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JP2508503B2 - Photoelectric conversion device - Google Patents

Photoelectric conversion device

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Publication number
JP2508503B2
JP2508503B2 JP60215725A JP21572585A JP2508503B2 JP 2508503 B2 JP2508503 B2 JP 2508503B2 JP 60215725 A JP60215725 A JP 60215725A JP 21572585 A JP21572585 A JP 21572585A JP 2508503 B2 JP2508503 B2 JP 2508503B2
Authority
JP
Japan
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filter
transparent substrate
optical element
liquid crystal
photoelectric conversion
Prior art date
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Application number
JP60215725A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS6275419A (en
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節夫 碓井
俊之 鮫島
光信 関谷
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPS6275419A publication Critical patent/JPS6275419A/en
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、第1の透明基板と第2の透明基板との間に
半導体機能素子と光学素子とがそれぞれ配設され、上記
半導体機能素子と上記光学素子との間で光電変換を行う
ようにした光電変換装置に関するものであって、液晶カ
ラーディスプレイに適用して最適なものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention provides a semiconductor functional element and an optical element, respectively, disposed between a first transparent substrate and a second transparent substrate. The present invention relates to a photoelectric conversion device configured to perform photoelectric conversion between the optical element and the optical element, and is optimal when applied to a liquid crystal color display.

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

本発明は、第1の透明基板と第2の透明基板との間に
半導体機能素子と光学素子とがそれぞれ配設され、上記
半導体機能素子と上記光学素子との間で光電変換を行う
ようにした光電変換装置において、上記光学素子に出入
りする光の波長を選択するための有機材料から成るフィ
ルターから少くとも部分的に構成された光制御層を上記
第1の透明基板上にほヾ一様な厚さで形成し、この光制
御層上に上記半導体機能素子と上記光学素子とをそれぞ
れ形成することによって、フィルターと光学素子の第1
の透明基板側の部分との視差により色ずれが生じるのを
防止することができ、また、第1の透明基板に第2の透
明基板を組み合わせる際には、フィルターのパターンと
半導体機能素子のパターンや光学素子の第1の透明基板
側の部分のパターンとの位置合せが不要であり、また、
光制御層、特にフィルターに凹凸を生じてこの凹凸によ
り色ずれが生じる恐れがなく、しかも、光制御層、特に
フィルターの形成工程を簡単にすることができ、さら
に、光制御層を安価に提供することができるようにした
ものである。
According to the present invention, a semiconductor functional element and an optical element are respectively arranged between a first transparent substrate and a second transparent substrate, and photoelectric conversion is performed between the semiconductor functional element and the optical element. In the photoelectric conversion device described above, a light control layer at least partially formed of a filter made of an organic material for selecting the wavelength of light entering and leaving the optical element is uniformly formed on the first transparent substrate. Of the filter and the optical element by respectively forming the semiconductor functional element and the optical element on the light control layer.
It is possible to prevent a color shift due to a parallax from the transparent substrate side portion of the above, and when combining the first transparent substrate and the second transparent substrate, the pattern of the filter and the pattern of the semiconductor functional element are used. And the alignment of the optical element with the pattern on the side of the first transparent substrate of the optical element is unnecessary.
There is no fear that unevenness will occur in the light control layer, especially the filter, and color unevenness will not occur due to this unevenness, and the process of forming the light control layer, especially the filter, can be simplified, and the light control layer can be provided at low cost. It is something that can be done.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、例えば液晶カラーテレビ用の液晶カラーディス
プレイは第3図に示すような構造となっている。この第
3図に示すように、従来の液晶カラーディスプレイにお
いては、モザイク状に配置された赤(R)、緑(G)、
青(B)のカラーフィルター1、保護層2、各絵素の共
通な電極であるITOから成る透明電極3及び液晶配向層
4が順次設けられたガラス基板5と、絵素のスイッチン
グ用のTFT(薄膜トランジスタ)6、SiO2膜7、ITOから
成る絵素電極8及び液晶配向層9が設けられたガラス基
板10との間に液晶11が封入され、上記ガラス基板5、10
のそれぞれの一方の側に偏光板12、13がそれぞれ設けら
れている。なお第3図において、例えばカラーフィルタ
ー1a〜1cはそれぞれ赤、緑、青のカラーフィルターに対
応する。
Conventionally, for example, a liquid crystal color display for a liquid crystal color television has a structure as shown in FIG. As shown in FIG. 3, in the conventional liquid crystal color display, red (R), green (G), arranged in a mosaic pattern,
A glass substrate 5 on which a blue (B) color filter 1, a protective layer 2, a transparent electrode 3 made of ITO, which is a common electrode for each picture element, and a liquid crystal alignment layer 4, are sequentially provided, and a TFT for switching the picture element. The liquid crystal 11 is sealed between the (thin film transistor) 6, the SiO 2 film 7, the pixel electrode 8 made of ITO, and the glass substrate 10 on which the liquid crystal alignment layer 9 is provided.
Polarizing plates 12 and 13 are provided on one side of each of the. In FIG. 3, for example, the color filters 1a to 1c correspond to red, green and blue color filters, respectively.

