ましく、さらに、Yがイオウ原子であ
る化合物がより好ましい。
本発明に於いて好適に使用される前記一般式〔I〕で
示されるビニル単量体を具体的に例示すれば次の通りで
ある。
示されるビニル単量体を具体的に例示すれば次の通りで
ある。
2−(o−ビニルフエニルチオ)ベンゾチアゾール,2
−(m−ビニルフエニルチオ)ベンゾチアゾール,2−
(p−ビニルフエニルチオ)ベンゾチアゾール,2−(m
−ビニルフエニルメチルチオ)ベンゾチアゾール,2−
(p−ビニルフエニルメチルチオ)ベンゾチアゾール,2
−(p−ビニルフエニルエチルチオ)ベンゾチアゾー
ル,2−(p−ビニルフエニルプロピルチオ)ベンゾチア
ゾール,2−(p−ビニルフエニルペンチルチオ)ベンゾ
チアゾール,2−(3′−ビニル−2′−ブロモフエニル
メチルチオ)ベンゾチアゾール,2−(3′−ビニル−
2′,6′−ジブロモフエニルメチルチオ)ベンゾチアゾ
ール,2−(4′−ビニルフエニルチオ)−5,6−ジブロ
モベンゾチアゾール,2−(4′−ビニル−2′−ブロモ
フエニルメチルチオ)−5−ブロモベンゾチアゾール,2
−(4′−ビニル−2′−クロロフエニルチオ)ベンゾ
チアゾール,2−(4′−ビニル−2′−クロロフエニル
メチルチオ)−5,6−ジクロロベンゾチアゾール,2−
(3′−ビニルフエニルメチルチオ)7−ヨードチアゾ
ールなどのベンゾチアゾール類;2−(o−ビニルフエニ
ル)ベンゾオキサゾール,2−(p−ビニルフエニルメチ
ル)ベンゾオキサゾール,2−(m−ビニルフエニルペン
チル)ベンゾオキサゾール,2−(3′−ビニル−5′−
ブロモフエニルメチルチオ)ベンゾオキサゾール,2−
(p−ビニルフエニルメチル)−4ブロモベンゾオキサ
ゾール,2−(p−ビニルフエニルメチル)−5,6−ジク
ロロベンゾオキサゾールなどのベンゾオキサゾール類;N
−(o−ビニルフエニル)カルバゾール,N−(o−ビニ
ルフエニルメチル)カルバゾール,N−(m−ビニルフエ
ニルメチル)カルバゾール,N−(p−ビニルフエニルメ
チル)カルバゾール,N−(m−ビニルフエニルエチル)
カルバゾール,N−(p−ビニルフエニルプロピル)カル
バゾール,N−(m−ビニルフエニルブチル)カルバゾー
ル,N−(p−ビニルフエニルペンチル)カルバゾール,N
−(4′−ビニル−2′−ブロモフエニル)カルバゾー
ル,N−(3′−ビニルフエニルメチル)−2−ブロモカ
ルバゾール,N−(p−ブロモフエニル)−2−ブロモカ
ルバゾール,N−(m−ビニルフエニル)−2,7−ジブロ
モカルバゾール,N−(p−ビニルフエニル)−2−クロ
ロカルバゾール,N−(4′−ビニル−2′−クロロフエ
ニルメチル)−2−ブロモカルバゾール,N−(o−ビニ
ルフエニルメチル)−2−ヨードカルバゾールなどのカ
ルバゾール類が挙げられる。
−(m−ビニルフエニルチオ)ベンゾチアゾール,2−
(p−ビニルフエニルチオ)ベンゾチアゾール,2−(m
−ビニルフエニルメチルチオ)ベンゾチアゾール,2−
(p−ビニルフエニルメチルチオ)ベンゾチアゾール,2
−(p−ビニルフエニルエチルチオ)ベンゾチアゾー
ル,2−(p−ビニルフエニルプロピルチオ)ベンゾチア
ゾール,2−(p−ビニルフエニルペンチルチオ)ベンゾ
チアゾール,2−(3′−ビニル−2′−ブロモフエニル
メチルチオ)ベンゾチアゾール,2−(3′−ビニル−
2′,6′−ジブロモフエニルメチルチオ)ベンゾチアゾ
ール,2−(4′−ビニルフエニルチオ)−5,6−ジブロ
モベンゾチアゾール,2−(4′−ビニル−2′−ブロモ
フエニルメチルチオ)−5−ブロモベンゾチアゾール,2
−(4′−ビニル−2′−クロロフエニルチオ)ベンゾ
チアゾール,2−(4′−ビニル−2′−クロロフエニル
メチルチオ)−5,6−ジクロロベンゾチアゾール,2−
(3′−ビニルフエニルメチルチオ)7−ヨードチアゾ
ールなどのベンゾチアゾール類;2−(o−ビニルフエニ
ル)ベンゾオキサゾール,2−(p−ビニルフエニルメチ
ル)ベンゾオキサゾール,2−(m−ビニルフエニルペン
チル)ベンゾオキサゾール,2−(3′−ビニル−5′−
ブロモフエニルメチルチオ)ベンゾオキサゾール,2−
(p−ビニルフエニルメチル)−4ブロモベンゾオキサ
ゾール,2−(p−ビニルフエニルメチル)−5,6−ジク
ロロベンゾオキサゾールなどのベンゾオキサゾール類;N
−(o−ビニルフエニル)カルバゾール,N−(o−ビニ
