JP2024114028A - Reinforcement film and method for manufacturing device with reinforcement film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、フィルム基材と光硬化性の粘着剤層とが固着積層された補強フィルムに関する。さらに、本発明は、補強フィルムが表面に貼り合わせられたデバイスの製造方法に関する。 The present invention relates to a reinforced film in which a film substrate and a photocurable adhesive layer are bonded together. Furthermore, the present invention relates to a method for manufacturing a device having a surface to which the reinforced film is bonded.
ディスプレイ等の光学デバイスや電子デバイスの表面には、表面保護や耐衝撃性付与等を目的として、粘着性フィルムが貼着される場合がある。このような粘着性フィルムは、通常、フィルム基材の主面に粘着剤層が固着積層されており、この粘着剤層を介してデバイス表面に貼り合わせられる。 Adhesive films are sometimes applied to the surfaces of optical devices such as displays and electronic devices for the purposes of surface protection, impact resistance, etc. Such adhesive films usually have an adhesive layer fixedly laminated to the main surface of a film substrate, and are attached to the device surface via this adhesive layer.
デバイスの組み立て、加工、輸送等の使用前の状態において、デバイスまたはデバイス構成部品の表面に粘着性フィルムを仮着することにより、被着体の傷つきや破損を抑制できる。特許文献1には、フィルム基材上に光硬化性の粘着剤組成物からなる粘着剤層を備える補強フィルムが開示されている。
By temporarily attaching an adhesive film to the surface of a device or a device component before use, such as during device assembly, processing, or transportation, it is possible to prevent the adherend from being scratched or damaged.
この補強フィルムの粘着剤は、被着体との貼り合わせ直後は低粘着性であるため、被着体からのはく離が容易である。そのため、被着体からのリワークが可能であるとともに、被着体の補強を必要としない箇所に貼り合わせられた補強フィルムを切断し、被着体の表面から補強フィルムを位置選択的にはく離除去することも可能である。補強フィルムの粘着剤は、光硬化により被着体と強固に接着するため、被着体の表面にフィルム基材が永久接着した状態となり、デバイスの表面保護等を担う補強材として利用可能である。 The adhesive of this reinforcing film has low adhesion immediately after application to the adherend, making it easy to peel off from the adherend. This allows for rework from the adherend, and also makes it possible to cut the reinforcing film that has been applied to a location on the adherend that does not require reinforcement, and selectively peel and remove the reinforcing film from the surface of the adherend. The adhesive of the reinforcing film adheres firmly to the adherend when photocured, so the film base material is permanently bonded to the surface of the adherend, making it usable as a reinforcing material for protecting the surface of devices, etc.
近年では、樹脂フィルム等の折り曲げ可能な基板(フレキシブル基板)を用いた有機ELパネルが実用化されており、折り曲げ可能なフレキシブルディスプレイが提案されている。折り畳み可能なデバイス(フォルダブルデバイス)では、同じ場所で屈曲が繰り返し行われる。屈曲箇所では、内側には圧縮応力、外側には引張応力が付与され、屈曲箇所およびその周辺に歪みが生じ、被着体からの粘着剤の剥がれが生じる場合がある。 In recent years, organic EL panels using foldable substrates (flexible substrates) such as resin films have been put to practical use, and foldable flexible displays have been proposed. In foldable devices, the same location is repeatedly bent. At the bent location, compressive stress is applied on the inside and tensile stress is applied on the outside, causing distortion at the bent location and its surroundings, which may cause the adhesive to peel off from the adherend.
特許文献2では、フォルダブルデバイスの補強フィルムの粘着剤として、低ガラス転移温度のアクリル系ベースポリマーを含む光硬化性の粘着剤を用いることにより、フォルダブルデバイスを繰り返し屈曲した際の被着体からの粘着剤層のはく離を抑制することが提案されている。
粘着剤のベースポリマーとしてガラス転移温度の低いポリマーを用いることにより、光硬化後の粘着剤層の貯蔵弾性率が小さくなるため、屈曲部分での補強フィルムのはく離を抑制できる。ガラス転移温度の低いベースポリマーを用いた場合は、光硬化前の粘着剤層も貯蔵弾性率が小さいため、粘着剤層の切断加工性が低下する傾向がある。粘着剤層の切断加工性が低い場合は、被着体から補強フィルムをはく離除去した際に、粘着剤層が適切に切断されていない部分の粘着剤が被着体の表面に残存しやすい。被着体の表面に残存した粘着剤は、デバイスの製造工程において、製造設備や他の部材に付着し、粘着剤による汚染や、部材の貼り付き等による歩留まり低下の原因となる。 By using a polymer with a low glass transition temperature as the base polymer for the adhesive, the storage modulus of the adhesive layer after photocuring is small, which makes it possible to suppress peeling of the reinforcing film at bent portions. When a base polymer with a low glass transition temperature is used, the adhesive layer before photocuring also has a small storage modulus, which tends to reduce the cuttability of the adhesive layer. If the cuttability of the adhesive layer is low, when the reinforcing film is peeled off from the adherend, the adhesive is likely to remain on the surface of the adherend in areas where the adhesive layer has not been properly cut. The adhesive remaining on the surface of the adherend will adhere to manufacturing equipment and other components during the device manufacturing process, causing contamination by the adhesive and reduced yields due to components sticking to each other.
上記に鑑み、本発明は、フォルダブルデバイスに適用可能した場合でも被着体からのはく離が生じ難く、かつ光硬化前は切断加工性に優れる粘着剤層を備える補強フィルムの提供を目的とする。 In view of the above, the present invention aims to provide a reinforcing film that is unlikely to peel off from an adherend even when applied to a foldable device, and has an adhesive layer that has excellent cuttability before photocuring.
本発明の補強フィルムは、フィルム基材の一主面上に固着積層された粘着剤層を備える。粘着剤層は、アクリル系ベースポリマー、光硬化剤および光重合開始剤を含む光硬化性組成物からなる。アクリル系ベースポリマーは、モノマーユニットとして、ヒドロキシ基含有モノマーおよびカルボキシル基含有モノマーからなる群から選択される1以上を含有し、ベースポリマーのヒドロキシ基および/またはカルボキシ基と架橋剤が結合することにより架橋構造が導入されている。 The reinforcing film of the present invention comprises an adhesive layer fixedly laminated on one main surface of a film substrate. The adhesive layer is made of a photocurable composition containing an acrylic base polymer, a photocuring agent, and a photopolymerization initiator. The acrylic base polymer contains, as a monomer unit, one or more monomers selected from the group consisting of hydroxyl group-containing monomers and carboxyl group-containing monomers, and a crosslinked structure is introduced by bonding the hydroxyl group and/or carboxyl group of the base polymer with the crosslinking agent.
粘着剤層は、光硬化前の25℃におけるせん断貯蔵弾性率が15~60kPaである。光硬化後の粘着剤層の25℃におけるせん断貯蔵弾性率は、30~80kPaが好ましい。 The adhesive layer has a shear storage modulus of 15 to 60 kPa at 25°C before photocuring. The adhesive layer preferably has a shear storage modulus of 30 to 80 kPa at 25°C after photocuring.
補強フィルムの粘着剤層をポリイミドフィルムに貼り合わせ、レーザー切断加工を行い、切断部分をポリイミドフィルムからはく離除去した際に、ポリイミドフィルム上に粘着剤が残存している部分の長さ比率は80%以下であることが好ましい。 When the adhesive layer of the reinforcing film is attached to a polyimide film, laser cutting is performed, and the cut portion is peeled off and removed from the polyimide film, it is preferable that the length ratio of the portion where the adhesive remains on the polyimide film is 80% or less.
粘着剤層を構成する光硬化性組成物において、光硬化剤の量は、アクリル系ベースポリマー100重量部に対して、3~17重量部が好ましい。光硬化剤としては、多官能(メタ)アクリレートが好ましい。多官能(メタ)アクリレートは、アルキレンオキサイド鎖を有するものであってもよい。光硬化剤として、アルキレンオキサイド鎖を有する多官能(メタ)アクリレート、およびウレタン(メタ)アクリレートを含んでいてもよい。 In the photocurable composition constituting the adhesive layer, the amount of the photocuring agent is preferably 3 to 17 parts by weight per 100 parts by weight of the acrylic base polymer. The photocuring agent is preferably a polyfunctional (meth)acrylate. The polyfunctional (meth)acrylate may have an alkylene oxide chain. The photocuring agent may include a polyfunctional (meth)acrylate having an alkylene oxide chain, and a urethane (meth)acrylate.
アクリル系ベースポリマーのガラス転移温度は-55℃以下が好ましい。アクリル系ベースポリマーは、構成元素中の窒素の割合が0.1モル%以下であってもよい。 The glass transition temperature of the acrylic base polymer is preferably -55°C or lower. The acrylic base polymer may have a nitrogen ratio of 0.1 mol% or less among its constituent elements.
光硬化前の粘着剤層のポリイミドフィルムとの接着力は、0.5N/25mm以下であってもよい。光硬化後の粘着剤層のポリイミドフィルムとの接着力は、3N/25mm以上であってもよい。 The adhesive strength of the adhesive layer to the polyimide film before photocuring may be 0.5 N/25 mm or less. The adhesive strength of the adhesive layer to the polyimide film after photocuring may be 3 N/25 mm or more.
被着体としてのデバイスの表面に上記の補強フィルムを貼り合わせて仮着した後、粘着剤層を光硬化することにより、補強フィルム付きデバイスが得られる。デバイスは折り曲げ可能なフレキシブルデバイスであってもよい。補強フィルムを被着体に仮着した後、粘着剤層を光硬化する前に、被着体に仮着された補強フィルムを切断し、被着体上の一部の領域(非補強対象領域)から、補強フィルムをはく離除去してもよい。 The above-mentioned reinforcing film is bonded temporarily to the surface of the device as the adherend, and then the adhesive layer is photocured to obtain a device with the reinforcing film. The device may be a foldable flexible device. After the reinforcing film is temporarily attached to the adherend, and before the adhesive layer is photocured, the reinforcing film temporarily attached to the adherend may be cut, and the reinforcing film may be peeled off and removed from a portion of the adherend (a non-reinforced area).
本発明の補強フィルムは、粘着剤層が光硬化性組成物からなり、粘着剤層を光硬化する前は被着体との接着力が小さく被着体からはく離可能であり、被着体との接着後に粘着剤層を光硬化することにより被着体との接着力が上昇する。補強フィルムの粘着剤層の貯蔵弾性率が小さく、応力歪の緩和性が高いため、本発明の補強フィルムは、樹脂フィルム基板を用いたフォルダブルデバイスにも好適に使用できる。 The reinforcing film of the present invention has an adhesive layer made of a photocurable composition, and before the adhesive layer is photocured, the adhesive strength with the adherend is small and the film can be peeled off from the adherend. The adhesive strength with the adherend is increased by photocuring the adhesive layer after adhesion to the adherend. The adhesive layer of the reinforcing film has a small storage modulus and a high stress-strain relaxation property, so the reinforcing film of the present invention can also be suitably used in foldable devices using a resin film substrate.
本発明の補強フィルムは、光硬化前の粘着剤層が切断加工性に優れており、補強フィルムを被着体に仮着した後、粘着剤層を光硬化する前に、被着体に仮着された補強フィルムを切断し、被着体上の非補強対象領域から補強フィルムをはく離除去した際に、補強フィルムのはく離領域での被着体表面への粘着剤の残存が少ない。そのため、デバイスの製造工程において、製造設備や他の部材への粘着剤の付着が生じ難く、歩留まり向上に寄与し得る。 The reinforcing film of the present invention has an adhesive layer that is excellent in cuttability before photocuring, and after the reinforcing film is temporarily attached to an adherend, the reinforcing film temporarily attached to the adherend is cut before the adhesive layer is photocured, and when the reinforcing film is peeled off and removed from the non-reinforced area on the adherend, little adhesive remains on the adherend surface in the peeled area of the reinforcing film. Therefore, in the device manufacturing process, the adhesive is less likely to adhere to manufacturing equipment or other components, which can contribute to improved yields.
図1は、補強フィルムの一実施形態を表す断面図である。補強フィルム10は、フィルム基材1の一主面上に粘着剤層2を備える。粘着剤層2は、フィルム基材1の一主面上に固着積層されている。粘着剤層2は光硬化性組成物からなる光硬化性粘着剤であり、紫外線等の活性光線の照射により硬化して、被着体との接着力が上昇する。
Figure 1 is a cross-sectional view showing one embodiment of a reinforcing film. The reinforcing
図2は、粘着剤層2の主面上にはく離ライナー5が仮着された補強フィルムの断面図である。図3は、デバイス20の表面に補強フィルム10が貼設された状態を示す断面図である。
Figure 2 is a cross-sectional view of a reinforcing film with a
粘着剤層2の表面からはく離ライナー5をはく離除去し、粘着剤層2の露出面をデバイス20の表面に貼り合わせることにより、デバイス20の表面に補強フィルム10が貼設される。この状態では、粘着剤層2は光硬化前であり、デバイス20上に補強フィルム10(粘着剤層2)が仮着された状態である。粘着剤層2を光硬化することにより、デバイス20と粘着剤層2との界面での接着力が上昇し、デバイス20と補強フィルム10とが固着される。
The
「固着」とは積層された2つの層が強固に接着しており、両者の界面でのはく離が不可能または困難な状態である。「仮着」とは、積層された2つの層間の接着力が小さく、両者の界面で容易にはく離できる状態である。 "Fixed" means that the two laminated layers are firmly bonded together, making it difficult or impossible to peel them apart at their interface. "Temporary adhesion" means that the adhesive strength between the two laminated layers is weak, making them easy to peel apart at their interface.
図2に示す補強フィルムでは、フィルム基材1と粘着剤層2とが固着しており、はく離ライナー5は粘着剤層2に仮着されている。フィルム基材1とはく離ライナー5をはく離すると、粘着剤層2とはく離ライナー5との界面ではく離が生じ、フィルム基材1上に粘着剤層2が固着した状態が維持される。はく離後のはく離ライナー5上には粘着剤は残存しない。
In the reinforced film shown in Figure 2, the
図3に示す補強フィルム10が貼設されたデバイスは、粘着剤層2の光硬化前においては、デバイス20と粘着剤層2とが仮着状態である。デバイス20からフィルム基材1をはく離する際には、粘着剤層2とデバイス20との界面ではく離が生じ、フィルム基材1上に粘着剤層2が固着した状態が維持される。デバイス20上には粘着剤が残存しないため、リワークが容易である。粘着剤層2を光硬化後は、粘着剤層2とデバイス20との接着力が上昇するため、デバイス20からフィルム1をはく離することは困難であり、両者をはく離すると粘着剤層2の凝集破壊が生じる場合がある。
In the device with the reinforcing
[補強フィルムの構成]
<フィルム基材>
フィルム基材1としては、プラスチックフィルムが用いられる。フィルム基材1と粘着剤層2とを固着するために、フィルム基材1の粘着剤層2付設面は離型処理が施されていないことが好ましい。
[Configuration of reinforcing film]
<Film substrate>
A plastic film is used as the
フィルム基材の厚みは、例えば4~150μm程度である。剛性付与や衝撃緩和等によりデバイスを補強する観点から、フィルム基材1の厚みは5μm以上が好ましく、12μm以上がより好ましく、20μm以上がさらに好ましく、25μm以上が特に好ましい。補強フィルムに可撓性を持たせて折り畳み可能とする観点から、フィルム基材1の厚みは125μm以下が好ましく、100μm以下がより好ましい。機械強度と可撓性とを両立する観点から、フィルム基材1の圧縮強さは、100~3000kg/cm2が好ましく、200~2900kg/cm2がより好ましく、300~2800kg/cm2がさらに好ましく、400~2700kg/cm2が特に好ましい。
The thickness of the film substrate is, for example, about 4 to 150 μm. From the viewpoint of reinforcing the device by providing rigidity or shock mitigation, the thickness of the
フィルム基材1を構成するプラスチック材料としては、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂等が挙げられる。ディスプレイ等の光学デバイス用の補強フィルムにおいては、フィルム基材1は透明フィルムであることが好ましい。また、フィルム基材1側から活性光線を照射して粘着剤層2の光硬化を行う場合、フィルム基材1は、粘着剤層の硬化に用いられる活性光線に対する透明性を有することが好ましい。機械強度と透明性とを兼ね備えることから、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂が好適に用いられる。被着体側から活性光線を照射して粘着剤層を硬化する場合は、被着体が活性光線に対する透明性を有していればよく、フィルム基材1は活性光線に対して透明でなくてもよい。
Examples of plastic materials constituting the
フィルム基材1の表面には、易接着層、易滑層、離型層、帯電防止層、ハードコート層、反射防止層等の機能性コーティングが設けられていてもよい。なお、前述のように、フィルム基材1と粘着剤層2とを固着するために、フィルム基材1の粘着剤層2付設面には離型層が設けられていないことが好ましい。
The surface of the
<粘着剤層>
フィルム基材1上に固着積層される粘着剤層2は、ベースポリマー、光硬化剤および光重合開始剤を含む光硬化性組成物からなる。粘着剤層2は、光硬化前はデバイスやデバイス部品等の被着体との接着力が小さいため、はく離が容易である。粘着剤層2は、光硬化により被着体との接着力が向上するため、デバイスの使用時においても補強フィルムがデバイス表面からはく離し難く、接着信頼性に優れる。
<Adhesive Layer>
The
光硬化性の粘着剤は一般的な保管環境では硬化はほとんど進行せず、紫外線等の活性光線の照射により硬化する。そのため、本発明の補強フィルムは、粘着剤層2の硬化のタイミングを任意に設定可能であり、工程のリードタイム等に柔軟に対応できるとの利点を有する。
Photocurable adhesives hardly cure in typical storage environments, but cure when exposed to active light such as ultraviolet light. Therefore, the reinforcing film of the present invention has the advantage that the timing of curing of the
粘着剤層2の厚みは、例えば、1~300μm程度である。粘着剤層2の厚みが大きいほど被着体との接着性が向上する傾向がある。一方、粘着剤層2の厚みが過度に大きい場合は、光硬化前の流動性が高く、ハンドリングが困難となる場合がある。そのため、粘着剤層2の厚みは3~100μmが好ましく、5~50μmがより好ましく、6~40μmがさらに好ましく、8~30μmが特に好ましい。薄型化の観点から、粘着剤層2の厚みは、25μm以下、20μm以下または18μm以下であってもよい。
The thickness of the
補強フィルムが、ディスプレイ等の光学デバイスに用いられる場合、粘着剤層2の全光線透過率は80%以上が好ましく、85%以上がより好ましく、90%以上がさらに好ましい。粘着剤層2のヘイズは、2%以下が好ましく、1%以下がより好ましく、0.7%以下がさらに好ましく、0.5%以下が特に好ましい。
When the reinforcing film is used in an optical device such as a display, the total light transmittance of the
光硬化前の粘着剤層2の温度25℃におけるせん断貯蔵弾性率(以下、単に「貯蔵弾性率」と記載する)は、15kPa以上が好ましく、18kPa以上がより好ましく、20kPa以上がさらに好ましく、25kPa以上または30kPa以上であってもよい。光硬化前の粘着剤層の常温での貯蔵弾性率が大きいほど、切断加工性が向上するとともに、被着体から補強フィルムをはく離した際の被着体への糊残りが抑制される傾向がある。
The shear storage modulus (hereinafter simply referred to as "storage modulus") of the
一方、光硬化前の粘着剤層の常温での貯蔵弾性率が過度に大きい場合は、光硬化後の粘着剤層も貯蔵弾性率が大きくなる傾向があり、被着体に対する接着性や、耐衝撃性が不足する場合がある。また、光硬化前の粘着剤層の貯蔵弾性率が大きい場合は、光硬化後の粘着剤層の貯蔵弾性率も大きくなる傾向があり、フォルダブルデバイスに適用した際に、屈曲箇所およびその周辺での歪を粘着剤層が吸収できず、デバイスから補強フィルムがはく離しやすい。そのため、光硬化前の粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率は、60kPa以下が好ましく、55kPa以下がより好ましく、50kPa以下がさらに好ましく、45kPa以下または40kPa以下であってもよい。 On the other hand, if the storage modulus of the adhesive layer at room temperature before photocuring is excessively large, the storage modulus of the adhesive layer after photocuring also tends to be large, and the adhesion to the adherend and impact resistance may be insufficient. In addition, if the storage modulus of the adhesive layer before photocuring is large, the storage modulus of the adhesive layer after photocuring also tends to be large, and when applied to a foldable device, the adhesive layer cannot absorb the strain at and around the bending point, and the reinforcing film is likely to peel off from the device. Therefore, the storage modulus of the adhesive layer at a temperature of 25°C before photocuring is preferably 60 kPa or less, more preferably 55 kPa or less, even more preferably 50 kPa or less, and may be 45 kPa or less or 40 kPa or less.
