JP2024537040A - Polyimide film having improved mechanical strength and heat resistance and method for producing same - Google Patents
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Abstract
本発明は、ビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライド(BPDA)、ピロメリティックジアンハイドライド(PMDA)およびベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンハイドライド(BTDA)を含む二無水物酸成分と、オキシジアニリン(ODA)、パラフェニレンジアミン(PPD)および4,4’-ジアミノベンズアニリド(DABA)を含むジアミン成分と、を含むポリアミック酸溶液をイミド化して製造されるポリイミドフィルムおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to a polyimide film produced by imidizing a polyamic acid solution containing a dianhydride acid component including biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA) and benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) and a diamine component including oxydianiline (ODA), paraphenylenediamine (PPD) and 4,4'-diaminobenzanilide (DABA), and a method for producing the same.
Description
本発明は、機械的強度および耐熱性に優れたポリイミドフィルムおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to a polyimide film having excellent mechanical strength and heat resistance, and a method for producing the same.
ポリイミド(polyimide、PI)は、剛直な芳香族主鎖とともに化学的安定性が非常に優れたイミド環をベースとして、有機材料の中でも最高水準の耐薬品性、電気絶縁性、耐化学性、耐候性を有する高分子材料である。
特に、優れた絶縁特性、すなわち低い誘電率のような優れた電気的特性により、電気、電子、光学分野などに至るまで高機能性高分子材料として注目されている。
最近、電子製品の軽量化、小型化に伴い、集積度が高くて柔軟な薄型回路基板が活発に開発されている。
Polyimide (PI) is a polymeric material that has the highest levels of chemical resistance, electrical insulation, chemical resistance, and weather resistance among organic materials, based on imide rings that have excellent chemical stability along with a rigid aromatic main chain.
In particular, due to its excellent electrical properties such as excellent insulating properties, i.e., low dielectric constant, it has been attracting attention as a highly functional polymer material in the electrical, electronic and optical fields.
2. Description of the Related Art Recently, with the trend towards lighter and smaller electronic products, flexible thin circuit boards with high integration density have been actively developed.
このような薄型回路基板は、優れた耐熱性、耐低温性および絶縁特性を有しながらも、屈曲が容易なポリイミドフィルム上に金属箔を含む回路が形成されている構造が多く活用される傾向にある。
このような薄型回路基板としてはフレキシブル金属箔積層板が主に用いられており、一例として、金属箔に薄い銅板を用いるフレキシブル銅箔積層板(Flexible Copper Clad Laminate、FCCL)が含まれる。その他にも、ポリイミドを薄型回路基板の保護フィルム、絶縁フィルムなどとして活用したりする。
特に、最近、電子機器に多様な機能が内在するにつれ、前記電子機器に速い演算速度と通信速度が要求されており、これを満たすために、高周波で高速通信可能な薄型回路基板が開発されている。
Such thin circuit boards tend to have a structure in which a circuit containing metal foil is formed on a polyimide film that has excellent heat resistance, low temperature resistance and insulating properties, but is also easily flexible.
Flexible metal clad laminates are mainly used for such thin circuit boards, and an example of such a laminate is a flexible copper clad laminate (FCCL) that uses a thin copper plate as a metal foil. In addition, polyimide is used as a protective film, an insulating film, etc. for thin circuit boards.
In particular, as electronic devices have recently been equipped with a variety of functions, there has been a demand for high calculation and communication speeds in the electronic devices. To meet this demand, thin circuit boards capable of high-speed communication at high frequencies have been developed.
しかし、従来のポリイミドフィルムは最新の回路基板に用いられるには比較的耐熱性が低いというデメリットがあり、耐熱性を向上させるための多様な先行研究が研究されていたが、耐熱性の向上は機械的強度やガラス転移温度のような熱的特性の低下を伴った。
したがって、耐熱性を向上させながらも、ポリイミド本来の機械的強度やガラス転移温度のような熱的特性を維持するポリイミドフィルムの開発が依然として必要なのが現状である。
However, conventional polyimide films have the disadvantage of being relatively low in heat resistance, making them unsuitable for use in the latest circuit boards. Various previous studies have been conducted to improve the heat resistance of these films, but the improvement in heat resistance has been accompanied by a decrease in thermal properties such as mechanical strength and glass transition temperature.
Therefore, there is still a need to develop polyimide films that have improved heat resistance while maintaining the inherent thermal properties of polyimide, such as mechanical strength and glass transition temperature.
本発明は、優れた高耐熱特性と機械的特性を兼ね備えたポリイミドフィルムおよびその製造方法を提供することを目的とする。
特に、本発明は、高温安定性が高く、弾性率、引張強度および伸度特性に優れたポリイミドフィルムおよびその製造方法を提供することを目的とする。
そこで、本発明は、その具体的な実施例を提供するのに実質的な目的がある。
An object of the present invention is to provide a polyimide film having both excellent heat resistance and mechanical properties, and a method for producing the same.
In particular, an object of the present invention is to provide a polyimide film having high high-temperature stability and excellent elastic modulus, tensile strength and elongation properties, and a method for producing the same.
Therefore, it is a substantial object of the present invention to provide specific embodiments thereof.
上記の目的を達成するための、本発明の一実施形態は、ビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライド(3,3’,4,4’-Biphenyltetracarbo
xylic dianhydride、BPDA)、 ピロメリティックジアンハイドライド(Pyromellitic dianhydride、PMDA)およびベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンハイドライド(3,3’,4,4’-Benzophenonetetracarboxylic dianhydride、BTDA)を含む二無水物酸成分と、
オキシジアニリン(4,4’-Oxydianiline、ODA)、パラフェニレンジアミン(p-Phenylenediamine、PPD)および4,4’-ジアミノベンズアニリド(4,4’-Diaminobenzanilide、DABA)を含むジアミン成分と、を含むポリアミック酸溶液をイミド化して製造される、ポリイミドフィルムを提供する。
In order to achieve the above object, one embodiment of the present invention is a method for producing a 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride).
dianhydride acid components including 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA), pyromellitic dianhydride (PMDA), and 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA);
The present invention provides a polyimide film produced by imidizing a polyamic acid solution containing a diamine component including oxydianiline (ODA), paraphenylenediamine (PPD), and 4,4'-diaminobenzanilide (DABA).
一実施形態において、前記ジアミン成分の総含有量100モル%を基準として、前記オキシジアニリンの含有量が23モル%以上43モル%以下であり、前記パラフェニレンジアミンの含有量が50モル%以上60モル%以下であり、前記4,4’-ジアミノベンズアニリドの含有量が10モル%以上30モル%以下であってもよい。
また、前記二無水物酸成分の総含有量100モル%を基準として、前記ビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライドの含有量が15モル%以上30モル%以下であり、前記ピロメリティックジアンハイドライドの含有量が50モル%以上65モル%以下であり、前記ベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンハイドライドの含有量が10モル%以上35モル%以下であってもよい。
一方、前記ポリイミドフィルムは、2以上のブロックからなるブロック共重合体を含むことができる。
In one embodiment, based on 100 mol% of the total content of the diamine components, the content of the oxydianiline may be 23 mol% or more and 43 mol% or less, the content of the paraphenylenediamine may be 50 mol% or more and 60 mol% or less, and the content of the 4,4'-diaminobenzanilide may be 10 mol% or more and 30 mol% or less.
