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JP2500196Y2 - Laser annealing device - Google Patents

Laser annealing device

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Publication number
JP2500196Y2
JP2500196Y2 JP1989117086U JP11708689U JP2500196Y2 JP 2500196 Y2 JP2500196 Y2 JP 2500196Y2 JP 1989117086 U JP1989117086 U JP 1989117086U JP 11708689 U JP11708689 U JP 11708689U JP 2500196 Y2 JP2500196 Y2 JP 2500196Y2
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JP
Japan
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laser
output
laser light
beams
wavelength
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JP1989117086U
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朗 上原
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NEC Corp
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NEC Corp
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Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案はレーザ光により熱処理を行うレーザアニール
装置に係わり、特に2台のレーザ光源を用いるレーザア
ニール装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of use] The present invention relates to a laser annealing apparatus for performing heat treatment with a laser beam, and more particularly to a laser annealing apparatus using two laser light sources.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来のレーザアニール装置においては、レーザの集光
位置での集光ビーム形状をできるだけ走査方向に対して
広く、または偏平とするために、1本のビームを円柱レ
ンズを通して楕円状に成形したり、複屈折板を挿入して
1本のビームを分割することが多い。しかし、高速性を
追求した場合には、2台のレーザ光源による2本のレー
ザビームを合成することが有利と考えられる。この場
合、2本のビームの重なり量を調節することにより、強
度分布の変化を容易に行うことが可能である。
In the conventional laser annealing apparatus, in order to make the focused beam shape at the laser focusing position as wide or flat as possible in the scanning direction, one beam is shaped into an elliptical shape through a cylindrical lens, A birefringent plate is often inserted to split one beam. However, when high speed is pursued, it is considered advantageous to combine two laser beams from two laser light sources. In this case, it is possible to easily change the intensity distribution by adjusting the overlapping amount of the two beams.

〔考案が解決しようとする課題〕 ところで、上述した2台のレーザ光源による2本のレ
ーザビームの合成による方法では、2本のビームの入射
位置と角度を微小に変化させることで、それぞれの合成
後のビームの重なり量を変化させることが可能である。
しかし、それぞれのビームの強度のバランスを揃えない
と、軸対称性が失われる。特に、走査方向と直交する軸
での不均一が発生すると、アニーリング状態に悪影響を
及ぼすという問題がある。
[Problems to be Solved by the Invention] By the way, in the above-described method of combining two laser beams by two laser light sources, by combining minutely changing the incident position and angle of the two beams, respective combining is performed. It is possible to change the amount of overlap of the subsequent beams.
However, if the intensities of the respective beams are not balanced, the axial symmetry is lost. In particular, when the non-uniformity occurs in the axis orthogonal to the scanning direction, there is a problem that the annealing state is adversely affected.

このビーム強度バランスのコントロールは、通常レー
ザ光源の励起レベルを変化させて行っている。ところ
が、レーザ光源の励起レベルを変化させると、レーザ出
力の安定度が低下したり、ビーム径の強度分布も変化し
てしまうという問題が発生する。そこで、レーザ光源の
励起レベルを変化させずにビーム強度バランスをコント
ロールする方法として、外部で出力を所定の値まで減衰
させることが考えられる。
The control of the beam intensity balance is usually performed by changing the excitation level of the laser light source. However, when the excitation level of the laser light source is changed, there arise problems that the stability of the laser output is lowered and the intensity distribution of the beam diameter is also changed. Therefore, as a method of controlling the beam intensity balance without changing the excitation level of the laser light source, it is possible to externally attenuate the output to a predetermined value.

例えば、直線偏光のレーザビームの場合には、回転に
より透過光強度が連続的に可変可能な偏光板、または方
解石を用いた偏光プリズムが用いられる。ところが、偏
光板を用いた場合には波長に対する依存性が高く、特に
アルゴンレーザのように複数波長の発振するレーザで
は、挿入損失が増大する。また、偏光プリズムを用いた
場合に波長特性は良いが、プリズムの接合面でダメージ
が発生し易く、大出力にはあまり適さない。
For example, in the case of a linearly polarized laser beam, a polarizing plate whose transmitted light intensity can be continuously changed by rotation or a polarizing prism using calcite is used. However, when a polarizing plate is used, the dependence on wavelength is high, and particularly in a laser that oscillates at a plurality of wavelengths such as an argon laser, the insertion loss increases. Further, when a polarizing prism is used, the wavelength characteristic is good, but damage is likely to occur on the joint surface of the prism, and it is not suitable for high output.

