JP2025012438A - 光学フィルム及び画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】表示される画像の意匠性を向上できる光学フィルムを提供する。
【解決手段】光学フィルムの位相差層３０は、コレステリック液晶化合物を含んでいる。位相差層３０は、第１パターン領域３１ａと、第１方向Ｘにおいて、第１パターン領域３１ａに隣接して配置された第２パターン領域３１ｂとを有している。第１パターン領域３１ａは、遅相軸の方向が互いに異なる複数の第１光軸パターン領域Ｐａ１を有している。複数の第１光軸パターン領域Ｐａ１は、第１方向Ｘに沿って配置されている。第２パターン領域３１ｂは、遅相軸の方向が互いに異なる複数の第２光軸パターン領域Ｐａ２を有している。複数の第２光軸パターン領域Ｐａ２は、第１方向Ｘに沿って配置されている。第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１は、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２の８０％以下である。
【選択図】図１０

Description

本開示は、光学フィルム及び画像表示装置に関する。

液晶化合物を用いた画像表示装置は、種々の分野で用いられている（例えば、特許文献１参照）。

特許文献１には、第１のパターンで配列される第１の複数の液晶分子と、第２のパターンで配列される第２の複数の液晶分子とを有する、液晶層を含む光学デバイスが開示されている。また、特許文献１には、ナノインプリント技術を使用することにより、液晶分子を整合させることが開示されている。

特表２０１９－５３６１００号公報

ところで、このような画像表示装置では、表示させる画像の意匠性を向上させることが求められている。

本開示は、以上の点を考慮してなされたものであって、意匠性を向上させることが可能な、光学フィルム及び画像表示装置を提供することを目的とする。

本開示の実施の形態は、以下の［１］～［１０］に関する。

［１］
位相差層を備える光学フィルムであって、
前記位相差層は、コレステリック液晶化合物を含み、
前記位相差層は、第１パターン領域と、第１方向において、前記第１パターン領域に隣接して配置された第２パターン領域とを有し、
前記第１パターン領域は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の第１光軸パターン領域を有し、
複数の前記第１光軸パターン領域は、前記第１方向に沿って配置され、
前記第２パターン領域は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の第２光軸パターン領域を有し、
複数の前記第２光軸パターン領域は、前記第１方向に沿って配置され、
前記第１パターン領域の幅は、前記第２パターン領域の幅の８０％以下である、光学フィルム。

［２］
前記第１パターン領域の幅及び前記第２パターン領域の幅は、２０μｍ以下である、［１］に記載の光学フィルム。

［３］
位相差層を備える光学フィルムであって、
前記位相差層は、コレステリック液晶化合物を含み、
前記位相差層は、第１パターン領域と、第１方向において、前記第１パターン領域に隣接して配置された第２パターン領域とを有し、
前記第１パターン領域は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の第１光軸パターン領域を有し、
複数の前記第１光軸パターン領域は、前記第１方向に沿って配置され、
前記第２パターン領域は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の第２光軸パターン領域を有し、
複数の前記第２光軸パターン領域は、前記第１方向とは異なる第２方向に沿って配置されている、光学フィルム。

［４］
前記第１パターン領域の幅は、前記第２パターン領域の幅の８０％以下である、［３］に記載の光学フィルム。

［５］
前記第１パターン領域の幅及び前記第２パターン領域の幅は、２０μｍ以下である、［３］又は［４］に記載の光学フィルム。

［６］
位相差層を備える光学フィルムであって、
前記位相差層は、コレステリック液晶化合物を含み、
前記位相差層は、前記コレステリック液晶化合物が所定のパターンで配置されたパターン領域と、前記コレステリック液晶化合物が所定のパターンで配置されていないベタ領域とを有し、
前記パターン領域は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の光軸パターン領域を含む、光学フィルム。

［７］
前記パターン領域の幅は、２０μｍ以下である、［６］に記載の光学フィルム。

［８］
基材層と、
前記基材層に積層された配向膜とを更に備え、
前記基材層、前記配向膜及び前記位相差層は、この順に積層されている、［１］乃至［７］のいずれか一つに記載の光学フィルム。

［９］
前記配向膜は、ＵＶ硬化樹脂を含み、
前記配向膜に、前記遅相軸に対応する凹凸が形成されている、［８］に記載の光学フィルム。

［１０］
［１］乃至［９］のいずれか一つに記載の光学フィルムと、
前記光学フィルムに積層された表示装置とを備える、画像表示装置。

本開示の実施の形態によれば、表示される画像の意匠性を向上できる。

図１は、一実施の形態による画像表示装置を示す断面図である。 図２は、一実施の形態による画像表示装置を示す断面図である。 図３は、一実施の形態による画像表示装置を示す断面図である。 図４は、一実施の形態による光学フィルムを示す断面図である。 図５は、一実施の形態による光学フィルムの配向膜を示す平面図である。 図６は、一実施の形態による光学フィルムの配向膜を示す断面図（図５のVI-VI線断面図）である。 図７Ａは、一実施の形態による光学フィルムの配向膜の他の例を示す平面図である。 図７Ｂは、一実施の形態による光学フィルムの配向膜の他の例を示す平面図である。 図８は、配向膜を作製するための露光装置を示す概略図である。 図９は、一実施の形態による光学フィルムを示す断面図である。 図１０は、一実施の形態による光学フィルムの位相差層を示す平面図である。 図１１Ａは、一実施の形態による光学フィルムの位相差層の他の例を示す平面図である。 図１１Ｂは、一実施の形態による光学フィルムの位相差層の他の例を示す平面図である。 図１２Ａは、一実施の形態による光学フィルムの位相差層の他の例を示す平面図である。 図１２Ｂは、一実施の形態による光学フィルムの位相差層の他の例を示す平面図である。 図１２Ｃは、一実施の形態による光学フィルムの位相差層の他の例を示す平面図である。 図１３は、一実施の形態による光学フィルムの位相差層の他の例を示す平面図である。

以下、図面を参照して本開示の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

本明細書において用いる、形状及び幾何学的条件、並びにそれらの程度を特定する用語等、例えば、「平行」、「垂直」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。

本明細書において、「フィルム」、「シート」及び「板」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて互いから区別される用語ではない。例えば「フィルム」は、シート又は板等と呼ばれる部材と、呼称の違いのみにおいて区別され得ない。

まず、図１乃至図３を参照して、本実施の形態による画像表示装置の構成について説明する。

図１乃至図３に示すように、本実施の形態による画像表示装置１は、光学フィルム１０と、光学フィルム１０に積層された表示装置５０とを備えている。また、画像表示装置１は、偏光板４０を更に備えていても良い。この場合、図１に示すように、偏光板４０は、光学フィルム１０と表示装置５０との間に配置されていても良い。また、図２に示すように、偏光板４０は、光学フィルム１０に対して、表示装置５０と反対側に配置されていても良い。さらに、図１及び図３に示すように、画像表示装置１は、紫外線カットフィルム６０を更に備えていても良い。ここでは、まず、光学フィルム１０について説明する。

図４に示すように、光学フィルム１０は、位相差層３０を備えている。また、光学フィルム１０は、基材層１１と、基材層１１に積層された配向膜２０とを更に備えていても良い。基材層１１、配向膜２０及び位相差層３０は、この順に積層されていても良い。この場合、位相差層３０は、基材層１１よりも視認者側（積層方向Ｚのプラス側）に配置されても良い。なお、図示はしないが、基材層１１と配向膜２０との間に、プライマー層が設けられていても良い。

次に、光学フィルム１０の各層について詳細に説明する。

＜基材層＞
基材層１１は、位相差層３０を支持及び保護する役割を果たす層である。この基材層１１は、光学的等方性である層であっても良い。基材層１１は、ポリマーから形成された層であっても良く、ガラスから形成された層であっても良い。基材層１１を構成するポリマーとしては、セルロースアシレート、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレート若しくはポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、又は、ポリスチレン若しくはアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー等を利用することができる。また、基材層１１を構成するポリマーとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体のようなポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロン若しくは芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又はこれらポリマーの混合物等が挙げられる。
基材層１１の面内位相差は、２０ｎｍ以下であることが好ましいく、５ｎｍ以下であることがより好ましく、３ｎｍ以下であることがさらに好ましく、１ｎｍ以下であることがよりさらに好ましく、０ｎｍであることが最も好ましい。前記位相差の基準となる光の波長λは、５５０ｎｍとする。測定装置は王子計測機器社製KOBRA-WRを使って、低位相差モードで測定する。