ルフエニルメチル)カルバゾール,N−(m−ビニルフエ
ニルメチル)カルバゾール,N−(p−ビニルフエニルメ
チル)カルバゾール,N−(m−ビニルフエニルエチル)
カルバゾール,N−(p−ビニルフエニルプロピル)カル
バゾール,N−(m−ビニルフエニルブチル)カルバゾー
ル,N−(p−ビニルフエニルペンチル)カルバゾール,N
−(4′−ビニル−2′−ブロモフエニル)カルバゾー
ル,N−(3′−ビニルフエニルメチル)−2−ブロモカ
ルバゾール,N−(p−ブロモフエニル)−2−ブロモカ
ルバゾール,N−(m−ビニルフエニル)−2,7−ジブロ
モカルバゾール,N−(p−ビニルフエニル)−2−クロ
ロカルバゾール,N−(4′−ビニル−2′−クロロフエ
ニルメチル)−2−ブロモカルバゾール,N−(o−ビニ
ルフエニルメチル)−2−ヨードカルバゾールなどのカ
ルバゾール類が挙げられる。
また、本発明の単量体組成物の一方の成分は、前記一
般式〔I〕で示されるビニル単量体と共重合可能な他の
単量体であって、単独重合体の屈折率が1.560以上であ
るラジカル重合可能な単量体である。このような単量体
を例示すれば、メタクリル酸ベンジル,アクリル酸フエ
ニル,メタクリル酸ブロモフエニル,ビスフエノールA
ジメタクリレート,2,2′,6,6′−テトラブロモビスフエ
ノールAジアクリレート,ビスフエノールSジメタクリ
レートなどのメタクリル酸エステル及びアクリル酸エス
テル類;スチレン,クロロスチレン,ブロモスチレン,
ジブロモスチレン,トリブロモスチレン,ジビニルベン
ゼン,ビニルナフタレンなどのスチレン類;ジアリルフ
タレート,ジアリルイソフタレート,クロレンド酸ジア
リルなどのアリル化合物類など及びこれらの混合物など
である。
般式〔I〕で示されるビニル単量体と共重合可能な他の
単量体であって、単独重合体の屈折率が1.560以上であ
るラジカル重合可能な単量体である。このような単量体
を例示すれば、メタクリル酸ベンジル,アクリル酸フエ
ニル,メタクリル酸ブロモフエニル,ビスフエノールA
ジメタクリレート,2,2′,6,6′−テトラブロモビスフエ
ノールAジアクリレート,ビスフエノールSジメタクリ
レートなどのメタクリル酸エステル及びアクリル酸エス
テル類;スチレン,クロロスチレン,ブロモスチレン,
ジブロモスチレン,トリブロモスチレン,ジビニルベン
ゼン,ビニルナフタレンなどのスチレン類;ジアリルフ
タレート,ジアリルイソフタレート,クロレンド酸ジア
リルなどのアリル化合物類など及びこれらの混合物など
である。
本発明に於いて、単量体(A)及び単量体(B)の組
成割合は、それぞれの単量体の種類によって好適な割合
があるために一概に限定できないが、総じて一般式
〔I〕で表わされる単量体(A)が20〜70重量%の範囲
で好ましく用いられ、より好ましくは30〜60重量%の範
囲で使用される。
成割合は、それぞれの単量体の種類によって好適な割合
があるために一概に限定できないが、総じて一般式
〔I〕で表わされる単量体(A)が20〜70重量%の範囲
で好ましく用いられ、より好ましくは30〜60重量%の範
囲で使用される。
また、前記の単量体組成物を重合して成る高屈折率樹
脂を玉摺り加工あるいは切削加工を必要とする用途に用
いる場合には、前記単量体(B)はその一部又は全部が
2官能性以上の架橋性の単量体であることが好ましい。
脂を玉摺り加工あるいは切削加工を必要とする用途に用
いる場合には、前記単量体(B)はその一部又は全部が
2官能性以上の架橋性の単量体であることが好ましい。
本発明の単量体組成物を用いて高屈折率樹脂を得る重
合方法は、特に限定的でなく、公知の注型重合方法を採
用できる。重合開始手段は、種々の過酸化物やアゾ化合
物等のラジカル重合開始剤の使用、又は紫外線、α線,
β線,γ線等の照射或いは両者の併用によって行うこと
ができる。代表的な重合方法を例示すると、エラストマ
ーガスケットまたはスペーサーで保持されているモール
ド間に、ラジラル重合開始剤を含む前記の単量体組成物
を注入し、空気炉中で硬化させた後、取出せばよい。
合方法は、特に限定的でなく、公知の注型重合方法を採
用できる。重合開始手段は、種々の過酸化物やアゾ化合
物等のラジカル重合開始剤の使用、又は紫外線、α線,
β線,γ線等の照射或いは両者の併用によって行うこと
ができる。代表的な重合方法を例示すると、エラストマ