粘着剤層の貯蔵弾性率は、JIS K7244-1「プラスチック-動的機械特性の試験方法」に記載の方法に準拠して、周波数1Hzの条件で、-70~150℃の範囲で昇温速度5℃/分で測定した際の、所定温度における値を読み取ることにより求められる。本明細書においては、特に断りがない限り、貯蔵弾性率は温度25℃における値である。 The storage modulus of the adhesive layer is determined by reading the value at a specified temperature when measured at a temperature rise rate of 5°C/min in the range of -70 to 150°C at a frequency of 1 Hz in accordance with the method described in JIS K7244-1 "Plastics - Test method for dynamic mechanical properties." In this specification, unless otherwise specified, the storage modulus is the value at a temperature of 25°C.
光硬化後において被着体との高い接着力を実現する観点から、光硬化後の粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率は、30kPa以上が好ましく、35kPa以上がより好ましく、40kPa以上または45kPa以上であってもよい。一方、光硬化後の粘着剤層の貯蔵弾性率が過度に大きい場合は、フォルダブルデバイスに適用した際に、屈曲箇所およびその周辺で、デバイスから補強フィルムがはく離しやすい。また、光硬化後の粘着剤層の貯蔵弾性率が過度に大きい場合は、被着体に対する接着性や、衝撃緩和作用(クッション性)が低下する傾向がある。そのため、光硬化後の粘着剤層の温度25℃における貯蔵弾性率は、80kPa以下が好ましく、70kPa以下がより好ましく、65kPa以下、60kPa以下、55kPa以下または50kPa以下であってもよい。 From the viewpoint of realizing high adhesive strength with the adherend after photocuring, the storage modulus of the adhesive layer after photocuring at a temperature of 25°C is preferably 30 kPa or more, more preferably 35 kPa or more, and may be 40 kPa or more or 45 kPa or more. On the other hand, if the storage modulus of the adhesive layer after photocuring is excessively large, when applied to a foldable device, the reinforcing film is likely to peel off from the device at the bending point and its surroundings. In addition, if the storage modulus of the adhesive layer after photocuring is excessively large, the adhesion to the adherend and the impact mitigation effect (cushioning property) tend to decrease. Therefore, the storage modulus of the adhesive layer after photocuring at a temperature of 25°C is preferably 80 kPa or less, more preferably 70 kPa or less, and may be 65 kPa or less, 60 kPa or less, 55 kPa or less, or 50 kPa or less.
以下では、粘着剤層2を構成する光硬化性組成物の各成分について、好ましい形態を順次説明する。
Below, the preferred forms of each component of the photocurable composition that constitutes the
(ベースポリマー)
ベースポリマーは粘着剤組成物の主構成成分であり、粘着剤層の接着力等を決定する主要素である。光学的透明性および接着性に優れ、かつ接着力や貯蔵弾性率の制御が容易であることから、粘着剤組成物は、ベースポリマーとしてアクリル系ポリマーを含有するものが好ましく、粘着剤組成物の50重量%以上がアクリル系ポリマーであることが好ましい。
(Base polymer)
The base polymer is the main component of the pressure-sensitive adhesive composition and is the main factor determining the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer, etc. The pressure-sensitive adhesive composition preferably contains an acrylic polymer as the base polymer, and more preferably 50 wt % or more of the pressure-sensitive adhesive composition is an acrylic polymer, since the pressure-sensitive adhesive composition is excellent in optical transparency and adhesiveness and is easy to control the adhesive strength and storage modulus.
アクリル系ポリマーとしては、主たるモノマー成分として(メタ)アクリル酸アルキルエステルを含むものが好適に用いられる。なお、本明細書において、「(メタ)アクリル」とは、アクリルおよび/またはメタクリルを意味する。 As the acrylic polymer, one containing an alkyl (meth)acrylate ester as the main monomer component is preferably used. In this specification, "(meth)acrylic" means acrylic and/or methacrylic.
(メタ)アクリル酸アルキルエステルとしては、アルキル基の炭素数が1~20である(メタ)アクリル酸アルキルエステルが好適に用いられる。(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、アルキル基が分枝を有していてもよく、環状アルキル基(脂環式アルキル基)を有していてもよい。 As the (meth)acrylic acid alkyl ester, a (meth)acrylic acid alkyl ester in which the alkyl group has 1 to 20 carbon atoms is preferably used. The (meth)acrylic acid alkyl ester may have an alkyl group that is branched, or may have a cyclic alkyl group (alicyclic alkyl group).
鎖状アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸s-ブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸イソペンチル、(メタ)アクリル酸ネオペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸イソトリデシル、(メタ)アクリル酸テトラデシル、(メタ)アクリル酸イソテトラデシル、(メタ)アクリル酸ペンタデシル、(メタ)アクリル酸セチル、(メタ)アクリル酸ヘプタデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸イソオクタデシル、(メタ)アクリル酸ノナデシル、(メタ)アクリル酸エイコシル等が挙げられる。 Specific examples of (meth)acrylic acid alkyl esters having a chain alkyl group include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, s-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, isopentyl (meth)acrylate, neopentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, and (meth) Examples of such acrylates include nonyl acrylate, isononyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, undecyl (meth)acrylate, dodecyl (meth)acrylate, isotridecyl (meth)acrylate, tetradecyl (meth)acrylate, isotetradecyl (meth)acrylate, pentadecyl (meth)acrylate, cetyl (meth)acrylate, heptadecyl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate, isooctadecyl (meth)acrylate, nonadecyl (meth)acrylate, and eicosyl (meth)acrylate.
脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、(メタ)アクリル酸シクロペンチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘプチル、(メタ)アクリル酸シクロオクチル等の(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル;(メタ)アクリル酸イソボルニル等の二環式の脂肪族炭化水素環を有する(メタ)アクリル酸エステル;ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロペンタニル(メタ)アクリレート、1-アダマンチル(メタ)アクリレート、2-メチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート、2-エチル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート等の三環以上の脂肪族炭化水素環を有する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、3,3,5-トリメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート等の環上に置換基を有するものであってもよい。また、脂環式アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート等の、脂環構造と不飽和結合を有する環構造との縮合環を含む(メタ)アクリル酸エステルであってもよい。 Specific examples of (meth)acrylic acid alkyl esters having an alicyclic alkyl group include (meth)acrylic acid cycloalkyl esters such as cyclopentyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, cycloheptyl (meth)acrylate, and cyclooctyl (meth)acrylate; (meth)acrylic acid esters having a bicyclic aliphatic hydrocarbon ring such as isobornyl (meth)acrylate; and (meth)acrylic acid esters having a tricyclic or higher aliphatic hydrocarbon ring such as dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentanyloxyethyl (meth)acrylate, tricyclopentanyl (meth)acrylate, 1-adamantyl (meth)acrylate, 2-methyl-2-adamantyl (meth)acrylate, and 2-ethyl-2-adamantyl (meth)acrylate. (Meth)acrylic acid alkyl esters having an alicyclic alkyl group may have a substituent on the ring, such as 3,3,5-trimethylcyclohexyl (meth)acrylate. In addition, the (meth)acrylic acid alkyl ester having an alicyclic alkyl group may be a (meth)acrylic acid ester that includes a condensed ring of an alicyclic structure and a ring structure having an unsaturated bond, such as dicyclopentenyl (meth)acrylate.
(メタ)アクリル酸アルキルエステルの含有量は、ベースポリマーを構成するモノマー成分全量100重量部に対して、50重量部以上が好ましく、60重量部以上がより好ましく、70重量部以上、80重量部以上または90重量部以上であってもよい。 The content of the (meth)acrylic acid alkyl ester is preferably 50 parts by weight or more, more preferably 60 parts by weight or more, and may be 70 parts by weight or more, 80 parts by weight or more, or 90 parts by weight or more, based on 100 parts by weight of the total amount of the monomer components constituting the base polymer.
アクリル系ベースポリマーのガラス転移温度を低くして、貯蔵弾性率を低減することにより、屈曲を繰り返した際の粘着剤層のはく離を抑制する観点から、(メタ)アクリル酸アルキルエステルのアルキル基は鎖状アルキル基であることが好ましい。鎖状アルキル基は直鎖でもよく、分枝を有していてもよい。 From the viewpoint of suppressing peeling of the adhesive layer when repeatedly bent by lowering the glass transition temperature of the acrylic base polymer and reducing the storage modulus, it is preferable that the alkyl group of the (meth)acrylic acid alkyl ester is a chain alkyl group. The chain alkyl group may be linear or branched.
アクリル系ベースポリマーのガラス転移温度を低くする観点から、(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、ホモポリマーのガラス転移温度が-56℃以下であるものが好ましく、アルキル基の炭素数が6以上であるものが好ましい。(メタ)アクリル酸アルキルエステルのアルキル基の炭素数は9以下であってもよい。 From the viewpoint of lowering the glass transition temperature of the acrylic base polymer, the (meth)acrylic acid alkyl ester is preferably one in which the homopolymer has a glass transition temperature of -56°C or lower, and the alkyl group preferably has 6 or more carbon atoms. The alkyl group of the (meth)acrylic acid alkyl ester may have 9 or less carbon atoms.
ホモポリマーのガラス転移温度(Tg)が-56℃以下である(メタ)アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、アクリル酸2-エチルヘキシル(Tg:-70℃)、アクリル酸n-ヘキシル(Tg:-65℃)、アクリル酸n-オクチル(Tg:-65℃)、アクリル酸イソノニル(Tg:-60℃)、アクリル酸n-ノニル(Tg:-58℃)、アクリル酸イソオクチル(Tg:-58℃)等が挙げられる。中でも、低Tgであり、粘着剤を低貯蔵弾性率化可能であることから、アクリル酸2-エチルヘキシルが特に好ましい。 Specific examples of (meth)acrylic acid alkyl esters whose homopolymer glass transition temperature (Tg) is -56°C or lower include 2-ethylhexyl acrylate (Tg: -70°C), n-hexyl acrylate (Tg: -65°C), n-octyl acrylate (Tg: -65°C), isononyl acrylate (Tg: -60°C), n-nonyl acrylate (Tg: -58°C), isooctyl acrylate (Tg: -58°C), etc. Among these, 2-ethylhexyl acrylate is particularly preferred because it has a low Tg and can reduce the storage modulus of the adhesive.
ホモポリマーのガラス転移温度(Tg)が-56℃以下である(メタ)アクリル酸アルキルエステルの含有量は、ベースポリマーを構成するモノマー成分全量100重量部に対して、50重量部以上が好ましく、60重量部以上がより好ましく、70重量部以上、75重量部以上、80重量部以上、85重量部以上または90重量部以上であってもよい。アクリル系ベースポリマーは、モノマー成分全量100重量部に対するアクリル酸2-エチルヘキシルの量が上記範囲であってもよい。 The content of the (meth)acrylic acid alkyl ester having a homopolymer glass transition temperature (Tg) of -56°C or less is preferably 50 parts by weight or more, more preferably 60 parts by weight or more, and may be 70 parts by weight or more, 75 parts by weight or more, 80 parts by weight or more, 85 parts by weight or more, or 90 parts by weight or more, based on 100 parts by weight of the total amount of the monomer components constituting the base polymer. The amount of 2-ethylhexyl acrylate in the acrylic base polymer based on 100 parts by weight of the total amount of the monomer components may be within the above range.
ホモポリマーのガラス転移温度(Tg)が-56℃以下である(メタ)アクリル酸アルキルエステルの量の上限は特に限定されない。後述のように、アクリル系ベースポリマーに架橋点を導入するために、アクリル系ベースポリマーの共重合成分として、ヒドロキシ基含有モノマーやカルボキシ基含有モノマーが用いられるため、ホモポリマーのガラス転移温度(Tg)が-56℃以下である(メタ)アクリル酸アルキルエステルの量は、ベースポリマーを構成するモノマー成分全量100重量部に対して、99.5重量部以下が好ましく、99重量部以下がより好ましく、98重量部以下または97重量部以下であってもよい。 The upper limit of the amount of (meth)acrylic acid alkyl ester having a homopolymer glass transition temperature (Tg) of -56°C or less is not particularly limited. As described below, in order to introduce crosslinking points into the acrylic base polymer, a hydroxyl group-containing monomer or a carboxyl group-containing monomer is used as a copolymerization component of the acrylic base polymer, so the amount of (meth)acrylic acid alkyl ester having a homopolymer glass transition temperature (Tg) of -56°C or less is preferably 99.5 parts by weight or less, more preferably 99 parts by weight or less, and may be 98 parts by weight or less or 97 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the total amount of the monomer components constituting the base polymer.
アクリル系ベースポリマーは、モノマー成分として2種以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルを含んでいてもよい。2種以上の(メタ)アクリル酸アルキルエステルは、ホモポリマーのガラス転移温度が-56℃以下であるものと、ホモポリマーのガラス転移温度が-56℃よりも高いものを含んでいてもよい。 The acrylic base polymer may contain two or more types of (meth)acrylic acid alkyl esters as monomer components. The two or more types of (meth)acrylic acid alkyl esters may include a homopolymer having a glass transition temperature of -56°C or lower and a homopolymer having a glass transition temperature of higher than -56°C.
アクリル系ベースポリマーは、共重合成分として、架橋可能な官能基を有するモノマー成分を含有することが好ましい。ベースポリマーに架橋構造が導入されることにより、凝集力が向上し、粘着剤層2の接着力が向上するとともに、光硬化前の粘着剤層を被着体からはく離する際の被着体への糊残りが低減する傾向がある。
The acrylic base polymer preferably contains a monomer component having a crosslinkable functional group as a copolymerization component. By introducing a crosslinked structure into the base polymer, the cohesive strength is improved, the adhesive strength of the
架橋可能な官能基を有するモノマーとしてはヒドロキシ基含有モノマーや、カルボキシ基含有モノマーが挙げられる。ベースポリマーのヒドロキシ基やカルボキシ基は、後述の架橋剤との反応点となる。例えば、イソシアネート系架橋剤を用いる場合は、ベースポリマーの共重合成分として、ヒドロキシ基含有モノマーを含有することが好ましい。エポキシ系架橋剤を用いる場合は、ベースポリマーの共重合成分として、カルボキシ基含有モノマーを含有することが好ましい。 Examples of monomers having a crosslinkable functional group include hydroxyl group-containing monomers and carboxyl group-containing monomers. The hydroxyl group or carboxyl group of the base polymer serves as a reaction site with the crosslinking agent described below. For example, when an isocyanate-based crosslinking agent is used, it is preferable to contain a hydroxyl group-containing monomer as a copolymerization component of the base polymer. When an epoxy-based crosslinking agent is used, it is preferable to contain a carboxyl group-containing monomer as a copolymerization component of the base polymer.
ヒドロキシ基含有モノマーとしては、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2-ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4-ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6-ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8-ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸10-ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12-ヒドロキシラウリル、(メタ)アクリル酸4-(ヒドロキシメチル)シクロヘキシルメチル等が挙げられる。カルボキシ基含有モノマーとしては、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸2-カルボキシエチル、(メタ)アクリル酸カルボキシペンチル、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等が挙げられる。 Examples of hydroxy group-containing monomers include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 10-hydroxydecyl (meth)acrylate, 12-hydroxylauryl (meth)acrylate, 4-(hydroxymethyl)cyclohexylmethyl (meth)acrylate, etc. Examples of carboxy group-containing monomers include (meth)acrylic acid, 2-carboxyethyl (meth)acrylate, carboxypentyl (meth)acrylate, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, etc.
イソシアネート系架橋剤やエポキシ系架橋剤等の架橋剤による架橋構造を適度に導入する観点から、アクリル系ベースポリマーの構成モノマー成分全量100重量部に対するヒドロキシ基含有モノマーとカルボキシ基含有モノマーの合計量は、0.5重量部以上が好ましく、1重量部以上がより好ましく、1.5重量部以上、2重量部以上、2.5重量部以上または3重量部以上であってもよい。 From the viewpoint of appropriately introducing a crosslinked structure by a crosslinking agent such as an isocyanate-based crosslinking agent or an epoxy-based crosslinking agent, the total amount of the hydroxyl group-containing monomer and the carboxyl group-containing monomer relative to 100 parts by weight of the total amount of the constituent monomer components of the acrylic base polymer is preferably 0.5 parts by weight or more, more preferably 1 part by weight or more, and may be 1.5 parts by weight or more, 2 parts by weight or more, 2.5 parts by weight or more, or 3 parts by weight or more.
ヒドロキシ基やカルボキシ基は高極性であるため、アクリル系ベースポリマーの構成モノマー成分におけるヒドロキシ基含有モノマーやカルボキシ基含有モノマーの量が多い場合は、ベースポリマーの凝集力が高くなり、光硬化後の粘着剤層の貯蔵弾性率が大きくなる傾向がある。粘着剤層2を低貯蔵弾性率化する観点から、アクリル系ベースポリマーの構成モノマー成分全量100重量部に対するヒドロキシ基含有モノマーとカルボキシ基含有モノマーの合計量は、25重量部以下が好ましく、20重量部以下がより好ましく、15重量部以下がさらに好ましく、12重量部以下、10重量部以下または8重量部以下であってもよい。
Because hydroxyl groups and carboxyl groups are highly polar, when the amount of hydroxyl group-containing monomer or carboxyl group-containing monomer in the constituent monomer components of the acrylic base polymer is large, the cohesive force of the base polymer increases, and the storage modulus of the adhesive layer after photocuring tends to increase. From the viewpoint of reducing the storage modulus of the
アクリル系ベースポリマーは、構成モノマー成分として、N-ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルピペリドン、ビニルピリミジン、ビニルピペラジン、ビニルピラジン、ビニルピロール、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニルモルホリン、N-アクリロイルモルホリン、N-ビニルカルボン酸アミド類、N-ビニルカプロラクタム等の窒素含有モノマーを含有していてもよい。 The acrylic base polymer may contain nitrogen-containing monomers such as N-vinylpyrrolidone, methylvinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylpiperidone, vinylpyrimidine, vinylpiperazine, vinylpyrazine, vinylpyrrole, vinylimidazole, vinyloxazole, vinylmorpholine, N-acryloylmorpholine, N-vinyl carboxylic acid amides, and N-vinylcaprolactam as constituent monomer components.