基材層１１がポリマーから形成された場合、基材層１１の厚みは、２５μｍ以上１２５μｍ以下程度であっても良い。基材層１１がガラスから形成された場合、基材層１１の厚みは、１００μｍ以上５ｍｍ以下であっても良い。

＜配向膜＞
配向膜２０は、位相差層３０を形成する際に、位相差層３０内で液晶化合物を配向させやすくする役割を果たす。なお、位相差層３０を形成後、配向膜２０が除去されていても良い。これにより、配向膜２０を有さない光学フィルム１０を得ることができる。

図５及び図６に示すように、配向膜２０には、位相差層３０の後述する光軸パターン領域Ｐａの遅相軸に対応する凹凸２１が形成されていても良い。これにより、配向膜２０上に設けられた位相差層３０の液晶化合物を、凹凸２１の凹部２２に沿って、所定の方向に配向させることができる。例えば、位相差層３０の後述する光軸パターン領域Ｐａごとに面内の遅相軸の方向を変化させたい場合、光軸パターン領域Ｐａごとに凹部２２の長手方向を変えることで、液晶化合物の配向方向が変化する。これにより、光軸パターン領域Ｐａごとに面内の遅相軸の方向を変化させることができる。この場合、例えば、凹凸２１は、インプリント法によって形成されていても良い。

図５に示す例においては、凹凸２１の凹部２２は、直線状に延びている。また、凹部２２は、第１方向Ｘに傾斜する方向、及び、第１方向Ｘに直交する第２方向Ｙに傾斜する方向に延びている。しかしながら、これに限られず、例えば、図７Ａ及び図７Ｂに示すように、凹凸２１の凹部２２が、曲線状（例えば、円弧状）に延びていても良い。なお、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは、それぞれ、光学フィルム１０の積層方向Ｚに直交する方向である。また、図５及び図７Ａは、位相差層３０の後述する光軸パターン領域Ｐａの個数が２個となる場合の配向膜２０を示しており、図７Ｂは、位相差層３０の後述する光軸パターン領域Ｐａの個数が４個となる場合の配向膜２０を示している。

凹部２２の深さは、２ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。凹部２２の深さを２ｎｍ以上とすることにより、凹部２２に沿って後述する液晶化合物（液晶分子）をより配向しやすくできる。凹部２２の深さを２００ｎｍ以下とすることにより、後述する賦形用の版から配向膜２０をより剥離しやすくなるため、配向膜２０の凹凸２１をより安定して形成しやすくできる。

配向膜２０に配向規制力を付与する手段は、従来公知の手段であっても良い。例えば、配向膜２０に配向規制力を付与する手段は、インプリント法、ラビング法又は光配向法等が挙げられる。いずれの方法でも作製可能であるが、形状が直線でない場合は効率よくロール加工できるためインプリント法が好ましい。インプリント法により配向膜２０を作製する場合、硬化後の形状変形を防ぐため、電子線硬化樹脂を使うことが好ましい。また、インプリント法により配向膜２０を作製する場合、配向膜２０は、ＵＶ硬化樹脂を含んでいても良い。すなわち、配向膜２０を形成するための樹脂組成物は、ＵＶ硬化樹脂であっても良い。ＵＶ硬化樹脂の具体例としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリロイル基をもつ重合性オリゴマー又はモノマーと、アクリル酸、アクリルアミド、アクリロニトリル、スチレン等重合性ビニル基をもつ重合性オリゴマー又はモノマー等の単体あるいは配合した材料に、光重合開始剤及び任意の添加剤を加えた材料等が挙げられる。なお、配向膜２０の材料としては、例えば、熱硬化樹脂等であっても良い。光配向法により配向膜２０を作製する場合、まず、熱硬化樹脂を含む溶液を乾燥させることにより、溶剤を除去する。その後、本実施の形態の凹凸２１に対応する形状を有するマスクを使って、マスク越しに紫外線照射による分子間の２量化、若しくは異性化を行うことにより、所望の形状を有する配向膜２０を作製する。

＜インプリント法＞
次に、配向膜２０をインプリント法で作製する方法について説明する。配向膜２０の凹凸は、例えば、配向膜２０の表面形状と相補的な形状を有する版を用いて、樹脂を含む層を賦形することにより、形成することができる。
より具体的には、配向膜２０は、例えば、下記の工程１及び工程２により形成することができる。

工程１：基材層１１上に、樹脂を含む配向膜形成用塗布液を塗布し、樹脂を含む層を形成する工程。
工程２：配向膜２０の表面形状と相補的な形状を有する版を用いて、樹脂を含む層を賦形する工程。

配向膜２０をインプリント法で作製する際、まず、工程１により、基材層１１上に、樹脂を含む配向膜形成用塗布液を塗布し、樹脂を含む層を形成する。配向膜形成用塗布液が溶剤を含む場合、工程１で溶剤を乾燥させることが好ましい。

樹脂として、硬化性樹脂を用いる場合、工程１の配向膜形成用塗布液としては、硬化性樹脂組成物を含む配向膜形成用塗布液を用いることが好ましい。すなわち、樹脂として、硬化性樹脂を用いる場合、工程１の配向膜形成用塗布液中の硬化性樹脂は未硬化の状態とであることが好ましい。

工程１の配向膜形成用塗布液として、電離放射線硬化性樹脂組成物を含む配向膜形成用塗布液を用いる場合、工程２の賦形と同時に電離放射線を照射することにより、賦形された層に含まれる電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化することが好ましい。

基材層１１と配向膜２０との間に、プライマー層等の他の層が設けられる場合には、工程１の前に、基材層１１上に他の層を形成する工程が実施されることが好ましい。

次に、工程２により、配向膜２０の表面形状と相補的な形状を有する版を用いて、樹脂を含む層を賦形する。工程２で使用する版は、例えば、レーザーリソグラフィ、電子線リソグラフィ、又はＦＩＢ（Ｆｏｃｕｓｅｄ Ｉｏｎ Ｂｅａｍ）等の汎用の手段により作製できる。また、前述した手段により作製した版を複製した版を多数作製し、複製した多数の版を並べて、多面付けの版とすることも好ましい。版の複製は、電鋳法等の汎用の手段により実施できる。

配向膜２０をインプリント法で作製した場合、配向膜２０の厚みは、０．５μｍ以上２０μｍ以下程度であっても良く、１μｍ以上１０μｍ以下程度であっても良い。ここで、配向膜形成用塗布液を塗布する工程１において、配向膜形成用塗布液に、異物が混入する可能性がある。このように、配向膜形成用塗布液に異物が混入した場合であっても、配向膜２０の厚みが０．５μｍ以上であることにより、配向膜２０内に異物を取り込むことができる。すなわち、異物が、配向膜２０の表面から露出してしまうことを抑制できる。このため、歩留まりの低下を抑制できる。また、配向膜２０の厚みが０．５μｍ以上であることにより、深さが２００ｎｍ以下の凹部２２を容易に作製できる。また、配向膜２０の厚みが２０μｍ以下であることにより、紫外線を照射した際に、硬化性樹脂において硬化不足の発生を抑制できる。このため、配向膜２０が版から離型できなくなることを抑制できる。

＜光配向法＞
次に、配向膜２０を光配向法で作製する方法について説明する。光配向法により配向膜２０を作製する方法としては、２光束干渉を用いる方法及び遮光性のマスクを用いて直線偏光性の光を照射する方法が挙げられる。

２光束干渉を用いる方法では、まず、複屈折誘起材料重合体を溶媒に溶解した液を基材層１１上に塗布する。次に、当該液体を乾燥させることにより、塗布膜を作製する。次いで、塗布膜に対して、レーザー光のような干渉性の良い偏光性の光束を用いた２光束干渉により、配向規制力を付与する。

遮光性のマスクを用いる方法としては、以下の２つの方法が挙げられる。第１の方法では、所望の周期ピッチを有する遮光性のマスクを少なくとも２回用いて、少なくとも２つの領域に、偏光特性及び強度の異なる直線偏光性の光を照射する。第２の方法では、まず、所望の周期ピッチを有する遮光性のマスクを用いて、直線偏光性の光を照射する。次に、遮光性のマスクを用いることなく、直線偏光性の光を照射することにより、所望の周期ピッチで照射エネルギー量の異なる領域を形成する。これにより、分子配向方向が９０°異なる周期構造を付与する。第１の方法と第２の方法とを比較した場合、第２の方法の方が装置を簡略化できる利点がある。