ーガスケットまたはスペーサーで保持されているモール
ド間に、ラジラル重合開始剤を含む前記の単量体組成物
を注入し、空気炉中で硬化させた後、取出せばよい。
ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、公知
のものが使用できるが、代表的なものを例示すると、ベ
ンゾイルパーオキサイド,p−クロロベンゾイルパーオキ
サイド,デカノイルパーオキサイド,ラウロイルパーオ
キサイド,アセチルパーオキサイド等のジアシルパーオ
キサイド;t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネー
ト,t−ブチルパーオキシネオデカネート,クミルパーオ
キシネオデカネート,t−ブチルパーオキシベンゾエート
等のパーオキシエステル;ジイソプロピルパーオキシジ
カーボネート,ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカ
ーボネート,ジ−sec−ブチルパーオキシカーボネート
等のパーカーボネート;アゾビスイソブチロニトリル等
のアゾ化合物である。該ラジカル重合開始剤の使用量
は、重合条件や開始剤の種類、前記の単量体組成物の組
成によって異なり、一概に限定できないが、一般には、
単量体組成物100重量部に対して0.01〜10重量部、好ま
しくは0.01〜5重量部の範囲で用いるのが好適である。
のものが使用できるが、代表的なものを例示すると、ベ
ンゾイルパーオキサイド,p−クロロベンゾイルパーオキ
サイド,デカノイルパーオキサイド,ラウロイルパーオ
キサイド,アセチルパーオキサイド等のジアシルパーオ
キサイド;t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサネー
ト,t−ブチルパーオキシネオデカネート,クミルパーオ
キシネオデカネート,t−ブチルパーオキシベンゾエート
等のパーオキシエステル;ジイソプロピルパーオキシジ
カーボネート,ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカ
ーボネート,ジ−sec−ブチルパーオキシカーボネート
等のパーカーボネート;アゾビスイソブチロニトリル等
のアゾ化合物である。該ラジカル重合開始剤の使用量
は、重合条件や開始剤の種類、前記の単量体組成物の組
成によって異なり、一概に限定できないが、一般には、
単量体組成物100重量部に対して0.01〜10重量部、好ま
しくは0.01〜5重量部の範囲で用いるのが好適である。
重合条件のうち、特に温度は得られる高屈折率樹脂の
性状に影響を与える。この温度条件は、開始剤の種類と
量や単量体組成物の種類によって影響を受けるので、一
概に限定はできないが、一般的に比較的低温下で重合を
開始し、ゆっくりと温度をあげて行き、重合終了時に高
温下に硬化させる所謂テーパ型の2段重合を行うのが好
適である。重合時間も温度と同様に各種の要因によって
異なるので、予めこれらの条件に応じた最適の時間を決
定するのが好適であるが、一般に2〜40時間で重合が完
結するように条件を選ぶのが好ましい。
性状に影響を与える。この温度条件は、開始剤の種類と
量や単量体組成物の種類によって影響を受けるので、一
概に限定はできないが、一般的に比較的低温下で重合を
開始し、ゆっくりと温度をあげて行き、重合終了時に高
温下に硬化させる所謂テーパ型の2段重合を行うのが好
適である。重合時間も温度と同様に各種の要因によって
異なるので、予めこれらの条件に応じた最適の時間を決
定するのが好適であるが、一般に2〜40時間で重合が完
結するように条件を選ぶのが好ましい。
勿論、前記重合に際し、離型剤,紫外線吸収剤,酸化
防止剤,着色防止剤,帯電防止剤,ケイ光染料,染料,
顔料等の各種安定剤,添加剤は必要に応じて選択して使
用することが出来る。
防止剤,着色防止剤,帯電防止剤,ケイ光染料,染料,
顔料等の各種安定剤,添加剤は必要に応じて選択して使
用することが出来る。
さらに、上記の方法で得られる高屈折率樹脂は、その
用途に応じて以下のような処理を施すことも出来る。即
ち、分散染料などの染料を用いる染色、シランカツプリ
ング剤やケイ素,ジルコニウム,アンチモン,アルミニ
ウム等の酸化物のゾルを主成分とするハードコート剤
や、有機高分子体を主成分とするハードコート剤による
ハードコーテイング処理や、SiO2,TiO2,ZrO等の金属酸