窒素含有モノマーは高極性であり、かつガラス転移温度が高いため、アクリル系ベースポリマーの構成モノマー成分における窒素含有モノマーの量が多い場合は、ベースポリマーの凝集力が高く、粘着剤層のガラス転移温度が高くなる傾向があり、これに伴って光硬化後の粘着剤層の貯蔵弾性率が大きくなる傾向がある。また、窒素含有モノマーの量が多い場合は、プラズマ処理等の表面活性化処理を行った被着体に対する光硬化前の粘着剤層2の接着力が高くなる傾向があり、被着体からの補強フィルムのはく離が困難となる傾向がある。
Because nitrogen-containing monomers are highly polar and have a high glass transition temperature, when the amount of nitrogen-containing monomer in the constituent monomer components of the acrylic base polymer is large, the cohesive strength of the base polymer tends to be high and the glass transition temperature of the adhesive layer tends to be high, and accordingly the storage modulus of the adhesive layer after photocuring tends to be large. In addition, when the amount of nitrogen-containing monomer is large, the adhesive strength of the
そのため、アクリル系ベースポリマーは、構成モノマー成分における窒素含有モノマーの比率が小さいことが好ましい。また、アクリル系ベースポリマーのガラス転移温度を低くする観点においても、窒素含有モノマーの量が少ないことが好ましい。アクリル系ベースポリマーの構成モノマー成分全量100重量部に対する窒素含有モノマーの量は、10重量部以下が好ましく、5重量部以下がより好ましく、3重量部以下がさらに好ましく、1重量部以下、0.5重量部以下、0.1重量部以下または0.05重量部以下であってもよい。 Therefore, it is preferable that the acrylic base polymer has a small ratio of nitrogen-containing monomer in the constituent monomer components. Also, from the viewpoint of lowering the glass transition temperature of the acrylic base polymer, it is preferable that the amount of nitrogen-containing monomer is small. The amount of nitrogen-containing monomer per 100 parts by weight of the total amount of the constituent monomer components of the acrylic base polymer is preferably 10 parts by weight or less, more preferably 5 parts by weight or less, even more preferably 3 parts by weight or less, and may be 1 part by weight or less, 0.5 parts by weight or less, 0.1 parts by weight or less, or 0.05 parts by weight or less.
アクリル系ベースポリマーは、構成モノマー成分として窒素含有モノマーを含まないものであってもよい。架橋構造を導入する前のアクリル系ベースポリマーは、窒素原子を実質的に含まないものであってもよい。アクリル系ベースポリマーの構成元素中の窒素の割合は、0.1モル%以下、0.05モル%以下、0.01モル%以下、0.005モル%以下、0.001モル%以下、または0であってもよい。窒素原子を実質的に含まないアクリル系ベースポリマーを用いることにより、被着体に表面活性化処理を行った場合の、光硬化前の粘着シートの接着力(初期接着力)の上昇が抑制される傾向がある。構成モノマー成分として窒素原子含有モノマーを用いないことにより、窒素原子を実質的に含まないポリマーが得られる。なお、ベースポリマーに架橋構造が導入されている場合は、架橋構造導入前のポリマーが窒素原子を実質的に含まないものであればよく、架橋剤は窒素原子を含んでいてもよい。 The acrylic base polymer may not contain a nitrogen-containing monomer as a constituent monomer component. The acrylic base polymer before the introduction of the crosslinking structure may be substantially free of nitrogen atoms. The ratio of nitrogen in the constituent elements of the acrylic base polymer may be 0.1 mol% or less, 0.05 mol% or less, 0.01 mol% or less, 0.005 mol% or less, 0.001 mol% or less, or 0. By using an acrylic base polymer that is substantially free of nitrogen atoms, the increase in the adhesive strength (initial adhesive strength) of the pressure-sensitive adhesive sheet before photocuring when the adherend is subjected to a surface activation treatment tends to be suppressed. By not using a nitrogen atom-containing monomer as a constituent monomer component, a polymer that is substantially free of nitrogen atoms can be obtained. In addition, when a crosslinking structure is introduced into the base polymer, it is sufficient that the polymer before the introduction of the crosslinking structure is substantially free of nitrogen atoms, and the crosslinking agent may contain nitrogen atoms.
アクリル系ベースポリマーは、上記以外のモノマー成分を含んでいてもよい。アクリル系ベースポリマーは、モノマー成分として、例えば、ビニルエステルモノマー、芳香族ビニルモノマー、エポキシ基含有モノマー、ビニルエーテルモノマー、スルホ基含有モノマー、リン酸基含有モノマー、酸無水物基含有モノマー等を含んでいてもよい。 The acrylic base polymer may contain monomer components other than those mentioned above. The acrylic base polymer may contain, as monomer components, for example, vinyl ester monomers, aromatic vinyl monomers, epoxy group-containing monomers, vinyl ether monomers, sulfo group-containing monomers, phosphate group-containing monomers, acid anhydride group-containing monomers, etc.
粘着剤に優れた接着性を持たせるとともに、粘着剤を低貯蔵弾性率とする観点から、アクリル系ベースポリマーのガラス転移温度は、-55℃以下が好ましく、-60℃以下がより好ましく、-62℃以下がさらに好ましく、-64℃以下または-65℃以下であってもよい。アクリル系ベースポリマーのガラス転移温度は、一般に-100℃以上であり、-80℃以上または-70℃以上であってもよい。 From the viewpoint of imparting excellent adhesive properties to the adhesive and giving the adhesive a low storage modulus, the glass transition temperature of the acrylic base polymer is preferably -55°C or lower, more preferably -60°C or lower, even more preferably -62°C or lower, and may be -64°C or lower or -65°C or lower. The glass transition temperature of the acrylic base polymer is generally -100°C or higher, and may be -80°C or higher or -70°C or higher.
ガラス転移温度(Tg)は、粘弾性測定における損失正接tanδが極大となる温度(ピークトップ温度)である。粘弾性測定によるガラス転移温度に代えて、理論ガラス転移温度を適用してもよい。理論Tgは、アクリル系ベースポリマーの構成モノマー成分のホモポリマーのガラス転移温度Tgiと、各モノマー成分の重量分率Wiから、下記のFoxの式により算出される。
1/Tg=Σ(Wi/Tgi)
The glass transition temperature (Tg) is the temperature (peak top temperature) at which the loss tangent tan δ in viscoelasticity measurement is maximized. The theoretical glass transition temperature may be applied instead of the glass transition temperature determined by viscoelasticity measurement. The theoretical Tg is calculated from the glass transition temperature Tg i of the homopolymer of the constituent monomer components of the acrylic base polymer and the weight fraction W i of each monomer component by the following Fox formula.
1/Tg=Σ(W i /Tg i )
Tgはポリマーの理論ガラス転移温度(単位:K)、Wiはセグメントを構成するモノマー成分iの重量分率(重量基準の共重合割合)、Tgiはモノマー成分iのホモポリマーのガラス転移温度(単位:K)である。ホモポリマーのガラス転移温度としては、Polymer Handbook 第3版(John Wiley & Sons, Inc., 1989年)に記載の数値を採用できる。上記文献に記載されていないモノマーのホモポリマーのガラス転移温度は、動的粘弾性測定によるtanδのピークトップ温度を採用すればよい。 Tg is the theoretical glass transition temperature of the polymer (unit: K), W i is the weight fraction (copolymerization ratio based on weight) of the monomer component i constituting the segment, and Tg i is the glass transition temperature of a homopolymer of the monomer component i (unit: K). As the glass transition temperature of the homopolymer, the values described in Polymer Handbook, 3rd Edition (John Wiley & Sons, Inc., 1989) can be used. As the glass transition temperature of a homopolymer of a monomer not described in the above literature, the peak top temperature of tan δ measured by dynamic viscoelasticity measurement may be used.
上記モノマー成分を、溶液重合、乳化重合、塊状重合等の各種公知の方法により重合することによりベースポリマーとしてのアクリル系ポリマーが得られる。粘着剤の接着力、保持力等の特性のバランスや、コスト等の観点から、溶液重合法が好ましい。溶液重合の溶媒としては、酢酸エチル、トルエン等が用いられる。溶液濃度は通常20~80重量%程度である。溶液重合に用いられる重合開始剤としては、アゾ系、過酸化物系等の各種公知のものを使用できる。分子量を調整するために、連鎖移動剤が用いられていてもよい。反応温度は通常50~80℃程度、反応時間は通常1~8時間程度である。 The above monomer components are polymerized by various known methods such as solution polymerization, emulsion polymerization, and bulk polymerization to obtain an acrylic polymer as the base polymer. From the viewpoint of the balance of adhesive strength, holding power, and other properties of the adhesive, as well as cost, the solution polymerization method is preferred. Ethyl acetate, toluene, and the like are used as the solvent for solution polymerization. The solution concentration is usually about 20 to 80% by weight. Various known polymerization initiators such as azo-based and peroxide-based initiators can be used as the polymerization initiator for solution polymerization. A chain transfer agent may be used to adjust the molecular weight. The reaction temperature is usually about 50 to 80°C, and the reaction time is usually about 1 to 8 hours.
アクリル系ベースポリマーの重量平均分子量は、20万~300万が好ましく、30万~250万がより好ましく、40万~200万または50万~180万であってもよい、なお、ベースポリマーに架橋構造が導入される場合、ベースポリマーの分子量とは、架橋構造導入前の分子量を指す。 The weight average molecular weight of the acrylic base polymer is preferably 200,000 to 3,000,000, more preferably 300,000 to 2,500,000, and may be 400,000 to 2,000,000 or 500,000 to 1,800,000. Note that when a crosslinked structure is introduced into the base polymer, the molecular weight of the base polymer refers to the molecular weight before the introduction of the crosslinked structure.
(架橋剤)
粘着剤に適度の凝集力を持たせる観点から、ベースポリマーには架橋構造が導入されることが好ましい。例えば、ベースポリマーを重合後の溶液に架橋剤を添加し、必要に応じて加熱を行うことにより、架橋構造が導入される。架橋剤は、1分子中に2個以上の架橋性官能基を有する。架橋剤は1分子中に3個以上の架橋性官能基を有するものであってもよい。
(Crosslinking Agent)
In order to provide the adhesive with an appropriate cohesive force, it is preferable that a crosslinked structure is introduced into the base polymer. For example, a crosslinking agent is added to the solution obtained by polymerizing the base polymer, and the solution is heated as necessary to introduce the crosslinked structure. The crosslinking agent has two or more crosslinkable functional groups in one molecule. The crosslinking agent may have three or more crosslinkable functional groups in one molecule.
架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、金属キレート系架橋剤等が挙げられる。これらの架橋剤は、ベースポリマー中に導入されたヒドロキシ基やカルボキシ基等の官能基と反応して架橋構造を形成する。ベースポリマーのヒドロキシ基やカルボキシ基との反応性が高く、架橋構造の導入が容易であることから、イソシアネート系架橋剤およびエポキシ系架橋剤が好ましい。 Examples of crosslinking agents include isocyanate-based crosslinking agents, epoxy-based crosslinking agents, oxazoline-based crosslinking agents, aziridine-based crosslinking agents, carbodiimide-based crosslinking agents, and metal chelate-based crosslinking agents. These crosslinking agents react with functional groups such as hydroxyl groups and carboxyl groups introduced into the base polymer to form a crosslinked structure. Isocyanate-based crosslinking agents and epoxy-based crosslinking agents are preferred because they are highly reactive with the hydroxyl groups and carboxyl groups of the base polymer and allow easy introduction of a crosslinked structure.
イソシアネート系架橋剤としては、1分子中に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートが用いられる。イソシアネート系架橋剤は、1分子中に3個以上のイソシアネート基を有するものであってもよい。イソシアネート系架橋剤としては、例えば、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類;シクロペンチレンジイソシアネート、シクロへキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート類;2,4-トリレンジイソシアネート、4,4’-ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート類;トリメチロールプロパン/トリレンジイソシアネート3量体付加物(例えば、三井化学製「タケネートD101E」)、トリメチロールプロパン/へキサメチレンジイソシアネート3量体付加物(例えば、東ソー製「コロネートHL」)、キシリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物(例えば、三井化学製「タケネートD110N」)、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体(例えば、東ソー製「コロネートHX」)等のイソシアネート付加物等が挙げられる。 As the isocyanate-based crosslinking agent, a polyisocyanate having two or more isocyanate groups per molecule is used. The isocyanate-based crosslinking agent may have three or more isocyanate groups per molecule. As the isocyanate-based crosslinking agent, for example, lower aliphatic polyisocyanates such as butylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate; alicyclic isocyanates such as cyclopentylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate; aromatic isocyanates such as 2,4-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, and xylylene diisocyanate; trimethylolpropane/trile diisocyanate; Examples of isocyanate adducts include a diisocyanate trimer adduct (e.g., Mitsui Chemicals' "Takenate D101E"), a trimethylolpropane/hexamethylene diisocyanate trimer adduct (e.g., Tosoh's "Coronate HL"), a xylylene diisocyanate trimethylolpropane adduct (e.g., Mitsui Chemicals' "Takenate D110N"), and a hexamethylene diisocyanate isocyanurate (e.g., Tosoh's "Coronate HX").
エポキシ系架橋剤としては、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する多官能エポキシ化合物が用いられる。エポキシ系架橋剤は、1分子中に3個以上または4個以上のエポキシ基を有するものであってもよい。エポキシ系架橋剤のエポキシ基はグリシジル基であってもよい。エポキシ系架橋剤としては、例えば、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、ジグリシジルアニリン、1,3-ビス(N,N-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ソルビタンポリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、o-フタル酸ジグリシジルエステル、トリグリシジル-トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、レゾルシンジグリシジルエーテル、ビスフェノール-S-ジグリシジルエーテル等が挙げられる。エポキシ系架橋剤として、ナガセケムテックス製の「デナコール」、三菱ガス化学製の「テトラッドX」「テトラッドC」等の市販品を用いてもよい。 As the epoxy crosslinking agent, a multifunctional epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule is used. The epoxy crosslinking agent may have three or more or four or more epoxy groups in one molecule. The epoxy group of the epoxy crosslinking agent may be a glycidyl group. Examples of epoxy crosslinking agents include N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylylene diamine, diglycidyl aniline, 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, sorbitan polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, adipic acid diglycidyl ester, o-phthalic acid diglycidyl ester, triglycidyl-tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate, resorcinol diglycidyl ether, and bisphenol-S-diglycidyl ether. As epoxy-based crosslinking agents, commercially available products such as "Denacol" manufactured by Nagase ChemteX and "Tetrad X" and "Tetrad C" manufactured by Mitsubishi Gas Chemical may be used.
上述のように、ベースポリマーが窒素原子を実質的に含まない場合であっても、架橋剤は窒素原子を含んでいてもよい。例えば、窒素原子を実質的に含まないベースポリマーに、イソシアネート架橋剤により架橋構造を導入してもよい。 As described above, even if the base polymer does not substantially contain nitrogen atoms, the crosslinking agent may contain nitrogen atoms. For example, a crosslinking structure may be introduced into a base polymer that does not substantially contain nitrogen atoms using an isocyanate crosslinking agent.
架橋剤の使用量は、ベースポリマーの組成や分子量等に応じて適宜に調整すればよい。架橋剤の量が多いほど、ベースポリマーの架橋密度が高くなり、光硬化前の粘着剤層に適度な硬さが付与されて貯蔵弾性率が大きくなり、切断等の加工性が向上するとともに、被着体から補強フィルムをはく離した際の被着体への糊残りが抑制される傾向がある。一方、架橋剤の量が過度に多いと、粘着剤層の貯蔵弾性率が大きく、応力歪の緩和性が低いため、フォルダブルデバイスに適用した際に、屈曲箇所およびその周辺で、デバイスから補強フィルムがはく離しやすい。 The amount of crosslinking agent used may be adjusted appropriately depending on the composition and molecular weight of the base polymer. The more crosslinking agent used, the higher the crosslink density of the base polymer, which imparts appropriate hardness to the adhesive layer before photocuring, increasing the storage modulus, improving processability such as cutting, and tends to suppress adhesive residue on the adherend when the reinforcing film is peeled off from the adherend. On the other hand, if the amount of crosslinking agent is too high, the adhesive layer has a high storage modulus and low stress-strain relaxation, so that when applied to a foldable device, the reinforcing film is likely to peel off from the device at and around the bent points.
粘着剤層の切断加工性と柔軟性とを両立する観点から、架橋剤の使用量は、アクリル系ベースポリマー100重量部に対して、0.1~1.5重量部が好ましく、0.15~1重量部がより好ましく、0.25~75重量部がさらに好ましく、0.3~0.7重量部または0.4~0.6重量部であってもよい。 From the viewpoint of achieving both cutting processability and flexibility of the adhesive layer, the amount of the crosslinking agent used is preferably 0.1 to 1.5 parts by weight, more preferably 0.15 to 1 part by weight, and even more preferably 0.25 to 75 parts by weight, and may be 0.3 to 0.7 parts by weight or 0.4 to 0.6 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the acrylic base polymer.
(光硬化剤)
粘着剤層2を構成する粘着剤組成物は、ベースポリマーに加えて、光硬化剤として、1分子中に2個以上の光重合性官能基を有する化合物を含有する。光硬化剤を含有する粘着剤組成物は光硬化性を有し、被着体との貼り合わせ後に光硬化を行うと、被着体との接着力が向上する。
(Photocuring agent)
The adhesive composition constituting the
ベースポリマーとの相溶性の観点から、光硬化剤は常温で液体であるものが好ましい。光硬化剤の光重合性官能基は、光ラジカル反応による重合性を有するものが好ましい。光硬化剤としては1分子中に2個以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物が好ましく、アクリル系ベースポリマーと適度の相溶性を示すことから、多官能(メタ)アクリレートが好ましい。 From the viewpoint of compatibility with the base polymer, the photocuring agent is preferably a liquid at room temperature. The photopolymerizable functional group of the photocuring agent is preferably one that is polymerizable by a photoradical reaction. As the photocuring agent, a compound having two or more ethylenically unsaturated bonds in one molecule is preferable, and a multifunctional (meth)acrylate is preferable because it shows moderate compatibility with the acrylic base polymer.
