JP2500649B2 - Ic異物検査装置 - Google Patents
Ic異物検査装置Info
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- JP2500649B2 JP2500649B2 JP5275334A JP27533493A JP2500649B2 JP 2500649 B2 JP2500649 B2 JP 2500649B2 JP 5275334 A JP5275334 A JP 5275334A JP 27533493 A JP27533493 A JP 27533493A JP 2500649 B2 JP2500649 B2 JP 2500649B2
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Description
特にICのリード間に付着したモールドかすや繊維くず
等の異物を検出するIC異物検査装置に関する。
66908公報に示す「ICリード検出方法」がある。
て説明する。図3は従来例の検査装置の構成図である。
画像を入力する撮像素子31と、撮像素子31から入力
した画像を記憶するフレームメモリ32と、フレームメ
モリ32からの画像データから演算処理を行いICリジ
ェクト信号を出力する演算処理部33とを含んで構成さ
れる。次に、従来の検査装置について特開昭61−66
908のうち、異物付着検出について図3を参照して説
明する。撮像素子31から入力した画像は、フレームメ
モリ32に記憶される。フレームメモリ32から出力さ
れる画像データは、演算処理部33に入力される。演算
処理部33では、適当な二値化レベルにより二値化処理
された後、リード上の領域にリードの長手方向に二値化
データが“1”→“0”→“1”と変化した場合は、異
物付着と判定し、欠陥信号を発生する。
置のリード上に付着した異物付着の検出方法において
は、リードに付着した繊維くず等の透過率の高い異物
は、リード部と異物部の濃淡値の差が少なく、濃淡値の
二値化データでは、異物部分のみ“0”にすることは困
難であり、異物の検出ができないという欠点があった。
装置では、リード間に付着した異物を検出することはで
きないという欠点があった。
置は、検査対象ICのリード部分を撮像しアナログ画像
データを出力するカメラと、アナログ画像データを入力
しAD変換を行い濃淡画像データを出力するAD変換回
路と、濃淡画像データを入力し濃度の変化点が強調され
るように微分処理を行い微分画像データを出力する微分
回路と、複数のリードを含む検査対象領域を記憶させて
おく検査領域記憶回路と、検査対象領域内の微分画像デ
ータをあらかじめ設定した第一の二値化レベルにより二
値化画像データに変換し出力する第一の二値化回路と、
リードの長手方向と平行な方向の二値化画像データの1
の数を計測する投影回路と、投影結果をあらかじめ設定
した第二の二値化レベルで二値化を行い投影二値化デー
タを出力する第二の二値化回路と、投影二値化データの
0と1の全ての連続数をカウントしあらかじめ設定した
0と1の連続数のそれぞれの上限値と下限値の範囲外の
連続数が一つでもあれば異物付着と判定する判定回路と
を含むことを特徴としている。
て説明する。
実施例を示すブロック図である。
カメラ1は、検査対象IC2のリード部分を撮像しアナ
ログ画像データaを出力する。AD変換回路3は、アナ
ログ画像データaを入力しAD変換を行い濃淡画像デー
タbを出力する。尚、AD変換された濃淡画像データb
を一旦メモリ回路に記憶させた後、メモリ回路から記憶
データの読出しを行い後の処理回路へデータを流す構成
も考えられる。微分回路4は、濃淡画像データaを入力
し濃度の変化点が強調されるように微分処理を行い微分
画像データcを出力する。検査領域記憶回路5は、複数
のリードを含む検査対象領域を記憶させておき検査対象
領域信号dを出力する。第一の二値化回路6は、検査対
象領域信号dによる領域内の微分画像データcをあらか
じめ設定した第一の二値化レベルにより二値化画像デー
タeに変換し出力する。投影回路7は、リードの長手方
向と平行な方向の二値化画像データの“1”の数を計測
し計測データfを出力する。第二の二値化回路8は、計
測データfを入力し計測データをあらかじめ設定した第
二の二値化レベルで二値化を行い投影二値化データgを
出力する。判定回路9は、投影二値化データgの“0”
と“1”の全ての連続数をカウントし、あらかじめ設定
した“0”と“1”の連続数のそれぞれの上限値と下限
値の範囲外の連続数が一つでもあれば、異物付着と判定
する。
ついて図1、図2を参照して説明する。
出の原理を説明するためのパターン図である。
ド21に付着している濃淡画像データbのパターン図
で、異物22はリード21間の片方のリード21に付着
し、異物23はリード21間にまたがって付着してい
る。図2(b)は、二値化画像信号eのパターン図で、
斜線部が二値化後の“1”の領域である。異物22と異
物23のエッジ部分が微分回路4で強調されるので、第
一の二値化回路6により、異物22と異物23のエッジ
部分22’,23’は“1”の領域となる。仮に濃淡画
像データbのままで二値化処理を行うと、反射率の低い
異物部分や透過率の高い異物部分は、濃淡画像データb
のデジタル値が小さいために、図2(e)に示すよう
に、異物部分が“1”の領域にならないために異物の検
出は困難である。 図2(c)は、投影回路7から出力
される計測データfのグラフであり、横軸は図2(b)
と位置的に対応している。縦軸は計測度数を示してお
り、異物22と異物23のエッジに相当する領域22''
と領域23''には、異物の付着していないリード21間
より大きい値が存在している。異物が付着していない場
合は、リード21間に対応する計測データfの値は
