JP2024136471A - Light-adjusting sheet, light-adjusting device, and method for manufacturing light-adjusting sheet - Google Patents
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Abstract
Description
本開示は、電離線硬化樹脂層が区画する空隙に液晶組成物が充填された調光シート、調光シートを備える調光装置、および調光シートの製造方法に関する。 The present disclosure relates to a light-adjusting sheet in which a liquid crystal composition is filled into the gaps defined by an ionizing radiation cured resin layer, a light-adjusting device including the light-adjusting sheet, and a method for manufacturing the light-adjusting sheet.
調光シートは、透明電極フィルム間に調光層を備える。調光層は、複数の空隙を区画する電離線硬化樹脂層と、空隙に充填された液晶組成物とを備える。透明電極フィルム間の電圧変更は、液晶化合物の配向状態を変更する。液晶化合物における配向状態の変更は、電離線硬化樹脂層と液晶組成物との界面の散乱度合いを変更し、これによって調光シートの透明度合いを変更する。 The light-controlling sheet comprises a light-controlling layer between transparent electrode films. The light-controlling layer comprises an ionizing radiation cured resin layer that defines a plurality of voids, and a liquid crystal composition that fills the voids. Changing the voltage between the transparent electrode films changes the alignment state of the liquid crystal compound. Changing the alignment state of the liquid crystal compound changes the degree of scattering at the interface between the ionizing radiation cured resin layer and the liquid crystal composition, thereby changing the degree of transparency of the light-controlling sheet.
調光シートの透明度合いが透明電極フィルム間の電圧変更に応答するまでの時間は、調光シートが設置された環境温度に依存する。調光シートの透明度合いが電圧変更に応答できる環境温度が低いほど、調光シートの適用は低温環境に適している。調光シートの適用温度を低める構成例は、低温環境における液晶組成物の粘度を低下させるように液晶組成物に粘度低下剤を添加する(例えば、特許文献1,2を参照)。
The time it takes for the transparency of the light-adjusting sheet to respond to a change in voltage between the transparent electrode films depends on the environmental temperature in which the light-adjusting sheet is installed. The lower the environmental temperature at which the transparency of the light-adjusting sheet can respond to a change in voltage, the more suitable the light-adjusting sheet is for use in a low-temperature environment. An example of a configuration for lowering the application temperature of the light-adjusting sheet is to add a viscosity-reducing agent to the liquid crystal composition so as to reduce the viscosity of the liquid crystal composition in a low-temperature environment (see, for example,
一方、粘度低下剤の添加は、調光層における電離線硬化樹脂層の含有率、あるいは液晶化合物の含有率を低下させる。含有率の低下による電離線硬化樹脂層と液晶組成物との界面の縮小は、調光シートの散乱度合いを低めるため、粘度低下剤の添加による粘度の低下にも限りがある。このように、上述した調光シートには、低温環境下の応答性を向上可能にする新たな構成が求められている。 On the other hand, the addition of a viscosity reducing agent reduces the content of the ionizing radiation cured resin layer or the content of the liquid crystal compound in the light control layer. The reduction in the content reduces the interface between the ionizing radiation cured resin layer and the liquid crystal composition, which reduces the degree of scattering in the light control sheet, so there is a limit to the viscosity reduction that can be achieved by adding a viscosity reducing agent. Thus, the above-mentioned light control sheet is required to have a new configuration that can improve responsiveness in low-temperature environments.
上記課題を解決するための調光シートは、第1透明電極層と、第2透明電極層と、前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に位置する調光層と、を備え、前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に印加される電圧の変更によって前記調光層のヘイズを変更する調光シートである。前記調光層は、空隙を区画する電離線硬化樹脂層と、前記空隙に充填される液晶組成物と、を備え、前記液晶組成物は、粘度低下剤を含まず、アクリロイル基、およびメタクリロイル基が官能基であり、3個以上の前記官能基を有し、かつ二重結合当量が150g/eq以下であるアクリル化合物が第1アクリル化合物であり、前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第1アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の2質量%以上50質量%以下である。炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルコキシアルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルキル、および炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルコキシアルキルが第2アクリル化合物であり、前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第2アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の35質量%以上85質量%以下である。1個以上3個以下の前記官能基とポリエチレンオキサイド鎖とを有し、かつ二重結合当量が300g/eq以上700g/eq以下であるアクリル化合物が第3アクリル化合物であり、前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第3アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の5質量%以上20質量%以下である。 The light-adjusting sheet for solving the above problem includes a first transparent electrode layer, a second transparent electrode layer, and a light-adjusting layer located between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer, and changes the haze of the light-adjusting layer by changing the voltage applied between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer. The light-adjusting layer includes an ionizing radiation cured resin layer that defines a gap, and a liquid crystal composition that fills the gap. The liquid crystal composition does not include a viscosity reducing agent, and the first acrylic compound is an acrylic compound that has three or more functional groups, an acryloyl group, and a methacryloyl group, and has a double bond equivalent of 150 g/eq or less, and the content of the first acrylic compound that constitutes the ionizing radiation cured resin layer is 2% by mass or more and 50% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer. The second acrylic compound is a monofunctional alkyl acrylate containing a saturated alkyl group having 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkoxyalkyl acrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkyl methacrylate containing a saturated alkyl group having 2 to 12 carbon atoms, and a monofunctional alkoxyalkyl methacrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, and the content of the second acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 35% by mass to 85% by mass of the ionizing radiation cured resin layer. The third acrylic compound is an acrylic compound having 1 to 3 functional groups and a polyethylene oxide chain and a double bond equivalent of 300 g/eq to 700 g/eq, and the content of the third acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 5% by mass to 20% by mass of the ionizing radiation cured resin layer.
上記課題を解決するための調光シートは、第1透明電極層と、第2透明電極層と、前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に位置する調光層と、を備え、前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に印加される電圧の変更によって前記調光層のヘイズを変更する調光シートであって、前記調光層は、空隙を区画する電離線硬化樹脂層と、前記空隙に充填される液晶組成物と、を備え、アクリロイル基、およびメタクリロイル基が官能基であり、3個以上の前記官能基を有し、かつ二重結合当量が150g/eq以下であるアクリル化合物が第1アクリル化合物であり、前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第1アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の2質量%以上50質量%以下である。炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルコキシアルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルキル、および炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルコキシアルキルが第2アクリル化合物であり、前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第2アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の35質量%以上85質量%以下である。1個以上3個以下の前記官能基とポリエチレンオキサイド鎖とを有し、かつ二重結合当量が300g/eq以上700g/eq以下であるアクリル化合物が第3アクリル化合物であり、前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第1アクリル化合物の含有率に対する前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第3アクリル化合物の含有率が0.25以上である。 A light-adjusting sheet for solving the above problem comprises a first transparent electrode layer, a second transparent electrode layer, and a light-adjusting layer located between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer, and changes the haze of the light-adjusting layer by changing the voltage applied between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer. The light-adjusting layer comprises an ionizing radiation cured resin layer that defines a gap, and a liquid crystal composition that fills the gap. The first acrylic compound is an acrylic compound having three or more of the functional groups, an acryloyl group, and a methacryloyl group, and a double bond equivalent of 150 g/eq or less. The content of the first acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 2% by mass or more and 50% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer. The second acrylic compound is a monofunctional alkyl acrylate containing a saturated alkyl group having 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkoxyalkyl acrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkyl methacrylate containing a saturated alkyl group having 2 to 12 carbon atoms, and a monofunctional alkoxyalkyl methacrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, and the content of the second acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 35% by mass to 85% by mass of the ionizing radiation cured resin layer. The third acrylic compound is an acrylic compound having 1 to 3 functional groups and a polyethylene oxide chain and a double bond equivalent of 300 g/eq to 700 g/eq, and the content of the third acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer relative to the content of the first acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 0.25 or more.
上記課題を解決するための調光装置は、上記調光シートと、前記調光シートに電圧を印加する駆動部と、を備える。
上記課題を解決するための調光シートの製造方法は、第1透明電極層と第2透明電極層との間に、電離線硬化性組成物と液晶組成物とを含有する塗工層を形成することと、前記塗工層に電離線を照射することによって、前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に、空隙を区画する電離線硬化樹脂層と、前記空隙に充填される前記液晶組成物とを備える調光層を形成することと、を含み、前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に印加される電圧の変更によって前記調光層のヘイズを変更する調光シートの製造方法であって、アクリロイル基、およびメタクリロイル基が官能基であり、3個以上の前記官能基を有し、かつ二重結合当量が150g/eq以下であるアクリル化合物が第1アクリル化合物であり、前記電離線硬化性組成物を構成する前記第1アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化性組成物の2質量%以上50質量%以下である。炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルコキシアルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルキル、および炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルコキシアルキルが第2アクリル化合物であり、前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第2アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の35質量%以上85質量%以下である。1個以上3個以下の前記官能基とポリエチレンオキサイド鎖とを有し、かつ二重結合当量が300g/eq以上700g/eq以下であるアクリル化合物が第3アクリル化合物であり、前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第3アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の5質量%以上20質量%以下である。
The light control device for solving the above problem includes the above light control sheet and a drive unit that applies a voltage to the light control sheet.
A method for producing a light-controlling sheet for solving the above problems includes forming a coating layer containing an ionizing radiation curable composition and a liquid crystal composition between a first transparent electrode layer and a second transparent electrode layer, and forming a light-controlling layer between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer by irradiating the coating layer with ionizing radiation, the light-controlling layer comprising an ionizing radiation curable resin layer that defines a gap between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer, and the liquid crystal composition that fills the gap. This method for producing a light-controlling sheet changes the haze of the light-controlling layer by changing the voltage applied between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer, wherein the functional groups are an acryloyl group and a methacryloyl group, the first acrylic compound is an acrylic compound that has three or more of the functional groups and has a double bond equivalent of 150 g/eq or less, and the content of the first acrylic compound that constitutes the ionizing radiation curable composition is 2% by mass or more and 50% by mass or less of the ionizing radiation curable composition. The second acrylic compound is a monofunctional alkyl acrylate containing a saturated alkyl group having 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkoxyalkyl acrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkyl methacrylate containing a saturated alkyl group having 2 to 12 carbon atoms, and a monofunctional alkoxyalkyl methacrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, and the content of the second acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 35% by mass to 85% by mass of the ionizing radiation cured resin layer.The third acrylic compound is an acrylic compound having 1 to 3 functional groups and a polyethylene oxide chain and having a double bond equivalent of 300 g/eq to 700 g/eq, and the content of the third acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 5% by mass to 20% by mass of the ionizing radiation cured resin layer.
上記課題を解決するための調光シートの製造方法は、第1透明電極層と第2透明電極層との間に、電離線硬化性組成物と液晶組成物とを含有する塗工層を形成することと、前記塗工層に電離線を照射することによって、前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に、空隙を区画する電離線硬化樹脂層と、前記空隙に充填される前記液晶組成物とを備える調光層を形成することと、を含み、前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に印加される電圧の変更によって前記調光層のヘイズを変更する調光シートの製造方法であって、アクリロイル基、およびメタクリロイル基が官能基であり、3個以上の前記官能基を有し、かつ二重結合当量が150g/eq以下であるアクリル化合物が第1アクリル化合物であり、前記電離線硬化性組成物を構成する前記第1アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化性組成物の2質量%以上50質量%以下である。炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルコキシアルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルキル、および炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルコキシアルキルが第2アクリル化合物であり、前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第2アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の35質量%以上85質量%以下である。1個以上3個以下の前記官能基とポリエチレンオキサイド鎖とを有し、かつ二重結合当量が300g/eq以上700g/eq以下であるアクリル化合物が第3アクリル化合物であり、前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第1アクリル化合物の含有率に対する前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第3アクリル化合物の含有率が0.25以上である。 A method for manufacturing a light-adjusting sheet for solving the above problems includes forming a coating layer containing an ionizing radiation curable composition and a liquid crystal composition between a first transparent electrode layer and a second transparent electrode layer, and forming a light-adjusting layer between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer by irradiating the coating layer with ionizing radiation, the light-adjusting layer comprising an ionizing radiation curable resin layer that defines a gap and the liquid crystal composition that fills the gap. The method for manufacturing a light-adjusting sheet changes the haze of the light-adjusting layer by changing the voltage applied between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer, in which an acryloyl group and a methacryloyl group are functional groups, an acrylic compound having three or more of the functional groups and a double bond equivalent of 150 g/eq or less is the first acrylic compound, and the content of the first acrylic compound constituting the ionizing radiation curable composition is 2% by mass or more and 50% by mass or less of the ionizing radiation curable composition. The second acrylic compound is a monofunctional alkyl acrylate containing a saturated alkyl group having 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkoxyalkyl acrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkyl methacrylate containing a saturated alkyl group having 2 to 12 carbon atoms, and a monofunctional alkoxyalkyl methacrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, and the content of the second acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 35% by mass to 85% by mass of the ionizing radiation cured resin layer. The third acrylic compound is an acrylic compound having 1 to 3 functional groups and a polyethylene oxide chain and a double bond equivalent of 300 g/eq to 700 g/eq, and the content of the third acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer relative to the content of the first acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 0.25 or more.
電離線硬化性組成物の硬化物と液晶組成物との相分離は、未反応の電離線硬化性化合物、電離線硬化性化合物の硬化反応による水などの副生成物、および電離線硬化性組成物の溶媒などの低分子化合物を液晶組成物のなかに残存させる。電離線硬化性化合物、水などの副生成物、および溶媒などの低分子化合物が温度の低下によって粘度を高める度合いは、液晶化合物が温度の低下によって粘度を高める度合いよりも寒冷地などの低温環境において大きい。 Phase separation between the cured product of the ionizing radiation curable composition and the liquid crystal composition causes unreacted ionizing radiation curable compound, by-products such as water resulting from the curing reaction of the ionizing radiation curable compound, and low molecular weight compounds such as the solvent of the ionizing radiation curable composition to remain in the liquid crystal composition. The degree to which the viscosity of the ionizing radiation curable compound, by-products such as water, and low molecular weight compounds such as the solvent increases with decreasing temperature is greater in low temperature environments such as cold regions than the degree to which the viscosity of the liquid crystal compound increases with decreasing temperature.
上記各構成によれば、3個以上の前記官能基を有し、かつ二重結合当量が150g/eq以下である第1アクリル化合物が電離線硬化樹脂層の2質量%以上である。このため、電離線硬化性組成物の硬化物と液晶組成物との相分離の過程において電離線硬化性組成物の硬化物が緻密になる。結果として、液晶組成物のなかに低分子化合物が残ることが抑えられる。そして、液晶組成物における低分子化合物の残存の抑制が、低温環境における液晶組成物の増粘を抑える。 According to each of the above configurations, the first acrylic compound having three or more of the functional groups and a double bond equivalent of 150 g/eq or less constitutes 2% by mass or more of the ionizing radiation curable resin layer. Therefore, the cured product of the ionizing radiation curable composition becomes dense during the process of phase separation between the cured product of the ionizing radiation curable composition and the liquid crystal composition. As a result, low molecular weight compounds are prevented from remaining in the liquid crystal composition. Furthermore, the prevention of low molecular weight compounds remaining in the liquid crystal composition prevents the liquid crystal composition from thickening in a low temperature environment.
また、第2アクリル化合物の含有率が電離線硬化樹脂層の35質量%以上85質量%以下である。1個以上3個以下の前記官能基とポリエチレンオキサイド鎖とを有し、かつ二重結合当量が300g/eq以上700g/eq以下である第3アクリル化合物の含有率が電離線硬化樹脂層の5質量%以上20質量%以下である。このため、低分子化合物が液晶化合物に残存することを電離線硬化樹脂層が抑制されながらも、調光シートのシート内における剥離強度の低下も抑制される。 The content of the second acrylic compound is 35% by mass or more and 85% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer. The content of the third acrylic compound, which has 1 to 3 functional groups and a polyethylene oxide chain and has a double bond equivalent of 300 g/eq or more and 700 g/eq or less, is 5% by mass or more and 20% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer. Therefore, while the ionizing radiation cured resin layer suppresses low molecular weight compounds from remaining in the liquid crystal compound, a decrease in peel strength within the light control sheet is also suppressed.
上記調光シートにおいて、前記第1アクリル化合物における前記官能基の数量が3個以上5個以下であり、前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第1アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の30質量%以下であり、前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第2アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の55質量%以上でもよい。 In the above light-adjusting sheet, the number of functional groups in the first acrylic compound may be 3 or more and 5 or less, the content of the first acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer may be 30% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer, and the content of the second acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer may be 55% by mass or more of the ionizing radiation cured resin layer.
上記調光シートにおいて、前記電離線硬化樹脂層を構成するポリエチレンオキサイド鎖の含有率が前記電離線硬化樹脂層の2質量%以上20質量%以下でもよい。
上記調光シートにおいて、前記第1アクリル化合物は、ペンタエリスリトール化合物であり、前記第2アクリル化合物は、イソボルニルアクリレートであり、前記第3アクリル化合物は、アルコキシポリエチレングリコール化合物でもよい。
In the light controlling sheet, the content of polyethylene oxide chains constituting the ionizing radiation cured resin layer may be 2% by mass or more and 20% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer.
In the above light controlling sheet, the first acrylic compound may be a pentaerythritol compound, the second acrylic compound may be isobornyl acrylate, and the third acrylic compound may be an alkoxypolyethylene glycol compound.
上記調光シートにおいて、前記第1アクリル化合物は、トリメチロールプロパン化合物であり、前記第2アクリル化合物は、イソボルニルアクリレートであり、前記第3アクリル化合物は、ポリエチレンオキシサイド変性トリメチロールプロパン化合物でもよい。 In the above light-adjusting sheet, the first acrylic compound may be a trimethylolpropane compound, the second acrylic compound may be isobornyl acrylate, and the third acrylic compound may be a polyethyleneoxyside-modified trimethylolpropane compound.
上記調光シートにおいて、前記液晶組成物は、粘度低下剤を含まなくてもよい。
上記調光シートにおいて、前記第1透明電極層と前記調光層とに挟まれた第1配向層と、前記第2透明電極層と前記調光層とに挟まれた第2配向層と、をさらに備えてもよい。
In the above light controlling sheet, the liquid crystal composition may not contain a viscosity reducing agent.
