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JP2025061400A - MEMORY COMPRISING MULTIPLE PORTIONS AND USED TO REDUCE PROGRAM DISTURBANCE AND METHOD FOR PROGRAMMING SAME - Patent application - Google Patents

MEMORY COMPRISING MULTIPLE PORTIONS AND USED TO REDUCE PROGRAM DISTURBANCE AND METHOD FOR PROGRAMMING SAME - Patent application Download PDF

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JP2025061400A
JP2025061400A JP2025006241A JP2025006241A JP2025061400A JP 2025061400 A JP2025061400 A JP 2025061400A JP 2025006241 A JP2025006241 A JP 2025006241A JP 2025006241 A JP2025006241 A JP 2025006241A JP 2025061400 A JP2025061400 A JP 2025061400A
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memory
xth
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シャンナン・ジャオ
Xiangnan Zhao
イン・クイ
Ying Cui
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Yangtze Memory Technologies Co Ltd
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Yangtze Memory Technologies Co Ltd
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Abstract

To provide a memory and a program method for reducing program disturbance and pass voltage disturbance when operating a three-dimensional memory.SOLUTION: A memory 100 includes a first portion 110, a second portion 120 and a controller 190. The first portion includes a first word line to the k-th word line. The second portion is formed above the first portion and includes the (k+1)th word line to the m-th word line. When the x-th word line is used to perform a program operation, the controller is used to apply a first voltage to the first word line to the (x-2)th word line, a second voltage to the (x-1)th word line, and a third voltage to the (x+1)th word line. x, k and m are positive integers.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本開示は、メモリおよびプログラム方法に、より詳細には、複数の部分を含み、プログラム妨害(program disturbance)を低減するために使用されるメモリ、およびそのプログラム方法に関する。 The present disclosure relates to a memory and a programming method, and more particularly to a memory that includes multiple portions and is used to reduce program disturbance, and a programming method thereof.

メモリの容量を増やすために、3次元構造のメモリが開発された。たとえば、現在、3次元スタックNANDフラッシュメモリを利用することができる。 To increase memory capacity, three-dimensional memory structures have been developed. For example, three-dimensional stacked NAND flash memory is now available.

メモリの3次元構造は、同じ領域により多くのデータを記憶するために、複数の層を含むことができる。この構造は、メモリの容量を増やすために効果的であることが証明されている。 The 3D structure of memory can contain multiple layers to store more data in the same area. This structure has proven effective for increasing memory capacity.

しかしながら、層数を増やすと、プログラム妨害がより顕著になる。プログラム妨害は、メモリのプログラミングの失敗率を高める。また、複数層のメモリを使用する場合にも通過電圧妨害が発生する。 However, as the number of layers increases, program disturb becomes more pronounced. Program disturb increases the failure rate of programming the memory. Also, pass-through voltage disturb occurs when using multiple layers of memory.

したがって、3次元メモリを動作する際のプログラム妨害と通過電圧妨害を低減するためのソリューションが当分野で必要とされている。 Therefore, there is a need in the art for a solution to reduce program disturb and pass voltage disturb when operating 3D memories.

一実施形態は、第1の部分、第2の部分、およびコントローラを含むメモリを提供する。第1の部分は、下から上に向かって、第1のワードラインからk番目のワードラインまでを含む。第2の部分は、第1の部分の上に形成され、下から上に向かって、(k+1)番目のワードラインからm番目のワードラインまでを含む。プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインが使用される場合、コントローラは、第1の電圧を第1のワードラインから(x-2)番目のワードラインに、第2の電圧を(x-1)番目のワードラインに、および第3の電圧を(x+1)番目のワードラインに印加するために使用される。x、k、およびmは正の整数である。 One embodiment provides a memory including a first portion, a second portion, and a controller. The first portion includes, from bottom to top, a first word line to a kth word line. The second portion is formed on the first portion and includes, from bottom to top, a (k+1)th word line to an mth word line. When the xth word line is used to perform a program operation, the controller is used to apply a first voltage to the first word line to the (x-2)th word line, a second voltage to the (x-1)th word line, and a third voltage to the (x+1)th word line. x, k, and m are positive integers.

一実施形態は、第1の部分、第2の部分、およびコントローラを含むメモリを提供する。第1の部分は、下から上に向かって、(m+1)番目のワードラインからn番目のワードラインまでを含む。第2の部分は、第1の部分の下に形成され、下から上に向かって、(k+1)番目のワードラインからm番目のワードラインまでを含む。プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインが使用される場合、コントローラは、第1の電圧を(x+2)番目のワードラインからn番目のワードラインに、第2の電圧を(x+1)番目のワードラインに、第3の電圧を(x-1)番目のワードラインに、第4の電圧を(m+1)番目のワードラインから(x-2)番目のワードラインに、および第5の電圧を(k+1)番目のワードラインからm番目のワードラインに印加するために使用される。x、k、およびmは整数である。第5の電圧は第4の電圧よりも低い。 One embodiment provides a memory including a first portion, a second portion, and a controller. The first portion includes, from bottom to top, the (m+1)th word line to the nth word line. The second portion is formed below the first portion and includes, from bottom to top, the (k+1)th word line to the mth word line. When the xth word line is used to perform a program operation, the controller is used to apply a first voltage to the (x+2)th word line to the nth word line, a second voltage to the (x+1)th word line, a third voltage to the (x-1)th word line, a fourth voltage to the (m+1)th word line to the (x-2)th word line, and a fifth voltage to the (k+1)th word line to the mth word line. x, k, and m are integers. The fifth voltage is lower than the fourth voltage.

一実施形態は、メモリを動作するために使用されるプログラム方法を提供する。メモリは、第1の部分および第2の部分を含む。第1の部分は、下から上に向かって、第1のワードラインからk番目のワードラインまでを含む。第2の部分は、第1の部分の上に形成され、下から上に向かって、(k+1)番目のワードラインからm番目のワードラインまでを含む。プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインが使用される場合、プログラム方法は、第1の電圧を、第1のワードラインから(x-2)番目のワードラインに印加するステップと、第2の電圧を(x-1)番目のワードラインに印加するステップと、第3の電圧を(x+1)番目のワードラインに印加するステップとを含む。 One embodiment provides a program method used to operate a memory. The memory includes a first portion and a second portion. The first portion includes, from bottom to top, a first word line to a kth word line. The second portion is formed on the first portion and includes, from bottom to top, a (k+1)th word line to an mth word line. When an xth word line is used to perform a program operation, the program method includes applying a first voltage to the first word line to the (x-2)th word line, applying a second voltage to the (x-1)th word line, and applying a third voltage to the (x+1)th word line.