一方、金属薄膜を光学ガラスに蒸着し、薄膜の厚みを
連続的に変化させて透過率を制御できる円盤型連続のビ
ーム・スプリッタは、偏光特性に関係なく用いることが
可能である。しかし、薄膜の吸収により熱が発生して透
過するレーザの横モードに影響を与える欠点がある。ま
た、光束の径が大きいと光束断面の位置で減衰が異なる
ことになる。
On the other hand, a disk-type continuous beam splitter in which a metal thin film is vapor-deposited on optical glass and the transmittance can be controlled by continuously changing the thickness of the thin film can be used regardless of polarization characteristics. However, there is a disadvantage that heat is generated by absorption of the thin film and affects the transverse mode of the laser which is transmitted. Further, if the diameter of the light beam is large, the attenuation will be different at the position of the light beam cross section.

更に、第3図に示すように、1/2波長板と偏光ビーム
・スプリッタとを組み合わせて、この1/2波長板を回転
させることにより透過する偏光成分の比を変えて、出力
の減衰率を制御することも可能である。しかし、通常の
1/2波長板では、2枚の水晶板の厚みの差と光軸方位角
の調整で必要な位相差が得られるので、波長に対して依
存性が高い。したがって、アルゴンレーザ等を用いた場
合、出力の減衰の他、内部の透過波長の比率まで変化す
る等の問題がある。
Furthermore, as shown in FIG. 3, by combining a half-wave plate and a polarization beam splitter, and rotating the half-wave plate, the ratio of the polarized components that are transmitted is changed, and the output attenuation factor is changed. It is also possible to control But the normal
In the half-wave plate, the required phase difference can be obtained by adjusting the difference in thickness between the two quartz plates and adjusting the azimuth angle of the optical axis, and therefore has a high dependency on the wavelength. Therefore, when an argon laser or the like is used, there is a problem in that, in addition to the attenuation of the output, the ratio of the internal transmission wavelength changes.

本考案はこのような事情に鑑みてなされたもので、挿
入損失が低く、広帯域での使用が可能で、高速かつ高品
位な焼きなましが行えるレーザアニール装置を提供する
ことを目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a laser annealing apparatus which has a low insertion loss, can be used in a wide band, and can perform high-speed and high-quality annealing.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本考案は、2台のレーザ光源と、この各レーザ光源か
ら発振されたレーザビームを合成してアニーリング対象
金属に同時に集光させることにより、金属に熱的変化を
与える光学系とを備え、この光学系は2本のレーザビー
ムの光軸にそれぞれ挿入されて光軸廻りの回転機構を有
する1/2波長フレネルロムと、前記した2本のレーザビ
ームを合成させる偏光ビーム・スプリッタと、アニーリ
ング対象金属におけるレーザビームの集光位置の近傍に
配置されレーザビームの出力を測定するレーザ出力測定
器と、このレーザ出力測定器の測定結果に応じてフレネ
ルロムの回転を制御することで出力を所定の値に設定す
るコントローラとを有するものとし、もって2台のレー
ザ光源のビーム強度のバランスを光学系出力に応じ、レ
ーザ光源の励起レベルを変えずにコントロール可能と
し、周波数依存性を低くして、挿入損失の低下、高品位
かつ大出力化等を図り、上述した目的を達成するもので
ある。
The present invention is provided with two laser light sources and an optical system for combining the laser beams oscillated from the respective laser light sources and simultaneously focusing them on the metal to be annealed to give a thermal change to the metal. The optical system is a half-wavelength Fresnel rom having a rotation mechanism around the optical axis inserted into the optical axes of the two laser beams, a polarizing beam splitter for combining the two laser beams, and a metal to be annealed. A laser output measuring instrument that is placed near the laser beam focusing position to measure the output of the laser beam, and controls the rotation of the Fresnel rom according to the measurement result of this laser output measuring instrument to bring the output to a predetermined value. It has a controller to set the balance of the beam intensity of the two laser light sources according to the output of the optical system. And can be controlled without changing, by reducing the frequency dependence, decrease insertion loss, achieving high-quality and high output, etc., it is to achieve the above object.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本考案の一実施例を第1図〜第3図を参照して
説明する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

第1図はレーザアニール装置の光学系を示す構成図、
第2図は1/2波長板と偏光ビームスプリッタとの組み合
わせによる偏光作用を示す図、第3図は1/2波長フレネ
ルロムを示す図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an optical system of a laser annealing apparatus,
FIG. 2 is a diagram showing a polarization action by a combination of a 1/2 wavelength plate and a polarization beam splitter, and FIG. 3 is a diagram showing a 1/2 wavelength Fresnel ROM.