本実施の形態による配向膜２０に用いられる光配向材料としては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号公報及び特許第４１５１７４６号公報に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報及び特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号及び特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報及び特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、光架橋性ポリアミド及び光架橋性ポリエステル、並びに、特開平９－１１８７１７号公報、特表平１０－５０６４２０号公報、特表２００３－５０５５６１号公報、国際公開第２０１０／１５０７４８号、特開２０１３－１７７５６１号公報及び特開２０１４－１２８２３号公報に記載の光二量化可能な化合物、特にシンナメート化合物、カルコン化合物及びクマリン化合物等が挙げられる。これらの中でも光架橋性ポリイミド、光架橋性ポリアミド、光架橋性ポリエステル、シンナメート化合物及びカルコン化合物が好ましい。

次に、光配向法により、配向膜２０に対して配向規制力を付与するための露光装置７０について説明する。

図８に示すように、露光装置７０は、光源７１と、偏光ビームスプリッター７２と、ミラー７３Ａ、７３Ｂと、λ／４板７４Ａ、７４Ｂと、を備えている。このうち光源７１は、レーザー照射部７５と、λ／２板（図示せず）とを有している。この光源７１は、レーザー照射部７５から出射されたレーザー光Ｍの偏光方向を変えることにより、直線偏光Ｐ_０を出射するように構成されている。

偏光ビームスプリッター７２は、光源７１から出射されたレーザー光Ｍを、光線ＭＡ、ＭＢの２つに分離する役割を果たす。

ミラー７３Ａ、７３Ｂは、分離された２つの光線ＭＡ、ＭＢの光路上にそれぞれ配置されている。

λ／４板７４Ａ、７４Ｂは、互いに平行な光学軸を備えている。λ／４板７４Ａは、直線偏光Ｐ_０（光線ＭＡ）を右円偏光Ｐ_Ｒに変換し、λ／４板７４Ｂは、直線偏光Ｐ_０（光線ＭＢ）を左円偏光Ｐ_Ｌに変換する役割を果たす。

このような露光装置７０において、配向パターンを形成される前の配向膜２０ａが、図示しない露光部に配置される。そして、２つの光線ＭＡ、ＭＢを、配向膜２０ａ上において交差させることにより干渉させる。この干渉により、干渉光の偏光状態が、干渉縞状に周期的に変化する。次に、干渉光を配向膜２０ａに対して照射することにより露光する。これにより、配向膜２０において、配向状態が周期的に変化する配向パターンが得られる。

露光装置７０においては、２つの光線ＭＡ、ＭＢの交差角αを変化させることにより、配向パターンの周期を調節できる。例えば、配向膜２０に、液晶化合物の遅相軸が一方向に向かって連続的に１８０°回転する配向パターンを形成する場合、交差角αを調節することにより、遅相軸が１８０°回転する１周期の長さを調節できる。このような配向パターンを有する配向膜２０上に、コレステリック液晶層を形成することにより、液晶化合物の遅相軸が一方向に向かって連続的に回転する位相差層３０を形成できる。なお、λ／４板７４Ａ、７４Ｂの光学軸を、それぞれ、９０°回転させることにより、光学軸の回転方向を逆にすることができる。

配向膜２０を光配向法で作製した場合、配向膜２０の厚みは、１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下程度であっても良く、６０ｎｍ以上３００ｎｍ以下程度であっても良い。配向膜２０の厚みが１ｎｍ以上であることにより、配向膜２０内に異物を取り込むことができ、歩留まりの低下を抑制できる。また、配向膜２０の厚みが１０００ｎｍ以下であることにより、偏光露光による配向膜２０の感度が悪化することを抑制できる。このため、液晶配向規制力が低下することを抑制できる。

配向膜２０の作製は、ロール・トゥ・ロール方式で実施されても良い。ロール・トゥ・ロール方式で配向膜２０を作製することにより、配向膜２０を短い時間で大量生産できる。なお、配向膜２０は、枚葉状のシートから作製されても良い。シートから配向膜２０を作製する場合、配向膜２０は、インプリント法であれば金属版又は樹脂版から作製可能であり、光配向法であれば露光用のマスクを使用することにより作製可能である。

＜位相差層＞
位相差層３０は、液晶化合物を含んでいても良い。また、位相差層３０は、光重合開始剤と、界面活性剤と、溶剤とを更に含有する組成物から作製されても良い。ここでは、まず、位相差層３０の液晶化合物、光重合開始剤、界面活性剤及び溶剤について説明する。

＜＜液晶化合物＞＞
位相差層３０の液晶化合物としては、コレステリック液晶化合物が挙げられる。位相差層３０がコレステリック液晶化合物を含んでいる場合、位相差層３０は、コレステリック液晶化合物３５（図９参照）が螺旋状に旋回して積み重ねられた螺旋構造を有している。この場合、位相差層３０は、コレステリック液晶化合物３５が螺旋状に１回転（３６０°回転）するように積み重ねられた化合物の層が、複数積層された構造を有し得る。

位相差層３０は、特定の波長の光を反射する特性を有している。例えば、位相差層３０は、緑色の光を反射する場合、緑色の光の右円偏光を反射して、それ以外の光を透過する。このような位相差層３０は、面方向において、コレステリック液晶化合物３５が回転するように配向されている。このため、入射した円偏光を、光学軸の向きが連続的に回転している向きに屈折（回折）させて反射する。この際、入射する円偏光の旋回方向に応じて、円偏光を回折させる方向が異なるようになる。すなわち、位相差層３０は、特定の波長の右円偏光又は左円偏光を反射し、かつ、この反射光を回折する役割を果たす。

上述した配向膜２０として、図７Ａ及び図７Ｂに示す配向膜２０を使用した場合、図９に示すように、位相差層３０において、コレステリック液晶化合物３５の分子軸は、基材層１１の表面１１ａに対して傾斜する。この場合、位相差層３０の反射面Ｒｅｆは、基材層１１の表面１１ａに対して、所定の角度傾斜する。本実施の形態では、基材層１１の表面１１ａに対する反射面Ｒｅｆの傾斜角度θは、後述するパターン領域３１の幅が小さくなるにつれて、大きくなる。ここで、位相差層３０の反射面Ｒｅｆは、方位角が等しい液晶化合物が存在する平面である。また、「方位角が等しい液晶化合物」とは、基材層１１の表面１１ａに投影したときに、分子軸３６の配向方向が略同一となる液晶化合物をいう。

また、液晶化合物は、重合性液晶化合物であっても良い。言い換えれば、位相差層３０は、重合性液晶化合物を含む組成物の硬化物であっても良い。

重合性液晶化合物は、重合性基を有する液晶化合物であり、重合性基が１つの単官能性液晶化合物、重合性基が２以上の多官能性液晶化合物が挙げられる。これらの中でも多官能性液晶化合物が好ましく、重合性基の数が２～３の多官能液晶化合物がより好ましく、重合性基の数が２の多官能液晶化合物がさらに好ましい。重合性基は、紫外線等の活性エネルギー線の照射を受けて重合可能となるものであり、ビニル基、メタクロイル基、アクリロイル基等のエチレン性不飽和二重結合等が挙げられる。

位相差層３０において、液晶化合物は、傾斜配向状態に固定化されていても良い。この場合、上述した傾斜角度θは、１°以上６０°以下であっても良く、１°以上４５°以下であっても良い。一般的に、傾斜角度θが６０°以上になると、反射面Ｒｅｆにおいて、光が全反射する。このため、傾斜角度θは６０°以下であることが好ましい。また、光学フィルム１０と観察者との間の距離にも依存するが、反射面Ｒｅｆが基材層１１の表面１１ａに対して少しでも傾斜することで、コレステリック液晶化合物の反射による色づきと、回折による色づきとが区別されるため好ましい。

棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類又はアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が用いられ得る。棒状液晶化合物としては、これらの低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物が用いられても良い。また、棒状液晶化合物は、重合性基を有していても良い。棒状液晶化合物の一分子中の重合性基の数は、２又は３であっても良く、２であっても良い。

また、後述するように、位相差層３０は、逆分散性を示しても良い。この場合、逆分散性を示す液晶性化合物としては、特表２０１０－５３７９５４号公報、特表２０１０－５３７９５５号公報、特表２０１０－５２２８９２号公報、特表２０１０－５２２８９３号公報、若しくは特表２０１３－５０９４５８号公報等の各公開公報、又は、特許第５８９２１５８号、特許第５９７９１３６号、特許第５９９４７７７号、若しくは特許第６０１５６５５号等の各特許公報に記載されている化合物が用いられても良い。