上記TFT6は、ソース領域14、ドレイン領域15、活性層
を構成するSi層16、ゲート電極17及びこのゲート電極17
とSi層16との間におけるSiO2膜7から成るゲート絶縁膜
から成っていて、上記ドレイン領域15に上記絵素電極8
の一端が接続されている。
The TFT 6 includes a source region 14, a drain region 15, an Si layer 16 forming an active layer, a gate electrode 17 and the gate electrode 17
And the Si layer 16 between the gate insulating film and the SiO 2 film 7, and the pixel electrode 8 is formed in the drain region 15.
One end of is connected.

第3図に示す液晶カラーディスプレイにおいては、偏
光板13の背面側に設けられた光源(図示せず)からの光
18をこの偏光板13を通して液晶11に入射させ、TFT6のオ
ン・オフ動作で液晶11中の上記光18の通過を制御するこ
とにより、各絵素のカラーフィルター1a〜1cに応じて選
択された波長の光を偏光板12から出射させ、これによっ
て所望のカラー画像を表示するようになっている。
In the liquid crystal color display shown in FIG. 3, light from a light source (not shown) provided on the back side of the polarizing plate 13 is used.
18 is made incident on the liquid crystal 11 through the polarizing plate 13 and the passage of the light 18 in the liquid crystal 11 is controlled by the on / off operation of the TFT 6, thereby being selected according to the color filters 1a to 1c of the respective picture elements. Light of a wavelength is emitted from the polarizing plate 12 to display a desired color image.

上述の第3図に示す液晶カラーディスプレイにおいて
は、カラーフィルター1をガラス基板5の外側表面(す
なわち、液晶11とは反対側の表面)に設けないで内側表
面(すなわち、液晶11側の表面)に設けているが、これ
はガラス基板10に設けられた絵素電極8と同一絵素のカ
ラーフィルター1との視差をできるだけ少なくするため
である。このカラーフィルター1は本来、光の経路のど
の場所に設けてもよいが、色ずれを防止するためには上
述の視差をなくすことが必要不可欠である。
In the liquid crystal color display shown in FIG. 3 described above, the color filter 1 is not provided on the outer surface (that is, the surface opposite to the liquid crystal 11) of the glass substrate 5, but the inner surface (that is, the surface on the liquid crystal 11 side). This is to minimize the parallax between the picture element electrode 8 provided on the glass substrate 10 and the color filter 1 having the same picture element. Originally, the color filter 1 may be provided at any place on the light path, but it is essential to eliminate the parallax described above in order to prevent color misregistration.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

しかしながら、第3図に示すような構造の従来の液晶
カラーディスプレイでは、特に高解像度化のために絵素
ピッチ(またはサイズ)を小さくした場合に視差が相対
的に大きくなってしまい、この結果、色ずれが生じてし
まうのを避けることができなかった。
However, in the conventional liquid crystal color display having the structure as shown in FIG. 3, the parallax becomes relatively large especially when the pixel pitch (or size) is made small for high resolution, and as a result, The color shift was unavoidable.

本発明は、従来技術が有する上述のような欠点を是正
した液晶カラーディスプレイ等の光電変換装置を提供す
ることを目的とする。
It is an object of the present invention to provide a photoelectric conversion device such as a liquid crystal color display in which the above-mentioned drawbacks of the prior art are corrected.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明者等は、上述の液晶カラーディスプレイが有す
る上述のような欠点を是正すべく鋭意検討を行い、これ
を端緒として本発明を案出するに至った。
The present inventors have conducted extensive studies to correct the above-mentioned drawbacks of the liquid crystal color display, and have devised the present invention with this as a starting point.