一実施形態は、メモリを動作するために使用されるプログラム方法を提供する。メモリは、第1の部分、および第1の部分の下に形成された第2の部分を含む。第1の部分は、下から上に向かって、(m+1)番目のワードラインからn番目のワードラインまでを含む。第2の部分は、下から上に向かって、(k+1)番目のワードラインからm番目のワードラインまでを含む。本プログラム方法は、プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインが使用される場合、第1の電圧を、(x+2)番目のワードラインからn番目のワードラインに印加するステップと、第2の電圧を(x+1)番目のワードラインに印加するステップと、第3の電圧を(x-1)番目のワードラインに印加するステップと、第4の電圧を(m+1)番目のワードラインから(x-2)番目のワードラインに印加するステップと、第5の電圧を(k+1)番目のワードラインからm番目のワードラインに印加するステップとを含む。x、k、およびmは整数である。第5の電圧は第4の電圧よりも低い。 One embodiment provides a program method used to operate a memory. The memory includes a first portion and a second portion formed below the first portion. The first portion includes, from bottom to top, the (m+1)th word line to the nth word line. The second portion includes, from bottom to top, the (k+1)th word line to the mth word line. The program method includes applying a first voltage to the (x+2)th word line to the nth word line, applying a second voltage to the (x+1)th word line, applying a third voltage to the (x-1)th word line, applying a fourth voltage to the (m+1)th word line to the (x-2)th word line, and applying a fifth voltage to the (k+1)th word line to the mth word line, when the xth word line is used to perform a program operation. x, k, and m are integers. The fifth voltage is lower than the fourth voltage.

本発明のこれらおよび他の目的は、様々な図および図面に示されている好ましい実施形態の以下の詳細な説明を読んだ後、当業者には間違いなく明らかになるであろう。 These and other objects of the present invention will no doubt become obvious to those skilled in the art after reading the following detailed description of the preferred embodiment that is illustrated in the various figures and drawings.

一実施形態によるメモリを示す図である。FIG. 2 illustrates a memory according to one embodiment. 別の条件において動作する図1のメモリを示す図である。2 illustrates the memory of FIG. 1 operating under different conditions. 別の実施形態によるメモリを示す図である。FIG. 2 illustrates a memory according to another embodiment. 他の条件において動作する図3のメモリを示す図である。FIG. 4 illustrates the memory of FIG. 3 operating under other conditions. 他の条件において動作する図3のメモリを示す図である。FIG. 4 illustrates the memory of FIG. 3 operating under other conditions. 別の実施形態によるメモリを示す図である。FIG. 2 illustrates a memory according to another embodiment. 別の実施形態によるメモリを示す図である。FIG. 2 illustrates a memory according to another embodiment. 別の条件において動作する図7のメモリを示す図である。8 illustrates the memory of FIG. 7 operating under different conditions. 別の実施形態によるメモリを示す図である。FIG. 2 illustrates a memory according to another embodiment. 別の条件において動作する図9のメモリを示す図である。10 illustrates the memory of FIG. 9 operating under different conditions. 別の実施形態によるメモリを示す図である。FIG. 2 illustrates a memory according to another embodiment. 一実施形態によるプログラム方法のフローチャートを示す図である。FIG. 2 illustrates a flowchart of a programming method according to an embodiment. 別の実施形態によるプログラム方法のフローチャートを示す図である。FIG. 13 shows a flowchart of a programming method according to another embodiment.

図1は、一実施形態によるメモリ100を示している。メモリ100は、第1の部分110、第2の部分120、およびコントローラ190を含み得る。第1の部分110は、下から上に向かって、第1のワードラインWL1からk番目のワードラインWLkまでを含み得る。第2の部分120は、第1の部分110の上に形成され得、下から上に向かって、(k+1)番目のワードラインWL(k+1)からm番目のワードラインWLmまでを含む。 FIG. 1 illustrates a memory 100 according to one embodiment. The memory 100 may include a first portion 110, a second portion 120, and a controller 190. The first portion 110 may include, from bottom to top, a first word line WL1 to a kth word line WLk. The second portion 120 may be formed on top of the first portion 110 and may include, from bottom to top, a (k+1)th word line WL(k+1) to an mth word line WLm.

本文において、ワードラインがプログラムされていると言われる場合、それは、ワードラインがプログラム動作を実行するために使用されることを意味し得る。本文において述べられているプログラム動作は、たとえば、トランジスタのセットを使用して形成されたメモリセルをプログラミングするための動作であり得る。 In this document, when a word line is said to be programmed, it may mean that the word line is used to perform a program operation. The program operation referred to in this document may be, for example, an operation to program a memory cell formed using a set of transistors.

プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインWLxが使用される場合、コントローラ190は、プログラム電圧Vpgmをx番目のワードラインWLxに印加し得、コントローラ190は、第1の電圧V1を第1のワードラインWL1から(x-2)番目のワードラインWL(x-2)までに印加し得、コントローラ190は、第2の電圧V2を(x-1)番目のワードラインWL(x-1)に印加し得、コントローラ190は、第3の電圧V3を (x+1)番目のワードラインWL(x+1)に印加し得る。x、k、およびmは正の整数であり、1<k<mであり、3≦xである。 When the xth word line WLx is used to perform a program operation, the controller 190 may apply a program voltage Vpgm to the xth word line WLx, the controller 190 may apply a first voltage V1 to the first word line WL1 to the (x-2)th word line WL(x-2), the controller 190 may apply a second voltage V2 to the (x-1)th word line WL(x-1), and the controller 190 may apply a third voltage V3 to the (x+1)th word line WL(x+1). x, k, and m are positive integers, 1<k<m, and 3≦x.

図1に示されるように、コントローラ190は、プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインWLxが使用される場合、第4の電圧V4を(x+2)番目のワードラインWL(x+2)からm番目のワードラインWLmまでに印加し得、x<m-1である。 As shown in FIG. 1, the controller 190 may apply a fourth voltage V4 from the (x+2)th word line WL(x+2) to the mth word line WLm when the xth word line WLx is used to perform a program operation, where x<m-1.