液晶化合物は、１種単独で用いられても良く、２種以上を組み合わせて用いられても良い。液晶化合物を１種単独で用いる場合、液晶化合物は重合性液晶化合物であっても良い。また、２種以上の液晶化合物を組み合わせて用いる場合、少なくとも１種が重合性液晶化合物であっても良く、全てが重合性液晶化合物であっても良い。位相差層３０を構成する組成物中の重合性液晶化合物の含有量は、当該組成物中の全固形物に対して、６０質量％以上９９．９質量％以下であっても良く、６５質量％以上９８質量％以下であっても良い。

＜＜光重合開始剤＞＞
位相差層３０の光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α－ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α－アシルオキシムエステル又はチオキサンソン類等が挙げられる。位相差層３０を構成する組成物中の光重合開始剤の含有量は、当該組成物中の全固形物に対して、０．０１質量％以上２０質量％以下であっても良く、０．５質量％以上５質量％以下であっても良い。

＜＜界面活性剤＞＞
位相差層３０の界面活性剤としては、重合性基を有するフッ素系界面活性剤、又は重合性基を有するシリコン系界面活性剤が挙げられる。フッ素系界面活性剤及びシリコン系界面活性剤は、組み合わされて用いられても良い。位相差層３０を構成する組成物中の界面活性剤の含有量は、当該組成物中の全固形物に対して、０．０１質量％以上２．０質量％以下であっても良く、０．１質量％以上１．０質量％以下であっても良い。

＜＜溶剤＞＞
位相差層３０の溶剤としては、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アルコール類（ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、又はアミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。位相差層３０を構成する組成物中の溶剤の含有量は、当該組成物中の５０質量％以上９０質量％以下であっても良く、７０質量％以上８０質量％以下であっても良い。

このような位相差層３０は、例えば、配向膜２０上に、位相差層３０を構成する組成物を塗布した後、当該組成物を乾燥及び硬化させることにより形成できる。具体的な乾燥条件は、位相差層３０を構成する組成物により異なるが、乾燥温度は、４０℃以上１５０℃以下としても良い。基材層１１の変形を抑制するためには、乾燥温度は、４０℃以上１００℃以下が好ましい。乾燥時間は、３０秒以上２５０秒以下としても良く、５０秒以上２００秒以下としても良い。重合性液晶化合物を重合する際、紫外線が用いられても良い。紫外線の照射エネルギーは、位相差層３０の厚み等により異なるが、５０ｍＪ／ｃｍ^２以上１Ｊ／ｃｍ^２以下であっても良く、１５０ｍＪ／ｃｍ^２以上９００ｍＪ／ｃｍ^２以下であっても良い。

位相差層３０は、５５０ｎｍの測定波長でλ／２の位相差を与える層であることが最も好ましいが、λ／４のｎ倍（ｎλ／４）の位相差を与える層であっても良い。位相差層３０は、λ／２位相差層、又はλ／４位相差層であっても良い。位相差層３０がλ／２位相差層である場合、波長５５０ｎｍにおける面内位相差は、２２０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であっても良く、２３０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下であっても良く、２４０ｎｍ以上２７５ｎｍ以下であっても良い。位相差層３０がλ／４位相差層である場合、波長５５０ｎｍにおける面内位相差は、９０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下であっても良く、１００ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であっても良く、１１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であっても良い。本明細書において、面内位相差（面内リタデーション、Ｒｅ）は、面内における遅相軸方向の屈折率をｎｘ、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率をｎｙ、ｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率をｎｚ、膜厚をｄ（ｎｍ）とした際に、下記式で表すことができる。
面内位相差（Ｒｅ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄ・・・式（１）
ここで、ｎｘ－ｎｙ＝Δｎ（面内複屈折）としたとき、Δｎは、実質的に測定が困難である。このため、Δｎに関しては、上記式（１）を用いて、面内位相差（Ｒｅ）及び膜厚ｄから算出する。この場合、面内位相差（Ｒｅ）は、下記の「ＡｘｏＳｔｅｐ」を用いて測定する。位相差層３０の膜厚ｄは、ミクロトームを使って光学フィルム１０を切削し、その後、断面部をＳＥＭにて測定する。このようにして、上記式（１）を用いてΔｎを容易に算出することは可能である。
位相差層３０の面内位相差は、位相差層３０の面内の７箇所の面内位相差から、最大値及び最小値を除外した５つの面内位相差の平均値を意味する。前記位相差の基準となる光の波長λは、５５０ｎｍとする。面内位相差の測定装置としては、ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製の商品名「ＡｘｏＳｔｅｐ」が挙げられる。

位相差層３０は、正分散性を示しても良く、逆分散性を示しても良い。なお、逆分散性とは、透過光の波長が長くなるに従って透過光に与える位相差が増大する特性である。具体的には、逆分散性とは、波長４５０ｎｍにおけるリタデーション（Ｒｅ４５０）と、波長５５０ｎｍにおけるリタデーション（Ｒｅ５５０）との関係が、Ｒｅ４５０＜Ｒｅ５５０となる特性である。一方、正分散性とは、Ｒｅ４５０とＲｅ５５０との関係が、Ｒｅ４５０＞Ｒｅ５５０となる特性である。

位相差層３０の厚みは、付与する位相差を考慮して、０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲で適宜調整できる。

ここで、図１０に示すように、本実施の形態では、位相差層３０は、複数のパターン領域３１を有している。図示された例においては、位相差層３０は、第１パターン領域３１ａと、第１方向Ｘにおいて、第１パターン領域３１ａに隣接して配置された第２パターン領域３１ｂとを有している。また、図示された例においては、位相差層３０は、第１方向Ｘにおいて、第２パターン領域３１ｂに隣接して配置された第３パターン領域３１ｃを更に有している。なお、位相差層３０が有するパターン領域３１の個数は、３個以上９０個以下であっても良い。また、位相差層３０のパターン領域３１は、曲線（例えば、蛇行する曲線）に沿うように、複数配列されていても良い。この場合、一方向の反射による回折光に起因する視認性の悪化を抑制できる。

各々のパターン領域３１は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の光軸パターン領域Ｐａを有している。例えば、第１パターン領域３１ａは、遅相軸の方向が互いに異なる複数の第１光軸パターン領域Ｐａ１（Ｐａ１１、Ｐａ１２）を有している。複数の第１光軸パターン領域Ｐａ１は、第１方向Ｘに沿って配列されている。図示された例においては、第１パターン領域３１ａは、第１光軸パターン領域Ｐａ１を２個有している。また、各々の第１光軸パターン領域Ｐａ１の幅は、互いに等しくなっている。なお、第１パターン領域３１ａは、幅のサイズが近い複数の第１光軸パターン領域Ｐａ１を有していても良い。例えば、第１パターン領域３１ａは、幅が５μｍ（中心値）である第１光軸パターン領域Ｐａ１と、幅が４μｍ又は６μｍである第１光軸パターン領域Ｐａ１とを有していても良い。なお、図１０の第１光軸パターン領域Ｐａ１内、後述する第２光軸パターン領域Ｐａ２内、及び後述する第３光軸パターン領域Ｐａ３内の直線は、面内の遅相軸の方向を示している。また、後述する図１１Ａ及び図１１Ｂの第１光軸パターン領域Ｐａ１内、後述する第２光軸パターン領域Ｐａ２内、及び後述する第３光軸パターン領域Ｐａ３内の曲線は、液晶化合物が並ぶ方向を示している。なお、面内の遅相軸の方向及び液晶化合物が並ぶ方向は、これらに限られない。また、第１光軸パターン領域Ｐａ１等において、面内の遅相軸によって構成される角度γ（図１０参照）は、鈍角であることが好ましい。これにより、例えば、第１光軸パターン領域Ｐａ１同士の境界近傍における配向不良を効果的に抑制できる。