多官能(メタ)アクリレートは、代表的には、ポリオールと(メタ)アクリル酸とのエステルである。多官能(メタ)アクリレートの具体例としては、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート、アルカンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリストールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールポリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ブタジエン(メタ)アクリレート、イソプレン(メタ)アクリレート等が挙げられる。 A typical example of a polyfunctional (meth)acrylate is an ester of a polyol and (meth)acrylic acid. Specific examples of polyfunctional (meth)acrylates include polyalkylene glycol di(meth)acrylates such as polyethylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, and polytetramethylene glycol di(meth)acrylate, alkanediol di(meth)acrylate, tricyclodecane dimethanol di(meth)acrylate, isocyanuric acid di(meth)acrylate, isocyanuric acid tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, and pentaerythritol di(meth)acrylate. tetra(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol poly(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, glycerin di(meth)acrylate, urethane (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, butadiene (meth)acrylate, isoprene (meth)acrylate, etc.
多官能(メタ)アクリレートは、アルキレンオキサイド変性されたポリオールと(メタ)アクリル酸とのエステルであってもよい。アルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド(EO)およびプロピレンオキサイド(PO)が挙げられる。アルキレンオキサイドは、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレンオキサイドでもよい。 The polyfunctional (meth)acrylate may be an ester of an alkylene oxide-modified polyol and (meth)acrylic acid. Examples of the alkylene oxide include ethylene oxide (EO) and propylene oxide (PO). The alkylene oxide may be a polyalkylene oxide such as polyethylene glycol or polypropylene glycol.
アルキレンオキサイド変性多官能(メタ)アクリレートの具体例としては、ビスフェノールAエチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAプロピレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸プロピレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸プロピレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド変性テトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールプロピレンオキサイド変性テトラ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Specific examples of alkylene oxide modified polyfunctional (meth)acrylates include bisphenol A ethylene oxide modified di(meth)acrylate, bisphenol A propylene oxide modified di(meth)acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified tri(meth)acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified tri(meth)acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified di(meth)acrylate, isocyanuric acid propylene oxide modified di(meth)acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified tri(meth)acrylate, isocyanuric acid propylene oxide modified tri(meth)acrylate, pentaerythritol ethylene oxide modified tetra(meth)acrylate, pentaerythritol propylene oxide modified tetra(meth)acrylate, etc.
ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート、アルキレンオキサイド変性多官能(メタ)アクリレート等のアルキレンオキサイド鎖を含む多官能(メタ)アクリレートにおいて、アルキレンオキサイドとしては、(ポリ)エチレンオキサイドまたは(ポリ)プロピレンオキサイドが好ましく、(ポリ)エチレンオキサイドが特に好ましい。アルキレンオキサイドの鎖長(アルキレンオキサイドの繰り返し単位数)nは、1~15程度である。1分子中に複数のアルキレンオキサイド鎖が含まれる場合は、平均鎖長nが1~15であるものが好ましい。アルキレンオキサイド鎖の(平均)鎖長nは、12以下、10以下、8以下、6以下、5以下、4以下または3以下であってもよい。アルキレンオキサイドの種類および鎖長を調整することにより、アクリル系ベースポリマーとの相溶性を適切な範囲に調整できる。 In polyfunctional (meth)acrylates containing an alkylene oxide chain, such as polyalkylene glycol di(meth)acrylates and alkylene oxide-modified polyfunctional (meth)acrylates, the alkylene oxide is preferably (poly)ethylene oxide or (poly)propylene oxide, and particularly preferably (poly)ethylene oxide. The chain length of the alkylene oxide (the number of repeating units of the alkylene oxide) n is about 1 to 15. When multiple alkylene oxide chains are contained in one molecule, the average chain length n is preferably 1 to 15. The (average) chain length n of the alkylene oxide chain may be 12 or less, 10 or less, 8 or less, 6 or less, 5 or less, 4 or less, or 3 or less. By adjusting the type and chain length of the alkylene oxide, the compatibility with the acrylic base polymer can be adjusted to an appropriate range.
アクリル系ベースポリマーとの相溶性の観点から、光硬化剤としての多官能(メタ)アクリレートの分子量は、1500以下が好ましく、1000以下がより好ましく、800以下、500以下または400以下であってもよい。ベースポリマーとの相溶性と光硬化後の接着力向上とを両立する観点から、多官能(メタ)アクリレートの官能基当量(g/eq)は500以下が好ましく、400以下がより好ましく、300以下、250以下、200以下、180以下または160以下であってもよい。一方、多官能(メタ)アクリレートの官能基当量が過度に小さいと、光硬化後の粘着剤層の架橋点密度が高くなり、接着性が低下する場合があるため、光硬化剤の官能基当量は、80以上が好ましく、100以上がより好ましく、120以上または130以上であってもよい。 From the viewpoint of compatibility with the acrylic base polymer, the molecular weight of the polyfunctional (meth)acrylate as the photocuring agent is preferably 1500 or less, more preferably 1000 or less, and may be 800 or less, 500 or less, or 400 or less. From the viewpoint of achieving both compatibility with the base polymer and improved adhesive strength after photocuring, the functional group equivalent (g/eq) of the polyfunctional (meth)acrylate is preferably 500 or less, more preferably 400 or less, and may be 300 or less, 250 or less, 200 or less, 180 or less, or 160 or less. On the other hand, if the functional group equivalent of the polyfunctional (meth)acrylate is excessively small, the crosslinking point density of the adhesive layer after photocuring may increase, and the adhesiveness may decrease, so the functional group equivalent of the photocuring agent is preferably 80 or more, more preferably 100 or more, and may be 120 or more or 130 or more.
光硬化剤は、硬化により粘着剤の貯蔵弾性率を上昇させ、被着体との接着力を高める作用を有する。光硬化剤の量が多いほど、光硬化後の粘着剤層の貯蔵弾性率が大きくなる傾向がある。光硬化後の粘着剤層の被着体との接着力を十分に高める観点から、粘着剤層を構成する光硬化性組成物における光硬化剤の含有量は、アクリル系ベースポリマー100重量部に対して、3重量部以上が好ましく、4重量部以上がより好ましく、5重量部以上がさらに好ましく、6重量部以上または7重量部以上であってもよい。 The photocuring agent has the effect of increasing the storage modulus of the adhesive by curing, and increasing the adhesive strength with the adherend. The greater the amount of photocuring agent, the greater the storage modulus of the adhesive layer after photocuring tends to be. From the viewpoint of sufficiently increasing the adhesive strength of the adhesive layer with the adherend after photocuring, the content of the photocuring agent in the photocurable composition constituting the adhesive layer is preferably 3 parts by weight or more, more preferably 4 parts by weight or more, even more preferably 5 parts by weight or more, and may be 6 parts by weight or more or 7 parts by weight or more, relative to 100 parts by weight of the acrylic base polymer.
光硬化前の粘着剤層において、液状の光硬化剤は、ベースポリマーの凝集力を低下させるため、光硬化剤の量が多いほど、光硬化前の粘着剤層の貯蔵弾性率が小さく、被着体との接着力が小さくなる傾向がある。また、光硬化剤の量が多いほど、ベースポリマーの凝集力低下に伴って粘着剤の液状性が高くなるために、切断加工性が低下する傾向がある。粘着剤層の切断加工性が低い場合は、補強フィルムをレーザー等により切断加工して、切断部分の補強フィルムを被着体からはく離除去した際に、適切に切断されなかった粘着剤が被着体の表面に付着して残存し、粘着剤による設備の汚染や、部材の貼り付き等による歩留まり低下の原因となる。 In the adhesive layer before photocuring, the liquid photocuring agent reduces the cohesive strength of the base polymer, so the greater the amount of photocuring agent, the smaller the storage modulus of the adhesive layer before photocuring and the smaller the adhesive strength with the adherend. In addition, the greater the amount of photocuring agent, the greater the liquidity of the adhesive due to the reduced cohesive strength of the base polymer, so the cuttability tends to decrease. If the adhesive layer has poor cuttability, when the reinforcing film is cut with a laser or the like and the cut portion of the reinforcing film is peeled off and removed from the adherend, the adhesive that was not cut properly remains on the surface of the adherend, causing contamination of the equipment by the adhesive and reduced yield due to parts sticking.
光硬化前の粘着剤層の切断加工性を良好とする観点から、粘着剤層を構成する光硬化性組成物における光硬化剤の含有量は、アクリル系ベースポリマー100重量部に対して、15重量部以下が好ましく、12重量部以下がより好ましく、11重量部以下がさらに好ましく、10重量部以下、9重量部以下または8重量部以下であってもよい。光硬化前の粘着剤層からの光硬化剤のブリードアウトによる被着体の汚染を抑制する観点からも、光硬化剤の量は上記範囲であることが好ましい。 From the viewpoint of improving the cutting processability of the adhesive layer before photocuring, the content of the photocuring agent in the photocurable composition constituting the adhesive layer is preferably 15 parts by weight or less, more preferably 12 parts by weight or less, and even more preferably 11 parts by weight or less, and may be 10 parts by weight or less, 9 parts by weight or less, or 8 parts by weight or less, relative to 100 parts by weight of the acrylic base polymer. The amount of the photocuring agent is preferably in the above range from the viewpoint of suppressing contamination of the adherend due to bleed-out of the photocuring agent from the adhesive layer before photocuring.
上述のように、光硬化剤は、光硬化前の粘着剤層の被着体に対する接着力を低下させて被着体からのはく離を容易化するとともに、光硬化後の粘着剤層の被着体に対する接着力を高める作用を有する。一方で、光硬化剤の量が過度に多い場合は、切断加工性の低下や被着体の汚染の原因となり得る。特に、フォルダブルデバイスへの適用等を目的として、低貯蔵弾性率化のために架橋剤の使用量が少ない(ベースポリマーに導入される架橋点が少ない)粘着剤は、ポリマーの凝集力が小さいため、切断加工性を確保するために、光硬化剤の配合量を少なくする必要がある。 As described above, the photocuring agent acts to reduce the adhesive strength of the adhesive layer to the adherend before photocuring, making it easier to peel it off from the adherend, and to increase the adhesive strength of the adhesive layer to the adherend after photocuring. On the other hand, if the amount of photocuring agent is excessively large, it may cause a decrease in cutting processability and contamination of the adherend. In particular, for adhesives that use a small amount of crosslinking agent to achieve a low storage modulus (few crosslinking points introduced into the base polymer) for the purpose of application to foldable devices, etc., the polymer has a small cohesive force, so in order to ensure cutting processability, it is necessary to reduce the amount of photocuring agent.
少量の光硬化剤により、光硬化前の粘着剤層の接着力を低く、かつ光硬化後の粘着剤層の接着力を高くするためには、光硬化剤として、アルキレンオキサイド鎖を有する多官能(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。 In order to reduce the adhesive strength of the adhesive layer before photocuring and increase the adhesive strength of the adhesive layer after photocuring with a small amount of photocuring agent, it is preferable to use a polyfunctional (meth)acrylate having an alkylene oxide chain as the photocuring agent.
アルキレンオキサイド鎖を有する多官能(メタ)アクリレートは、アルキレンオキサイド鎖を有さない多官能(メタ)アクリレートと比較すると、アクリル系ベースポリマーとの相溶性が低く、特に、極性官能基の量が少ないポリマーとの相溶性が低いため、粘着剤層の表面(被着体との接着界面近傍)に偏在しやすい。光硬化剤としてアルキレンオキサイド鎖を有する多官能(メタ)アクリレートを含む場合、配合量が少量であっても、被着体との接着界面に偏在した光硬化剤により、接着阻害層(Weak Boundary Layer; WBL)が形成されやすい。 Compared to polyfunctional (meth)acrylates without alkylene oxide chains, polyfunctional (meth)acrylates with alkylene oxide chains have low compatibility with acrylic-based polymers, especially with polymers with a small amount of polar functional groups, and therefore tend to be unevenly distributed on the surface of the adhesive layer (near the adhesive interface with the adherend). When polyfunctional (meth)acrylates with alkylene oxide chains are included as a photocuring agent, even in small amounts, the photocuring agent unevenly distributed at the adhesive interface with the adherend tends to form an adhesion-inhibiting layer (Weak Boundary Layer; WBL).
WBLが形成されると、粘着剤層の貯蔵弾性率等のバルク特性を保持したまま、表面(接着界面)の液状の特性が強くなるため、被着体との接着力が小さくなる傾向がある。そのため、光硬化前の粘着剤層は、貯蔵弾性率が高く切断等の加工性に優れ、かつ被着体からのはく離が容易である。光硬化剤が被着体との接着界面近傍に偏在してWBLが形成されている粘着剤層を光硬化すると、光硬化剤の存在密度が高い接着界面近傍で、光硬化剤の硬化反応が進行しやすいため、接着力向上しやすい。また、WBLが形成されている場合は、バルク特性である貯蔵弾性率の光硬化による増大が抑制される傾向があるため、フォルダブルデバイスへの適用性に優れている。 When a WBL is formed, the adhesive layer retains its bulk properties such as storage modulus, but the liquid properties of the surface (adhesive interface) become stronger, so the adhesive strength with the adherend tends to decrease. Therefore, the adhesive layer before photocuring has a high storage modulus, excellent workability such as cutting, and is easy to peel from the adherend. When an adhesive layer in which a WBL is formed with the photocuring agent unevenly distributed near the adhesive interface with the adherend is photocured, the curing reaction of the photocuring agent is likely to proceed near the adhesive interface where the density of the photocuring agent is high, so the adhesive strength is likely to improve. In addition, when a WBL is formed, the increase in the storage modulus, which is a bulk property, due to photocuring tends to be suppressed, so the adhesive has excellent applicability to foldable devices.
アルキレンオキサイド鎖を有する多官能(メタ)アクリレートは、アルキレンオキサイド鎖の平均鎖長nが大きいほど、アクリル系ベースポリマーとの相溶性が低く、光硬化前の粘着剤層の接着力が小さくなる傾向がある。一方、アクリル系ベースポリマーと光硬化剤との相溶性が過度に低い場合は、粘着剤層の表面に形成されるWBLの液状特性が高く、光硬化剤のせん断保持が困難となり、ブリードアウトした光硬化剤が被着体を汚染する原因となり得る。アクリル系ベースポリマーと適度の相溶性を持たせる観点から、アルキレンオキサイド鎖を有する多官能(メタ)アクリレートにおけるアルキレンオキサイド鎖の平均鎖長nは、10以下が好ましく、8以下がより好ましく、6以下がさらに好ましく、5以下、4以下または3以下であってもよい。 The larger the average chain length n of the alkylene oxide chain of the polyfunctional (meth)acrylate having an alkylene oxide chain, the lower the compatibility with the acrylic base polymer, and the smaller the adhesive strength of the adhesive layer before photocuring tends to be. On the other hand, if the compatibility between the acrylic base polymer and the photocuring agent is excessively low, the liquid properties of the WBL formed on the surface of the adhesive layer are high, making it difficult to shear the photocuring agent, and the bleed-out photocuring agent may cause contamination of the adherend. From the viewpoint of having a suitable compatibility with the acrylic base polymer, the average chain length n of the alkylene oxide chain in the polyfunctional (meth)acrylate having an alkylene oxide chain is preferably 10 or less, more preferably 8 or less, even more preferably 6 or less, and may be 5 or less, 4 or less, or 3 or less.
上記の様に、少量の添加によりWBLが形成されやすいことから、光硬化剤としては、アルキレンオキサイド鎖を有し、かつ1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能(メタ)アクリレートが好ましい。アルキレンオキサイド鎖を有する多官能(メタ)アクリレートは、1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有していてもよい。 As described above, since WBL is easily formed by adding a small amount, the photocuring agent is preferably a polyfunctional (meth)acrylate having an alkylene oxide chain and two or more (meth)acryloyl groups in one molecule. The polyfunctional (meth)acrylate having an alkylene oxide chain may have three or more (meth)acryloyl groups in one molecule.
光硬化剤が1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する場合は、光硬化により粘着剤層の接着力が上昇しやすい。一方、1分子中に3個以上の(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレートを用いた場合は、1分子中に2個の(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレートを用いた場合に比べて、光硬化後の粘着剤層の貯蔵弾性率が大きく、柔軟性が低下する場合がある。 When the photocuring agent has three or more (meth)acryloyl groups per molecule, the adhesive strength of the adhesive layer is likely to increase by photocuring. On the other hand, when a multifunctional acrylate having three or more (meth)acryloyl groups per molecule is used, the storage modulus of the adhesive layer after photocuring may be larger and the flexibility may decrease compared to when a multifunctional acrylate having two (meth)acryloyl groups per molecule is used.
光硬化剤は、2種以上を併用してもよい。例えば、光硬化剤として、アルキレンオキサイド鎖を有する多官能(メタ)アクリレートを2種以上用いてもよく、アルキレンオキサイド鎖を有する多官能(メタ)アクリレートとアルキレンオキサイド鎖を有さない多官能(メタ)アクリレートを用いてもよい。また、光硬化剤として、官能基数(1分子中の(メタ)アクリロイル基の数)の異なる多官能(メタ)アクリレートを用いてもよい。例えば、光硬化後の粘着剤層の接着力や貯蔵弾性率の調整等を目的として、光硬化剤として、2官能(メタ)アクリレートと3官能以上の多官能(メタ)アクリレートを併用してもよい。 Two or more types of photocuring agents may be used in combination. For example, two or more types of polyfunctional (meth)acrylates having an alkylene oxide chain may be used as the photocuring agent, or a polyfunctional (meth)acrylate having an alkylene oxide chain and a polyfunctional (meth)acrylate having no alkylene oxide chain may be used. In addition, a polyfunctional (meth)acrylate having a different number of functional groups (the number of (meth)acryloyl groups in one molecule) may be used as the photocuring agent. For example, a bifunctional (meth)acrylate and a trifunctional or more polyfunctional (meth)acrylate may be used in combination as the photocuring agent for the purpose of adjusting the adhesive strength and storage modulus of the adhesive layer after photocuring.
光硬化剤として、アルキレンオキサイド鎖を有する多官能(メタ)アクリレートと、ウレタン(メタ)アクリレートを用いてもよい。ウレタン(メタ)アクリレートは、1分子中に、1個以上のウレタン結合と、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物であり、好ましくは1分子中に2個以上のウレタン結合を含む。2個以上のウレタン結合を有するウレタン(メタ)アクリレートは、例えば、ポリイソシアネートと、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル化合物との反応により得られ、ポリイソシアネートのイソシアネート基と(メタ)アクリル化合物のヒドロキシ基が結合して、ウレタン結合を形成する。 As the photocuring agent, a polyfunctional (meth)acrylate having an alkylene oxide chain and a urethane (meth)acrylate may be used. The urethane (meth)acrylate is a compound having one or more urethane bonds and two or more (meth)acryloyl groups in one molecule, and preferably contains two or more urethane bonds in one molecule. The urethane (meth)acrylate having two or more urethane bonds is obtained, for example, by reacting a polyisocyanate with a (meth)acrylic compound having a hydroxy group, and the isocyanate group of the polyisocyanate and the hydroxy group of the (meth)acrylic compound are bonded to form a urethane bond.