化物の薄膜の蒸着や有機高分子体の薄膜の塗布等による
反射防止処理、帯電防止処理等の加工及び2次処理を施
すことも無論可能である。
用途に応じて以下のような処理を施すことも出来る。即
ち、分散染料などの染料を用いる染色、シランカツプリ
ング剤やケイ素,ジルコニウム,アンチモン,アルミニ
ウム等の酸化物のゾルを主成分とするハードコート剤
や、有機高分子体を主成分とするハードコート剤による
ハードコーテイング処理や、SiO2,TiO2,ZrO等の金属酸
化物の薄膜の蒸着や有機高分子体の薄膜の塗布等による
反射防止処理、帯電防止処理等の加工及び2次処理を施
すことも無論可能である。
〔効 果〕 本発明により得られる高屈折率樹脂は、単量体(A)
と単量体(B)との共重合により得られる共重合体であ
る。この共重合体は、屈折率が1.590以上、さらには1.6
10以上とすることもでき、また、無色透明であり、表面
硬度,染色性,耐候性等にも優れている。従って、本発
明により得られる高屈折率樹脂は、有機ガラスとして有
用であり、例えば、メガネレンズ,光学機器レンズ等の
光学レンズ;プリズム;光デイスク基板;光フアイバー
等の用途に好適に使用することができる。
と単量体(B)との共重合により得られる共重合体であ
る。この共重合体は、屈折率が1.590以上、さらには1.6
10以上とすることもでき、また、無色透明であり、表面
硬度,染色性,耐候性等にも優れている。従って、本発
明により得られる高屈折率樹脂は、有機ガラスとして有
用であり、例えば、メガネレンズ,光学機器レンズ等の
光学レンズ;プリズム;光デイスク基板;光フアイバー
等の用途に好適に使用することができる。
以下、本発明を具体的に説明するために、実施例を挙
げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。
げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。
なお、実施例において得られた高屈折率樹脂は、下記
の試験法によって諸物性を測定した。
の試験法によって諸物性を測定した。
(1) 屈折率 アッベの屈折計を用いて20℃における屈折率を測定し
た。接触液には、ブロモナフタリンを使用した。
た。接触液には、ブロモナフタリンを使用した。
(2) 硬 度 ロツクウエル硬度計を用い、厚さ2mmの試験片につい
てL−スケールでの値を測定した。
てL−スケールでの値を測定した。
(3) 外 観 目視により判定した。
(4) 染色性 分散染料(服部セイコー(株)の製品名ビスタブラウ
ン)を1の水に2g分散させ、90℃に加熱し、染色可能
なものを○、染色できないものを×で評価した。
ン)を1の水に2g分散させ、90℃に加熱し、染色可能
なものを○、染色できないものを×で評価した。
(5) 耐候性 スガ試験機(株)製ロングライフキセノンフエードメ
ーター(FAC−25AX−HC型)中に試料を設置し、100時間
キセノン光を露光した後、試料の表面状態を目視で観察
し、ポリスチレンに比べ表面状態のよいものを○、やや
劣るものを△、極めて不良なものを×で評価した。
ーター(FAC−25AX−HC型)中に試料を設置し、100時間
キセノン光を露光した後、試料の表面状態を目視で観察
し、ポリスチレンに比べ表面状態のよいものを○、やや
劣るものを△、極めて不良なものを×で評価した。
尚、以下の実施例で使用した単量体(A)及び単量体
(B)は下記の記号で表わした。但し、〔 〕内は単独
重合体の屈折率である。
(B)は下記の記号で表わした。但し、〔 〕内は単独
重合体の屈折率である。
pVT:2−(p−ビニルフエニルチオ)ベンゾチアゾール mVMT:2−(m−ビニルフエニルメチルチオ)ベンゾチア
ゾール mVET:2−(m−ビニルフエニルエチルチオ)ベンゾチア
ゾール ClVMT:2−(2′−クロロ−4′−ビニルフエニルメチ
ルチオ)ベンゾチアゾール pVMBrT:2−(p−ビニルフエニルメチルチオ)−6−ブ
ロモ−ベンゾチアゾール pVMo:2−(p−ビニルフエニルメチルチオ)ベンゾオキ
サゾール pVMBrO:2−(p−ビニルフエニルメチルチオ)−6−ブ
ロモ−ベンゾオキサゾール BrVMO:2−(3′−ビニル−5′−ブロモフエニルメチ