The light-adjusting sheet may further include a first alignment layer sandwiched between the first transparent electrode layer and the light-adjusting layer, and a second alignment layer sandwiched between the second transparent electrode layer and the light-adjusting layer.
上記調光シートにおいて、前記第1配向層、および前記第2配向層は、それぞれポリイミド前駆体、およびポリイミドからなる群から選択される少なくとも1種の重合体を含めてもよい。 In the above light-adjusting sheet, the first alignment layer and the second alignment layer may each contain at least one polymer selected from the group consisting of a polyimide precursor and a polyimide.
上記調光シートにおいて、前記電離線硬化樹脂層の重量と前記液晶組成物の重量との総量に対する前記液晶組成物の重量が20質量%以上70質量%以下でもよい。 In the above light-adjusting sheet, the weight of the liquid crystal composition relative to the total weight of the ionizing radiation cured resin layer and the liquid crystal composition may be 20% by mass or more and 70% by mass or less.
本開示の調光シート、調光装置、および調光シートの製造方法は、低温環境下の応答性を向上できる。 The light control sheet, light control device, and light control sheet manufacturing method disclosed herein can improve responsiveness in low temperature environments.
[調光装置10]
図1が示すように、調光装置10は、調光シート11と駆動部12とを備える。
調光装置10は、空間を区切る仕切装置に用いられてもよい。調光シート11そのものが空間を区切る仕切部材でもよいし、透明部材に調光シート11を実装した調光貼着体が空間を区切る仕切部材でもよい。仕切部材は、窓ガラスでもよいし、間仕切りでもよい。窓ガラスは、車両や航空機の移動体に搭載されてもよいし、オフィスビルや公共施設などの建物に設置されてもよい。間仕切りは、車内空間に配置されてもよいし、屋内空間に配置されてもよい。
[Light control device 10]
As shown in FIG. 1 , the
The
調光装置10は、画像を表示するスクリーンに用いられてもよい。調光シート11そのものがスクリーンでもよいし、透明部材に調光シート11を実装した調光貼着体がスクリーンでもよい。スクリーンは、画像に反射光を利用するフロントスクリーンでもよいし、画像に透過光を利用するリアスクリーンでもよい。
The
調光貼着体は、1つの透明部材に1つの調光シート11を実装してもよいし、1つの透明部材に複数の調光シート11を実装してもよい。調光貼着体は、2つの透明基材に調光シート11を挟持してもよい。調光シート11は、可撓性を有する。調光貼着体は、可撓性を有してもよいし、可撓性を有しなくてもよい。調光貼着体は、平面状を有してもよいし、曲面状を有してもよい。
The light-adjusting adhesive may have one light-adjusting
調光シート11の駆動型式は、リバース型でもよい。駆動部12は、リバース型の調光シート11に電圧信号を供給する。リバース型の調光シート11は、電圧信号の入力に従って透明から不透明に変わる。リバース型の調光シート11は、電圧信号を入力する期間に不透明を保つ。リバース型の調光シート11は、電圧信号の供給停止に従って不透明から透明に戻る。
The driving type of the light-adjusting
調光シート11の駆動型式は、ノーマル型でもよい。駆動部12は、ノーマル型の調光シート11に電圧信号を供給する。ノーマル型の調光シート11は、電圧信号の入力に従って不透明から透明に変わる。ノーマル型の調光シート11は、電圧信号を入力する期間に透明を保つ。ノーマル型の調光シート11は、電圧信号の供給停止に従って透明から不透明に戻る。
The driving type of the light-adjusting
調光シート11は、調光シート11による透過光の散乱によって不透明を実現する。不透明な調光シート11は、透明な調光シート11よりも低い平行線透過率を有する。不透明な調光シート11は、透明な調光シート11よりも高いヘイズを有する。不透明な調光シート11の色は、無彩色でもよいし、有彩色でもよい。透明な調光シート11の色は、無彩色でもよいし、有彩色でもよい。
The light-adjusting
[調光シート11]
以下、リバース型の調光シート11に係る構成と作用とを主に説明する。ノーマル型の調光シート11のなかでリバース型の調光シート11と相違する構成を記載すると共に、ノーマル型の調光シート11のなかでリバース型の調光シート11と重複する構成を割愛する。
[Light-adjusting sheet 11]
The following mainly describes the configuration and function of the reverse-type
調光シート11は、調光層31、第1配向層32、第2配向層33、第1透明電極層34、第2透明電極層35、第1透明支持層36、および、第2透明支持層37を備える。
調光層31は、第1配向層32と第2配向層33との間に位置する。調光層31の第1面31Fは、第1配向層32に接する。調光層31の第2面31Sは、第2配向層33に接する。第1配向層32は、調光層31と第1透明電極層34との間に位置し、かつ調光層31と第1透明電極層34とに接する。第2配向層33は、調光層31と第2透明電極層35との間に位置し、かつ調光層31と第2透明電極層35とに接する。
The light-controlling
The
第1透明電極層34は、第1接続端子22Aと第1配線23Aとを通じて、駆動部12に接続される。第1透明電極層34は、第1配向層32と第1透明支持層36との間に位置し、かつ第1配向層32と第1透明支持層36とに接する。
The first
第2透明電極層35は、第2接続端子22Bと第2配線23Bとを通じて、駆動部12に接続される。第2透明電極層35は、第2配向層33と第2透明支持層37との間に位置し、かつ第2配向層33と第2透明支持層37とに接する。
The second
第1透明電極層34と第2透明電極層35とは、それぞれ無色透明、あるいは有色透明に視認される。第1透明電極層34と第2透明電極層35とを構成する材料は、それぞれ導電性無機酸化物、金属、あるいは導電性有機高分子化合物である。導電性無機酸化物の一例は、酸化インジウムスズ、フッ素ドープ酸化スズ、酸化スズ、酸化亜鉛からなる群から選択されるいずれか一種である。金属は、金や銀のナノワイヤーである。導電性有機高分子化合物の一例は、カーボンナノチューブ、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)からなる群から選択されるいずれか1種である。第1透明電極層34と第2透明電極層35との厚さの一例は、それぞれ5nm以上200nm以下である。
The first
第1透明支持層36と第2透明支持層37とは、それぞれ無色透明、あるいは有色透明に視認される。第1透明支持層36と第2透明支持層37とを構成する材料は、それぞれ有機高分子化合物、あるいは無機高分子化合物である。有機高分子化合物の一例は、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリオレフィンからなる群から選択されるいずれか一種である。無機高分子化合物の一例は、酸化珪素、酸化窒化珪素、窒化珪素からなる群から選択されるいずれか一種である。第1透明支持層36と第2透明支持層37との厚さの一例は、それぞれ20μm以上400μm以下である。
The first
駆動部12は、第1透明電極層34と第2透明電極層35とに別々に接続される。駆動部12は、電圧信号の供給によって、第1透明電極層34と第2透明電極層35との間に電圧を印加する。駆動部12は、電圧信号の供給停止によって、第1透明電極層34と第2透明電極層35との間の電圧を変更する。電圧信号の供給と供給停止とは、液晶化合物LCMの配向状態を変える。駆動部12は、液晶化合物LCMの配向状態を変えることによって、透明から不透明に調光シート11を可逆的に切り替える。
The driving
駆動部12が電圧信号の供給を停止しているとき、液晶化合物LCMの配向状態は、第1配向層32と第2配向層33とによる配向規制力に従う。配向規制力に従う液晶化合物LCMの配向状態は、調光層31に可視光を透過させる。これにより、調光シート11は透明になる。駆動部12が電圧信号を供給しているとき、液晶化合物LCMが配向規制力に抗した電界の作用力を受ける。電界の作用力に従う液晶化合物LCMの配向状態は、調光層31に可視光を散乱させる。これにより、調光シート11は不透明になる。
When the driving
調光シート11は、第1透明電極層34と第1透明支持層36との間に他の機能層を備えてもよい。調光シート11は、第2透明電極層35と第2透明支持層37との間に他の機能層を備えてもよい。他の機能層は、調光層31に向けた酸素や水分の透過を抑えるガスバリア層でもよいし、調光層31に向けた特定波長以外の紫外光線の透過を抑える紫外線バリア層でもよい。他の機能層は、調光シート11を機械的に保護するハードコート層でもよいし、調光シート11における層間の密着性を高める接着層でもよい。
The light-adjusting
[調光層31]
図2が示すように、調光層31は、液晶組成物31LC、スペーサーSP、および電離線硬化樹脂層31Pを備える。
[Light control layer 31]
As shown in FIG. 2, the
液晶組成物31LCは、液晶化合物LCMを含む。液晶組成物31LCは、二色性色素DP、消泡剤、酸化防止剤、耐候剤、および溶剤などの添加剤を含有してもよい。耐候剤の一例は、紫外線吸収剤や光安定剤である。液晶組成物31LCは、液晶化合物LCMの粘度よりも液晶組成物31LCの粘度を低下させる粘度低下剤を含有しない。粘度低下剤は、アジピン酸ジブチル、アジピン酸ビス(2-エチルヘキシル)、アジピン酸ジイソノニル、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ビス(2-ブトキシエチル)などのアジピン酸エステルである。粘度低下剤は、アジピン酸エステル、マロン酸ジエチル、フタル酸ジ-n-ブチル、フタル酸ビス(2-エチルヘキシル)、トリメリット酸トリス(2-エチルヘキシル)、o-アセチルクエン酸トリブチル、安息香酸メチルからなる群から選択される少なくとも一種である。粘度低下剤は、リン酸トリプロピル、リン酸トリブチル、リン酸トリペンチルからなる群から選択される少なくとも一種である。なお、低温環境下の応答性のさらなる向上を要求される場合、液晶組成物31LCは、粘度低下剤を含有してもよい。 The liquid crystal composition 31LC includes a liquid crystal compound LCM. The liquid crystal composition 31LC may contain additives such as a dichroic dye DP, a defoamer, an antioxidant, a weathering agent, and a solvent. Examples of weathering agents are ultraviolet absorbers and light stabilizers. The liquid crystal composition 31LC does not contain a viscosity reducing agent that reduces the viscosity of the liquid crystal composition 31LC below that of the liquid crystal compound LCM. The viscosity reducing agent is an adipate ester such as dibutyl adipate, bis(2-ethylhexyl) adipate, diisononyl adipate, diisodecyl adipate, and bis(2-butoxyethyl) adipate. The viscosity reducing agent is at least one selected from the group consisting of an adipate ester, diethyl malonate, di-n-butyl phthalate, bis(2-ethylhexyl) phthalate, tris(2-ethylhexyl) trimellitate, tributyl o-acetylcitrate, and methyl benzoate. The viscosity reducing agent is at least one selected from the group consisting of tripropyl phosphate, tributyl phosphate, and tripentyl phosphate. If further improvement in responsiveness in a low-temperature environment is required, the liquid crystal composition 31LC may contain a viscosity reducing agent.
液晶化合物LCMの長軸方向の誘電率は、液晶化合物LCMの短軸方向の誘電率よりも大きい、正の誘電異方性を有してもよい。液晶化合物LCMの長軸方向の誘電率は、液晶化合物LCMの短軸方向の誘電率よりも低い、負の誘電異方性を有してもよい。液晶化合物LCMの誘電異方性は、調光シート11の駆動型式に基づいて適宜選択される。
The dielectric constant of the liquid crystal compound LCM in the long axis direction may be greater than the dielectric constant of the liquid crystal compound LCM in the short axis direction, and may have a positive dielectric anisotropy. The dielectric constant of the liquid crystal compound LCM in the long axis direction may be less than the dielectric constant of the liquid crystal compound LCM in the short axis direction, and may have a negative dielectric anisotropy. The dielectric anisotropy of the liquid crystal compound LCM is appropriately selected based on the driving type of the
液晶化合物LCMは、シッフ塩基系、アゾ系、アゾキシ系、ビフェニル系、ターフェニル系、安息香酸エステル系、トラン系、ピリミジン系、ピリダジン系、シクロヘキサンカルボン酸エステル系、フェニルシクロヘキサン系、ビフェニルシクロヘキサン系、ジシアノベンゼン系、ナフタレン系、ジオキサン系からなる群から選択される少なくとも一種である。液晶化合物LCMは、1種の液晶化合物LCM、あるいは2種以上の液晶化合物LCMの組み合わせである。 The liquid crystal compound LCM is at least one selected from the group consisting of Schiff base type, azo type, azoxy type, biphenyl type, terphenyl type, benzoic acid ester type, tolan type, pyrimidine type, pyridazine type, cyclohexane carboxylate type, phenylcyclohexane type, biphenylcyclohexane type, dicyanobenzene type, naphthalene type, and dioxane type. The liquid crystal compound LCM is one type of liquid crystal compound LCM or a combination of two or more types of liquid crystal compounds LCM.
液晶化合物LCMの構造例は、下記式1によって表される。
R11-A11-Z11-A12-Z12-A13-Z13-A14-R12…式1
式1が示すR11は、水素原子、炭素原子数1以上20以下のアルキル基である。R11のアルキル基に含まれる1つ、または隣接しない2つ以上のメチレン結合は、酸素原子、エチレン結合、エステル結合、ジエーテル結合からなる群から選択されるいずれかに置換可能である。式1が示すR12は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、または、炭素原子数1以上15以下のアルキル基である。式1が示すR12のアルキル基に含まれる1つ、または隣接しない2つ以上のメチレン結合は、酸素原子、エチレン結合、エステル結合、ジエーテル結合からなる群から選択されるいずれかに置換可能である。
An example of the structure of the liquid crystal compound LCM is represented by the following
R 11 -A 11 -Z 11 -A 12 -Z 12 -A 13 -Z 13 -A 14 -R 12 ...
R 11 in
式1が示すA11,A12,A13,A14は、それぞれ独立して、1,4-フェニレン基、2,6-ナフチレン基を表す。1,4-フェニレン基、2,6-ナフチレン基の1つ、または2つ以上の水素原子は、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基に置換可能である。式1が示すA11,A12,A13,A14は、それぞれ独立して、1,4-シクロヘキシレン基、3,6-シクロヘキセニレン基、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル基、ピリジン-2,5-ジイル基でもよい。式1が示すA13,A14は、それぞれ独立して、単結合でもよい。式1が示すZ11,Z12,Z13は、それぞれ独立して、単結合、エステル結合、ジエーテル結合、エチレン結合、フルオロエチレン結合、カルボニル結合からなる群から選択されるいずれか一種を表す。
A 11 , A 12 , A 13 , and A 14 in
二色性色素DPは、液晶化合物LCMをホストとしたゲストホスト型式によって駆動されて有色を呈する。二色性色素DPは、ポリヨウ素、アゾ化合物、アントラキノン化合物、ナフトキノン化合物、アゾメチン化合物、テトラジン化合物、キノフタロン化合物、メロシアニン化合物、ペリレン化合物、ジオキサジン化合物からなる群から選択される少なくとも一種である。二色性色素DPは、1種の化合物、あるいは2種以上の化合物の組み合わせである。耐光性を高めること、および二色比を高めることが求められる場合、二色性色素DPは、アゾ化合物、およびアントラキノン化合物からなる群から選択される少なくとも一種であり、よりが好ましくはアゾ化合物である。 The dichroic dye DP is driven by a guest-host system with the liquid crystal compound LCM as a host, and exhibits color. The dichroic dye DP is at least one selected from the group consisting of polyiodine, azo compounds, anthraquinone compounds, naphthoquinone compounds, azomethine compounds, tetrazine compounds, quinophthalone compounds, merocyanine compounds, perylene compounds, and dioxazine compounds. The dichroic dye DP is one type of compound or a combination of two or more types of compounds. When it is required to increase the light resistance and the dichroic ratio, the dichroic dye DP is at least one selected from the group consisting of azo compounds and anthraquinone compounds, and more preferably an azo compound.