ポリイソシアネートは、芳香族ポリイソシアネート、脂環族ポリイソシアネートおよび脂環式ポリイソシアネートのいずれでもよい。中でも、芳香族ポリイソシアネートおよび脂肪族ポリイソシアネートが好ましい。芳香族ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート(TDI)が特に好ましい。トリレンジイソシアネートは、2,4-トリレンジイソソアネート、および2,6-トリレンジイソシアネートのいずれでもよく、両者の混合物でもよい。脂肪族ポリイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)が特に好ましい。 The polyisocyanate may be any of aromatic polyisocyanates, alicyclic polyisocyanates, and alicyclic polyisocyanates. Among them, aromatic polyisocyanates and aliphatic polyisocyanates are preferred. As the aromatic polyisocyanate, tolylene diisocyanate (TDI) is particularly preferred. As the tolylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate or 2,6-tolylene diisocyanate may be used, or a mixture of the two may be used. As the aliphatic polyisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI) is particularly preferred.
ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル化合物としては、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシへキシル、ヒドロキシメチルアクリルアミド、ヒドロキシエチルアクリルアミド等の1個のヒドロキシ基と1個の(メタ)アクリロイル基を有する化合物;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート等の1個のヒドロキシ基と2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物が挙げられる。 Examples of (meth)acrylic compounds having a hydroxy group include compounds having one hydroxy group and one (meth)acryloyl group, such as hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxybutyl (meth)acrylate, hydroxyhexyl (meth)acrylate, hydroxymethylacrylamide, and hydroxyethylacrylamide; and compounds having one hydroxy group and two or more (meth)acryloyl groups, such as pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, trimethylolpropane di(meth)acrylate, and isocyanuric acid di(meth)acrylate.
これらの中でも、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル化合物としては、1個のヒドロキシ基と2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物が好ましく、その具体例として、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等のペンタエリスリトール骨格を有する化合物が挙げられる。 Among these, the (meth)acrylic compound having a hydroxy group is preferably a compound having one hydroxy group and two or more (meth)acryloyl groups, and specific examples thereof include compounds having a pentaerythritol skeleton, such as pentaerythritol tri(meth)acrylate and dipentaerythritol penta(meth)acrylate.
ジイソシアネートと、1分子中に1個のヒドロキシ基および2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル化合物との反応により得られるウレタン(メタ)アクリレートは、1分子中に2個のウレタン結合と4個以上の(メタ)アクリロイル基を有する。ウレタン(メタ)アクリレートの(メタ)アクリロイル基の数は、6個以上または8個以上であってもよく、12個以下または10個以下であってもよい。 A urethane (meth)acrylate obtained by reacting a diisocyanate with a (meth)acrylic compound having one hydroxy group and two or more (meth)acryloyl groups in one molecule has two urethane bonds and four or more (meth)acryloyl groups in one molecule. The number of (meth)acryloyl groups in the urethane (meth)acrylate may be six or more, eight or more, or twelve or ten or less.
上記のウレタン(メタ)アクリレートは、共栄社化学、新中村化学、根上工業、日本合成化学、ダイセル・オルネクス、昭和電工マテリアルズ等から市販されているものを用いてもよい。 The above urethane (meth)acrylates may be commercially available from Kyoeisha Chemical, Shin-Nakamura Chemical, Negami Chemical Industry, Nippon Synthetic Chemical, Daicel Allnex, Showa Denko Materials, etc.
アクリル系ベースポリマーとの相溶性および粘着剤層の接着力調整の観点から、ウレタン(メタ)アクリレートの分子量は、500~1500が好ましく、600~1000、または700~900であってもよい。同様の観点から、ウレタン(メタ)アクリレートの(メタ)アクリロイル基の官能基当量(g/eq)は、80~200が好ましく、100~150、110~140、または120~130であってもよい。 From the viewpoint of compatibility with the acrylic base polymer and adjustment of the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer, the molecular weight of the urethane (meth)acrylate is preferably 500 to 1500, and may be 600 to 1000, or 700 to 900. From the same viewpoint, the functional group equivalent (g/eq) of the (meth)acryloyl group of the urethane (meth)acrylate is preferably 80 to 200, and may be 100 to 150, 110 to 140, or 120 to 130.
光硬化剤として、ウレタン結合を有さない多官能(メタ)アクリレートに加えて、ウレタン(メタ)アクリレートを含むことにより、光硬化前の粘着剤層の接着力が小さく、光硬化後の粘着剤層の接着力が大きくなる傾向がある。一因として、ウレタン(メタ)アクリレートが、ウレタン結合を有さない多官能(メタ)アクリレート、特にアルキレンオキサイド鎖を有する多官能(メタ)アクリレートによるWBLの形成促進作用が考えられる。 By including urethane (meth)acrylate as the photocuring agent in addition to a multifunctional (meth)acrylate that does not have a urethane bond, the adhesive layer tends to have a smaller adhesive strength before photocuring and a larger adhesive strength after photocuring. One possible reason for this is that the urethane (meth)acrylate promotes the formation of WBL by multifunctional (meth)acrylates that do not have a urethane bond, particularly multifunctional (meth)acrylates that have an alkylene oxide chain.
ウレタン(メタ)アクリレートは、アクリル系ベースポリマーの凝集力を高める作用を有し、さらにアクリル系ベースポリマーとウレタン(メタ)アクリレートが水素結合を形成する。そのため、ウレタン(メタ)アクリレートは粘着剤層のバルク部分に取り込まれやすい。ウレタン(メタ)アクリレートが粘着剤層のバルク部分に取り込まれると、ウレタン結合を有さない多官能(メタ)アクリレートが粘着剤層の表面(接着界面)近傍に偏在しやすくなり、WBLの形成が促進されると考えられる。 Urethane (meth)acrylate has the effect of increasing the cohesive strength of the acrylic-based polymer, and furthermore, the acrylic-based polymer and the urethane (meth)acrylate form hydrogen bonds. Therefore, the urethane (meth)acrylate is easily incorporated into the bulk portion of the adhesive layer. When the urethane (meth)acrylate is incorporated into the bulk portion of the adhesive layer, the multifunctional (meth)acrylate that does not have a urethane bond tends to be unevenly distributed near the surface (adhesive interface) of the adhesive layer, which is thought to promote the formation of WBL.
粘着剤層を構成する光硬化性組成物が、光硬化剤として、ウレタン結合を有さない多官能(メタ)アクリレートに加えて、ウレタン(メタ)アクリレートを含む場合、ウレタン(メタ)アクリレートの含有量は、アクリル系ベースポリマー100重量部に対して、0.01重量部以上が好ましく、0.05重量部以上がより好ましく、0.08重量部以上または0.1重量部以上であってもよい。 When the photocurable composition constituting the adhesive layer contains, as a photocuring agent, a urethane (meth)acrylate in addition to a polyfunctional (meth)acrylate that does not have a urethane bond, the content of the urethane (meth)acrylate is preferably 0.01 parts by weight or more, more preferably 0.05 parts by weight or more, and may be 0.08 parts by weight or more or 0.1 parts by weight or more, per 100 parts by weight of the acrylic base polymer.
上記の様に、ウレタン(メタ)アクリレートは粘着剤層のバルク部分に取り込まれやすいため、ウレタンアクリレートの量が多くなると、バルク特性である貯蔵弾性率の光硬化による増大が顕著となる傾向がある。また、ウレタン(メタ)アクリレートの含有量が過度に多い場合は、光硬化剤(ウレタン結合を有さない多官能(メタ)アクリレートおよび/またはウレタン(メタ)アクリレート)が粘着剤層の表面(被着体との接着界面)にブリードアウトしやすく、ブリードアウトした成分が被着体を汚染する原因となり得る。そのため、ウレタン(メタ)アクリレートの含有量は、ベースポリマー100重量部に対して、5重量部以下が好ましく、3重量部以下がより好ましく、1重量部以下がさらに好ましく、0.5重量部以下、0.4重量部以下、0.3重量部以下、0.25重量部以下または0.2重量部以下であってもよい。 As described above, since urethane (meth)acrylate is easily incorporated into the bulk portion of the adhesive layer, when the amount of urethane acrylate is large, the increase in the storage modulus, which is a bulk property, due to photocuring tends to be significant. In addition, if the content of urethane (meth)acrylate is excessively high, the photocuring agent (polyfunctional (meth)acrylate and/or urethane (meth)acrylate having no urethane bond) is likely to bleed out to the surface of the adhesive layer (adhesive interface with the adherend), and the bleed-out components may cause contamination of the adherend. Therefore, the content of urethane (meth)acrylate is preferably 5 parts by weight or less, more preferably 3 parts by weight or less, and even more preferably 1 part by weight or less, and may be 0.5 parts by weight or less, 0.4 parts by weight or less, 0.3 parts by weight or less, 0.25 parts by weight or less, or 0.2 parts by weight or less, relative to 100 parts by weight of the base polymer.
光硬化性組成物が、光硬化剤として、ウレタン結合を有さない多官能(メタ)アクリレートに加えて、ウレタン(メタ)アクリレートを含む場合、光硬化前後の貯蔵弾性率および被着体との接着力を適切な範囲に調整する観点、ならびに光硬化剤のブリードアウトによる被着体の汚染を抑制する観点から、ウレタン結合を有さない多官能(メタ)アクリレートの含有が相対的に大きいことが好ましい。ウレタン(メタ)アクリレートの含有量は、ウレタン結合を有さない多官能(メタ)アクリレートの含有量に対して、重量比で、0.2倍以下が好ましく、0.1倍以下がより好ましく、0.05倍以下、0.03倍以下または0.02倍以下であってもよい。ウレタン(メタ)アクリレートの含有量は、ウレタン結合を有さない多官能(メタ)アクリレートの含有量に対して、重量比で、0.001倍以上、0.005倍以上、0.008倍以上または0.01倍以上であってもよい。 When the photocurable composition contains a urethane (meth)acrylate as a photocuring agent in addition to a polyfunctional (meth)acrylate having no urethane bond, it is preferable that the content of the polyfunctional (meth)acrylate having no urethane bond is relatively large from the viewpoint of adjusting the storage modulus before and after photocuring and the adhesive strength with the adherend to an appropriate range, and from the viewpoint of suppressing contamination of the adherend due to bleeding out of the photocuring agent. The content of the urethane (meth)acrylate is preferably 0.2 times or less, more preferably 0.1 times or less, and may be 0.05 times or less, 0.03 times or less, or 0.02 times or less, by weight, relative to the content of the polyfunctional (meth)acrylate having no urethane bond. The content of the urethane (meth)acrylate may be 0.001 times or more, 0.005 times or more, 0.008 times or more, or 0.01 times or more, by weight, relative to the content of the polyfunctional (meth)acrylate having no urethane bond.
(光重合開始剤)
光重合開始剤は、活性光線の照射により活性種を発生し、光硬化剤の硬化反応を促進する。光重合開始剤としては、光硬化剤の種類等に応じて、光カチオン開始剤(光酸発生剤)、光ラジカル重合開始剤、光アニオン開始剤(光塩基発生剤)等が用いられる。光硬化剤として多官能アクリレート等のエチレン性不飽和化合物が用いられる場合は、重合開始剤として光ラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。
(Photopolymerization initiator)
The photopolymerization initiator generates active species by irradiation with active light rays, and promotes the curing reaction of the photocuring agent. As the photopolymerization initiator, a photocation initiator (photoacid generator), a photoradical polymerization initiator, a photoanion initiator (photobase generator), etc. are used depending on the type of the photocuring agent. When an ethylenically unsaturated compound such as a polyfunctional acrylate is used as the photocuring agent, it is preferable to use a photoradical polymerization initiator as the polymerization initiator.
光ラジカル重合開始剤は、活性光線の照射によりラジカルを生成し、光ラジカル重合開始剤から光硬化剤へのラジカル移動により、光硬化剤のラジカル重合反応を促進する。光ラジカル重合開始剤(光ラジカル発生剤)としては、波長450nmよりも短波長の可視光または紫外線の照射によりラジカルを生成するものが好ましく、ヒドロキシケトン類、ベンジルジメチルケタール類、アミノケトン類、アシルフォスフィンオキサイド類、ベンゾフェノン類、トリクロロメチル基含有トリアジン誘導体等が挙げられる。光ラジカル重合開始剤は、単独で使用してもよく、2種以上を混合して使用してもよい。 The photoradical polymerization initiator generates radicals when irradiated with active light rays, and promotes the radical polymerization reaction of the photohardener by the transfer of radicals from the photoradical polymerization initiator to the photohardener. As the photoradical polymerization initiator (photoradical generator), one that generates radicals when irradiated with visible light or ultraviolet light having a wavelength shorter than 450 nm is preferable, and examples of the photoradical polymerization initiator include hydroxyketones, benzyl dimethyl ketals, aminoketones, acylphosphine oxides, benzophenones, trichloromethyl group-containing triazine derivatives, etc. The photoradical polymerization initiator may be used alone or in a mixture of two or more types.
粘着剤層2における光重合開始剤の含有量は、ベースポリマー100重量部に対して、0.01~5重量部が好ましく、0.02~3重量部がより好ましく、0.03~2重量部がさらに好ましい。粘着剤層2における光重合開始剤の含有量は、光硬化剤100重量部に対して、0.02~20重量部が好ましく、0.05~10重量部がより好ましく、0.1~7重量部がさらに好ましい。
The content of the photopolymerization initiator in the
(その他の添加剤)
上記例示の各成分の他、粘着剤層は、シランカップリング剤、粘着性付与剤、架橋促進剤、架橋遅延剤、可塑剤、軟化剤、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、着色剤、紫外線吸収剤界面活性剤、帯電防止剤等の添加剤を、本発明の特性を損なわない範囲で含有していてもよい。
(Other additives)
In addition to the above-exemplified components, the adhesive layer may contain additives such as a silane coupling agent, a tackifier, a crosslinking accelerator, a crosslinking retarder, a plasticizer, a softener, an antioxidant, an antidegradant, a filler, a colorant, an ultraviolet absorber, a surfactant, and an antistatic agent, within a range that does not impair the characteristics of the present invention.
架橋促進剤としては、有機金属錯体(キレート)、金属とアルコキシ基との化合物、および金属とアシルオキシ基との化合物等の有機金属化合物;ならびに第三級アミン等が挙げられる。常温の溶液状態での架橋反応の進行を抑制して粘着剤組成物のポットライフを確保する観点から、有機金属化合物が好ましい。また、粘着剤層の厚み方向全体にわたって均一な架橋構造を導入しやすいことから、架橋促進剤としては常温で液体である有機金属化合物が好ましい。有機金属化合物の金属としては、鉄、錫、アルミニウム、ジルコニウム、亜鉛、チタン、鉛、コバルト、亜鉛等が挙げられる。 Examples of crosslinking accelerators include organometallic compounds such as organometallic complexes (chelates), compounds of metals and alkoxy groups, and compounds of metals and acyloxy groups; and tertiary amines. From the viewpoint of suppressing the progress of the crosslinking reaction in a solution state at room temperature and ensuring the pot life of the adhesive composition, organometallic compounds are preferred. In addition, organometallic compounds that are liquid at room temperature are preferred as crosslinking accelerators, since they are easy to introduce a uniform crosslinked structure throughout the thickness direction of the adhesive layer. Examples of metals in organometallic compounds include iron, tin, aluminum, zirconium, zinc, titanium, lead, cobalt, zinc, etc.
架橋遅延剤としては、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸オクチル、アセト酢酸オレイル、アセト酢酸ラウリル、アセト酢酸ステアリル等のβ-ケトエステル;アセチルアセトン、2,4-ヘキサンジオン、ベンゾイルアセトン等のβ-ジケトン;tert-ブチルアルコール等のアルコール類が挙げられる。 Examples of crosslinking retarders include β-ketoesters such as methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, octyl acetoacetate, oleyl acetoacetate, lauryl acetoacetate, and stearyl acetoacetate; β-diketones such as acetylacetone, 2,4-hexanedione, and benzoylacetone; and alcohols such as tert-butyl alcohol.
[補強フィルムの作製]
フィルム基材1上に光硬化性の粘着剤層2を積層することにより、補強フィルムが得られる。粘着剤層2は、フィルム基材1上に直接形成してもよく、他の基材上でシート状に形成された粘着剤層をフィルム基材1上に転写してもよい。
[Preparation of Reinforcement Film]
A reinforcing film is obtained by laminating a photocurable pressure-
上記の粘着剤組成物を、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコート等により、基材上に塗布し、必要に応じて溶媒を乾燥除去することにより粘着剤層が形成される。乾燥方法としては、適宜、適切な方法が採用され得る。加熱乾燥温度は、好ましくは40℃~200℃、より好ましくは50℃~180℃、さらに好ましくは70℃~170℃である。乾燥時間は、好ましくは5秒~20分、より好ましくは5秒~15分、さらに好ましくは10秒~10分である。 The above adhesive composition is applied to a substrate by roll coating, kiss roll coating, gravure coating, reverse coating, roll brush, spray coating, dip roll coating, bar coating, knife coating, air knife coating, curtain coating, lip coating, die coating, or the like, and the solvent is dried and removed as necessary to form an adhesive layer. As the drying method, any appropriate method may be adopted. The heating and drying temperature is preferably 40°C to 200°C, more preferably 50°C to 180°C, and even more preferably 70°C to 170°C. The drying time is preferably 5 seconds to 20 minutes, more preferably 5 seconds to 15 minutes, and even more preferably 10 seconds to 10 minutes.
粘着剤組成物が架橋剤を含有する場合は、溶媒の乾燥と同時、または溶媒の乾燥後に、加熱またはエージングにより架橋を進行させることが好ましい。加熱温度や加熱時間は、使用する架橋剤の種類によって適宜設定され、通常、20℃~160℃の範囲で、1分から7日程度の加熱により架橋が行われる。溶媒を乾燥除去するための加熱が、架橋のための加熱を兼ねていてもよい。 When the adhesive composition contains a crosslinking agent, it is preferable to proceed with crosslinking by heating or aging simultaneously with or after drying of the solvent. The heating temperature and heating time are set appropriately depending on the type of crosslinking agent used, and crosslinking is usually achieved by heating at a temperature in the range of 20°C to 160°C for about 1 minute to 7 days. The heating for drying and removing the solvent may also serve as the heating for crosslinking.
架橋剤によりポリマーに架橋構造を導入後も、光硬化剤は未反応の状態を維持している。そのため、高分子量成分と光硬化剤とを含む光硬化性の粘着剤層2が形成される。フィルム基材1上に粘着剤層2を形成する場合は、粘着剤層2の保護等を目的として、粘着剤層2上にはく離ライナー5を付設することが好ましい。粘着剤層2上にはく離ライナー5を付設後に架橋を行ってもよい。
Even after the crosslinking structure is introduced into the polymer by the crosslinking agent, the photocuring agent remains unreacted. Therefore, a photocurable
他の基材上に粘着剤層2を形成する場合は、溶媒を乾燥後に、フィルム基材1上に粘着剤層2を転写することにより補強フィルムが得られる。粘着剤層の形成に用いた基材を、そのままはく離ライナー5としてもよい。
When forming the
はく離ライナー5としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステルフィルム等のプラスチックフィルムが好ましく用いられる。はく離ライナーの厚みは、通常3~200μm、好ましくは10~100μm程度である。はく離ライナー5の粘着剤層2との接触面には、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系、もしくは脂肪酸アミド系等の離型剤、またなシリカ粉等による離型処理が施されていることが好ましい。はく離ライナー5の表面が離型処理されていることにより、粘着剤層2とはく離ライナー5との界面ではく離が生じ、フィルム基材1上に粘着剤層2が固着した状態が維持される。はく離ライナー5は、離型処理面および非処理面のいずれか一方または両方に帯電防止処理が施されていてもよい。はく離ライナー5に帯電防止処理が施されていることにより、粘着剤層からはく離ライナーをはく離した際の帯電を抑制できる。
As the
[補強フィルムの特性および補強フィルムの使用]
本発明の補強フィルムは、デバイスまたはデバイス構成部品に貼り合わせて用いられる。補強フィルム10は、粘着剤層2がフィルム基材1と固着されており、被着体との貼り合わせ後光硬化前は、被着体への接着力が小さい。そのため、光硬化前は被着体からの補強フィルムのはく離が容易である。
[Characteristics of the reinforcing film and use of the reinforcing film]
The reinforcing film of the present invention is used by being attached to a device or a device component. The reinforcing
補強フィルムが貼り合わせられる被着体は特に限定されず、各種の電子デバイス、光学デバイスおよびその構成部品等が挙げられる。一実施形態において、補強フィルムは、折り曲げ可能なフレキシブルデバイスの表面に貼り合わせられる。折り曲げ可能なデバイスは、ヒンジ部を有し、このヒンジ部を中心に折り曲げることができる。折り曲げ角度は、任意に設定可能であり、180°折り曲げ(折りたたみ)可能であってもよい。デバイスが表示装置である場合、画面側の表面に補強フィルムを貼り合わせてもよく、裏面側(筐体)に補強フィルムを貼り合わせてもよい。ヒンジ部等の所定箇所で折り曲げ可能に構成されているフレキシブルデバイスでは、その使用状態において、同一箇所で屈曲と伸展が繰り返し行われる。 The adherend to which the reinforcing film is attached is not particularly limited, and examples thereof include various electronic devices, optical devices, and components thereof. In one embodiment, the reinforcing film is attached to the surface of a foldable flexible device. The foldable device has a hinge portion and can be folded around this hinge portion. The folding angle can be set arbitrarily, and the device may be bent (folded) at 180°. When the device is a display device, the reinforcing film may be attached to the surface on the screen side, or the reinforcing film may be attached to the back side (housing). In a flexible device that is configured to be bendable at a predetermined location such as a hinge portion, bending and stretching are repeated at the same location when the device is in use.
補強フィルムは被着体の全面に貼り合わせられてもよく、補強を必要とする部分(補強対象領域)にのみ選択的に貼り合わせられてもよい。補強を必要とする部分(補強対象領域)と補強を必要としない領域(非補強対象領域)の全体に補強フィルムを貼り合わせた後、補強フィルムを切断し、非補強対象領域から補強フィルムをはく離除去することにより、補強対象領域のみに補強フィルムが貼り合わせられたデバイスを作製できる。粘着剤が光硬化前であれば、補強フィルムは被着体表面に仮着された状態であるため、被着体の表面から補強フィルムを容易にはく離除去できる。光硬化前の粘着剤層が、低貯蔵弾性率でありながら切断加工性に優れているため、切断後の補強フィルムをデバイスの表面からはく離除去する際に、デバイスの非補強対象領域への粘着剤の残存が少なく、工程の歩留まりが向上する。 The reinforcing film may be attached to the entire surface of the adherend, or may be selectively attached only to the area requiring reinforcement (area to be reinforced). After the reinforcing film is attached to the entire area requiring reinforcement (area to be reinforced) and the area not requiring reinforcement (area not to be reinforced), the reinforcing film is cut and peeled off from the area not to be reinforced, thereby producing a device in which the reinforcing film is attached only to the area to be reinforced. If the adhesive is not yet photocured, the reinforcing film is in a state where it is temporarily attached to the surface of the adherend, so that the reinforcing film can be easily peeled off and removed from the surface of the adherend. The adhesive layer before photocuring has a low storage modulus and excellent cutting processability, so that when the cut reinforcing film is peeled off and removed from the surface of the device, little adhesive remains in the area not to be reinforced of the device, improving the process yield.
補強フィルムを貼り合わせることにより、適度な剛性が付与されるため、フレキシブルデバイス等の厚みが小さい部材に対して、ハンドリング性向上や破損防止効果が期待される。デバイスの製造工程において、仕掛品に補強フィルムが貼り合わせられる場合は、製品サイズに切断される前の大判の仕掛品に補強フィルムを貼り合わせてもよい。ロールトゥーロールプロセスにより製造されるデバイスのマザーロールに、補強フィルムをロールトゥーロールで貼り合わせてもよい。 By laminating the reinforcing film, appropriate rigidity is imparted, which is expected to improve the handling properties and prevent damage to thin components such as flexible devices. When the reinforcing film is laminated to a work-in-progress in the device manufacturing process, the reinforcing film may be laminated to a large-sized work-in-progress before it is cut to the product size. The reinforcing film may be laminated roll-to-roll to the mother roll of a device manufactured by a roll-to-roll process.
補強フィルムを貼り合わせる前に、清浄化等を目的として、被着体の表面の活性化処理を行ってもよい。表面活性化処理としては、プラズマ処理、コロナ処理、グロー放電処理等が挙げられる。表面が活性化処理された被着体は、ヒドロキシ基、カルボニル基、カルボキシル基等の活性基を多く含んでおり、粘着剤のベースポリマーの極性官能基との分子間相互作用により、接着力が上昇しやすい。特に、被着体がポリイミドである場合は、活性化処理により、アミド酸、末端のアミノ基やカルボキシ基(またはカルボン酸無水物基)等が活性化され、ベースポリマーの極性官能基との相互作用が強いため、活性化処理により初期接着力が大幅に上昇する場合がある。 Before laminating the reinforcing film, the surface of the adherend may be activated for the purpose of cleaning, etc. Examples of surface activation treatments include plasma treatment, corona treatment, and glow discharge treatment. An adherend whose surface has been activated contains many active groups such as hydroxyl groups, carbonyl groups, and carboxyl groups, and the adhesive strength is likely to increase due to intermolecular interactions with the polar functional groups of the base polymer of the adhesive. In particular, when the adherend is a polyimide, the activation treatment activates the amide acid, terminal amino groups, carboxyl groups (or carboxylic anhydride groups), etc., which have a strong interaction with the polar functional groups of the base polymer, so the initial adhesive strength may be significantly increased by the activation treatment.
初期接着力が過度に大きくなると、非補強対象領域に貼り合わせられた補強フィルムのはく離が困難となる場合がある。前述のように、ベースポリマーが窒素原子を実質的に含まないことにより、表面が活性化処理された被着体に対する初期接着力の過度の上昇を抑制できる。表面活性化処理を行った被着体と光硬化前の粘着剤層の接着力は、表面活性化処理を行っていない被着体と光硬化前の粘着剤層の接着力の2.5倍以下が好ましく、2倍以下がより好ましく、1.5倍以下がさらに好ましく、1.4倍以下または1.3倍以下であってもよい。 If the initial adhesive strength is excessively large, it may be difficult to peel off the reinforcing film attached to the non-reinforcement area. As described above, since the base polymer is substantially free of nitrogen atoms, an excessive increase in the initial adhesive strength to an adherend whose surface has been activated can be suppressed. The adhesive strength between an adherend that has been surface-activated and the adhesive layer before photocuring is preferably 2.5 times or less, more preferably 2 times or less, even more preferably 1.5 times or less, and may be 1.4 times or less, or 1.3 times or less, of the adhesive strength between an adherend that has not been surface-activated and the adhesive layer before photocuring.
被着体からのはく離を容易とし、補強フィルムをはく離後の被着体への糊残りを防止する観点から、光硬化前の粘着剤層2と被着体との接着力(初期接着力)は、0.5N/25mm以下が好ましく、0.3N/25mm以下がより好ましく、0.25N/25mm以下がさらに好ましく、0.2N/25mm以下または0.15N/25mm以下であってもよい。保管やハンドリングの際の補強フィルムのはく離を防止する観点から、光硬化前の粘着剤層2と被着体との接着力は、0.005N/25mm以上が好ましく、0.01N/25mm以上がより好ましい。
From the viewpoint of facilitating peeling from the adherend and preventing adhesive residue on the adherend after peeling of the reinforcing film, the adhesive strength (initial adhesive strength) between the
接着力は、ポリイミドフィルムを被着体として、引張速度300mm/分、はく離角度180°のピール試験により求められる。特に断りがない限り、接着力は25℃での測定値である。光硬化前の粘着剤層と被着体との接着力は、貼り合わせ後、25℃で30分静置した試料を用いて測定する。 The adhesive strength is determined by a peel test using a polyimide film as the adherend, with a tensile speed of 300 mm/min and a peel angle of 180°. Unless otherwise specified, the adhesive strength is measured at 25°C. The adhesive strength between the adhesive layer and the adherend before photocuring is measured using a sample that has been left to stand at 25°C for 30 minutes after lamination.
前述のように、切断加工性の観点から、光硬化前の粘着剤層2の25℃における貯蔵弾性率は、15kPa以上が好ましく、18kPa以上がより好ましく、20kPa以上がさらに好ましく、25kPa以上または30kPa以上であってもよい。光硬化前の粘着剤層の貯蔵弾性率は、ベースポリマーの組成、架橋剤の導入量および光硬化剤の含有量等に依存する。架橋剤の導入量が多いほど貯蔵弾性率が大きくなる傾向がある。光硬化剤の量が多いほど貯蔵弾性率が小さくなる傾向がある。
As described above, from the viewpoint of cutting processability, the storage modulus of the
被着体に補強フィルムを貼り合わせた後、補強対象領域と非補強対象領域との境界で、被着体20を切断しないように、補強フィルム10のフィルム基材1および粘着剤層2を選択的に切断(ハーフカット)し、被着体20の非補強対象領域上に仮着された補強フィルム10をはく離除去する。
After the reinforcing film is attached to the adherend, the
補強フィルムの切断方法は特に限定されないが、レーザーを用いた切断加工が好ましい。レーザーの波長および出力を選択することにより、被着体を損傷させずに、補強フィルム10のみを選択的に切断加工することが可能である。例えば、被着体がデバイス20の基板としてのポリイミドフィルムである場合は、炭酸レーザーを用い、補強フィルム10のフィルム基材1側からレーザーを照射することにより、ポリイミドフィルムの損傷を抑制しつつ、補強フィルム10のフィルム基材1および粘着剤層2を切断できる。
The method for cutting the reinforcing film is not particularly limited, but cutting using a laser is preferred. By selecting the wavelength and output of the laser, it is possible to selectively cut only the reinforcing
被着体の損傷を抑制するために、レーザーの出力を小さくすると、粘着剤層2の切断性が低下する傾向があるが、上記の様に、本発明の補強フィルムは、粘着剤層2が切断加工性に優れているため、加工不良を抑制できる。そのため、切断後の補強フィルムを被着体の表面からはく離除去する際に、被着体の非補強対象領域への粘着剤の残存が少なく、工程の歩留まり向上に寄与し得る。
When the laser output is reduced to prevent damage to the adherend, the cutting ability of the
補強フィルムの切断加工性の評価は、補強フィルムの粘着剤層をポリイミドフィルムに貼り合わせ、レーザー切断加工を行い、切断部分をポリイミドフィルムからはく離除去し、補強フィルムをはく離後のポリイミドフィルムの表面を観察し、ポリイミドフィルム上に粘着剤が残存している部分の長さ比率を算出することにより行う。具体的な条件は、後述の実施例に記載の通りである。 The cutting processability of the reinforcement film is evaluated by laminating the adhesive layer of the reinforcement film to a polyimide film, performing laser cutting, peeling and removing the cut portion from the polyimide film, observing the surface of the polyimide film after peeling the reinforcement film, and calculating the length ratio of the portion where the adhesive remains on the polyimide film. Specific conditions are as described in the Examples below.
粘着剤が残存している部分の長さ比率(粘着剤残存部比率)は、80%以下が好ましく、70%以下がより好ましく、60%以下がさらに好ましく、55%以下、50%以下、45%以下または40%以下であってもよい。粘着剤残存部比率は小さいほど好ましく、理想的には0である。一方、ポリイミドフィルムを損傷しないレーザー加工条件で、粘着剤残存部比率を0に近付けることは容易ではない。 The length ratio of the portion where the adhesive remains (adhesive remaining ratio) is preferably 80% or less, more preferably 70% or less, even more preferably 60% or less, and may be 55% or less, 50% or less, 45% or less, or 40% or less. The smaller the adhesive remaining ratio, the more preferable, and ideally it is 0. On the other hand, it is not easy to bring the adhesive remaining ratio close to 0 under laser processing conditions that do not damage the polyimide film.
粘着剤の貯蔵弾性率を大きくすれば、粘着剤残存部比率をより小さくすることが可能であるが、その場合は、フォルダブルデバイスに適用するための粘着剤の柔軟性が不足する。粘着剤層がフォルダブルデバイスに適用可能な貯蔵弾性率を有する範囲において、粘着剤残存部比率は、一般に15%以上である。粘着剤残存部比率は、20%以上、25%以上、30%以上または35%以上であってもよい、 By increasing the storage modulus of the adhesive, it is possible to reduce the adhesive remaining ratio, but in that case, the adhesive will lack flexibility for application to a foldable device. In the range in which the adhesive layer has a storage modulus applicable to a foldable device, the adhesive remaining ratio is generally 15% or more. The adhesive remaining ratio may be 20% or more, 25% or more, 30% or more, or 35% or more.
被着体に補強フィルムを貼り合わせ、補強フィルムの切断加工およびはく離を行った後、被着体に貼り合わせられている補強フィルムの粘着剤層2に活性光線を照射することにより、粘着剤層を光硬化させる。活性光線としては、紫外線、可視光、赤外線、X線、α線、β線、およびγ線等が挙げられる。保管状態における粘着剤層の硬化を抑制可能であり、かつ硬化が容易であることから、活性光線としては紫外線が好ましい。活性光線の照射強度や照射時間は、粘着剤層の組成や厚み等に応じて適宜設定すればよい。粘着剤層2への活性光線の照射は、フィルム基材1側および被着体側のいずれの面から実施してもよく、両方の面から活性光線の照射を行ってもよい。
After laminating the reinforcing film to the adherend and cutting and peeling the reinforcing film, the
光硬化に伴って、粘着剤層の被着体に対する接着力が上昇する。デバイスの実用時の接着信頼性の観点から、光硬化後の粘着剤層2と被着体との接着力は、3N/25mm以上が好ましく、4N/25mm以上がより好ましく、5N/25mm以上がさらに好ましく、6N/25mm以上、7N/25mm以上、8N/25mm以上、9N/25mm以上または10N/25mm以上であってもよい。補強フィルムは、光硬化後の粘着剤層が、ポリイミドフィルムに対して上記範囲の接着力を有することが好ましい。
As the adhesive layer is photocured, the adhesive strength of the adhesive layer to the adherend increases. From the viewpoint of adhesive reliability during practical use of the device, the adhesive strength between the
光硬化後の粘着剤層2と被着体との接着力は、光硬化前の粘着剤層2と被着体との接着力の5倍以上が好ましく、10倍以上がより好ましく、30倍以上がさらに好ましく、50倍以上、75倍以上または100倍以上であってもよい。前述のように、光硬化剤の種類(ベースポリマーとの相溶性)および添加量を調整することにより、光硬化前の接着力(初期接着力)を低く抑え、かつ切断加工性を維持しながら、光硬化後の粘着剤の接着力を大きくすることができる。
The adhesive strength between the
前述のように、粘着剤層2に衝撃緩和作用を持たせるとともに、フォルダブルデバイスの屈曲箇所およびその周辺でのデバイスから補強フィルムのはく離を抑制する観点から、光硬化後の粘着剤層2の25℃における貯蔵弾性率は、80kPa以下が好ましく、70kPa以下がより好ましく、65kPa以下、60kPa以下、55kPa以下または50kPa以下であってもよい。
As described above, in order to provide the
光硬化後の粘着剤層の25℃における貯蔵弾性率は、光硬化前の粘着剤層の25℃における貯蔵弾性率の5倍以下が好ましく、3倍以下がより好ましく、2.5倍以下または2倍以下であってもよい。 The storage modulus at 25°C of the adhesive layer after photocuring is preferably 5 times or less, more preferably 3 times or less, and may be 2.5 times or less, or 2 times or less, of the storage modulus at 25°C of the adhesive layer before photocuring.
被着体に粘着剤層を貼り合わせた状態で粘着剤層を光硬化した際の粘着剤の硬化収縮による被着体の反りや破損を抑制する観点から、粘着剤層2の25℃における貯蔵弾性率の光硬化による増加量は、60kPa以下が好ましく、50kPa以下がより好ましく、40kPa以下がさらに好ましく、30kPa以下または25kPa以下であってもよい。
From the viewpoint of suppressing warping or damage to the adherend due to the cure shrinkage of the adhesive when the adhesive layer is photocured in a state where the adhesive layer is attached to the adherend, the increase in the storage modulus of the
架橋剤の量が少なく、光硬化剤の量が少ないほど、光硬化後の粘着剤層の貯蔵弾性率が小さくなる傾向があり、光硬化剤の量が少ないほど、光硬化による粘着剤層の貯蔵弾性率の増加量が小さくなる傾向がある。また、光硬化剤として、アルキレンオキシド鎖を有する多官能(メタ)アクリレートを用いることにより、光硬化による粘着剤層の貯蔵弾性率の上昇を抑制しつつ、被着体との接着力を高めることができる。 The smaller the amount of crosslinking agent and the amount of photocuring agent, the smaller the storage modulus of the adhesive layer after photocuring tends to be, and the smaller the amount of photocuring agent, the smaller the increase in the storage modulus of the adhesive layer due to photocuring tends to be. In addition, by using a multifunctional (meth)acrylate having an alkylene oxide chain as the photocuring agent, it is possible to increase the adhesive strength with the adherend while suppressing the increase in the storage modulus of the adhesive layer due to photocuring.
上記の様に、補強フィルムを貼り合わせることにより、被着体に適度な剛性が付与されるとともに、応力が緩和・分散されるため、製造工程において生じ得る種々の不具合を抑制し、生産効率を向上し、歩留まりを改善できる。補強フィルムは、粘着剤層を光硬化する前は、被着体からのはく離が容易であるため、積層や貼り合わせ不良が生じた場合もリワークが容易である。また、補強対象領域以外から選択的に補強フィルムを除去する等の加工も容易であり、光硬化前の粘着剤層が切断加工性に優れるため、切断箇所近傍の被着体表面への粘着剤の残存が少ない。 As described above, by laminating a reinforcing film, the adherend is given an appropriate rigidity and stress is alleviated and dispersed, which suppresses various defects that may occur during the manufacturing process, improves production efficiency, and improves yield. Before the adhesive layer is photocured, the reinforcing film can be easily peeled off from the adherend, so rework is easy even if lamination or lamination defects occur. In addition, processing such as selectively removing the reinforcing film from areas other than those to be reinforced is also easy, and because the adhesive layer before photocuring has excellent cuttability, little adhesive remains on the adherend surface near the cut point.