ルチオ)ベンゾオキサゾール pVC:N−(p−ビニルフエニル)カルバゾール mTMC:N−(m−ビニルフエニルメチル)カルバゾール VMBrC:N−(m−ビニルフエニルメチル)−3−ブロモ
−カルバゾール VMDBrC:N−(m−ビニルフエニルメチル)−4,6−ジブ
ロモカルバゾール St:スチレン〔1.590〕 ClSt:クロロスチレン(o体,m体の混合物)〔1.610〕 DBSt:ジブロモスチレン〔1.652〕 DVB:ジビニルベンゼン〔1.615〕 BzMA:ベンジルメタクリレート〔1.568〕 BDMA:2,2′,6,6′−テトラブロモビスフエノールAジメ
タクリレート〔1.604〕 実施例 1 第1表に示す単量体(A)50重量部と単量体(B)と
してスチレン50重量部の混合物100重量部に対してラジ
カル重合開始剤としてt−ブチルパーオキシ−2−エチ
ルヘキサネート1重量部を添加しよく混合した。この混
合液をガラス板とエチレン−酢酸ビニル共重合体とから
成るガスケットで構成された鋳型の中へ注入し、注型重
合を行った。重合は、空気炉を用い、30℃から90℃で18
時間かけ、徐々に温度を上げて行き、90℃に2時間保持
した。重合終了後、鋳型を空気炉から取出し、放冷後、
重合体を鋳型のガラスからとりはずした。得られた重合
体の諸物性を測定して第1表に示した。
ゾール mVET:2−(m−ビニルフエニルエチルチオ)ベンゾチア
ゾール ClVMT:2−(2′−クロロ−4′−ビニルフエニルメチ
ルチオ)ベンゾチアゾール pVMBrT:2−(p−ビニルフエニルメチルチオ)−6−ブ
ロモ−ベンゾチアゾール pVMo:2−(p−ビニルフエニルメチルチオ)ベンゾオキ
サゾール pVMBrO:2−(p−ビニルフエニルメチルチオ)−6−ブ
ロモ−ベンゾオキサゾール BrVMO:2−(3′−ビニル−5′−ブロモフエニルメチ
ルチオ)ベンゾオキサゾール pVC:N−(p−ビニルフエニル)カルバゾール mTMC:N−(m−ビニルフエニルメチル)カルバゾール VMBrC:N−(m−ビニルフエニルメチル)−3−ブロモ
−カルバゾール VMDBrC:N−(m−ビニルフエニルメチル)−4,6−ジブ
ロモカルバゾール St:スチレン〔1.590〕 ClSt:クロロスチレン(o体,m体の混合物)〔1.610〕 DBSt:ジブロモスチレン〔1.652〕 DVB:ジビニルベンゼン〔1.615〕 BzMA:ベンジルメタクリレート〔1.568〕 BDMA:2,2′,6,6′−テトラブロモビスフエノールAジメ
タクリレート〔1.604〕 実施例 1 第1表に示す単量体(A)50重量部と単量体(B)と
してスチレン50重量部の混合物100重量部に対してラジ
カル重合開始剤としてt−ブチルパーオキシ−2−エチ
ルヘキサネート1重量部を添加しよく混合した。この混
合液をガラス板とエチレン−酢酸ビニル共重合体とから
成るガスケットで構成された鋳型の中へ注入し、注型重
合を行った。重合は、空気炉を用い、30℃から90℃で18
時間かけ、徐々に温度を上げて行き、90℃に2時間保持
した。重合終了後、鋳型を空気炉から取出し、放冷後、
重合体を鋳型のガラスからとりはずした。得られた重合
体の諸物性を測定して第1表に示した。
実施例 2 第2表に示す単量体(A)及び単量体(B)から成る
組成物を用いた以外、実施例1と全く同様に実施した。
得られた高屈折率樹脂の物性を測定して、第2表に示し
た。
組成物を用いた以外、実施例1と全く同様に実施した。
得られた高屈折率樹脂の物性を測定して、第2表に示し
た。
実施例 3 第3表に示す、3種の単量体混合物を用いた以外、全
て実施例1と同様に実施した。得られた高屈折率樹脂の
物性を第3表に示した。
て実施例1と同様に実施した。得られた高屈折率樹脂の
物性を第3表に示した。
Claims (2)
- 【請求項1】(A) 下式一般式 で示されるビニル単量体 及び (B) 上記のビニル単量体と共重合可能な他の単量体
であって、単独重合体の屈折率が1.560以上であるラジ
カル重合可能な単量体 より主としてなる単量体組成物。 - 【請求項2】特許請求の範囲第(1)項記載の単量体組
成物を重合させることを特徴とする高屈折率樹脂の製造