すなわち、本発明は、第1の透明基板(例えば、ガラ
ス基板10)と第2の透明基板(例えば、ガラス基板5)
との間に半導体機能素子(例えば、TFT6)と光学素子
(例えば、液晶11、液晶配向層4、9、絵素電極8及び
透明電極3から成る液晶素子)とがそれぞれ配設され、
上記半導体機能素子と上記光学素子との間で光電変換を
行うようにした光電変換装置において、上記光学素子に
出入りする光の波長を選択するための有機材料から成る
フィルター(例えば、カラーフィルター1)から少くと
も部分的に構成された光制御層(例えば、カラーフィル
ター1のみから成る層又はカラーフィルター1d、1e、1
f、1gおよび黒色フィルター19から成る層)が上記第1
の透明基板上にほヾ一様な厚さで形成され、この光制御
層上に上記半導体機能素子と上記光学素子とがそれぞれ
形成されている。
That is, the present invention relates to a first transparent substrate (for example, glass substrate 10) and a second transparent substrate (for example, glass substrate 5).
And a semiconductor functional element (for example, a TFT 6) and an optical element (for example, a liquid crystal element including a liquid crystal 11, liquid crystal alignment layers 4 and 9, a pixel electrode 8 and a transparent electrode 3) are arranged between
In a photoelectric conversion device configured to perform photoelectric conversion between the semiconductor functional element and the optical element, a filter made of an organic material for selecting the wavelength of light entering and leaving the optical element (for example, color filter 1) A light control layer at least partially composed of (eg a layer consisting of color filter 1 only or color filters 1d, 1e, 1
The layer consisting of f, 1 g and the black filter 19) is the first
Is formed on the transparent substrate with a substantially uniform thickness, and the semiconductor functional element and the optical element are formed on the light control layer.

〔作用〕[Action]

このように構成することによって、フィルターに凹凸
を生じて色ずれを生じたり、また、フィルターの形成工
程が面倒になったりすることなく、フィルターと光学素
子の第1の透明基板側の部分とを近接させることができ
る。
With this configuration, the filter and the portion of the optical element on the side of the first transparent substrate can be formed without causing unevenness in the filter to cause color misregistration or complicating the filter forming process. Can be in close proximity.

〔実施例〕〔Example〕

以下本発明に係る光電変換装置を透過型の液晶カラー
ディスプレイに適用した一実施例につき図面を参照しな
がら説明する。なお以下の第1図及び第2図において
は、第3図と同一部分には同一の符号を付し、必要に応
じてその説明を省略する。
An embodiment in which the photoelectric conversion device according to the present invention is applied to a transmissive liquid crystal color display will be described below with reference to the drawings. In the following FIGS. 1 and 2, the same parts as those in FIG. 3 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted as necessary.

第1図に示すように、本実施例による液晶カラーディ
スプレイにおいては、有機材料から成るカラーフィルタ
ー1及び例えば膜厚0.1〜1μmのSi3N4膜からなる保護
層2がガラス基板10上に設けられ、この保護層2の上に
TFT6、SiO2膜7、絵素電極8及びSiO2から成る液晶配向
層9が設けられていることを除いて、第3図に示す従来
の液晶カラーディスプレイと同一構成となっている。
As shown in FIG. 1, in the liquid crystal color display according to this embodiment, a color filter 1 made of an organic material and a protective layer 2 made of, for example, a Si 3 N 4 film having a film thickness of 0.1 to 1 μm are provided on a glass substrate 10. On this protective layer 2
It has the same structure as the conventional liquid crystal color display shown in FIG. 3 except that a TFT 6, a SiO 2 film 7, a pixel electrode 8 and a liquid crystal alignment layer 9 made of SiO 2 are provided.

上記有機カラーフィルター1は、リソグラフィー技術
あるいは印刷技術等を用いて形成される。またこの有機
カラーフィルター1は、耐熱温度が200℃程度と低いた
め、TFTアレイを構成する各TFT6は、本発明者等により
開発された例えば特願昭60−178921号(特開昭62−3906
8号公報参照)に記載のエキシマーレーザーによるアニ
ール技術を用いた低温プロセスにより形成される。すな
わち、例えばゲート電極17、ソース領域14及びドレイン
領域15の材料としてMoを用いると共に、Si層16としてプ
ラズマCVD法等により形成されたa−Si:H膜を用い、エ
キシマーレーザービームを照射して加熱することにより
上記a−Si:H膜を多結晶Si化し、これによって多結晶Si
TFTを形成する。
The organic color filter 1 is formed by using a lithography technique, a printing technique, or the like. Further, since this organic color filter 1 has a low heat resistance temperature of about 200 ° C., each TFT 6 constituting the TFT array has been developed by the present inventors, for example, in Japanese Patent Application No. 60-178921 (Japanese Patent Laid-Open No. 62-3906).
It is formed by a low temperature process using the annealing technique using an excimer laser described in Japanese Patent Publication No. 8). That is, for example, Mo is used as the material of the gate electrode 17, the source region 14, and the drain region 15, and an a-Si: H film formed by a plasma CVD method or the like is used as the Si layer 16 and irradiated with an excimer laser beam. By heating, the a-Si: H film is made into polycrystalline Si.
Form a TFT.

なお上述の第1図においては、絵素を順次駆動するた
めのドライバーICの図示を省略したが、このドライバー
ICは、例えばカラーフィルター1と同一材料の有機膜を
表示部以外のガラス基板10上に塗布し、この有機膜上に
TFTを形成することにより集積化することができる。
Although the driver IC for sequentially driving the picture elements is not shown in FIG.
For the IC, for example, an organic film made of the same material as the color filter 1 is applied on the glass substrate 10 other than the display unit, and the organic film is applied on the organic film.
It can be integrated by forming a TFT.

上述の実施例によれば、ガラス基板10上にカラーフィ
ルター1を設け、このカラーフィルター1上に保護層2
を介してTFT6、絵素電極8等を設けているので、カラー
フィルター1と絵素電極8とが極めて密接した構造とな
っている。このため、高解像度化のために絵素ピッチ
(サイズ)が小さくなっても、カラーフィルター1と絵
素電極8との視差が全く生じない。従って視差による色
ずれがない極めて鮮明な画像を表示させることが可能で
ある。また上述の実施例によれば、ガラス基板10上にカ
ラーフィルター1とTFT6とを設けているので、第3図に
示す従来の液晶カラーディスプレイにおけるように、液
晶11の封入時にカラーフィルター1のパターンとTFT6や
絵素電極8のパターンとの位置合わせが不要であり、従
って液晶カラーディスプレイの製造が容易である。
According to the above-mentioned embodiment, the color filter 1 is provided on the glass substrate 10, and the protective layer 2 is provided on the color filter 1.
Since the TFT 6, the pixel electrode 8 and the like are provided through the above, the color filter 1 and the pixel electrode 8 have a very close structure. Therefore, even if the pixel pitch (size) is reduced for higher resolution, no parallax between the color filter 1 and the pixel electrode 8 occurs. Therefore, it is possible to display an extremely clear image without color shift due to parallax. Further, according to the above-described embodiment, since the color filter 1 and the TFT 6 are provided on the glass substrate 10, the pattern of the color filter 1 is filled when the liquid crystal 11 is filled, as in the conventional liquid crystal color display shown in FIG. It is not necessary to align the TFT 6 and the pattern of the pixel electrodes 8 with each other, and therefore the liquid crystal color display can be easily manufactured.

以上本発明の一実施例につき説明したが、本発明は上
述の実施例に限定されるものではなく、本発明の技術的
思想に基づく各種の変形が可能である。例えばカラーフ
ィルター1としては必ずしも有機材料から成るフィルタ
ーを用いる必要はなく、必要に応じて無機材料から成る
フィルターを用いてもよい。また例えば、上述の実施例
においては、光制御層をカラーフィルター1のみから構
成したが、黒色フィルター19を設け、この黒色フィルタ
ー19上にTFT6を設けた構造とすることにより、光制御層
をカラーフィルター1及び黒色フィルター19から構成す
ることも可能である。このようにすれば、TFT6に光が入
射するのが防止されるので、光照射によるTFT6の特性変
化を防止することができる。さらに、互いに隣接するカ
ラーフィルター1間の境界領域上にAl等の光遮蔽層を設
けることにより光制御層をカラーフィルター1及び光遮
蔽層から構成しても、上述と同様な効果が得られる。な
お第2図において、符号20は各TFT6のゲート電極と接続
されている信号電極であり、符号21は各TFT6のソース領
域と接続されている走査電極である。
Although one embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made based on the technical idea of the present invention. For example, it is not always necessary to use a filter made of an organic material as the color filter 1, and a filter made of an inorganic material may be used if necessary. In addition, for example, in the above-described embodiments, the light control layer is composed of only the color filter 1. However, by providing the black filter 19 and the TFT 6 on the black filter 19, the light control layer is colored. It is also possible to comprise the filter 1 and the black filter 19. In this way, light is prevented from entering the TFT 6, and thus the characteristic change of the TFT 6 due to light irradiation can be prevented. Further, even if the light control layer is composed of the color filter 1 and the light shielding layer by providing the light shielding layer of Al or the like on the boundary region between the color filters 1 adjacent to each other, the same effect as described above can be obtained. In FIG. 2, reference numeral 20 is a signal electrode connected to the gate electrode of each TFT 6, and reference numeral 21 is a scanning electrode connected to the source region of each TFT 6.