本実施例では、2台のレーザ光源11、12と、この各レ
ーザ光源から発振されたレーザビームa、bを合成して
アニーリング対象金属としての試料13に同時に集光させ
る光学系14とを有している。この光学系14は、2本のレ
ーザビームa、bの光軸にそれぞれ挿入されて光軸廻り
の回転機構を有する1/2波長フレネルロム15、16と、こ
れらのフレネルロムの回転をレーザ出力測定器17の出力
に応じて制御する図示しないコントローラと、2本のレ
ーザビームa、bを合成させる偏光ビーム・スプリッタ
18とを有している。レーザ光源11と1/2波長フレネルロ
ム16との間には、光軸調整ミラー19、20、21が設けられ
ている。また、レーザ光源12と1/2波長フレネルロム15
との間には、光軸調整ミラー22、23が設けられている。
In this embodiment, there are provided two laser light sources 11 and 12, and an optical system 14 that combines the laser beams a and b oscillated from the respective laser light sources and simultaneously focuses them on a sample 13 as a metal to be annealed. are doing. The optical system 14 includes 1/2 wavelength Fresnel roms 15 and 16 each having a rotation mechanism around the optical axis inserted into the optical axes of the two laser beams a and b, and a laser output measuring device for measuring the rotation of these Fresnel roms. A controller (not shown) that controls according to the output of 17 and a polarization beam splitter that combines the two laser beams a and b
18 and. Optical axis adjusting mirrors 19, 20, 21 are provided between the laser light source 11 and the 1/2 wavelength Fresnel ROM 16. Also, a laser light source 12 and a 1/2 wavelength Fresnel ROM 15
Optical axis adjusting mirrors 22 and 23 are provided between and.

更に、1/2波長フレネルロム15と偏光ビーム・スプリ
ッタ18との間には、ビームエキスパンダ24と光軸調整ミ
ラー25とが設けられ、1/2波長フレネルロム16と偏光ビ
ーム・スプリッタ18との間には、ビームエキスパンダ26
が設けられている。更にまた、偏光ビーム・スプリッタ
18とビームレデューサー27との間には、光軸調整ミラー
28、29が設けられ、ビームレデューサ27と対物レンズ30
との間には、光軸調整ミラー31が設けられている。
Further, a beam expander 24 and an optical axis adjusting mirror 25 are provided between the 1/2 wavelength Fresnel ROM 15 and the polarization beam splitter 18, and between the 1/2 wavelength Fresnel ROM 16 and the polarization beam splitter 18. The beam expander 26
Is provided. Furthermore, polarizing beam splitter
An optical axis adjustment mirror is provided between 18 and the beam reducer 27.
28 and 29 are provided, a beam reducer 27 and an objective lens 30.
An optical axis adjusting mirror 31 is provided between and.

以上の構成において、2台のレーザ光源11、12から発
振されたレーザビームa、bは、それぞれ複数の光軸調
整ミラー19〜23で折り返され、1/2波長フレネルロム1
5、16に入射される。なお、光軸調整ミラー19〜23の配
置は各レーザビームa、bで異ならせている。これは、
後に偏光ビーム・スプリッタ18でビーム合成を行うため
の偏光面を直交させておく必要があるからである。
In the above configuration, the laser beams a and b oscillated from the two laser light sources 11 and 12 are respectively reflected by the plurality of optical axis adjusting mirrors 19 to 23, and the 1/2 wavelength Fresnel rom 1
It is incident on 5 and 16. The arrangement of the optical axis adjusting mirrors 19 to 23 is different for each laser beam a and b. this is,
This is because it is necessary to make the polarization planes orthogonal to each other for performing beam combining later by the polarization beam splitter 18.

レーザビームa、bの径は、1/2波長フレネルロム1
5、16を通過した後にビームエキスパンダ24、26で拡大
される。そして、偏光ビーム・スプリッタ18でビーム合
成が行われ、ビームは非常に近接した状態でビームレデ
ューサ27に入射され、対物レンズ30で集光されて試料13
に到達する。
The diameter of the laser beams a and b is 1/2 wavelength Fresnel ROM 1
After passing 5 and 16, it is expanded by beam expanders 24 and 26. Then, the beams are combined by the polarization beam splitter 18, the beams are incident on the beam reducer 27 in a state of being very close to each other, and the beams are condensed by the objective lens 30 to form the sample 13
To reach.

試料面のアニーリングを行うためには、試料13を例え
ばXYステージ上に載置して移動させるか、または対物レ
ンズ30を含めた光学系を移動させて行う。
In order to anneal the sample surface, the sample 13 is placed on an XY stage and moved, or the optical system including the objective lens 30 is moved.

次に、出力バランスのコントロールについて説明す
る。
Next, output balance control will be described.

レーザ光源11、12から発振された各レーザビームa、
bは、それぞれ直線偏光(S偏光)されているものとす
る。第2図に示すように、一方のレーザビームaは光軸
調整ミラー19、20、21によって反射された後、偏光がS
となり、他方のレーザビームbは偏光がPとなる。初期
状態では、1/2波長フレネルロム15、16がそれぞれ偏光
面の回転しない角度で停止している。したがって、偏光
ビーム・スプリッタ18では、レーザビームbはP偏光の
まま入射して偏光ビーム・スプリッタ18の接合面を直進
し、ほとんど損失なく通過する。一方のレーザビームa
はS偏光のまま偏光ビーム・スプリッタ18に他方のレー
ザビームbと直交する軸で入射し、同じく接合面でほと
んど損失なく反射して、レーザビームbと合成されて出
力する。
Each laser beam a oscillated from the laser light sources 11 and 12,
b is assumed to be linearly polarized light (S polarized light). As shown in FIG. 2, one of the laser beams a is reflected by the optical axis adjusting mirrors 19, 20, 21 and then polarized by S.
And the polarization of the other laser beam b is P. In the initial state, the half-wave Fresnel roms 15 and 16 are stopped at the angles at which the planes of polarization do not rotate. Therefore, in the polarization beam splitter 18, the laser beam b is incident as it is as P-polarized light, goes straight on the junction surface of the polarization beam splitter 18, and passes through with almost no loss. One laser beam a
Is incident on the polarization beam splitter 18 in the direction orthogonal to the other laser beam b as it is as S-polarized light, is reflected by the cemented surface with almost no loss, and is combined with the laser beam b and output.

レーザビームaとbとの比が1:1の出力比とならない
場合には、光学系14の出射端に設置された出力測定器17
により、それぞれの出力を測定する。そして、レーザビ
ームa、bの出力の大きい方の光軸に挿入されている1/
2波長フレネルロム15または16を、図示しないコントロ
ーラにより制御手段を経由して回転させる。
When the ratio of the laser beams a and b does not reach the output ratio of 1: 1, the output measuring device 17 installed at the emitting end of the optical system 14
To measure each output. Then, 1 / that is inserted in the optical axis of the larger output of the laser beams a and b
The two-wavelength Fresnel ROM 15 or 16 is rotated by a controller (not shown) via the control means.

ここで、1/2波長フレネルロム15または16をθ回転さ
せると、入射された直線偏光の偏光面を2θ回転するこ
とになり、偏光ビーム・スプリッタ18を通過または反射
する比が変化し、一部は出力されずに分岐される。した
がって、出力は減少し、所定の値を得ることが可能とな
る。
Here, when the 1/2 wavelength Fresnel ROM 15 or 16 is rotated by θ, the polarization plane of the incident linearly polarized light is rotated by 2θ, and the ratio of passing or reflecting through the polarization beam splitter 18 is changed, Is branched without being output. Therefore, the output decreases, and it becomes possible to obtain a predetermined value.

以上説明したような実施例によれば、2台のレーザ光
源のビーム強度のバランスを、偏光ビーム・スプリッタ
18と1/2波長フレネルロム15、16とを用い、光学系出力
に応じて1/2波長フレネルロム15、16をコントロールす
るので、レーザ光源の励起レベルを変えずにコントロー
ル可能となり、また周波数依存性が低いので、挿入損失
が低く、高品位かつ大出力な光学系出力が得られる。
According to the embodiment described above, the polarization intensity of the two beam sources is balanced by the polarization beam splitter.
Since 18 and 1/2 wavelength Fresnel ROMs 15 and 16 are used to control 1/2 wavelength Fresnel ROMs 15 and 16 according to the output of the optical system, it becomes possible to control without changing the pumping level of the laser light source, and frequency dependence Is low, insertion loss is low, and high-quality and high-power optical system output can be obtained.