In addition, based on 100 mol% of the total content of the dianhydride acid components, the content of the biphenyltetracarboxylic dianhydride may be 15 mol% or more and 30 mol% or less, the content of the pyromellitic dianhydride may be 50 mol% or more and 65 mol% or less, and the content of the benzophenonetetracarboxylic dianhydride may be 10 mol% or more and 35 mol% or less.
Meanwhile, the polyimide film may include a block copolymer having two or more blocks.
一実施形態において、前記ポリイミドフィルムは、弾性率が5GPa以上であり、強度が340MPa以上であり、ガラス転移温度(Tg)が360℃以上であり、伸度が60%以上であってもよい。
本発明の他の実施形態は、(a)ビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライド(BPDA)、ピロメリティックジアンハイドライド(PMDA)およびベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンハイドライド(BTDA)を含む二無水物酸成分と、オキシジアニリン(ODA)、パラフェニレンジアミン(PPD)および4,4’-ジアミノベンズアニリド(DABA)から構成されたジアミン成分と、を有機溶媒中で重合してポリアミック酸を製造するステップと、
(b)前記ポリアミック酸をイミド化するステップとを含む、
ポリイミドフィルムの製造方法を提供する。
本発明のさらに他の実施形態は、前記ポリイミドフィルムを含む、多層フィルム、または前記ポリイミドフィルムと、熱可塑性樹脂層とを含む多層フィルムを提供する。
本発明のさらに他の実施形態は、前記ポリイミドフィルムと、電気伝導性の金属箔とを含むフレキシブル金属箔積層板、および前記フレキシブル金属箔積層板を含む電子部品を提供する。
In one embodiment, the polyimide film may have an elastic modulus of 5 GPa or more, a strength of 340 MPa or more, a glass transition temperature (Tg) of 360° C. or more, and an elongation of 60% or more.
Another embodiment of the present invention is a method for producing a polyamic acid by polymerizing a dianhydride component including biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA) and benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) and a diamine component consisting of oxydianiline (ODA), paraphenylenediamine (PPD) and 4,4'-diaminobenzanilide (DABA) in an organic solvent;
(b) imidizing the polyamic acid.
A method for producing a polyimide film is provided.
Yet another embodiment of the present invention provides a multilayer film comprising the polyimide film, or a multilayer film comprising the polyimide film and a thermoplastic resin layer.
Yet another embodiment of the present invention provides a flexible metal foil laminate comprising the polyimide film and an electrically conductive metal foil, and an electronic component comprising the flexible metal foil laminate.
本発明の実施形態によるポリイミドフィルムは、特定の二無水物酸成分と特定のジアミン成分とを特定のモル比で組み合わせて使用することにより、優れた高耐熱特性と機械的特性を同時に有することができる。また、接着力を向上させることができる。
一方、本発明は、前記のようなポリイミドフィルムを含み、フレキシブル金属箔積層板などの電子部品などに有用に適用可能である。
The polyimide film according to the embodiment of the present invention can have excellent heat resistance and mechanical properties at the same time by using a specific dianhydride acid component and a specific diamine component in combination in a specific molar ratio, and can also improve adhesive strength.
Meanwhile, the present invention includes the polyimide film as described above and can be effectively applied to electronic parts such as flexible metal foil laminates.
以下、本発明による「ポリイミドフィルム」および「ポリイミドフィルムの製造方法」の順に発明の実施形態をより詳細に説明する。
これに先立ち、本明細書および特許請求の範囲に使用された用語や単語は通常または辞書的な意味に限定して解釈されてはならず、発明者は自らの発明を最も最善の方法で説明するために用語の概念を適切に定義できるという原則に則り、本発明の技術的思想に符合する意味と概念で解釈されなければならない。
したがって、本明細書に記載された実施例の構成は本発明の最も好ましい一つの実施例に過ぎず、本発明の技術的思想をすべて代弁するものではないので、本出願時点においてこれらを代替可能な多様な均等物と変形例が存在できることを理解しなければならない。
本明細書において、単数の表現は、文脈上明らかに異なって意味しない限り、複数の表現を含む。本明細書において、「含む」、「備える」または「有する」などの用語は、実施された特徴、数字、段階、構成要素、またはこれらを組み合わせたものが存在することを指定しようとするものであって、1つまたはそれ以上の他の特徴や、数字、段階、構成要素、またはこれらを組み合わせたものの存在または付加の可能性を予め排除しないことが理解されなければならない。
Hereinafter, the embodiments of the present invention will be described in more detail, in the order of "polyimide film" and "method for producing polyimide film" according to the present invention.
Prior to this, the terms and words used in this specification and claims should not be interpreted limited to their ordinary or dictionary meanings, but should be interpreted with a meaning and concept that corresponds to the technical idea of the present invention, in accordance with the principle that an inventor can appropriately define the concept of a term in order to explain his/her invention in the best possible way.
Therefore, it should be understood that the configuration of the embodiment described in this specification is merely one of the most preferred embodiments of the present invention and does not fully represent the technical ideas of the present invention, and that there may be various equivalents and modifications that can replace them at the time of this application.
In this specification, the singular expression includes the plural expression unless the context clearly indicates otherwise. It should be understood that in this specification, the terms "comprise", "comprise", "have" and the like are intended to specify the presence of embodied features, numbers, steps, components, or combinations thereof, and do not preclude the possibility of the presence or addition of one or more other features, numbers, steps, components, or combinations thereof.
本明細書において、量、濃度、または他の値またはパラメータが範囲、好ましい範囲または好ましい上限値および好ましい下限値の列挙として与えられる場合、範囲が別途に開示されるかに関係なく、任意の一対の任意の上方範囲の限界値または好ましい値、および任意の下方範囲の限界値または好ましい値で形成されたすべての範囲を具体的に開示すると理解されなければならない。
数値の範囲が本明細書で言及される場合、他に記述されなければ、その範囲はその終点およびその範囲内のすべての整数と分数を含むことが意図される。本発明の範疇は、範囲を定義する時に言及される特定の値に限定されないことが意図される。
Whenever an amount, concentration, or other value or parameter is given herein as a range, a preferred range or a list of an upper preferred value and a lower preferred value, it should be understood to specifically disclose all ranges formed by any pair of any upper range limit or preferred value, and any lower range limit or preferred value, regardless of whether a range is otherwise disclosed.