粘着剤層を光硬化後は、被着体に対して高い接着力を示し、補強フィルムがデバイス表面からはく離し難く、接着信頼性に優れるとともに、高い耐衝撃性が付与される。そのため、完成後のデバイスの使用において、デバイスの落下、デバイス上への重量物の載置、デバイスへの飛来物の衝突等により、不意に外力が負荷された場合でも、補強フィルムが貼り合わせられていることにより、デバイスの破損を防止できる。また、樹脂基板を用いたフレキシブルデバイスに本発明の補強フィルムを貼り合わせた補強フィルム付きデバイスでは、屈曲を繰り返した場合でも、屈曲箇所での補強フィルムのはく離が生じ難い。 After the adhesive layer is photocured, it exhibits high adhesion to the adherend, the reinforcing film is not easily peeled off from the device surface, and it is endowed with excellent adhesion reliability and high impact resistance. Therefore, even if an external force is suddenly applied during use of the completed device due to dropping the device, placing a heavy object on the device, or being hit by a flying object, the reinforcing film attached thereto can prevent damage to the device. Furthermore, in a device with a reinforcing film in which the reinforcing film of the present invention is attached to a flexible device using a resin substrate, the reinforcing film is not easily peeled off at the bending points even when the device is repeatedly bent.
以下に実施例を挙げてさらに説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。 The following examples are provided for further explanation, but the present invention is not limited to these examples.
[ベースポリマーの調製]
<ポリマーA>
温度計、攪拌機、還流冷却管および窒素ガス導入管を備えた反応容器に、モノマーとして、アクリル酸ブチル(BA)95重量部およびアクリル酸(AA)5重量部、熱重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.2重量部、ならびに溶媒として酢酸エチル233重量部を投入し、窒素ガスを流し、攪拌しながら約1時間窒素置換を行った。その後、60℃に加熱し、7時間反応させて、重量平均分子量60万のアクリル系ポリマーAの溶液を得た。
[Preparation of base polymer]
<Polymer A>
In a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen gas inlet tube, 95 parts by weight of butyl acrylate (BA) and 5 parts by weight of acrylic acid (AA) as monomers, 0.2 parts by weight of azobisisobutyronitrile (AIBN) as a thermal polymerization initiator, and 233 parts by weight of ethyl acetate as a solvent were charged, and nitrogen gas was introduced and nitrogen substitution was performed for about 1 hour while stirring. After that, the mixture was heated to 60°C and reacted for 7 hours to obtain a solution of acrylic polymer A with a weight average molecular weight of 600,000.
<ポリマーB~F>
モノマーの仕込み量を表1に示すように変更した。それ以外はポリマーAの重合と同様にして、ポリマーB~Fの溶液を得た。
<Polymers B to F>
The amounts of monomers charged were changed as shown in Table 1. Solutions of polymers B to F were obtained in the same manner as in the polymerization of polymer A except for the above.
アクリル系ポリマーA~Fの仕込みモノマー比率、ならびにポリマーの重量平均分子量(Mw)およびガラス転移温度(Tg)を表1に一覧で示す。ガラス転移温度は、仕込みモノマー比率からFoxの式に基づいて算出した。重量平均分子量(ポリスチレン換算)は、GPC(東ソー製「HLC-8220GPC」)を用い下記の条件により測定した。
サンプル濃度:0.2重量%(テトラヒドロフラン溶液)
サンプル注入量:10μL
溶離液:THF
流速:0.6mL/min
測定温度:40℃
サンプルカラム: TSKguardcolumn SuperHZ-H(1本)+TSKgel SuperHZM-H(2本)
参照カラム: TSKgel SuperH-RC(1本)
The monomer ratios charged for the acrylic polymers A to F, as well as the weight average molecular weights (Mw) and glass transition temperatures (Tg) of the polymers are listed in Table 1. The glass transition temperatures were calculated from the monomer ratios charged according to the Fox formula. The weight average molecular weights (polystyrene equivalent) were measured using GPC (Tosoh's "HLC-8220GPC") under the following conditions.
Sample concentration: 0.2% by weight (tetrahydrofuran solution)
Sample injection volume: 10 μL
Eluent: THF
Flow rate: 0.6mL/min
Measurement temperature: 40°C
Sample column: TSKguardcolumn SuperHZ-H (1 column) + TSKgel SuperHZM-H (2 columns)
Reference column: TSKgel SuperH-RC (1 column)
表1において、モノマーは下記の略称により記載している。
BA: アクリル酸ブチル
2EHA: アクリル酸2-エチルヘキシル
MMA: メタクリル酸メチル
LA: アクリル酸ドデシル
2HEA: アクリル酸2-ヒドロキシエチル
4HBA: アクリル酸4-ヒドロキシブチル
AA: アクリル酸
NVP: N-ビニルピロリドン
In Table 1, the monomers are described by the following abbreviations.
BA: Butyl acrylate 2EHA: 2-ethylhexyl acrylate MMA: Methyl methacrylate LA: Dodecyl acrylate 2HEA: 2-hydroxyethyl acrylate 4HBA: 4-hydroxybutyl acrylate AA: Acrylic acid NVP: N-vinylpyrrolidone
[補強フィルムの作製]
<粘着剤組成物の調製>
アクリル系ポリマー溶液に、架橋剤、光硬化剤としての多官能アクリレート(ウレタン結合を有さないもの)およびウレタンアクリレート、ならびに光重合開始剤を添加し、均一に混合して、表2~4に示す粘着剤組成物を調製した。ベースポリマーとして、試料1~21ではポリマーBを用い、試料31~41ではポリマーCを用い、試料51~59ではポリマーDを用い、試料71~82ではポリマーFを用い、試料91~93ではポリマーAを用い、試料96ではポリマーEを用いた。
[Preparation of Reinforcement Film]
<Preparation of Pressure-Sensitive Adhesive Composition>
A crosslinking agent, a multifunctional acrylate (having no urethane bond) and a urethane acrylate as a photocuring agent, and a photopolymerization initiator were added to the acrylic polymer solution and mixed uniformly to prepare the pressure-sensitive adhesive compositions shown in Tables 2 to 4. As the base polymer, polymer B was used in
光重合開始剤としては、IGM Resins製「Omnirad 651」をアクリル系ポリマーの固形分100重量部に対して0.3重量部添加した。架橋剤および多官能アクリレートは、表2~4に示す組成となるように添加した。表2~4における添加量は、ベースポリマー100重量部に対する量(固形分の重量部)である。架橋剤および光硬化剤の詳細は下記の通りである。 As a photopolymerization initiator, 0.3 parts by weight of "Omnirad 651" manufactured by IGM Resins was added per 100 parts by weight of the solid content of the acrylic polymer. The crosslinking agent and multifunctional acrylate were added so as to obtain the compositions shown in Tables 2 to 4. The amounts added in Tables 2 to 4 are the amounts (parts by weight of solid content) per 100 parts by weight of the base polymer. Details of the crosslinking agent and photocuring agent are as follows.
(架橋剤)
T-C:N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシリレンジアミン(三菱ガス化学製「テトラッドC」)
C-HX:ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体(東ソー製「コロネートHX」)
D110N:キシリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物(三井化学製「タケネートD110N」)
(Crosslinking Agent)
TC: N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine ("Tetrad C" manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company)
C-HX: Isocyanurate of hexamethylene diisocyanate ("Coronate HX" manufactured by Tosoh)
D110N: Trimethylolpropane adduct of xylylene diisocyanate ("Takenate D110N" manufactured by Mitsui Chemicals)
(多官能アクリレート)
A200: 新中村化学工業製「NKエステル A200」(ポリエチレングリコール#200(n=4)ジアクリレート;分子量308、官能基当量154g/eq)
A600: 新中村化学工業製「NKエステル A600」(ポリエチレングリコール#600(n=14)ジアクリレート;分子量708、官能基当量354g/eq)
M350:トリメチロールプロパンEO変性(n=1)トリアクリレート(東亞合成製「アロニックスM-350」、官能基当量143g/eq)
APG700: APG700:ポリプロピレングリコール#700(n=12)ジアクリレート;(新中村化学工業社製「NKエステル APG700」、官能基当量404g/eq)
ADPHE:エトキシ化ジペンタエリスリトールポリアクリレート(新中村化学工業社製「NKエステル A-DPH-12E」、官能基当量約200g/eq)
TMPT:トリメチロールプロパントリアクリレート(新中村化学工業社製「NKエステル A-TMPT」、官能基当量99g/eq)
(ウレタンアクリレート)
UA306:ペンタエリスリトールトリアクリレート-トリレンジイソシアネート付加物(共栄社化学製「UA-306T」、官能基当量:128g/eq)
(Multifunctional acrylate)
A200: "NK Ester A200" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. (polyethylene glycol #200 (n=4) diacrylate; molecular weight 308, functional group equivalent 154 g/eq)
A600: "NK Ester A600" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. (polyethylene glycol #600 (n=14) diacrylate; molecular weight 708, functional group equivalent 354 g/eq)
M350: Trimethylolpropane EO modified (n=1) triacrylate ("Aronix M-350" manufactured by Toagosei Co., Ltd., functional group equivalent weight 143 g/eq)
APG700: APG700: Polypropylene glycol #700 (n=12) diacrylate; ("NK Ester APG700" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., functional group equivalent: 404 g/eq)
ADPHE: ethoxylated dipentaerythritol polyacrylate ("NK Ester A-DPH-12E" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., functional group equivalent of about 200 g/eq)
TMPT: Trimethylolpropane triacrylate ("NK Ester A-TMPT" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., functional group equivalent: 99 g/eq)
(Urethane acrylate)
UA306: Pentaerythritol triacrylate-tolylene diisocyanate adduct ("UA-306T" manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., functional group equivalent: 128 g/eq)
<粘着剤溶液の塗布および架橋>
表面処理がされていない厚み75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材(三菱ケミカル製「ダイアホイル T100-75S」)上に、上記の粘着剤組成物を、乾燥後の厚みが13μmとなるように、ファウンテンロールを用いて塗布した。130℃で1分間乾燥して溶媒を除去後、粘着剤の塗布面に、はく離ライナー(表面がシリコーン離型処理された厚み25μmのポリエチレンテレフタレートフィルム)の離型処理面を貼り合わせた。その後、25℃の雰囲気で4日間のエージング処理を行い、架橋を進行させ、フィルム基材上に粘着シートが固着積層され、その上にはく離ライナーが仮着された補強フィルムを得た。
<Application of adhesive solution and crosslinking>
The above adhesive composition was applied to a 75 μm-thick polyethylene terephthalate film substrate (Mitsubishi Chemical's "Diafoil T100-75S") that had not been surface-treated, using a fountain roll, so that the thickness after drying would be 13 μm. After drying at 130° C. for 1 minute to remove the solvent, the release-treated surface of a release liner (a 25 μm-thick polyethylene terephthalate film whose surface was silicone release-treated) was attached to the adhesive-coated surface. Thereafter, aging treatment was performed for 4 days in an atmosphere at 25° C. to promote crosslinking, and a reinforcing film was obtained in which an adhesive sheet was fixed and laminated on the film substrate, and a release liner was temporarily attached thereon.
[評価]
<ポリイミドフィルムに対する接着力>
(光硬化前の粘着剤層の接着力)
厚み25μmのポリイミドフィルム(宇部興産製「ユーピレックス25S」)を、両面接着テープ(日東電工製「No.531」)を介してガラス板に貼付し、測定用ポリイミドフィルム基板を得た。幅25mm×長さ100mmに切り出した補強フィルムの表面からはく離ライナーをはく離除去し、測定用ポリイミドフィルム基板にハンドローラを用いて貼り合わせた。
[evaluation]
<Adhesive strength to polyimide film>
(Adhesive strength of pressure-sensitive adhesive layer before photocuring)
A 25 μm-thick polyimide film (Ube Industries, Ltd., "Upilex 25S") was attached to a glass plate via a double-sided adhesive tape (Nitto Denko, Ltd., "No. 531") to obtain a polyimide film substrate for measurement. The release liner was peeled off and removed from the surface of a reinforcing film cut to a size of 25 mm wide x 100 mm long, and the film was attached to the polyimide film substrate for measurement using a hand roller.
この試料を25℃で30分静置した後、補強フィルムのフィルム基材の端部をチャックで保持して、引張速度300mm/分で、180°ピール試験を行い、ピール強度(プラズマ処理なしのポリイミドフィルムに対する補強フィルムの接着力)を測定した。 After leaving this sample at 25°C for 30 minutes, the edge of the film substrate of the reinforcing film was held with a chuck and a 180° peel test was performed at a pulling speed of 300 mm/min to measure the peel strength (adhesion strength of the reinforcing film to the polyimide film without plasma treatment).
測定用ポリイミドフィルム基板を、搬送速度3m/分で搬送しながら、常圧式プラズマ処理機を用い、電極電圧160Vの条件でポリイミドフィルムの表面にプラズマ処理を実施した。プラズマ処理後のポリイミドフィルムに、ハンドローラを用いて補強フィルムを貼り合わせ、上記と同様に、180°ピール試験により、プラズマ処理ありのポリイミドフィルムに対する接着力を測定した。 While the polyimide film substrate for measurement was transported at a transport speed of 3 m/min, a normal pressure plasma treatment machine was used to perform plasma treatment on the surface of the polyimide film under conditions of an electrode voltage of 160 V. A reinforcing film was attached to the plasma-treated polyimide film using a hand roller, and the adhesive strength to the plasma-treated polyimide film was measured using a 180° peel test in the same manner as above.
得られた結果から、プラズマ処理なしの場合の接着力に対するプラズマ処理ありの場合の接着力の比(プラズマ処理による接着力の増加率)を算出した。 From the results obtained, the ratio of adhesive strength with plasma treatment to adhesive strength without plasma treatment (the rate of increase in adhesive strength due to plasma treatment) was calculated.
(光硬化後の粘着剤層の接着力)
測定用ポリイミドフィルム基板(プラズマ処理なし)に補強フィルムを貼り合わせた後、補強フィルム側(フィルム基材側)から、波長365nmのLED光源を用いて積算光量4000mJ/cm2の紫外線を照射して粘着剤層を光硬化した。この試験サンプルを用い、上記と同様に、180°ピール試験により接着力を測定した。
(Adhesive strength of adhesive layer after photocuring)
After laminating the reinforcing film to the polyimide film substrate for measurement (not plasma-treated), the adhesive layer was photocured by irradiating the reinforcing film side (film substrate side) with ultraviolet light at an integrated light quantity of 4000 mJ/ cm2 using an LED light source with a wavelength of 365 nm. Using this test sample, the adhesive strength was measured by a 180° peel test in the same manner as above.
得られた結果から、光硬化後と光硬化前の接着力の比(光硬化に伴う粘着力の増加率)を算出した。 From the results obtained, the ratio of adhesive strength after photocuring to that before photocuring (the rate of increase in adhesive strength due to photocuring) was calculated.
<貯蔵弾性率>
はく離ライナー上に、上記と同様に粘着剤組成物の塗布および架橋を行い、粘着シート(光硬化前)を作製した。光硬化前の粘着シートの粘着剤層の表面にはく離ライナーを付設して酸素から遮断し、365nmのLEDランプで4000mJ/cm2の紫外線を照射して光硬化させた。光硬化前の粘着シートおよび光硬化後の粘着シートのそれぞれを積層して、厚さ約1.5mmの測定用試料を作成し、回転レオメーター(TA Instruments製「ADiscovery-HR2」)を用いて、以下の条件により動的粘弾性測定を行い、25℃におけるせん断貯蔵弾性率G’の値を読み取った。
(測定条件)
変形モード:ねじり
測定周波数:1Hz
昇温速度:5℃/分
測定温度:-70~150℃
形状:パラレルプレート 8.0mmφ
<Storage modulus>
The adhesive composition was applied and crosslinked on the release liner in the same manner as above to prepare an adhesive sheet (before photocuring). A release liner was attached to the surface of the adhesive layer of the adhesive sheet before photocuring to isolate it from oxygen, and the adhesive sheet was photocured by irradiating it with 4000 mJ/ cm2 of ultraviolet light from a 365 nm LED lamp. The adhesive sheet before photocuring and the adhesive sheet after photocuring were laminated to prepare a measurement sample with a thickness of about 1.5 mm, and a dynamic viscoelasticity measurement was performed under the following conditions using a rotational rheometer ("ADiscovery-HR2" manufactured by TA Instruments), and the value of the shear storage modulus G' at 25 ° C was read.
(Measurement conditions)
Deformation mode: Torsion Measurement frequency: 1 Hz
Heating rate: 5°C/min Measurement temperature: -70 to 150°C
Shape: Parallel plate 8.0mmφ
<切断加工性>
補強フィルムの表面からはく離ライナーをはく離除去し、粘着剤層の表面に厚み50μmのポリイミドフィルム(宇部興産製「ユーピレックス50S」)を、ハンドローラを用いて貼り合わせた。この積層体の補強フィルム側から炭酸レーザー(周波数:30kHz、出力:11W)を照射し、走査速度300mm/分で走査して補強フィルムを切断加工し、長さ180mmの切断線を形成した。この切断線と平行に、1mmの間隔でもう1本の切断線を形成し、2本の切断線に囲まれた領域の補強フィルム(幅1mm)を、はく離速度300mm/分でポリイミドフィルムの表面からはく離除去した。これにより、ポリイミドフィルム上に、幅1mm、長さ180mmのスリット状に、補強フィルムが貼り合わせられていない領域が存在する試料を得た。
<Cutting processability>
The release liner was peeled off from the surface of the reinforcement film, and a 50 μm thick polyimide film (Ube Industries'"Upilex50S") was attached to the surface of the adhesive layer using a hand roller. A carbon dioxide laser (frequency: 30 kHz, output: 11 W) was irradiated from the reinforcement film side of this laminate, and the reinforcement film was cut by scanning at a scanning speed of 300 mm/min to form a cutting line with a length of 180 mm. Another cutting line was formed parallel to this cutting line at an interval of 1 mm, and the reinforcement film (
この試料を、三次元測定機(イースタン電子工業製「MicroVu」)により観察し、スリット線(補強フィルムをはく離除去した領域)の長さ方向に沿って2.5mmの観察領域において、粘着剤層が適切に切断されずにポリイミドフィルムの表面に残存している部分の長さを0.1mm単位で測定した(図4参照)。図4において、白色の二点鎖線(仮想線)がレーザーによる切断線に対応しており、この仮想線よりも下側で黒色に観察される部分が粘着剤残存部である。図4では、4箇所の粘着剤残存部が確認され、それぞれの長さは、0.3mm、0.7mm、0.5mm、0.6mmであった。スリット線に沿って30箇所(合計長さ75mm)の観察を行い、観察長さ(75mm)に対する粘着剤残存部の長さの合計の割合(%)を、粘着剤残存部比率とした。 The sample was observed using a three-dimensional measuring machine (Eastern Electronics' "MicroVu"), and the length of the portion of the adhesive layer that was not properly cut and remained on the surface of the polyimide film was measured to the nearest 0.1 mm in an observation area of 2.5 mm along the length of the slit line (the area where the reinforcing film was peeled off) (see Figure 4). In Figure 4, the white two-dot chain line (imaginary line) corresponds to the cutting line made by the laser, and the black portion observed below this imaginary line is the remaining adhesive portion. In Figure 4, four remaining adhesive portions were confirmed, with their respective lengths being 0.3 mm, 0.7 mm, 0.5 mm, and 0.6 mm. Thirty portions (total length 75 mm) were observed along the slit line, and the ratio (%) of the total length of the remaining adhesive portions to the observation length (75 mm) was taken as the remaining adhesive portion ratio.