〔考案の効果〕[Effect of device]

以上説明したように本考案によれば、レーザビームの
出力を測定するレーザ出力測定器と、このレーザ出力測
定器の測定結果に応じてフレネルロムの回転を制御する
ことで出力を所定の値に設定するコントローラとを備え
たので、2台のレーザ光源のビーム強度のバランスを、
レーザ光源の励起レベルを変えずにコントロールするこ
とができ、挿入損失が低く、広帯域での使用が可能で、
高速かつ高品位なレーザアニールが行えるという優れた
効果が奏される。
As described above, according to the present invention, a laser output measuring instrument for measuring the output of a laser beam and the output is set to a predetermined value by controlling the rotation of the Fresnel rom according to the measurement result of the laser output measuring instrument. Since it is equipped with a controller that controls the beam intensity of the two laser light sources,
It can be controlled without changing the excitation level of the laser light source, its insertion loss is low, and it can be used in a wide band.
The excellent effect that high-speed and high-quality laser annealing can be performed is exhibited.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本考案に係わるレーザアニール装置の一実施例
を示す構成図、第2図は1/2波長板と偏光ビーム・スプ
リッタとを組み合わせた場合の偏光による光の分離を示
す図、第3図は1/2波長フレネルロムを示す図である。 11、12……レーザ光源、13……試料(アニーリング対象
金属)、14……光学系、15、16……1/2波長フレネルロ
ム、17……出力測定器、18……偏光ビーム・スプリッ
タ。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a laser annealing apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing the splitting of light by polarized light when a half-wave plate and a polarizing beam splitter are combined. FIG. 3 is a diagram showing a 1/2 wavelength Fresnel ROM. 11, 12 ... Laser light source, 13 ... Sample (metal to be annealed), 14 ... Optical system, 15, 16 ... 1/2 wavelength Fresnel rom, 17 ... Output measuring instrument, 18 ... Polarizing beam splitter.

Claims (1)

(57)【実用新案登録請求の範囲】(57) [Scope of utility model registration request] 【請求項1】2台のレーザ光源と、この各レーザ光源か
ら発振されたレーザビームを合成してアニーリング対象
金属に同時に集光させることにより、前記金属に熱的変
化を与える光学系とを備え、 この光学系は2本のレーザビームの光軸にそれぞれ挿入
されて光軸廻りの回転機構を有する1/2波長フレネルロ
ムと、前記2本のレーザビームを合成させる偏光ビーム
・スプリッタと、前記アニーリング対象金属におけるレ
ーザビームの集光位置の近傍に配置されレーザビームの
出力を測定するレーザ出力測定器と、このレーザ出力測
定器の測定結果に応じて前記フレネルロムの回転を制御
することで出力を所定の値に設定するコントローラ とを具備することを特徴とするレーザアニール装置。
1. A laser light source comprising two laser light sources, and an optical system for giving a thermal change to the metal to be annealed by combining the laser beams oscillated from the laser light sources and simultaneously focusing them on the metal to be annealed. This optical system is a half-wavelength Fresnel rom having a rotating mechanism around the optical axis inserted into the optical axes of the two laser beams, a polarizing beam splitter for combining the two laser beams, and the annealing. A laser output measuring instrument which is arranged in the vicinity of the condensing position of the laser beam on the target metal and measures the output of the laser beam, and a predetermined output by controlling the rotation of the Fresnel rom according to the measurement result of this laser output measuring instrument And a controller for setting the value of.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001145723A (en) * 1999-11-19 2001-05-29 Samii Kk Slot machine
JP5528015B2 (en) * 2009-06-10 2014-06-25 株式会社ディスコ Laser processing equipment
JP4581021B2 (en) * 2009-08-27 2010-11-17 株式会社ソフイア Game machine
US10170892B2 (en) 2015-06-19 2019-01-01 Amada Miyachi Co., Ltd. Laser unit and laser device

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01246827A (en) * 1988-03-28 1989-10-02 Tokyo Electron Ltd Beam annealing device

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