スペーサーSPは、電離線硬化樹脂層31Pの全体にわたり分散している。スペーサーSPは、スペーサーSPの粒径に調光層31の厚さを定める。調光層31の厚さの一例は、5μm以上100μm以下である。スペーサーSPは、調光層31の厚さを均一にする。スペーサーSPは、ビーズスペーサーでもよいし、フォトレジストの露光および現像によって形成されるフォトスペーサーでもよい。スペーサーSPは、無色透明でもよいし、有色透明でもよい。液晶組成物31LCが二色性色素DPを含む場合、スペーサーSPの色は、二色性色素DPの呈する色と同色であることが好ましい。
The spacers SP are dispersed throughout the ionization radiation cured
[電離線硬化樹脂層31P]
電離線硬化樹脂層31Pは、電離線硬化性組成物の硬化物である。電離線は、紫外線でもよいし、電子線でもよい。電離線硬化性組成物は、紫外線硬化性組成物でもよいし、電子線硬化性組成物でもよい。電離線硬化樹脂層31Pと液晶組成物31LCとの総量に対する電離線硬化樹脂層31Pの含有率の下限値は20質量%であり、より好ましい含有率の下限値は30質量%である。電離線硬化樹脂層31Pの含有率が20質量%以上であれば、透明時に高い透過率が得られやすい。電離線硬化樹脂層31Pと液晶組成物31LCとの総量に対する電離線硬化樹脂層31Pの含有率の上限値は70質量%であり、より好ましい含有率の上限値は60質量%である。電離線硬化樹脂層31Pの含有率が70質量%以下であれば、不透明時に高いヘイズが得られやすい。
[Ionizing radiation curing
The ionizing radiation
電離線硬化樹脂層31Pの含有率の下限値、および上限値は、電離線硬化性組成物の重合過程において、液晶組成物31LCからなる液晶粒子が電離線硬化性組成物の重合体から相分離する範囲である。電離線硬化樹脂層31Pの機械的な強度を高めることを要する場合、電離線硬化樹脂層31Pの含有率の下限値が高いことが好ましい。液晶化合物LCMの駆動電圧を低めることを要する場合、電離線硬化樹脂層31Pの含有率の上限値が低いことが好ましい。電離線硬化樹脂層31Pと液晶組成物31LCとの総量に対する電離線硬化樹脂層31Pの含有率の下限値は、20質量%以上70質量%以下でもよいし、30質量%以上70質量%以下でもよい。電離線硬化樹脂層31Pと液晶組成物31LCとの総量に対する電離線硬化樹脂層31Pの含有率の下限値は、20質量%以上60質量%以下でもよいし、30質量%以上60質量%以下でもよい。
The lower limit and upper limit of the content of the ionizing radiation cured
電離線硬化樹脂層31Pは、調光層31のなかに空隙31Dを区画する。液晶組成物31LCは、空隙31Dに充填されている。空隙31Dは、当該空隙31Dに隣接する他の空隙31Dと隔絶されてもよいし、隣接する他の空隙31Dと接続されてもよい。空隙31Dの大きさは、2種以上である。空隙31Dの形状は、球形状、楕円体状、あるいは不定形状である。空隙31Dに外接する真球の直径は、0.4μm以上でもよいし、1μm以上でもよい。空隙31Dに外接する真球の直径は、20μm以下でもよいし、10μm以下でもよい。空隙31Dに外接する真球の直径は、例えば1μm以上10μm以下である。
The ionizing radiation cured
空隙31Dは、電離線硬化樹脂層31Pのなかに偏在してもよいし、電離線硬化樹脂層31Pのなかに均一に分散してもよい。空隙31Dは、電離線硬化樹脂層31Pの厚さ方向における中央よりも第1配向層32に近い範囲31H1において、第1配向層32に近い部位ほど多くなるように偏在してもよい。空隙31Dは、電離線硬化樹脂層31Pの厚さ方向における中央よりも第2配向層33に近い範囲31H2において、第2配向層33に近い部位ほど多くなるように偏在してもよい。電離線硬化樹脂層31Pは、電離線硬化樹脂層31Pの厚さ方向における中央に空隙31Dの存在しない部分を備え、かつ当該部分と第1配向層32との間に空隙31Dを備えてもよい。電離線硬化樹脂層31Pは、電離線硬化樹脂層31Pの厚さ方向における中央に空隙31Dの存在しない部分を備え、かつ当該部分と第2配向層33との間に空隙31Dを備えてもよい。
The
空隙31Dは、電離線硬化性組成物の硬化物と液晶組成物31LCとの相分離によって形成される。電離線硬化樹脂層31Pのなかで厚さ方向における中央よりも第1配向層32に近い範囲31H1は、電離線の照射されはじめる部位であって、空隙31Dが形成されはじめる部位である。電離線硬化樹脂層31Pのなかで厚さ方向における中央よりも第2配向層33に近い範囲31H2もまた、電離線の照射されはじめる部位であって、空隙31Dが形成されはじめる部位である。
The
電離線硬化樹脂層31Pのなかで厚さ方向における中央よりも第1配向層32に近い範囲31H1は、第1配向層32から低分子不純物が拡散しはじめる部位でもある。電離線硬化樹脂層31Pのなかで厚さ方向における中央よりも第2配向層33に近い範囲31H2は、第2配向層33から低分子不純物が拡散しはじめる部位でもある。このため、空隙31Dが第1配向層32に近い範囲31H1に偏在する構成、すなわち液晶組成物31LCが第1配向層32に近い範囲31H1に偏在する構成は、低分子不純物の拡散を強く要求される。また、空隙31Dが第2配向層33に近い範囲31H2に偏在する構成、すなわち液晶組成物31LCが第2配向層33に近い範囲31H2に偏在する構成も、低分子不純物の拡散を強く要求される。
The range 31H1 of the ionization radiation cured
電離線硬化性組成物の硬化物と液晶組成物31LCとの相分離は、未反応の電離線硬化性化合物、電離線硬化性化合物の硬化反応による水などの副生成物、および電離線硬化性組成物の溶媒などの低分子化合物を液晶組成物31LCのなかに残存させる。電離線硬化性化合物、水などの副生成物、および溶媒などの低分子化合物が温度の低下によって粘度を高める度合いは、液晶化合物LCMが温度の低下によって粘度を高める度合いよりも寒冷地などの低温環境において大きい。電離線硬化性組成物の硬化物と液晶組成物31LCとの相分離の過程において電離線硬化性組成物の硬化物を緻密にすることは、液晶組成物31LCのなかに低分子化合物が残ることを抑える。液晶組成物31LCにおける低分子化合物の残存の抑制は、低温環境における液晶組成物31LCの増粘を抑える。 Phase separation between the cured product of the ionizing radiation curable composition and the liquid crystal composition 31LC causes unreacted ionizing radiation curable compounds, by-products such as water resulting from the curing reaction of the ionizing radiation curable compounds, and low molecular weight compounds such as the solvent of the ionizing radiation curable composition to remain in the liquid crystal composition 31LC. The degree to which the viscosity of the ionizing radiation curable compounds, by-products such as water, and low molecular weight compounds such as the solvent increases with decreasing temperature is greater in low temperature environments such as cold regions than the degree to which the liquid crystal compound LCM increases with decreasing temperature. Making the cured product of the ionizing radiation curable composition dense during the process of phase separation between the cured product of the ionizing radiation curable composition and the liquid crystal composition 31LC suppresses low molecular weight compounds from remaining in the liquid crystal composition 31LC. Suppressing the remaining low molecular weight compounds in the liquid crystal composition 31LC suppresses the increase in viscosity of the liquid crystal composition 31LC in low temperature environments.
電離線硬化樹脂層31Pによる液晶組成物31LCの保持型式は、高分子分散型、ポリマーネットワーク型、カプセル型からなる群から選択されるいずれか一種である。高分子分散型の調光層31は、孤立した多数の空隙31Dを区画する電離線硬化樹脂層31Pを備える。高分子分散型の調光層31は、電離線硬化樹脂層31Pに分散した空隙31Dのなかに液晶組成物31LCを保持する。ポリマーネットワーク型の調光層31は、3次元の網目状を有した空隙31Dを電離線硬化樹脂層31Pを備える。ポリマーネットワーク型の調光層31は、相互に連通した網目状の空隙31Dのなかに液晶組成物31LCを保持する。カプセル型の調光層31は、電離線硬化樹脂層31Pのなかに分散したカプセル状の空隙31Dのなかに液晶組成物31LCを保持する。
The type of retention of the liquid crystal composition 31LC by the ionizing radiation cured
電離線硬化樹脂層31Pは、電離線硬化性組成物と液晶組成物31LCとを含有する調光塗工液の塗工と、塗工層に対する電離線の照射とによって形成される。調光塗工液は、電離線硬化性組成物の重合を開始するための重合開始剤を含む。電離線硬化樹脂層31Pは、重合を開始させた重合開始剤を含む。重合開始剤は、ジケトン化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、チオキサンソン化合物からなる群から選択される少なくとも一種である。重合開始剤は、1種の化合物でもよいし、2種以上の化合物の組み合わせでもよい。重合開始剤の一例は、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、シクロヘキシルフェニルケトンからなる群から選択されるいずれか一種である。
The ionizing radiation
[第1アクリル化合物]
電離線硬化性組成物は、第1アクリル化合物を含有する。第1アクリル化合物は、3個以上の官能基を有し、かつ二重結合当量が150g/eq以下である。官能基は、アクリロイル基、およびメタクリロイル基である。二重結合当量は、第1アクリル化合物の分子量を官能基数によって除算した値である。官能基数は、第1アクリル化合物に含まれるアクリロイル基の数量、およびメタクリロイル基の数量の合計である。第1アクリル化合物は、モノマーとして電子線硬化性化合物に含有されてもよい。第1アクリル化合物は、ウレタンプレポリマーなどのウレタンアクリレートの構成要素として電子線硬化性化合物に含有されてもよい。第1アクリル化合物がウレタンアクリレートの構成要素である場合、ウレタンアクリレートにおける第1アクリル化合物の骨格構造に基づいて二重結合当量が定められる。
[First Acrylic Compound]
The ionizing radiation curable composition contains a first acrylic compound. The first acrylic compound has three or more functional groups and a double bond equivalent of 150 g/eq or less. The functional groups are an acryloyl group and a methacryloyl group. The double bond equivalent is a value obtained by dividing the molecular weight of the first acrylic compound by the number of functional groups. The number of functional groups is the sum of the number of acryloyl groups and the number of methacryloyl groups contained in the first acrylic compound. The first acrylic compound may be contained in the electron beam curable compound as a monomer. The first acrylic compound may be contained in the electron beam curable compound as a component of a urethane acrylate such as a urethane prepolymer. When the first acrylic compound is a component of a urethane acrylate, the double bond equivalent is determined based on the skeleton structure of the first acrylic compound in the urethane acrylate.
第1アクリル化合物の一例は、ペンタエリスリトール化合物、トリメチロールプロパン化合物、グリコール化合物である。ペンタエリスリトール化合物は、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、トリスペンタエリスリトールオクタアクリレートである。トリメチロールプロパン化合物は、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレートである。グリコール化合物は、グリセリンジアクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレートである。第1アクリル化合物を含有するプレポリマーの一例は、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーである。 Examples of the first acrylic compound include a pentaerythritol compound, a trimethylolpropane compound, and a glycol compound. The pentaerythritol compound is pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol ethoxytetraacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol ethoxytetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, and trispentaerythritol octaacrylate. The trimethylolpropane compounds are trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane ethoxy triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, and ditrimethylolpropane tetramethacrylate. The glycol compounds are glycerin diacrylate, glycerin triacrylate, glycerin trimethacrylate, dipropylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, and 1,6-hexanediol diacrylate. An example of a prepolymer containing the first acrylic compound is pentaerythritol triacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer.
電離線硬化性組成物は、ラジカル硬化助剤を含有してもよい。電離線硬化樹脂層31Pは、ラジカル硬化助剤を含有してもよい。ラジカル硬化助剤は、アクリル化合物の重合性を高める。アクリル化合物の重合は、過酸化物ラジカルを生成することによって重合を停止させる。ラジカル硬化助剤の一例は、チオール基を含有する。ラジカル硬化助剤のチオール基は、過酸化物ラジカルに水素を供与することによって、アクリル化合物の重合を促す。ラジカル硬化助剤の一例は、一級多官能チオール化合物でもよいし、二級多官能チオール化合物でもよい。一級多官能チオール化合物の一例は、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)、テトラエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)である。二級多官能チオール化合物の一例は、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)である。
The ionizing radiation curable composition may contain a radical curing assistant. The ionizing radiation
[第2アクリル化合物]
電離線硬化性組成物は、第2アクリル化合物を含有する。第2アクリル化合物は、単官能のアクリル酸アルキル、単官能のメタクリル酸アルキル、単官能のアクリル酸アルコキシアルキル、および単官能のメタクリル酸アルコキシアルキルである。単官能のアクリル酸アルキルと、単官能のメタクリル酸アルキルとは、それぞれ炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する。単官能のアクリル酸アルコキシアルキルと、単官能のメタクリル酸アルコキシアルキルとは、それぞれ炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する。飽和アルキル基は、直鎖アルキル基でもよいし、分岐アルキル基でもよいし、単環状アルキル基でもよいし、多環状アルキル基でもよい。飽和アルコキシアルキル基は、直鎖アルコキシアルキル基でもよいし、分岐アルコキシアルキル基でもよい。
[Second Acrylic Compound]
The ionizing radiation curable composition contains a second acrylic compound. The second acrylic compound is a monofunctional alkyl acrylate, a monofunctional alkyl methacrylate, a monofunctional alkoxyalkyl acrylate, and a monofunctional alkoxyalkyl methacrylate. The monofunctional alkyl acrylate and the monofunctional alkyl methacrylate each contain a saturated alkyl group having 2 to 12 carbon atoms. The monofunctional alkoxyalkyl acrylate and the monofunctional alkoxyalkyl methacrylate each contain a saturated alkoxyalkyl group having 2 to 12 carbon atoms. The saturated alkyl group may be a linear alkyl group, a branched alkyl group, a monocyclic alkyl group, or a polycyclic alkyl group. The saturated alkoxyalkyl group may be a linear alkoxyalkyl group or a branched alkoxyalkyl group.
第2アクリル化合物の一例は、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、2-エチルブチルアクリレート、2-エチルヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレート、メトキシエチルメタクリレート、オクチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、2-エチルブチルメタアクリレート、2-エチルヘキシルメタクリレート、オクチルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロペンチルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ノルボルニルアクリレート、ノルボルニルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレートである。 Examples of the second acrylic compound are ethyl acrylate, propyl acrylate, isopropyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylbutyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, lauryl acrylate, methoxyethyl methacrylate, octyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, butyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylbutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, octyl methacrylate, lauryl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclopentyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, norbornyl acrylate, norbornyl methacrylate, isobornyl acrylate, and isobornyl methacrylate.
[第3アクリル化合物]
電離線硬化性組成物は、第3アクリル化合物を含有する。第3アクリル化合物は、1個以上3個以下の官能基とポリエチレンオキサイド鎖とを有し、かつ二重結合当量が300g/eq以上700g/eq以下である。官能基は、アクリロイル基、およびメタクリロイル基である。二重結合当量は、第3アクリル化合物の分子量を官能基数によって除算した値である。官能基数は、第3アクリル化合物に含まれるアクリロイル基の数量、およびメタクリロイル基の数量の合計である。第3アクリル化合物は、モノマーとして電子線硬化性化合物に含有されてもよい。第3アクリル化合物は、ウレタンプレポリマーなどのウレタンアクリレートの構成要素として電子線硬化性化合物に含有されてもよい。
[Tertiary Acrylic Compound]
The ionizing radiation curable composition contains a third acrylic compound. The third acrylic compound has one or more and three or less functional groups and a polyethylene oxide chain, and has a double bond equivalent of 300 g/eq or more and 700 g/eq or less. The functional groups are an acryloyl group and a methacryloyl group. The double bond equivalent is a value obtained by dividing the molecular weight of the third acrylic compound by the number of functional groups. The number of functional groups is the total of the number of acryloyl groups and the number of methacryloyl groups contained in the third acrylic compound. The third acrylic compound may be contained in the electron beam curable compound as a monomer. The third acrylic compound may be contained in the electron beam curable compound as a component of a urethane acrylate such as a urethane prepolymer.
第3アクリル化合物の一例は、ポリエチレングリコール化合物でもよいし、アルコキシポリエチレングリコール化合物でもよいし、ポリエチレンオキシサイド変性トリメチロールプロパン化合物(EO変性トリメチロールプロパン化合物)でもよい。第3アクリル化合物の一例は、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールアクリレート、ポリプロピレングリコールメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリプロピレングリコールアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリアクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、EO変性ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、EO変性ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレートである。 An example of the third acrylic compound may be a polyethylene glycol compound, an alkoxypolyethylene glycol compound, or a polyethylene oxyside modified trimethylolpropane compound (EO modified trimethylolpropane compound). An example of the third acrylic compound is polyethylene glycol acrylate, polyethylene glycol methacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol acrylate, polypropylene glycol methacrylate, polypropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, methoxypolyethylene glycol acrylate, methoxypolypropylene glycol acrylate, EO modified trimethylolpropane triacrylate, EO modified trimethylolpropane trimethacrylate, EO modified ditrimethylolpropane tetraacrylate, EO modified ditrimethylolpropane tetramethacrylate.
[アクリル化合物の含有率]
電離線硬化性組成物は、下記条件1,2,3を同時に満たす。あるいは、電離線硬化性組成物は、下記条件1,2,4を同時に満たす。電離線硬化性組成物は、下記条件1A,2A,3を同時に満たしてもよい。電離線硬化性組成物は、下記条件1A,2A,4を同時に満たしてもよい。また、電離線硬化性組成物は、下記条件1B,2B,3を同時に満たしてもよい。電離線硬化性組成物は、下記条件1B,2B,4を同時に満たしてもよい。さらに、電離線硬化性組成物は、下記条件5を満たしてもよいし、下記条件6を満たしてもよい。
[Acrylic compound content]
The ionizing radiation curable composition satisfies the following
[条件1]第1アクリル化合物の含有率が2質量%以上50質量%以下である。
[条件1A]第1アクリル化合物の含有率が2質量%以上40質量%以下である。
[条件1B]第1アクリル化合物の含有率が2質量%以上30質量%以下である。
[Condition 1] The content of the first acrylic compound is 2% by mass or more and 50% by mass or less.
[Condition 1A] The content of the first acrylic compound is 2% by mass or more and 40% by mass or less.
[Condition 1B] The content of the first acrylic compound is 2% by mass or more and 30% by mass or less.
[条件2]第2アクリル化合物の含有率が35質量%以上85質量%以下である。
[条件2A]第2アクリル化合物の含有率が45質量%以上85質量%以下である。
[条件2B]第2アクリル化合物の含有率が55質量%以上85質量%以下である。
[Condition 2] The content of the second acrylic compound is 35% by mass or more and 85% by mass or less.
[Condition 2A] The content of the second acrylic compound is 45% by mass or more and 85% by mass or less.
[Condition 2B] The content of the second acrylic compound is 55% by mass or more and 85% by mass or less.
[条件3]第3アクリル化合物の含有率が5質量%以上20質量%以下である。
[条件4]アクリル配合比が0.25以上である。
[条件4A]アクリル配合比が0.25以上2.0以下である。
[Condition 3] The content of the third acrylic compound is 5% by mass or more and 20% by mass or less.
[Condition 4] The acrylic compounding ratio is 0.25 or more.
[Condition 4A] The acrylic compounding ratio is 0.25 or more and 2.0 or less.
[条件5]第1アクリル化合物の官能基数が3以上5以下であり、かつ第1アクリル化合物の含有率が30質量%以下である。
[条件6]ポリエチレンオキサイド鎖の含有率が2質量%以上20質量%以下である。
[Condition 5] The number of functional groups of the first acrylic compound is 3 or more and 5 or less, and the content of the first acrylic compound is 30 mass % or less.
[Condition 6] The content of polyethylene oxide chains is 2% by mass or more and 20% by mass or less.