方法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63178184A JP2537540B2 (ja) | 1988-07-19 | 1988-07-19 | 単量体組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63178184A JP2537540B2 (ja) | 1988-07-19 | 1988-07-19 | 単量体組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0229401A JPH0229401A (ja) | 1990-01-31 |
JP2537540B2 true JP2537540B2 (ja) | 1996-09-25 |
Family
ID=16044069
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63178184A Expired - Fee Related JP2537540B2 (ja) | 1988-07-19 | 1988-07-19 | 単量体組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2537540B2 (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011019067A1 (ja) | 2009-08-13 | 2011-02-17 | 富士フイルム株式会社 | ウェハレベルレンズ、ウェハレベルレンズの製造方法、及び撮像ユニット |
EP2296018A1 (en) | 2009-09-14 | 2011-03-16 | Fujifilm Corporation | Wafer-level lens array, method of manufacturing wafer-level lens array, lens module and imaging unit |
EP2298543A2 (en) | 2009-09-17 | 2011-03-23 | FUJIFILM Corporation | Master model of lens array and method of manufacturing the same |
EP2298544A2 (en) | 2009-09-16 | 2011-03-23 | FUJIFILM Corporation | Wafer-level lens array, method of manufacturing wafer-level lens array, lens module and imaging unit |
WO2011040103A1 (ja) | 2009-09-30 | 2011-04-07 | 富士フイルム株式会社 | 素子アレイ及び素子アレイ積層体 |
EP2319672A1 (en) | 2009-11-05 | 2011-05-11 | FUJIFILM Corporation | Lens array press mold and lens array molded by the same |
EP2353828A1 (en) | 2010-02-08 | 2011-08-10 | FUJIFILM Corporation | Molding die for optical molding product, method of molding optical molding product and lens array |
EP2361755A2 (en) | 2010-02-26 | 2011-08-31 | FUJIFILM Corporation | Lens array |
EP2361754A2 (en) | 2010-02-26 | 2011-08-31 | FUJIFILM Corporation | Lens array |
EP2366534A2 (en) | 2010-03-19 | 2011-09-21 | Fujifilm Corporation | Die, molding method and lens array |
EP2366535A2 (en) | 2010-03-19 | 2011-09-21 | Fujifilm Corporation | Lens and lens array and manufacturing method thereof |
EP2372406A1 (en) | 2010-03-19 | 2011-10-05 | Fujifilm Corporation | Lens array and lens array manufacturing method |