また上述の実施例においては、本発明を液晶カラーデ
ィスプレイに適用した場合につき説明したが、イメージ
センサーまたはラインセンサーにも本発明を適用するこ
とが可能である(ただしこの場合には、第1図の液晶11
等を除く)。さらに、光学素子としてエレクトロ・ルミ
ネッセンス(EL)素子、発光ダイオード(LED)、光伝
導体(photoconductor)等を用いると共に、半導体機能
素子としてTFT等のトランジスタ、ダイオード等を用
い、それらの間で光電変換を行う各種光電変換装置に本
発明を適用することが可能である。
Further, in the above-mentioned embodiments, the case where the present invention is applied to the liquid crystal color display has been described, but the present invention can also be applied to an image sensor or a line sensor (in this case, FIG. LCD 11
Etc.). Furthermore, electroluminescence (EL) elements, light emitting diodes (LEDs), photoconductors, etc. are used as optical elements, and transistors such as TFTs, diodes, etc. are used as semiconductor functional elements, and photoelectric conversion is performed between them. The present invention can be applied to various photoelectric conversion devices that perform the above.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明によれば、光学素子に出入りする光の波長を選
択するためのフィルターから少くとも部分的に構成され
た光制御層を第1の透明基板上にほヾ一様な厚さで形成
すると共に、この光制御層上に半導体機能素子と光学素
子とをそれぞれ形成するようにした。従って、フィルタ
ーと光学素子の第1の透明基板側の部分とが近接した構
成となるので、高解像度化のために絵素ピッチが小さく
なっても、フィルターと光学素子の第1の透明基板側の
部分との視差により色ずれが生じるのを実質的に防止す
ることができる。また、フィルターのパターンと半導体
機能素子のパターンや光学素子の第1の透明基板側の部
分のパターンとの位置合せは、第1の透明基板上にフィ
ルターに次いで半導体機能素子や光学素子の第1の透明
基板側の部分を順次形成するときに行うことができるの
で、第1の透明基板に第2の透明基板を組み合せる際に
は、上記パターンの位置合せが不要である。
According to the invention, a light control layer at least partially made up of a filter for selecting the wavelength of light entering and leaving the optical element is formed on the first transparent substrate with a substantially uniform thickness. At the same time, a semiconductor functional element and an optical element are formed on the light control layer. Therefore, since the filter and the portion of the optical element on the first transparent substrate side are in close proximity to each other, even if the pixel pitch is reduced for higher resolution, the filter and the first transparent substrate side of the optical element are arranged. It is possible to substantially prevent the occurrence of color shift due to the parallax with the portion. Further, the alignment of the pattern of the filter with the pattern of the semiconductor functional element or the pattern of the portion of the optical element on the side of the first transparent substrate is carried out on the first transparent substrate after the filter after the first of the semiconductor functional element and the optical element. Since it can be performed when sequentially forming the portion on the transparent substrate side of, the alignment of the pattern is not necessary when the second transparent substrate is combined with the first transparent substrate.

