JP2523839B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JP2523839B2 JP2523839B2 JP63312304A JP31230488A JP2523839B2 JP 2523839 B2 JP2523839 B2 JP 2523839B2 JP 63312304 A JP63312304 A JP 63312304A JP 31230488 A JP31230488 A JP 31230488A JP 2523839 B2 JP2523839 B2 JP 2523839B2
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- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic recording
- recording medium
- diamond
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録
媒体に関し、特に、炭化水素によるプラズマ重合膜と炭
素数4以上の多分枝炭化水素を原料としたダイヤモンド
状炭素膜との組み合わせにより高出力,高耐久性,高耐
蝕性を実現させた磁気記録媒体に関する。
媒体に関し、特に、炭化水素によるプラズマ重合膜と炭
素数4以上の多分枝炭化水素を原料としたダイヤモンド
状炭素膜との組み合わせにより高出力,高耐久性,高耐
蝕性を実現させた磁気記録媒体に関する。
従来の技術 従来、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒
体においては、様々な方法により耐蝕性,スチル耐久
性,走行耐久性の向上が続けられてきた。たとえば、第
1に、強磁性金属薄膜上にカルボン酸系,リン系の滑剤
層を設ける、第2に、同様に非磁性金属の保護膜を設け
る、第3に、同様にSiO2膜を設ける、等である。しか
し、これらの保護膜ではもう一歩スチル耐久性と耐蝕性
が改善されないのが現状である。そこで最近では、ダイ
ヤモンド状炭素膜を薄膜型磁気記録媒体の保護膜として
用いることも検討されている。
体においては、様々な方法により耐蝕性,スチル耐久
性,走行耐久性の向上が続けられてきた。たとえば、第
1に、強磁性金属薄膜上にカルボン酸系,リン系の滑剤
層を設ける、第2に、同様に非磁性金属の保護膜を設け
る、第3に、同様にSiO2膜を設ける、等である。しか
し、これらの保護膜ではもう一歩スチル耐久性と耐蝕性
が改善されないのが現状である。そこで最近では、ダイ
ヤモンド状炭素膜を薄膜型磁気記録媒体の保護膜として
用いることも検討されている。
発明が解決しようとする課題 上記ダイヤモンド状炭素膜を用いる技術はスチル耐久
性を著しく向上させる効果はあるが、その厚みによるス
ペーシングロスにより薄膜型磁気記録媒体の特徴である
短波長記録の高出力に大きなマイナスとなり、実用性に
欠ける。具体的には、ダイヤモンド状炭素膜によるスチ
ル耐久性の向上には、この膜厚が200Å〜300Å必要であ
り、このため8mmVTR規格の5MHzのY−出力で約3.0〜4.0
dB出力が低下してしまっていた。
性を著しく向上させる効果はあるが、その厚みによるス
ペーシングロスにより薄膜型磁気記録媒体の特徴である
短波長記録の高出力に大きなマイナスとなり、実用性に
欠ける。具体的には、ダイヤモンド状炭素膜によるスチ
ル耐久性の向上には、この膜厚が200Å〜300Å必要であ
り、このため8mmVTR規格の5MHzのY−出力で約3.0〜4.0
dB出力が低下してしまっていた。
本発明はスペーシングロスを減少させるとともに、ス
チル耐久性,耐蝕性の優れた高出力の金属薄膜型磁気記
録媒体を提供することを目的とする。
チル耐久性,耐蝕性の優れた高出力の金属薄膜型磁気記
録媒体を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段 上記目的を達成するために本発明は、非磁性基板上に
強磁性金属薄膜を形成し、この強磁性金属薄膜上に炭化
水素のプラズマ重合膜を形成し、さらにこのプラズマ重
合膜上に炭素数4以上の多分枝炭化水素を原料としたプ
ラズマCVD法によりダイヤモンド状炭素膜を形成し、ト
ップコート層として滑剤層を有することを特徴とする。
強磁性金属薄膜を形成し、この強磁性金属薄膜上に炭化
水素のプラズマ重合膜を形成し、さらにこのプラズマ重
合膜上に炭素数4以上の多分枝炭化水素を原料としたプ
ラズマCVD法によりダイヤモンド状炭素膜を形成し、ト
ップコート層として滑剤層を有することを特徴とする。
作用 本発明によれば強磁性金属薄膜の上に炭化水素のプラ
ズマ重合膜を設け、この上に炭素数4以上の多分枝炭化
水素のダイヤモンド状炭素膜2を形成し、さらにこの上
に滑剤層を形成したので、前記強磁性金属薄膜層の表面
酸化層の変質を防ぎこの残った表面酸化膜とダイヤモン
ド状炭素膜層とが二重の保護膜となって、ダイヤモンド
状炭素膜層を薄くすることができるとともに、金属薄膜
型磁気記録媒体のスチル耐久性,耐蝕性は著しく向上す
る。また、スチル耐久性が向上したのにつれて走行耐久
性の向上もはかれる。一方、出力低下は1.0dB〜1.5dB程
度に抑えることができる。
ズマ重合膜を設け、この上に炭素数4以上の多分枝炭化
水素のダイヤモンド状炭素膜2を形成し、さらにこの上
に滑剤層を形成したので、前記強磁性金属薄膜層の表面
酸化層の変質を防ぎこの残った表面酸化膜とダイヤモン
ド状炭素膜層とが二重の保護膜となって、ダイヤモンド
状炭素膜層を薄くすることができるとともに、金属薄膜
型磁気記録媒体のスチル耐久性,耐蝕性は著しく向上す
る。また、スチル耐久性が向上したのにつれて走行耐久
性の向上もはかれる。一方、出力低下は1.0dB〜1.5dB程
度に抑えることができる。
実施例 以下、本発明の磁気記録媒体の一実施例を添付図面に
基づいて説明する。
基づいて説明する。
ポリエチレンテレフタレートからなる基板5上面に強
磁性金属薄膜4を形成し、この強磁性金属薄膜4上に、
炭化水素のプラズマ重合膜3を形成し、さらに、炭素数
4以上の多分枝炭化水素のダイヤモンド状炭素膜2を形
成した後、滑剤層1を重ねて形成する一方、前記基板5
の下面にはバックコート層6を形成して構成したもので
ある。
磁性金属薄膜4を形成し、この強磁性金属薄膜4上に、
炭化水素のプラズマ重合膜3を形成し、さらに、炭素数
4以上の多分枝炭化水素のダイヤモンド状炭素膜2を形
成した後、滑剤層1を重ねて形成する一方、前記基板5
の下面にはバックコート層6を形成して構成したもので
ある。
このように構成した磁気記録媒体と、他の材料を用い
た同一構成の磁気記録媒体とを、スチル耐久性,耐蝕性
について比較試験を行った結果、炭化水素より作ったプ
ラズマ重合膜3と炭素数4以上の多分枝炭化水素より成
膜したダイヤモンド状炭素膜2を用いた磁気記録媒体の
スチル耐久性と耐蝕性が非常に高かった。このプラズマ
重合膜3の厚みが5Å以下では強磁性金属薄膜4の表面
酸化層の変質を防ぎきれず、スチル耐久性を飛躍的に高
めるためには、出力をやはり−3.0dB程度低下させるこ
とになる。一方、厚みが50Å以上のプラズマ重合膜3の
場合には、ダイヤモンド状炭素膜2の厚みによらずスチ
ル耐久性が劣化しはじめる。このように、炭化水素によ
るプラズマ重合膜3の最適厚みは約5Å〜50Åである。
また、炭化水素のプラズマ重合膜3を有する磁気記録媒
体のダイヤオンド状炭素膜2の厚みは60Å以上あればス
チル耐久性,耐蝕性的には十分であるが、スペーシング
ロスとの関係から60Å〜100Åの厚みが最適である。
た同一構成の磁気記録媒体とを、スチル耐久性,耐蝕性
について比較試験を行った結果、炭化水素より作ったプ
ラズマ重合膜3と炭素数4以上の多分枝炭化水素より成
膜したダイヤモンド状炭素膜2を用いた磁気記録媒体の
スチル耐久性と耐蝕性が非常に高かった。このプラズマ
重合膜3の厚みが5Å以下では強磁性金属薄膜4の表面
酸化層の変質を防ぎきれず、スチル耐久性を飛躍的に高
めるためには、出力をやはり−3.0dB程度低下させるこ
とになる。一方、厚みが50Å以上のプラズマ重合膜3の
場合には、ダイヤモンド状炭素膜2の厚みによらずスチ
ル耐久性が劣化しはじめる。このように、炭化水素によ
るプラズマ重合膜3の最適厚みは約5Å〜50Åである。
また、炭化水素のプラズマ重合膜3を有する磁気記録媒
体のダイヤオンド状炭素膜2の厚みは60Å以上あればス
チル耐久性,耐蝕性的には十分であるが、スペーシング
ロスとの関係から60Å〜100Åの厚みが最適である。
次に、本発明の磁気記録媒体およびこれと比較するた
めの磁気記録媒体を、8mmビデオ用金属薄膜型テープと
して製造する方法および比較試験結果について詳述す
る。
めの磁気記録媒体を、8mmビデオ用金属薄膜型テープと
して製造する方法および比較試験結果について詳述す
る。
異常に大きな突起のない、表面粗さのコントロールさ
れた500mm幅のポリエチレンテレフタレート、たとえ
ば、表面最大粗さ200Å〜300Å、中心線平均粗さ25Å〜
50Å、山状突起の密度が1mm2当り104〜108個の基板5上
に、真空蒸着法により酸素を導入しながらCo(80)〜Ni
(20)の強磁性金属薄膜4を2000Å形成した後、この強
磁性金属薄膜4上へ真空度0.1Torr、30KHzの周波数で出
力500Wの条件で、炭化水素をはじめとする各種材料のプ
ラズマ重合膜3を5Å〜100Å形成し、サンプルとし
た。流量は材料によって異なり20SCCM〜100SCCMであ
る。これは連続巻取式の真空装置で処理する。次に、こ
れらのサンプルのプラズマ重合膜3上へ、炭素数4以上
の多分枝炭化水素だけまたはこれとAr,Arとメタンとの
混合ガスを0.3Torrの真空度で、DC電圧を700V〜2000V印
加して、(電極をプラス、強磁性金属薄膜4側をマイナ
スとする)プラズマCVD法によりダイヤモンド状炭素膜
2を60Å〜100Åの厚さで形成する。流量はトータルガ
スとして50SCCM〜200SCCMである。これも連続巻取式の
真空装置で処理する。さらに溶媒と混合し塗工乾燥する
方法或いは真空蒸着法などの周知のコーティング法によ
り、このダイヤモンド状炭素膜2上に含フッ素脂肪酸を
20Å〜50Å塗布して滑剤層1を形成し、スリッターによ
り8mm幅に裁断する。このようにして作成された8mmビデ
オ用金属薄膜型テープをコダック社の8mmVTRで評価し
た。
れた500mm幅のポリエチレンテレフタレート、たとえ
ば、表面最大粗さ200Å〜300Å、中心線平均粗さ25Å〜
50Å、山状突起の密度が1mm2当り104〜108個の基板5上
に、真空蒸着法により酸素を導入しながらCo(80)〜Ni
(20)の強磁性金属薄膜4を2000Å形成した後、この強
磁性金属薄膜4上へ真空度0.1Torr、30KHzの周波数で出
力500Wの条件で、炭化水素をはじめとする各種材料のプ
ラズマ重合膜3を5Å〜100Å形成し、サンプルとし
た。流量は材料によって異なり20SCCM〜100SCCMであ
る。これは連続巻取式の真空装置で処理する。次に、こ
れらのサンプルのプラズマ重合膜3上へ、炭素数4以上
の多分枝炭化水素だけまたはこれとAr,Arとメタンとの
混合ガスを0.3Torrの真空度で、DC電圧を700V〜2000V印
加して、(電極をプラス、強磁性金属薄膜4側をマイナ
スとする)プラズマCVD法によりダイヤモンド状炭素膜
2を60Å〜100Åの厚さで形成する。流量はトータルガ
スとして50SCCM〜200SCCMである。これも連続巻取式の
真空装置で処理する。さらに溶媒と混合し塗工乾燥する
方法或いは真空蒸着法などの周知のコーティング法によ
り、このダイヤモンド状炭素膜2上に含フッ素脂肪酸を
20Å〜50Å塗布して滑剤層1を形成し、スリッターによ
り8mm幅に裁断する。このようにして作成された8mmビデ
オ用金属薄膜型テープをコダック社の8mmVTRで評価し
た。
なお、プラズマ重合膜用の炭化水素とはメタン,エタ
ンプロパン等の飽和炭化水素,シクロプロパン等の環状
炭化水素,ベンゼン等の芳香族炭化水素を含む。一方ダ
イヤモンド状炭素膜用の炭素数4以上の多分枝炭化水素
とは、2個以上の分枝メチル基を含む飽和あるいは不飽
和の炭化水素のことであり、たとえば2,3−ジメチルブ
タン,2,3ジメチル−1,3−ブタジエン,3,3−ジメチル−
1−ブテン,2,2,3−トリメチルブタン,2,4−ジメチルペ
ンタン,2,2,4−トリメチル−2−ペンテン,2,2,4−トリ
メチルペンタン等を上げることができる。
ンプロパン等の飽和炭化水素,シクロプロパン等の環状
炭化水素,ベンゼン等の芳香族炭化水素を含む。一方ダ
イヤモンド状炭素膜用の炭素数4以上の多分枝炭化水素
とは、2個以上の分枝メチル基を含む飽和あるいは不飽
和の炭化水素のことであり、たとえば2,3−ジメチルブ
タン,2,3ジメチル−1,3−ブタジエン,3,3−ジメチル−
1−ブテン,2,2,3−トリメチルブタン,2,4−ジメチルペ
ンタン,2,2,4−トリメチル−2−ペンテン,2,2,4−トリ
メチルペンタン等を上げることができる。
表の結果より明らかなごとく、サンプルNo.1〜6のよ
うに炭化水素のプラズマ重合膜3を5Å〜50Å設け、さ
らに多分枝炭化水素だけ、あるいはこれとアルゴンとの
混合ガスまたはこれとアルゴンとメタンとの混合ガスを
原料としたダイヤモンド状炭素膜を60Å〜120Å設けれ
ばスペーシングロスによる出力低下を低く抑えながら、
スチル耐久性と耐蝕性を飛躍的に伸ばすことができる。
また、これらのサンプルはメタンを用いたダイヤモンド
状炭素膜よりも成膜レートが2〜3倍高くかつ膜質が向
上しており、スチル耐久性も高い。
うに炭化水素のプラズマ重合膜3を5Å〜50Å設け、さ