なお、図７Ａ及び図７Ｂに示すように、配向膜２０の凹凸２１が延びる方向が、連続して変化する場合には、図１１Ａ及び図１１Ｂに示すように、光軸が延びる方向が、連続して変化する。なお、図１１Ａは、図７Ａに示す配向膜２０上に形成された位相差層３０を示しており、図１１Ａに示す位相差層３０では、各々のパターン領域３１は、光軸パターン領域Ｐａを２個ずつ有している。図１１Ｂは、図７Ｂに示す配向膜２０上に形成された位相差層３０を示しており、図１１Ｂに示す位相差層３０では、各々のパターン領域３１は、光軸パターン領域Ｐａを４個ずつ有している。これらの場合、第１光軸パターン領域Ｐａ１の幅にもよるが、第１光軸パターン領域Ｐａ１の１つ当たりの幅が５μｍ以上の場合、以下のとおり、第１パターン領域３１ａが有する第１光軸パターン領域Ｐａ１の個数は、３個以上９０個以下であっても良い。また、この場合、第１パターン領域３１ａが有する第１光軸パターン領域Ｐａ１の個数は、１０個以上６０個以下であることが好ましく、２０個以上３０個以下であることが更に好ましい。第１パターン領域３１ａが有する第１光軸パターン領域Ｐａ１の個数が３個以上であることにより、光軸が延びる方向の急激な変化を抑制できる。このため、液晶配向性の悪化を抑制できる。また、第１パターン領域３１ａが有する第１光軸パターン領域Ｐａ１の個数が９０個以下であることにより、隣接する第１光軸パターン領域Ｐａ１同士の境界部分が多くなりすぎることを抑制できる。このため、当該境界部分において、不要な回折光が発生することを抑制できる。第１光軸パターン領域Ｐａ１の１つ当たりの幅が５μｍ以下の場合、光配向法で配向膜２０を作製する場合には問題ないが、インプリント法で配向膜２０を作製する場合、第１パターン領域３１ａが有する第１光軸パターン領域Ｐａ１の個数は、３個以上２０個以下であることが好ましい。第１パターン領域３１ａが有する第１光軸パターン領域Ｐａ１の個数が２０個以下であることにより、配向膜２０の凹凸形状の幅が狭くなりすぎることを抑制できる。このため、配向膜２０の凹凸２１を構成する樹脂が、凸部の形状を良好に保つことができる。

第２パターン領域３１ｂは、遅相軸の方向が互いに異なる複数の第２光軸パターン領域Ｐａ２（Ｐａ２１、Ｐａ２２）を有している。複数の第２光軸パターン領域Ｐａ２は、第１方向Ｘに沿って配列されている。図示された例においては、第２パターン領域３１ｂは、第２光軸パターン領域Ｐａ２を２個有している。なお、第２パターン領域３１ｂが有する第２光軸パターン領域Ｐａ２の個数は、３個以上９０個以下であっても良く、１０個以上６０個以下であることが好ましく、２０個以上３０個以下であることが更に好ましい。第２パターン領域３１ｂが有する第２光軸パターン領域Ｐａ２の個数が３個以上であることにより、液晶配向性の悪化を抑制できる。また、第２パターン領域３１ｂが有する第２光軸パターン領域Ｐａ２の個数が９０個以下であることにより、隣接する第２光軸パターン領域Ｐａ２同士の境界部分が多くなりすぎることを抑制できる。このため、当該境界部分において、不要な回折光が発生することを抑制できる。第２パターン領域３１ｂの他の構成は、上述した第１パターン領域３１ａと同一であっても良い。

第３パターン領域３１ｃは、遅相軸の方向が互いに異なる複数の第３光軸パターン領域Ｐａ３（Ｐａ３１、Ｐａ３２）を有している。複数の第３光軸パターン領域Ｐａ３は、第１方向Ｘに沿って配列されている。図示された例においては、第３パターン領域３１ｃは、第３光軸パターン領域Ｐａ３を２個有している。なお、第３パターン領域３１ｃが有する第３光軸パターン領域Ｐａ３の個数は、３個以上９０個以下であっても良く、１０個以上６０個以下であることが好ましく、２０個以上３０個以下であることが更に好ましい。第３パターン領域３１ｃが有する第３光軸パターン領域Ｐａ３の個数が３個以上であることにより、液晶配向性の悪化を抑制できる。また、第３パターン領域３１ｃが有する第３光軸パターン領域Ｐａ３の個数が９０個以下であることにより、隣接する第３光軸パターン領域Ｐａ３同士の境界部分が多くなりすぎることを抑制できる。このため、当該境界部分において、不要な回折光が発生することを抑制できる。第３パターン領域３１ｃの他の構成は、上述した第１パターン領域３１ａと同一であっても良い。

また、図示された例においては、第１光軸パターン領域Ｐａ１１、Ｐａ１２、第２光軸パターン領域Ｐａ２１、Ｐａ２２、及び第３光軸パターン領域Ｐａ３１、Ｐａ３２の遅相軸の方向は、互いに異なっている。一方、第１光軸パターン領域Ｐａ１１、Ｐａ１２内、第２光軸パターン領域Ｐａ２１、Ｐａ２２内、及び第３光軸パターン領域Ｐａ３１、Ｐａ３２内において、各々の遅相軸の方向は、互いに同じである。遅相軸の方向は、上述した配向膜２０に形成された凹凸２１の凹部２２の長手方向に対応している。なお、本明細書中、第１光軸パターン領域Ｐａ１１、Ｐａ１２、第２光軸パターン領域Ｐａ２１、Ｐａ２２、及び第３光軸パターン領域Ｐａ３１、Ｐａ３２を総称して、単に光軸パターン領域Ｐａとも記す。

また、各々のパターン領域３１が有する光軸パターン領域の個数が３個以上である場合、各々の光軸パターン領域Ｐａは、第１方向Ｘに沿って、面内の遅相軸の方向が段階的に変化するように構成されていても良い。例えば、第１パターン領域３１ａが有する第１光軸パターン領域Ｐａ１の個数が３個以上である場合、各々の第１光軸パターン領域Ｐａ１は、第１方向Ｘに沿って、面内の遅相軸の方向が段階的に変化するように構成されていても良い。この場合、例えば、図示しないが、第１光軸パターン領域Ｐａ１の面内の遅相軸は、第１方向Ｘのプラス側に向かうにつれて、第２方向Ｙに対する角度が段階的に変化しても良い。例えば、第１パターン領域３１ａが有する第１光軸パターン領域Ｐａ１の個数が１８０個である場合、各々の第１光軸パターン領域Ｐａ１における遅相軸の第２方向Ｙに対する角度が、１°ずつ段階的に変化していても良い。段階的に遅相軸の方向を変化させることにより、第１光軸パターン領域Ｐａ１間における液晶化合物の配向不良を抑制できるため好ましい。なお、第２パターン領域３１ｂ及び第３パターン領域３１ｃにおいても、同様に構成されていても良い。

各々の光軸パターン領域Ｐａの形状としては、例えば、正方形、長方形、ひし形等の四角形、三角形又は六角形等の多角形であっても良い。各々の光軸パターン領域Ｐａの幅（第１方向Ｘの長さ）は、例えば、０．００１ｍｍ以上１ｍｍ以下であっても良い。なお、各々の光軸パターン領域Ｐａの幅は、互いに同じであっても良く、互いに異なっていても良い。

本実施の形態では、第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１は、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２よりも小さくなっている。この場合、第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１は、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２の８０％以下であっても良い。これにより、第１パターン領域３１ａ等の幅方向（Ｘ方向）において、第１パターン領域３１ａ内のコレステリック液晶化合物３５のピッチと、第２パターン領域３１ｂ内のコレステリック液晶化合物３５のピッチとの差が大きくなる。このため、第１パターン領域３１ａと第２パターン領域３１ｂとの間において、色味の変化量を大きくできる。また、この場合、例えば、第１パターン領域３１ａ内の反射面Ｒｅｆ（図９参照）の傾斜角度θと、第２パターン領域３１ｂ内の反射面Ｒｅｆの傾斜角度θとの差が大きくなる。これにより、第１パターン領域３１ａと第２パターン領域３１ｂとの間において、色味の変化量を大きくできる。この結果、第１パターン領域３１ａの視認性と、第２パターン領域３１ｂの視認性とを異なるようにでき、光学フィルム１０を用いて表示される画像の意匠性（例えば、デザイン性又は認証性）を向上できる。なお、図７Ａ及び図７Ｂに示すように、配向膜２０に形成された凹部２２が円弧状に延びている場合、図９に示すような理想的な傾斜角度θを発現する。一方、図５に示すように、配向膜２０に形成された凹部２２が直線状に延びている場合、各々の光軸パターン領域Ｐａの境界部において、液晶配向が悪くなる傾向がある。このため、凹部２２が直線状に延びている場合には、図９に示すような明確な傾斜角度θを生み出すことは難しい。しかしながら、第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１と第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２との違いにより、第１パターン領域３１ａと第２パターン領域３１ｂとの間において、回折の違いは発生する。このため、凹部２２が円弧状に延びている場合と比較すると効果（色味の変化量）は小さいものの、凹部２２が直線状に延びている場合であっても、第１パターン領域３１ａと第２パターン領域３１ｂとの間において、色味の変化量を大きくできる。このため、第１パターン領域３１ａと第２パターン領域３１ｂとの間において、視認性が異なるようになり、意匠性は維持される。