Where a range of numerical values is recited herein, unless otherwise stated, the range is intended to include the endpoints thereof, and all integers and fractions within the range. It is not intended that the scope of the invention be limited to the specific values recited when defining the range.
本明細書において、「二無水物酸」は、その前駆体または誘導体を含むことが意図されるが、これらは技術的には二無水物酸でないかも知れないが、それにもかかわらず、ジアミンと反応してポリアミック酸を形成するはずであり、このポリアミック酸は再度ポリイミドに変換される。
本明細書において、「ジアミン」は、その前駆体または誘導体を含むことが意図されるが、これらは技術的にはジアミンでないかも知れないが、それにもかかわらず、ジアンハイドライドと反応してポリアミック酸を形成するはずであり、このポリアミック酸は再度ポリイミドに変換される。
As used herein, "dianhydride acid" is intended to include precursors or derivatives thereof, which may not technically be dianhydrides, but which nevertheless must react with a diamine to form a polyamic acid, which is then converted back to a polyimide.
As used herein, "diamine" is intended to include precursors or derivatives thereof, which may not technically be diamines, but which nevertheless must react with a dianhydride to form a polyamic acid, which is then converted back to a polyimide.
本発明によるポリイミドフィルムは、ビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライド(3,3’,4,4’-Biphenyltetracarboxylic dianhydride、BPDA)、ピロメリティックジアンハイドライド(Pyromellitic dianhydride、PMDA)およびベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンハイドライド(3,3’,4,4’-Benzophenonetetracarboxylic dianhydride、BTDA)を含む二無水物酸成分と、オキシジアニリン(4,4’-Oxydianiline、ODA)、パラフェニレンジアミン(p-Phenylenediamine、PPD)および4,4’-ジアミノベンズアニリド(4,4’-diaminobenzanilide、DABA)を含むジアミン成分と、を含むポリアミック酸溶液をイミド化して製造される。 The polyimide film according to the present invention is made of 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA) and 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride. It is produced by imidizing a polyamic acid solution containing a dianhydride component including 4,4'-oxydianiline (ODA), paraphenylenediamine (PPD), and 4,4'-diaminobenzanilide (DABA).
一実施形態において、前記ジアミン成分の総含有量100モル%を基準として、前記オキシジアニリンの含有量が23モル%以上43モル%以下であり、前記パラフェニレンジアミンの含有量が50モル%以上60モル%以下であり、前記4,4’-ジアミノベンズアニリドの含有量が10モル%以上30モル%以下であってもよい。
前記4,4’-ジアミノベンズアニリドは、アミド基を含んでいて、本願の含有量範囲内で本願のポリイミドフィルムの優れた耐熱性と機械的物性の向上に大きく寄与する。
一実施形態において、前記二無水物酸成分の総含有量100モル%を基準として、前記
ビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライドの含有量が15モル%以上30モル%以下であり、前記ピロメリティックジアンハイドライドの含有量が50モル%以上65モル%以下であり、前記ベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンハイドライドの含有量が10モル%以上35モル%以下であってもよい。
In one embodiment, based on 100 mol% of the total content of the diamine components, the content of the oxydianiline may be 23 mol% or more and 43 mol% or less, the content of the paraphenylenediamine may be 50 mol% or more and 60 mol% or less, and the content of the 4,4'-diaminobenzanilide may be 10 mol% or more and 30 mol% or less.
The 4,4'-diaminobenzanilide contains an amide group and contributes greatly to improving the excellent heat resistance and mechanical properties of the polyimide film of the present invention within the content range of the present invention.
In one embodiment, based on a total content of the dianhydride acid components of 100 mol%, the content of the biphenyltetracarboxylic dianhydride may be 15 mol% or more and 30 mol% or less, the content of the pyromellitic dianhydride may be 50 mol% or more and 65 mol% or less, and the content of the benzophenonetetracarboxylic dianhydride may be 10 mol% or more and 35 mol% or less.
ビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライドに由来するポリイミド鎖は、電荷移動錯体(CTC:Charge transfer complex)と名付けられた構造、すなわち、電子供与体(electron donnor)と電子受容体(electron acceptor)が互いに近接して位置する規則的な直線構造を有し、分子間相互作用(intermolecular interaction)が強化される。
また、カルボニルグループを有しているベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンハイドライドも、ビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライドと同じく、CTCの発現に寄与する。
The polyimide chain derived from biphenyltetracarboxylic dianhydride has a structure called a charge transfer complex (CTC), i.e., a regular linear structure in which an electron donor and an electron acceptor are located close to each other, and thus the intermolecular interaction is strengthened.
In addition, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, which has a carbonyl group, also contributes to the expression of CTC, similar to biphenyl tetracarboxylic dianhydride.
特に、前記二無水物酸成分としてピロメリティックジアンハイドライドを追加的に含むことができる。ピロメリティックジアンハイドライドは、相対的に剛直な構造を有する二無水物酸成分で、ポリイミドフィルムに適切な弾性を付与できるという点で好ましい。
また、ビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライドおよびベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンハイドライドは、芳香族部分に相当するベンゼン環を2個含むのに対し、ピロメリティックジアンハイドライドは、芳香族部分に相当するベンゼン環を1個含む。
二無水物酸成分においてピロメリティックジアンハイドライドの含有量の増加は、同一の分子量を基準とした時、分子内のイミド基が増加すると理解することができ、これは、ポリイミド高分子鎖に、前記ピロメリティックジアンハイドライドに由来するイミド基の比率が、ビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライドおよびベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンハイドライドに由来するイミド基に比べて相対的に増加すると理解することができる。
In particular, the dianhydride component may further include pyromellitic dianhydride, which is a dianhydride component having a relatively rigid structure and is preferred in that it can impart appropriate elasticity to the polyimide film.
In addition, biphenyl tetracarboxylic dianhydride and benzophenone tetracarboxylic dianhydride contain two benzene rings corresponding to the aromatic moiety, whereas pyromelitic dianhydride contains one benzene ring corresponding to the aromatic moiety.
An increase in the content of pyromellitic dianhydride in the dianhydride acid component can be understood as an increase in the imide groups in the molecule when the molecular weight is taken as the same standard, and this can be understood as a relative increase in the ratio of imide groups derived from the pyromellitic dianhydride in the polyimide polymer chain compared to the imide groups derived from biphenyltetracarboxylic dianhydride and benzophenonetetracarboxylic dianhydride.
ピロメリティックジアンハイドライドの含有量比が過度に減少すると、相対的に剛直な構造の成分が減少して、ポリイミドフィルムの機械的特性が所望の水準以下に低下しうる。
この理由により、前記ビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライドおよびベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンハイドライドの含有量が前記範囲を上回る場合、ポリイミドフィルムの機械的物性が低下する。
If the content ratio of the pyromellitic dianhydride is reduced too much, the components having a relatively rigid structure are reduced, and the mechanical properties of the polyimide film may be reduced below a desired level.
For this reason, when the content of the biphenyltetracarboxylic dianhydride and the benzophenonetetracarboxylic dianhydride exceeds the above range, the mechanical properties of the polyimide film are deteriorated.
一実施形態において、前記ポリイミドフィルムは、2以上のブロックからなるブロック共重合体を含むことができる。
前記ブロック共重合体の少なくとも1つのブロックは、ピロメリティックジアンハイドライドと4,4’-ジアミノベンズアニリドとの結合を含むことができる。
このようなブロック共重合体のブロックの調整によりポリイミドフィルムのガラス転移温度を高めて、ポリイミドフィルムの高温安定性を確保することができる。
In one embodiment, the polyimide film may include a block copolymer consisting of two or more blocks.
At least one block of the block copolymer can include a bond between a pyromellitic dianhydride and a 4,4'-diaminobenzanilide.
By adjusting the blocks of the block copolymer in this way, the glass transition temperature of the polyimide film can be increased, thereby ensuring the high temperature stability of the polyimide film.
一実施形態において、前記ポリイミドフィルムの弾性率が5GPa以上であり、強度が340MPa以上であってもよい。
また、前記ポリイミドフィルムのガラス転移温度(Tg)が360℃以上であり、伸度が60%以上であってもよい。
特に、伸度のような物性は、一般的に強度と好ましい水準で両立しにくいことがあるが、本発明のアミド基を含む4,4’-ジアミノベンズアニリドを含む組成および組成比は、好ましい水準の強度を発現させると同時に、伸び率の低下が発現することを抑制するの
に主に作用できる。
In one embodiment, the polyimide film may have an elastic modulus of 5 GPa or more and a strength of 340 MPa or more.
The polyimide film may have a glass transition temperature (Tg) of 360° C. or higher and an elongation of 60% or higher.
In particular, physical properties such as elongation are generally difficult to achieve at a desirable level together with strength, but the composition and composition ratio containing 4,4'-diaminobenzanilide having an amide group of the present invention can exert a desirable level of strength while at the same time acting to suppress the occurrence of a decrease in elongation.
本発明において、ポリアミック酸の製造は、例えば、
(1)ジアミン成分の全量を溶媒中に入れて、その後、二無水物酸成分をジアミン成分と実質的に等モルとなるように添加して重合する方法;
(2)二無水物酸成分の全量を溶媒中に入れて、その後、ジアミン成分を二無水物酸成分と実質的に等モルとなるように添加して重合する方法;
(3)ジアミン成分中の一部の成分を溶媒中に入れた後、反応成分に対して二無水物酸成分中の一部の成分を約95~105モル%の比率で混合した後、残りのジアミン成分を添加し、これに連続して残りの二無水物酸成分を添加して、ジアミン成分および二無水物酸成分が実質的に等モルとなるようにして重合する方法;
(4)二無水物酸成分を溶媒中に入れた後、反応成分に対してジアミン化合物中の一部の成分を95~105モル%の比率で混合した後、他の二無水物酸成分を添加し、続いて残りのジアミン成分を添加して、ジアミン成分および二無水物酸成分が実質的に等モルとなるようにして重合する方法;
(5)溶媒中において一部のジアミン成分と一部の二無水物酸成分とをいずれか1つが過剰となるように反応させて、第1組成物を形成し、他の溶媒中において一部のジアミン成分と一部の二無水物酸成分とをいずれか1つが過剰となるように反応させて、第2組成物を形成した後、第1、第2組成物を混合し、重合を完了する方法であって、この時、第1組成物を形成する時、ジアミン成分が過剰の場合、第2組成物では二無水物酸成分を過剰にし、第1組成物で二無水物酸成分が過剰の場合、第2組成物ではジアミン成分を過剰にして、第1、第2組成物を混合し、これらの反応に使用される全体のジアミン成分と二無水物酸成分とが実質的に等モルとなるようにして重合する方法、などが挙げられる。
ただし、前記重合方法が以上の例のみに限定されるものではなく、ポリアミック酸の製造は公知のいかなる方法も使用できることはもちろんである。
In the present invention, the polyamic acid can be produced, for example, by
(1) A method in which the entire amount of the diamine component is placed in a solvent, and then a dianhydride component is added in an amount substantially equimolar to the diamine component to polymerize the mixture;
(2) A method in which the entire amount of the dianhydride component is placed in a solvent, and then a diamine component is added in an amount substantially equimolar to the dianhydride component to polymerize the mixture;
(3) A method in which a part of the diamine component is placed in a solvent, a part of the dianhydride component is mixed with the reaction components in a ratio of about 95 to 105 mol %, the remaining diamine component is added, and the remaining dianhydride component is added continuously thereto, so that the diamine component and the dianhydride component are polymerized in substantially equimolar amounts;
(4) A method in which a dianhydride component is placed in a solvent, a part of the components in the diamine compound is mixed in a ratio of 95 to 105 mol % relative to the reactive components, and then another dianhydride component is added, followed by the remaining diamine component, so that the diamine component and the dianhydride component are substantially equimolar, thereby polymerizing the mixture;
(5) A method of reacting some diamine components and some dianhydride acid components in a solvent so that one of them is in excess to form a first composition, reacting some diamine components and some dianhydride acid components in another solvent so that one of them is in excess to form a second composition, and then mixing the first and second compositions to complete polymerization, in which if the diamine component is in excess when the first composition is formed, the dianhydride acid component is in excess in the second composition, and if the dianhydride acid component is in excess in the first composition, the diamine component is in excess in the second composition, and the first and second compositions are mixed to polymerize so that the total diamine components and dianhydride acid components used in these reactions are substantially equimolar.
However, the polymerization method is not limited to the above example, and any known method can be used to produce polyamic acid.
一つの具体例において、本発明によるポリイミドフィルムの製造方法は、
(a)ビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライド(BPDA)、ピロメリティックジアンハイドライド(PMDA)およびベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンハイドライド(BTDA)を含む二無水物酸成分と、オキシジアニリン(ODA)、パラフェニレンジアミン(PPD)および4,4’-ジアミノベンズアニリド(DABA)から構成されたジアミン成分と、を有機溶媒中で重合してポリアミック酸を製造するステップと、(b)前記ポリアミック酸をイミド化するステップと、を含むことができる。
一実施形態において、前記ジアミン成分の総含有量100モル%を基準として、前記オキシジアニリンの含有量が23モル%以上43モル%以下であり、前記パラフェニレンジアミンの含有量が50モル%以上60モル%以下であり、前記4,4’-ジアミノベンズアニリドの含有量が10モル%以上30モル%以下であり、前記二無水物酸成分の総含有量100モル%を基準として、前記ビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライドの含有量が15モル%以上30モル%以下であり、前記ピロメリティックジアンハイドライドの含有量が50モル%以上65モル%以下であり、前記ベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンハイドライドの含有量が10モル%以上35モル%以下であってもよい。
In one embodiment, a method for producing a polyimide film according to the present invention includes the steps of:
The method may include the steps of: (a) polymerizing a dianhydride component including biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA), and benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) and a diamine component including oxydianiline (ODA), paraphenylenediamine (PPD), and 4,4′-diaminobenzanilide (DABA) in an organic solvent to produce a polyamic acid; and (b) imidizing the polyamic acid.
In one embodiment, based on 100 mol% of the total content of the diamine components, the content of the oxydianiline may be 23 mol% or more and 43 mol% or less, the content of the paraphenylenediamine may be 50 mol% or more and 60 mol% or less, the content of the 4,4'-diaminobenzanilide may be 10 mol% or more and 30 mol% or less, based on 100 mol% of the total content of the dianhydride acid components, the content of the biphenyltetracarboxylic dianhydride may be 15 mol% or more and 30 mol% or less, the content of the pyromellitic dianhydride may be 50 mol% or more and 65 mol% or less, and the content of the benzophenonetetracarboxylic dianhydride may be 10 mol% or more and 35 mol% or less.
前記ポリイミドフィルムの弾性率が5GPa以上であり、強度が340MPa以上であり、ガラス転移温度(Tg)が360℃以上であり、伸度が60%以上であってもよい。
本発明では、前記のようなポリアミック酸の重合方法をランダム(random)重合方式と定義することができ、前記のような過程で製造された本発明のポリアミック酸から製造されたポリイミドフィルムは、機械的特性および耐熱性を向上させる本発明の効果に好ましく適用可能である。
一方、ポリアミック酸を合成するための溶媒は特に限定されるものではなく、ポリアミ
ック酸を溶解させる溶媒であればいかなる溶媒も使用可能であるが、アミド系溶媒であることが好ましい。
The polyimide film may have an elastic modulus of 5 GPa or more, a strength of 340 MPa or more, a glass transition temperature (Tg) of 360° C. or more, and an elongation of 60% or more.
In the present invention, the polymerization method of the polyamic acid as described above can be defined as a random polymerization method, and a polyimide film prepared from the polyamic acid of the present invention prepared by the above process can be preferably applied to the effects of the present invention, which are to improve mechanical properties and heat resistance.
On the other hand, the solvent for synthesizing the polyamic acid is not particularly limited, and any solvent that dissolves the polyamic acid can be used, but an amide-based solvent is preferable.
具体的には、前記溶媒は、有機極性溶媒であってもよく、詳しくは、非プロトン性極性溶媒(aprotic polar solvent)であってもよいし、例えば、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)、N-メチル-ピロリドン(NMP)、p-クロロフェノール、o-クロロフェノール、N-メチル-ピロリドン(NMP)、ガンマブチロラクトン(GBL)、ジグリム(Diglyme)からなる群より選択された1つ以上であってもよいが、これに限定されるものではなく、必要に応じて、単独でまたは2種以上組み合わせて使用可能である。 Specifically, the solvent may be an organic polar solvent, more specifically, an aprotic polar solvent, or may be, for example, one or more selected from the group consisting of N,N-dimethylformamide (DMF), N,N-dimethylacetamide (DMAc), N-methyl-pyrrolidone (NMP), p-chlorophenol, o-chlorophenol, N-methyl-pyrrolidone (NMP), gamma-butyrolactone (GBL), and diglyme, but is not limited thereto, and may be used alone or in combination of two or more kinds as necessary.
一つの例において、前記溶媒は、N,N-ジメチルホルムアミドおよびN,N-ジメチルアセトアミドが特に好ましく使用できる。
また、ポリアミック酸の製造工程では、摺動性、熱伝導性、コロナ耐性、ループ硬さなどのフィルムの様々な特性を改善する目的で、ナノシリカ以外の充填材を添加することもできる。添加される充填材は特に限定されるものではないが、好ましい例としては、酸化チタン、アルミナ、窒化ケイ素、窒化ホウ素、リン酸水素カルシウム、リン酸カルシウム、雲母などが挙げられる。
充填材の粒径は特に限定されるものではなく、改質すべきフィルム特性と添加する充填材の種類によって決定すれば良い。一般的には、平均粒径が0.05~100μm、好ましくは0.1~75μm、さらに好ましくは0.1~50μm、特に好ましくは0.1~25μmである。
In one example, the solvent is preferably N,N-dimethylformamide or N,N-dimethylacetamide.
In addition, in the manufacturing process of the polyamic acid, fillers other than nanosilica can be added for the purpose of improving various properties of the film such as sliding properties, thermal conductivity, corona resistance, loop hardness, etc. The fillers to be added are not particularly limited, but preferred examples include titanium oxide, alumina, silicon nitride, boron nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, mica, etc.
The particle size of the filler is not particularly limited and may be determined depending on the film properties to be modified and the type of filler to be added. In general, the average particle size is 0.05 to 100 μm, preferably 0.1 to 75 μm, more preferably 0.1 to 50 μm, and particularly preferably 0.1 to 25 μm.
粒径がこの範囲を下回ると、改質効果が現れにくくなり、この範囲を上回ると、表面性を大きく損傷させたり、機械的特性が大きく低下する場合がある。
また、充填材の添加量に対しても特に限定されるものではなく、改質すべきフィルム特性や充填材の粒径などによって決定すれば良い。一般的に、充填材の添加量は、ポリイミド100重量部に対して、0.01~100重量部、好ましくは0.01~90重量部、さらに好ましくは0.02~80重量部である。
充填材の添加量がこの範囲を下回ると、充填材による改質効果が現れにくく、この範囲を上回ると、フィルムの機械的特性が大きく損傷する可能性がある。充填材の添加方法は特に限定されるものではなく、公知のいかなる方法を用いてもよい。
本発明の製造方法において、ポリイミドフィルムは、熱イミド化法および化学的イミド化法により製造される。
If the particle size is below this range, the modifying effect is unlikely to be achieved, whereas if it exceeds this range, the surface properties may be significantly damaged and the mechanical properties may be significantly reduced.
The amount of the filler to be added is not particularly limited, and may be determined depending on the film properties to be modified, the particle size of the filler, etc. In general, the amount of the filler to be added is 0.01 to 100 parts by weight, preferably 0.01 to 90 parts by weight, and more preferably 0.02 to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of polyimide.
If the amount of the filler added is less than this range, the modifying effect of the filler is difficult to manifest, and if the amount exceeds this range, the mechanical properties of the film may be significantly damaged. The method of adding the filler is not particularly limited, and any known method may be used.
In the production method of the present invention, the polyimide film is produced by a thermal imidization method and a chemical imidization method.
また、熱イミド化法および化学的イミド化法が並行される複合イミド化法により製造されてもよい。
前記熱イミド化法とは、化学的触媒を排除し、熱風や赤外線乾燥機などの熱源でイミド化反応を誘導する方法である。
前記熱イミド化法は、前記ゲルフィルムを100~600℃の範囲の可変的な温度で熱処理してゲルフィルムに存在するアミック酸基をイミド化することができ、詳しくは、200~500℃、さらに詳しくは、300~500℃で熱処理してゲルフィルムに存在するアミック酸基をイミド化することができる。
ただし、ゲルフィルムを形成する過程でもアミック酸中の一部(約0.1モル%~10モル%)がイミド化され、このために、50℃~200℃の範囲の可変的な温度でポリアミック酸組成物を乾燥することができ、これも前記熱イミド化法の範疇に含まれる。
Alternatively, the imidization method may be a hybrid imidization method in which a thermal imidization method and a chemical imidization method are performed in parallel.
The thermal imidization method is a method in which a chemical catalyst is excluded and the imidization reaction is induced by a heat source such as hot air or an infrared dryer.
The thermal imidization method may involve heat-treating the gel film at a variable temperature in the range of 100 to 600° C. to imidize the amic acid groups present in the gel film, specifically, at 200 to 500° C., more specifically, at 300 to 500° C. to imidize the amic acid groups present in the gel film.
However, even during the process of forming the gel film, a portion of the amic acid (about 0.1 mol % to 10 mol %) is imidized, and therefore the polyamic acid composition can be dried at a variable temperature in the range of 50° C. to 200° C., which also falls within the category of the thermal imidization method.
化学的イミド化法の場合、当業界における公知の方法により、脱水剤およびイミド化剤を用いて、ポリイミドフィルムを製造することができる。ここで、「脱水剤」とは、ポリアミック酸に対する脱水作用により閉環反応を促進する物質を意味し、これに対する非制
限的な例として、脂肪族のアシッドアンハイドライド、芳香族のアシッドアンハイドライド、N,N’-ジアルキルカルボジイミド、ハロゲン化低級脂肪族、ハロゲン化低級脂肪酸アンハイドライド、アリールホスホニックジハライド、およびチオニルハライドなどが挙げられる。なかでも、入手の容易性および費用の観点から、脂肪族のアシッドアンハイドライドが好ましく、その非制限的な例として、アセティックアンハイドライド(または無水酢酸、AA)、プロピオン酸アンハイドライド、および乳酸アンハイドライドなどが挙げられ、これらを単独でまたは2種以上を混合して使用可能である。
In the case of the chemical imidization method, a polyimide film can be produced using a dehydrating agent and an imidization agent by a method known in the art. Here, the "dehydrating agent" refers to a substance that promotes a ring-closing reaction by dehydrating polyamic acid, and non-limiting examples thereof include aliphatic acid anhydrides, aromatic acid anhydrides, N,N'-dialkylcarbodiimides, halogenated lower aliphatic acids, halogenated lower fatty acid anhydrides, arylphosphonic dihalides, and thionyl halides. Among them, aliphatic acid anhydrides are preferred from the viewpoint of availability and cost, and non-limiting examples thereof include acetic anhydride (or acetic anhydride, AA), propionic anhydride, and lactic anhydride, which can be used alone or in combination of two or more.
また、「イミド化剤」とは、ポリアミック酸に対する閉環反応を促進する効果を有する物質を意味し、例えば、脂肪族3級アミン、芳香族3級アミン、および複素環式3級アミンなどのイミン系成分であってもよい。なかでも、触媒としての反応性の観点から、複素環式3級アミンが好ましい。複素環式3級アミンの非制限的な例として、キノリン、イソキノリン、β-ピコリン(BP)、ピリジンなどが挙げられ、これらを単独でまたは2種以上を混合して使用可能である。 The term "imidizing agent" refers to a substance that has the effect of promoting a ring-closing reaction with polyamic acid, and may be, for example, an imine-based component such as an aliphatic tertiary amine, an aromatic tertiary amine, or a heterocyclic tertiary amine. Among these, heterocyclic tertiary amines are preferred from the viewpoint of reactivity as a catalyst. Non-limiting examples of heterocyclic tertiary amines include quinoline, isoquinoline, β-picoline (BP), pyridine, etc., which can be used alone or in a mixture of two or more kinds.
脱水剤の添加量は、ポリアミック酸中のアミック酸基1モルに対して0.5~5モルの範囲内のものが好ましく、1.0モル~4モルの範囲内のものが特に好ましい。また、イミド化剤の添加量は、ポリアミック酸中のアミック酸基1モルに対して0.05モル~2モルの範囲内のものが好ましく、0.2モル~1モルの範囲内のものが特に好ましい。
前記脱水剤およびイミド化剤が前記範囲を下回ると、化学的イミド化が不十分であり、製造されるポリイミドフィルムにクラックが形成され、フィルムの機械的強度も低下しうる。また、これらの添加量が前記範囲を上回ると、イミド化が過度に速く進み、この場合、フィルム状にキャストしにくかったり、製造されたポリイミドフィルムがブリトル(brittle)な特性を示すことがあるので、好ましくない。
The amount of the dehydrating agent added is preferably within a range of 0.5 to 5 mol, and more preferably within a range of 1.0 to 4 mol, per mol of amic acid groups in the polyamic acid, while the amount of the imidizing agent added is preferably within a range of 0.05 to 2 mol, and more preferably within a range of 0.2 to 1 mol, per mol of amic acid groups in the polyamic acid.
If the amount of the dehydrating agent and the imidizing agent is less than the above range, the chemical imidization is insufficient, cracks are formed in the polyimide film produced, and the mechanical strength of the film may be reduced.If the amount of the dehydrating agent and the imidizing agent is more than the above range, the imidization proceeds too quickly, which makes it difficult to cast the polyimide film into a film or the polyimide film produced may show brittle properties, which is not preferable.
複合イミド化法の一例としては、ポリアミック酸溶液に脱水剤およびイミド化剤を投入した後、80~200℃、好ましくは100~180℃で加熱して、部分的に硬化および乾燥した後に、200~400℃で5~400秒間加熱することにより、ポリイミドフィルムを製造することができる。
本発明は、上述したポリイミドフィルムと、熱可塑性樹脂層とを含む多層フィルム、および上述したポリイミドフィルムと、電気伝導性の金属箔とを含むフレキシブル金属箔積層板を提供する。
As an example of the composite imidization method, a dehydrating agent and an imidization agent are added to a polyamic acid solution, which is then heated at 80 to 200° C., preferably 100 to 180° C. to partially harden and dry the solution, and then heated at 200 to 400° C. for 5 to 400 seconds to produce a polyimide film.
The present invention provides a multilayer film comprising the above-mentioned polyimide film and a thermoplastic resin layer, and a flexible metal foil laminate comprising the above-mentioned polyimide film and an electrically conductive metal foil.
前記熱可塑性樹脂層としては、例えば、熱可塑性ポリイミド樹脂層などが適用可能である。
使用する金属箔としては特に限定されるものではないが、電子機器または電気機器の用途に本発明のフレキシブル金属箔積層板を用いる場合には、例えば、銅または銅合金、ステンレス鋼またはその合金、ニッケルまたはニッケル合金(42合金も含む)、アルミニウムまたはアルミニウム合金を含む金属箔であってもよい。
一般的なフレキシブル金属箔積層板では、圧延銅箔、電解銅箔という銅泊が多く使用され、本発明においても好ましく使用可能である。また、これら金属箔の表面には防錆層、耐熱層または接着層が塗布されていてもよい。
As the thermoplastic resin layer, for example, a thermoplastic polyimide resin layer can be used.
The metal foil to be used is not particularly limited, but when the flexible metal foil laminate of the present invention is used for electronic or electrical equipment applications, the metal foil may be, for example, copper or a copper alloy, stainless steel or an alloy thereof, nickel or a nickel alloy (including alloy 42), or aluminum or an aluminum alloy.
In general flexible metal foil laminates, copper foils such as rolled copper foils and electrolytic copper foils are often used, and can be preferably used in the present invention. The surface of these metal foils may be coated with an anticorrosive layer, a heat-resistant layer, or an adhesive layer.
本発明において、前記金属箔の厚さについては特に限定されるものではなく、その用途によって十分な機能を発揮できる厚さであれば良い。
本発明によるフレキシブル金属箔積層板は、前記ポリイミドフィルムの一面に金属箔がラミネートされているか、前記ポリイミドフィルムの一面に熱可塑性ポリイミドを含む接着層が付加されており、前記金属箔が接着層に付着した状態でラミネートされている構造であってもよい。
本発明はさらに、前記フレキシブル金属箔積層板を電気的信号伝送回路として含む電子
部品を提供する。
In the present invention, the thickness of the metal foil is not particularly limited, and may be any thickness that can exhibit sufficient function depending on the application.
The flexible metal foil laminate according to the present invention may have a structure in which a metal foil is laminated on one side of the polyimide film, or an adhesive layer containing a thermoplastic polyimide is added to one side of the polyimide film, and the metal foil is laminated in a state of being attached to the adhesive layer.
The present invention further provides an electronic device including the flexible metal foil laminate as an electrical signal transmission circuit.
以下、発明の具体的な実施例を通じて、発明の作用および効果をより詳述する。ただし、このような実施例は発明の例として提示されたものに過ぎず、これによって発明の権利範囲が定められるのではない。 Below, the functions and effects of the invention will be described in more detail through specific examples of the invention. However, these examples are presented only as examples of the invention and do not define the scope of the invention's rights.
<製造例>
撹拌機および窒素注入・排出管を備えた500mlの反応器に窒素を注入させながらDMFを投入し、反応器の温度を30℃に設定した後、ジアミン成分としてオキシジアニリン(ODA)、パラフェニレンジアミン(PPD)および4,4’-ジアミノベンズアニリド(DABA)と、二無水物酸成分としてビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライド(BPDA)、ピロメリティックジアンハイドライド(PMDA)およびベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンハイドライド(BTDA)を投入して、完全に溶解したことを確認する。
<Production Example>
DMF was added to a 500 ml reactor equipped with a stirrer and nitrogen inlet/outlet tubes while injecting nitrogen, and the temperature of the reactor was set to 30° C., followed by adding oxydianiline (ODA), paraphenylenediamine (PPD), and 4,4′-diaminobenzanilide (DABA) as diamine components, and biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA), and benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) as dianhydride acid components, and confirming that they were completely dissolved.
以後、窒素雰囲気下、40℃に反応器の温度を上げて加熱しながら120分間撹拌を続けてポリアミック酸を製造した。
このように製造したポリアミック酸に触媒および脱水剤を添加し、1,500rpmの高速回転により気泡を除去した後、スピンコーターを用いてガラス基板に塗布した。
以後、窒素雰囲気下、120℃の温度で30分間乾燥してゲルフィルムを製造し、これを450℃まで2℃/minの速度で昇温し、450℃で60分間熱処理した後、30℃まで2℃/minの速度で再度冷却することにより、最終的なポリイミドフィルムを得ており、蒸留水に浸漬(dipping)してガラス基板から剥離させた。
製造されたポリイミドフィルムの厚さは15μmであった。製造されたポリイミドフィルムの厚さはAnritsu社の膜厚測定器(Electric Film thickness tester)を用いて測定した。
Thereafter, the temperature of the reactor was raised to 40° C. under a nitrogen atmosphere, and stirring was continued for 120 minutes to produce polyamic acid.
A catalyst and a dehydrating agent were added to the polyamic acid thus produced, and the mixture was rotated at a high speed of 1,500 rpm to remove air bubbles, and then coated on a glass substrate using a spin coater.
Thereafter, the resultant was dried at 120° C. for 30 minutes under a nitrogen atmosphere to prepare a gel film, which was then heated to 450° C. at a rate of 2° C./min, heat-treated at 450° C. for 60 minutes, and then cooled again to 30° C. at a rate of 2° C./min to obtain a final polyimide film, which was then peeled off from the glass substrate by dipping in distilled water.
The thickness of the polyimide film was 15 μm, which was measured using an Anritsu Electric Film Thickness Tester.
<実施例1~4および比較例1~3>
先に説明した製造例により製造し、ジアミン単量体および二無水物酸単量体の含有量を表1に示しているように調節した。
The above-described preparation example was used to prepare the resin, and the contents of the diamine monomer and the dianhydride monomer were adjusted as shown in Table 1.
<実験例>弾性率、強度、伸度およびガラス転移温度評価
前記表1に示しているように、実施例1~実施例4および比較例1~3でそれぞれ製造したポリイミドフィルムに対して、弾性率、強度、伸度およびガラス転移温度を測定して表2に示した。
(1)弾性率、強度および伸度
ASTM D882測定方法により、インストロン(Instron 3365SER)装置を用いて弾性率、強度および伸度を測定した。
(2)ガラス転移温度の測定
ガラス転移温度(Tg)は、DMAを用いて各フィルムの損失弾性率と貯蔵弾性率を求め、これらのタンジェントグラフで変曲点をガラス転移温度として測定した。
(1) Elastic modulus, strength and elongation
Modulus, strength and elongation were measured using an Instron 3365SER instrument according to ASTM D882 measurement method.
(2) Measurement of glass transition temperature
The glass transition temperature (T g ) was measured by determining the loss modulus and storage modulus of each film using DMA, and taking the inflection point in the tangent graph of these as the glass transition temperature.
表2から確認されるように、本発明の実施例により製造されたポリイミドフィルムは、弾性率が5GPa以上であり、強度が340MPa以上で機械的強度に優れているだけでなく、ガラス転移温度(Tg)が360℃以上に相当して、熱的安定性に優れていた。
また、伸度が60%以上に相当して、優れた機械的強度と優れた伸度をともに達成することができた。
As can be seen from Table 2, the polyimide films prepared according to the examples of the present invention not only had excellent mechanical strength with an elastic modulus of 5 GPa or more and a strength of 340 MPa or more, but also had excellent thermal stability with a glass transition temperature (Tg) of 360° C. or more.
Moreover, the elongation corresponds to 60% or more, and both excellent mechanical strength and excellent elongation could be achieved.
このような結果は、本願において特定された成分および組成比によって達成されるものであり、各成分の含有量が決定的な役割を果たすことが分かる。
これに対し、比較例1~3のポリイミドフィルムは、実施例1~4のポリイミドフィルムに比べて弾性率は高く測定された。
しかし、比較例1~3のポリイミドフィルムの強度、伸度が実施例1~4のポリイミドフィルムに比べて低く、特に、比較例2および3のポリイミドフィルムは、実施例1~4のポリイミドフィルムに比べてガラス転移温度も低いことが確認された。
これから、比較例のポリイミドフィルムは、電子部品への実際の適用には困難が予想できた。
Such results are achieved by the components and composition ratios specified in this application, and it is understood that the content of each component plays a decisive role.
In contrast, the polyimide films of Comparative Examples 1-3 were measured to have a higher elastic modulus than the polyimide films of Examples 1-4.
However, it was confirmed that the strength and elongation of the polyimide films of Comparative Examples 1 to 3 were lower than those of the polyimide films of Examples 1 to 4, and in particular, the polyimide films of Comparative Examples 2 and 3 also had lower glass transition temperatures than the polyimide films of Examples 1 to 4.
From this, it was predicted that the polyimide films of the comparative examples would be difficult to actually apply to electronic parts.
以上、本発明の実施例を参照して説明したが、本発明の属する分野における通常の知識を有する者であれば、上記の内容に基づいて本発明の範疇内で多様な応用および変形を行うことが可能であろう。 The present invention has been described above with reference to examples, but anyone with ordinary knowledge in the field to which the present invention pertains would be able to make various applications and modifications within the scope of the present invention based on the above content.
本発明の実施形態によるポリイミドフィルムは、特定の二無水物酸成分と特定のジアミン成分とを特定のモル比で組み合わせて使用することにより、優れた高耐熱特性と機械的特性を同時に有することができる。また、接着力を向上させることができる。
一方、本発明は、前記のようなポリイミドフィルムを含み、フレキシブル金属箔積層板などの電子部品などに有用に適用可能である。
The polyimide film according to the embodiment of the present invention can have excellent heat resistance and mechanical properties at the same time by using a specific dianhydride acid component and a specific diamine component in combination in a specific molar ratio, and can also improve adhesive strength.
Meanwhile, the present invention includes the polyimide film as described above and can be effectively applied to electronic parts such as flexible metal foil laminates.
Claims (13)
オキシジアニリン(ODA)、パラフェニレンジアミン(PPD)および4,4’-ジアミノベンズアニリド(DABA)を含むジアミン成分と、を含むポリアミック酸溶液をイミド化された、
ポリイミドフィルム。 dianhydride acid components including biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA) and benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA);
A polyamic acid solution containing a diamine component including oxydianiline (ODA), paraphenylenediamine (PPD) and 4,4'-diaminobenzanilide (DABA) was imidized.
Polyimide film.
請求項1に記載のポリイミドフィルム。 the content of the oxydianiline is from 23 mol % to 43 mol %, the content of the paraphenylenediamine is from 50 mol % to 60 mol %, and the content of the 4,4'-diaminobenzanilide is from 10 mol % to 30 mol %, based on 100 mol % of the total content of the diamine components;
The polyimide film according to claim 1 .
請求項1に記載のポリイミドフィルム。 With respect to 100 mol% of the total content of the dianhydride acid components, the content of the biphenyl tetracarboxylic dianhydride is 15 mol% or more and 30 mol% or less, the content of the pyromellitic dianhydride is 50 mol% or more and 65 mol% or less, and the content of the benzophenone tetracarboxylic dianhydride is 10 mol% or more and 35 mol% or less.
The polyimide film according to claim 1 .
請求項1に記載のポリイミドフィルム。 Including block copolymers consisting of two or more blocks,
The polyimide film according to claim 1 .
請求項1に記載のポリイミドフィルム。 The elastic modulus is 5 GPa or more and the strength is 340 MPa or more.
The polyimide film according to claim 1 .
請求項1に記載のポリイミドフィルム。 The glass transition temperature (Tg) is 360° C. or higher and the elongation is 60% or higher.
The polyimide film according to claim 1 .
(b)前記ポリアミック酸をイミド化するステップと、を含む、
ポリイミドフィルムの製造方法。 (a) preparing a polyamic acid by polymerizing a dianhydride component including biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), pyromellitic dianhydride (PMDA) and benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) and a diamine component including oxydianiline (ODA), paraphenylenediamine (PPD) and 4,4′-diaminobenzanilide (DABA) in an organic solvent;
(b) imidizing the polyamic acid.
A method for producing a polyimide film.
前記二無水物酸成分の総含有量100モル%を基準として、前記ビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライドの含有量が15モル%以上30モル%以下であり、前記ピロメリティックジアンハイドライドの含有量が50モル%以上65モル%以下であり、前記ベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンハイドライドの含有量が10モル%以上35モル%以下である、
請求項7に記載のポリイミドフィルムの製造方法。 the content of the oxydianiline is from 23 mol % to 43 mol %, the content of the paraphenylenediamine is from 50 mol % to 60 mol %, and the content of the 4,4'-diaminobenzanilide is from 10 mol % to 30 mol %, based on 100 mol % of the total content of the diamine components;
With respect to 100 mol% of the total content of the dianhydride acid components, the content of the biphenyl tetracarboxylic dianhydride is 15 mol% or more and 30 mol% or less, the content of the pyromellitic dianhydride is 50 mol% or more and 65 mol% or less, and the content of the benzophenone tetracarboxylic dianhydride is 10 mol% or more and 35 mol% or less.
The method for producing a polyimide film according to claim 7 .
強度が340MPa以上であり、
ガラス転移温度(Tg)が360℃以上であり、
伸度が60%以上である、
請求項7に記載のポリイミドフィルムの製造方法。 The elastic modulus of the polyimide film is 5 GPa or more,
The strength is 340 MPa or more,
The glass transition temperature (Tg) is 360° C. or higher,
The elongation is 60% or more.
The method for producing a polyimide film according to claim 7 .
多層フィルム。 The polyimide film according to any one of claims 1 to 6,
Multilayer film.
熱可塑性樹脂層と、を含む、
多層フィルム。 The polyimide film according to any one of claims 1 to 6,
A thermoplastic resin layer,
Multilayer film.
電気伝導性の金属箔と、を含む、
フレキシブル金属箔積層板。 The polyimide film according to any one of claims 1 to 6,
an electrically conductive metal foil;
Flexible metal foil laminate.
電子部品。 Comprising the flexible metal foil laminate of claim 12.
Electronic components.
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