図1において、例として、x番目のワードラインWLxは、第1の部分110に配置されている。しかしながら、x番目のワードラインWLxは、別の条件において第2の部分120に配置され得る。 In FIG. 1, as an example, the xth word line WLx is arranged in the first portion 110. However, the xth word line WLx may be arranged in the second portion 120 under different conditions.

図2は、別の条件において動作する図1のメモリ100を示している。図2において、x番目のワードラインWLxは、第2の部分120に配置されている。印加される電圧に関して、図2は、図1と同様であり得るが、繰り返し説明されていない。 Figure 2 shows the memory 100 of Figure 1 operating under another condition. In Figure 2, the xth word line WLx is located in the second portion 120. With respect to the applied voltages, Figure 2 can be similar to Figure 1, which is not repeated.

図1および図2は単なる例であり、上記のワードラインWL(x-2)、WL(x-1)、WL(x+1)、およびWL(x+2)の各々は、第1の部分110または第2の部分120に配置することができる。 Figures 1 and 2 are merely examples, and each of the above word lines WL(x-2), WL(x-1), WL(x+1), and WL(x+2) can be located in the first portion 110 or the second portion 120.

メモリ100に関して、第1の電圧V1は、x番目のワードラインWLxが第1の部分110にある場合に第1のレベルを有し得、x番目のワードラインWLxが第2の部分120にある場合に第2のレベルを有し得、第1のレベルは第2のレベルより低くなり得る。たとえば、図1における第1の電圧V1は、図2における第1の電圧V1よりも低い値を有し得る。 For memory 100, the first voltage V1 may have a first level when the xth word line WLx is in the first portion 110 and may have a second level when the xth word line WLx is in the second portion 120, and the first level may be lower than the second level. For example, the first voltage V1 in FIG. 1 may have a lower value than the first voltage V1 in FIG. 2.

図3は、別の実施形態によるメモリ300を示している。メモリ100および300に関して、メモリ300は、第1の部分110および第2の部分120に加えて、第3の部分130を含み得る。 Figure 3 illustrates a memory 300 according to another embodiment. As with memories 100 and 300, memory 300 may include a third portion 130 in addition to first portion 110 and second portion 120.

第3の部分130は、第2の部分120の上に形成され得、下から上に向かって、(m+1)番目のワードラインWL(m+1)からn番目のワードラインWLnまでを含む。図3に示されるように、コントローラ190は、プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインWLxが使用される場合、第4の電圧V4を(x+2)番目のワードラインWL(x+2)からn番目のワードラインWLnまでに印加し得、m<nであり、x<(n-1)である。 The third portion 130 may be formed on the second portion 120 and includes, from bottom to top, the (m+1)th word line WL(m+1) to the nth word line WLn. As shown in FIG. 3, the controller 190 may apply the fourth voltage V4 to the (x+2)th word line WL(x+2) to the nth word line WLn, where m<n and x<(n-1), when the xth word line WLx is used to perform a program operation.

図4および図5は、他の条件において動作する図3のメモリ300を示している。図3において、プログラム動作を実行するために使用されるx番目のワードラインWLxは、第1の部分110にある。図4および図5において、x番目のワードラインWLxは、それぞれ第2の部分120および第3の部分130にある。 Figures 4 and 5 show the memory 300 of Figure 3 operating under other conditions. In Figure 3, the xth word line WLx used to perform a program operation is in the first portion 110. In Figures 4 and 5, the xth word line WLx is in the second portion 120 and the third portion 130, respectively.

図3から図5は単なる例であり、上記のワードラインWL(x-2)、WL(x-1)、WL(x+1)、およびWL(x+2)の各々は、第1の部分110、第2の部分120、または第3の部分130に配置することができる。 Figures 3 to 5 are merely examples, and each of the above word lines WL(x-2), WL(x-1), WL(x+1), and WL(x+2) can be located in the first portion 110, the second portion 120, or the third portion 130.

メモリ300に関して、第1の電圧V1は、x番目のワードラインWLxが第1の部分110にある場合に第1のレベルを有し得、x番目のワードラインWLxが第2の部分120にある場合に第2のレベルを有し得、x番目のワードラインWLxが第3の部分130にある場合に第3のレベルを有し得、第1のレベルは第2のレベルより低くなり得、第2のレベルは第3のレベルより低くなり得る。たとえば、図3における第1の電圧V1は、図4における第1の電圧V1よりも低い値を有し得、図4における第1の電圧V1は、図5における第1の電圧V1よりも低い値を有し得る。 For memory 300, the first voltage V1 may have a first level when the xth word line WLx is in the first portion 110, a second level when the xth word line WLx is in the second portion 120, and a third level when the xth word line WLx is in the third portion 130, where the first level may be lower than the second level and the second level may be lower than the third level. For example, the first voltage V1 in FIG. 3 may have a lower value than the first voltage V1 in FIG. 4, and the first voltage V1 in FIG. 4 may have a lower value than the first voltage V1 in FIG. 5.

図6は、別の実施形態によるメモリ600を示している。メモリ600は、図1および図2のメモリ100と同様であり得る。しかしながら、図1および図2の構造は、ただ1つのデッキを含み得、メモリ600は、2つのデッキの構造を有し得る。言い換えれば、メモリ100は1デッキ構造を有し得、メモリ600は2デッキ構造を有し得る。図6に示されるように、第1の部分110はデッキDECK1のものであり、第2の部分120はデッキDECK2のものである。2つのデッキDECK1およびDECK2は、接合酸化物層OLによって分離され得る。メモリ600は、下部ダミーワードラインDL、上部ダミーワードラインDU、および接合酸化物層OLを含み得る。下部ダミーワードラインDLは、第1の部分110の上に形成され得る。上部ダミーワードラインDUは、第2の部分120の下に形成され得る。接合酸化物層OLは、下部ダミーワードラインDLと上部ダミーワードラインDUとの間に形成され得る。1デッキ構造に印加される電圧は、実施形態による2デッキ構造に印加される電圧のようであり得る。たとえば、メモリ600のワードラインに印加される電圧は、図1および図2のメモリ100のワードラインに印加される電圧のようであり得、繰り返し説明されていない。 6 shows a memory 600 according to another embodiment. The memory 600 may be similar to the memory 100 of FIG. 1 and FIG. 2. However, the structures of FIG. 1 and FIG. 2 may include only one deck, and the memory 600 may have a two-deck structure. In other words, the memory 100 may have a one-deck structure, and the memory 600 may have a two-deck structure. As shown in FIG. 6, the first portion 110 is of the deck DECK1, and the second portion 120 is of the deck DECK2. The two decks DECK1 and DECK2 may be separated by a junction oxide layer OL. The memory 600 may include a lower dummy word line DL, an upper dummy word line DU, and a junction oxide layer OL. The lower dummy word line DL may be formed on the first portion 110. The upper dummy word line DU may be formed under the second portion 120. The junction oxide layer OL may be formed between the lower dummy word line DL and the upper dummy word line DU. The voltages applied to the one-deck structure may be like the voltages applied to the two-deck structure according to the embodiment. For example, the voltages applied to the word lines of memory 600 may be like the voltages applied to the word lines of memory 100 of FIGS. 1 and 2 and are not repeatedly described.

図7および図8は、別の実施形態による2つの条件で動作するメモリ700を示している。メモリ700は、第1の部分710、第2の部分720、およびコントローラ190を含み得る。第1の部分710は、下から上に向かって、(m+1)番目のワードラインWL(m+1)からn番目のワードラインWLnまでを含み得る。第2の部分720は第1の部分710の下に形成され得、下から上に向かって、(k+1)番目のワードラインWL(k+1)からm番目のワードラインWLmまでを含む。 7 and 8 show a memory 700 operating in two conditions according to another embodiment. The memory 700 may include a first portion 710, a second portion 720, and a controller 190. The first portion 710 may include, from bottom to top, the (m+1)th word line WL(m+1) to the nth word line WLn. The second portion 720 may be formed below the first portion 710 and may include, from bottom to top, the (k+1)th word line WL(k+1) to the mth word line WLm.

プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインが使用される場合、コントローラ190は、第1の電圧V71を(x+2)番目のワードラインWL(x+2)からn番目のワードラインWLnまでに印加し得、コントローラ190は、第2の電圧V72を(x+1)番目のワードラインWL(x+1)に印加し得、コントローラ190は、第3の電圧V73を(x-1)番目のワードラインWL(x-1)に印加し得る。 When the xth word line is used to perform a program operation, the controller 190 may apply a first voltage V71 to the (x+2)th word line WL(x+2) to the nth word line WLn, the controller 190 may apply a second voltage V72 to the (x+1)th word line WL(x+1), and the controller 190 may apply a third voltage V73 to the (x-1)th word line WL(x-1).

図7に示されるように、ワードラインWLxが第2の部分720に配置されている場合、プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインが使用される場合、コントローラ190は第5の電圧V75を(k+1)番目のワードラインWL(k+1)から(x-2)番目のワードラインWL(x-2)に印加し得る。図7において、x、k、およびmは整数であり、(k+2)<x<(m+1)である。図7の状態は、図1の状態と実質的に同様であり得る。しかしながら、図7は、図8から図11を導入するために提供されている。 As shown in FIG. 7, when the word line WLx is disposed in the second portion 720, the controller 190 may apply the fifth voltage V75 to the (k+1)th word line WL(k+1) to the (x-2)th word line WL(x-2) when the xth word line is used to perform a program operation. In FIG. 7, x, k, and m are integers, and (k+2)<x<(m+1). The state of FIG. 7 may be substantially similar to the state of FIG. 1. However, FIG. 7 is provided to introduce FIG. 8 to FIG. 11.

図8に示されるように、プログラム動作を実行するために使用されるワードラインWLxが第1の部分710に配置される場合、第1の電圧V71、第2の電圧V72、および第3の電圧V73は、図7に示されるようにコントローラ190によって印加され得る。しかしながら、コントローラ190は、第4の電圧V74を(m+1)番目のワードラインWL(m+1)から(x-2)番目のワードラインWL(x-2)までに印加し得る。コントローラ190は、第5の電圧V75を(k+1)番目のワードラインWL(k+1)からm番目のワードラインWLmまでに印加することができる。図8において、x、k、およびmは整数であり、0≦k<mであり、(m+2)<x<(n-1)である。第5の電圧V75は第4の電圧V74より低くなり得る。 As shown in FIG. 8, when the word line WLx used to perform the program operation is disposed in the first portion 710, the first voltage V71, the second voltage V72, and the third voltage V73 may be applied by the controller 190 as shown in FIG. 7. However, the controller 190 may apply a fourth voltage V74 from the (m+1)th word line WL(m+1) to the (x-2)th word line WL(x-2). The controller 190 may apply a fifth voltage V75 from the (k+1)th word line WL(k+1) to the mth word line WLm. In FIG. 8, x, k, and m are integers, 0≦k<m, and (m+2)<x<(n-1). The fifth voltage V75 may be lower than the fourth voltage V74.

別の実施形態によれば、図6に示されるように、図7および図8に示される第1の部分710および第2の部分720は、それぞれ2つのデッキのものであり得、2つのデッキは、接合酸化物層によって分離され得る。図6に示されるように、2つのデッキは、それぞれ、上部ダミーワードラインおよび下部ダミーワードラインを有し得る。 According to another embodiment, as shown in FIG. 6, the first portion 710 and the second portion 720 shown in FIG. 7 and FIG. 8 may each be of two decks, and the two decks may be separated by a bond oxide layer. As shown in FIG. 6, the two decks may each have an upper dummy word line and a lower dummy word line.

図9は、別の実施形態によるメモリ900を示している。図10は、別の条件において動作する図9のメモリ900を示している。 Figure 9 illustrates memory 900 according to another embodiment. Figure 10 illustrates memory 900 of Figure 9 operating under different conditions.

図9に示されるように、メモリ900は、3つの部分910、920、および930を有し得る。第1の部分910および第2の部分920は、図7に示される部分710および720と同様であり得る。第3の部分930は、第1の部分910の上に形成され得、下から上に向かって、複数のワードラインWL(n+1)からWLqまでを含む。図9の条件は、プログラム動作を実行するために使用されるワードラインWLxが最下部920に配置されている図7と同様であり得る。コントローラ190は、図9の複数のワードラインWL(n+1)からWLqまでに第1の電圧V71を印加し得る。変数qは整数であり、q>(n+1)である。 As shown in FIG. 9, the memory 900 may have three portions 910, 920, and 930. The first portion 910 and the second portion 920 may be similar to the portions 710 and 720 shown in FIG. 7. The third portion 930 may be formed on the first portion 910 and includes, from bottom to top, a plurality of word lines WL(n+1) to WLq. The conditions in FIG. 9 may be similar to FIG. 7, where the word line WLx used to perform the program operation is located at the bottom 920. The controller 190 may apply a first voltage V71 to the plurality of word lines WL(n+1) to WLq in FIG. 9. The variable q is an integer, q>(n+1).

図10のメモリ900は、図9に示されるものと同じ構造を有し得る。図10の条件は、プログラム動作を実行するために使用されるワードラインWLxが最下部920の上の部分910に配置されている図8と同様であり得る。部分910および920に印加される電圧は、図8の部分710および720に印加される電圧のようであり得る。図9に示されるように、コントローラ190は、部分930の複数のワードラインWL(n+1)からWLqまでに第1の電圧V71を印加し得る。 The memory 900 of FIG. 10 may have the same structure as that shown in FIG. 9. The conditions of FIG. 10 may be similar to FIG. 8, in which the word line WLx used to perform the program operation is located in the portion 910 above the bottom 920. The voltages applied to the portions 910 and 920 may be like the voltages applied to the portions 710 and 720 of FIG. 8. As shown in FIG. 9, the controller 190 may apply a first voltage V71 to the multiple word lines WL(n+1) to WLq of the portion 930.

図11は、別の実施形態によるメモリ1100を示している。メモリ1100の第1の部分1110および第2の部分1120は、図8の部分710および720のようであり得、メモリ1100は、第2の部分1120の下に形成された第3の部分1130をさらに含み得る。同様に、プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインWLxが使用され得る。したがって、メモリ1100は、3つの部分を含み得、図9および図10のメモリ900のような構造を有することができる。図11に示されるように、第3の部分1130は、下から上に向かって、第1のワードラインWL1からk番目のワードラインWLkまでを含み得る。コントローラ190は、第6の電圧V76を第1のワードラインWL1からk番目のワードラインWLkまでに印加し得る。0<kであり、第6の電圧V76は第5の電圧V75よりも低い。 11 shows a memory 1100 according to another embodiment. The first portion 1110 and the second portion 1120 of the memory 1100 may be like the portions 710 and 720 of FIG. 8, and the memory 1100 may further include a third portion 1130 formed below the second portion 1120. Similarly, the xth word line WLx may be used to perform a program operation. Thus, the memory 1100 may include three portions and may have a structure like the memory 900 of FIG. 9 and FIG. 10. As shown in FIG. 11, the third portion 1130 may include, from bottom to top, the first word line WL1 to the kth word line WLk. The controller 190 may apply a sixth voltage V76 to the first word line WL1 to the kth word line WLk. 0<k, and the sixth voltage V76 is lower than the fifth voltage V75.

部分とワードラインの番号付けは同じではないが、図9から図11に示されるメモリ900および1100は、異なる条件において動作する同じメモリと見なされ得る。 Although the numbering of the portions and word lines is not the same, memories 900 and 1100 shown in Figures 9 through 11 can be considered the same memory operating under different conditions.

図9において、プログラム動作を実行するために使用されるワードライン(たとえば、WLx)は、3つの部分の最下部に配置される。 In FIG. 9, the word line (e.g., WLx) used to perform the program operation is located at the bottom of the three sections.

図10において、プログラム動作を実行するために使用されるワードライン(たとえば、WLx)は、3つの部分の2番目に低い部分に配置される。 In FIG. 10, the word line (e.g., WLx) used to perform a program operation is located in the second lowest of the three sections.

図11において、プログラム動作を実行するために使用されるワードライン(たとえば、WLx)は、3つの部分の最上部に配置される。 In FIG. 11, the word line (e.g., WLx) used to perform the program operation is located at the top of the three sections.

図9から図11に示されるように、プログラム動作を実行するために使用されるワードラインWLxが異なる部分に配置されている場合、対応する部分に従って、ワードラインWLxの下のワードラインに異なる電圧が印加され得る。 As shown in Figures 9 to 11, when the word lines WLx used to perform the program operation are located in different portions, different voltages can be applied to the word lines below the word lines WLx according to the corresponding portions.

図9から図11の例において、電圧間の関係は、V76<V75<V74である可能性がある。言い換えれば、プログラム動作を実行するために使用されるワードライン(たとえば、WLx)に対応する部分の下に配置された同じ部分のワードラインに同じ電圧が印加され得、より低い位置に配置される部分のワードラインには、より低い電圧が印加され得る。 In the examples of Figures 9-11, the relationship between the voltages may be V76<V75<V74. In other words, the same voltage may be applied to the word line in the portion located below the corresponding portion of the word line (e.g., WLx) used to perform the program operation, and a lower voltage may be applied to the word line in the portion located lower.

図12は、一実施形態によるプログラム方法1200のフローチャートを示している。プログラム方法1200は、図1および図2のメモリ100、ならびに図3から図5のメモリ300を動作させるために使用され得る。方法1200は以下のステップを含み得る。
ステップ1210:プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインWLxが使用される場合、プログラム方法は、第1の電圧V1を、第1のワードラインWL1から(x-2)番目のワードラインWL(x-2)に印加する、
ステップ1220:第2の電圧V2を(x-1)番目のワードラインWL(x-1)に印加する、
ステップ1230:第3の電圧V3を(x+1)番目のワードラインWL(x+1)に印加する。
Figure 12 shows a flow chart of a programming method 1200 according to one embodiment. The programming method 1200 may be used to operate the memory 100 of Figures 1 and 2, and the memory 300 of Figures 3 to 5. The method 1200 may include the following steps.
Step 1210: When the xth word line WLx is used to perform a program operation, the program method includes applying a first voltage V1 to the first word line WL1 to the (x-2)th word line WL(x-2);
Step 1220: Apply a second voltage V2 to the (x-1)th word line WL(x-1);
Step 1230: Apply a third voltage V3 to the (x+1)th word line WL(x+1).

ステップ1210からステップ1230は、プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインWLxが使用される場合に実行され得る。さらに、プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインWLxが使用される場合、第4の電圧V4は、図1から図5に示されるように、そして上記のように印加され得る。図1から図5に示される電圧(たとえば、V1、V2、V3、およびV4)間の関係は、上記のようであり得る。 Steps 1210 through 1230 may be performed when the xth word line WLx is used to perform a program operation. Furthermore, when the xth word line WLx is used to perform a program operation, the fourth voltage V4 may be applied as shown in FIGS. 1 through 5 and as described above. The relationships between the voltages (e.g., V1, V2, V3, and V4) shown in FIGS. 1 through 5 may be as described above.