また、第３パターン領域３１ｃの幅Ｗ３は、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２よりも小さくなっている。この場合、第３パターン領域３１ｃの幅Ｗ３は、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２の８０％以下であっても良い。これにより、第２パターン領域３１ｂ等の幅方向（Ｘ方向）において、第２パターン領域３１ｂ内のコレステリック液晶化合物３５のピッチと、第３パターン領域３１ｃ内のコレステリック液晶化合物３５のピッチとの差が大きくなる。このため、第２パターン領域３１ｂと第３パターン領域３１ｃとの間において、色味の変化量を大きくできる。また、この場合、例えば、第２パターン領域３１ｂ内の反射面Ｒｅｆ（図９参照）の傾斜角度θと、第３パターン領域３１ｃ内の反射面Ｒｅｆの傾斜角度θとの差が大きくなる。これにより、第２パターン領域３１ｂと第３パターン領域３１ｃとの間において、色味の変化量を大きくできる。この結果、第２パターン領域３１ｂの視認性と、第３パターン領域３１ｃの視認性とを異なるようにでき、光学フィルム１０を用いて表示される画像の意匠性（例えば、デザイン性又は認証性）を向上できる。なお、図示された例においては、第３パターン領域３１ｃの幅Ｗ３は、第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１よりも大きくなっている。しかしながら、これに限られず、例えば、図示はしないが、第３パターン領域３１ｃの幅Ｗ３が、第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１よりも小さくなっていても良い。また、図示はしないが、第３パターン領域３１ｃの幅Ｗ３が、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２よりも大きくなっていても良い。

第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２及び第３パターン領域３１ｃの幅Ｗ３は、それぞれ２０μｍ以下であっても良い。これにより、第１パターン領域３１ａと第２パターン領域３１ｂとの間の境界、及び第２パターン領域３１ｂと第３パターン領域３１ｃとの間の境界を認識しやすくできる。このため、各パターン領域３１の視認性を更に異なるようにでき、光学フィルム１０を用いて表示される画像の意匠性（例えば、デザイン性又は認証性）を更に向上できる。

本実施の形態による光学フィルム１０は、他の層として、機能層又は粘着剤層等を更に備えていてもよい。

＜機能層＞
機能層は、例えば、ハードコート層、防眩層又は反射防止層等の機能を有していても良い。機能層は、例えば、基材層１１上等に形成されても良い。

＜粘着剤層＞
粘着剤層は、光学フィルム１０の各層を互いに接着するための層であっても良い。粘着剤層を構成する粘着剤としては、アクリル系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、又はビニル系粘着剤等の汎用の粘着剤が用いられても良い。これら汎用の粘着剤から形成される粘着剤層は、通常、光学的等方性を有する。粘着剤層の厚みは、２μｍ以上３０μｍ以下程度であっても良い。

＜光学フィルムの具体的な層構成＞
光学フィルム１０の層構成は特に限定されないが、光学フィルム１０は、下記（１）～（１５）の構成を有していても良い。なお、「／」は層の界面を示す。
（１） 基材層／配向膜／位相差層
（２） 機能層／基材層／配向膜／位相差層
（３） 基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／基材層
（４） 基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／基材層／機能層
（５） 機能層／基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／基材層
（６） 機能層／基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／基材層／機能層
（７） 基材層／粘着剤層／位相差層／粘着剤層／基材層
（８） 基材層／粘着剤層／位相差層／粘着剤層／基材層／機能層
（９） 機能層／基材層／粘着剤層／位相差層／粘着剤層／基材層
（１０）基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／粘着剤層／基材層
（１１）基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／粘着剤層／基材層／機能層
（１２）機能層／基材層／粘着剤層／位相差層／配向膜／粘着剤層／基材層
（１３）基材層／粘着剤層／配向膜／位相差層／粘着剤層／基材層
（１４）基材層／粘着剤層／配向膜／位相差層／粘着剤層／基材層／機能層
（１５）機能層／基材層／粘着剤層／配向膜／位相差層／粘着剤層／基材層

次に、画像表示装置１の偏光板４０及び表示装置５０について説明する。

［偏光板］
偏光板４０は、有機ＥＬ素子等の表示素子、又は図示しない抵抗膜式タッチパネル等のタッチパネル上に配置することにより、光吸収性能又は反射防止性能を発揮する役割を果たす。偏光板は、直線偏光板であっても良く、円偏光板であっても良い。

偏光板４０の偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子、又はポリエン系偏光子が用いられても良い。ヨウ素系偏光子及び染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造できる。偏光子の吸収軸は、フィルムの延伸方向に相当する。このため、縦方向（搬送方向）に延伸された偏光子は、長手方向に対して平行に延びる吸収軸を有する。一方、横方向（搬送方向と垂直方向）に延伸された偏光子は、長手方向に対して垂直に延びる吸収軸を有する。

［表示装置］
表示装置５０は、例えば有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置からなる。表示装置５０は、例えば図示しない金属層、支持基材、樹脂基材、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、及び有機ＥＬ層を含んでいても良い。表示装置５０上には、図示しないタッチパネルが配置されていても良い。タッチパネルは、抵抗膜式タッチパネル、静電容量式タッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル又は電磁誘導式タッチパネル等であっても良い。これらタッチパネルは圧力検知機能を備えたものであっても良い。なお、図示はしないが、表示装置５０は、表示装置５０に電気的に接続された制御部（図示せず）と共に、図示しない筐体内に収容されていても良い。

＜大きさ、形状等＞
表示装置５０を作製する場合、光学フィルム１０及び偏光板４０は、所定の大きさにカットした枚葉状の形態の材料を使用しても良く、長尺シートをロール状に巻き取ったロール状の形態の材料を使用しても良い。枚葉状の形態の材料を使用する場合、光学フィルム１０等の大きさは特に限定されないが、最大径が０．５インチ以上５００インチ以下程度であっても良い。“最大径”とは、光学フィルム１０等の任意の２点を結んだ際の最大長さをいう。例えば、光学フィルム１０等が長方形である場合は、長方形の対角線が最大径となる。光学フィルム１０等が円形である場合は、円の直径が最大径となる。

ロール状の形態の材料を使用する場合、光学フィルム１０等の幅及び長さは特に限定されないが、一般的には、幅は３００ｍｍ以上８０００ｍｍ以下、長さは５０ｍ以上１００００ｍ以下程度であっても良い。ロール状の形態の光学フィルム１０等は、画像表示装置等１の大きさに合わせて、枚葉状にカットして用いることができる。カットする際、物性が安定しないロール端部は除外することが好ましい。枚葉状にカットする場合、カットされた材料の形状も特に限定されず、例えば、材料の形状は、三角形、四角形もしくは五角形等の多角形であっても良く、円形であっても良く、又はランダムな不定形であっても良い。

次に、本実施の形態による光学フィルム１０の製造方法について説明する。

まず、基材層１１を準備する。

次に、基材層１１上に、配向膜２０を形成する。この際、まず、基材層１１上に、例えばＵＶ硬化樹脂を塗布した後に、例えば、インプリント法により凹凸２１を形成する。その後、ＵＶ硬化樹脂に紫外線を照射することにより、ＵＶ硬化樹脂を硬化させる。

次いで、配向膜２０上に、位相差層３０を形成する。この際、例えば、配向膜２０上に、位相差層３０を構成する組成物を塗布した後、当該組成物を乾燥及び硬化させることにより、位相差層３０を形成する。

このようにして、図４に示す光学フィルム１０が得られる。

以上説明したように、本実施の形態によれば、位相差層３０が、コレステリック液晶化合物を含んでいる。また、位相差層３０が、第１パターン領域３１ａと、第１方向Ｘにおいて、第１パターン領域３１ａに隣接して配置された第２パターン領域３１ｂとを有している。また、第１パターン領域３１ａが、遅相軸の方向が互いに異なる複数の第１光軸パターン領域Ｐａ１を有し、複数の第１光軸パターン領域Ｐａ１が、第１方向Ｘに沿って配置されている。また、第２パターン領域３１ｂが、遅相軸の方向が互いに異なる複数の第２光軸パターン領域Ｐａ２を有し、複数の第２光軸パターン領域Ｐａ２が、第１方向Ｘに沿って配置されている。そして、第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１が、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２の８０％以下である。これにより、第１パターン領域３１ａ等の幅方向（Ｘ方向）において、第１パターン領域３１ａ内のコレステリック液晶化合物３５のピッチと、第２パターン領域３１ｂ内のコレステリック液晶化合物３５のピッチとの差が大きくなる。このため、第１パターン領域３１ａと第２パターン領域３１ｂとの間において、色味の変化量を大きくできる。また、この場合、例えば、第１パターン領域３１ａ内の反射面Ｒｅｆ（図９参照）の傾斜角度θと、第２パターン領域３１ｂ内の反射面Ｒｅｆの傾斜角度θとの差が大きくなる。このため、第１パターン領域３１ａの視認性と、第２パターン領域３１ｂの視認性とを異なるようにでき、光学フィルム１０を用いて表示される画像の意匠性を向上できる。なお、第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１が、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２の８０％以下であることにより、光学フィルム１０を用いて表示される画像の意匠性を向上できることは、後述する実施例により説明する。

なお、上述した実施の形態では、複数の第２光軸パターン領域Ｐａ２が、第１方向Ｘに沿って配置されている例について説明したが、これに限られない。複数の第２光軸パターン領域Ｐａ２は、第１方向Ｘとは異なる方向に沿って配置されていても良い。この場合、例えば、図１２Ａ及び図１２Ｂに示すように、複数の第２光軸パターン領域Ｐａ２が、第２方向Ｙに沿って配置されていても良い。すなわち、複数の第２光軸パターン領域Ｐａ２が配置される方向と、第１方向Ｘとがなす角度βが、９０°であっても良い。また、図示はしないが、複数の第２光軸パターン領域Ｐａ２が、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙの両方向に傾斜する方向に沿って配置されていても良い（すなわち、０＜角度β＜９０）。なお、図１２Ａに示す位相差層３０では、各々のパターン領域３１は、光軸パターン領域Ｐａを２個ずつ有している。また、図１２Ｂに示す位相差層３０では、各々のパターン領域３１は、光軸パターン領域Ｐａを４個ずつ有している。これらの場合においても、第１パターン領域３１ａの視認性と、第２パターン領域３１ｂの視認性とを異なるようにでき、光学フィルム１０を用いて表示される画像の意匠性を向上できる。なお、各々のパターン領域３１が有する光軸パターン領域Ｐａの個数は、画像表示装置１によって表示される図柄に応じて、適宜変更されても良い。また、図１２Ｃに示すように、複数の第２光軸パターン領域Ｐａ２が、第１方向Ｘとは異なる方向（例えば、第２方向Ｙ）に沿って配置され、かつ、位相差層３０が、第３パターン領域３１ｃを更に有していても良い。

また、上述した実施の形態では、位相差層３０が、複数のパターン領域３１を有している例について説明した。この場合、例えば、図１３に示すように、位相差層３０は、コレステリック液晶化合物が所定のパターンで配置されたパターン領域３１と、コレステリック液晶化合物が所定のパターンで配置されていないベタ領域３２とを有していても良い。上述したように、パターン領域３１は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の光軸パターン領域Ｐａを含んでいても良い。ベタ領域３２は、液晶化合物がベタパターンで配置された領域である。この場合においても、パターン領域３１の視認性と、ベタ領域３２の視認性とを異なるようにでき、光学フィルム１０を用いて表示される画像の意匠性を向上できる。なお、本変形例では、パターン領域３１の幅Ｗ４は、２０μｍ以下であっても良い。これにより、パターン領域３１とベタ領域３２との間の境界を認識しやすくできる。このため、パターン領域とベタ領域３２との視認性を更に異なるようにでき、光学フィルム１０を用いて表示される画像の意匠性（例えば、デザイン性又は認証性）を更に向上できる。

次に、上記実施の形態における具体的実施例について説明する。

（実施例Ａ１）
図４に示す光学フィルム１０を作製した。この際、まず、図７に示す配向膜２０をインプリント法により作製し、その後、配向膜２０上に位相差層３０を形成した。すなわち、図７に示す配向膜２０上に、複数の第１光軸パターン領域Ｐａ１及び複数の第２光軸パターン領域Ｐａ２が、それぞれ第１方向Ｘに沿って配置されている位相差層３０（角度β＝０°）を形成した。また、位相差層３０において、第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１は、１μｍとした。また、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２は、２μｍとした。さらに、第１光軸パターン領域Ｐａ１及び第２光軸パターン領域Ｐａ２の個数は、それぞれ８個とした。

光学フィルム１０を作製する際、まず、配向膜２０を形成するための版を作製した。このとき、まず、シミュレーションで設計した表面形状を備える母型を作製した。この際、６インチ角サイズの合成石英板を用い、電子線描画装置とドライエッチング装置とを使用した電子線リソグラフィプロセスにより、石英の母型を作製した。

次いで、母型に紫外線硬化性樹脂を流し込んだ後、紫外線硬化性樹脂に対して紫外線を照射することにより、紫外線硬化性樹脂を硬化させた。その後、母型から紫外線硬化性樹脂を剥離することにより、母型の表面形状と相補的形状を有する樹脂版を得た。次いで、電鋳法により、樹脂版の形状と相補的形状を有する型である、母型の複製型を複数作製した。次に、複数の複製型をロールに巻き付け、ロール状の版を作製した。

次に、基材層１１（厚み４０μｍのシクロオレフィンポリマー。日本ゼオン社の商品名「ゼオノア」）上に、下記処方のプライマー層を塗布し、乾燥させることにより、厚み０．５μｍのプライマー層を形成した。

次いで、プライマー層上に下記処方のパターン層形成用塗布液を塗布し、乾燥させることにより、未硬化の樹脂を含む層を形成した。

次いで、上述したロール状の版を用いて、ロール・トゥ・ロール方式により、未硬化の樹脂を含む層を賦形すると同時に、基材層１１側から紫外線を照射することにより、賦形した樹脂を含む層を硬化させた。このとき、紫外線の積算光量は、５００ｍＪ／ｃｍ^２とした。次いで、版から賦形した層を剥離し、基材層１１上にプライマー層及びパターン層（配向膜２０）を有する積層体を得た。

次いで、連続のロール・トゥ・ロール方式により、パターン層上に下記の液晶層（位相差層）形成用塗布液を塗布し、乾燥させた後、紫外線を照射することにより、液晶層（位相差層３０）を形成した。このとき、紫外線の積算光量は、１５０ｍＪ／ｃｍ^２とした。

液晶層は、面内複屈折（Δｎ）が０．１５の液晶を用い、面内位相差が２７５ｎｍとなるように膜厚を調整した。面内複屈折（Δｎ）は、上述した式（１）を用いて、面内位相差（Ｒｅ）及び膜厚ｄから算出した。第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２が２μｍの実施例Ａ１では、所望の膜厚となるように、液晶層形成用塗布液を４回に分けて塗工した。なお、後述する実施例Ａ４等では、第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１又は第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２が１５μｍ以上２０μｍ未満となる場合は、所望の膜厚となるように、液晶層形成用塗布液を２回に分けて塗工した。また、後述する実施例Ａ５等では、幅Ｗ１又は幅Ｗ２が２０μｍ以上となる場合は、液晶層形成用塗布液を１回で塗工した。幅Ｗ１又は幅Ｗ２の大きさにより液晶の配向性が異なるためである。

以上の工程により、実施例Ａ１による光学フィルム１０を作製した。

＜プライマー層形成用塗布液＞
・ポリオレフィン系樹脂：７０質量部
（三菱ケミカル社製、商品名：サーフレンＰ－１０００）
・シリカ系易滑剤：５質量部
（ＣＩＫナノテック社製、商品名：ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％－Ｅ６５）
・メチルエチルケトン：２５質量部

＜パターン層形成用塗布液＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート：９６質量部
（日本化薬社製、商品名：ＰＥＴ－３０）
・光重合開始剤：４質量部
（ＩＧＭ社製、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）

＜液晶層形成用塗布液＞
・界面活性剤：０．０４質量部
（ＢＹＫ－３６１Ｎ（商品名）、ビックケミー社製）
・棒状液晶分子：１０質量部
（ＬＣ２４２（商品名）、ＢＡＳＦ社製、面内複屈折（Δｎ）＝０．１５）
・光重合開始剤：０．４質量部
（ＩＧＭ社製、商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ１８４）
・メチルエチルケトン：８９．６質量部

次に、光学フィルム１０の色の変化を評価した。このとき、平面視と、斜め方向から見た場合との色味の変化量を評価した。

なお、上述した評価は、異物、傷及び皺等の欠陥がない箇所で実施した。また、上述した評価は、特に断りのない限り、温度２３℃±５℃、相対湿度４０％以上６５％以下の雰囲気で実施した。また、特に断りのない限り、各測定の前に、前記雰囲気に測定用サンプルを３０分以上６０分以下晒した。