第1アクリル化合物の含有率は、電離線硬化樹脂層31Pを形成するための電離線硬化性組成物の総重量に対する第1アクリル化合物の重量の割合である。電離線硬化性組成物の総重量は、第1アクリル化合物の重量、ラジカル硬化助剤の重量、第2アクリル化合物の重量、および第3アクリル化合物の重量の合計である。
The content of the first acrylic compound is the ratio of the weight of the first acrylic compound to the total weight of the ionizing radiation curable composition for forming the ionizing radiation
第2アクリル化合物の含有率は、電離線硬化樹脂層31Pを形成するための電離線硬化性組成物の総重量に対する第2アクリル化合物の重量の割合である。
第3アクリル化合物の含有率は、電離線硬化樹脂層31Pを形成するための電離線硬化性組成物の総重量に対する第3アクリル化合物の重量の割合である。
The content of the second acrylic compound is the ratio of the weight of the second acrylic compound to the total weight of the ionizing radiation curable composition for forming the ionizing radiation
The content of the third acrylic compound is the ratio of the weight of the third acrylic compound to the total weight of the ionizing radiation curable composition for forming the ionizing radiation
ポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、電離線硬化樹脂層31Pを形成するための電離線硬化性組成物の総重量に対するポリエチレンオキサイド鎖の重量の割合である。
アクリル配合比は、第1アクリル化合物の含有率に対する第3アクリル化合物の含有率である。
The content of the polyethylene oxide chain is the ratio of the weight of the polyethylene oxide chain to the total weight of the ionizing radiation curable composition for forming the ionizing radiation
The acrylic compounding ratio is the content of the third acrylic compound relative to the content of the first acrylic compound.
[第1配向層32,第2配向層33]
第1配向層32と第2配向層33とは、それぞれ液晶化合物LCMの配向方向を規制する。第1配向層32と第2配向層33とは、それぞれ無色透明、あるいは有色透明に視認される。第1配向層32と第2配向層33とは、垂直配向膜でもよいし、水平配向膜でもよい。
[
The
第1配向層32と第2配向層33とを構成する材料は、有機高分子化合物、あるいは無機酸化物である。有機高分子化合物の一例は、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルアルコールからなる群から選択されるいずれか一種である。無機酸化物の一例は、シリコン酸化物、酸化ジルコニウム、シリコーンからなる群から選択されるいずれか一種である。第1配向層32と第2配向層33とを構成する材料は、有機高分子化合物、あるいは無機酸化物を生成するための低分子不純物を含有する。低分子不純物の一例は、ポリイミドの生成に用いられるポリアミック酸などのポリイミド前駆体でもよいし、ポリアミック酸のイミド化によって生成される水などでもよい。第1配向層32と第2配向層33との厚さの一例は、それぞれ20nm以上500nm以下である。
The material constituting the
第1配向層32と第2配向層33とがそれぞれ垂直配向膜である場合、第1配向層32と第2配向層33とは、それぞれ調光層31の厚さ方向に液晶化合物LCMの長軸方向を沿わせるように、液晶化合物LCMに配向規制力を加える。これによって、第1配向層32と第2配向層33とは、電圧信号の供給停止期間に、調光層31に可視光を透過させる。
When the
第1配向層32と第2配向層33とがそれぞれ水平配向膜である場合、調光シート11が偏光層を備える。液晶化合物LCMの長軸方向が偏光層の透過軸の延在方向と平行になるように、第1配向層32と第2配向層33とが液晶化合物LCMに配向規制力を加える。これによって、第1配向層32と第2配向層33とは、電圧信号の供給停止期間に、偏光層を通して調光層31に可視光を透過させる。
When the
第1配向層32と第2配向層33とがそれぞれ水平配向膜である場合、調光シート11が直交ニコルに配置された偏光層を備える。液晶化合物LCMの長軸方向が1つの偏光層の透過軸の延在方向と平行になるように、第1配向層32が液晶化合物LCMに配向規制力を加える。液晶化合物LCMの長軸方向が他の偏光層の透過軸の延在方向と平行になるように、第2配向層33が液晶化合物LCMに配向規制力を加える。すなわち、第1配向層32と第2配向層33とは、液晶化合物LCMにツイスト配向の規制力を加える。これによって、第1配向層32と第2配向層33とは、電圧信号の供給停止期間に、偏光層を通して調光層31に可視光を透過させる。
When the
なお、第1配向層32と第2配向層33とがそれぞれ水平配向膜である場合、調光シート11が相互に平行な透過軸を有する2つの偏光層を備える。液晶化合物LCMの長軸方向が偏光層の透過軸の延在方向に45°で交差するように、第1配向層32と第2配向層33とが液晶化合物LCMに配向規制力を加える。これによって、第1配向層32と第2配向層33とは、電圧信号の供給停止期間に、偏光層を通した可視光の調光層31の透過を抑制する。第1透明電極層34と第2透明電極層35との間に印加される電圧は、配向規制力に抗した垂直配向を液晶化合物LCMに与えて、偏光層を通した可視光を調光層31に透過させる。
In addition, when the
また、調光シート11は、第1配向層32、および第2配向層33を割愛されてもよい。第1配向層32、および第2配向層33を割愛された調光シート11の調光層31は、第1透明電極層34に接してもよいし、第2透明電極層35に接してもよい。
The light-adjusting
[調光シート11の製造方法]
調光シート11の製造方法は、第1透明電極層34と第2透明電極層35との間に、電離線硬化性組成物と液晶組成物31LCとを含む調光塗工層を形成することを含む。調光シート11の製造方法は、調光塗工層に電離線を照射することによって、第1透明電極層34と第2透明電極層35との間に調光層31を形成することを含む。
[Method of manufacturing light controlling sheet 11]
The method for producing the light-adjusting
調光シート11が第1配向層32、および第2配向層33を備える場合、調光シート11の製造方法は、第1透明電極層34に第1配向層32を形成すること、および第2透明電極層35に第2配向層33を形成することを含む。第1配向層32は、第1透明支持層36に積層された第1透明電極層34に配向塗工液を塗工し、配向塗工層を加熱することによって形成される。第2配向層33は、第2透明支持層37に積層された第2透明電極層35に配向塗工液を塗工し、配向塗工層を加熱することによって形成される。
When the light-adjusting
調光シート11の製造方法は、第1配向層32と第2配向層33との間に、電離線硬化性組成物と液晶組成物31LCとを含む調光塗工層を形成することを含む。調光塗工層は、第1透明支持層36に支持された第1配向層32に調光塗工液を塗工することによって形成される。調光塗工層は、第1透明支持層36に支持された第1配向層32と、第2透明支持層37に支持された第2配向層33とに挟まれる。なお、調光シート11が第1配向層32、および第2配向層33を備えない場合、調光塗工層は、第1透明支持層36に支持された第1透明電極層34に調光塗工液を塗工することによって形成される。調光塗工層は、第1透明支持層36に支持された第1透明電極層34と、第2透明支持層37に支持された第2透明電極層35とに挟まれる。
The manufacturing method of the light-adjusting
調光シート11の製造方法は、調光塗工層に電離線を照射することによって、第1透明電極層34と第2透明電極層35との間に、空隙31Dを区画する電離線硬化樹脂層31Pと、空隙31Dに充填される液晶組成物31LCとを備える調光層31を形成することを含む。調光塗工層は、第1透明支持層36から調光塗工層に向けて電離線を照射されてもよいし、第2透明支持層37から調光塗工層に向けて電離線を照射されてもよいし、これらの組み合わせによって電離線を照射されてもよい。
The manufacturing method of the light-adjusting
電離線を照射された電離線硬化性組成物は、重合を開始させると共に、液晶組成物31LCからなる液晶粒子を重合体から相分離させる。液晶組成物31LCからなる液晶粒子の相分離は、電離線硬化性組成物の重合と、液晶組成物31LCの拡散とを通じて進む。電離線硬化性組成物の重合速度は、電離線硬化性組成物に照射される電離線の強度によって変わる。液晶組成物31LCの拡散速度は、電離線硬化性組成物の重合時の処理温度によって変わる。液晶組成物31LCの相分離では、液晶粒子の大きさを所望の大きさとするように、すなわち空隙31Dの大きさを所望の大きさとするように、電離線硬化性組成物に照射される電離線の強度が設定される。また、液晶組成物31LCの相分離では、液晶組成物31LCの拡散を促すための加熱を行ってもよい。
The ionizing radiation curable composition irradiated with ionizing radiation initiates polymerization and phase-separates the liquid crystal particles of the liquid crystal composition 31LC from the polymer. Phase separation of the liquid crystal particles of the liquid crystal composition 31LC proceeds through polymerization of the ionizing radiation curable composition and diffusion of the liquid crystal composition 31LC. The polymerization rate of the ionizing radiation curable composition varies depending on the intensity of the ionizing radiation irradiated to the ionizing radiation curable composition. The diffusion rate of the liquid crystal composition 31LC varies depending on the processing temperature during polymerization of the ionizing radiation curable composition. In the phase separation of the liquid crystal composition 31LC, the intensity of the ionizing radiation irradiated to the ionizing radiation curable composition is set so that the size of the liquid crystal particles is the desired size, that is, so that the size of the
空隙31Dの大きさを小さくすることが求められる場合、電離線硬化性組成物に照射される電離線の強度を高めて、液晶組成物31LCの拡散を抑えるための低い温度で重合を進めることが好ましい。空隙31Dの大きさを大きくすることが求められる場合、電離線硬化性組成物に照射される電離線の強度を低めて、液晶組成物31LCの拡散を促すための高い温度で重合を進めることが好ましい。
When it is required to reduce the size of the
[試験例]
各試験例の調光シート11を以下に示す。なお、各試験例の調光シート11は、第1配向層32および第2配向層33として垂直配向膜である。各試験例の駆動形式は、リバース型である。試験例1~13の調光シート11は、それぞれ相違する電離線硬化性組成物を用い、電離線硬化性組成物以外を同じくして得た。試験例14~17の調光シート11は、それぞれ相違する電離線硬化性組成物、および液晶組成物31LCを用い、電離線硬化性組成物、および液晶組成物31LC以外を同じくして得た。
[Test Example]
The light-adjusting
まず、第1透明電極層34、第2透明電極層35、第1透明支持層36、第2透明支持層37の構成材料を以下に示す。
・第1透明電極層34:厚さが30nmの酸化インジウムスズ
・第2透明電極層35:厚さが30nmの酸化インジウムスズ
・第1透明支持層36:厚さが125μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
・第2透明支持層37:厚さが125μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
[第1配向層32,第2配向層33]
次に、第1配向層32と第2配向層33の構成材料と形成方法とを以下に示す。
First, the constituent materials of the first
First transparent electrode layer 34: indium tin oxide having a thickness of 30 nm Second transparent electrode layer 35: indium tin oxide having a thickness of 30 nm First transparent support layer 36: polyethylene terephthalate film having a thickness of 125 μm Second transparent support layer 37: polyethylene terephthalate film having a thickness of 125 μm [
Next, the constituent materials and forming methods of the
まず、下記原料B1,B2に示すジアミンと、下記原料C1,C2に示すカルボン酸無水物とから溶媒下でポリアミック酸を生成した。この際、10重量部の原料B1、8重量部の原料B2、および4重量部の原料C2を75重量部の第1溶媒のなかで80℃に加熱しながら5時間にわたり反応させた。次に、16重量部の原料C1と38重量部の第1溶媒とを添加して40℃に加熱しながら6時間にわたり反応させた。これによって、樹脂固形分濃度が25質量%のポリアミック酸溶液を得た。次に、樹脂固形分濃度が25質量%のポリアミック酸溶液、第1溶媒、および第2溶媒から配向層塗液を得た。この際、12重量部のポリアミック酸溶液、27重量部の第1溶媒、および36重量部の第2溶媒を混合して50℃に加熱しながら24時間にわたり攪拌させた。 First, polyamic acid was produced in a solvent from diamines shown in the following raw materials B1 and B2 and carboxylic anhydrides shown in the following raw materials C1 and C2. At this time, 10 parts by weight of raw material B1, 8 parts by weight of raw material B2, and 4 parts by weight of raw material C2 were reacted in 75 parts by weight of the first solvent while heating to 80°C for 5 hours. Next, 16 parts by weight of raw material C1 and 38 parts by weight of the first solvent were added and reacted for 6 hours while heating to 40°C. This resulted in a polyamic acid solution with a resin solid content concentration of 25% by mass. Next, an alignment layer coating liquid was obtained from the polyamic acid solution with a resin solid content concentration of 25% by mass, the first solvent, and the second solvent. At this time, 12 parts by weight of the polyamic acid solution, 27 parts by weight of the first solvent, and 36 parts by weight of the second solvent were mixed and stirred for 24 hours while heating to 50°C.
次に、バーコーターを用いて第1透明電極層34に配向塗工液を塗工して4分間にわたり150℃に加熱した。これによって、厚さが100nmのポリイミドを主成分とする第1配向層32を得た。同じく、バーコーターを用いて第2透明電極層35に配向塗工液を塗工して4分間にわたり150℃に加熱した。これによって、厚さが100nmのポリイミドを主成分とする第2配向層33を得た。
Next, the alignment coating liquid was applied to the first
[配向塗工液原料]
・B1:4,4’-ジアミノジフェニルメタン(東京化成工業株式会社製)
・B2:3,5-ジアミノ安息香酸(東京化成工業株式会社製)
・C1:1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(東京化成工業株式会社製)
・C2:3-(カルボキシメチル)-1,2,4-シクロペンタントリカルボン酸1,4:2,3-二無水物(東京化成工業株式会社製)
・第1溶媒:N-エチル-2-ピロリドン
・第2溶媒:ブチルセロソルブ
[調光層31]
次に、調光層31の構成材料と形成方法とを以下に示す。なお、試験例1~17の電離線硬化性組成物の構成材料、および調光シート11の評価結果を図3、および図4に示す。試験例1~13の調光シート11における低温環境下の応答性が有する第1アクリル化合物の依存性を図5に示す。試験例1~13の調光シート11における剥離強度が有する第1アクリル化合物の依存性を図6に示す。試験例1~9の調光シート11における剥離強度が有するアクリル配合比の依存性を図7に示す。試験例1~13の調光シート11における加熱処理後のヘイズが有する第1アクリル化合物の依存性を図8に示す。試験例1~9の調光シート11における加熱処理後のヘイズが有するアクリル配合比の依存性を図9に示す。試験例1~13の調光シート11における評価結果について第1アクリル化合物の含有率、およびEO変性依存性を示す。
[Orientation coating fluid raw material]
B1: 4,4'-diaminodiphenylmethane (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
B2: 3,5-diaminobenzoic acid (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
C1: 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
C2: 3-(carboxymethyl)-1,2,4-
First solvent: N-ethyl-2-pyrrolidone Second solvent: Butyl cellosolve [light-controlling layer 31]
Next, the constituent materials and formation method of the light-controlling
まず、下記液晶化合物LCM、スペーサーSP、重合開始剤、および電離線硬化性組成物を用いて調光塗工液を生成した。電離線硬化性組成物は、下記化合物1~化合物9から選択される化合物の混合物とした。この際、試験例1~13の調光層塗工液として、50重量部の液晶化合物LCM、1重量部の重合開始剤、および1重量部のスペーサーSPに、48重量部の電離線硬化性組成物を混合した。試験例14~15の調光層塗工液として、50重量部の液晶化合物LCM、1重量部の重合開始剤、0.25重量部以上1重量部以下の粘度低下剤、および1重量部のスペーサーSPに、47重量部以上47.75重量部以下の電離線硬化性組成物を混合した。
First, a light-adjusting coating liquid was produced using the following liquid crystal compound LCM, spacer SP, polymerization initiator, and ionizing radiation curable composition. The ionizing radiation curable composition was a mixture of compounds selected from the following
次に、バーコーターを用いて第1配向層32に調光塗工液を塗工し、調光塗工層の上に第2配向層33を配置して、第1配向層32と第2配向層33とに挟まれた調光塗工層を形成した。次に、第1透明支持層36から調光塗工層に向けて紫外線を照射すると共に、第2透明支持層37から調光塗工層に向けて紫外線を照射した。これによって、厚さが10μmの調光層31を得た。
Next, a photochromic coating liquid was applied to the
[調光塗工液原料]
・液晶化合物LCM:フッ素系ネマチック混合液晶(製品名:MLC-6608、屈折率異方性Δn=0.20(メルク株式会社製))
・スペーサーSP:直径10μmのPMMA製真球状(積水化成品工業株式会社製)
・重合開始剤:1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(IGM Resins B.V.社製)
・粘度低下剤:アジピン酸ジイソデシル(東京化成株式会社製)
[電離線硬化性組成物]
化合物1は、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトブチレート)(製品名:カレンズMT PE-1(昭和電工株式会社製))である。化合物1は、ラジカル硬化助剤である。
[Light-adjusting coating fluid raw materials]
Liquid crystal compound LCM: Fluorine-based nematic mixed liquid crystal (product name: MLC-6608, refractive index anisotropy Δn=0.20 (manufactured by Merck Ltd.))
Spacer SP: PMMA spherical with a diameter of 10 μm (manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd.)
Polymerization initiator: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by IGM Resins B.V.)
Viscosity reducer: diisodecyl adipate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
[Ionizing radiation curable composition]
化合物2は、単官能のアクリル化合物であって、メトキシポリエチレングリコールアクリレート(製品名:AM-130G(新中村化学工業株式会社製))である。化合物2の二重結合当量は658g/eqである。化合物2は、アクリレート基とメトキシ基との間にポリエチレンオキサイド鎖を含有する。ポリエチレンオキサイド鎖は、エチレンオキサイドを繰り返し単位とする。化合物2のポリエチレンオキサイド鎖における繰り返し回数は、13である。化合物2は、第3アクリル化合物の一例である。
化合物3は、単官能のアクリル化合物であって、イソボルニルアクリレート(製品名:IBXA(大阪有機化学工業株式会社製))である。化合物3の二重結合当量は208g/eqである。化合物3は、第2アクリル化合物の一例である。
化合物4は、2官能のアクリル化合物であって、エトキシポリエチレングリコールアクリレート(製品名:ライトアクリレート14EGA(共栄社化学株式会社製))である。化合物4の二重結合当量は371g/eqである。化合物4は、ポリエチレンオキサイド鎖を含有する第3アクリル化合物の一例である。
化合物5は、3官能のアクリル化合物であって、ポリエチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート(製品名:AT-20E(新中村化学工業株式会社製))である。化合物5の二重結合当量は392g/eqである。化合物5は、ポリエチレンオキサイド鎖を含有する第3アクリル化合物の一例である。
化合物6は、3官能のアクリル化合物であって、トリメチロールプロパントリアクリレート(新中村化学工業株式会社製)である。化合物6の二重結合当量は、99g/eqである。化合物6は、第1アクリル化合物の一例である。
化合物7は、4官能のアクリル化合物であって、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業株式会社製)である。化合物7の二重結合当量は、88g/eqである。化合物7は、第1アクリル化合物の一例である。
化合物8は、6官能のアクリル化合物であって、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー(製品名:306I(共栄社化学株式会社製))である。化合物8の二重結合当量は136g/eqである。化合物8は、第1アクリル化合物のウレタンプレポリマーである。
化合物9は、6官能のアクリル化合物であって、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(新中村化学工業株式会社製)である。化合物9の二重結合当量は96g/eqである。化合物9は、第1アクリル化合物の一例である。
[配合]
図3が示すように、試験例1の電離線硬化性組成物は、2重量部の化合物1(ラジカル硬化助剤)、36重量部の化合物3(第2アクリル化合物)、5重量部の化合物4(第3アクリル化合物)、および5重量部の化合物7(第1アクリル化合物)の混合物である。試験例1における第1アクリル化合物の含有率は、10質量%である。試験例1におけるポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、9質量%である。試験例1における第2アクリル化合物の含有率は、75質量%である。試験例1における第3アクリル化合物の含有率は、10質量%である。
[Formulation]
As shown in Fig. 3, the ionizing radiation curable composition of Test Example 1 is a mixture of 2 parts by weight of Compound 1 (radical curing assistant), 36 parts by weight of Compound 3 (second acrylic compound), 5 parts by weight of Compound 4 (third acrylic compound), and 5 parts by weight of Compound 7 (first acrylic compound). The content of the first acrylic compound in Test Example 1 is 10% by mass. The content of the polyethylene oxide chain in Test Example 1 is 9% by mass. The content of the second acrylic compound in Test Example 1 is 75% by mass. The content of the third acrylic compound in Test Example 1 is 10% by mass.