らに多分枝炭化水素だけ、あるいはこれとアルゴンとの
混合ガスまたはこれとアルゴンとメタンとの混合ガスを
原料としたダイヤモンド状炭素膜を60Å〜120Å設けれ
ばスペーシングロスによる出力低下を低く抑えながら、
スチル耐久性と耐蝕性を飛躍的に伸ばすことができる。
また、これらのサンプルはメタンを用いたダイヤモンド
状炭素膜よりも成膜レートが2〜3倍高くかつ膜質が向
上しており、スチル耐久性も高い。
発明の効果 本発明によれば、出力低下をほとんど伴なわずスチル
耐久性と耐蝕性を飛躍的に向上させることが可能となる
というすぐれた効果を奏するのでたとえば薄膜型磁気テ
ープ,磁気ディスク等の製造方法に応用できる。
耐久性と耐蝕性を飛躍的に向上させることが可能となる
というすぐれた効果を奏するのでたとえば薄膜型磁気テ
ープ,磁気ディスク等の製造方法に応用できる。
図面は本発明による磁気記録媒体の概略的な断面図であ
る。 1……滑剤層、2……ダイヤモンド状炭素膜、3……プ
ラズマ重合膜、4……強磁性金属薄膜、5……基板、6
……バックコート層。
る。 1……滑剤層、2……ダイヤモンド状炭素膜、3……プ
ラズマ重合膜、4……強磁性金属薄膜、5……基板、6
……バックコート層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−105720(JP,A) 特開 平1−245417(JP,A) 特開 昭61−289530(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】非磁性基板上に強磁性金属薄膜を形成し、
この強磁性金属薄膜上に炭化水素のプラズマ重合膜を5
Åから50Å形成し、さらにこのプラズマ重合膜上にダイ
ヤモンド状炭素膜を60Åから100Å形成し、トップコー
ト層として滑剤層を有する磁気記録媒体において、ダイ
ヤモンド状炭素膜を炭素数4以上の多分枝炭化水素を原
料ガスとしたプラズマCVD法で成膜することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63312304A JP2523839B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63312304A JP2523839B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02158909A JPH02158909A (ja) | 1990-06-19 |
JP2523839B2 true JP2523839B2 (ja) | 1996-08-14 |
Family
ID=18027640
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63312304A Expired - Fee Related JP2523839B2 (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2523839B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0523607B1 (en) * | 1991-07-15 | 1997-05-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium, sliding member and manufacturing method thereof |
JPH08124149A (ja) * | 1994-10-25 | 1996-05-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61105720A (ja) * | 1984-10-26 | 1986-05-23 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 磁気記憶媒体 |
JPH01245417A (ja) * | 1988-03-28 | 1989-09-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1988
- 1988-12-09 JP JP63312304A patent/JP2523839B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02158909A (ja) | 1990-06-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |