JP2024146803A - Method for producing pressure-sensitive adhesive sheet, method for producing optical film with pressure-sensitive adhesive sheet, and method for producing image display device - Google Patents
Method for producing pressure-sensitive adhesive sheet, method for producing optical film with pressure-sensitive adhesive sheet, and method for producing image display device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2024146803A JP2024146803A JP2024039508A JP2024039508A JP2024146803A JP 2024146803 A JP2024146803 A JP 2024146803A JP 2024039508 A JP2024039508 A JP 2024039508A JP 2024039508 A JP2024039508 A JP 2024039508A JP 2024146803 A JP2024146803 A JP 2024146803A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive sheet
- light
- meth
- less
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J11/00—Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
- C09J11/02—Non-macromolecular additives
- C09J11/06—Non-macromolecular additives organic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J4/00—Adhesives based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; adhesives, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09J183/00 - C09J183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J5/00—Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
- C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
- G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
Abstract
Description
本発明は、粘着シートの製造方法、粘着シート付き光学フィルムの製造方法及び画像表示装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an adhesive sheet, a method for manufacturing an optical film with an adhesive sheet, and a method for manufacturing an image display device.
液晶表示装置及びエレクトロルミネセンス(EL)表示装置に代表される各種の画像表示装置は、一般に、偏光フィルム等の光学フィルムと粘着シートとを含む光学積層体を備えている。光学積層体に含まれる光学フィルム間の接合や、光学積層体と画像表示パネルとの接合には、通常、粘着シートが使用される。粘着シートとしては、アクリル単量体やシリコーン単量体等を含む単量体群を重合及び架橋により硬化させたシートが典型的である。 Various image display devices, such as liquid crystal display devices and electroluminescence (EL) display devices, generally include an optical laminate that includes an optical film, such as a polarizing film, and an adhesive sheet. Adhesive sheets are usually used to bond the optical films included in the optical laminate, and to bond the optical laminate to an image display panel. A typical adhesive sheet is a sheet made by polymerizing and crosslinking monomer groups, including acrylic monomers and silicone monomers.
特許文献1は、粘着シートの一例を開示している。特許文献1において、粘着シートは、2つのはく離ライナーの間に配置された粘着剤組成物の塗布層に光を照射することによって作製されている。
一般的な粘着シートは、例えば、次の熱硬化法によって製造される。まず、重合性単量体を有機溶剤中で重合して製造したポリマーに、架橋剤等を配合して粘着剤組成物を調製する。この粘着剤組成物をはく離ライナー等の基材に塗工し、有機溶剤を加熱除去してシート化する。必要に応じて加熱エージングを施し、架橋を完了させることで、粘着シートを製造できる。この製造プロセスでは、溶剤の加熱除去や加熱エージングに必要な熱エネルギーを生み出すために、LNG等の燃料を多量に燃焼させる必要がある。また、加熱除去した有機溶剤をそのまま大気放出すると、周辺環境に著しい悪影響を及ぼす恐れがある。そのため、有機溶剤については、脱臭炉等で燃焼させてから放出することが多い。この場合、脱臭炉での燃焼のための燃料がさらに必要になるだけでなく、有機溶剤自体も燃焼によりCO2に変換されて大気放出されることとなり、CO2排出量が極めて大きい製造プロセスである。 A typical adhesive sheet is manufactured, for example, by the following thermosetting method. First, a crosslinking agent or the like is added to a polymer produced by polymerizing a polymerizable monomer in an organic solvent to prepare an adhesive composition. This adhesive composition is applied to a substrate such as a release liner, and the organic solvent is removed by heating to form a sheet. If necessary, heat aging is performed to complete crosslinking, thereby manufacturing an adhesive sheet. In this manufacturing process, a large amount of fuel such as LNG needs to be burned in order to generate the thermal energy required for the thermal removal of the solvent and the thermal aging. In addition, if the organic solvent removed by heating is directly released into the atmosphere, it may have a significant adverse effect on the surrounding environment. Therefore, the organic solvent is often burned in a deodorizing furnace or the like before being released. In this case, not only is additional fuel required for combustion in the deodorizing furnace, but the organic solvent itself is also converted into CO 2 by combustion and released into the atmosphere, resulting in a manufacturing process with extremely large CO 2 emissions.
近年、温室効果ガスによる気候変動が喫緊の課題であり、各国政府が数値目標を掲げてCO2削減に取り組んでいる。粘着シートの製造においても、有機溶剤を用いることなく、CO2排出量の少ない製造プロセスを選択することが求められている。 In recent years, climate change caused by greenhouse gases has become an urgent issue, and governments around the world have set numerical targets to reduce CO2 emissions. In the manufacture of pressure sensitive adhesive sheets, too, there is a demand to select manufacturing processes that do not use organic solvents and that emit less CO2 .
光を利用して粘着シートを作製する方法(光硬化法)によれば、上記の熱硬化法に比べて、粘着シートの形成に必要なエネルギーの量やCO2排出量を削減できる。光硬化法では、例えば、ブラックライト光源が利用される(特許文献1)。しかし、本発明者らの検討によると、ブラックライト光源を用いた光硬化法では、作製された粘着シートにおける光重合開始剤の残存量が多い傾向があり、効率的に粘着シートを作製する観点から改善の余地がある。 According to a method for producing an adhesive sheet using light (photocuring method), the amount of energy required for forming the adhesive sheet and the amount of CO2 emissions can be reduced compared to the above-mentioned heat curing method. In the photocuring method, for example, a black light source is used (Patent Document 1). However, according to the study by the present inventors, in the photocuring method using a black light source, the amount of photopolymerization initiator remaining in the produced adhesive sheet tends to be large, and there is room for improvement from the viewpoint of efficiently producing an adhesive sheet.
そこで本発明は、粘着シートを効率的に作製することに適した新たな製造方法の提供を目的とする。 Therefore, the present invention aims to provide a new manufacturing method suitable for efficiently producing adhesive sheets.
本発明は、
光硬化性組成物を含む塗布層に対して、発光ダイオードからの光を照射して、粘着シートを形成する工程を含み、
前記塗布層に照射される前記光のピーク波長が325nm~350nmである、粘着シートの製造方法を提供する。
The present invention relates to
The method includes a step of irradiating a coating layer containing a photocurable composition with light from a light emitting diode to form a pressure sensitive adhesive sheet,
The light irradiated to the coating layer has a peak wavelength of 325 nm to 350 nm.
さらに本発明は、
上記の製造方法によって形成された粘着シートの露出面に光学フィルムを配置して粘着シート付き光学フィルムを形成することを含む、粘着シート付き光学フィルムの製造方法を提供する。
Further, the present invention relates to
The present invention provides a method for producing an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet, the method comprising: forming an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet by disposing an optical film on an exposed surface of the pressure-sensitive adhesive sheet formed by the above-described production method.
さらに本発明は、
上記の製造方法によって形成された粘着シート付き光学フィルムと画像表示パネルとを接合して画像表示装置を形成することを含む、画像表示装置の製造方法を提供する。
Further, the present invention relates to
The present invention also provides a method for producing an image display device, which comprises bonding an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet formed by the above-mentioned production method to an image display panel to form an image display device.
本発明によれば、粘着シートを効率的に作製することに適した新たな製造方法を提供できる。 The present invention provides a new manufacturing method suitable for efficiently producing adhesive sheets.
本発明の第1態様にかかる粘着シートの製造方法は、
光硬化性組成物を含む塗布層に対して、発光ダイオードからの光を照射して、粘着シートを形成する工程を含み、
前記塗布層に照射される前記光のピーク波長が325nm~350nmである。
A method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet according to a first aspect of the present invention includes the steps of:
The method includes a step of irradiating a coating layer containing a photocurable composition with light from a light emitting diode to form a pressure sensitive adhesive sheet,
The light irradiated onto the coating layer has a peak wavelength of 325 nm to 350 nm.
本発明の第2態様において、例えば、第1態様にかかる製造方法では、前記ピーク波長が340±10nmである。 In the second aspect of the present invention, for example, in the manufacturing method according to the first aspect, the peak wavelength is 340±10 nm.
本発明の第3態様において、例えば、第1又は第2態様にかかる製造方法では、前記塗布層に照射される前記光の照度が2.0~30mW/cm2である。 In a third aspect of the present invention, for example, in the production method according to the first or second aspect, the illuminance of the light irradiated onto the coating layer is 2.0 to 30 mW/cm 2 .
本発明の第4態様において、例えば、第1~第3態様のいずれか1つにかかる製造方法では、基材シート、前記塗布層、及びはく離ライナーをこの順に含む積層体に前記光を照射する。 In the fourth aspect of the present invention, for example, in the manufacturing method according to any one of the first to third aspects, the light is irradiated onto a laminate including a base sheet, the coating layer, and a release liner in this order.
本発明の第5態様において、例えば、第1~第4態様のいずれか1つにかかる製造方法では、前記塗布層に前記光を照射する時間が10秒~1000秒である。 In a fifth aspect of the present invention, for example, in the manufacturing method according to any one of the first to fourth aspects, the time for irradiating the coating layer with the light is 10 seconds to 1000 seconds.
本発明の第6態様において、例えば、第1~第5態様のいずれか1つにかかる製造方法では、前記塗布層に前記光が照射されている間、前記塗布層の温度が10℃~30℃に維持される。 In a sixth aspect of the present invention, for example, in the manufacturing method according to any one of the first to fifth aspects, the temperature of the coating layer is maintained at 10°C to 30°C while the coating layer is irradiated with the light.
本発明の第7態様において、例えば、第1~第6態様のいずれか1つにかかる製造方法では、酸素濃度が500volppm以下の雰囲気で、前記塗布層に前記光が照射される。 In the seventh aspect of the present invention, for example, in the manufacturing method according to any one of the first to sixth aspects, the coating layer is irradiated with the light in an atmosphere having an oxygen concentration of 500 vol ppm or less.
本発明の第8態様において、例えば、第1~第7態様のいずれか1つにかかる製造方法では、前記光硬化性組成物は、(メタ)アクリル系単量体を含む単量体群及び/又は前記単量体群の部分重合物を含む。 In an eighth aspect of the present invention, for example, in the manufacturing method according to any one of the first to seventh aspects, the photocurable composition contains a monomer group including a (meth)acrylic monomer and/or a partial polymer of the monomer group.
本発明の第9態様において、例えば、第8態様にかかる製造方法では、前記粘着シートにおいて、前記単量体群の重合率が80%以上である。 In the ninth aspect of the present invention, for example, in the manufacturing method according to the eighth aspect, the polymerization rate of the monomer group in the pressure-sensitive adhesive sheet is 80% or more.
本発明の第10態様において、例えば、第8又は第9態様にかかる製造方法では、前記光硬化性組成物は、光重合開始剤を含み、前記光重合開始剤の配合量が、前記単量体群及び前記部分重合物の合計100重量部に対して1.0重量部以下である。 In a tenth aspect of the present invention, for example, in the manufacturing method according to the eighth or ninth aspect, the photocurable composition contains a photopolymerization initiator, and the amount of the photopolymerization initiator is 1.0 part by weight or less per 100 parts by weight of the total of the monomer group and the partially polymerized product.
本発明の第11態様において、例えば、第10態様にかかる製造方法では、前記粘着シートにおける前記光重合開始剤の含有率が500wtppm以下である。 In the eleventh aspect of the present invention, for example, in the manufacturing method according to the tenth aspect, the content of the photopolymerization initiator in the pressure-sensitive adhesive sheet is 500 wtppm or less.
本発明の第12態様において、例えば、第1~第11態様のいずれか1つにかかる製造方法では、前記光硬化性組成物における溶剤の含有率が5重量%以下である。 In the twelfth aspect of the present invention, for example, in the manufacturing method according to any one of the first to eleventh aspects, the content of the solvent in the photocurable composition is 5% by weight or less.
本発明の第13態様にかかる粘着シート付き光学フィルムの製造方法は、
第1~第12態様のいずれか1つにかかる製造方法によって形成された粘着シートの露出面に光学フィルムを配置して粘着シート付き光学フィルムを形成することを含む。
A method for producing an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet according to a thirteenth aspect of the present invention comprises the steps of:
The method includes forming an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet by disposing an optical film on an exposed surface of the pressure-sensitive adhesive sheet formed by the manufacturing method according to any one of the first to twelfth aspects.
本発明の第14態様において、例えば、第13態様にかかる製造方法では、前記光学フィルムが、偏光フィルム及び位相差フィルムからなる群より選ばれる少なくとも1つのフィルムを含む。 In a fourteenth aspect of the present invention, for example, in the manufacturing method according to the thirteenth aspect, the optical film includes at least one film selected from the group consisting of a polarizing film and a retardation film.
本発明の第15態様にかかる画像表示装置の製造方法は、
第13又は第14態様にかかる製造方法によって形成された粘着シート付き光学フィルムと画像表示パネルとを接合して画像表示装置を形成することを含む。
A method for producing an image display device according to a fifteenth aspect of the present invention includes the steps of:
The method includes bonding an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet formed by the manufacturing method according to the thirteenth or fourteenth aspect to an image display panel to form an image display device.
以下に本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、任意に変形して実施することができる。 The present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited to the following embodiments, and can be modified as desired without departing from the spirit of the present invention.
[粘着シートの製造方法の実施形態]
図1に示すように、本実施形態の粘着シート1の製造方法は、光硬化性組成物を含む塗布層12に対して、発光ダイオード(LED:light-emitting diode)34からの光14を照射して、粘着シート1を形成する工程を含む。この工程において、塗布層12に照射される光14のピーク波長が325nm~350nmである。この光14の照度は、好ましくは2.0~30mW/cm2である。
[Embodiment of the method for producing the pressure-sensitive adhesive sheet]
1, the method for producing a pressure-sensitive
本実施形態の製造方法では、上記の光14を利用することによって、ブラックライト光源を利用する場合と比べて、形成された粘着シート1における光重合開始剤の残存量が減少する傾向がある。さらに、本発明者らの検討によると、上記の光14を利用した場合、例えばピーク波長が365nm程度の光を放射するLEDを利用する場合と比べて、粘着シート1における単量体群の重合率が高い傾向がある。このように、本実施形態の製造方法は、粘着シート1を効率的に作製することに適している。
In the manufacturing method of this embodiment, by using the
上述のとおり、本実施形態の製造方法では、LEDからの光14を利用している。LEDは、ブラックライト光源と比べて、照度を容易に調整できるだけでなく、光源寿命が長い傾向がある。水銀を利用しているブラックライト光源と比べて、LEDは、環境負荷を低減する観点からも優れていると言える。さらに、本発明者らの検討によると、ピーク波長が325nm~350nmの光14を放射するLEDは、ピーク波長が365nm程度の光を放射するLEDと比べて、発熱しにくく、塗布層12の温度を制御しやすい傾向がある。ピーク波長が325nm~350nmの光14は、ピーク波長が365nm程度の光と比べて、光重合開始剤の吸収波長との適合性が高い傾向もある。なお、本発明者らの知る限り、ピーク波長が325nm~350nmである光を放出するLEDを用いて、粘着シートを作製した例はこれまで報告されていない。
As described above, the manufacturing method of this embodiment uses
本実施形態の製造方法は、詳細には、次の方法によって行うことができる。まず、基材シート11、光硬化性組成物を含む塗布層12、及びはく離ライナー13をこの順に含む積層体(第1の積層体)10を作製する。第1の積層体10に対して光14を照射する。光14の照射は、典型的には、基材シート11の側から実施する。このとき、光14は、基材シート11を透過して塗布層12に到達し、塗布層12を硬化させる。ただし、光14の照射は、はく離ライナー13の側から実施してもよいし、はく離ライナー13及び基材シート11の双方の側から実施してもよい。
In detail, the manufacturing method of this embodiment can be carried out by the following method. First, a laminate (first laminate) 10 is prepared, which includes a
形成された粘着シート1は、はく離ライナー13が剥離されるまでは、基材シート11及びはく離ライナー13によって挟持されて、第2の積層体17の一部を構成している。第2の積層体17からはく離ライナー13を剥離することによって、基材シート11及び粘着シート1を含む第3の積層体15が得られる。第3の積層体15では、粘着シート1の表面が外部に露出している。
The formed
上述のとおり、第1の積層体10(詳細には塗布層12)に照射される光14のピーク波長は、325nm~350nmである。光14のピーク波長は、好ましくは340±10nm(330nm~350nm)であり、340±5nm(335nm~345nm)であってもよく、340±2nm(338nm~342nm)であってもよく、340nmであってもよい。ピーク波長とは、光14の波長と強度の関係を示すスペクトルにおいて、強度が極大値となる波長を意味する。光14は、325nm~350nm以外の他の波長域において、ピーク波長をさらに有していてもよいが、有さないことが好ましい。 As described above, the peak wavelength of the light 14 irradiated to the first laminate 10 (specifically, the coating layer 12) is 325 nm to 350 nm. The peak wavelength of the light 14 is preferably 340±10 nm (330 nm to 350 nm), may be 340±5 nm (335 nm to 345 nm), may be 340±2 nm (338 nm to 342 nm), or may be 340 nm. The peak wavelength means the wavelength at which the intensity is at a maximum value in the spectrum showing the relationship between the wavelength and intensity of the light 14. The light 14 may further have a peak wavelength in a wavelength range other than 325 nm to 350 nm, but preferably does not have one.
上述のとおり、第1の積層体10(詳細には塗布層12)に照射される光14の照度は、好ましくは2.0~30mW/cm2である。光14の照度が2.0mW/cm2以上であることによって、塗布層12を均一に硬化できる傾向がある。さらに、光14の照度が30mW/cm2以下であることによって、光硬化性組成物に含まれる光重合開始剤の開裂速度を適切に調整することができ、単量体群の重合率が上昇しやすい傾向がある。光14の照度が30mW/cm2以下である場合、塗布層12の急激な発熱が抑制され、粘着シート1の外観不良が生じにくい傾向もある。なお、はく離ライナー13及び基材シート11の双方の側から光14を照射する場合、はく離ライナー13側からの光14の照度と、基材シート11側からの光14の照度との合計値が2.0~30mW/cm2に調整されることが好ましい。
As described above, the illuminance of the light 14 irradiated to the first laminate 10 (specifically, the coating layer 12) is preferably 2.0 to 30 mW/cm 2. When the illuminance of the light 14 is 2.0 mW/cm 2 or more, the
光14の照度は、好ましくは2.5mW/cm2以上であり、3.0mW/cm2以上、3.5mW/cm2以上、4.0mW/cm2以上、5.0mW/cm2以上、6.0mW/cm2以上、7.0mW/cm2以上、8.0mW/cm2以上、9.0mW/cm2以上、さらには10mW/cm2以上であってもよい。光14の照度の上限は、例えば25mW/cm2以下であり、20mW/cm2以下、さらには15mW/cm2以下であってもよい。なお、光14の照度は、LED34自体の制御だけではなく、LED34と第1の積層体10との距離を変化させることによっても調整することができる。
The illuminance of the light 14 is preferably 2.5 mW/cm 2 or more, 3.0 mW/cm 2 or more, 3.5 mW/cm 2 or more, 4.0 mW/cm 2 or more, 5.0 mW/cm 2 or more, 6.0 mW/cm 2 or more, 7.0 mW/cm 2 or more, 8.0 mW/cm 2 or more, 9.0 mW/cm 2 or more, or even 10 mW/cm 2 or more. The upper limit of the illuminance of the light 14 is, for example, 25 mW/cm 2 or less, 20 mW/cm 2 or less, or even 15 mW/cm 2 or less. The illuminance of the light 14 can be adjusted not only by controlling the
第1の積層体10(詳細には塗布層12)に光14を照射する時間は、特に限定されず、例えば10秒~1000秒であり、60秒以上、100秒以上、150秒以上、200秒以上、さらには250秒以上であってもよい。光14を照射する時間の上限は、例えば800秒以下であり、場合によっては600秒以下であってもよい。光14の照射は、連続的であっても断続的であってもよい。
The time for which the first laminate 10 (specifically the coating layer 12) is irradiated with
第1の積層体10(詳細には塗布層12)に対する光14の積算光量は、例えば25mJ/cm2以上であり、100mJ/cm2以上、500mJ/cm2以上、1000mJ/cm2以上、2000mJ/cm2以上、さらには3000mJ/cm2以上であってもよい。光14の積算光量の上限は、特に限定されず、例えば30000mJ/cm2以下であり、10000mJ/cm2以下、さらには5000mJ/cm2以下であってもよい。 The integrated light amount of the light 14 on the first laminate 10 (specifically, the coating layer 12) is, for example, 25 mJ/cm 2 or more, and may be 100 mJ/cm 2 or more, 500 mJ/cm 2 or more, 1000 mJ/cm 2 or more, 2000 mJ/cm 2 or more, or even 3000 mJ/cm 2 or more. The upper limit of the integrated light amount of the light 14 is not particularly limited, and may be, for example, 30000 mJ/cm 2 or less, 10000 mJ/cm 2 or less, or even 5000 mJ/cm 2 or less.
第1の積層体10(詳細には塗布層12)に光14が照射されている間、塗布層12の温度は、例えば50℃以下、好ましくは10℃~30℃に維持される。この場合、塗布層12の硬化速度が適切に調整され、粘着シート1に含まれるポリマーの数平均分子量及び重量平均分子量が増加する傾向がある。
While the first laminate 10 (specifically the coating layer 12) is irradiated with
本実施形態の製造方法では、大気(酸素濃度20.9vol%)に比べて酸素濃度が低減された雰囲気で、第1の積層体10(詳細には塗布層12)に光14が照射されてもよい。この場合、塗布層12の硬化が酸素によって阻害されにくく、粘着シート1に含まれるポリマーの数平均分子量及び重量平均分子量が増加する傾向がある。光14の照射は、酸素濃度が20vol%以下、10vol%以下、1vol%以下、1000volppm以下、さらには500volppm以下の雰囲気で行ってもよい。光14の照射は、酸素を実質的に含まない雰囲気で行ってもよい。酸素濃度が低減された雰囲気は、例えば、アルゴンや窒素などの不活性ガスを含み、典型的には不活性ガス雰囲気である。
In the manufacturing method of this embodiment, the first laminate 10 (specifically, the coating layer 12) may be irradiated with light 14 in an atmosphere with a reduced oxygen concentration compared to the air (oxygen concentration 20.9 vol%). In this case, the curing of the
本実施形態の製造方法は、光14を照射した後に、粘着シート1を加熱する加熱工程をさらに含んでいてもよい。一例として、加熱工程は、基材シート11及び粘着シート1を含む第3の積層体15に対して行われる。加熱工程によって、粘着シート1の乾燥及び硬化が促進され、粘着シート1に含まれる残存モノマーがより低減する傾向がある。
The manufacturing method of this embodiment may further include a heating step of heating the
加熱工程の条件は、特に限定されず、適宜調整することができる。一例として、加熱工程の温度は、40~200℃が好ましく、より好ましくは50~180℃であり、さらに好ましくは70~170℃である。加熱工程の時間は、例えば5秒~20分であり、好ましくは5秒~10分であり、より好ましくは10秒~5分である。 The conditions for the heating step are not particularly limited and can be adjusted as appropriate. As an example, the temperature for the heating step is preferably 40 to 200°C, more preferably 50 to 180°C, and even more preferably 70 to 170°C. The time for the heating step is, for example, 5 seconds to 20 minutes, preferably 5 seconds to 10 minutes, and more preferably 10 seconds to 5 minutes.
(光硬化性組成物)
本実施形態において、光硬化性組成物は、光14の照射によって塗布層12から粘着シート1を形成する粘着剤組成物である。光硬化性組成物は、例えば、(メタ)アクリル系単量体を含む単量体群及び/又は当該単量体群の部分重合物を含む。光硬化性組成物における(メタ)アクリル系成分、すなわち(メタ)アクリル系単量体及びその部分重合物、の含有率は、50重量%以上、60重量%以上、70重量%以上、さらには80重量%以上であってもよく、この場合、(メタ)アクリル重合体及びその架橋物を主成分とするアクリル系の粘着シート1を形成できる。ただし、光硬化性組成物は上記例に限定されない。本明細書において(メタ)アクリルとは、アクリル及びメタクリルを意味する。(メタ)アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートを意味する。
(Photocurable composition)
In this embodiment, the photocurable composition is a pressure-sensitive adhesive composition that forms the pressure-
(メタ)アクリル系単量体の例は、炭素数1~20のアルキル基を側鎖に有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルである。アルキル基の炭素数は、7以下、6以下、5以下、さらには4以下であってもよい。アルキル基は、直鎖状であっても分岐を有していてもよい。(メタ)アクリル酸アルキルエステルの例は、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、s-ブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、n-ペンチル(メタ)アクリレート、イソペンチル(メタ)アクリレート、n-へキシル(メタ)アクリレート、イソヘキシル(メタ)アクリレート、イソヘプチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、n-ノニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、n-デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、n-ドデシル(メタ)アクリレート(ラウリル(メタ)アクリレート)、n-トリデシル(メタ)アクリレート、n-テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ヘプタデシル(メタ)アクリレート及びオクタデシル(メタ)アクリレートである。(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、n-ブチル(メタ)アクリレートであってもよい。 An example of a (meth)acrylic monomer is a (meth)acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms on the side chain. The number of carbon atoms in the alkyl group may be 7 or less, 6 or less, 5 or less, or even 4 or less. The alkyl group may be linear or branched. Examples of (meth)acrylic acid alkyl esters are methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, isopropyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, s-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, n-pentyl (meth)acrylate, isopentyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, isohexyl (meth)acrylate, isoheptyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, and 2-ethylhexyl (meth)acrylate. acrylate, n-octyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, n-nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, n-decyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, n-dodecyl (meth)acrylate (lauryl (meth)acrylate), n-tridecyl (meth)acrylate, n-tetradecyl (meth)acrylate, pentadecyl (meth)acrylate, hexadecyl (meth)acrylate, heptadecyl (meth)acrylate, and octadecyl (meth)acrylate. The (meth)acrylic acid alkyl ester may be n-butyl (meth)acrylate.
単量体群における(メタ)アクリル酸アルキルエステルの含有率は、例えば40重量%以上であり、50重量%以上、60重量%以上、70重量%以上、80重量%以上、85重量%以上、90重量%以上、さらには95重量%以上であってもよい。なお、含有率の計算にあたり、部分重合物の重量は、重合前の各単量体としての重量に換算する。 The content of the (meth)acrylic acid alkyl ester in the monomer group is, for example, 40% by weight or more, and may be 50% by weight or more, 60% by weight or more, 70% by weight or more, 80% by weight or more, 85% by weight or more, 90% by weight or more, or even 95% by weight or more. In calculating the content, the weight of the partially polymerized product is converted into the weight of each monomer before polymerization.
単量体群は、カルボキシル基含有単量体を含んでいてもよい。カルボキシル基含有単量体は(メタ)アクリル系単量体であってもよく、換言すれば、(メタ)アクリル系単量体がカルボキシル基含有単量体を含んでいてもよい。カルボキシル基含有単量体の例は、(メタ)アクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸及びクロトン酸である。単量体群におけるカルボキシル基含有単量体の含有率は、例えば10重量%以下であり、9重量%以下、8重量%以下、7重量%以下、6重量%以下、5.5重量%以下、さらには5重量%以下であってもよい。含有率の下限は、例えば0.1重量%以上であり、0.5重量%以上、さらには1重量%以上であってもよい。単量体群は、カルボキシル基含有単量体を含んでいなくてもよい。 The monomer group may contain a carboxyl group-containing monomer. The carboxyl group-containing monomer may be a (meth)acrylic monomer, in other words, the (meth)acrylic monomer may contain a carboxyl group-containing monomer. Examples of the carboxyl group-containing monomer are (meth)acrylic acid, carboxyethyl (meth)acrylate, carboxypentyl (meth)acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid. The content of the carboxyl group-containing monomer in the monomer group may be, for example, 10% by weight or less, 9% by weight or less, 8% by weight or less, 7% by weight or less, 6% by weight or less, 5.5% by weight or less, or even 5% by weight or less. The lower limit of the content may be, for example, 0.1% by weight or more, 0.5% by weight or more, or even 1% by weight or more. The monomer group may not contain a carboxyl group-containing monomer.
単量体群は、ヒドロキシ基含有単量体を含んでいてもよい。ヒドロキシ基含有単量体は(メタ)アクリル系単量体であってもよく、換言すれば、(メタ)アクリル系単量体がヒドロキシ基含有単量体を含んでいてもよい。ヒドロキシ基含有単量体は、粘着シートの凝集力向上に寄与しうる。ヒドロキシ基含有単量体の例は、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6-ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8-ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸10-ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12-ヒドロキシラウリル及び(4-ヒドロキシメチルシクロヘキシル)-メチルアクリレートである。ヒドロキシ基含有単量体は、好ましくは、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチルである。単量体群におけるヒドロキシ基含有単量体の含有率は、例えば10重量%以下であり、5重量%以下、4重量%以下、3重量%以下、2重量%以下、1重量%以下、0.8重量%以下、0.5重量%以下、0.3重量%以下、0.2重量%以下、さらには0.1重量%以下であってもよい。含有率の下限は、例えば0.01重量%以上であり、0.03重量%以上、さらには0.05重量%以上であってもよい。単量体群は、ヒドロキシ基含有単量体を含んでいなくてもよい。 The monomer group may contain a hydroxy group-containing monomer. The hydroxy group-containing monomer may be a (meth)acrylic monomer, in other words, the (meth)acrylic monomer may contain a hydroxy group-containing monomer. The hydroxy group-containing monomer may contribute to improving the cohesive strength of the adhesive sheet. Examples of the hydroxy group-containing monomer are 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, 12-hydroxylauryl (meth)acrylate, and (4-hydroxymethylcyclohexyl)-methyl acrylate. The hydroxy group-containing monomer is preferably 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or 4-hydroxybutyl (meth)acrylate. The content of the hydroxyl group-containing monomer in the monomer group is, for example, 10% by weight or less, and may be 5% by weight or less, 4% by weight or less, 3% by weight or less, 2% by weight or less, 1% by weight or less, 0.8% by weight or less, 0.5% by weight or less, 0.3% by weight or less, 0.2% by weight or less, or even 0.1% by weight or less. The lower limit of the content may be, for example, 0.01% by weight or more, 0.03% by weight or more, or even 0.05% by weight or more. The monomer group may not contain a hydroxyl group-containing monomer.
単量体群は、窒素原子含有単量体を含んでいてもよい。窒素原子含有単量体とは、分子内(1分子内)に窒素原子を少なくとも1つ有する単量体を意味する。 The monomer group may include a nitrogen atom-containing monomer. A nitrogen atom-containing monomer means a monomer that has at least one nitrogen atom in the molecule (per molecule).
窒素原子含有単量体としては、耐発泡剥がれ性を向上させる観点から、N-ビニル環状アミド、(メタ)アクリルアミド等が好ましい。なお、窒素原子含有単量体は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。 As the nitrogen atom-containing monomer, from the viewpoint of improving resistance to foaming and peeling, N-vinyl cyclic amide, (meth)acrylamide, etc. are preferred. The nitrogen atom-containing monomer may be used alone or in combination of two or more kinds.
N-ビニル環状アミドは、下記式(1)で表されるものが好ましい。
式(1)において、R1は、2価の有機基であり、好ましくは2価の飽和炭化水素基又は不飽和炭化水素基であり、より好ましくは2価の飽和炭化水素基(例えば、炭素数3~5のアルキレン基等)である。なお、式(1)は、NとR1が単結合により直接結合して環構造を形成していることを表している。 In formula (1), R 1 is a divalent organic group, preferably a divalent saturated or unsaturated hydrocarbon group, and more preferably a divalent saturated hydrocarbon group (e.g., an alkylene group having 3 to 5 carbon atoms). Note that formula (1) shows that N and R 1 are directly bonded to each other via a single bond to form a ring structure.
式(1)で表されるN-ビニル環状アミドとしては、耐発泡剥がれ性を向上させる観点から、N-ビニル-2-ピロリドン(NVP)、N-ビニル-2-ピペリドン、N-ビニル-2-カプロラクタム、N-ビニル-3-モルホリノン、N-ビニル-1,3-オキサジン-2-オン、N-ビニル-3,5-モルホリンジオン等が好ましく、より好ましくはN-ビニル-2-ピロリドン、N-ビニル-2-カプロラクタムであり、さらに好ましくはN-ビニル-2-ピロリドンである。 As the N-vinyl cyclic amide represented by formula (1), from the viewpoint of improving foaming and peeling resistance, N-vinyl-2-pyrrolidone (NVP), N-vinyl-2-piperidone, N-vinyl-2-caprolactam, N-vinyl-3-morpholinone, N-vinyl-1,3-oxazin-2-one, N-vinyl-3,5-morpholinedione, etc. are preferred, more preferably N-vinyl-2-pyrrolidone, N-vinyl-2-caprolactam, and even more preferably N-vinyl-2-pyrrolidone.
(メタ)アクリルアミドとしては、例えば、(メタ)アクリルアミド、N-アルキル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジアルキル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。N-アルキル(メタ)アクリルアミドとしては、例えば、N-エチル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N-n-ブチル(メタ)アクリルアミド、N-オクチルアクリルアミド等が挙げられる。N-アルキル(メタ)アクリルアミドには、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミドのようなアミノ基を有する(メタ)アクリルアミドも含まれる。 Examples of (meth)acrylamides include (meth)acrylamide, N-alkyl(meth)acrylamide, and N,N-dialkyl(meth)acrylamide. Examples of N-alkyl(meth)acrylamide include N-ethyl(meth)acrylamide, N-isopropyl(meth)acrylamide, N-n-butyl(meth)acrylamide, and N-octylacrylamide. N-alkyl(meth)acrylamides also include (meth)acrylamides having an amino group, such as dimethylaminoethyl(meth)acrylamide, diethylaminoethyl(meth)acrylamide, and dimethylaminopropyl(meth)acrylamide.
N,N-ジアルキル(メタ)アクリルアミドとしては、例えば、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジイソプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N-ジ(n-ブチル)(メタ)アクリルアミド、N,N-ジ(t-ブチル)(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。 Examples of N,N-dialkyl(meth)acrylamides include N,N-dimethyl(meth)acrylamide, N,N-diethyl(meth)acrylamide, N,N-dipropyl(meth)acrylamide, N,N-diisopropyl(meth)acrylamide, N,N-di(n-butyl)(meth)acrylamide, and N,N-di(t-butyl)(meth)acrylamide.
(メタ)アクリルアミドには、例えば、各種のN-ヒドロキシアルキル(メタ)アクリルアミドも含まれる。N-ヒドロキシアルキル(メタ)アクリルアミドとしては、例えば、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-(2-ヒドロキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N-(2-ヒドロキシプロピル)(メタ)アクリルアミド、N-(1-ヒドロキシプロピル)(メタ)アクリルアミド、N-(3-ヒドロキシプロピル)(メタ)アクリルアミド、N-(2-ヒドロキシブチル)(メタ)アクリルアミド、N-(3-ヒドロキシブチル)(メタ)アクリルアミド、N-(4-ヒドロキシブチル)(メタ)アクリルアミド、N-メチル-N-2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。 (Meth)acrylamides also include, for example, various N-hydroxyalkyl (meth)acrylamides. Examples of N-hydroxyalkyl (meth)acrylamides include N-methylol (meth)acrylamide, N-(2-hydroxyethyl) (meth)acrylamide, N-(2-hydroxypropyl) (meth)acrylamide, N-(1-hydroxypropyl) (meth)acrylamide, N-(3-hydroxypropyl) (meth)acrylamide, N-(2-hydroxybutyl) (meth)acrylamide, N-(3-hydroxybutyl) (meth)acrylamide, N-(4-hydroxybutyl) (meth)acrylamide, and N-methyl-N-2-hydroxyethyl (meth)acrylamide.
(メタ)アクリルアミドには、例えば、各種のN-アルコキシアルキル(メタ)アクリルアミドも含まれる。N-アルコキシアルキル(メタ)アクリルアミドとしては、例えば、N-メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。 (Meth)acrylamides also include, for example, various N-alkoxyalkyl(meth)acrylamides. Examples of N-alkoxyalkyl(meth)acrylamides include N-methoxymethyl(meth)acrylamide and N-butoxymethyl(meth)acrylamide.
N-ビニル環状アミド、(メタ)アクリルアミド以外の窒素原子含有単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸ジメチルアミノプロピル、(メタ)アクリル酸t-ブチルアミノエチル等のアミノ基含有単量体;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアノ基含有単量体;(メタ)アクリロイルモルホリン、N-ビニルピペラジン、N-ビニルピロール、N-ビニルイミダゾール、N-ビニルピラジン、N-ビニルモルホリン、N-ビニルピラゾール、ビニルピリジン、ビニルピリミジン、ビニルオキサゾール、ビニルイソオキサゾール、ビニルチアゾール、ビニルイソチアゾール、ビニルピリダジン、(メタ)アクリロイルピロリドン、(メタ)アクリロイルピロリジン、(メタ)アクリロイルピペリジン、N-メチルビニルピロリドン等の複素環含有単量体;N-シクロヘキシルマレイミド、N-イソプロピルマレイミド、N-ラウリルマレイミド、N-フェニルマレイミド等のマレイミド系単量体、N-メチルイタコンイミド、N-エチルイタコンイミド、N-ブチルイタコンイミド、N-オクチルイタコンイミド、N-2-エチルヘキシルイタコンイミド、N-ラウリルイタコンイミド、N-シクロヘキシルイタコンイミド等のイタコンイミド系単量体、N-(メタ)アクリロイルオキシメチレンスクシンイミド、N-(メタ)アクリロイル-6-オキシヘキサメチレンスクシンイミド、N-(メタ)アクリロイル-8-オキシオクタメチレンスクシンイミド等のスクシンイミド系単量体等のイミド基含有単量体;2-(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート等のイソシアネート基含有単量体等が挙げられる。 Examples of nitrogen atom-containing monomers other than N-vinyl cyclic amide and (meth)acrylamide include amino group-containing monomers such as aminoethyl (meth)acrylate, dimethylaminoethyl (meth)acrylate, dimethylaminopropyl (meth)acrylate, and t-butylaminoethyl (meth)acrylate; cyano group-containing monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; (meth)acryloylmorpholine, N-vinylpiperazine, N-vinylpyrrole, N-vinylimidazole, N-vinylpyrazine, N-vinylmorpholine, N-vinylpyrazole, vinylpyridine, vinylpyrimidine, vinyloxazole, vinylisoxazole, vinylthiazole, vinylisothiazole, vinylpyridazine, (meth)acryloylpyrrolidone, (meth)acryloylpyrrolidine, (meth)acryloylpiperidine, N-methyl Examples of such monomers include heterocyclic ring-containing monomers such as vinylpyrrolidone; maleimide-based monomers such as N-cyclohexylmaleimide, N-isopropylmaleimide, N-laurylmaleimide, and N-phenylmaleimide; itaconimide-based monomers such as N-methylitaconimide, N-ethylitaconimide, N-butylitaconimide, N-octylitaconimide, N-2-ethylhexylitaconimide, N-laurylitaconimide, and N-cyclohexylitaconimide; imide group-containing monomers such as succinimide-based monomers such as N-(meth)acryloyloxymethylenesuccinimide, N-(meth)acryloyl-6-oxyhexamethylenesuccinimide, and N-(meth)acryloyl-8-oxyoctamethylenesuccinimide; and isocyanate group-containing monomers such as 2-(meth)acryloyloxyethylisocyanate.
単量体群における窒素原子含有単量体の含有率は、例えば40重量%以下であり、35重量%以下、さらには30重量%以下であってもよい。含有率の下限は、例えば5重量%以上であり、7重量%以上、さらには10重量%以上であってもよい。単量体群は、窒素原子含有単量体を含んでいなくてもよい。 The content of the nitrogen atom-containing monomer in the monomer group may be, for example, 40% by weight or less, 35% by weight or less, or even 30% by weight or less. The lower limit of the content may be, for example, 5% by weight or more, 7% by weight or more, or even 10% by weight or more. The monomer group may not contain a nitrogen atom-containing monomer.
光硬化性組成物において、上述した各単量体は部分重合物として含まれていてもよい。部分重合物は、単一重合体及び共重合体のいずれであってもよい。部分重合物は、光硬化性組成物の粘度を適度に増大させることで、塗布層12の安定した形成に寄与しうる。
In the photocurable composition, each of the above-mentioned monomers may be contained as a partial polymer. The partial polymer may be either a homopolymer or a copolymer. The partial polymer may contribute to the stable formation of the
光硬化性組成物は、通常、光重合開始剤を含有する。光重合開始剤の例は、上記の光14によりラジカルを発生する光ラジカル発生剤である。光重合開始剤では、波長340nmの光に対する吸光係数が、例えば0.1L/(g・cm)以上であり、0.5L/(g・cm)以上、1.0L/(g・cm)以上、3.0L/(g・cm)以上、さらには5.0L/(g・cm)以上であってもよい。この吸光係数の上限は、特に限定されず、例えば50L/(g・cm)以下である。光重合開始剤の吸光係数は、光路長1cmの石英セルを用いて、可視-紫外分光光度計により測定した0.01mg/mLのメタノール溶液の吸光度からの算出値である。
The photocurable composition usually contains a photopolymerization initiator. An example of the photopolymerization initiator is a photoradical generator that generates radicals by the above-mentioned
光重合開始剤の例は、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾインエーテル類;アニソールメチルエーテル等の置換ベンゾインエーテル;2,2-ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン等の置換アセトフェノン;1-ヒドロキシシクロヘキシル-フェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、2-ヒドロキシ-4’-(2-ヒドロキシエトキシ)-2-メチルプロピオフェノン、2,2’-ジヒドロキシ-2,2’-ジメチル-1,1’-[メチレンビス(4,1-フェニレン)]ビス(プロパン-1-オン)等のα-ヒドロキシアルキルフェノン;2-メチル-2-ヒドロキシプロピオフェノン等の置換アルファーケトール;2-ナフタレンスルホニルクロライド等の芳香族スルホニルクロライド;1-フェニル-1,1-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニル)-オキシム等の光活性オキシム;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド、3,3’,4,4’-テトラ(t-ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;チオキサントン、2-クロルチオキサントン、2-メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4-ジイソプロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物;2,4,6-トリクロロ-s-トリアジン、2-フェニル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(p-トリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-ピペロニル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4-ビス(トリクロロメチル)-6-スチリル-s-トリアジン、2-(ナフト-1-イル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-メトキシ-ナフト-1-イル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4-トリクロロメチル-(ピペロニル)-6-トリアジン、2,4-トリクロロメチル-(4’-メトキシスチリル)-6-トリアジン等のトリアジン系化合物;1,2-オクタンジオン,1-〔4-(フェニルチオ)-,2-(O-ベンゾイルオキシム)〕、O-(アセチル)-N-(1-フェニル-2-オキソ-2-(4’-メトキシ-ナフチル)エチリデン)ヒドロキシルアミン等のオキシムエステル系化合物;ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のホスフィン系化合物;9,10-フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物;ボレート系化合物;カルバゾール系化合物;イミダゾール系化合物;並びにチタノセン系化合物である。光硬化性組成物は、1種又は2種以上の光重合開始剤を含んでいてもよい。特に、α-ヒドロキシアルキルフェノンは、波長325nm~350nmの光の吸収が大きい傾向があり、本実施形態の製造方法に適している。 Examples of photopolymerization initiators include benzoin ethers such as benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzil dimethyl ketal; substituted benzoin ethers such as anisole methyl ether; substituted acetophenones such as 2,2-diethoxyacetophenone and 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone; α-hydroxyalkylphenones such as 1-hydroxycyclohexyl-phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone, and 2,2'-dihydroxy-2,2'-dimethyl-1,1'-[methylenebis(4,1-phenylene)]bis(propan-1-one); and 2-methyl-2-hydroxypropiophenone. substituted alpha-ketols such as 2-naphthalenesulfonyl chloride; aromatic sulfonyl chlorides such as 2-naphthalenesulfonyl chloride; photoactive oximes such as 1-phenyl-1,1-propanedione-2-(o-ethoxycarbonyl)-oxime; benzophenone compounds such as benzophenone, benzoylbenzoic acid, methyl benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, and 3,3',4,4'-tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone; thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, and 2,4-diethylthioxanthone. thioxanthone compounds such as 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-tolyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-piperonyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-styryl-s-triazine, 2-(naphth-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-methoxy-naphth-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2,4-trichloromethyl-(piperonyl)-6-triazine, 2,4-tri triazine-based compounds such as chloromethyl-(4'-methoxystyryl)-6-triazine; oxime ester-based compounds such as 1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-, 2-(O-benzoyloxime)], O-(acetyl)-N-(1-phenyl-2-oxo-2-(4'-methoxy-naphthyl)ethylidene)hydroxylamine; phosphine-based compounds such as bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide; quinone-based compounds such as 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, and ethylanthraquinone; borate-based compounds; carbazole-based compounds; imidazole-based compounds; and titanocene-based compounds. The photocurable composition may contain one or more photopolymerization initiators. In particular, α-hydroxyalkylphenones tend to have high absorption of light with wavelengths of 325 nm to 350 nm, making them suitable for the manufacturing method of this embodiment.
光硬化性組成物における光重合開始剤の配合量は、単量体群及びその部分重合物の合計100重量部に対して、例えば20重量部以下であり、10重量部以下、5.0重量部以下、3.0重量部以下、1.0重量部以下、0.5重量部以下、さらには0.3重量部以下であってもよい。光重合開始剤の配合量が1.0重量部以下である場合、粘着シート1に含まれるポリマーの重量平均分子量が十分に大きい傾向がある。光重合開始剤の配合量の下限は、単量体群及びその部分重合物の合計100重量部に対して、例えば0.02重量部以上であり、0.05重量部以上であってもよい。
The amount of the photopolymerization initiator in the photocurable composition is, for example, 20 parts by weight or less, and may be 10 parts by weight or less, 5.0 parts by weight or less, 3.0 parts by weight or less, 1.0 parts by weight or less, 0.5 parts by weight or less, or even 0.3 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the total of the monomer group and its partial polymer. When the amount of the photopolymerization initiator is 1.0 part by weight or less, the weight average molecular weight of the polymer contained in the
光硬化性組成物は、架橋剤を含んでいてもよい。架橋剤の例は、1分子中に2以上の重合性官能基を有する多官能単量体である。多官能単量体は(メタ)アクリル系単量体であってもよい。多官能単量体の例は、1分子中に2以上のC=C結合を有する単量体、及び1分子中に1以上のC=C結合と、1以上のエポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、ヒドラジン基、メチロール基等の重合性官能基とを有する単量体である。多官能単量体は、好ましくは、1分子中に2以上のC=C結合を有する単量体である。 The photocurable composition may contain a crosslinking agent. An example of the crosslinking agent is a polyfunctional monomer having two or more polymerizable functional groups in one molecule. The polyfunctional monomer may be a (meth)acrylic monomer. An example of the polyfunctional monomer is a monomer having two or more C=C bonds in one molecule, and a monomer having one or more C=C bonds and one or more polymerizable functional groups such as epoxy groups, aziridine groups, oxazoline groups, hydrazine groups, and methylol groups in one molecule. The polyfunctional monomer is preferably a monomer having two or more C=C bonds in one molecule.
多官能単量体の例は、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2-エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジアクリレート(NDDA)、1,12-ドデカンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート等の多官能アクリレート(多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル化合物等);アリル(メタ)アクリレート、ビニル(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、ブチルジ(メタ)アクリレート、ヘキシルジ(メタ)アクリレートである。多官能単量体は、好ましくは、多官能アクリレートであり、より好ましくは、1,9-ノナンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートである。 Examples of polyfunctional monomers include (poly)ethylene glycol di(meth)acrylate, (poly)propylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, 1,2-ethylene glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol diacrylate (N DDA), 1,12-dodecanediol di(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, tetramethylolmethane tri(meth)acrylate, and other polyfunctional acrylates (such as ester compounds of polyhydric alcohols and (meth)acrylic acid); allyl (meth)acrylate, vinyl (meth)acrylate, divinylbenzene, epoxy acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, butyl di(meth)acrylate, and hexyl di(meth)acrylate. The polyfunctional monomer is preferably a polyfunctional acrylate, and more preferably 1,9-nonanediol diacrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, hexanediol di(meth)acrylate, and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate.
架橋剤の配合量は、分子量や官能基数等により異なるが、単量体群及びその部分重合物の合計100重量部に対して、例えば5重量部以下であり、3重量部以下、2重量部以下、1重量部以下、0.5重量部以下、さらには0.3重量部以下であってもよい。配合量の下限は、例えば0.01重量部以上であり、さらには0.05重量部以上であってもよい。 The amount of the crosslinking agent to be blended varies depending on the molecular weight, the number of functional groups, etc., but may be, for example, 5 parts by weight or less, 3 parts by weight or less, 2 parts by weight or less, 1 part by weight or less, 0.5 parts by weight or less, or even 0.3 parts by weight or less, relative to 100 parts by weight of the total of the monomer group and its partial polymer. The lower limit of the blending amount may be, for example, 0.01 parts by weight or more, or even 0.05 parts by weight or more.
光硬化性組成物は、上述した以外の添加剤を含んでいてもよい。添加剤の例は、連鎖移動剤、シランカップリング剤、粘度調整剤、粘着付与剤、可塑剤、軟化剤、老化防止剤、充填剤、着色剤、酸化防止剤、界面活性剤、帯電防止剤及び紫外線吸収剤である。 The photocurable composition may contain additives other than those mentioned above. Examples of additives include chain transfer agents, silane coupling agents, viscosity modifiers, tackifiers, plasticizers, softeners, antioxidants, fillers, colorants, antioxidants, surfactants, antistatic agents, and UV absorbers.
光硬化性組成物における溶剤の含有率は、例えば5重量%以下であり、4重量%以下、3重量%以下、2重量%以下、1重量%以下、さらには0.5重量%以下であってもよい。光硬化性組成物は、溶剤を実質的に含まなくてもよい。溶剤を実質的に含まないとは、添加剤等に由来する溶剤等を、例えば0.1重量%以下、好ましくは0.05重量%以下、より好ましくは0.01重量%以下の含有率で許容する趣旨である。 The content of the solvent in the photocurable composition is, for example, 5% by weight or less, and may be 4% by weight or less, 3% by weight or less, 2% by weight or less, 1% by weight or less, or even 0.5% by weight or less. The photocurable composition may be substantially free of solvent. "Substantially free of solvent" means that solvents derived from additives, etc. are permitted at a content of, for example, 0.1% by weight or less, preferably 0.05% by weight or less, and more preferably 0.01% by weight or less.
光硬化性組成物の粘度は、好ましくは、1~100ポイズである。上記範囲の粘度を有する光硬化性組成物は、塗布層12の形成に特に適している。
The viscosity of the photocurable composition is preferably 1 to 100 poise. Photocurable compositions having a viscosity in the above range are particularly suitable for forming the
(はく離ライナー)
はく離ライナー13の基材(以下、「ライナー基材」)の例は、樹脂フィルムである。ライナー基材に含まれうる樹脂の例は、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレート等のポリエステル、アセテート樹脂、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレフィン、(メタ)アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリアリレート、並びにポリフェニレンサルファイドである。樹脂は、好ましくは、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルである。
(Release liner)
An example of the substrate of the release liner 13 (hereinafter, "liner substrate") is a resin film. Examples of resins that can be contained in the liner substrate are polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, acetate resins, polyethersulfone, polycarbonate, polyamide, polyimide, polyolefin, (meth)acrylic resins, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, polyvinyl alcohol, polyarylate, and polyphenylene sulfide. The resin is preferably a polyester such as polyethylene terephthalate.
はく離ライナー13は、光14の透過性を有していてもよい。一例として、波長340nmの光に対するはく離ライナー13の分光透過率は、例えば60%以上であり、70%以上、さらには80%以上であってもよい。分光透過率の上限は、特に限定されず、例えば95%以下であり、90%以下であってもよい。波長340nmの光に対する分光透過率は、例えば、市販の分光光度計を用いて、はく離ライナー13について、300~2000nmの波長域における全光線透過率スペクトルを測定し、得られたスペクトルから特定することができる。
The
はく離ライナー13の厚さは、例えば10~200μmであり、25~150μmであってもよい。
The thickness of the
はく離ライナー13は、ライナー基材以外の層を備えていてもよい。はく離ライナー13は、離型層を備えていてもよい。はく離ライナー13は、例えば、ライナー基材と、ライナー基材の一方の面に形成された離型層とを備える。このはく離ライナー13は、離型層が塗布層12の側となるように使用できる。
The
離型層は、典型的には、離型剤を含む離型剤組成物の硬化層である。離型剤には、シリコーン系離型剤、フッ素系離型剤、長鎖アルキル系離型剤、脂肪酸アミド系離型剤、シリカ粉等の種々の離型剤を使用できる。はく離ライナー13は、シリコーン系離型剤を主成分として含む離型剤組成物の硬化層(以下「シリコーン離型層」)を備えていてもよい。シリコーン離型層は、粘着シート1に対する密着性及び剥離性の両立に特に適している。なお、本明細書において主成分とは、最も含有率の大きな成分を意味する。
The release layer is typically a cured layer of a release agent composition containing a release agent. Various types of release agents can be used as the release agent, such as silicone-based release agents, fluorine-based release agents, long-chain alkyl-based release agents, fatty acid amide-based release agents, and silica powder. The
シリコーン系離型剤は、例えば、付加反応型、縮合反応型、紫外線硬化型、電子線硬化型、無溶媒型等の各種の硬化型シリコーン材料であり、付加反応硬化型シリコーン材料が好ましい。付加反応硬化型シリコーン材料は、粘着シート1に対する密着性及び剥離性の両立した離型層の形成に特に適している。硬化型シリコーン材料は、ウレタン、エポキシ、アルキッド樹脂等の有機樹脂にグラフト重合等により反応性シリコーンを導入したシリコーン変性樹脂であってもよい。
Silicone-based release agents are various types of curable silicone materials, such as addition reaction type, condensation reaction type, ultraviolet curable type, electron beam curable type, and solventless type, and addition reaction curable silicone materials are preferred. Addition reaction curable silicone materials are particularly suitable for forming a release layer that has both adhesion to the
付加反応硬化型シリコーン材料の例は、ビニル基又はアルケニル基を分子内に有するポリオルガノシロキサンである。付加反応硬化型シリコーン材料は、ヒドロシリル基を有さなくてもよい。アルケニル基の例は、3-ブテニル基、4-ペンテニル基、5-ヘキセニル基、6-ヘプテニル基、7-オクテニル基、8-ノネニル基、9-デセニル基、10-ウンデセニル基、及び11-ドデセニル基である。ポリオルガノシロキサンの例は、ポリジメチルシロキサン、ポリジエチルシロキサン及びポリメチルエチルシロキサン等のポリアルキルアルキルシロキサン、ポリアルキルアリールシロキサン、並びにポリ(ジメチルシロキサン-ジエチルシロキサン)等の複数種のSi原子含有モノマーの共重合体である。ポリオルガノシロキサンは、好ましくはポリジメチルシロキサンである。 An example of the addition reaction curing silicone material is a polyorganosiloxane having a vinyl group or an alkenyl group in the molecule. The addition reaction curing silicone material may not have a hydrosilyl group. Examples of the alkenyl group are 3-butenyl, 4-pentenyl, 5-hexenyl, 6-heptenyl, 7-octenyl, 8-nonenyl, 9-decenyl, 10-undecenyl, and 11-dodecenyl. Examples of the polyorganosiloxane are polyalkylalkylsiloxanes such as polydimethylsiloxane, polydiethylsiloxane, and polymethylethylsiloxane, polyalkylarylsiloxane, and copolymers of multiple types of Si atom-containing monomers such as poly(dimethylsiloxane-diethylsiloxane). The polyorganosiloxane is preferably polydimethylsiloxane.
シリコーン系離型剤を主成分として含む離型剤組成物(以下「シリコーン離型剤組成物」)は、通常、架橋剤を含む。架橋剤の例は、ヒドロシリル基を有するポリオルガノシロキサンである。架橋剤は、一分子中に2以上のヒドロシリル基を有していてもよい。 A release agent composition containing a silicone-based release agent as a main component (hereinafter referred to as "silicone release agent composition") usually contains a crosslinking agent. An example of the crosslinking agent is a polyorganosiloxane having a hydrosilyl group. The crosslinking agent may have two or more hydrosilyl groups in one molecule.
シリコーン離型剤組成物は、硬化触媒を含んでいてもよい。硬化触媒の例は、白金系触媒である。白金系触媒の例は、塩化白金酸、白金のオレフィン錯体、塩化白金酸のオレフィン錯体である。白金系触媒の使用量は、組成物の全固形分に対して、例えば10~1000ppm(重量基準、白金換算)である。 The silicone release agent composition may contain a curing catalyst. An example of the curing catalyst is a platinum-based catalyst. Examples of the platinum-based catalyst are chloroplatinic acid, platinum olefin complexes, and chloroplatinic acid olefin complexes. The amount of the platinum-based catalyst used is, for example, 10 to 1000 ppm (by weight, platinum equivalent) based on the total solid content of the composition.
シリコーン離型剤組成物は、添加剤を含んでいてもよい。添加剤の例は、剥離コントロール剤及び密着性向上剤である。剥離コントロール剤の例は未反応性のシリコーン樹脂であり、より具体的な例は、オクタメチルシクロテトラシロキサン等のオルガノシロキサン、及びMQレジンである。剥離コントロール剤及び密着性向上剤の使用量は、組成物の全固形分に対して合計で、例えば1~30重量%である。添加剤のさらなる例は、充填剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤及び着色剤である。さらなる添加剤の使用量は、組成物の全固形分に対して合計で、例えば10重量%以下である。 The silicone release agent composition may contain additives. Examples of additives are release control agents and adhesion promoters. Examples of release control agents are unreactive silicone resins, and more specific examples are organosiloxanes such as octamethylcyclotetrasiloxane, and MQ resins. The amount of the release control agent and adhesion promoter used is, for example, 1 to 30% by weight in total based on the total solid content of the composition. Further examples of additives are fillers, antistatic agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, plasticizers, and colorants. The amount of the further additives used is, for example, 10% by weight or less in total based on the total solid content of the composition.
シリコーン離型剤組成物は、有機溶媒を含んでいてもよい。有機溶媒の例は、シクロヘキサン、n-ヘキサン、n-ヘプタン等の炭化水素系溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒;酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール系溶媒である。2種以上の有機溶媒が含まれていてもよい。有機溶媒の使用量は、好ましくは、シリコーン離型剤組成物の80~99.9重量%である。 The silicone release agent composition may contain an organic solvent. Examples of organic solvents are hydrocarbon solvents such as cyclohexane, n-hexane, and n-heptane; aromatic solvents such as toluene and xylene; ester solvents such as ethyl acetate and methyl acetate; ketone solvents such as acetone and methyl ethyl ketone; and alcohol solvents such as methanol, ethanol, and butanol. Two or more types of organic solvents may be contained. The amount of the organic solvent used is preferably 80 to 99.9% by weight of the silicone release agent composition.
離型層は、例えば、ライナー基材上に形成した離型剤組成物を含む塗布膜を加熱及び乾燥して形成できる。離型剤組成物の塗布には、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコート等の各種の塗布方法を適用できる。加熱及び乾燥には、例えば熱風乾燥を適用できる。加熱温度及び時間は、ライナー基材の耐熱性により異なるが、通常、80~150℃及び10秒~10分程度である。必要に応じて、紫外線等の活性エネルギー線の照射を併用してもよい。 The release layer can be formed, for example, by heating and drying a coating film containing the release agent composition formed on a liner substrate. Various coating methods such as roll coating, kiss roll coating, gravure coating, reverse coating, roll brushing, spray coating, dip roll coating, bar coating, knife coating, air knife coating, curtain coating, lip coating, and die coating can be used for coating the release agent composition. For example, hot air drying can be used for heating and drying. The heating temperature and time vary depending on the heat resistance of the liner substrate, but are usually 80 to 150°C and about 10 seconds to 10 minutes. If necessary, irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays may be used in combination.
離型層の厚さは、例えば10~300nmである。厚さの上限は、200nm以下、150nm以下、120nm以下、110nm以下、100nm以下、100nm未満、90nm以下、80nm以下、70nm以下、70nm未満、さらには65nm以下であってもよい。厚さの下限は、15nm以上、20nm以上、25nm以上、30nm以上、35nm以上、40nm以上、45nm以上、さらには50nm以上であってもよい。 The thickness of the release layer is, for example, 10 to 300 nm. The upper limit of the thickness may be 200 nm or less, 150 nm or less, 120 nm or less, 110 nm or less, 100 nm or less, less than 100 nm, 90 nm or less, 80 nm or less, 70 nm or less, less than 70 nm, or even 65 nm or less. The lower limit of the thickness may be 15 nm or more, 20 nm or more, 25 nm or more, 30 nm or more, 35 nm or more, 40 nm or more, 45 nm or more, or even 50 nm or more.
はく離ライナー13は、枚葉状であっても長尺状であってもよい。
The
(基材シート)
基材シート11の例は、樹脂フィルムである。基材シート11に含まれる樹脂の例は、ライナー基材に含まれうる樹脂の例と同じである。
(Base sheet)
An example of the
基材シート11は、光14の透過性に優れることが好ましい。一例として、波長340nmの光に対する基材シート11の分光透過率は、例えば60%以上であり、70%以上、さらには80%以上であってもよい。上記の分光透過率が高ければ高いほど、光14によって塗布層12を効率的に硬化させることができる。さらに、基材シート11が光14を吸収して発熱することを抑制できる。分光透過率の上限は、特に限定されず、例えば95%以下であり、90%以下であってもよい。波長340nmの光に対する分光透過率は、はく離ライナー13について上述した方法によって特定することができる。
The
基材シート11の厚さは、例えば10~200μmであり、25~150μmであってもよい。
The thickness of the
基材シート11は、塗布層12の側の面に離型層を備えていてもよい。基材シート11が備えうる離型層及びその製法の例は、はく離ライナー13が備えうる離型層及びその製法の例と同じである。はく離ライナー13及び基材シート11の双方が離型層を備えていてもよい。この場合、双方の離型層は、同じ離型剤を主成分として含む離型剤組成物から形成されていてもよい。また、双方の離型層の厚さは異なっていてもよく、例えば、基材シート11が備える離型層の方が厚くてもよい。
The
基材シート11には、通常、粘着シート1との剥離力がはく離ライナー13に比べて大きなシートを選択できる。
For the
基材シート11は、枚葉状であっても長尺状であってもよい。
The
(第1の積層体及びその形成)
第1の積層体10は、基材シート11、塗布層12及びはく離ライナー13以外のさらなる層を含んでいてもよい。上記さらなる層は、基材シート11及び/又ははく離ライナー13における塗布層12の側とは反対側に配置されていてもよい。塗布層12は、基材シート11及びはく離ライナー13と接していることが好ましい。
(First Laminate and Its Formation)
The
第1の積層体10は、例えば、基材シート11(又ははく離ライナー13)の上に塗布層12を形成し、形成した塗布層12の上にはく離ライナー13(又は基材シート11)を配置して形成できる。また、互いの主面が向き合うように所定の間隔に保持された基材シート11及びはく離ライナー13の間の空間に光硬化性組成物を流しこむように塗布して第1の積層体10を形成してもよい。
The
塗布層12の形成には、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコート等の各種の塗布方法を適用できる。
Various coating methods can be used to form the
塗布層12の厚さは、目的とする粘着シート1の厚さに応じて調整でき、例えば2mm以下であり、1mm以下、2~300μm、2~200μm、2~150μm、2~100μm、2~70μm、2~50μm、5~40μm、10~30μm、10~25μm、さらには10~20μmであってもよい。
The thickness of the
第1の積層体10は、長尺状の基材シート11、長尺状の塗布層12及び長尺状のはく離ライナー13を含んでいてもよく、換言すれば、長尺状であってもよい。長尺状の第1の積層体10は、例えば、巻回体から繰り出した基材シート11及びはく離ライナー13を搬送しながら両者の間に塗布層12を形成して得ることができる。
The
(粘着シート)
上述のとおり、本実施形態の製造方法で作製された粘着シート1では、光重合開始剤の残存量が少ない傾向がある。光重合開始剤の残存量が少ない粘着シート1は、高温環境下での黄変や発泡が抑制される傾向がある。一例として、粘着シート1における光重合開始剤の含有率は、例えば500wtppm以下であり、300wtppm以下、200wtppm以下、150wtppm以下、120wtppm以下、100wtppm以下、80wtppm以下、50wtppm以下、さらには30wtppm以下であってもよい。粘着シート1は、光重合開始剤を実質的に含んでいなくてもよい。
(Adhesive sheet)
As described above, the
さらに、本実施形態の製造方法で作製された粘着シート1では、単量体群の重合率が高く、単量体群の残存量も少ない傾向がある。単量体群の残存量が少ない粘着シート1は、生産性の改善に寄与するだけでなく、臭気が抑制されている傾向もある。この粘着シート1は、ハンドリング性が良好で、搬送しやすい利点もある。粘着シート1における単量体群の重合率は、好ましくは80%以上であり、85%以上、90%以上、95%以上、97%以上、98%以上、さらには99%以上であってもよい。
Furthermore, the
本実施形態の製造方法によれば、粘着シート1に含まれるポリマーの分子量が大きい傾向もある。一例として、架橋剤を含まないことを除き、上記の光硬化性組成物と同じ組成を有する試料を用いて、本実施形態の製造方法を実施した場合に、試料に含まれる単量体群が重合して得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は、例えば40万以上であり、50万以上、70万以上、80万以上、90万以上、さらには100万以上であってもよい。このMwが大きければ大きいほど、高温環境下などでの粘着シート1の剥がれが抑制される傾向がある。Mwの上限は、特に限定されず、例えば300万以下である。なお、上記のポリマーの数平均分子量(Mn)は、例えば8万以上であり、10万以上、15万以上、18万以上、20万以上、さらには25万以上であってもよい。このMnの上限は、特に限定されず、例えば60万以下である。分子量分布を意味する重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)は、例えば1.8~10であり、1.8~7、さらには1.8~5であってもよい。重量平均分子量、数平均分子量は、GPC(ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー)により測定し、ポリスチレン換算により算出された値から求められる。
According to the manufacturing method of this embodiment, the molecular weight of the polymer contained in the
粘着シート1のゲル分率は、例えば50%以上であり、75%以上、80%以上、さらには85%以上であってもよい。
The gel fraction of the
粘着シート1の厚さは、例えば2mm以下であり、1mm以下、2~300μm、2~200μm、2~150μm、2~100μm、2~70μm、2~50μm、5~40μm、10~30μm、10~25μm、さらには10~20μmであってもよい。
The thickness of the
本実施形態の製造方法で作製された粘着シート1は、高い光透過性が求められる用途(例えば光学用途)に特に適している。ただし、粘着シート1は、光学用途以外の各種用途に用いることもできる。粘着シート1は、両面テープに利用されてもよい。
The
次に、図2を参照して、粘着シートの製造方法の別の一例を説明する。この例では、巻回体31から繰り出した長尺状の基材シート11の片面に対して、塗布装置32により光硬化性組成物の塗布層12を形成する。次に、塗布層12の上に、巻回体33から繰り出した長尺状のはく離ライナー13を配置して、長尺状の第1の積層体10を形成する。次に、LED34から第1の積層体10に光14を照射して、長尺状の粘着シート1を形成する。次に、粘着シート1を含む第2の積層体17からはく離ライナー13を剥離して巻回体35に巻き取る。以上の工程は、基材シート11及びはく離ライナー13を搬送しながら実施する。図2の方法は、粘着シートの量産に特に適している。
Next, referring to FIG. 2, another example of a method for manufacturing an adhesive sheet will be described. In this example, a
次に、図3を参照して、粘着シートの製造方法の別の一例を説明する。この例では、巻回体31から繰り出した長尺状の基材シート11と、巻回体33から繰り出した長尺状のはく離ライナー13との間に、塗布装置32を用いて光硬化性組成物を塗布する。これにより、光硬化性組成物を含む塗布層12が形成され、長尺状の第1の積層体10が得られる。
Next, referring to FIG. 3, another example of a method for manufacturing a pressure-sensitive adhesive sheet will be described. In this example, a
次に、1対の光源38a及び38bの間を通過するように、第1の積層体10を搬送する。詳細には、まず、第1の積層体10について、光源38a近傍の第1領域40Aを通過させる。次に、第1反転機構(第1搬送ローラ39a)を利用して、第1の積層体10の移動方向を反転させ、第1領域40Aでの移動方向とは逆方向に第1の積層体10を移動させる。これにより、第1の積層体10について、第1領域40Aよりも光源38b側の第2領域40Bを通過させる。次に、第2反転機構(第2搬送ローラ39b)を利用して、第1の積層体10の移動方向をさらに反転させ、第1領域40Aでの移動方向と同じ方向に第1の積層体10を移動させる。これにより、第1の積層体10について、光源38b近傍の第3領域40Cを通過させる。
Next, the
光源38aは、典型的には、ピーク波長が325nm~350nmの光L1を照射するLEDである。同様に、光源38bは、典型的には、ピーク波長が325nm~350nmの光L2を照射するLEDである。光源38a及び38bとしては、上述のLED34を用いることができる。
図3の例では、第1領域40Aにおける、はく離ライナー13側からの光L1の照度と、基材シート11側からの光L2の照度との合計値(照度LA)、第2領域40Bにおける、基材シート11側からの光L1の照度と、はく離ライナー13側からの光L2の照度との合計値(照度LB)、及び、第3領域40Cにおける、はく離ライナー13側からの光L1の照度と、基材シート11側からの光L2の照度との合計値(照度LC)が、それぞれ、2.0~30mW/cm2に調整されていることが好ましい。照度LA~LCは、LA<LB<LCの関係を満たしてもよい。照度LA~LCは、光源38a及び38bの位置や出力によって調整することができる。一例として、光源38aと第1領域40Aとの距離が、光源38bと第3領域40Cとの距離よりも大きく調整されていてもよい。
In the example of FIG. 3, the total value (illuminance LA) of the illuminance of the light L1 from the
1対の光源38a及び38bの間を通過させることによって、ピーク波長が325nm~350nmの光L1及びL2が塗布層12に照射され、長尺状の粘着シート1が形成される。次に、粘着シート1を含む第2の積層体17からはく離ライナー13を剥離して巻回体35に巻き取る。図3の方法では、少ないスペースで粘着シートを形成することができ、粘着シートの量産に特に適している。
By passing the light between a pair of
なお、図3の例において、第1領域40Aを通過した時点での単量体群の重合率が50%以上であることが好ましい。この場合、第1反転機構(第1搬送ローラ39a)を利用して、第1の積層体10の移動方向を反転させたときに、第1の積層体10を構成する部材について、シワ、スジ、浮きなどの外観不良が生じにくい傾向がある。
In the example of FIG. 3, it is preferable that the polymerization rate of the monomer group at the time of passing through the
[粘着シート付き光学フィルムの製造方法]
図4を参照して、本実施形態の粘着シート付き光学フィルムの製造方法の一例を説明する。図4の例では、上述の方法によって作製された第2の積層体17からはく離ライナー13を剥離することで形成された粘着シート1の露出面18に光学フィルム2を配置して、粘着シート付き光学フィルム21を形成する。なお、光学フィルム2を配置する前に、粘着シート1の露出面18に対して表面改質処理を施してもよい。
[Method of manufacturing optical film with adhesive sheet]
An example of a method for producing an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet according to the present embodiment will be described with reference to Fig. 4. In the example of Fig. 4, an
粘着シート付き光学フィルム21は、基材シート11、粘着シート1及び光学フィルム2をこの順で含む。粘着シート付き光学フィルム21は、そのまま又は基材シート11を剥離した後に、例えば、粘着シート1と光学フィルム2とを備える光学積層体として画像表示装置等に使用できる。光学積層体は、粘着シート1を介して対象物(例えば画像形成パネル)に貼り合わせてもよい。ただし、粘着シート付き光学フィルム21の用途は、上記例に限定されない。粘着シート付き光学フィルム21から基材シート11を剥離して形成された露出面18には、光学フィルム等のさらなる部材を配置してもよく、一例として、光学フィルム2A、粘着シート1及び光学フィルム2Bをこの順で含む粘着シート付き光学フィルム22を形成できる(図5参照)。光学フィルム2A,2Bは、互いに同一であっても異なっていてもよい。
The
露出面18への光学フィルム2の配置は、直接的であっても間接的であってもよい。換言すれば、光学フィルム2は、露出面18に接するように配置されても、露出面18との間に他の層を挟んだ状態で配置されてもよい。
The
図6を参照して、本実施形態の粘着シート付き光学フィルムの製造方法の別の一例を説明する。この例では、図2の方法により形成された第3の積層体15における粘着シート1の露出面18に長尺状の光学フィルム2を配置して、長尺状の粘着シート付き光学フィルム21を形成する。光学フィルム2は、巻回体36から繰り出されて露出面18に配置される。図6に示すように、粘着シート1の形成と粘着シート付き光学フィルム21の形成とを連続的に実施してもよい。図6の方法は、粘着シート付き光学フィルム21の量産に特に適している。
With reference to FIG. 6, another example of the manufacturing method of the optical film with adhesive sheet of this embodiment will be described. In this example, a long
光学フィルム2は、例えば、偏光フィルム及び位相差フィルムからなる群から選ばれる少なくとも1つを含むフィルムである。光学フィルム2は、偏光フィルム及び/又は位相差フィルムを含む積層フィルムであってもよい。光学フィルム2は、ガラス製のフィルムを含んでいてもよい。ただし、光学フィルム2は上記例に限定されない。
The
偏光フィルムは、偏光子を含む。偏光フィルムは、典型的には、偏光子及び保護フィルム(透明保護フィルム)を含む。保護フィルムは、例えば、偏光子の主面(最も広い面積を有する表面)に接して配置されている。偏光子は、2つの保護フィルムの間に配置されていてもよい。保護フィルムは、偏光子の少なくとも一方の面に配置されていてもよい。 The polarizing film includes a polarizer. The polarizing film typically includes a polarizer and a protective film (transparent protective film). The protective film is, for example, disposed in contact with the main surface (the surface having the widest area) of the polarizer. The polarizer may be disposed between two protective films. The protective film may be disposed on at least one surface of the polarizer.
偏光子としては、特に限定されず、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素、二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの;ポリビニルアルコールの脱水処理物、ポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム等が挙げられる。偏光子は、典型的には、ポリビニルアルコール系フィルム(ポリビニルアルコール系フィルムには、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルムが含まれる)、及び、ヨウ素等の二色性物質からなる。 The polarizer is not particularly limited, and examples thereof include hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol films, partially formalized polyvinyl alcohol films, and partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer films, which are uniaxially stretched after adsorbing dichroic substances such as iodine and dichroic dyes; and polyene-based oriented films such as dehydrated polyvinyl alcohol and dehydrochlorinated polyvinyl chloride. Polarizers are typically made of polyvinyl alcohol films (polyvinyl alcohol films include partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer films) and dichroic substances such as iodine.
偏光子の厚さは、特に限定されず、例えば80μm以下であり、50μm以下、30μm以下、25μm以下、さらには20μm以下であってもよい。偏光子の厚さの下限は、特に限定されず、例えば1μm以上であり、5μm以上、10μm以上、さらには15μm以上であってもよい。薄型の偏光子(例えば、厚さ20μm以下)は、寸法変化が抑制されており、光学積層体の耐久性、特に高温下の耐久性、の向上に寄与しうる。 The thickness of the polarizer is not particularly limited, and may be, for example, 80 μm or less, 50 μm or less, 30 μm or less, 25 μm or less, or even 20 μm or less. The lower limit of the thickness of the polarizer is not particularly limited, and may be, for example, 1 μm or more, 5 μm or more, 10 μm or more, or even 15 μm or more. A thin polarizer (for example, a thickness of 20 μm or less) suppresses dimensional changes and can contribute to improving the durability of the optical laminate, particularly the durability at high temperatures.
保護フィルムの材料としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性等に優れる熱可塑性樹脂が用いられる。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、(メタ)アクリル樹脂、環状ポリオレフィン樹脂(ノルボルネン系樹脂)、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、及び、これらの混合物が挙げられる。保護フィルムの材料は、(メタ)アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化性樹脂又は紫外線硬化型樹脂であってもよい。偏光フィルムが2つの保護フィルムを有する場合、2つの保護フィルムの材料は、互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。例えば、偏光子の一方の主面に対して、接着剤を介して、熱可塑性樹脂で構成された保護フィルムが貼り合わされ、偏光子の他方の主面に対して、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化型樹脂で構成された保護フィルムが貼り合わされていてもよい。保護フィルムは、任意の添加剤を1種類以上含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、着色剤等が挙げられる。 As the material of the protective film, for example, a thermoplastic resin excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture blocking property, isotropy, etc. is used. Specific examples of such thermoplastic resins include cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyester resins, polyethersulfone resins, polysulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, (meth)acrylic resins, cyclic polyolefin resins (norbornene resins), polyarylate resins, polystyrene resins, polyvinyl alcohol resins, and mixtures thereof. The material of the protective film may be a thermosetting resin or an ultraviolet-curing resin such as a (meth)acrylic, urethane, acrylic urethane, epoxy, or silicone. When the polarizing film has two protective films, the materials of the two protective films may be the same or different from each other. For example, a protective film made of a thermoplastic resin may be attached to one main surface of the polarizer via an adhesive, and a protective film made of a thermosetting resin or an ultraviolet-curing resin may be attached to the other main surface of the polarizer. The protective film may contain one or more types of additives. Examples of additives include ultraviolet absorbers, antioxidants, lubricants, plasticizers, release agents, color inhibitors, flame retardants, nucleating agents, antistatic agents, pigments, colorants, etc.
保護フィルムの厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄膜性等の点より10~200μm程度である。 The thickness of the protective film can be determined as appropriate, but is generally about 10 to 200 μm, taking into consideration strength, ease of handling, thinness, etc.
偏光子と保護フィルムとは通常、水系接着剤等を介して密着している。水系接着剤としては、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス、水系ポリウレタン、水系ポリエステル等を例示できる。上記の接着剤以外の他の接着剤としては、紫外線硬化型接着剤、電子線硬化型接着剤等が挙げられる。電子線硬化型偏光板用接着剤は、各種の保護フィルムに対して、好適な接着性を示す。接着剤は、金属化合物フィラーを含んでいてもよい。 The polarizer and the protective film are usually adhered to each other via a water-based adhesive or the like. Examples of water-based adhesives include isocyanate-based adhesives, polyvinyl alcohol-based adhesives, gelatin-based adhesives, vinyl latex, water-based polyurethane, water-based polyester, and the like. Examples of adhesives other than the above-mentioned adhesives include ultraviolet-curable adhesives and electron beam-curable adhesives. Electron beam-curable polarizing plate adhesives exhibit suitable adhesion to various protective films. The adhesive may contain a metal compound filler.
偏光フィルムでは、保護フィルムに代えて、位相差フィルム等を偏光子上に形成することもできる。保護フィルム上には、さらに別の保護フィルムを設けること、位相差フィルム等を設けること等もできる。 In polarizing films, instead of a protective film, a retardation film or the like can be formed on the polarizer. Another protective film can be further provided on the protective film, or a retardation film or the like can be provided.
保護フィルムについて、偏光子と接着している表面と対向する表面には、ハードコート層が設けられていてもよく、反射防止、スティッキング防止、拡散、アンチグレア等を目的とした処理を施すこともできる。 The protective film may have a hard coat layer on the surface opposite to the surface attached to the polarizer, and may also be treated for the purposes of anti-reflection, anti-sticking, diffusion, anti-glare, etc.
偏光フィルムは、円偏光フィルムであってもよい。 The polarizing film may be a circular polarizing film.
位相差フィルムとしては、高分子フィルムを延伸させて得られるものや液晶材料を配向、固定化させたものを用いることができる。位相差フィルムは、例えば、面内及び/又は厚さ方向に複屈折を有する。 The retardation film may be one obtained by stretching a polymer film or one obtained by aligning and fixing a liquid crystal material. The retardation film has birefringence, for example, in the in-plane and/or thickness direction.
位相差フィルムには、反射防止用位相差フィルム(特開2012-133303号公報〔0221〕、〔0222〕、〔0228〕参照)、視野角補償用位相差フィルム(特開2012-133303号公報〔0225〕、〔0226〕参照)、視野角補償用の傾斜配向位相差フィルム(特開2012-133303号公報〔0227〕参照)等が含まれる。 Retardation films include anti-reflection retardation films (see JP 2012-133303 A [0221], [0222], [0228]), viewing angle compensation retardation films (see JP 2012-133303 A [0225], [0226]), and tilted orientation retardation films for viewing angle compensation (see JP 2012-133303 A [0227]).
位相差フィルムの具体的な構成、例えば、位相差値、配置角度、3次元複屈折率、単層か多層か等は特に限定されず、公知の位相差フィルムを使用することができる。 The specific configuration of the retardation film, such as the retardation value, arrangement angle, three-dimensional birefringence, whether it is a single layer or a multilayer, is not particularly limited, and any known retardation film can be used.
位相差フィルムの厚さは、好ましくは20μm以下であり、より好ましくは10μm以下であり、さらに好ましくは1~9μmであり、特に好ましくは3~8μmである。 The thickness of the retardation film is preferably 20 μm or less, more preferably 10 μm or less, even more preferably 1 to 9 μm, and particularly preferably 3 to 8 μm.
位相差フィルムは、例えば、液晶材料が配向、固定化された1/4波長板及び/又は1/2波長板を含んでいてもよい。 The retardation film may include, for example, a quarter-wave plate and/or a half-wave plate in which liquid crystal material is oriented and fixed.