EP2380721A1 (en) | 2010-03-30 | 2011-10-26 | Fujifilm Corporation | Method for fabricating a master |
TWI647411B (zh) * | 2017-09-27 | 2019-01-11 | 日商夏普股份有限公司 | Mounting plate |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100379810B1 (ko) * | 2000-11-07 | 2003-04-11 | 삼성에스디아이 주식회사 | 전하공급 균형을 높인 전기발광 고분자 및 그를 이용한전기발광 소자 |
US7217774B2 (en) * | 2004-04-01 | 2007-05-15 | General Electric Company | Electroactive polymer, device made therefrom and method |
JP5219408B2 (ja) * | 2006-06-02 | 2013-06-26 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散組成物、光硬化性組成物、それを用いたカラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法 |
JP5402266B2 (ja) * | 2008-06-10 | 2014-01-29 | 三菱化学株式会社 | 光反応性組成物、光学材料、ホログラム記録層形成用組成物、ホログラム記録材料およびホログラム記録媒体 |
TW201016778A (en) | 2008-08-28 | 2010-05-01 | Fujifilm Corp | Thermoplastic resin, organic-inorganic hybrid composition and optical parts |
JP4633845B2 (ja) * | 2009-02-25 | 2011-02-16 | 富士フイルム株式会社 | 顔料組成物、水系顔料分散物の製造方法、およびインクジェット記録用水系インク |
JP5842844B2 (ja) * | 2013-03-08 | 2016-01-13 | 三菱化学株式会社 | 高屈折率重合性化合物 |
WO2019131572A1 (ja) | 2017-12-26 | 2019-07-04 | 富士フイルム株式会社 | レンズ用接着剤、接合レンズ、および撮像モジュール |
-
1988
- 1988-07-19 JP JP63178184A patent/JP2537540B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011019067A1 (ja) | 2009-08-13 | 2011-02-17 | 富士フイルム株式会社 | ウェハレベルレンズ、ウェハレベルレンズの製造方法、及び撮像ユニット |
EP2296018A1 (en) | 2009-09-14 | 2011-03-16 | Fujifilm Corporation | Wafer-level lens array, method of manufacturing wafer-level lens array, lens module and imaging unit |
EP2298544A2 (en) | 2009-09-16 | 2011-03-23 | FUJIFILM Corporation | Wafer-level lens array, method of manufacturing wafer-level lens array, lens module and imaging unit |
EP2298543A2 (en) | 2009-09-17 | 2011-03-23 | FUJIFILM Corporation | Master model of lens array and method of manufacturing the same |
WO2011040103A1 (ja) | 2009-09-30 | 2011-04-07 | 富士フイルム株式会社 | 素子アレイ及び素子アレイ積層体 |