図13は、一実施形態によるプログラム方法1300のフローチャートを示している。プログラム方法1300は、図8のメモリ700、図9および図10のメモリ900、ならびに図11のメモリ1100を動作させるために使用され得る。方法1300は以下のステップを含み得る。
ステップ1310:プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインWLxが使用される場合、第1の電圧V71を(x+2)番目のワードラインWL(x+2)からn番目のワードラインWLnまでに印加する、
ステップ1320:第2の電圧V72を(x+1)番目のワードラインWL(x+1)に印加する、
ステップ1330:第3の電圧V73を(x-1)番目のワードラインWL(x-1)に印加する、
ステップ1340:第4の電圧V74を(m+1)番目のワードラインWL(m+1)から(x-2)番目のワードラインWL(x-2)までに印加する、
ステップ1350:第5の電圧V75を(k+1)番目のワードラインWL(k+1)からm番目のワードラインWLmまでに印加する。
Figure 13 shows a flow chart of a programming method 1300 according to one embodiment. The programming method 1300 may be used to operate the memory 700 of Figure 8, the memory 900 of Figures 9 and 10, and the memory 1100 of Figure 11. The method 1300 may include the following steps.
Step 1310: if the xth word line WLx is used to perform a program operation, apply a first voltage V71 from the (x+2)th word line WL(x+2) to the nth word line WLn;
Step 1320: Apply a second voltage V72 to the (x+1)th word line WL(x+1);
Step 1330: Apply a third voltage V73 to the (x-1)th word line WL(x-1);
Step 1340: Applying a fourth voltage V74 from the (m+1)th word line WL(m+1) to the (x-2)th word line WL(x-2);
Step 1350: Apply a fifth voltage V75 to the (k+1)th word line WL(k+1) through the mth word line WLm.

ステップ1310からステップ1350は、プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインWLxが使用される場合に実行され得る。さらに、プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインWLxが使用される場合、第6の電圧V76は、図11に示されるように、そして上記のように印加され得る。図7から図11に示される電圧(たとえば、V71、V72、V73、V74、V75、およびV76)間の関係は、上記のようであり得る。 Steps 1310 through 1350 may be performed when the xth word line WLx is used to perform a program operation. Furthermore, when the xth word line WLx is used to perform a program operation, the sixth voltage V76 may be applied as shown in FIG. 11 and as described above. The relationships between the voltages shown in FIG. 7 through FIG. 11 (e.g., V71, V72, V73, V74, V75, and V76) may be as described above.

要約すると、複数の部分を有するように区分されたメモリを使用し、部分に応じてメモリのワードラインに電圧を印加することによって、シミュレーションおよび実験に従って、プログラム妨害および通過電圧妨害が低減され得る。さらに、同じ部分のワードラインまたは異なる部分のワードラインに電圧を印加するために同じ電圧源を使用することによって、必要な電圧源が少なくなり、システムの面積が小さくなる可能性がある。したがって、当分野の問題を低減することができる。 In summary, by using a memory partitioned to have multiple portions and applying voltages to the word lines of the memory depending on the portion, program disturb and pass voltage disturb can be reduced according to simulations and experiments. Furthermore, by using the same voltage source to apply voltages to the word lines of the same portion or the word lines of different portions, fewer voltage sources are required and the area of the system can be reduced. Thus, the problems in the art can be reduced.

当業者は、本発明の教示を保持しながら、デバイスおよび方法の多数の修正および変更が行われ得ることを容易に観察するであろう。したがって、上記の開示は、添付の請求項の境界および範囲によってのみ制限されると解釈されるべきである。 Those skilled in the art will readily observe that numerous modifications and variations of the devices and methods may be made while retaining the teachings of the present invention. Accordingly, the above disclosure should be construed as limited only by the metes and bounds of the appended claims.

100 メモリ
110 第1の部分
120 第2の部分
130 第3の部分
190 コントローラ
300 メモリ
600 メモリ
700 メモリ
710 第1の部分
720 第2の部分
900 メモリ
910 第1の部分
920 第2の部分
1100 メモリ
1110 第1の部分
1120 第2の部分
1130 第3の部分
1200 プログラム方法
1300 プログラム方法
100 Memory
110 First Part
120 Second Part
130 Third Part
190 Controller
300 Memory
600 Memory
700 Memory
710 First Part
720 Second Part
900 Memory
910 First Part
920 Second Part
1100 Memory
1110 First Part
1120 Second Part
1130 Third Part
1200 Programming Method
1300 Programming Method

Claims (20)

下から上に向かって、第1のワードラインからk番目のワードラインまでを備える第1の部分と、
前記第1の部分の上に形成され、下から上に向かって、(k+1)番目のワードラインからm番目のワードラインまでを備える第2の部分と、
プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインが使用される場合、第1の電圧を前記第1のワードラインから(x-2)番目のワードラインに、第2の電圧を(x-1)番目のワードラインに、および第3の電圧を(x+1)番目のワードラインに印加するように構成されるコントローラと
を備え、
x、k、およびmが正の整数であり、1<k<mであり、3≦xである、メモリ。
a first portion including, from bottom to top, a first word line through a kth word line;
a second portion formed on the first portion and including, from bottom to top, a (k+1)th word line through an mth word line;
a controller configured to apply a first voltage from the first word line to a (x-2)th word line, a second voltage to the (x-1)th word line, and a third voltage to the (x+1)th word line when the xth word line is used to perform a program operation;
A memory, where x, k, and m are positive integers, 1<k<m, and 3≦x.
前記プログラム動作を実行するために前記x番目のワードラインが使用される場合、前記コントローラが、第4の電圧を(x+2)番目のワードラインから前記m番目のワードラインに印加するようにさらに構成され、x<(m-1)である、請求項1に記載のメモリ。 The memory of claim 1, wherein the controller is further configured to apply a fourth voltage from the (x+2)th word line to the mth word line when the xth word line is used to perform the program operation, where x<(m-1). 前記第2の部分の上に形成され、下から上に向かって、(m+1)番目のワードラインからn番目のワードラインまでを備える第3の部分をさらに備え、
前記コントローラが、前記プログラム動作を実行するために前記x番目のワードラインが使用される場合、第4の電圧を(x+2)番目のワードラインから前記n番目のワードラインに印加するようにさらに構成され、m<nであり、x<(n-1)である、請求項1に記載のメモリ。
a third portion formed on the second portion and including, from bottom to top, an (m+1)th word line through an nth word line;
2. The memory of claim 1, wherein the controller is further configured to apply a fourth voltage from the (x+2)th word line to the nth word line when the xth word line is used to perform the program operation, where m<n and x<(n-1).
前記x番目のワードラインが前記第1の部分にある場合、前記第1の電圧が第1のレベルを有し、
前記x番目のワードラインが前記第2の部分にある場合、前記第1の電圧が第2のレベルを有し、
前記x番目のワードラインが前記第3の部分にある場合、前記第1の電圧が第3のレベルを有し、
前記第1のレベルが前記第2のレベルより低く、前記第2のレベルが前記第3のレベルより低い、請求項3に記載のメモリ。
when the xth word line is in the first portion, the first voltage has a first level;
when the xth word line is in the second portion, the first voltage has a second level;
when the xth word line is in the third portion, the first voltage has a third level;
The memory of claim 3 , wherein the first level is lower than the second level, and the second level is lower than the third level.
前記x番目のワードラインが前記第1の部分にある場合、前記第1の電圧が第1のレベルを有し、
前記x番目のワードラインが前記第2の部分にある場合、前記第1の電圧が第2のレベルを有し、
前記第1のレベルが前記第2のレベルよりも低い、請求項1に記載のメモリ。
when the xth word line is in the first portion, the first voltage has a first level;
when the xth word line is in the second portion, the first voltage has a second level;
The memory of claim 1 , wherein the first level is lower than the second level.
前記第1の部分の上に形成された下部ダミーワードラインと、
前記第2の部分の下に形成された上部ダミーワードラインと、
前記下部ダミーワードラインと前記上部ダミーワードラインとの間に形成された接合酸化物層と
をさらに備え、
前記メモリが2デッキ構造を有する、請求項1に記載のメモリ。
a lower dummy word line formed over the first portion;
an upper dummy word line formed below the second portion;
a junction oxide layer formed between the lower dummy word line and the upper dummy word line,
The memory of claim 1 , wherein the memory has a two-deck structure.
下から上に向かって、(m+1)番目のワードラインからn番目のワードラインまでを備える第1の部分と、
前記第1の部分の下に形成され、下から上に向かって、(k+1)番目のワードラインからm番目のワードラインまでを備える第2の部分と、
プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインが使用される場合、第1の電圧を(x+2)番目のワードラインから前記n番目のワードラインに、第2の電圧を(x+1)番目のワードラインに、第3の電圧を(x-1)番目のワードラインに、第4の電圧を前記(m+1)番目のワードラインから(x-2)番目のワードラインに、および第5の電圧を前記(k+1)番目のワードラインから前記m番目のワードラインに印加するように構成される、コントローラと
を備え、
x、k、およびmが整数であり、0≦k<mであり、(m+2)<x<(n-1)であり、前記第5の電圧が前記第4の電圧よりも低い、メモリ。
a first portion including, from bottom to top, the (m+1)th word line through the nth word line;
a second portion formed below the first portion and including, from bottom to top, a (k+1)th word line through an mth word line;
a controller configured to apply a first voltage from the (x+2)th word line to the nth word line, a second voltage to the (x+1)th word line, a third voltage to the (x-1)th word line, a fourth voltage from the (m+1)th word line to the (x-2)th word line, and a fifth voltage from the (k+1)th word line to the mth word line when an xth word line is used to perform a program operation;
A memory, wherein x, k, and m are integers, 0≦k<m, (m+2)<x<(n-1), and the fifth voltage is less than the fourth voltage.
前記第2の部分の下に形成された第3の部分をさらに備え、下から上に向かって、第1のワードラインからk番目のワードラインまでを備え、
前記コントローラが、前記プログラム動作を実行するために前記x番目のワードラインが使用される場合、第6の電圧を前記第1のワードラインから前記k番目のワードラインに印加するようにさらに構成され、0<kであり、前記第6の電圧が前記第5の電圧より低い、請求項7に記載のメモリ。
a third portion formed below the second portion, the third portion including, from bottom to top, a first word line through a kth word line;
8. The memory of claim 7, wherein the controller is further configured to apply a sixth voltage from the first word line to the kth word line when the xth word line is used to perform the program operation, where 0<k and the sixth voltage is lower than the fifth voltage.
前記第1の部分の上に形成される第3の部分をさらに備え、複数のワードラインを備え、
前記コントローラが、前記プログラム動作を実行するために前記x番目のワードラインが使用される場合、前記第1の電圧を前記複数のワードラインに印加するようにさらに構成される、請求項7に記載のメモリ。
a third portion formed on the first portion, the third portion comprising a plurality of word lines;
The memory of claim 7 , wherein the controller is further configured to apply the first voltage to the plurality of word lines if the xth word line is used to perform the program operation.
前記第1の部分の下に形成された上部ダミーワードラインと、
前記第2の部分の上に形成された下部ダミーワードラインと、
前記上部ダミーワードラインと前記下部ダミーワードラインとの間に形成された接合酸化物層と
をさらに備え、
前記メモリが2デッキ構造を有する、請求項7に記載のメモリ。
an upper dummy word line formed below the first portion;
a lower dummy word line formed over the second portion;
a junction oxide layer formed between the upper dummy word line and the lower dummy word line,
The memory of claim 7 , wherein the memory has a two-deck structure.
メモリのプログラム方法であって、前記メモリが第1の部分および第2の部分を備え、前記第1の部分が、下から上に向かって、第1のワードラインからk番目のワードラインまでを備え、前記第2の部分が前記第1の部分の上に形成され、下から上に向かって、(k+1)番目のワードラインからm番目のワードラインまでを備え、前記プログラム方法が、
プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインが使用される場合、第1の電圧を、前記第1のワードラインから(x-2)番目のワードラインに印加するステップと、
第2の電圧を(x-1)番目のワードラインに印加するステップと、
第3の電圧を(x+1)番目のワードラインに印加するステップと
を備え、
x、k、およびmが正の整数であり、1<k<mであり、3≦xである、プログラム方法。
1. A method of programming a memory, the memory comprising a first portion and a second portion, the first portion comprising, from bottom to top, a first word line through a kth word line, the second portion being formed on the first portion and comprising, from bottom to top, a (k+1)th word line through an mth word line, the method comprising:
applying a first voltage to a first word line through an (x-2)th word line when the xth word line is used to perform a program operation;
applying a second voltage to the (x-1)th word line;
applying a third voltage to the (x+1)th word line;
A programming method, wherein x, k, and m are positive integers, 1<k<m, and 3≦x.
第4の電圧を(x+2)番目のワードラインから前記m番目のワードラインに印加するステップをさらに備え、
x<(m-1)である、請求項11に記載のプログラム方法。
applying a fourth voltage from the (x+2)th word line to the mth word line;
12. The method of claim 11, wherein x<(m-1).
前記メモリが、前記第2の部分の上に形成される第3の部分をさらに備え、前記第3の部分が、下から上に向かって、(m+1)番目のワードラインからn番目のワードラインまでを備え、前記プログラム方法が、
第4の電圧を(x+2)番目のワードラインから前記n番目のワードラインに印加するステップをさらに備え、
m<nであり、x<(n-1)である、請求項11に記載のプログラム方法。
the memory further comprises a third portion formed on the second portion, the third portion comprising, from bottom to top, an (m+1)th word line through an nth word line, and the programming method further comprises:
applying a fourth voltage from the (x+2)th word line to the nth word line;
12. The method of claim 11, wherein m<n and x<(n-1).
前記x番目のワードラインが前記第1の部分にある場合、前記第1の電圧が第1のレベルを有し、
前記x番目のワードラインが前記第2の部分にある場合、前記第1の電圧が第2のレベルを有し、
前記x番目のワードラインが前記第3の部分にある場合、前記第1の電圧が第3のレベルを有し、
前記第1のレベルが前記第2のレベルより低く、前記第2のレベルが前記第3のレベルより低い、請求項13に記載のプログラム方法。
when the xth word line is in the first portion, the first voltage has a first level;
when the xth word line is in the second portion, the first voltage has a second level;
when the xth word line is in the third portion, the first voltage has a third level;
14. The method of claim 13, wherein the first level is lower than the second level, and the second level is lower than the third level.
前記x番目のワードラインが前記第1の部分にある場合、前記第1の電圧が第1のレベルを有し、
前記x番目のワードラインが前記第2の部分にある場合、前記第1の電圧が第2のレベルを有し、
前記第1のレベルが前記第2のレベルよりも低い、請求項11に記載のプログラム方法。
when the xth word line is in the first portion, the first voltage has a first level;
when the xth word line is in the second portion, the first voltage has a second level;
12. The method of claim 11, wherein the first level is lower than the second level.
前記メモリが、
前記第1の部分の上に形成された下部ダミーワードラインと、
前記第2の部分の下に形成された上部ダミーワードラインと、
前記下部ダミーワードラインと前記上部ダミーワードラインとの間に形成された接合酸化物層と
をさらに備え、
前記メモリが2デッキ構造を有する、請求項11に記載のプログラム方法。
The memory comprises:
a lower dummy word line formed over the first portion;
an upper dummy word line formed below the second portion;
a junction oxide layer formed between the lower dummy word line and the upper dummy word line,
12. The method of claim 11, wherein the memory has a two-deck structure.
メモリのプログラム方法であって、前記メモリが、第1の部分、および前記第1の部分の下に形成された第2の部分を備え、前記第1の部分が、下から上に向かって、(m+1)番目のワードラインからn番目のワードラインまでを備え、前記第2の部分が、下から上に向かって、(k+1)番目のワードラインからm番目のワードラインまでを備え、前記プログラム方法が、
プログラム動作を実行するためにx番目のワードラインが使用される場合、第1の電圧を、(x+2)番目のワードラインから前記n番目のワードラインに印加するステップと、
第2の電圧を(x+1)番目のワードラインに印加するステップと、
第3の電圧を(x-1)番目のワードラインに印加するステップと、
第4の電圧を前記(m+1)番目のワードラインから(x-2)番目のワードラインに印加するステップと、
第5の電圧を前記(k+1)番目のワードラインから前記m番目のワードラインに印加するステップと
を備え、
x、k、およびmが整数であり、0≦k<mであり、(m+2)<x<(n-1)であり、前記第5の電圧が前記第4の電圧よりも低い、プログラム方法。
1. A method of programming a memory, the memory comprising a first portion and a second portion formed below the first portion, the first portion comprising, from bottom to top, an (m+1)th word line through an nth word line, the second portion comprising, from bottom to top, a (k+1)th word line through an mth word line, the method comprising:
applying a first voltage from a (x+2)th word line to the nth word line when the xth word line is used to perform a program operation;
applying a second voltage to the (x+1)th word line;
applying a third voltage to the (x-1)th word line;
applying a fourth voltage to the (m+1)th word line through the (x-2)th word line;
applying a fifth voltage to the (k+1)th word line through the mth word line;
A method of programming, wherein x, k, and m are integers, 0≦k<m, (m+2)<x<(n-1), and the fifth voltage is less than the fourth voltage.
前記メモリが、前記第2の部分の下に形成された第3の部分をさらに備え、前記第3の部分が、下から上に向かって、第1のワードラインからk番目のワードラインまでを備え、前記プログラム方法が、
第6の電圧を前記第1のワードラインから前記k番目のワードラインに印加するステップをさらに備え、
0<kであり、前記第6の電圧が前記第5の電圧より低い、請求項17に記載のプログラム方法。
the memory further comprises a third portion formed below the second portion, the third portion comprising, from bottom to top, a first word line through a kth word line, and the programming method further comprises:
applying a sixth voltage to the first word line through the kth word line;
20. The method of claim 17, wherein 0<k and the sixth voltage is less than the fifth voltage.
前記メモリが、前記第1の部分の上に形成された第3の部分をさらに備え、前記第3の部分が複数のワードラインを備え、前記プログラム方法が、
前記第1の電圧を前記第3の部分の前記複数のワードラインに印加するステップをさらに備える、請求項17に記載のプログラム方法。
the memory further comprising a third portion formed over the first portion, the third portion comprising a plurality of word lines, and the programming method further comprising:
20. The method of claim 17, further comprising applying the first voltage to the word lines in the third portion.
前記メモリが、
前記第1の部分の下に形成された上部ダミーワードラインと、
前記第2の部分の上に形成された下部ダミーワードラインと、
前記上部ダミーワードラインと前記下部ダミーワードラインとの間に形成された接合酸化物層と
をさらに備え、
前記メモリが2デッキ構造を有する、請求項17に記載のプログラム方法。
The memory comprises:
an upper dummy word line formed below the first portion;
a lower dummy word line formed over the second portion;
a junction oxide layer formed between the upper dummy word line and the lower dummy word line,
20. The method of claim 17, wherein the memory has a two-deck structure.
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