しかも、光学素子に出入りする光の波長を選択するた
めのフィルターから少くとも部分的に構成された光制御
層を第1の透明基板上にほヾ一様な厚さで形成すると共
に、この光制御層上に半導体機能素子と光学素子とをそ
れぞれ形成するようにした。従って、フィルターから少
くとも部分的に構成された光制御層を第1の透明基板上
にほヾ平坦に形成してからこのほヾ平坦な光制御層上に
半導体機能素子および光学素子をそれぞれ形成すること
ができるので、第1の透明基板上に半導体機能素子およ
び光学素子をそれぞれ形成してから光制御層を形成する
場合のように、半導体機能素子が有する複雑な凹凸に応
じて光制御層、特にフィルター(例えば、1μm程度の
厚さ)に凹凸を生じてこの凹凸により色ずれが生じる恐
れがなく、また、半導体機能素子の形成工程が面倒にな
ることなしに光制御層、特にフィルターの形成工程を簡
単にすることができる。また、第1の透明基板上にゲー
ト線およびソース線を互いに交叉させて全体として格子
状に形成して各交叉部分に半導体機能素子を点在させる
と共に、これらの半導体機能素子、ゲート線およびソー
ス線が存在していない部分のみにおいて第1の透明基板
上にフィルターを設けることにより、第1の透明基板上
に半導体機能素子とフィルターとをこの第1の透明基板
の面方向において並置した場合のように、複雑な凹凸を
有する半導体機能素子、ゲート線およびソース線が存在
していない部分のみにおいて第1の透明基板上にフィル
ターを形成する必要が生じてフィルターの形成工程が面
倒になる恐れがない。
In addition, a light control layer at least partially formed of a filter for selecting the wavelength of light entering and leaving the optical element is formed on the first transparent substrate with a substantially uniform thickness, and A semiconductor functional element and an optical element are respectively formed on the control layer. Therefore, a light control layer at least partially composed of a filter is formed to be substantially flat on the first transparent substrate, and then a semiconductor functional element and an optical element are formed on the almost flat light control layer. Therefore, as in the case where the light control layer is formed after the semiconductor functional element and the optical element are respectively formed on the first transparent substrate, the light control layer is formed according to the complicated unevenness of the semiconductor functional element. In particular, there is no fear that irregularities will occur in the filter (for example, a thickness of about 1 μm) and color irregularity will occur due to these irregularities, and the process of forming the semiconductor functional element will not be complicated, and the light control layer, especially the filter The forming process can be simplified. Further, the gate lines and the source lines are intersected with each other on the first transparent substrate to form a lattice shape as a whole so that the semiconductor functional elements are scattered at each intersection, and the semiconductor functional elements, the gate lines and the sources are also provided. By providing the filter on the first transparent substrate only in the portion where the line does not exist, it is possible to arrange the semiconductor functional device and the filter on the first transparent substrate in the plane direction of the first transparent substrate. As described above, it is necessary to form the filter on the first transparent substrate only in the portion where the semiconductor functional element having the complicated unevenness, the gate line and the source line do not exist, which may make the filter forming process troublesome. Absent.

さらに、光学素子に出入りする光の波長を選択するた
めのフィルターが耐熱性には乏しいが安価な有機材料か
ら成っているので、フィルターから少くとも部分的に構
成された光制御層、ひいては光電変換装置を安価に提供
することができる。
Furthermore, since the filter for selecting the wavelength of light entering and leaving the optical element is made of an inexpensive organic material having poor heat resistance, a light control layer at least partially composed of the filter, and thus photoelectric conversion. The device can be provided at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例による液晶カラーディスプレ
イの断面図、第2図は本発明の変形例による液晶カラー
ディスプレイの平面図、第3図は従来の液晶カラーディ
スプレイの断面図である。 なお図面に用いた符号において、 1……カラーフィルター 3……透明電極 4,9……液晶配向層 5……ガラス基板(第2の透明基板) 6……TFT(半導体機能素子) 8……絵素電極 10……ガラス基板(第1の透明基板) 11……液晶 12,13……偏光板 19……黒色フィルター である。
FIG. 1 is a sectional view of a liquid crystal color display according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of a liquid crystal color display according to a modification of the present invention, and FIG. 3 is a sectional view of a conventional liquid crystal color display. In the reference numerals used in the drawings, 1 ... color filter 3 ... transparent electrode 4,9 ... liquid crystal alignment layer 5 ... glass substrate (second transparent substrate) 6 ... TFT (semiconductor functional element) 8 ... Pixel electrode 10: Glass substrate (first transparent substrate) 11: Liquid crystal 12, 13: Polarizing plate 19: Black filter.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】第1の透明基板と第2の透明基板との間に
半導体機能素子と光学素子とがそれぞれ配設され、 上記半導体機能素子と上記光学素子との間で光電変換を
行うようにした光電変換装置において、 上記光学素子に出入りする光の波長を選択するための有
機材料から成るフィルターから少くとも部分的に構成さ
れた光制御層が上記第1の透明基板上にほヾ一様な厚さ
で形成され、 この光制御層上に上記半導体機能素子と上記光学素子と
がそれぞれ形成されていることを特徴とする光電変換装
置。
1. A semiconductor functional element and an optical element are respectively disposed between a first transparent substrate and a second transparent substrate, and photoelectric conversion is performed between the semiconductor functional element and the optical element. In the photoelectric conversion device described above, a light control layer at least partially formed of a filter made of an organic material for selecting the wavelength of light entering and leaving the optical element is provided on the first transparent substrate. A photoelectric conversion device having a uniform thickness and the semiconductor functional element and the optical element respectively formed on the light control layer.
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