[画像表示装置の製造方法]
上記製法により形成した粘着シート付き光学フィルムを用いて、画像表示装置を形成してもよい。画像表示装置は、例えば、粘着シート付き光学フィルム21,22と画像表示パネルとを接合して形成できる。接合は、粘着シート1により行ってもよい。画像表示装置は、有機ELディスプレイであってもよく、液晶ディスプレイであってもよい。ただし、画像表示装置は上記例に限定されない。画像表示装置は、エレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレイ、プラズマディスプレイ(PD)、電界放出ディスプレイ(FED:Field Emission Display)等であってもよい。画像表示装置は、家電用途、車載用途、パブリックインフォメーションディスプレイ(PID)用途等に用いることができる。
[Manufacturing method of image display device]
An image display device may be formed using the optical film with adhesive sheet formed by the above manufacturing method. The image display device may be formed, for example, by bonding the optical film with
以下、実施例により、本発明をさらに詳細に説明する。本発明は、以下に示す実施例に限定されない。 The present invention will be described in more detail below with reference to examples. The present invention is not limited to the examples shown below.
[モノマーシロップA1]
n-ブチルアクリレート(BA)99重量部、及び4-ヒドロキシブチルアクリレート(HBA)1重量部と、光重合開始剤として1-ヒドロキシシクロヘキシル-フェニルケトン(Omnirad184、IGM Resins B.V.社製)0.05重量部、及び2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン(Omnirad651、IGM Resins B.V.社製)0.05重量部とを4つロフラスコに投入し、窒素雰囲気下で紫外線を照射することによって、部分的に光重合したモノマーシロップA1を得た。紫外線の照射は、フラスコ内の液体の粘度(計測条件:BH粘度計No.5ローター、10rpm、測定温度30℃)が約20Pa・sになるまで実施した。
[Monomer syrup A1]
99 parts by weight of n-butyl acrylate (BA), 1 part by weight of 4-hydroxybutyl acrylate (HBA), 0.05 parts by weight of 1-hydroxycyclohexyl-phenyl ketone (Omnirad 184, manufactured by IGM Resins BV) as a photopolymerization initiator, and 0.05 parts by weight of 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one (Omnirad 651, manufactured by IGM Resins BV) were placed in a four-neck flask and irradiated with ultraviolet light under a nitrogen atmosphere to obtain a partially photopolymerized monomer syrup A1. The ultraviolet light irradiation was continued until the viscosity of the liquid in the flask (measurement conditions: BH viscometer No. 5 rotor, 10 rpm, measurement temperature 30°C) became about 20 Pa·s.
[モノマーシロップA2~A9]
使用するモノマーなどを表1のように変更したことを除き、モノマーシロップA1と同じ方法によって、モノマーシロップA2~A9を調製した。
[Monomer syrups A2 to A9]
Monomer syrups A2 to A9 were prepared in the same manner as for the monomer syrup A1, except that the monomers used were changed as shown in Table 1.
表1中の略称は以下のとおりである。
BA:n-ブチルアクリレート
AA:アクリル酸
HBA:4-ヒドロキシブチルアクリレート
Omnirad184:1-ヒドロキシシクロヘキシル-フェニルケトン(Omnirad184、IGM Resins B.V.社製)
Omnirad651:2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン(Omnirad651、IGM Resins B.V.社製)
Omnirad819:ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド(Omnirad819、IGM Resins B.V.社製)
Omnirad127:2-ヒドロキシ-1-(4-(4-(2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオニル)ベンジル)フェニル)2-メチルプロパン-1-オン(Omnirad127、IGM Resins B.V.社製)
Omnirad2959:2-ヒドロキシ-4’-(2-ヒドロキシエトキシ)-2-メチルプロピオフェノン(Omnirad2959、IGM Resins B.V.社製)
The abbreviations in Table 1 are as follows.
BA: n-butyl acrylate AA: acrylic acid HBA: 4-hydroxybutyl acrylate Omnirad 184: 1-hydroxycyclohexyl-phenyl ketone (Omnirad 184, manufactured by IGM Resins BV)
Omnirad 651: 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one (Omnirad 651, manufactured by IGM Resins BV)
Omnirad 819: bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide (Omnirad 819, manufactured by IGM Resins BV)
Omnirad 127: 2-hydroxy-1-(4-(4-(2-hydroxy-2-methylpropionyl)benzyl)phenyl)2-methylpropan-1-one (Omnirad 127, IGM Resins BV)
Omnirad 2959: 2-hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone (Omnirad 2959, manufactured by IGM Resins BV)
[光硬化性組成物C1~C13]
次に、以下の表2に示す組成となるように、モノマーシロップ、単量体及び架橋剤を混合して、光硬化性組成物C1~C13を得た。
[Photocurable compositions C1 to C13]
Next, the monomer syrup, the monomer and the crosslinking agent were mixed so as to have the composition shown in Table 2 below, thereby obtaining photocurable compositions C1 to C13.
表2中の略称は以下のとおりである。
AA:アクリル酸
NVP:N-ビニル-2-ピロリドン
NDDA:1,9-ノナンジオールジアクリレート
The abbreviations in Table 2 are as follows.
AA: Acrylic acid NVP: N-vinyl-2-pyrrolidone NDDA: 1,9-nonanediol diacrylate
光硬化性組成物C3及びC4に含まれる単量体の最終組成を以下の表3に示す。 The final compositions of the monomers contained in photocurable compositions C3 and C4 are shown in Table 3 below.
表3中の略称は以下のとおりである。
BA:n-ブチルアクリレート
AA:アクリル酸
HBA:4-ヒドロキシブチルアクリレート
NVP:N-ビニル-2-ピロリドン
The abbreviations in Table 3 are as follows.
BA: n-butyl acrylate AA: acrylic acid HBA: 4-hydroxybutyl acrylate NVP: N-vinyl-2-pyrrolidone
(実施例1)
[はく離ライナーL1の作製]
付加反応硬化型シリコーン(ヘキセニル基含有ポリオルガノシロキサンを含むLTC761、30重量%トルエン溶液、東レ・ダウコーニング製)30重量部、剥離コントロール剤(未反応性シリコーン樹脂を含むBY24-850、東レ・ダウコーニング製)0.9重量部、及び硬化触媒(白金触媒を含むSRX212、東レ・ダウコーニング製)2重量部、及び希釈溶媒としてトルエン/ヘキサン混合溶媒(体積比1:1)を混合して、シリコーン系離型剤組成物を得た。離型剤組成物におけるシリコーン固形分の濃度は、1.0重量%であった。次に、ライナー基材(ポリエステルフィルムであるルミラーXD500P、厚さ75μm)の片面に離型剤組成物をワイヤーバーにより塗布し、130℃で1分間加熱して、離型層(厚さ60nm)を片面に備えるはく離ライナーL1を作製した。
Example 1
[Preparation of release liner L1]
Addition reaction curing type silicone (LTC761 containing hexenyl group-containing polyorganosiloxane, 30 wt% toluene solution, manufactured by Toray Dow Corning) 30 parts by weight, release control agent (BY24-850 containing unreactive silicone resin, manufactured by Toray Dow Corning) 0.9 parts by weight, and curing catalyst (SRX212 containing platinum catalyst, manufactured by Toray Dow Corning) 2 parts by weight, and toluene / hexane mixed solvent (volume ratio 1: 1) as a dilution solvent were mixed to obtain a silicone-based release agent composition. The concentration of silicone solids in the release agent composition was 1.0 wt%. Next, the release agent composition was applied to one side of a liner substrate (Lumirror XD500P, a polyester film, thickness 75 μm) with a wire bar, and heated at 130 ° C. for 1 minute to produce a release liner L1 having a release layer (thickness 60 nm) on one side.
[粘着シートの作製]
基材シート(離型層を有さないポリエステルフィルムであるルミラーXD500P、厚さ75μm)の片面に、光硬化性組成物C1をアプリケーターにより塗布し、塗布層(厚さ20μm)を形成した。次に、形成した塗布層の上にはく離ライナーL1を配置して第1の積層体を得た。はく離ライナーL1は、離型層が塗布層に接するように配置した。次に、第1の積層体における基材シートの側から、照度4mW/cm2、照射時間640秒の条件でLEDからの光を照射した。この光のピーク波長は340nmであった。光の照射は、常温(23℃)下で行った。これにより、塗布層が光硬化し、基材シート及びはく離ライナーL1に挟持された実施例1の粘着シート(厚さ20μm)を得た。なお、光の照度は、照度計(トプコンテクノハウス社製、UD-T3040T2)を用いて測定した。
[Preparation of adhesive sheet]
The photocurable composition C1 was applied to one side of a base sheet (Lumirror XD500P, a polyester film without a release layer, thickness 75 μm) with an applicator to form a coating layer (thickness 20 μm). Next, a release liner L1 was placed on the formed coating layer to obtain a first laminate. The release liner L1 was placed so that the release layer was in contact with the coating layer. Next, light from an LED was irradiated from the base sheet side of the first laminate under conditions of an illuminance of 4 mW/cm 2 and an irradiation time of 640 seconds. The peak wavelength of this light was 340 nm. The light irradiation was performed at room temperature (23° C.). As a result, the coating layer was photocured, and the pressure-sensitive adhesive sheet (thickness 20 μm) of Example 1 sandwiched between the base sheet and the release liner L1 was obtained. The illuminance of the light was measured using an illuminometer (UD-T3040T2, manufactured by Topcon Technohouse Co., Ltd.).
(実施例2~13及び比較例1~3)
使用する光硬化性組成物、光源、及び、光の照射条件を表4に示すように変更したことを除き、実施例1と同じ方法によって、基材シート及びはく離ライナーL1に挟持された実施例2~13及び比較例1~3の粘着シートを得た。なお、実施例10~13では、光源として、ピーク波長が330nmのLEDを用いた。比較例1~3では、光源として、ブラックライト光源(B/L)を用いた。
(Examples 2 to 13 and Comparative Examples 1 to 3)
Except for changing the photocurable composition, light source, and light irradiation conditions used as shown in Table 4, pressure-sensitive adhesive sheets of Examples 2 to 13 and Comparative Examples 1 to 3 sandwiched between a base sheet and a release liner L1 were obtained in the same manner as in Example 1. In Examples 10 to 13, an LED with a peak wavelength of 330 nm was used as the light source. In Comparative Examples 1 to 3, a black light source (B/L) was used as the light source.
[光重合開始剤の残存量]
実施例1~13及び比較例1~3で作製した粘着シートについて、その組成を分析し、得られた結果に基づいて、光重合開始剤の残存量(含有率)を算出した。なお、組成の分析は、液体クロマトグラフィー(LC)を用いて、以下の条件で行った。
・使用装置:1290 Infinity II(Agilent Technologies製)
・カラム:Acquity UPLC BEH C18(Waters製、2.1mmφ×100mm、1.7μm)
・溶離液組成:超純水/アセトニトリルのグラジエント条件
・カラム温度:40℃
・カラム流量:0.2mL/min
・注入量:2μL
・検出器:フォトダイオードアレイ検出器(PDA)
・測定波長:190~400nm
・抽出波長:Omnirad184=246nm、Omnirad651=253nm、Omnirad819=296nm、Omnirad127=262nm、Omnirad2959=278nm
・試料調製方法:試料(粘着シート)約0.5gを秤量し、クロロホルム2mLを加えて一晩振とうした。得られた溶液にメタノール8mLを加えた後、上清を0.45μmメンブレンフィルターで濾過した。得られた濾過液をLCに注入して分析した。
[Remaining amount of photopolymerization initiator]
The compositions of the pressure-sensitive adhesive sheets produced in Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 3 were analyzed, and the remaining amount (content) of the photopolymerization initiator was calculated based on the results obtained. The composition analysis was performed using liquid chromatography (LC) under the following conditions.
・Equipment used: 1290 Infinity II (Agilent Technologies)
Column: Acquity UPLC BEH C18 (Waters, 2.1 mmφ×100 mm, 1.7 μm)
Eluent composition: ultrapure water/acetonitrile gradient conditions Column temperature: 40°C
Column flow rate: 0.2 mL/min
Injection volume: 2 μL
Detector: Photodiode array detector (PDA)
Measurement wavelength: 190 to 400 nm
・Extraction wavelength: Omnirad184=246nm, Omnirad651=253nm, Omnirad819=296nm, Omnirad127=262nm, Omnirad2959=278nm
Sample preparation method: Approximately 0.5 g of sample (adhesive sheet) was weighed, 2 mL of chloroform was added, and the mixture was shaken overnight. 8 mL of methanol was added to the resulting solution, and the supernatant was filtered through a 0.45 μm membrane filter. The resulting filtrate was injected into an LC for analysis.
[単量体群の重合率]
実施例1~13及び比較例1~3で作製した粘着シートについて、次の方法によって単量体群の重合率を特定した。まず、粘着シートから基材シート及びはく離ライナーを剥離して、粘着シートの重量W0(乾燥前重量)を測定した。次に、この粘着シートを130℃で2時間加熱乾燥した後、常温(23℃)で約20分冷却してから、粘着シートの重量W1(乾燥後重量)を測定した。重量W0(g)及び重量W1(g)に基づいて、下記式により、単量体群の重合率を算出した。
重合率(%)=W1/W0×100
[Polymerization rate of monomer group]
For the pressure-sensitive adhesive sheets produced in Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 3, the polymerization rate of the monomer group was determined by the following method. First, the base sheet and release liner were peeled off from the pressure-sensitive adhesive sheet, and the weight W 0 of the pressure-sensitive adhesive sheet (weight before drying) was measured. Next, the pressure-sensitive adhesive sheet was dried by heating at 130°C for 2 hours, and then cooled at room temperature (23°C) for about 20 minutes, and the weight W 1 of the pressure-sensitive adhesive sheet (weight after drying) was measured. Based on the weight W 0 (g) and the weight W 1 (g), the polymerization rate of the monomer group was calculated by the following formula.
Polymerization rate (%) = W 1 /W 0 ×100
[ポリマーの数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)]
まず、架橋剤を含まないことを除き、実施例1~13及び比較例1~3で用いた光硬化性組成物と同じ組成を有する試料を準備した。試料に対して、対応する実施例及び比較例の条件で光を照射した。これにより、試料に含まれる単量体群が重合し、ポリマーが形成された。このポリマーについて、数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)を測定した。
[Number average molecular weight (Mn) and weight average molecular weight (Mw) of the polymer]
First, samples were prepared that had the same composition as the photocurable compositions used in Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 3, except that they did not contain a crosslinking agent. The samples were irradiated with light under the conditions of the corresponding Examples and Comparative Examples. As a result, the monomer groups contained in the samples were polymerized to form polymers. The number average molecular weight (Mn) and weight average molecular weight (Mw) of the polymers were measured.
上記のMn及びMwは、GPC(ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー)により測定した。測定装置及び測定条件は、以下のとおりとした。なお、測定装置及び測定条件は、NVP含有組成及びNVP非含有組成で異なるものとした。 The above Mn and Mw were measured by GPC (gel permeation chromatography). The measurement device and measurement conditions were as follows. The measurement device and measurement conditions were different for the NVP-containing composition and the NVP-free composition.
(NVP非含有組成)
・分析装置:東ソー社製、HLC-8120GPC
・カラム:東ソー社製、G7000HXL+GMHXL+GMHXL
・カラムサイズ:各7.8mmφ×30cm 計90cm
・カラム温度:40℃
・流量:0.8mL/min
・注入量:100μL
・溶離液:テトラヒドロフラン
・検出器:示差屈折計(RI)
・標準試料:ポリスチレン
(NVP-free composition)
Analytical equipment: Tosoh Corporation, HLC-8120GPC
Column: Tosoh Corporation, G7000H XL + GMH XL + GMH XL
Column size: 7.8 mm diameter x 30 cm, total 90 cm
Column temperature: 40°C
・Flow rate: 0.8mL/min
Injection volume: 100 μL
Eluent: Tetrahydrofuran Detector: Differential refractometer (RI)
・Standard sample: polystyrene
(NVP含有組成)
・分析装置:アジレント・テクノロジー製、Agilent 1200
・カラム:東ソー社製、TSKgel SuperAWM-H+superAW4000+superAW2500
・カラムサイズ:各6.0mmφ×15cm 計45cm
・カラム温度:40℃
・流量:0.4mL/min
・注入量:40μL
・溶離液:N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)
・検出器:示差屈折計(RI)
・標準試料:ポリスチレン
(NVP-containing composition)
Analytical equipment: Agilent Technologies, Agilent 1200
Column: Tosoh Corporation, TSKgel SuperAWM-H + superAW4000 + superAW2500
Column size: 6.0 mm diameter x 15 cm, total 45 cm
Column temperature: 40°C
・Flow rate: 0.4mL/min
Injection volume: 40 μL
Eluent: N,N-dimethylformamide (DMF)
Detector: differential refractometer (RI)
・Standard sample: polystyrene
表4からわかるとおり、光硬化性組成物(C2)と、塗布層に照射した光の照度(4mW/cm2)が同じである実施例2と比較例2を比較すると、LEDを用いて、ピーク波長325nm~350nmの条件で光を照射して作製した実施例2の粘着シートでは、比較例2と比べて、光重合開始剤の残存量が少なかった。同様に、実施例1及び3~13の粘着シートも、光重合開始剤の残存量が少なかった。さらに、実施例1~13の粘着シートでは、単量体群の重合率が十分に高い値であった。このことから、本実施形態の製造方法は、粘着シートを効率的に作製することに適していると言える。 As can be seen from Table 4, when Example 2 and Comparative Example 2, which use the same photocurable composition (C2) and the same illuminance (4 mW/cm 2 ) of light irradiated to the coating layer, are compared, the adhesive sheet of Example 2, which was prepared by irradiating light using an LED under conditions of a peak wavelength of 325 nm to 350 nm, had a smaller amount of remaining photopolymerization initiator than Comparative Example 2. Similarly, the adhesive sheets of Examples 1 and 3 to 13 also had a smaller amount of remaining photopolymerization initiator. Furthermore, the adhesive sheets of Examples 1 to 13 had sufficiently high polymerization rates of the monomer groups. From this, it can be said that the manufacturing method of this embodiment is suitable for efficiently producing adhesive sheets.
(実施例14~16及び比較例4~6)
使用する光硬化性組成物、光源、及び、光の照射条件を表5に示すように変更したことを除き、実施例1と同じ方法によって、基材シート及びはく離ライナーL1に挟持された実施例14~16及び比較例4~6の粘着シートを得た。なお、比較例4~6では、光源として、ピーク波長365nmの光を照射するLEDを用いた。
(Examples 14 to 16 and Comparative Examples 4 to 6)
Pressure-sensitive adhesive sheets of Examples 14 to 16 and Comparative Examples 4 to 6 sandwiched between a base sheet and a release liner L1 were obtained in the same manner as in Example 1, except that the photocurable composition, light source, and light irradiation conditions used were changed as shown in Table 5. In Comparative Examples 4 to 6, an LED emitting light with a peak wavelength of 365 nm was used as the light source.
[光重合開始剤の残存量、単量体群の重合率]
実施例14~16及び比較例4~6で作製した粘着シートについて、上述の方法によって、光重合開始剤の残存量、及び単量体群の重合率を算出した。
[Residual amount of photopolymerization initiator, polymerization rate of monomer group]
For the pressure-sensitive adhesive sheets produced in Examples 14 to 16 and Comparative Examples 4 to 6, the remaining amount of photopolymerization initiator and the polymerization rate of the monomer group were calculated by the above-mentioned method.
[ポリマーの数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)]
架橋剤を含まないことを除き、実施例14~16及び比較例4~6で用いた光硬化性組成物と同じ組成を有する試料を準備し、上述の方法によって、ポリマーの数平均分子量(Mn)及び重量平均分子量(Mw)を測定した。
[Number average molecular weight (Mn) and weight average molecular weight (Mw) of the polymer]
Samples having the same composition as the photocurable compositions used in Examples 14 to 16 and Comparative Examples 4 to 6, except that they did not contain a crosslinking agent, were prepared, and the number average molecular weight (Mn) and weight average molecular weight (Mw) of the polymer were measured by the above-mentioned method.
表5からわかるとおり、光硬化性組成物(C11)と、塗布層に照射した光の照度(14mW/cm2)が同じである実施例16と比較例6を比較すると、LEDを用いて、ピーク波長325nm~350nmの条件で光を照射して作製した実施例16の粘着シートでは、比較例6と比べて、光重合開始剤の残存量が少なく、単量体群の重合率が高い値であった。同様に、実施例14及び15の粘着シートも、光重合開始剤の残存量が少なく、単量体群の重合率が高い値であった。このことから、本実施形態の製造方法は、粘着シートを効率的に作製することに適していると言える。 As can be seen from Table 5, when Example 16 and Comparative Example 6, which use the same photocurable composition (C11) and the same illuminance (14 mW/cm 2 ) of light irradiated to the coating layer, are compared, the pressure-sensitive adhesive sheet of Example 16, which was prepared by irradiating light using an LED under conditions of a peak wavelength of 325 nm to 350 nm, had a smaller amount of remaining photopolymerization initiator and a higher polymerization rate of the monomer group than Comparative Example 6. Similarly, the pressure-sensitive adhesive sheets of Examples 14 and 15 also had a smaller amount of remaining photopolymerization initiator and a higher polymerization rate of the monomer group. From this, it can be said that the manufacturing method of this embodiment is suitable for efficiently producing pressure-sensitive adhesive sheets.
本発明の製造方法により作製された粘着シートは、例えば、光学積層体や画像表示装置に使用できる。 The adhesive sheet produced by the manufacturing method of the present invention can be used, for example, in optical laminates and image display devices.
1 粘着シート
2 光学フィルム
10 第1の積層体
11 基材シート
12 塗布層
13 はく離ライナー
14 光
18 露出面
21,22 粘着シート付き光学フィルム
34 発光ダイオード
Reference Signs List 1: Adhesive sheet 2: Optical film 10: First laminate 11: Base sheet 12: Coating layer 13: Release liner 14: Light 18: Exposed surfaces 21, 22: Optical film with adhesive sheet 34: Light-emitting diode
Claims (15)
前記塗布層に照射される前記光のピーク波長が325nm~350nmである、粘着シートの製造方法。 The method includes a step of irradiating a coating layer containing a photocurable composition with light from a light emitting diode to form a pressure sensitive adhesive sheet,
The method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet, wherein the light irradiated to the coating layer has a peak wavelength of 325 nm to 350 nm.
前記光重合開始剤の配合量が、前記単量体群及び前記部分重合物の合計100重量部に対して1.0重量部以下である、請求項8に記載の製造方法。 The photocurable composition includes a photopolymerization initiator,
The method according to claim 8 , wherein the amount of the photopolymerization initiator is 1.0 part by weight or less with respect to 100 parts by weight of the total of the monomer group and the partially polymerized product.
A method for producing an image display device, comprising bonding an optical film with a pressure-sensitive adhesive sheet formed by the method according to claim 13 to an image display panel to form an image display device.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2023059581 | 2023-03-31 | ||
JP2023059581 | 2023-03-31 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2024146803A true JP2024146803A (en) | 2024-10-15 |
Family
ID=92905845
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024039508A Pending JP2024146803A (en) | 2023-03-31 | 2024-03-13 | Method for producing pressure-sensitive adhesive sheet, method for producing optical film with pressure-sensitive adhesive sheet, and method for producing image display device |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2024146803A (en) |
WO (1) | WO2024203364A1 (en) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014111715A (en) * | 2012-10-31 | 2014-06-19 | Nitto Denko Corp | Method for producing tacky-adhesive sheet having ultraviolet-curable acrylic tacky adhesive layer |
JP2014201608A (en) * | 2013-04-01 | 2014-10-27 | 日東電工株式会社 | Method for manufacturing a tacky sheet possessing an ultraviolet-curable acrylic tackifier layer |
JP2019179271A (en) * | 2019-07-05 | 2019-10-17 | 日東電工株式会社 | Polarizing film with adhesive layer, and image display device |
JP7149975B2 (en) * | 2020-02-13 | 2022-10-07 | 日東電工株式会社 | Polarizing film with double-sided adhesive layer and image display device |
WO2024019160A1 (en) * | 2022-07-22 | 2024-01-25 | 日東電工株式会社 | Optical laminate and image display device |
-
2024
- 2024-03-13 JP JP2024039508A patent/JP2024146803A/en active Pending
- 2024-03-13 WO PCT/JP2024/009900 patent/WO2024203364A1/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2024203364A1 (en) | 2024-10-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6726789B2 (en) | Optical adhesive sheet | |
JP7326383B2 (en) | POLARIZED FILM WITH ADHESIVE LAYER, AND IMAGE DISPLAY DEVICE | |
WO2024019160A1 (en) | Optical laminate and image display device | |
JP7620749B2 (en) | Method for producing pressure-sensitive adhesive sheet, method for producing optical film with pressure-sensitive adhesive sheet, and method for producing image display device | |
JP2024146803A (en) | Method for producing pressure-sensitive adhesive sheet, method for producing optical film with pressure-sensitive adhesive sheet, and method for producing image display device | |
CN119585381A (en) | Adhesive sheet and optical laminate | |
TW202502992A (en) | Method for manufacturing adhesive sheet, method for manufacturing optical film with adhesive sheet, and method for manufacturing image display device | |
WO2024203367A1 (en) | Photocurable composition for pressure-sensitive adhesive sheet, pressure-sensitive adhesive sheet, optical laminate, and image display device | |
JP2024146807A (en) | POLARIZING FILM WITH ADHESIVE SHEET, OPTICAL LAMINATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE | |
JP2024146808A (en) | POLARIZING FILM WITH ADHESIVE SHEET, OPTICAL LAMINATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE | |
JP7630467B2 (en) | Method for producing pressure-sensitive adhesive sheet and method for producing optical film with pressure-sensitive adhesive sheet | |
JP2025016392A (en) | Pressure-sensitive adhesive sheet, optical laminate, and image display device | |
JP7652744B2 (en) | Adhesive sheet, optical film with adhesive sheet, and method for manufacturing the adhesive sheet and the optical film with adhesive sheet | |
JP7630468B2 (en) | Method for producing pressure-sensitive adhesive sheet and method for producing optical film with pressure-sensitive adhesive sheet | |
KR20250046276A (en) | Optical laminates and image display devices | |
TW202502996A (en) | Photocurable composition for adhesive sheet, adhesive sheet, optical laminate and image display device | |
WO2025041761A1 (en) | Photocurable composition for adhesive sheet, adhesive sheet, optical laminate, and image display device | |
JP7644735B2 (en) | Pressure-sensitive adhesive composition, pressure-sensitive adhesive sheet, optical film with pressure-sensitive adhesive sheet, and method for producing pressure-sensitive adhesive sheet and optical film with pressure-sensitive adhesive sheet | |
WO2024203366A1 (en) | Photocurable composition for adhesive sheet, adhesive sheet, optical laminate, and image display device | |
WO2024019159A1 (en) | Adhesive sheet and optical layered product | |
TW202504989A (en) | Optical film with adhesive sheet, optical laminate and image display device | |
KR20250041140A (en) | Method for manufacturing an adhesive sheet, method for manufacturing a laminate, and method for manufacturing an optical film provided with an adhesive sheet | |
KR20250040999A (en) | Method for manufacturing an adhesive sheet and method for manufacturing an optical film provided with an adhesive sheet | |
KR20250039450A (en) | Adhesive sheets and optical laminates | |
WO2025063285A1 (en) | Optical pressure-sensitive adhesive sheet |