（実施例Ａ２）
第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１が２μｍであったこと、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２が３μｍであったこと、以外は実施例Ａ１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルム１０の色の変化を評価した。

（実施例Ａ３）
第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１が３μｍであったこと、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２が７μｍであったこと、第２光軸パターン領域Ｐａ２の個数が３０個であったこと、以外は実施例Ａ１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルム１０の色の変化を評価した。

（実施例Ａ４）
第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１が７μｍであったこと、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２が１５μｍであったこと、第１光軸パターン領域Ｐａ１の個数が３０個であったこと、第２光軸パターン領域Ｐａ２の個数が３０個であったこと、以外は実施例Ａ１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルム１０の色の変化を評価した。

（実施例Ａ５）
第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１が１５μｍであったこと、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２が２０μｍであったこと、第１光軸パターン領域Ｐａ１の個数が３０個であったこと、第２光軸パターン領域Ｐａ２の個数が３０個であったこと、以外は実施例Ａ１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルム１０の色の変化を評価した。

（実施例Ａ６）
第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１が２５μｍであったこと、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２が５０μｍであったこと、第１光軸パターン領域Ｐａ１の個数が３０個であったこと、第２光軸パターン領域Ｐａ２の個数が３０個であったこと、以外は実施例Ａ１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルム１０の色の変化を評価した。

（比較例Ａ１）
第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１が１５μｍであったこと、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２が１８μｍであったこと、第１光軸パターン領域Ｐａ１の個数が３０個であったこと、第２光軸パターン領域Ｐａ２の個数が３０個であったこと、以外は実施例Ａ１と同様にして、光学フィルムを作製した。また、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルムの色の変化を評価した。

（比較例Ａ２）
複数の第１パターン領域３１ａのみからなる光学フィルムを作製したこと、第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１が１５μｍ～１００μｍまで連続して変化していたこと、第１光軸パターン領域Ｐａ１の個数が３０個であったこと、以外は実施例Ａ１と同様にして、光学フィルムを作製した。また、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルムの色の変化を評価した。

（参考例）
第１パターン領域３１ａのみからなる光学フィルムを作製したこと、以外は実施例Ａ１と同様にして、光学フィルムの色の変化を評価した。

（実施例Ｂ１）
図１２Ａに示すように、複数の第２光軸パターン領域Ｐａ２が、第１方向Ｘとは異なる方向に沿って配置されている位相差層３０を形成したこと、第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１が１５μｍであったこと、第２パターン領域３１ｂの幅Ｗ２が１００μｍであったこと、第１光軸パターン領域Ｐａ１の個数が３０個であったこと、第２光軸パターン領域Ｐａ２の個数が３０個であったこと、角度βが９０°であったこと、以外は実施例Ａ１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルム１０の色の変化を評価した。

（実施例Ｂ２）
第１パターン領域３１ａの幅Ｗ１が１００μｍであったこと、以外は実施例Ｂ１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例Ｂ１と同様にして、光学フィルム１０の色の変化を評価した。

（実施例Ｂ３）
角度βが４５°であったこと、以外は実施例Ｂ１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例Ｂ１と同様にして、光学フィルム１０の色の変化を評価した。

（実施例Ｂ４）
角度βが２０°であったこと、以外は実施例Ｂ１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例Ｂ１と同様にして、光学フィルム１０の色の変化を評価した。

（実施例Ｂ５）
角度βが５°であったこと、以外は実施例Ｂ１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例Ｂ１と同様にして、光学フィルム１０の色の変化を評価した。

（実施例Ｃ１）
図１３に示すように、パターン領域３１とベタ領域３２とを有する位相差層３０を形成したこと、パターン領域３１の幅Ｗ４が１５μｍであったこと、光軸パターン領域Ｐａの個数が３０個であったこと、以外は実施例Ａ１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例Ａ１と同様にして、光学フィルム１０の色の変化を評価した。

（実施例Ｃ２）
パターン領域３１の幅Ｗ４が、１００μｍであったこと、以外は実施例Ｃ１と同様にして、光学フィルム１０を作製した。また、実施例Ｃ１と同様にして、光学フィルム１０の色の変化を評価した。

以上の結果を表１乃至表３に示す。

なお、上記表１乃至表３において、「評価」の欄に付された「Ａ」は、参考例による光学フィルムの場合と比較して、平面視と斜め方向から見た場合とにおける光学フィルム１０の色味の変化量が非常に大きかったことを意味する。また、「評価」の欄に付された「Ｂ」は、参考例による光学フィルムの場合と比較して、平面視と斜め方向から見た場合とにおける光学フィルム１０の色味の変化量が大きかったことを意味する。さらに、「評価」の欄に付された「Ｃ」は、参考例による光学フィルムの場合と比較して、平面視と斜め方向から見た場合とにおける光学フィルムの色の変化の差があまり無かったことを意味する。

この結果、表１に示すように、実施例Ａ１乃至実施例Ａ６、実施例Ｂ１乃至実施例Ｂ５、実施例Ｃ１及び実施例Ｃ２による光学フィルム１０では、平面視と斜め方向から見た場合とにおける光学フィルム１０の色味の変化量を大きくできた。とりわけ、実施例Ａ１乃至実施例Ａ４、実施例Ｂ１、実施例Ｂ３、実施例Ｂ４、実施例Ｃ１及び実施例Ｃ２による光学フィルム１０では、平面視と斜め方向から見た場合とにおける光学フィルム１０の色味の変化量を非常に大きくできた。このため、本実施の形態による光学フィルム１０では、光学フィルム１０を用いて表示される画像の意匠性を向上できることがわかった。

上記実施の形態および各変形例に開示されている複数の構成要素を必要に応じて適宜組合せることも可能である。あるいは、上記実施の形態および各変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。

Claims (10)

1. 位相差層を備える光学フィルムであって、
   前記位相差層は、コレステリック液晶化合物を含み、
   前記位相差層は、第１パターン領域と、第１方向において、前記第１パターン領域に隣接して配置された第２パターン領域とを有し、
   前記第１パターン領域は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の第１光軸パターン領域を有し、
   複数の前記第１光軸パターン領域は、前記第１方向に沿って配置され、
   前記第２パターン領域は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の第２光軸パターン領域を有し、
   複数の前記第２光軸パターン領域は、前記第１方向に沿って配置され、
   前記第１パターン領域の幅は、前記第２パターン領域の幅の８０％以下である、光学フィルム。
2. 前記第１パターン領域の幅及び前記第２パターン領域の幅は、２０μｍ以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
3. 位相差層を備える光学フィルムであって、
   前記位相差層は、コレステリック液晶化合物を含み、
   前記位相差層は、第１パターン領域と、第１方向において、前記第１パターン領域に隣接して配置された第２パターン領域とを有し、
   前記第１パターン領域は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の第１光軸パターン領域を有し、
   複数の前記第１光軸パターン領域は、前記第１方向に沿って配置され、
   前記第２パターン領域は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の第２光軸パターン領域を有し、
   複数の前記第２光軸パターン領域は、前記第１方向とは異なる第２方向に沿って配置されている、光学フィルム。
4. 前記第１パターン領域の幅は、前記第２パターン領域の幅の８０％以下である、請求項３に記載の光学フィルム。
5. 前記第１パターン領域の幅及び前記第２パターン領域の幅は、２０μｍ以下である、請求項３に記載の光学フィルム。
6. 位相差層を備える光学フィルムであって、
   前記位相差層は、コレステリック液晶化合物を含み、
   前記位相差層は、前記コレステリック液晶化合物が所定のパターンで配置されたパターン領域と、前記コレステリック液晶化合物が所定のパターンで配置されていないベタ領域とを有し、
   前記パターン領域は、遅相軸の方向が互いに異なる複数の光軸パターン領域を含む、光学フィルム。
7. 前記パターン領域の幅は、２０μｍ以下である、請求項６に記載の光学フィルム。
8. 基材層と、
   前記基材層に積層された配向膜とを更に備え、
   前記基材層、前記配向膜及び前記位相差層は、この順に積層されている、請求項１に記載の光学フィルム。
9. 前記配向膜は、ＵＶ硬化樹脂を含み、
   前記配向膜に、前記遅相軸に対応する凹凸が形成されている、請求項８に記載の光学フィルム。
10. 請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光学フィルムと、
    前記光学フィルムに積層された表示装置とを備える、画像表示装置。

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