試験例2の電離線硬化性組成物は、2重量部の化合物1(ラジカル硬化助剤)、27重量部の化合物3(第2アクリル化合物)、5重量部の化合物4(第3アクリル化合物)、および14重量部の化合物7(第1アクリル化合物)の混合物である。試験例2における第1アクリル化合物の含有率は、29質量%である。試験例2におけるポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、9質量%である。試験例2における第2アクリル化合物の含有率は、56質量%である。試験例2における第3アクリル化合物の含有率は、10質量%である。 The ionizing radiation curable composition of Test Example 2 is a mixture of 2 parts by weight of Compound 1 (radical curing assistant), 27 parts by weight of Compound 3 (second acrylic compound), 5 parts by weight of Compound 4 (third acrylic compound), and 14 parts by weight of Compound 7 (first acrylic compound). The content of the first acrylic compound in Test Example 2 is 29% by weight. The content of the polyethylene oxide chain in Test Example 2 is 9% by weight. The content of the second acrylic compound in Test Example 2 is 56% by weight. The content of the third acrylic compound in Test Example 2 is 10% by weight.
試験例3の電離線硬化性組成物は、2重量部の化合物1(ラジカル硬化助剤)、18重量部の化合物3(第2アクリル化合物)、5重量部の化合物4(第3アクリル化合物)、および23重量部の化合物7(第1アクリル化合物)の混合物である。試験例3における第1アクリル化合物の含有率は、48質量%である。試験例3におけるポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、9質量%である。試験例3における第2アクリル化合物の含有率は、38質量%である。試験例3における第3アクリル化合物の含有率は、10質量%である。 The ionizing radiation curable composition of Test Example 3 is a mixture of 2 parts by weight of Compound 1 (radical curing assistant), 18 parts by weight of Compound 3 (second acrylic compound), 5 parts by weight of Compound 4 (third acrylic compound), and 23 parts by weight of Compound 7 (first acrylic compound). The content of the first acrylic compound in Test Example 3 is 48% by weight. The content of the polyethylene oxide chain in Test Example 3 is 9% by weight. The content of the second acrylic compound in Test Example 3 is 38% by weight. The content of the third acrylic compound in Test Example 3 is 10% by weight.
試験例4の電離線硬化性組成物は、2重量部の化合物1(ラジカル硬化助剤)、16重量部の化合物3(第2アクリル化合物)、5重量部の化合物4(第3アクリル化合物)、および25重量部の化合物7(第1アクリル化合物)の混合物である。試験例4における第1アクリル化合物の含有率は、52質量%である。試験例4におけるポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、9質量%である。試験例4における第2アクリル化合物の含有率は、33質量%である。試験例4における第3アクリル化合物の含有率は、10質量%である。 The ionizing radiation curable composition of Test Example 4 is a mixture of 2 parts by weight of Compound 1 (radical curing assistant), 16 parts by weight of Compound 3 (second acrylic compound), 5 parts by weight of Compound 4 (third acrylic compound), and 25 parts by weight of Compound 7 (first acrylic compound). The content of the first acrylic compound in Test Example 4 is 52% by weight. The content of the polyethylene oxide chain in Test Example 4 is 9% by weight. The content of the second acrylic compound in Test Example 4 is 33% by weight. The content of the third acrylic compound in Test Example 4 is 10% by weight.
試験例5の電離線硬化性組成物は、2重量部の化合物1(ラジカル硬化助剤)、40重量部の化合物3(第2アクリル化合物)、5重量部の化合物4(第3アクリル化合物)、および1重量部の化合物7(第1アクリル化合物)の混合物である。試験例5における第1アクリル化合物の含有率は、2質量%である。試験例5におけるポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、9質量%である。試験例5における第2アクリル化合物の含有率は、83質量%である。試験例5における第3アクリル化合物の含有率は、10質量%である。 The ionizing radiation curable composition of Test Example 5 is a mixture of 2 parts by weight of Compound 1 (radical curing assistant), 40 parts by weight of Compound 3 (second acrylic compound), 5 parts by weight of Compound 4 (third acrylic compound), and 1 part by weight of Compound 7 (first acrylic compound). The content of the first acrylic compound in Test Example 5 is 2% by mass. The content of the polyethylene oxide chain in Test Example 5 is 9% by mass. The content of the second acrylic compound in Test Example 5 is 83% by mass. The content of the third acrylic compound in Test Example 5 is 10% by mass.
試験例6の電離線硬化性組成物は、2重量部の化合物1(ラジカル硬化助剤)、38重量部の化合物3(第2アクリル化合物)、5重量部の化合物4(第3アクリル化合物)、および3重量部の化合物8(第1アクリル化合物)の混合物である。試験例6における第1アクリル化合物の含有率は、6質量%である。試験例6におけるポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、9質量%である。試験例6における第2アクリル化合物の含有率は、79質量%である。試験例6における第3アクリル化合物の含有率は、10質量%である。 The ionizing radiation curable composition of Test Example 6 is a mixture of 2 parts by weight of Compound 1 (radical curing assistant), 38 parts by weight of Compound 3 (second acrylic compound), 5 parts by weight of Compound 4 (third acrylic compound), and 3 parts by weight of Compound 8 (first acrylic compound). The content of the first acrylic compound in Test Example 6 is 6% by mass. The content of the polyethylene oxide chain in Test Example 6 is 9% by mass. The content of the second acrylic compound in Test Example 6 is 79% by mass. The content of the third acrylic compound in Test Example 6 is 10% by mass.
試験例7の電離線硬化性組成物は、2重量部の化合物1(ラジカル硬化助剤)、3重量部の化合物2(第3アクリル化合物)、36重量部の化合物3(第2アクリル化合物)、および7重量部の化合物9(第1アクリル化合物)の混合物である。試験例7における第1アクリル化合物の含有率は、15質量%である。試験例7におけるポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、5質量%である。試験例7における第2アクリル化合物の含有率は、75質量%である。試験例7における第3アクリル化合物の含有率は、6質量%である。 The ionizing radiation curable composition of Test Example 7 is a mixture of 2 parts by weight of Compound 1 (radical curing assistant), 3 parts by weight of Compound 2 (third acrylic compound), 36 parts by weight of Compound 3 (second acrylic compound), and 7 parts by weight of Compound 9 (first acrylic compound). The content of the first acrylic compound in Test Example 7 is 15% by weight. The content of the polyethylene oxide chain in Test Example 7 is 5% by weight. The content of the second acrylic compound in Test Example 7 is 75% by weight. The content of the third acrylic compound in Test Example 7 is 6% by weight.
試験例8の電離線硬化性組成物は、2重量部の化合物1(ラジカル硬化助剤)、28重量部の化合物3(第2アクリル化合物)、8重量部の化合物5(第3アクリル化合物)、および10重量部の化合物6(第1アクリル化合物)の混合物である。試験例8における第1アクリル化合物の含有率は、21質量%である。試験例8におけるポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、13質量%である。試験例8における第2アクリル化合物の含有率は、58質量%である。試験例8における第3アクリル化合物の含有率は、17質量%である。 The ionizing radiation curable composition of Test Example 8 is a mixture of 2 parts by weight of Compound 1 (radical curing assistant), 28 parts by weight of Compound 3 (second acrylic compound), 8 parts by weight of Compound 5 (third acrylic compound), and 10 parts by weight of Compound 6 (first acrylic compound). The content of the first acrylic compound in Test Example 8 is 21% by weight. The content of the polyethylene oxide chain in Test Example 8 is 13% by weight. The content of the second acrylic compound in Test Example 8 is 58% by weight. The content of the third acrylic compound in Test Example 8 is 17% by weight.
試験例9の電離線硬化性組成物は、2重量部の化合物1(ラジカル硬化助剤)、36重量部の化合物3(第2アクリル化合物)、および10重量部の化合物7(第1アクリル化合物)の混合物である。試験例9における第1アクリル化合物の含有率は、21質量%である。試験例9におけるポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、0質量%である。試験例9における第2アクリル化合物の含有率は、75質量%である。試験例9における第3アクリル化合物の含有率は、0質量%である。 The ionizing radiation curable composition of Test Example 9 is a mixture of 2 parts by weight of Compound 1 (radical curing assistant), 36 parts by weight of Compound 3 (second acrylic compound), and 10 parts by weight of Compound 7 (first acrylic compound). The content of the first acrylic compound in Test Example 9 is 21% by weight. The content of the polyethylene oxide chain in Test Example 9 is 0% by weight. The content of the second acrylic compound in Test Example 9 is 75% by weight. The content of the third acrylic compound in Test Example 9 is 0% by weight.
図4が示すように、試験例11の電離線硬化性組成物は、2重量部の化合物1(ラジカル硬化助剤)、43重量部の化合物3(第2アクリル化合物)、および3重量部の化合物4(第3アクリル化合物)の混合物である。試験例11における第1アクリル化合物の含有率は、0質量%である。試験例11におけるポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、5質量%である。試験例11における第2アクリル化合物の含有率は、90質量%である。試験例11における第3アクリル化合物の含有率は、6質量%である。 As shown in FIG. 4, the ionizing radiation curable composition of Test Example 11 is a mixture of 2 parts by weight of Compound 1 (radical curing assistant), 43 parts by weight of Compound 3 (second acrylic compound), and 3 parts by weight of Compound 4 (third acrylic compound). The content of the first acrylic compound in Test Example 11 is 0% by mass. The content of the polyethylene oxide chain in Test Example 11 is 5% by mass. The content of the second acrylic compound in Test Example 11 is 90% by mass. The content of the third acrylic compound in Test Example 11 is 6% by mass.
試験例12の電離線硬化性組成物は、2重量部の化合物1(ラジカル硬化助剤)、36重量部の化合物3(第2アクリル化合物)、および10重量部の化合物4(第3アクリル化合物)の混合物である。試験例12における第1アクリル化合物の含有率は、0質量%である。試験例12におけるポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、16質量%である。試験例12における第2アクリル化合物の含有率は、75質量%である。試験例12における第3アクリル化合物の含有率は、21質量%である。 The ionizing radiation curable composition of Test Example 12 is a mixture of 2 parts by weight of Compound 1 (radical curing assistant), 36 parts by weight of Compound 3 (second acrylic compound), and 10 parts by weight of Compound 4 (third acrylic compound). The content of the first acrylic compound in Test Example 12 is 0% by weight. The content of the polyethylene oxide chain in Test Example 12 is 16% by weight. The content of the second acrylic compound in Test Example 12 is 75% by weight. The content of the third acrylic compound in Test Example 12 is 21% by weight.
試験例13の電離線硬化性組成物は、2重量部の化合物1(ラジカル硬化助剤)、26重量部の化合物3(第2アクリル化合物)、および20重量部の化合物4(第3アクリル化合物)の混合物である。試験例13における第1アクリル化合物の含有率は、0質量%である。試験例13におけるポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、31質量%である。試験例13における第2アクリル化合物の含有率は、54質量%である。試験例13における第3アクリル化合物の含有率は、42質量%である。 The ionizing radiation curable composition of Test Example 13 is a mixture of 2 parts by weight of Compound 1 (radical curing assistant), 26 parts by weight of Compound 3 (second acrylic compound), and 20 parts by weight of Compound 4 (third acrylic compound). The content of the first acrylic compound in Test Example 13 is 0% by weight. The content of the polyethylene oxide chain in Test Example 13 is 31% by weight. The content of the second acrylic compound in Test Example 13 is 54% by weight. The content of the third acrylic compound in Test Example 13 is 42% by weight.
試験例14の電離線硬化性組成物は、2重量部の化合物1(ラジカル硬化助剤)、3重量部の化合物2(第3アクリル化合物)、35.75重量部の化合物3(第2アクリル化合物)、および7重量部の化合物9(第1アクリル化合物)の混合物である。試験例14の調光塗工液は、調光塗工液における0.25重量部の粘度低下剤を含む。試験例14における第1アクリル化合物の含有率は、15質量%である。試験例14におけるポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、5質量%である。試験例14における第2アクリル化合物の含有率は、75質量%である。試験例14における第3アクリル化合物の含有率は、6質量%である。試験例14の液晶組成物31LCに対する粘度低下剤の含有率は、0.5質量%である。 The ionizing radiation curable composition of Test Example 14 is a mixture of 2 parts by weight of Compound 1 (radical curing assistant), 3 parts by weight of Compound 2 (third acrylic compound), 35.75 parts by weight of Compound 3 (second acrylic compound), and 7 parts by weight of Compound 9 (first acrylic compound). The light-adjusting coating liquid of Test Example 14 contains 0.25 parts by weight of a viscosity reducer in the light-adjusting coating liquid. The content of the first acrylic compound in Test Example 14 is 15% by mass. The content of the polyethylene oxide chain in Test Example 14 is 5% by mass. The content of the second acrylic compound in Test Example 14 is 75% by mass. The content of the third acrylic compound in Test Example 14 is 6% by mass. The content of the viscosity reducer in the liquid crystal composition 31LC of Test Example 14 is 0.5% by mass.
試験例15の電離線硬化性組成物は、2重量部の化合物1(ラジカル硬化助剤)、3重量部の化合物2(第3アクリル化合物)、35.5重量部の化合物3(第2アクリル化合物)、および7重量部の化合物9(第1アクリル化合物)の混合物である。試験例15の調光塗工液は、調光塗工液における0.5重量部の粘度低下剤を含む。試験例15における第1アクリル化合物の含有率は、15質量%である。試験例15におけるポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、5質量%である。試験例15における第2アクリル化合物の含有率は、75質量%である。試験例15における第3アクリル化合物の含有率は、6質量%である。試験例15の液晶組成物31LCに対する粘度低下剤の含有率は、1.0質量%である。 The ionizing radiation curable composition of Test Example 15 is a mixture of 2 parts by weight of Compound 1 (radical curing assistant), 3 parts by weight of Compound 2 (third acrylic compound), 35.5 parts by weight of Compound 3 (second acrylic compound), and 7 parts by weight of Compound 9 (first acrylic compound). The light-adjusting coating liquid of Test Example 15 contains 0.5 parts by weight of a viscosity reducer in the light-adjusting coating liquid. The content of the first acrylic compound in Test Example 15 is 15% by mass. The content of the polyethylene oxide chain in Test Example 15 is 5% by mass. The content of the second acrylic compound in Test Example 15 is 75% by mass. The content of the third acrylic compound in Test Example 15 is 6% by mass. The content of the viscosity reducer in the liquid crystal composition 31LC of Test Example 15 is 1.0% by mass.
試験例16の電離線硬化性組成物は、2重量部の化合物1(ラジカル硬化助剤)、3重量部の化合物2(第3アクリル化合物)、35.25重量部の化合物3(第2アクリル化合物)、および7重量部の化合物9(第1アクリル化合物)の混合物である。試験例16の調光塗工液は、調光塗工液における0.75重量部の粘度低下剤を含む。試験例16における第1アクリル化合物の含有率は、15質量%である。試験例16におけるポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、5質量%である。試験例16における第2アクリル化合物の含有率は、75質量%である。試験例16における第3アクリル化合物の含有率は、6質量%である。試験例16の液晶組成物31LCに対する粘度低下剤の含有率は、1.5質量%である。 The ionizing radiation curable composition of Test Example 16 is a mixture of 2 parts by weight of Compound 1 (radical curing assistant), 3 parts by weight of Compound 2 (third acrylic compound), 35.25 parts by weight of Compound 3 (second acrylic compound), and 7 parts by weight of Compound 9 (first acrylic compound). The light-adjusting coating liquid of Test Example 16 contains 0.75 parts by weight of a viscosity reducer in the light-adjusting coating liquid. The content of the first acrylic compound in Test Example 16 is 15% by mass. The content of the polyethylene oxide chain in Test Example 16 is 5% by mass. The content of the second acrylic compound in Test Example 16 is 75% by mass. The content of the third acrylic compound in Test Example 16 is 6% by mass. The content of the viscosity reducer in the liquid crystal composition 31LC of Test Example 16 is 1.5% by mass.
試験例17の電離線硬化性組成物は、2重量部の化合物1(ラジカル硬化助剤)、3重量部の化合物2(第3アクリル化合物)、35.0重量部の化合物3(第2アクリル化合物)、および7重量部の化合物9(第1アクリル化合物)の混合物である。試験例17の調光塗工液は、1重量部の粘度低下剤を含む。試験例17における第1アクリル化合物の含有率は、15質量%である。試験例17におけるポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、5質量%である。試験例17における第2アクリル化合物の含有率は、75質量%である。試験例17における第3アクリル化合物の含有率は、6質量%である。試験例17の液晶組成物31LCに対する粘度低下剤の含有率は、2.0質量%である。 The ionizing radiation curable composition of Test Example 17 is a mixture of 2 parts by weight of Compound 1 (radical curing assistant), 3 parts by weight of Compound 2 (third acrylic compound), 35.0 parts by weight of Compound 3 (second acrylic compound), and 7 parts by weight of Compound 9 (first acrylic compound). The light-adjusting coating liquid of Test Example 17 contains 1 part by weight of a viscosity reducer. The content of the first acrylic compound in Test Example 17 is 15% by mass. The content of the polyethylene oxide chain in Test Example 17 is 5% by mass. The content of the second acrylic compound in Test Example 17 is 75% by mass. The content of the third acrylic compound in Test Example 17 is 6% by mass. The content of the viscosity reducer in the liquid crystal composition 31LC of Test Example 17 is 2.0% by mass.