“0”または“0”に近い値となる。従って、第2の二
値化回路には異物の付着していないリード21間の計測
データよりも少し大きい値を設定しておくと、第二の二
値化回路8から出力される投影二値化データgの異物付
着部分は“1”となる。図2(d)は、投影二値化デー
タgのグラフを表しており、投影二値化データの“1”
の連続数H1,H2,H3、“0”の連続数L1,L2
のうち、異物の付着していない、リード21部分に相当
するH1の長さに対して異物の付着しているリード21
部分に相当するH2,H3は付着している異物の大きさ
に対応して長くなる。また、リード21間の長さに相当
するL2の長さに対して異物の付着しているリード21
間に相当するL1は短くなる。従って、判定回路9で
は、投影二値化データの“1”と“0”の全ての連続数
をカウントし、あらかじめ設定した“0”と“1”の連
続数のそれぞれの上限値と下限値の範囲外の連続数があ
れば、異物付着と判定することができる。
検査装置では、濃淡画像を微分処理したあと二値化を行
い、異物領域のエッジを検出して異物検出を行うことに
より、透過率の高い異物やリード間に付着した反射率の
低い異物でも確実に検出することができるという効果が
ある。
すブロック図である。
説明するためのパターン図である。図2(a),
(b),(e)は本発明の原理を説明するためのパター
ン図である。図2(c),(d)は本発明の原理を説明
するためのグラフである。
Claims (1)
- 【請求項1】 検査対象ICのリード部分を撮像しアナ
ログ画像データを出力するカメラと、前記アナログ画像
データを入力しAD変換を行い濃淡画像データを出力す
るAD変換回路と、前記濃淡画像データを入力し濃度の
変化点が強調されるように微分処理を行い微分画像デー
タを出力する微分回路と、複数のリードを含む検査対象
領域を記憶させておく検査領域記憶回路と、前記検査対
象領域内の微分画像データをあらかじめ設定した第一の
二値化レベルにより二値化画像データに変換し出力する
第一の二値化回路と、前記リードの長手方向と平行な方
向の前記二値化画像データの1の数を計測する投影回路
と、前記投影結果をあらかじめ設定した第二の二値化レ
ベルで二値化を行い投影二値化データを出力する第二の
二値化回路と、前記投影二値化データの0と1の全ての
連続数をカウントしあらかじめ設定した0と1の連続数
のそれぞれの上限値と下限値の範囲外の連続数が一つで
もあれば異物付着と判定する判定回路とを備えることを
特徴とするIC異物検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5275334A JP2500649B2 (ja) | 1993-11-04 | 1993-11-04 | Ic異物検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5275334A JP2500649B2 (ja) | 1993-11-04 | 1993-11-04 | Ic異物検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07128249A JPH07128249A (ja) | 1995-05-19 |
JP2500649B2 true JP2500649B2 (ja) | 1996-05-29 |
Family
ID=17554024
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5275334A Expired - Lifetime JP2500649B2 (ja) | 1993-11-04 | 1993-11-04 | Ic異物検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2500649B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6987894B2 (en) | 2000-04-28 | 2006-01-17 | Nec Electronics Corporation | Appearance inspection apparatus and method in which plural threads are processed in parallel |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4743805B2 (ja) | 2000-04-06 | 2011-08-10 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 外観検査方法および装置 |
JP2001311693A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-09 | Nitto Kogyo Co Ltd | 検査装置 |
-
1993
- 1993-11-04 JP JP5275334A patent/JP2500649B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6987894B2 (en) | 2000-04-28 | 2006-01-17 | Nec Electronics Corporation | Appearance inspection apparatus and method in which plural threads are processed in parallel |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07128249A (ja) | 1995-05-19 |
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