<被着体汚染性>
補強フィルムの表面からはく離ライナーをはく離除去し、粘着剤層の表面にポリイミドフィルム(宇部興産製「ユーピレックス25S」)を、ハンドローラを用いて貼り合わせた。25℃で、30分または静置した後、ポリイミドフィルムから補強フィルムをはく離し、蛍光灯下でポリイミドフィルムの表面を目視して、汚染の有無を確認した。以下の基準により被着体に対する汚染性を評価した。
A:24時間静置後にはく離した試料で汚染がみられなかったもの
B:24時間静置後にはく離した試料では汚染がみられたが、30分静置後にはく離した試料では汚染がみられなかったもの
C:30分静置後にはく離した試料で汚染がみられたもの
<Substrate Contamination>
The release liner was peeled off from the surface of the reinforcing film, and a polyimide film (Ube Industries'"Upilex25S") was attached to the surface of the adhesive layer using a hand roller. After leaving it at 25°C for 30 minutes or standing, the reinforcing film was peeled off from the polyimide film, and the surface of the polyimide film was visually inspected under a fluorescent lamp to confirm the presence or absence of contamination. The contamination of the adherend was evaluated according to the following criteria.
A: No contamination was observed in the sample peeled off after leaving it still for 24 hours. B: Contamination was observed in the sample peeled off after leaving it still for 24 hours, but not in the sample peeled off after leaving it still for 30 minutes. C: Contamination was observed in the sample peeled off after leaving it still for 30 minutes.
それぞれの補強フィルムの粘着剤の組成(ベースポリマーの種類、架橋剤の種類および添加量、光硬化剤の種類および添加量)、ならびに評価結果を表2~4に示す。 The adhesive composition of each reinforcing film (type of base polymer, type and amount of crosslinking agent, type and amount of photocuring agent) and the evaluation results are shown in Tables 2 to 4.
ポリマーA100重量部に対して、10重量部の光硬化剤を配合した粘着剤組成物を用いた試料91は、光硬化前の粘着剤層の貯蔵弾性率が60kPaを超えており、光硬化後の粘着剤層の貯蔵弾性率は153kPaであった。試料91は、粘着剤層が柔軟性に劣っており、フォルダブルデバイスへの適用には不向きである。 Sample 91, which uses an adhesive composition containing 10 parts by weight of a photocuring agent for 100 parts by weight of polymer A, had a storage modulus of the adhesive layer before photocuring of over 60 kPa, and a storage modulus of the adhesive layer after photocuring of 153 kPa. Sample 91 had an adhesive layer with poor flexibility, making it unsuitable for use in foldable devices.
光硬化剤の量を20重量部に増加させた減少させた試料92では、光硬化前の粘着剤像の貯蔵弾性率は、試料91に比べて低減されていたものの、光硬化後の貯蔵弾性率は試料91よりも大きく、試料91と同様、粘着剤層が柔軟性に劣っていた。また、試料92は、光硬化前の粘着剤層のレーザー切断時の粘着剤の残存部比率が90%を上回っており、粘着剤の切断加工性が劣っていた。光硬化剤として0.15重量部のウレタンアクリレートを追加した試料93は、試料92に比べて、光硬化後の粘着剤層の接着力が若干高くなっていたが、その他の特性は試料92と特段の差はみられず、試料92と同様、光硬化前後の貯蔵弾性率が大きく、かつ切断加工性が劣っていた。 In sample 92, in which the amount of photocuring agent was increased to 20 parts by weight, the storage modulus of the adhesive image before photocuring was reduced compared to sample 91, but the storage modulus after photocuring was greater than that of sample 91, and similar to sample 91, the adhesive layer had poor flexibility. In addition, in sample 92, the adhesive layer before photocuring had a remaining adhesive ratio of more than 90% when cut by laser, and the adhesive had poor cutting processability. Sample 93, in which 0.15 parts by weight of urethane acrylate was added as a photocuring agent, had a slightly higher adhesive strength of the adhesive layer after photocuring compared to sample 92, but other properties were not significantly different from sample 92, and similar to sample 92, the storage modulus before and after photocuring was large and the cutting processability was poor.
ポリマーB,C,D,Fを用いて光硬化剤の量を2~20重量部の範囲で変更した試料5,17~21、試料32,37~41、試料52,55~59、および試料72,77~82では、光硬化剤の配合量が少ないほど、光硬化前の粘着剤層の貯蔵弾性率が大きく、光硬化後の粘着剤層の貯蔵弾性率が小さくなる傾向がみられたが、いずれの例も、光硬化前の粘着剤層の貯蔵弾性率は60kPaよりも小さく、粘着剤層が適度の柔軟性を有していた。
In
ポリマーB,C,D,Fは、アクリル酸2-エチルヘキシルを構成モノマーの主成分とするアクリル系ポリマーであり、ベースポリマーのガラス転移温度が低いために、粘着剤層の柔軟性に優れていたと考えられる。一方、試料91~93では、アクリル酸ブチルが構成モノマーの主成分であるポリマーAを用いており、ポリマーB,C,D,Fに比べてガラス転移温度が高く、ベースポリマーの弾性が大きいために、光硬化前後のいずれにおいても、貯蔵弾性率が高く、ポリマーB,C,D,Fを用いた例と対比すると柔軟性が不足していたと考えられる。 Polymers B, C, D, and F are acrylic polymers whose main constituent monomer is 2-ethylhexyl acrylate, and it is believed that the adhesive layer had excellent flexibility due to the low glass transition temperature of the base polymer. On the other hand, samples 91 to 93 use polymer A whose main constituent monomer is butyl acrylate, and have a higher glass transition temperature than polymers B, C, D, and F, and because the base polymer has high elasticity, they have a high storage modulus both before and after photocuring, and are therefore considered to have lacked flexibility compared to the examples using polymers B, C, D, and F.
試料96では、ポリマーEのガラス転移温度が高いことに加えて、極性の高いモノマー成分を多く含み凝集力が大きいために、ポリマーAを用いた試料91よりもさらに光硬化前後の光硬化前後の貯蔵弾性率が高くなっていたと考えられる。また、ポリマーEは、構成モノマー成分として、窒素原子を含む高極性モノマーであるNVPを含むため、試料96では、プラズマ処理を行ったポリイミドフィルムに対する光硬化前の粘着剤層の接着力が高くなっていた。ポリマーFを用いた試料71~82も、プラズマ処理を行ったポリイミドフィルムに対する接着力が、プラズマ処理を行っていないポリイミドフィルムに対する接着力の2倍以上であり、被着体のプラズマ処理により初期接着力が大きく上昇する傾向がみられた。 In sample 96, in addition to the high glass transition temperature of polymer E, it contains a large amount of highly polar monomer components and has a large cohesive force, so it is believed that the storage modulus before and after photocuring was higher than that of sample 91 using polymer A. In addition, since polymer E contains NVP, a highly polar monomer containing a nitrogen atom, as a constituent monomer component, in sample 96, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer before photocuring to the plasma-treated polyimide film was high. In samples 71 to 82 using polymer F, the adhesive strength to the plasma-treated polyimide film was more than twice as high as the adhesive strength to the non-plasma-treated polyimide film, and there was a tendency for the initial adhesive strength to increase significantly due to the plasma treatment of the adherend.
上記のように、ポリマーB,C,D,Fを用いた試料は、ポリマーA,Eを用いた試料に比べて貯蔵弾性率が低く、優れた柔軟性を示したが、光硬化剤の配合量の増加に伴って、光硬化前の粘着剤層の貯蔵弾性率が小さくなり、レーザー切断時の粘着剤の残存部比率が大きくなる傾向がみられた。光硬化剤を20重量部配合した試料16,41,59,82では、試料92,93と同様、粘着剤の残存部比率が80%を上回っていた。 As described above, samples using polymers B, C, D, and F had a lower storage modulus and showed excellent flexibility compared to samples using polymers A and E, but as the amount of photocuring agent increased, the storage modulus of the adhesive layer before photocuring decreased and the proportion of adhesive remaining at the time of laser cutting tended to increase. Samples 16, 41, 59, and 82, which contained 20 parts by weight of photocuring agent, had a proportion of adhesive remaining above 80%, similar to samples 92 and 93.
試料92,93では、光硬化前の粘着剤層の貯蔵弾性率が60kPaを上回っていたにも関わらず、粘着剤の残存部比率が大きく切断加工性が劣っていたことから、光硬化剤の配合量が大きい場合は、光硬化前の粘着剤層の貯蔵弾性率が小さいことに加えて、光硬化剤の量が多いために粘着剤の液状性が高いことが切断加工性低下の原因であると考えられる。 In samples 92 and 93, although the storage modulus of the adhesive layer before photocuring exceeded 60 kPa, the proportion of remaining adhesive was large and cutting processability was poor. Therefore, when the amount of photocuring agent is large, in addition to the small storage modulus of the adhesive layer before photocuring, the adhesive is highly liquid due to the large amount of photocuring agent, which is thought to be the cause of the poor cutting processability.
試料16,41,59,82では、汚染性の評価がCであり、補強フィルムをはく離後の被着体に汚染がみられた。過剰な光硬化剤が粘着剤層の表面にブリードアウトして、被着体に移着したことが汚染の原因と考えられる。粘着剤層の切断加工性に加えて、被着体の汚染防止の観点においても、光硬化後の粘着剤層が十分な接着性を有する範囲で、光硬化剤の配合量は少ない方が好ましいといえる。 Samples 16, 41, 59, and 82 were rated as C for contamination, and contamination was observed on the adherend after the reinforcing film was peeled off. The cause of contamination is thought to be excess photocuring agent that bled out onto the surface of the adhesive layer and was transferred to the adherend. From the standpoint of preventing contamination of the adherend, as well as the cuttability of the adhesive layer, it can be said that it is preferable to use a small amount of photocuring agent, as long as the adhesive layer after photocuring has sufficient adhesion.
一方で、光硬化剤の配合量が2重量部である試料16,37,57,77は、光硬化前の粘着剤層の切断加工性は良好であったが、ポリイミドフィルムに対する接着力が大きく、被着体からのはく離性に劣っていた。 On the other hand, samples 16, 37, 57, and 77, which contain 2 parts by weight of photocuring agent, had good cuttability of the adhesive layer before photocuring, but had high adhesion to the polyimide film and were poorly removable from the adherend.
ポリマーBを用いた試料5,11~15の対比、ポリマーCを用いた試料31~36の対比、ポリマーDを用いた試料51~56の対比、およびポリマーFを用いた試料71~76の対比から、架橋剤の配合量が多いほど、光硬化前の粘着剤層の接着力が小さく、光硬化前後の粘着剤層の貯蔵弾性率が大きくなり、これに伴って、レーザー切断時の粘着剤の残存部比率が小さくなる傾向がみられた。
Comparing
一方、架橋剤の配合量が大きい試料16,36,54,77は、光硬化前の粘着剤層の貯蔵弾性率が60kPaを上回っており、光硬化後の粘着剤層の貯蔵弾性率も大きく、柔軟性が劣っていた。これらの結果から、フォルダブルデバイスへの適用に適した柔軟性を確保可能な範囲で、架橋剤の配合量を多くすることにより、切断加工性を向上できることが分かる。 On the other hand, samples 16, 36, 54, and 77, which contained a large amount of crosslinking agent, had a storage modulus of the adhesive layer before photocuring of more than 60 kPa, and the storage modulus of the adhesive layer after photocuring was also large, resulting in poor flexibility. These results show that cutting processability can be improved by increasing the amount of crosslinking agent to the extent that flexibility suitable for application to foldable devices can be ensured.
ポリマーBを用い、光硬化剤としての多官能アクリレートの種類を変更した試料5~10では、光硬化剤の種類により、特性の違いがみられた。エチレンオキサイド鎖を含まない光硬化剤であるTMPTを用いた試料10は、エチレンオキサイド鎖を含む光硬化剤を用いた試料5~9と対比して、光硬化前の粘着剤層の接着力が大きく、光硬化後の粘着剤層の接着力が小さかった。
試料5~10は、光硬化前の粘着剤層の貯蔵弾性率に大きな差はみられなかったが、光硬化剤として3官能以上の多官能アクリレートを用いた試料5,9,10は、2官能アクリレートを用いた試料6~8に比べて、光硬化による貯蔵弾性率の上昇量が大きくなる傾向がみられた。特に、試料10は、他の例に比べて光硬化による貯蔵弾性率の上昇が顕著であり、硬化収縮も他の例に比べて大きくなっていた。
エチレンオキサイド鎖を含まないTMPTは、アクリル系ポリマーとの相溶性が高くWBLが形成され難いために、粘着剤層のバルク部分に取り込まれやすく、粘着剤層の厚み方向全体で均一に光硬化剤が硬化するために、バルク特性である貯蔵弾性率が大きく上昇したと考えられる。これに対して、エチレンオキサイド鎖を含む多官能アクリレートは、TMPTに比べてアクリル系ポリマーとの相溶性が低くWBLが形成されやすいために、試料5~9では、試料10に比べて、初期接着力が小さく、かつ光硬化による貯蔵弾性率の増大を抑制しつつ、接着力を高められると考えられる。
TMPT, which does not contain ethylene oxide chains, is highly compatible with acrylic polymers and does not easily form WBLs, so it is easily incorporated into the bulk of the adhesive layer, and the photocuring agent cures uniformly throughout the thickness of the adhesive layer, which is thought to have significantly increased the storage modulus, a bulk property. In contrast, multifunctional acrylates containing ethylene oxide chains have lower compatibility with acrylic polymers than TMPT and are more likely to form WBLs, so
試料5,6,10では、光硬化前の粘着剤層を被着体からはく離した際の被着体の汚染が生じ難く耐汚染性に優れていた。一方、試料7~9は、耐汚染性が劣っていた。試料7~9は、光硬化剤としての多官能アクリレートのエチレンオキサイド鎖の鎖長nが大きく、アクリル系ベースポリマーとの相溶性が低いために、光硬化剤がブリードアウトしやすく、被着体汚染の原因になったと考えられる。
試料5~9は、光硬化前の粘着剤層の接着力に大きな差はみられなかったが、試料5は、他の試料に比べて、光硬化による接着力の上昇率が大きく、光硬化後の粘着剤層の接着力が大きくなっていた。試料5で用いた光硬化剤(M350)は、エチレンオキサイド鎖を含む3官能アクリレートであり、WBLが形成されやすく、光硬化後は接着界面近傍での架橋密度が高くなるために、光硬化後の接着力が大きくなっていたと考えられる。
No significant difference was observed in the adhesive strength of the adhesive layer before photocuring for
ポリマーBを用い、多官能アクリレートとして8重量部のM350を配合し、ウレタンアクリレートの配合量を変更した試料1~5では、ウレタンアクリレートの配合量が多いほど光硬化前の接着力が小さくなる傾向がみられた。一方、ウレタンアクリレートの配合量が多いほど、光硬化前の粘着剤層による被着体の汚染が生じやすい傾向がみられた。これらの結果から、光硬化剤として、ウレタン結合を含まない多官能アクリレートに加えて、被着体の汚染を生じない程度に少量のウレタンアクリレートを配合することにより、粘着剤を光硬化後した後に、被着体との接着力が高く、接着信頼性に優れる補強フィルムが得られることが分かる。
In
1 フィルム基材
2 粘着剤層
10 補強フィルム
5 はく離ライナー
20 被着体
REFERENCE SIGNS
Claims (12)
前記粘着剤層は、アクリル系ベースポリマー、2以上の光重合性官能基を有する光硬化剤、および光重合開始剤を含む光硬化性組成物からなり、
前記アクリル系ベースポリマーは、モノマー成分として、ヒドロキシ基含有モノマーおよびカルボキシ基含有モノマーからなる群から選択される1以上を含み、前記アクリル系ベースポリマーには、前記ヒドロキシ基および/または前記カルボキシ基に結合した架橋剤による架橋構造が導入されており、
前記粘着剤層は、光硬化前において、25℃におけるせん断貯蔵弾性率が15~60kPaであり、
補強フィルムの前記粘着剤層をポリイミドフィルムに貼り合わせ、レーザー切断加工を行い、切断部分をポリイミドフィルムからはく離除去した際に、ポリイミドフィルム上に粘着剤が残存している部分の長さ比率が80%以下である、
補強フィルム。 The adhesive tape comprises a film substrate and a pressure-sensitive adhesive layer fixedly laminated on one main surface of the film substrate,
the pressure-sensitive adhesive layer is made of a photocurable composition including an acrylic base polymer, a photocuring agent having two or more photopolymerizable functional groups, and a photopolymerization initiator;
The acrylic base polymer contains, as a monomer component, at least one monomer selected from the group consisting of a hydroxy group-containing monomer and a carboxy group-containing monomer, and a crosslinked structure is introduced into the acrylic base polymer by a crosslinking agent bonded to the hydroxy group and/or the carboxy group,
the pressure-sensitive adhesive layer has a shear storage modulus of 15 to 60 kPa at 25° C. before photocuring;
the pressure-sensitive adhesive layer of the reinforcing film is attached to a polyimide film, and a laser cutting process is performed; when the cut portion is peeled off and removed from the polyimide film, the length ratio of the portion in which the pressure-sensitive adhesive remains on the polyimide film is 80% or less;
Reinforcement film.
折り曲げ可能なデバイスの表面に請求項1~11のいずれか1項に記載の補強フィルムの前記粘着剤層を貼り合わせて仮着し、
前記デバイスの表面に前記補強フィルムを仮着した状態で、前記補強フィルムを切断し、デバイスの非補強対象領域に仮着されている補強フィルムをデバイスの表面からはく離除去した後、
前記粘着剤層を光硬化する、
補強フィルム付きデバイスの製造方法。
A method for producing a device with a reinforced film, in which a reinforced film is attached to a surface of a foldable device, comprising the steps of:
The pressure-sensitive adhesive layer of the reinforcing film according to any one of claims 1 to 11 is temporarily attached to a surface of a foldable device,
With the reinforcing film temporarily attached to the surface of the device, the reinforcing film is cut, and the reinforcing film temporarily attached to the non-reinforcement target area of the device is peeled off and removed from the surface of the device.
The pressure-sensitive adhesive layer is photocured.
A method for manufacturing a device with a reinforcing film.
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