[評価方法]
(i)応答性評価
温度が23℃である常温環境下のなかに各試験例の調光シート11を配置すると共に、各試験例の調光シート11にそれぞれ100Vの交流信号を供給して、各試験例の調光シート11が透明から不透明に変わることを確認した。次に、交流信号の供給を停止して調光シート11が不透明から透明に変わることを確認した。この際、JIS K 7136:2000に準拠する方法を用いたヘイズを測定すると共に、交流信号の供給が停止されてから調光シート11のヘイズが安定するまでの時間を常温環境下の応答性として計測した。
[Evaluation method]
(i) Responsiveness Evaluation The light-adjusting
温度が-23℃である低温環境なかに各試験例の調光シート11を配置すると共に、各試験例の調光シート11にそれぞれ100Vの交流信号を供給して、各試験例の調光シート11が透明から不透明に変わることを確認した。次に、交流信号の供給を停止して調光シート11が不透明から透明に変わることを確認した。この際、常温環境下の応答性評価と同じく、交流信号の供給が停止されてから調光シート11のヘイズが安定するまでの時間を低温環境下の応答性として計測した。
The light-adjusting
(ii)剥離強度評価
各試験例の調光シート11から25mmの幅を有する短冊状の試験片を切り出し、JIS Z-0237:2009に準拠する方法を用いて、引きはがし角度が180°であるときの加熱処理前の剥離強度を測定した。この際、試験片の第1透明支持層36を試験板に固定すると共に、試験片の第2透明支持層37を試験板に対して180°に引きはがした。
(ii) Peel Strength Evaluation A rectangular test piece having a width of 25 mm was cut out from the
(iii)加熱処理後のヘイズ評価
130℃のオーブンに各試験例の調光シート11を30分間投入して、各試験例の調光シート11に加熱処理を施した。次に、各試験例の調光シート11にそれぞれ100Vの交流信号を供給して、加熱処理後における透明時のヘイズを測定した。
(iii) Haze Evaluation After Heat Treatment The light-adjusting
[評価結果]
(i)応答性
図3が示すように、試験例1~9の調光シート11では、常温環境下において1秒の応答時間が認められた。試験例1~9の調光シート11では、低温環境下において1秒以上2秒以下の応答時間が認められた。
[Evaluation Results]
3, the light-adjusting
図4が示すように、試験例11~13の調光シート11では、常温環境下において1秒の応答時間が認められた。これに対して、試験例11~13の調光シート11では、低温環境下において常温環境下の応答時間よりも大幅に長い、8秒以上10秒以下の応答時間が認められた。なお、粘度低下剤が添加された試験例14~17の調光シート11では、常温環境下において1秒の応答時間が認められた。また、試験例14~17の調光シート11では、低温環境下において、常温環境下の応答時間と等しい1秒の応答時間が認められた。
As shown in Figure 4, the light-adjusting
試験例5と試験例11~13との比較から、第1アクリル化合物の含有率が2質量%以上、すなわち[条件1]の下限値を満たすことによって、低温環境下の応答時間が短くなる。試験例1~5と試験例11~13との比較から、第1アクリル化合物の含有率が2質量%以上52質量%以下を満たすことによって、低温環境下の応答時間がほぼ安定する。 Comparing Test Example 5 with Test Examples 11 to 13, it is found that by having the content of the first acrylic compound be 2 mass% or more, i.e., by satisfying the lower limit of [Condition 1], the response time in a low-temperature environment is shortened. Comparing Test Examples 1 to 5 with Test Examples 11 to 13, it is found that by having the content of the first acrylic compound be 2 mass% or more and 52 mass% or less, the response time in a low-temperature environment is almost stable.
なお、試験例11~13の調光シート11における応答時間の傾向から、第3アクリル化合物の含有率が高まることは、低温環境下の応答時間を少しずつ短縮する。ただし、試験例5と試験例11~13との比較から、第1アクリル化合物の含有率が0質量%から2質量%に高まることは、第3アクリル化合物の含有率が6質量%から42質量%に高まることよりも、大幅に低温環境下の応答時間を短縮する。こうした第1アクリル化合物の含有量による効果と、試験例5~8と試験例9との比較とから、第3アクリル化合物の含有率が0質量%であっても、[条件1]の下限値を満たすことによって、低温環境下の応答時間は、室温環境とほぼ同じ程度に短縮される。
In addition, from the trend of the response time of the light-adjusting
図5が示すように、第1アクリル化合物の含有率は、0質量%から2質量%に変わることによって、低温環境下の応答時間を急峻に短縮する。また、第1アクリル化合物の含有率は、2質量%以上52質量%以下の範囲において、低温環境下の応答時間を室温環境とほぼ同じ程度に安定させる。このように、調光シート11が[条件1]の下限値を満たすことは、調光層31の相分離の過程において電離線硬化性組成物の硬化物を緻密にすると共に、液晶組成物31LCのなかに低分子化合物が残ることを抑える。そして、低温環境下の応答時間を室温環境とほぼ同じ程度に短縮する。
As shown in FIG. 5, the response time in a low-temperature environment is rapidly shortened by changing the content of the first acrylic compound from 0% by mass to 2% by mass. Furthermore, when the content of the first acrylic compound is in the range of 2% by mass or more and 52% by mass or less, the response time in a low-temperature environment is stabilized to approximately the same level as in a room temperature environment. In this way, when the light-controlling
(ii)剥離強度
図3に戻り、試験例1,2,5~8の調光シート11では、0.20N/25mm以上の剥離強度が認められた。試験例3,9の調光シート11では、0.10N以上の剥離強度が認められた。これに対して、試験例4の調光シート11では、0.10N/25mmに満たない剥離強度が認められた。
(ii) Peel strength Returning to Fig. 3, a peel strength of 0.20 N/25 mm or more was observed in the light-adjusting
図4が示すように、試験例11,12の調光シート11では、0.10N/25mm以上の剥離強度が認められた。これに対して、試験例13の調光シート11では、0.10N/25mmに満たない剥離強度が認められた。なお、粘度低下剤が添加された試験例14,15の調光シート11では、0.10N/25mm以上の剥離強度が認められた。これに対して、試験例16,17の調光シート11では、いずれも0.10N/25mmに満たない剥離強度が認められた。
As shown in Figure 4, the light-adjusting
試験例3と試験例4との比較から、第1アクリル化合物の含有率が52質量%から48質量%に低められることは、剥離強度を0.10N/25mm以上に高める。試験例2と試験例3との比較から、第1アクリル化合物の含有率が48質量%から29質量%に低められることは、剥離強度を急峻に高める。 Comparing Test Example 3 and Test Example 4, decreasing the content of the first acrylic compound from 52% by mass to 48% by mass increases the peel strength to 0.10 N/25 mm or more. Comparing Test Example 2 and Test Example 3, decreasing the content of the first acrylic compound from 48% by mass to 29% by mass sharply increases the peel strength.
試験例7と試験例9との比較から、第3アクリル化合物の含有率が5質量%以上に高められることも、剥離強度を急峻に高める。また、試験例7と試験例9との比較から、ポリエチレンオキサイド鎖の含有率が2質量%以上20質量%以下、すなわち[条件6]を満たすことも、剥離強度を急峻に高める。 From a comparison between Test Example 7 and Test Example 9, increasing the content of the third acrylic compound to 5% by mass or more also sharply increases the peel strength. Also, from a comparison between Test Example 7 and Test Example 9, a content of the polyethylene oxide chain of 2% by mass or more and 20% by mass or less, i.e., satisfying [Condition 6], also sharply increases the peel strength.
このように、試験例1,2,5と試験例3,4との比較、および試験例7,8と試験例9との比較から、第1アクリル化合物の含有率が50質量%以下、かつ第3アクリル化合物の含有率が5質量%以上20質量%以下を満たすことによって、剥離強度が高まる。また、第1アクリル化合物の含有率が40質量%以下、かつ第3アクリル化合物の含有率が5質量%以上20質量%以下を満たすことによって、剥離強度がさらに高まる。そして、第1アクリル化合物の含有率が30質量%以下、かつ第3アクリル化合物の含有率が5質量%以上20質量%以下を満たすことによって、剥離強度が一層さらに高まる。 Thus, from a comparison of Test Examples 1, 2, and 5 with Test Examples 3 and 4, and a comparison of Test Examples 7 and 8 with Test Example 9, it can be seen that the peel strength is increased when the content of the first acrylic compound is 50% by mass or less and the content of the third acrylic compound is 5% by mass or more and 20% by mass or less. Also, the peel strength is further increased when the content of the first acrylic compound is 40% by mass or less and the content of the third acrylic compound is 5% by mass or more and 20% by mass or less. And the peel strength is still further increased when the content of the first acrylic compound is 30% by mass or less and the content of the third acrylic compound is 5% by mass or more and 20% by mass or less.
すなわち、第1アクリル化合物の含有率が[条件1]の上限値を満たし、かつ第3アクリル化合物の含有率が[条件3]を満たすことによって、剥離強度が高まる。この際、試験例1~3,5,7,8の評価結果から、第2アクリル化合物の含有率が35質量%以上85質量%以下、すなわち[条件2]を満たすことによって、剥離強度向上の実効性が高まる。 That is, the peel strength is increased when the content of the first acrylic compound satisfies the upper limit of [Condition 1] and the content of the third acrylic compound satisfies [Condition 3]. In this case, the evaluation results of Test Examples 1 to 3, 5, 7, and 8 show that the effectiveness of improving the peel strength is increased when the content of the second acrylic compound is 35% by mass or more and 85% by mass or less, i.e., satisfies [Condition 2].
また、第1アクリル化合物の含有率が[条件1A]の上限値を満たし、かつ第3アクリル化合物の含有率が[条件3]を満たすことによって、剥離強度がさらに高まる。この際、試験例1,2,5,7,8の評価結果から、第2アクリル化合物の含有率が45質量%以上85質量%以下、すなわち[条件2A]を満たすことによって、剥離強度向上の実効性が高まる。 In addition, the peel strength is further increased when the content of the first acrylic compound satisfies the upper limit of [Condition 1A] and the content of the third acrylic compound satisfies [Condition 3]. In this case, the evaluation results of Test Examples 1, 2, 5, 7, and 8 show that the effectiveness of improving the peel strength is increased when the content of the second acrylic compound is 45% by mass or more and 85% by mass or less, i.e., satisfies [Condition 2A].
そして、第1アクリル化合物の含有率が[条件1B]の上限値を満たし、かつ第3アクリル化合物の含有率が[条件3]を満たすことによって、剥離強度が一層さらに高まる。この際、試験例1,2,5,7,8の評価結果から、第2アクリル化合物の含有率が55質量%以上85質量%以下、すなわち[条件2B]を満たすことによって、剥離強度向上の実効性が高まる。 The peel strength is further increased when the content of the first acrylic compound satisfies the upper limit of [Condition 1B] and the content of the third acrylic compound satisfies [Condition 3]. In this case, the evaluation results of Test Examples 1, 2, 5, 7, and 8 show that the effectiveness of improving the peel strength is increased when the content of the second acrylic compound is 55% by mass or more and 85% by mass or less, i.e., satisfies [Condition 2B].
また、試験例1,2,5,6の剥離強度の結果から、第1アクリル化合物の官能基数が3以上5以下、かつ第1アクリル化合物の含有率が30質量%以下、すなわち[条件5]が満たされることは、0.2N/25mm以上の剥離強度を得ることの実効性を高める。 In addition, from the results of the peel strength of Test Examples 1, 2, 5, and 6, it is clear that the number of functional groups of the first acrylic compound is 3 to 5, and the content of the first acrylic compound is 30 mass% or less, i.e., satisfying [Condition 5], enhances the effectiveness of obtaining a peel strength of 0.2 N/25 mm or more.
なお、試験例11~13の調光シート11における剥離強度の傾向から、第3アクリル化合物の含有率を20質量%よりも高めることは、剥離強度を低下させる。また、試験例7と試験例14との比較から、粘度低下剤の含有率を0.25質量%未満に下げることは、剥離強度を急峻に高める。試験例7と試験例14との比較から、粘度低下剤の含有率を0.13質量%以下とすることは、高い剥離強度を安定させる。液晶組成物31LCに粘度低下剤を含まないことは、より高い剥離強度をさらに安定させる。試験例14~17の調光シート11における剥離強度の傾向から、粘度低下剤の含有率を0.25質量%から高めることは、剥離強度をさらに低める。このように、剥離強度を高めるが要求される場合、粘度低下剤は、0.50質量%以下であることが好ましく、0.25質量%以下であることがより好ましく、液晶組成物31LCに含まれないことがさらに好ましい。
In addition, from the tendency of the peel strength in the light-adjusting
図6が示すように、第3アクリル化合物の含有率が5質量%以上20質量%以下を満たす範囲において、第1アクリル化合物の含有率は、50質量%から低められるに連れて、剥離強度を急峻に高める。また、第1アクリル化合物の含有率は、40質量%以下の範囲において、剥離強度を0.2N/25mm以上の高い水準で安定させる。このように、調光シート11が[条件1]~[条件3]を満たすことは、電離線硬化性組成物の硬化物における緻密化が剛直性を過度に高めることを抑えて、剥離強度を0.10N/25mm以上に急峻に高める。そして、調光シート11が[条件1A][条件2A][条件3]を満たすことは、剥離強度を0.20N/25mm以上の高い水準で安定させる。
As shown in FIG. 6, when the content of the third acrylic compound is in the range of 5% by mass or more and 20% by mass or less, the peel strength increases sharply as the content of the first acrylic compound decreases from 50% by mass. Also, when the content of the first acrylic compound is in the range of 40% by mass or less, the peel strength is stabilized at a high level of 0.2 N/25 mm or more. In this way, when the light-adjusting
図7が示すように、アクリル配合比は、0から0.25まで高まるに連れて、剥離強度を急峻に高める。また、アクリル配合比は、0.25以上の範囲において、剥離強度を0.20N/25mm以上の高い水準で安定させる。このように、調光シート11が[条件1][条件2][条件4]を満たすことも、電離線硬化性組成物の硬化物における緻密化が剛直性を過度に高めることを抑えて、剥離強度を0.20N/25mm以上の高い水準で安定させる。
As shown in FIG. 7, the peel strength increases sharply as the acrylic compounding ratio increases from 0 to 0.25. Furthermore, when the acrylic compounding ratio is in the range of 0.25 or more, the peel strength is stabilized at a high level of 0.20 N/25 mm or more. In this way, the light-adjusting
(iii)加熱処理後のヘイズ
図3に戻り、試験例1~9の調光シート11では、5%以下の低いヘイズが加熱処理前の透明時に認められた。
(iii) Haze after Heat Treatment Returning to FIG. 3, in the
試験例1~4,6~9の調光シート11では、10%以下の低いヘイズが加熱処理後の透明時に認められた。試験例3,4,8,9の調光シート11では、6%以下のさらに低いヘイズが加熱処理後の透明時に認められた。試験例1~4,6~9の調光シート11では、加熱処理によって5%以下の低いヘイズの上昇が認められた。
In the light-adjusting
これに対して、試験例5の調光シート11では、14%の高いヘイズが加熱処理後の透明時に認められた。試験例5の調光シート11では、加熱処理によって9%のヘイズの上昇が認められた。
In contrast, in the light-adjusting
図4に戻り、試験例11~13の調光シート11では、4%以下の低いヘイズが加熱処理前の透明時に認められた。一方、試験例11~13の調光シート11では、11%以上の高いヘイズが加熱処理後の透明時に認められた。試験例11~13の調光シート11では、加熱処理によって7%以上のヘイズの上昇が認められた。なお、試験例14~17の調光シート11では、5%以下の低いヘイズが加熱処理前の透明時に認められた。試験例14~17の調光シート11では、10%以上の低いヘイズが加熱処理後の透明時に認められた。
Returning to Figure 4, the light-adjusting
試験例6と試験例5,11との比較から、第1アクリル化合物の含有率が0質量%から5質量%以上に高められることは、加熱処理後のヘイズの上昇を急峻に抑える。
試験例1~4,6と試験例5との比較から、第1アクリル化合物の含有率が5質量%以上50質量%以下であることは、加熱処理後のヘイズの上昇抑制を安定させる。
Comparison of Test Example 6 with Test Examples 5 and 11 reveals that increasing the content of the first acrylic compound from 0% by mass to 5% by mass or more sharply suppresses an increase in haze after heat treatment.
Comparing Test Examples 1 to 4 and 6 with Test Example 5, when the content of the first acrylic compound is 5% by mass or more and 50% by mass or less, the increase in haze after heat treatment is stably suppressed.
この際、第2アクリル化合物の含有率が30質量%以上80質量%以下であることによって、ヘイズ上昇の抑制、および剥離強度向上の実効性が高まる。なお、第3アクリル化合物の含有率は、5質量%以上20質量%以下である。加えて、試験例6~8と試験例9との比較から、ポリエチレンオキサイド鎖の含有率が2質量%以上20質量%以下、すなわち[条件6]を満たすことによって、剥離強度が0.11N/25mm以上に高められる。 In this case, by setting the content of the second acrylic compound to 30% by mass or more and 80% by mass or less, the effectiveness of suppressing the increase in haze and improving the peel strength is increased. The content of the third acrylic compound is 5% by mass or more and 20% by mass or less. In addition, a comparison of Test Examples 6 to 8 with Test Example 9 shows that by setting the content of polyethylene oxide chains to 2% by mass or more and 20% by mass or less, i.e., satisfying [Condition 6], the peel strength is increased to 0.11 N/25 mm or more.
試験例1~3,6と試験例4,5との比較から、第1アクリル化合物の含有率が5質量%以上40質量%以下であることは、加熱処理後のヘイズの上昇を抑えると共に、0.10N/25mm以上に剥離強度を高める。この際、第2アクリル化合物の含有率が40質量%以上80質量%以下であることによって、ヘイズ上昇の抑制、および剥離強度向上の実効性が高まる。なお、第3アクリル化合物の含有率は、5質量%以上20質量%以下である。ポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、2質量%以上20質量%以下でもよい。 Comparing Test Examples 1 to 3, 6 with Test Examples 4 and 5, it was found that a content of the first acrylic compound of 5% by mass or more and 40% by mass or less suppresses an increase in haze after heat treatment and increases the peel strength to 0.10 N/25 mm or more. In this case, a content of the second acrylic compound of 40% by mass or more and 80% by mass or less increases the effectiveness of suppressing an increase in haze and improving the peel strength. The content of the third acrylic compound is 5% by mass or more and 20% by mass or less. The content of the polyethylene oxide chain may be 2% by mass or more and 20% by mass or less.
試験例1,2,6と試験例3~5との比較から、第1アクリル化合物の含有率が5質量%以上30質量%以下であることは、加熱処理後のヘイズの上昇を抑えると共に、0.20N/25mm以上に剥離強度をさらに高める。すなわち、第1アクリル化合物の官能基数が3以上5以下、かつ含有率が30質量%以下である[条件5]を満たすことによって、調光シート11の耐熱性と剥離強度との双方が非常に良好となる。この際、第2アクリル化合物の含有率が50質量%以上80質量%以下であることによって、ヘイズ上昇の抑制、および剥離強度向上の実効性がさらに高まる。なお、第3アクリル化合物の含有率は、5質量%以上20質量%以下である。ポリエチレンオキサイド鎖の含有率は、2質量%以上20質量%以下でもよい。
Comparing Test Examples 1, 2, and 6 with Test Examples 3 to 5, the content of the first acrylic compound is 5% by mass or more and 30% by mass or less, which suppresses the increase in haze after heat treatment and further increases the peel strength to 0.20 N/25 mm or more. In other words, by satisfying [Condition 5], in which the number of functional groups of the first acrylic compound is 3 to 5 and the content is 30% by mass or less, both the heat resistance and peel strength of the light-adjusting
試験例11~13の調光シート11における加熱処理後のヘイズの傾向から、第3アクリル化合物の含有率が高まることは、加熱処理後のヘイズを少しずつ低める。ただし、試験例6と試験例11との比較から、第1アクリル化合物の含有率が0質量%から6質量%に高まることは、第3アクリル化合物の含有率が6質量%から42質量%に高まることと同程度に、加熱処理後のヘイズを効果的に低める。
Based on the tendency of the haze after heat treatment in the light-controlling
なお、試験例7と試験例14~17との比較から、粘度低下剤の含有率を0質量%から1質量%までの範囲のなかで変更することは、加熱処理後のヘイズの上昇を同じ程度に抑える。そして、調光シート11に低温環境下の応答性向上、剥離強度の向上、および加熱処理後の低ヘイズが要求される場合、粘度低下剤の含有率は、0.50質量%以下であることが好ましい。また、低温環境下の応答性向上、高い剥離強度の安定化、および加熱処理後の低ヘイズが要求される場合、粘度低下剤の含有率は、0.25質量%未満であることが好ましく、0.13質量%以下であることがさらに好ましい。
Comparing Test Example 7 with Test Examples 14 to 17, changing the viscosity reducing agent content within the range of 0% by mass to 1% by mass suppresses the increase in haze after heat treatment to the same extent. If improved responsiveness in low-temperature environments, improved peel strength, and low haze after heat treatment are required for the light-adjusting
この際、[条件1A][条件2A][条件3]が満たされ、かつ第1アクリル化合物の含有率が5質量%以上であることが、粘度低下剤の含有による剥離強度の低下を抑制してもよい。また、[条件1B][条件2B][条件3]が満たされ、かつ第1アクリル化合物の含有率が5質量%以上であることが、粘度低下剤の含有による剥離強度の低下を抑制してもよい。 In this case, the decrease in peel strength due to the inclusion of a viscosity reducer may be suppressed if [Condition 1A], [Condition 2A], and [Condition 3] are satisfied and the content of the first acrylic compound is 5% by mass or more. Also, the decrease in peel strength due to the inclusion of a viscosity reducer may be suppressed if [Condition 1B], [Condition 2B], and [Condition 3] are satisfied and the content of the first acrylic compound is 5% by mass or more.
一方、[条件1]~[条件3]が満たされ、[条件1B]および[条件2B]の少なくとも一方が満たされず、かつ高い剥離強度の安定化が要求される場合、粘度低下剤が液晶組成物31LCに含まれないことが好ましい。[条件1][条件2][条件4]が満たされ、[条件1B]および[条件2B]の少なくとも一方が満たされず、かつ高い剥離強度の安定化が要求される場合もまた、粘度低下剤が液晶組成物31LCに含まれないことが好ましい。 On the other hand, when [Condition 1] to [Condition 3] are satisfied, but at least one of [Condition 1B] and [Condition 2B] is not satisfied, and high stabilization of peel strength is required, it is preferable that no viscosity reducing agent is included in liquid crystal composition 31LC. When [Condition 1], [Condition 2], and [Condition 4] are satisfied, but at least one of [Condition 1B] and [Condition 2B] is not satisfied, and high stabilization of peel strength is required, it is also preferable that no viscosity reducing agent is included in liquid crystal composition 31LC.
図8が示すように、第1アクリル化合物の含有率は、0質量%から5質量%に変わることによって、加熱処理後のヘイズの高まりが急峻に抑えられる。また、第1アクリル化合物の含有率の変化に対するヘイズの変化は、第1アクリル化合物の含有率が5質量%以上であることによって、緩やかに推移する。このように、第1アクリル化合物の含有率が5質量%以上であることは、調光シート11に安定した良好な耐熱性を与える。
As shown in FIG. 8, by changing the content of the first acrylic compound from 0% by mass to 5% by mass, the increase in haze after heat treatment is suppressed sharply. Furthermore, the change in haze with respect to the change in the content of the first acrylic compound is gradual when the content of the first acrylic compound is 5% by mass or more. In this way, a content of the first acrylic compound of 5% by mass or more provides the light-
図9が示すように、アクリル配合比は、0から5まで高まるに連れて、加熱処理後のヘイズを5%から14%に徐々に高める。アクリル配合比は、0.25以上2.0以下の範囲において、加熱処理後のヘイズを5%以上9%以下のなかに止める。このように、調光シート11が[条件1][条件2][条件4A]を満たすことは、加熱処理後に良好なヘイズを示す。
As shown in FIG. 9, as the acrylic blend ratio increases from 0 to 5, the haze after heat treatment gradually increases from 5% to 14%. When the acrylic blend ratio is in the range of 0.25 to 2.0, the haze after heat treatment remains between 5% and 9%. In this way, when the light-adjusting
図10の白抜き丸印は、(i)低温環境下の応答に2秒以下、(ii)剥離強度に0.2N/25mm以上、かつ(iii)加熱処理後のヘイズに9%以下を示した水準である。すなわち、図10の白抜き丸印は、試験例1,2,6~8を示し、低温環境において良好な応答、良好な剥離強度、および製造や実装などに加熱が含まれるときに良好な透明性を得られる水準である。 The open circles in Figure 10 indicate the levels at which (i) a response time in a low-temperature environment of 2 seconds or less, (ii) a peel strength of 0.2 N/25 mm or more, and (iii) a haze after heat treatment of 9% or less can be achieved. In other words, the open circles in Figure 10 indicate test examples 1, 2, and 6 to 8, which indicate the levels at which good response and good peel strength can be achieved in a low-temperature environment, and good transparency can be obtained when heating is involved in the manufacturing and mounting processes.
図10の黒塗り三角印は、(i)低温環境下の応答に2秒以下、(ii)剥離強度に0.2N/25mm未満、かつ(iii)加熱処理後のヘイズに9%以下を示した水準である。すなわち、図10の黒塗り三角印は、試験例3,4,9を示し、低温環境において良好な応答を示し、かつ製造や実装などに加熱が含まれるときに良好な透明性を得られる一方、良好な剥離強度を得られない水準である。 The black triangles in Figure 10 indicate the level at which (i) the response in a low-temperature environment is 2 seconds or less, (ii) the peel strength is less than 0.2 N/25 mm, and (iii) the haze after heat treatment is 9% or less. In other words, the black triangles in Figure 10 indicate test examples 3, 4, and 9, which show good response in a low-temperature environment and provide good transparency when heating is involved in manufacturing and mounting, but are at a level at which good peel strength cannot be obtained.
図10の白抜き四角印は、(i)低温環境下の応答に2秒以下、(ii)剥離強度に0.2N/25mm以上、かつ(iii)加熱処理後のヘイズに10%以上を示した水準である。すなわち、図10の白抜き四角印は、試験例5を示し、低温環境において良好な応答、および良好な剥離強度を得られる一方、製造や実装などに加熱が含まれるときに良好な透明性を得られない水準である。 The open squares in Figure 10 indicate the level at which (i) the response in a low-temperature environment is 2 seconds or less, (ii) the peel strength is 0.2 N/25 mm or more, and (iii) the haze after heat treatment is 10% or more. In other words, the open squares in Figure 10 indicate Test Example 5, which shows a good response and good peel strength in a low-temperature environment, but does not show a good level of transparency when heating is involved in the manufacturing or mounting process.
図10の黒塗り丸印は、(i)低温環境下の応答に10秒、(ii)剥離強度に0.2N/25mm以上、(iii)加熱処理後のヘイズに10%以上を示した水準である。すなわち、図10の黒塗り丸印は、試験例11を示し、良好な剥離強度は得られる一方、低温環境において良好な応答を得られず、かつ製造や実装などに加熱が含まれるときに良好な透明性を得られない水準である。 The black circles in Figure 10 indicate the levels at which (i) a response in a low-temperature environment of 10 seconds, (ii) a peel strength of 0.2 N/25 mm or more, and (iii) a haze after heat treatment of 10% or more were achieved. In other words, the black circles in Figure 10 indicate test example 11, which indicates a level at which good peel strength was achieved but good response was not achieved in a low-temperature environment and good transparency was not achieved when heating was involved in the manufacturing or mounting process.
図10の黒塗り菱形印は、(i)低温環境下の応答に8秒、または9秒、(ii)剥離強度に0.2N/25mm未満、(iii)加熱処理後のヘイズに10%以上を示した水準である。すなわち、図10の黒塗り菱形印は、試験例12、13を示し、低温環境において良好な応答を得られず、良好な剥離強度も得られず、かつ製造や実装などに加熱が含まれるときに良好な透明性も得られない水準である。 The black diamonds in Figure 10 indicate levels where (i) the response in a low-temperature environment is 8 or 9 seconds, (ii) the peel strength is less than 0.2 N/25 mm, and (iii) the haze after heat treatment is 10% or more. In other words, the black diamonds in Figure 10 indicate test examples 12 and 13, which are levels where good response in a low-temperature environment, good peel strength, and good transparency cannot be obtained when heating is involved in the manufacturing or mounting process.
図10が示すように、白抜き丸印および四角印と、黒塗り丸印および菱形との比較から、第1アクリル化合物の含有率が2質量%以上であることは、低温環境下で良好な応答性を得る。白抜き四角印、黒塗り丸印、および菱形印と、白抜き丸印と、の比較から、第1アクリル化合物の含有率が5質量%以上であることは、低温環境下で良好な応答性を得ると共に、加熱処理後の透明時に良好なヘイズも得る。黒塗り丸印、菱形印、および三角印と、白抜き丸印、および四角印と、の比較から、条件1A,2A,3を満たす、あるいは条件1A,2A,3を満たすことは、低温環境下の良好な応答性、および良好な剥離強度を得る。
As shown in FIG. 10, a comparison of the open circles and squares with the filled circles and diamonds shows that a content of the first acrylic compound of 2% by mass or more provides good responsiveness in a low-temperature environment. A comparison of the open squares, filled circles, and diamonds with the open circles shows that a content of the first acrylic compound of 5% by mass or more provides good responsiveness in a low-temperature environment and also provides good haze when transparent after heat treatment. A comparison of the filled circles, diamonds, and triangles with the open circles and squares shows that
[第1配向層32、第2配向層33、粘度低下剤]
上述した調光シート11の実装技術は、調光シート11に加熱耐性を要求する。中間膜方式の実装技術は、ガラス基板で調光シート11を挟みながら貼合用にガラス基板を加熱する。調光層31を挟むフィルムは、貼合時のような高温環境下で、当該フィルムから低分子不純物を発生する。調光層31に拡散した低分子不純物が液晶化合物LCMの電気的特性を劣化させるため、調光層31を挟むフィルムの表面処理層は、低分子不純物と液晶化合物LCMとの接触を抑制するようなバリア機能を備える。
[
The mounting technique for the light-adjusting
第1透明支持層36や第2透明支持層37のように可撓性を有した基材を採用することは、ロールツーロールによる調光シート11の生産を可能にする。一方、高温環境下で変形しやすい基材の採用は、高温環境下を避けるように調光シート11の形成条件を低温環境下に制限する。リバース型の調光シート11のように電圧信号の供給停止期間に液晶化合物LCMの配向が要求される場合、調光シート11は、第1配向層32や第2配向層33を備える。液晶化合物LCMに配向規制力を加える第1配向層32や第2配向層33は、上述した表面処理層の有無に関わらず、調光層31に接するように配置される。
The use of a flexible substrate such as the first
低温環境下に形成条件を制限された第1配向層32や第2配向層33は、ポリアミック酸などの未反応物質や残留溶剤などの低分子不純物を含有する。加熱を要求する調光シート11の実装技術は、調光層31に接するように配置された第1配向層32や第2配向層33から、未反応物質から生成される副生成物や残留溶剤を調光層31に拡散させてしまう。調光層31に拡散した未反応物質などの低分子不純物は、電離線硬化樹脂層31Pを通じて第1配向層32や第2配向層33による配向規制力の作用を弱めて、透明時における調光シート11のヘイズを高めてしまう。この点、電離線硬化性組成物の硬化物と液晶組成物31LCとの相分離の過程において電離線硬化性組成物の硬化物を緻密にする構成は、低分子不純物が電離線硬化樹脂層31Pを通じて液晶組成物31LCに熱拡散することを抑える構成を含む。
The
アジピン酸エステルやリン酸エステルなどの粘度低下剤が温度の低下によって粘度を高める度合いは、液晶化合物LCMが温度の低下によって粘度を高める度合いよりも寒冷地などの低温環境において小さい。一方、液晶組成物31LCのなかの粘度低下剤が調光層31と他の層との界面に達することは、他の層に対する調光層31の剥離強度を低める。電離線硬化性組成物の硬化物と液晶組成物31LCとの相分離の過程において電離線硬化性組成物の硬化物を緻密にすることは、液晶組成物31LCにおける低分子化合物の残存を抑える。そして、低分子化合物が剥離強度を低めない程度に、電離線硬化性組成物の硬化物を緻密にする構成は、調光層31と他の層との界面に粘度低下剤が拡散することを抑える構成を含む。
The degree to which viscosity reducing agents such as adipates and phosphates increase the viscosity due to a decrease in temperature is smaller in low-temperature environments such as cold regions than the degree to which the liquid crystal compound LCM increases the viscosity due to a decrease in temperature. On the other hand, the viscosity reducing agent in the liquid crystal composition 31LC reaching the interface between the light-adjusting
上記実施形態によれば、以下に列挙する効果が得られる。
(1)条件1,2,3、あるいは条件1,2,4を満たす電離線硬化樹脂層31Pは、調光層31の相分離の過程において電離線硬化性組成物の硬化物を緻密にすると共に、液晶組成物31LCのなかに低分子化合物が残ることを抑える。これにより、電離線硬化樹脂層31Pは、低温環境下における応答性を高める。
According to the above embodiment, the following effects can be obtained.
(1) The ionizing radiation
(2)条件1A,2A,3、あるいは条件1A,2A,4を満たす電離線硬化樹脂層31Pは、低分子化合物が液晶化合物LCMに達することを抑制しながらも、調光シート11のシート内における剥離強度を高める。
(2) The ionizing radiation cured
(3)条件1B,2B,3、あるいは条件1B,2B,4を満たす電離線硬化樹脂層31Pは、低分子化合物が液晶化合物LCMに達することを抑制しながらも、調光シート11のシート内における剥離強度を大幅に高める。
(3) The ionizing radiation cured
(4)第1アクリル化合物の含有率が5質量%以上50質量%以下、第2アクリル化合物の含有率が30質量%以上80質量%以下、かつ第3アクリル化合物の含有率が5質量%以上20質量%以下でもよい。これにより、電離線硬化樹脂層31Pは、第1配向層32や第2配向層33に含有される低分子不純物が液晶化合物LCMに達することを抑制する。結果として、調光シート11における光学特性の耐熱性が高まる。
(4) The content of the first acrylic compound may be 5% by mass or more and 50% by mass or less, the content of the second acrylic compound may be 30% by mass or more and 80% by mass or less, and the content of the third acrylic compound may be 5% by mass or more and 20% by mass or less. This allows the ionizing radiation cured
(5)第1アクリル化合物の含有率が5質量%以上40質量%以下、第2アクリル化合物の含有率が40質量%以上80質量%以下、かつ第3アクリル化合物の含有率が5質量%以上20質量%以下でもよい。また、アクリル配合比が0.25以上2.0以下でもよい。これにより、電離線硬化樹脂層31Pは、上記(1)に準じた効果に加え、調光シート11における光学特性の耐熱性を高めながらも、調光シート11のシート内における剥離強度も高める。
(5) The content of the first acrylic compound may be 5% by mass or more and 40% by mass or less, the content of the second acrylic compound may be 40% by mass or more and 80% by mass or less, and the content of the third acrylic compound may be 5% by mass or more and 20% by mass or less. The acrylic compounding ratio may be 0.25 or more and 2.0 or less. As a result, the ionizing radiation cured
(6)第1アクリル化合物の含有率が5質量%以上30質量%以下、第2アクリル化合物の含有率が50質量%以上80質量%以下、かつ第3アクリル化合物の含有率が5質量%以上20質量%以下でもよい。また、アクリル配合比が0.25以上2.0以下でもよい。これにより、電離線硬化樹脂層31Pは、上記(2)に準じた効果に加え、調光シート11における光学特性の耐熱性を高めながらも、調光シート11のシート内における剥離強度を大幅に高める。
(6) The content of the first acrylic compound may be 5% by mass or more and 30% by mass or less, the content of the second acrylic compound may be 50% by mass or more and 80% by mass or less, and the content of the third acrylic compound may be 5% by mass or more and 20% by mass or less. The acrylic compounding ratio may be 0.25 or more and 2.0 or less. As a result, the ionizing radiation cured
(7)上記(4)~(6)に加えて、調光シート11が第1配向層32と第2配向層33とを備える場合、低温環境下における応答性を高められたリバース型の調光シート11の提供が可能になる。
(7) In addition to the above (4) to (6), when the light-adjusting
(8)電離線硬化樹脂層31Pは、条件1A,2A,3、あるいは条件1A,2A,4を満たし、かつ液晶組成物31LCは、0.25質量%以下の粘度低下剤を含有してもよい。これにより、調光シート11は、低温環境下における応答性向上の実効性を高めると共に、剥離強度の低下を抑える。
(8) The ionizing radiation cured
(9)電離線硬化樹脂層31Pは、条件1B,2B,3、あるいは条件1B,2B,4を満たし、かつ液晶組成物31LCは、粘度低下剤を含有しなくてもよい。これにより、調光シート11は、低温環境下における応答性向上の実効性を高めると共に、剥離強度の低下を大幅に抑える。
(9) The ionizing radiation cured
LCM…液晶化合物
10…調光装置
11…調光シート
12…駆動部
31…調光層
31P…電離線硬化樹脂層
31LC…液晶組成物
31D…空隙
32…第1配向層
33…第2配向層
34…第1透明電極層
35…第2透明電極層
36…第1透明支持層
37…第2透明支持層
LCM...
Claims (14)
第2透明電極層と、
前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に位置する調光層と、を備え、
前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に印加される電圧の変更によって前記調光層のヘイズを変更する調光シートであって、
前記調光層は、
空隙を区画する電離線硬化樹脂層と、
前記空隙に充填される液晶組成物と、を備え、
アクリロイル基、およびメタクリロイル基が官能基であり、
3個以上の前記官能基を有し、かつ二重結合当量が150g/eq以下であるアクリル化合物が第1アクリル化合物であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第1アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の2質量%以上50質量%以下であり、
炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルコキシアルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルキル、および炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルコキシアルキルが第2アクリル化合物であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第2アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の35質量%以上85質量%以下であり、
1個以上3個以下の前記官能基とポリエチレンオキサイド鎖とを有し、かつ二重結合当量が300g/eq以上700g/eq以下であるアクリル化合物が第3アクリル化合物であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第3アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の5質量%以上20質量%以下である
ことを特徴とする調光シート。 A first transparent electrode layer;
A second transparent electrode layer;
a light control layer located between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer,
A light-controlling sheet that changes the haze of the light-controlling layer by changing a voltage applied between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer,
The light-controlling layer is
an ionizing radiation cured resin layer defining a gap;
A liquid crystal composition filled in the gap,
The acryloyl group and the methacryloyl group are functional groups,
the first acrylic compound is an acrylic compound having three or more of the functional groups and a double bond equivalent of 150 g/eq or less;
the content of the first acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 2% by mass or more and 50% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer,
the second acrylic compound is a monofunctional alkyl acrylate containing a saturated alkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkoxyalkyl acrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkyl methacrylate containing a saturated alkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, or a monofunctional alkoxyalkyl methacrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having from 2 to 12 carbon atoms;
the content of the second acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 35% by mass or more and 85% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer,
the third acrylic compound is an acrylic compound having one or more and three or less of the functional groups and a polyethylene oxide chain, and having a double bond equivalent of 300 g/eq or more and 700 g/eq or less;
The light-controlling sheet, characterized in that the content of the third acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 5% by mass or more and 20% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer.
第2透明電極層と、
前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に位置する調光層と、を備え、
前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に印加される電圧の変更によって前記調光層のヘイズを変更する調光シートであって、
前記調光層は、
空隙を区画する電離線硬化樹脂層と、
前記空隙に充填される液晶組成物と、を備え、
アクリロイル基、およびメタクリロイル基が官能基であり、
3個以上の前記官能基を有し、かつ二重結合当量が150g/eq以下であるアクリル化合物が第1アクリル化合物であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第1アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の2質量%以上50質量%以下であり、
炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルコキシアルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルキル、および炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルコキシアルキルが第2アクリル化合物であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第2アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の35質量%以上85質量%以下であり、
1個以上3個以下の前記官能基とポリエチレンオキサイド鎖とを有し、かつ二重結合当量が300g/eq以上700g/eq以下であるアクリル化合物が第3アクリル化合物であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第1アクリル化合物の含有率に対する前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第3アクリル化合物の含有率が0.25以上である
ことを特徴とする調光シート。 A first transparent electrode layer;
A second transparent electrode layer;
a light control layer located between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer,
A light-controlling sheet that changes the haze of the light-controlling layer by changing a voltage applied between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer,
The light-controlling layer is
an ionizing radiation cured resin layer defining a gap;
A liquid crystal composition filled in the gap,
The acryloyl group and the methacryloyl group are functional groups,
the first acrylic compound is an acrylic compound having three or more of the functional groups and a double bond equivalent of 150 g/eq or less;
the content of the first acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 2% by mass or more and 50% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer,
the second acrylic compound is a monofunctional alkyl acrylate containing a saturated alkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkoxyalkyl acrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkyl methacrylate containing a saturated alkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, or a monofunctional alkoxyalkyl methacrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having from 2 to 12 carbon atoms;
the content of the second acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 35% by mass or more and 85% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer,
the third acrylic compound is an acrylic compound having one or more and three or less of the functional groups and a polyethylene oxide chain, and having a double bond equivalent of 300 g/eq or more and 700 g/eq or less;
A light-adjusting sheet, characterized in that a content ratio of the third acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer relative to a content ratio of the first acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 0.25 or more.
前記第2透明電極層と前記調光層とに挟まれた第2配向層と、をさらに備える
請求項1または2に記載の調光シート。 a first alignment layer sandwiched between the first transparent electrode layer and the light control layer;
The light-controlling sheet according to claim 1 or 2, further comprising a second alignment layer sandwiched between the second transparent electrode layer and the light-controlling layer.
請求項1または2に記載の調光シート。 The light controlling sheet according to claim 1 or 2, wherein the liquid crystal composition does not contain a viscosity reducing agent.
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第1アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の30質量%以下であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第2アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の55質量%以上である
請求項1または2に記載の調光シート。 the number of the functional groups in the first acrylic compound is 3 or more and 5 or less,
the content of the first acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 30% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer,
The light-controlling sheet according to claim 1 or 2, wherein the content of the second acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 55% by mass or more of the ionizing radiation cured resin layer.
請求項1または2に記載の調光シート。 The light-controlling sheet according to claim 1 or 2, wherein the content of polyethylene oxide chains constituting the ionizing radiation cured resin layer is 2% by mass or more and 20% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer.
前記第2アクリル化合物は、イソボルニルアクリレートであり、
前記第3アクリル化合物は、アルコキシポリエチレングリコール化合物である
請求項1または2に記載の調光シート。 the first acrylic compound is a pentaerythritol compound;
the second acrylic compound is isobornyl acrylate;
The light controlling sheet according to claim 1 or 2, wherein the third acrylic compound is an alkoxypolyethylene glycol compound.
前記第2アクリル化合物は、イソボルニルアクリレートであり、
前記第3アクリル化合物は、ポリエチレンオキシサイド変性トリメチロールプロパン化合物である
請求項1または2に記載の調光シート。 the first acrylic compound is a trimethylolpropane compound;
the second acrylic compound is isobornyl acrylate;
The light-controlling sheet according to claim 1 or 2, wherein the third acrylic compound is a polyethyleneoxyside-modified trimethylolpropane compound.
請求項3に記載の調光シート。 The light control sheet according to claim 3 , wherein the first alignment layer and the second alignment layer each contain at least one polymer selected from the group consisting of a polyimide precursor and a polyimide.
請求項1または2に記載の調光シート。 The light-controlling sheet according to claim 1 , wherein a weight of the liquid crystal composition is 20% by mass or more and 70% by mass or less with respect to a total weight of the ionizing radiation cured resin layer and the liquid crystal composition.
前記調光シートに電圧を印加する駆動部と、を備える調光装置であって、
前記調光シートは、
第1透明電極層と、
第2透明電極層と、
前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に位置する調光層と、を備え、
前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に印加される前記電圧の変更によって前記調光層のヘイズを変更し、
前記調光層は、
空隙を区画する電離線硬化樹脂層と、
前記空隙に充填される液晶組成物と、を備え、
アクリロイル基、およびメタクリロイル基が官能基であり、
3個以上の前記官能基を有し、かつ二重結合当量が150g/eq以下であるアクリル化合物が第1アクリル化合物であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第1アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の2質量%以上50質量%以下であり、
炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルコキシアルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルキル、および炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルコキシアルキルが第2アクリル化合物であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第2アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の35質量%以上85質量%以下であり、
1個以上3個以下の前記官能基とポリエチレンオキサイド鎖とを有し、かつ二重結合当量が300g/eq以上700g/eq以下であるアクリル化合物が第3アクリル化合物であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第3アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の5質量%以上20質量%以下である
ことを特徴とする調光装置。 A light-adjusting sheet,
A light-adjusting device comprising: a driving unit that applies a voltage to the light-adjusting sheet;
The light control sheet is
A first transparent electrode layer;
A second transparent electrode layer;
a light control layer located between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer,
changing the haze of the light control layer by changing the voltage applied between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer;
The light-controlling layer is
an ionizing radiation cured resin layer defining a gap;
A liquid crystal composition filled in the gap,
The acryloyl group and the methacryloyl group are functional groups,
the first acrylic compound is an acrylic compound having three or more of the functional groups and a double bond equivalent of 150 g/eq or less;
the content of the first acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 2% by mass or more and 50% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer,
the second acrylic compound is a monofunctional alkyl acrylate containing a saturated alkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkoxyalkyl acrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkyl methacrylate containing a saturated alkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, or a monofunctional alkoxyalkyl methacrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having from 2 to 12 carbon atoms;
the content of the second acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 35% by mass or more and 85% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer,
the third acrylic compound is an acrylic compound having one or more and three or less of the functional groups and a polyethylene oxide chain, and having a double bond equivalent of 300 g/eq or more and 700 g/eq or less;
A light control device, characterized in that a content of the third acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 5% by mass or more and 20% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer.
前記調光シートに電圧を印加する駆動部と、を備える調光装置であって、
前記調光シートは、
第1透明電極層と、
第2透明電極層と、
前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に位置する調光層と、を備え、
前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に印加される前記電圧の変更によって前記調光層のヘイズを変更し、
前記調光層は、
空隙を区画する電離線硬化樹脂層と、
前記空隙に充填される液晶組成物と、を備え、
アクリロイル基、およびメタクリロイル基が官能基であり、
3個以上の前記官能基を有し、かつ二重結合当量が150g/eq以下であるアクリル化合物が第1アクリル化合物であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第1アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の2質量%以上50質量%以下であり、
炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルコキシアルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルキル、および炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルコキシアルキルが第2アクリル化合物であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第2アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の35質量%以上85質量%以下であり、
1個以上3個以下の前記官能基とポリエチレンオキサイド鎖とを有し、かつ二重結合当量が300g/eq以上700g/eq以下であるアクリル化合物が第3アクリル化合物であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第1アクリル化合物の含有率に対する前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第3アクリル化合物の含有率が0.25以上である
ことを特徴とする調光装置。 A light-adjusting sheet,
A light-adjusting device comprising: a driving unit that applies a voltage to the light-adjusting sheet;
The light control sheet is
A first transparent electrode layer;
A second transparent electrode layer;
a light control layer located between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer,
changing the haze of the light control layer by changing the voltage applied between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer;
The light-controlling layer is
an ionizing radiation cured resin layer defining a gap;
A liquid crystal composition filled in the gap,
The acryloyl group and the methacryloyl group are functional groups,
the first acrylic compound is an acrylic compound having three or more of the functional groups and a double bond equivalent of 150 g/eq or less;
the content of the first acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 2% by mass or more and 50% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer,
the second acrylic compound is a monofunctional alkyl acrylate containing a saturated alkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkoxyalkyl acrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkyl methacrylate containing a saturated alkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, or a monofunctional alkoxyalkyl methacrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having from 2 to 12 carbon atoms;
the content of the second acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 35% by mass or more and 85% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer,
the third acrylic compound is an acrylic compound having one or more and three or less of the functional groups and a polyethylene oxide chain, and having a double bond equivalent of 300 g/eq or more and 700 g/eq or less;
A light control device, characterized in that a content ratio of the third acrylic compound constituting the ionizing radiation curable resin layer relative to a content ratio of the first acrylic compound constituting the ionizing radiation curable resin layer is 0.25 or more.
前記塗工層に電離線を照射することによって、前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に、空隙を区画する電離線硬化樹脂層と、前記空隙に充填される前記液晶組成物とを備える調光層を形成することと、を含み、
前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に印加される電圧の変更によって前記調光層のヘイズを変更する調光シートの製造方法であって、
アクリロイル基、およびメタクリロイル基が官能基であり、
3個以上の前記官能基を有し、かつ二重結合当量が150g/eq以下であるアクリル化合物が第1アクリル化合物であり、
前記電離線硬化性組成物を構成する前記第1アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化性組成物の2質量%以上50質量%以下であり、
炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルコキシアルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルキル、および炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルコキシアルキルが第2アクリル化合物であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第2アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の35質量%以上85質量%以下であり、
1個以上3個以下の前記官能基とポリエチレンオキサイド鎖とを有し、かつ二重結合当量が300g/eq以上700g/eq以下であるアクリル化合物が第3アクリル化合物であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第3アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の5質量%以上20質量%以下である
ことを特徴とする調光シートの製造方法。 forming a coating layer containing an ionizing radiation curable composition and a liquid crystal composition between a first transparent electrode layer and a second transparent electrode layer;
and forming a light control layer between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer, the light control layer including an ionizing radiation cured resin layer that defines a gap and the liquid crystal composition that fills the gap, by irradiating the coating layer with ionizing radiation;
A method for manufacturing a light-controlling sheet for changing the haze of the light-controlling layer by changing a voltage applied between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer, comprising:
The acryloyl group and the methacryloyl group are functional groups,
the first acrylic compound is an acrylic compound having three or more of the functional groups and a double bond equivalent of 150 g/eq or less;
the content of the first acrylic compound constituting the ionizing radiation curable composition is 2% by mass or more and 50% by mass or less of the ionizing radiation curable composition,
the second acrylic compound is a monofunctional alkyl acrylate containing a saturated alkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkoxyalkyl acrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkyl methacrylate containing a saturated alkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, or a monofunctional alkoxyalkyl methacrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having from 2 to 12 carbon atoms;
the content of the second acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 35% by mass or more and 85% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer,
the third acrylic compound is an acrylic compound having one or more and three or less of the functional groups and a polyethylene oxide chain, and having a double bond equivalent of 300 g/eq or more and 700 g/eq or less;
The method for producing a light-controlling sheet, wherein the content of the third acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 5% by mass or more and 20% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer.
前記塗工層に電離線を照射することによって、前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に、空隙を区画する電離線硬化樹脂層と、前記空隙に充填される前記液晶組成物とを備える調光層を形成することと、を含み、
前記第1透明電極層と前記第2透明電極層との間に印加される電圧の変更によって前記調光層のヘイズを変更する調光シートの製造方法であって、
アクリロイル基、およびメタクリロイル基が官能基であり、
3個以上の前記官能基を有し、かつ二重結合当量が150g/eq以下であるアクリル化合物が第1アクリル化合物であり、
前記電離線硬化性組成物を構成する前記第1アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化性組成物の2質量%以上50質量%以下であり、
炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のアクリル酸アルコキシアルキル、炭素数が2以上12以下の飽和アルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルキル、および炭素数が2以上12以下の飽和アルコキシアルキル基を含有する単官能のメタクリル酸アルコキシアルキルが第2アクリル化合物であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第2アクリル化合物の含有率が前記電離線硬化樹脂層の35質量%以上85質量%以下であり、
1個以上3個以下の前記官能基とポリエチレンオキサイド鎖とを有し、かつ二重結合当量が300g/eq以上700g/eq以下であるアクリル化合物が第3アクリル化合物であり、
前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第1アクリル化合物の含有率に対する前記電離線硬化樹脂層を構成する前記第3アクリル化合物の含有率が0.25以上である
ことを特徴とする調光シートの製造方法。 forming a coating layer containing an ionizing radiation curable composition and a liquid crystal composition between a first transparent electrode layer and a second transparent electrode layer;
and forming a light control layer between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer, the light control layer including an ionizing radiation cured resin layer that defines a gap and the liquid crystal composition that fills the gap, by irradiating the coating layer with ionizing radiation;
A method for manufacturing a light-controlling sheet for changing the haze of the light-controlling layer by changing a voltage applied between the first transparent electrode layer and the second transparent electrode layer, comprising:
The acryloyl group and the methacryloyl group are functional groups,
the first acrylic compound is an acrylic compound having three or more of the functional groups and a double bond equivalent of 150 g/eq or less;
the content of the first acrylic compound constituting the ionizing radiation curable composition is 2% by mass or more and 50% by mass or less of the ionizing radiation curable composition,
the second acrylic compound is a monofunctional alkyl acrylate containing a saturated alkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkoxyalkyl acrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, a monofunctional alkyl methacrylate containing a saturated alkyl group having from 2 to 12 carbon atoms, or a monofunctional alkoxyalkyl methacrylate containing a saturated alkoxyalkyl group having from 2 to 12 carbon atoms;
the content of the second acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 35% by mass or more and 85% by mass or less of the ionizing radiation cured resin layer,
the third acrylic compound is an acrylic compound having one or more and three or less of the functional groups and a polyethylene oxide chain, and having a double bond equivalent of 300 g/eq or more and 700 g/eq or less;
A method for producing a light-controlling sheet, wherein a content ratio of the third acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer relative to a content ratio of the first acrylic compound constituting the ionizing radiation cured resin layer is 0.25 or more.
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