EP2319672A1 (en) | 2009-11-05 | 2011-05-11 | FUJIFILM Corporation | Lens array press mold and lens array molded by the same |
EP2353828A1 (en) | 2010-02-08 | 2011-08-10 | FUJIFILM Corporation | Molding die for optical molding product, method of molding optical molding product and lens array |
EP2361755A2 (en) | 2010-02-26 | 2011-08-31 | FUJIFILM Corporation | Lens array |
EP2361754A2 (en) | 2010-02-26 | 2011-08-31 | FUJIFILM Corporation | Lens array |
EP2366534A2 (en) | 2010-03-19 | 2011-09-21 | Fujifilm Corporation | Die, molding method and lens array |
EP2366535A2 (en) | 2010-03-19 | 2011-09-21 | Fujifilm Corporation | Lens and lens array and manufacturing method thereof |
EP2372406A1 (en) | 2010-03-19 | 2011-10-05 | Fujifilm Corporation | Lens array and lens array manufacturing method |
EP2380721A1 (en) | 2010-03-30 | 2011-10-26 | Fujifilm Corporation | Method for fabricating a master |
TWI647411B (zh) * | 2017-09-27 | 2019-01-11 | 日商夏普股份有限公司 | Mounting plate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0229401A (ja) | 1990-01-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2537540B2 (ja) | 単量体組成物 | |
JPH0820615A (ja) | 重合性組成物 | |
KR20040063922A (ko) | 광학적 특성이 우수한 경화성 조성물 | |
JPS6225162B2 (ja) | ||
JPH0249009A (ja) | 単量体組成物 | |
JPS60152515A (ja) | 光学材料の製造法 | |
JP2757354B2 (ja) | 合成樹脂製レンズ用組成物 | |
JPS60124605A (ja) | 光学用材料の製造方法 | |
JPH0251481B2 (ja) | ||
JPH0251161B2 (ja) | ||
JPH0251162B2 (ja) | ||
JPH0255301A (ja) | 有機ガラス | |
JPH0551412A (ja) | 有機ガラス | |
JPH07188358A (ja) | 重合性組成物 | |
JPH0253809A (ja) | 有機ガラス | |
JPH04225007A (ja) | 高屈折率高強度光学用樹脂 | |
JPS62283109A (ja) | 高屈折率樹脂 | |
JPH0279801A (ja) | 高屈折率を有するレンズ | |
JP2546927B2 (ja) | 重合性組成物 | |
JPH07109318A (ja) | 重合性組成物 | |
JPH0679083B2 (ja) | 光学材料 | |
JPH04323210A (ja) | 有機ガラス | |
JPH04371901A (ja) | 有機ガラス | |
JPH0328681B2 (ja) | ||
JPH03273011A (ja) | 有機ガラス |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |