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JP2023175286A - Film formation method of lens and protection film-attached lens - Google Patents

Film formation method of lens and protection film-attached lens Download PDF

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JP2023175286A
JP2023175286A JP2022087655A JP2022087655A JP2023175286A JP 2023175286 A JP2023175286 A JP 2023175286A JP 2022087655 A JP2022087655 A JP 2022087655A JP 2022087655 A JP2022087655 A JP 2022087655A JP 2023175286 A JP2023175286 A JP 2023175286A
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JP
Japan
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lens
film
coating material
protective film
lens base
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JP2022087655A
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Japanese (ja)
Inventor
政之 三神
Masayuki Mikami
祐一 町田
Yuichi Machida
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Cosina Co Ltd
Original Assignee
Cosina Co Ltd
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Abstract

【課題】 均質性の高い保護膜を生成し、レンズ基に対する必要な保護機能を確保するとともに、描写効果に利用できる良好なゴースト・フレアを発生させる。【解決手段】 レンズ基2の屈折率が1.40-2.10の範囲になり、かつコーティング材Cの屈折率が1.20-2.50の範囲になるとともに、レンズ基2自身の第一反射率Mfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二反射率Msの差Mdが所定の光波長域で9.50〔%〕以下となる明るさ条件XLを満たし、かつD65標準光源からの光Rを照射したときのL*a*b*色空間における、レンズ基2自身の第一彩度Sfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二彩度Ssの差Sdが2.70以下となる彩度条件XSを満たす保護膜3を設ける。【選択図】 図1[Problem] To generate a highly homogeneous protective film, ensure the necessary protection function for the lens base, and generate good ghost and flare that can be used for rendering effects. [Solution] The refractive index of the lens base 2 is in the range of 1.40-2.10, the refractive index of the coating material C is in the range of 1.20-2.50, and the lens base 2 itself has a refractive index of 1.40-2.10. Brightness conditions such that the difference Md between the first reflectance Mf and the second reflectance Ms when the lens base 2 is coated with 3 m of film-formed layer of coating material C is 9.50% or less in a predetermined light wavelength range. XL and the first chroma Sf of the lens base 2 itself in the L*a*b* color space when irradiated with light R from a D65 standard light source and the film formed layer of the coating material C on this lens base 2. A protective film 3 is provided that satisfies the saturation condition XS such that the difference Sd in the second saturation Ss is 2.70 or less. [Selection diagram] Figure 1

Description

本発明は、レンズ自身の表面に保護膜を設ける際に用いて好適なレンズの成膜方法及び当該保護膜を設けた保護膜付レンズに関する。 The present invention relates to a lens film forming method suitable for use in providing a protective film on the surface of the lens itself, and a lens with a protective film provided with the protective film.

一般に、カメラにより撮影する場合、太陽や天井灯等の強い光が無用なゴースト・フレアとなって写り込む問題があるため、レンズの表面に反射防止用のコーティング膜、特に、屈折率を考慮した多層構造の反射防止膜を付すことにより、ゴースト・フレアの原因となる不要な反射光を低減させている。 Generally, when taking pictures with a camera, there is a problem that strong light from the sun or ceiling lights appears in the image as unnecessary ghosts and flares. By applying a multilayer anti-reflection coating, unnecessary reflected light that causes ghost and flare is reduced.

従来、このような反射防止膜を付したレンズとしては、特許文献1に記載される反射防止膜を有する交換レンズ,特許文献2に記載される反射防止性プラスチックレンズ,特許文献3に記載される反射防止層を有する合成樹脂性レンズが知られている。特許文献1の反射防止膜を有する交換レンズは、中屈折率ガラスにおいて優れた透過率特性を有し、フレアやゴースト等の発生が少なく、かつ優れた耐擦傷性及びヤケ防止効果を有する均一な反射防止膜を有する交換レンズの提供を目的としたものであり、具体的には、基材上に、第1層~第3層を基材側から積層してなる反射防止膜であって、波長領域400~700nmの光において、基材の屈折率が1.53以上1.60未満であり、第l層がアルミナを主成分とした光学膜厚25.0~250.0nmの緻密層であり、第2層が屈折率1.40~1.50,光学膜厚100.0~145.0nmの緻密層であり、第3層がメソポーラスシリカナノ粒子の集合体からなり、屈折率1.12~1.20,光学膜厚100.0~138.5nmの多孔質層により構成されたものである(なお、同文献1の光学膜厚は屈折率×物理膜厚)。 Conventionally, lenses with such an antireflection film include an interchangeable lens having an antireflection film described in Patent Document 1, an antireflection plastic lens described in Patent Document 2, and an antireflection plastic lens described in Patent Document 3. Synthetic resin lenses having an antireflection layer are known. The interchangeable lens having an antireflection film disclosed in Patent Document 1 has excellent transmittance characteristics in medium refractive index glass, has little occurrence of flare or ghosting, and has a uniform lens with excellent scratch resistance and anti-fading effect. The purpose is to provide an interchangeable lens having an anti-reflection film, and specifically, an anti-reflection film formed by laminating first to third layers on a base material from the base material side, The base material has a refractive index of 1.53 or more and less than 1.60 for light in a wavelength range of 400 to 700 nm, and the first layer is a dense layer containing alumina as a main component and having an optical thickness of 25.0 to 250.0 nm. The second layer is a dense layer with a refractive index of 1.40 to 1.50 and an optical thickness of 100.0 to 145.0 nm, and the third layer is composed of an aggregate of mesoporous silica nanoparticles and has a refractive index of 1.12. ~1.20 nm, and an optical film thickness of 100.0 to 138.5 nm (the optical film thickness in Document 1 is refractive index x physical film thickness).

また、特許文献2の反射防止性プラスチックレンズは、薄く、軽量な高屈折率で、塗膜に干渉縞が見えず、反射色にムラやバラツキがなく、反射率の低い高性能な反射防止コートを有するレンズの提供を目的としたものであり、具体的には、所定式の芳香族化合物とイソチオシアナート化合物との重合体からなるプラスチックレンズと、所定式の有機ケイ素化合物またはその加水分解物、および五酸化アンチモンゾル等の酸化物のゾルの1種以上との硬化膜からなる有機ケイ素コーティング膜と、この膜上のチタン、ケイ素の酸化物を含む多層反射防止膜を備えたものである。 In addition, the anti-reflective plastic lens of Patent Document 2 is thin, lightweight, has a high refractive index, has no visible interference fringes on the coating film, has no unevenness or variation in reflected color, and has a high-performance anti-reflective coating with low reflectance. Specifically, the objective is to provide a plastic lens made of a polymer of an aromatic compound of a predetermined formula and an isothiocyanate compound, and an organosilicon compound of a predetermined formula or a hydrolyzate thereof. , and an organosilicon coating film consisting of a cured film of one or more oxide sols such as antimony pentoxide sol, and a multilayer antireflection film containing titanium and silicon oxides on this film. .

さらに、特許文献3の合成樹脂製レンズは、表面に被覆層を有する合成樹脂製レンズにおいて、レンズ表面に、変成メラミン系樹脂組成物およびイソチオシアナート化合物とからなるコーティング組成物から得られるハードコート膜が形成され、該ハードコート膜の上に金属酸化物からなる多層構造の反射防止膜が形成されたものである。 Further, the synthetic resin lens of Patent Document 3 has a coating layer on the surface, and the lens surface is coated with a hard coat obtained from a coating composition consisting of a modified melamine resin composition and an isothiocyanate compound. A multilayer anti-reflection film made of a metal oxide is formed on the hard coat film.

特開2010-55060号公報Japanese Patent Application Publication No. 2010-55060 特開平9-5501号公報Japanese Patent Application Publication No. 9-5501 特開昭61-153601号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 153601/1983

しかし、上述した従来における反射防止膜を付したレンズは、次のような問題点も存在した。 However, the above-mentioned conventional lenses provided with an antireflection film also have the following problems.

即ち、カメラにより撮影する場合、描写効果を高めるため、あえてゴースト・フレアを利用した撮影を行う場合もある。この場合、未コーティングのレンズを使用することにより実現可能になるが、前述した反射防止膜は、レンズ自身の変質及び劣化を防止してレンズを保護する機能も兼ね備えるため、未コーティングのレンズでは、これらの機能を確保できない問題を生じる。 That is, when photographing with a camera, there are cases in which ghost and flare are intentionally used to enhance the depiction effect. This can be achieved by using an uncoated lens, but since the anti-reflection film described above also has the function of protecting the lens by preventing deterioration and deterioration of the lens itself, with an uncoated lens, A problem arises in that these functions cannot be secured.

一方、反射防止膜の厚さを適切に設定、具体的には、より薄く設定することにより、レンズに対する必要な保護機能を確保するとともに、描写効果を確保できるある程度のゴースト・フレアを発生させることができれば、より望ましい保護膜付レンズを得ることが可能になるが、従来、このような機能を有する適切な保護膜付レンズは提供されていないのが実情である。 On the other hand, by appropriately setting the thickness of the anti-reflection film, more specifically, by setting it thinner, it is possible to ensure the necessary protection function for the lens and to generate a certain amount of ghost and flare that can ensure the rendering effect. If this could be done, it would be possible to obtain a more desirable lens with a protective film, but the reality is that no suitable lens with a protective film having such a function has been provided so far.

特に、膜厚を、ある程度厚く設ける場合には、バラツキの少ない均質なコーティング層を比較的容易に設けることができるが、膜厚が薄く、コーティングの無い状態に近い成膜層を設ける場合には、例えば、成膜処理する時間を極端に短くする必要があるなど、均質性の高い保護膜を生成するための成膜処理(成膜制御)は容易でない。 In particular, when the film thickness is set to a certain degree, it is relatively easy to form a homogeneous coating layer with little variation, but when the film thickness is thin and the film is almost uncoated For example, the film formation process (film formation control) for producing a highly homogeneous protective film is not easy, as it is necessary to extremely shorten the film formation time.

本発明は、このような背景技術に存在する課題を解決したレンズの成膜方法及び保護膜付レンズの提供を目的とするものである。 The object of the present invention is to provide a lens film forming method and a lens with a protective film that solve the problems existing in the background art.

本発明に係るレンズの成膜方法は、レンズ基2のレンズ面2fに所定のコーティング材Cの保護膜3を設けるに際し、屈折率を1.40-2.10の範囲から選定したレンズ基2を使用し、かつコーティング材Cの屈折率を1.20-2.50の範囲から選定するとともに、レンズ基2自身の第一反射率Mfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二反射率Msを測定することにより、第一反射率Mfと第二反射率Msの差Mdが所定の光波長域で9.50〔%〕以下となる明るさ条件XLを満たし、かつD65標準光源からの光Rを照射したときのL*a*b*色空間における、レンズ基2自身の第一彩度Sfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二彩度Ssを測定することにより、第一彩度Sfと第二彩度Ssの差Sdが2.70以下となる彩度条件XSを満たすようにコーティング材Cの成膜処理を行うことにより保護膜3を設けることを特徴とする。 In the method for forming a lens film according to the present invention, when providing a protective film 3 of a predetermined coating material C on a lens surface 2f of a lens base 2, a lens base 2 having a refractive index selected from a range of 1.40 to 2.10 is used. and the refractive index of the coating material C is selected from the range of 1.20-2.50, and the first reflectance Mf of the lens base 2 itself and the coating layer 3 m of the coating material C on the lens base 2 are selected. By measuring the second reflectance Ms in a state where and the first chroma Sf of the lens base 2 itself in the L*a*b* color space when irradiated with light R from a D65 standard light source and the film formation layer 3m of the coating material C on this lens base 2. By measuring the second chroma Ss in a state where It is characterized in that the protective film 3 is provided by performing film treatment.

また、本発明に係る保護膜付レンズ1は、未成膜のレンズ基2のレンズ面2fに所定のコーティング材Cの保護膜3を設けた保護膜付レンズを構成するに際して、レンズ基2の屈折率が1.40-2.10の範囲になり、かつコーティング材Cの屈折率が1.20-2.50の範囲になるとともに、レンズ基2自身の第一反射率Mfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二反射率Msの差Mdが所定の光波長域で9.50〔%〕以下となる明るさ条件XLを満たし、かつD65標準光源からの光Rを照射したときのL*a*b*色空間における、レンズ基2自身の第一彩度Sfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二彩度Ssの差Sdが2.70以下となる彩度条件XSを満たす保護膜3を設けてなることを特徴とする。 Further, in the lens 1 with a protective film according to the present invention, when forming a lens with a protective film in which a protective film 3 of a predetermined coating material C is provided on the lens surface 2f of the lens base 2 which has not been formed, the refraction of the lens base 2 is index is in the range of 1.40-2.10, and the refractive index of the coating material C is in the range of 1.20-2.50, and the first reflectance Mf of the lens group 2 itself and this lens group 2 satisfies the brightness condition XL in which the difference Md in the second reflectance Ms is 9.50 [%] or less in the predetermined light wavelength range, and from a D65 standard light source when a 3 m film-formed layer of coating material C is provided on the The first chroma Sf of the lens base 2 itself in the L*a*b* color space when irradiated with the light R of It is characterized by being provided with a protective film 3 that satisfies the saturation condition XS such that the difference Sd in degrees Ss is 2.70 or less.

一方、本発明は、好適な態様により、所定の光波長域には380-780〔nm〕を適用することができる。また、成膜方法を実施するに際しては、明るさ条件XLに、レンズ面2fに垂直となる入射光Rに対する反射率Mf,Msを用いることができるとともに、彩度条件XSに、レンズ面2fに対して垂直に入射する光Rの反射光を測定光Rmとして用いることができる。さらに、彩度条件XSにおける第一彩度Sfと第二彩度Ssの差Sdを求めるに際しては、L*a*b*色空間におけるa*(aスター)とb*(bスター)の差を用いることができる。なお、コーティング材Cの成膜処理は、成膜層3mとして、少なくとも一層(3ma)設けることができる。この際、成膜層3mを二層以上(3ma,3mb…)設けるに際して、全体3mが明るさ条件XL及び彩度条件XSを満たすことを条件に成膜層(3mb…)を追加することができる。また、コーティング材Cには、光学膜材を含ませることができる。 On the other hand, according to a preferred embodiment of the present invention, 380-780 [nm] can be applied to the predetermined light wavelength range. In addition, when implementing the film forming method, the reflectance Mf, Ms for the incident light R perpendicular to the lens surface 2f can be used for the brightness condition XL, and the reflectance Mf, Ms for the incident light R perpendicular to the lens surface 2f can be used for the saturation condition XS. On the other hand, the reflected light of the light R that is perpendicularly incident can be used as the measurement light Rm. Furthermore, when calculating the difference Sd between the first saturation Sf and the second saturation Ss under the saturation condition XS, the difference between a* (a star) and b* (b star) in the L*a*b* color space is can be used. In addition, in the film forming process of the coating material C, at least one layer (3 ma) can be provided as a film forming layer 3m. At this time, when providing two or more 3 m film layers (3 ma, 3 mb...), the film layer (3 mb...) may be added on the condition that the entire 3 m satisfies the brightness condition XL and the saturation condition XS. can. Moreover, the coating material C can contain an optical film material.

このような本発明に係るレンズの成膜方法及び保護膜付レンズ1によれば、次のような顕著な効果を奏する。 According to the method for forming a lens film and the lens 1 with a protective film according to the present invention, the following remarkable effects are achieved.

(1) 成膜方法の実施に際しては、生成する成膜層3mの層厚を、明るさ条件XL及び彩度条件XSを利用して生成できるようにしたため、レンズ基2に対する成膜処理(成膜制御)を容易に行うことができるなど、コーティングの無い状態に近い保護膜3を設けることができるとともに、均質性の高い保護膜3を生成することができる。 (1) When implementing the film-forming method, the thickness of the film-forming layer 3m to be generated can be created using the brightness condition XL and the saturation condition XS, so the film-forming process (forming In addition, it is possible to provide a protective film 3 that is close to a state without coating, such as easy film control), and it is also possible to generate a highly homogeneous protective film 3.

(2) 本発明に係る成膜方法を利用することにより目的の保護膜付レンズ1、即ち、レンズ基2に対する必要な保護機能を確保できることに加え、描写効果に利用できる良好なゴースト・フレアを発生させることができる保護膜付レンズ1を得ることができる。 (2) By using the film forming method according to the present invention, in addition to ensuring the necessary protection function for the target lens 1 with a protective film, that is, the lens base 2, good ghost and flare that can be used for depiction effects can be obtained. It is possible to obtain a lens 1 with a protective film that can be generated.

(3) 好適な態様により、所定の光波長域に、380-780〔nm〕を適用すれば、可視光線域の全体を網羅することができるため、レンズを使用したカメラ撮影等に要求される光学性能を確実に確保することができる。 (3) If 380-780 [nm] is applied to a predetermined light wavelength range according to a preferred embodiment, the entire visible light range can be covered, which is required for camera photography using a lens. Optical performance can be ensured.

(4) 好適な態様により、成膜方法の実施に際し、明るさ条件XLに、レンズ面2fに垂直となる入射光Rに対する反射率Mf,Msを用いれば、反射率測定に係わる正確な設定等を容易に行うことができるため、成膜処理に係わる容易性及び的確性、更には低コスト性及び迅速性の向上に寄与することができる。 (4) According to a preferred embodiment, when implementing the film forming method, if the reflectances Mf and Ms for the incident light R perpendicular to the lens surface 2f are used as the brightness condition XL, accurate settings related to reflectance measurement, etc. can be achieved. Since this can be easily performed, it can contribute to improving the ease and accuracy of the film forming process, as well as lower cost and speed.

(5) 好適な態様により、成膜方法の実施に際し、彩度条件XSに、レンズ面2fに対して垂直に入射する光Rの反射光を測定光Rmとして用いれば、彩度測定に係わる正確な設定等を容易に行うことができるため、成膜処理に係わる容易性及び的確性、更には低コスト性及び迅速性の向上に寄与することができる。 (5) According to a preferred embodiment, when implementing the film forming method, if the reflected light of the light R incident perpendicularly to the lens surface 2f is used as the measurement light Rm for the saturation condition XS, the accuracy regarding the saturation measurement can be improved. Since the settings and the like can be easily performed, it can contribute to improving the ease and accuracy of the film forming process, as well as lower cost and speed.

(6) 好適な態様により、彩度条件XSを得るに際し、L*a*b*色空間におけるa*とb*の差を用いれば、明るさに係わるL*(Lスター)は、反射率Mf,Msを用いた別途の明るさ条件XLにより得ることができるため、彩度条件XSは、a*とb*の差のみにより容易に設定することができる。 (6) According to a preferred embodiment, when obtaining the saturation condition XS, if the difference between a* and b* in the L*a*b* color space is used, L* (L star) related to brightness can be calculated as the reflectance Since it can be obtained by a separate brightness condition XL using Mf and Ms, the saturation condition XS can be easily set only by the difference between a* and b*.

(7) 好適な態様により、コーティング材Cの成膜処理では、少なくとも一層(3ma)の成膜層3mを設けることができる。即ち、明るさ条件XL及び彩度条件XSを満たすことを条件に成膜層3mを追加できるため、必要により二層(3a.3b…)以上設けることにより、成膜層3mの全体の層厚を設定する観点からその最適化を図ることができる。 (7) According to a preferred embodiment, in the film forming process of the coating material C, at least one (3 ma) film forming layer 3 m can be provided. In other words, since 3 m of deposited layers can be added on the condition that the brightness condition XL and the saturation condition XS are satisfied, the total layer thickness of the deposited layers of 3 m can be reduced by providing two or more layers (3a, 3b...) if necessary. Optimization can be achieved from the viewpoint of setting.

(8) 好適な態様により、コーティング材Cに、光学膜材を含ませれば、従来より広く使用されている公知の光学膜材を利用できるため、容易かつ低コストに実施することができる。 (8) By including an optical film material in the coating material C according to a preferred embodiment, it is possible to use a known optical film material that has been widely used in the past, so it can be implemented easily and at low cost.

本発明の好適実施形態に係る成膜方法の処理手順を説明するためのフローチャート、A flowchart for explaining the processing procedure of a film forming method according to a preferred embodiment of the present invention, 本発明の好適実施形態に係る保護膜付レンズの一部を示す断面図、A sectional view showing a part of a lens with a protective film according to a preferred embodiment of the present invention, 同実施形態に係る成膜方法に使用する反射率及び彩度の測定説明図、An explanatory diagram for measuring reflectance and chroma used in the film forming method according to the embodiment, 同実施形態に係る成膜方法の測定原理を説明するための光学膜厚対光量の特性図、A characteristic diagram of optical film thickness versus light amount for explaining the measurement principle of the film forming method according to the embodiment, 同実施形態に係る成膜方法に使用するレンズ基及びコーティング材の特性一覧表、A list of characteristics of the lens base and coating material used in the film forming method according to the embodiment, 同実施形態の実施例1に係る保護膜付レンズの膜構成のデータ表、A data table of the film structure of the lens with a protective film according to Example 1 of the embodiment, 同実施例1に係る保護膜付レンズの測定結果のデータ表、A data table of the measurement results of the lens with a protective film according to Example 1, 同実施例1に係る保護膜付レンズの測定角度をパラメータにした光波長域に対する反射率を示す変化特性図、A change characteristic diagram showing the reflectance in the light wavelength range with the measurement angle of the lens with a protective film according to Example 1 as a parameter, 同実施例1に係る保護膜付レンズの測定角度をパラメータにしたa*(aスター)とb*(bスター)を用いた彩度の特性図、A characteristic diagram of saturation using a* (a star) and b* (b star) with the measurement angle of the lens with a protective film according to Example 1 as a parameter, 同実施例2に係る保護膜付レンズの膜構成のデータ表、A data table of the film structure of the lens with a protective film according to Example 2, 同実施例2に係る保護膜付レンズの測定結果のデータ表、A data table of the measurement results of the lens with a protective film according to Example 2, 同実施例2に係る保護膜付レンズの測定角度をパラメータにした光波長域に対する反射率を示す変化特性図、A change characteristic diagram showing the reflectance in the light wavelength range with the measurement angle of the lens with a protective film according to Example 2 as a parameter, 同実施例2に係る保護膜付レンズの測定角度をパラメータにしたa*とb*を用いた彩度の特性図、A characteristic diagram of saturation using a* and b* with the measurement angle of the lens with a protective film according to Example 2 as a parameter, 同実施例3に係る保護膜付レンズの膜構成のデータ表、A data table of the film structure of the lens with a protective film according to Example 3, 同実施例3に係る保護膜付レンズの測定結果のデータ表、A data table of the measurement results of the lens with a protective film according to Example 3, 同実施例3に係る保護膜付レンズの測定角度をパラメータにした光波長域に対する反射率を示す変化特性図、A change characteristic diagram showing the reflectance in the light wavelength range with the measurement angle of the lens with a protective film according to Example 3 as a parameter, 同実施例3に係る保護膜付レンズの測定角度をパラメータにしたa*とb*を用いた彩度の特性図、A characteristic diagram of saturation using a* and b* with the measurement angle of the lens with a protective film according to Example 3 as a parameter, 同参考例1に係る保護膜付レンズの膜構成のデータ表、A data table of the film structure of the lens with a protective film according to Reference Example 1, 同参考例1に係る保護膜付レンズの測定結果のデータ表、A data table of the measurement results of the lens with a protective film according to Reference Example 1, 同参考例1に係る保護膜付レンズの明るさをパラメータにした光波長域に対する反射率を示す変化特性図、A change characteristic diagram showing the reflectance in the light wavelength range with the brightness of the lens with a protective film according to Reference Example 1 as a parameter, 同参考例1に係る保護膜付レンズの明るさをパラメータにしたa*とb*を用いた彩度の特性図、A characteristic diagram of saturation using a* and b* with the brightness of the lens with a protective film according to Reference Example 1 as a parameter, 同参考例2に係る保護膜付レンズの膜構成のデータ表、A data table of the film structure of the lens with a protective film according to Reference Example 2, 同参考例2に係る保護膜付レンズの測定結果のデータ表、A data table of the measurement results of the lens with a protective film according to Reference Example 2, 同参考例2に係る保護膜付レンズの彩度をパラメータにした光波長域に対する反射率を示す変化特性図、A change characteristic diagram showing the reflectance in the light wavelength range with the saturation of the lens with a protective film according to Reference Example 2 as a parameter, 同参考例2に係る保護膜付レンズの彩度をパラメータにしたa*とb*を用いた彩度の特性図、A characteristic diagram of saturation using a* and b* with the saturation of the lens with a protective film according to Reference Example 2 as a parameter,

次に、本発明に係る好適実施形態を挙げ、図面に基づき詳細に説明する。 Next, preferred embodiments of the present invention will be described in detail based on the drawings.

まず、同実施形態に係る保護膜付レンズ1の基礎的な概念について、図2-図5及び図9を参照して説明する。 First, the basic concept of the protective film-equipped lens 1 according to the same embodiment will be explained with reference to FIGS. 2 to 5 and FIG. 9.

図2は、本実施形態に係る保護膜付レンズ1の一部を抽出した断面図を示す。保護膜付レンズ1は、レンズ基2のレンズ面2fに所定のコーティング材Cの保護膜3を成膜処理して得ることができる。なお、本明細書におけるレンズ基2は、保護膜3、即ち、成膜層3mを設けない未成膜の状態のレンズ自身を意味する。図2(a)は、保護膜3(成膜層3m)として、一層の成膜層3maを設けた保護膜付レンズ1を示すとともに、図2(b)は、保護膜3(成膜層3m)として、二層による成膜層3ma,3mbを設けた保護膜付レンズ1を示す。 FIG. 2 shows a partially extracted cross-sectional view of the protective film-equipped lens 1 according to the present embodiment. The lens 1 with a protective film can be obtained by forming a protective film 3 of a predetermined coating material C on the lens surface 2f of the lens base 2. Note that the lens base 2 in this specification means the lens itself in an unformed state without the protective film 3, that is, the film formation layer 3m. 2(a) shows a lens 1 with a protective film provided with a single layer 3ma as the protective film 3 (layer 3m), and FIG. 2(b) shows a lens 1 with a protective film 3 (layer 3m). 3m) shows a lens 1 with a protective film provided with two film formation layers 3ma and 3mb.

このように、コーティング材Cを用いた成膜処理による成膜層3mを生成するに際しては、少なくとも一層の成膜層3maを設けることができる。即ち、成膜層3mは、一層の成膜層3maであってもよいし、二層(3ma.3mb…)以上による成膜層3mにより構成してもよい。したがって、後述する明るさ条件XL及び彩度条件XSを満たすことを条件に成膜層3mを追加することができるため、必要により二層(3ma.3mb…)以上設けることにより、成膜層3mの全体の層厚を設定する観点からその最適化を図ることができる。 In this manner, when forming the film formation layer 3m by the film formation process using the coating material C, at least one film formation layer 3ma can be provided. That is, the film formation layer 3m may be a single film formation layer 3ma, or may be composed of two or more film formation layers (3ma.3mb...). Therefore, it is possible to add a film formation layer of 3m on the condition that the brightness condition XL and the saturation condition XS, which will be described later, are satisfied. Optimization can be achieved from the viewpoint of setting the overall layer thickness.

ところで、本実施形態に係る保護膜付レンズ1は、未成膜(未コーティング)に近い薄い成膜層を設けることにより、レンズ基2の変質や劣化を防止するとともに、恰もコーティングの無いような描写撮影を可能にするものである。この場合、成膜層3mの層厚をできる限り薄い状態に生成することにより実現可能になるが、前述したように、成膜層3mを生成する場合、膜厚制御が困難になる問題を生じる。 By the way, the lens 1 with a protective film according to the present embodiment prevents deterioration and deterioration of the lens base 2 by providing a thin film layer close to that of an unformed film (uncoated), and also allows the lens base 2 to be depicted as if there is no coating. This makes it possible to take pictures. In this case, this can be achieved by making the layer thickness of the deposited layer 3m as thin as possible, but as mentioned above, when creating the deposited layer 3m, there is a problem that it becomes difficult to control the film thickness. .

そこで、本実施形態では、コーティング処理、即ち、成膜処理を行うに際し、レンズ基2の屈折率とコーティング材Cの屈折率の差が小さくなる所定の設定範囲を設けた。即ち、レンズ基2の屈折率とコーティング材Cの屈折率の差が小さい方が、成膜層3mを設ける場合におけるその前後の反射率(第一反射率Mfと第二反射率Ms)の差Mdを小さくすることができる。このため、レンズ基2の屈折率は、1.40-2.10の範囲から選定することが望ましいとともに、コーティング材Cの屈折率は、1.20-2.50の範囲から選定することが望ましい。 Therefore, in this embodiment, a predetermined setting range is provided in which the difference between the refractive index of the lens base 2 and the refractive index of the coating material C becomes small when performing the coating process, that is, the film forming process. In other words, the smaller the difference between the refractive index of the lens base 2 and the refractive index of the coating material C, the smaller the difference in reflectance (first reflectance Mf and second reflectance Ms) before and after the film formation layer 3m is provided. Md can be reduced. Therefore, it is desirable that the refractive index of the lens base 2 is selected from the range of 1.40-2.10, and the refractive index of the coating material C is preferably selected from the range of 1.20-2.50. desirable.

また、成膜処理中の成膜状態を示す指標として、反射光Rmの明るさを利用した。具体的には、レンズ基2自身の第一反射率Mfと、このレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二反射率Msとを利用し、この第一反射率Mfと第二反射率Msの差Mdが、所定の光波長域で「9.50〔%〕以下」となる条件を設定した。このため、この差Mdが、9.50〔%〕を越えた場合には、ゴースト・フレアの明るさが未成膜のレンズ基2よりも明るく又は暗くなるため、良好なゴースト・フレアを得ることができない。 Furthermore, the brightness of the reflected light Rm was used as an index indicating the film formation state during the film formation process. Specifically, this first reflectance is determined by using the first reflectance Mf of the lens base 2 itself and the second reflectance Ms when the lens base 2 is coated with the coating layer 3m of the coating material C. A condition was set such that the difference Md between Mf and the second reflectance Ms was "9.50 [%] or less" in a predetermined light wavelength range. Therefore, if this difference Md exceeds 9.50 [%], the brightness of the ghost flare will be brighter or darker than the uncoated lens base 2, making it difficult to obtain a good ghost flare. I can't.

したがって、この第一反射率Mfと第二反射率Msの差Mdが、9.50〔%〕以下となることが必要とする「明るさ条件XL」となる。明るさ条件XLの9.50〔%〕以下を満たすには、前述したレンズ基2自身の屈折率を1.40-2.10の範囲から選定する必要があり、また、コーティング材Cの屈折率が大きくなれば、反射率が高くなるため、コーティング材Cの屈折率の範囲は1.20-2.50の範囲から選定すればよい。このように、コーティング材Cの屈折率の選定(指定)が明るさについて指定したことと同じになる。 Therefore, the "brightness condition XL" requires that the difference Md between the first reflectance Mf and the second reflectance Ms be 9.50 [%] or less. In order to satisfy the brightness condition XL of 9.50% or less, it is necessary to select the refractive index of the lens base 2 itself from the range of 1.40 to 2.10, and also the refractive index of the coating material C. As the index increases, the reflectance increases, so the refractive index of the coating material C may be selected from the range of 1.20 to 2.50. In this way, the selection (designation) of the refractive index of the coating material C is the same as the designation of the brightness.

なお、所定の光波長域は、380-780〔nm〕を設定した。このように、所定の光波長域として、380-780〔nm〕を適用すれば、可視光線域の全体を網羅することができるため、レンズを使用したカメラ撮影等に要求される光学性能を確実に確保することができる。 Note that the predetermined light wavelength range was set to 380-780 [nm]. In this way, by applying 380-780 [nm] as the predetermined light wavelength range, it is possible to cover the entire visible light range, ensuring the optical performance required for camera photography using lenses, etc. can be secured.

さらに、明るさ条件XLには、図3に示すように、レンズ面2fに垂直となる入射光Rに対する反射率Mf,Msを用いた。これにより、反射率測定に係わる正確な設定等を容易に行うことができるため、成膜処理に係わる容易性及び的確性、更には低コスト性及び迅速性の向上に寄与することができる。 Furthermore, as shown in FIG. 3, the reflectances Mf and Ms of the incident light R perpendicular to the lens surface 2f were used for the brightness condition XL. As a result, accurate settings related to reflectance measurement can be easily performed, which can contribute to improving ease and accuracy, as well as cost reduction and speed, related to film formation processing.

この場合、成膜処理時における膜厚の制御は、屈折率ndが1.523(厚み:1.35〔mm〕)の硝材を用いた平板を一緒に成膜処理し、この平板に光Rを垂直入射し、その反射光Rmに係わる反射率Msの大きさを測定することにより制御を行った。なお、この際に測定する反射光Rmは、反射光をフィルタリングして得る特定の波長(後述する監視波長)となる。さらに、成膜処理前におけるこの平板の反射率は増幅して用いた。なお、以降の説明では、増幅した反射率を「光量」とし、成膜処理前の光量を「初期光量」とする。 In this case, to control the film thickness during the film forming process, a flat plate made of a glass material with a refractive index nd of 1.523 (thickness: 1.35 [mm]) is also formed, and the light R was perpendicularly incident, and the control was performed by measuring the magnitude of the reflectance Ms related to the reflected light Rm. Note that the reflected light Rm measured at this time has a specific wavelength (monitoring wavelength described later) obtained by filtering the reflected light. Furthermore, the reflectance of this flat plate before the film forming process was amplified and used. In the following description, the amplified reflectance will be referred to as the "light amount" and the light amount before the film forming process will be referred to as the "initial light amount."

反射率を増幅させる理由は、次のとおりである。未成膜の平板の場合、反射率は8〔%〕程度となる。このため、例示の場合には、2.5倍程度の増幅を行った。図4に示すように、初期光量を設定する場合、初期光量が大きいほど光量の変化が大きくなる。即ち、図4に示す特性線P1のように、初期光量が小さすぎた場合、光量の変化も小さくなり、他方、特性線P3のように、初期光量が大きすぎた場合、最大となる光量は100〔%〕を越えてしまう。したがって、特性線P2のように、最大となる光量が100〔%〕を越えない程度の大きい値に設定することが望ましく、本実施形態では、適切と思われる2.5倍程度に設定した。 The reason for amplifying the reflectance is as follows. In the case of a flat plate with no film formed, the reflectance is about 8%. Therefore, in the illustrated case, amplification of about 2.5 times was performed. As shown in FIG. 4, when setting the initial light amount, the larger the initial light amount, the greater the change in the light amount. That is, as shown in the characteristic line P1 shown in FIG. 4, if the initial light amount is too small, the change in light amount will also be small; on the other hand, if the initial light amount is too large, as shown in the characteristic line P3, the maximum light amount will be It exceeds 100%. Therefore, as shown in the characteristic line P2, it is desirable to set the maximum light amount to a large value that does not exceed 100%, and in this embodiment, it is set to about 2.5 times, which is considered appropriate.

また、成膜処理において、成膜処理中の制御及び成膜処理を終了させるタイミングに関しては、光量の変化がより大きい波長部分(監視波長)が制御し易いため、初期光量の設定及び監視波長の大きさを図5に示すように設定した。 In addition, in the film formation process, regarding control during the film formation process and the timing to end the film formation process, it is easier to control the wavelength portion (monitoring wavelength) where the change in light intensity is larger, so it is easier to control the initial light intensity setting and the monitoring wavelength. The size was set as shown in FIG.

一方、色味に関しては、D65標準光源からの光Rを照射したときのL*a*b*色空間における、レンズ基2自身の第一彩度Sfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二彩度Ssを使用し、この第一彩度Sfと第二彩度Ssの差Sdが2.70以下となる条件により設定した。したがって、この「2.70以下」の条件を満たすことが「彩度条件XS」となる。なお、この差Sdが、2.70を越えた場合、ゴースト・フレアの色味(彩度)が未成膜のレンズ基2よりも異なるものとなり、良好なゴースト・フレアを得ることができない。 On the other hand, regarding the color, the first chroma Sf of the lens base 2 itself and the composition of the coating material C on this lens base 2 in the L*a*b* color space when irradiated with light R from a D65 standard light source. The second chroma Ss with the film layer 3m provided was used, and the conditions were set such that the difference Sd between the first chroma Sf and the second chroma Ss was 2.70 or less. Therefore, satisfying this condition of "2.70 or less" is the "saturation condition XS". Note that if this difference Sd exceeds 2.70, the color tone (saturation) of the ghost/flare will be different from that of the lens base 2 on which no film is formed, making it impossible to obtain a good ghost/flare.

この場合、彩度条件XSには、図3に示すように、レンズ面2fに対して垂直に入射する光Rの反射光を測定光Rmとして用いる。これにより、彩度測定に係わる正確な設定等を容易に行うことができるため、成膜処理に係わる容易性及び的確性、更には低コスト性及び迅速性の向上に寄与することができる。 In this case, for the saturation condition XS, as shown in FIG. 3, the reflected light of the light R that is perpendicularly incident on the lens surface 2f is used as the measurement light Rm. As a result, accurate settings related to chroma measurement can be easily performed, which contributes to improvements in ease and accuracy, as well as low cost and speed, related to film formation processing.

さらに、彩度条件XSの第一彩度Sfと第二彩度Ssの差Sdを求めるに際しては、図9に示すように、L*a*b*色空間のa*とb*の差を用いた。この場合、明るさを示すL*(Lスター)は反射率を用いた別途の明るさ条件XLにより得られるため、彩度条件XSは、a*とb*の差のみにより容易に設定することができる。なお、彩度条件XSにより設定する第一彩度Sfと第二彩度Ssの差Sdは、[数1]の演算式により求めることができる。 Furthermore, when calculating the difference Sd between the first saturation Sf and the second saturation Ss of the saturation condition XS, the difference between a* and b* in the L*a*b* color space is calculated as shown in FIG. Using. In this case, since L* (L star) indicating brightness is obtained by a separate brightness condition XL using reflectance, the saturation condition XS can be easily set only by the difference between a* and b*. I can do it. Note that the difference Sd between the first saturation Sf and the second saturation Ss, which is set by the saturation condition XS, can be determined by the equation [Equation 1].

Figure 2023175286000002
Figure 2023175286000002

以上のように、設定した9.50〔%〕以下となる明るさ条件XLと、2.70以下となる彩度条件XSは、実験的に求めることができるとともに、これらの各条件を満たすように、レンズ基2の屈折率1.40-2.10の範囲と、コーティング材Cの屈折率1.20-2.50の範囲を決定することができる。 As described above, the brightness condition XL of 9.50 [%] or less and the saturation condition XS of 2.70 or less can be determined experimentally, and the settings are made to satisfy each of these conditions. Then, the range of the refractive index of the lens base 2 from 1.40 to 2.10 and the range of the refractive index of the coating material C from 1.20 to 2.50 can be determined.

図5に、本実施形態に係る保護膜付レンズ1におけるレンズ基2及びコーティング材Cの特性一覧表を示す。レンズ基2には、タイプの異なる硝材、特に、屈折率の異なる硝材A(nd:1.81),硝材B(nd:1.88),硝材C(nd:1.58)を使用し、それぞれを試料E1,E2,E3とした。また、コーティング材Cとしては、試料E1及びE2には、LaTiO3(チタン酸ランタン(nd:2.00))を使用するとともに、試料E3には、Al2O3(酸化アルミニウム(nd:1.63))を使用した。なお、コーティング材Cは、いずれも光学膜材Cmとして公知のものであるが、このような光学膜材Cmに限定されるものではなく、各種のコーティング材C、例えば、後述するMgF2(フッ化マグネシウム(nd:1.37))等の各種コーティング材Cを適用することができる。なお、コーティング材Cとして、光学膜材Cmを用いれば、従来より広く使用されている公知の光学膜材を利用できるため、容易かつ低コストに実施できる利点がある。その他、図5中、νdはレンズ基2のアッベ数を示す。 FIG. 5 shows a list of characteristics of the lens base 2 and coating material C in the protective film-equipped lens 1 according to this embodiment. For the lens base 2, different types of glass materials are used, in particular glass materials A (nd: 1.81), glass materials B (nd: 1.88), and glass materials C (nd: 1.58) having different refractive indexes, These samples were designated as samples E1, E2, and E3, respectively. As the coating material C, LaTiO3 (lanthanum titanate (nd: 2.00)) was used for samples E1 and E2, and Al2O3 (aluminum oxide (nd: 1.63)) was used for sample E3. It was used. The coating materials C are all known as optical film materials Cm, but are not limited to such optical film materials Cm. Various coating materials C, such as MgF2 (fluorinated Various coating materials C such as magnesium (nd: 1.37) can be applied. Note that if the optical film material Cm is used as the coating material C, a known optical film material that has been widely used in the past can be used, so there is an advantage that it can be implemented easily and at low cost. Additionally, in FIG. 5, νd indicates the Abbe number of the lens group 2.

したがって、図5に示す試料E1-E3は、いずれも、レンズ基2の屈折率が1.40-2.10の範囲にあるとともに、コーティング材Cの屈折率が1.20-2.50の範囲にあり、材料の選定に際しては試料E1-E3の中から選択可能である。 Therefore, in all of the samples E1 to E3 shown in FIG. When selecting the material, it is possible to select from samples E1 to E3.

次に、本実施形態に係る保護膜付レンズ1の概念に基づき、本実施形態に係る保護膜付レンズ1(及び成膜方法)の有効性の検証結果について、図6-図25を参照して説明する。 Next, based on the concept of the lens 1 with a protective film according to the present embodiment, the results of verifying the effectiveness of the lens 1 with a protective film (and film forming method) according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 6 to 25. I will explain.

図6-図25中、本実施形態に係る成膜方法により成膜処理して得られた保護膜付レンズの明るさ条件XL及び彩度条件XSを満たした実施例1-3の検証結果を、図6-図17に示すとともに、同成膜方法により成膜処理して得られた保護膜付レンズの明るさ条件XL又は彩度条件XSを満たさない場合を含む参考例1-2の検証結果を、図18-図25に示す。 In FIGS. 6 to 25, the verification results of Example 1-3 that satisfied the brightness condition XL and the saturation condition XS of the lens with a protective film obtained by the film formation process according to the film formation method according to the present embodiment are shown. , and verification of Reference Example 1-2, including cases where the brightness condition XL or the chroma condition XS of the lens with a protective film obtained by the film formation process using the same film formation method is not satisfied as shown in FIGS. 6 to 17. The results are shown in FIGS. 18-25.

実施例1の検証結果を図6-図9に示す。図6は、実施例1に係る保護膜付レンズ1の膜構成を示す。実施例1は、図5に示した試料E1を使用したものであり、レンズ基2に硝材Aを使用し、コーティング材Cにチタン酸ランタンを使用した。前述したように、レンズ基2及びコーティング材Cはいずれも保護膜付レンズ1に要求される屈折率の条件を満たしている。また、初期光量は20〔%〕に設定し、制御のために監視する光波長(監視波長)は500〔nm〕を用いた。なお、層数は1層である。 The verification results of Example 1 are shown in FIGS. 6-9. FIG. 6 shows the film structure of the protective film-equipped lens 1 according to Example 1. Example 1 used sample E1 shown in FIG. 5, in which glass material A was used for lens base 2 and lanthanum titanate was used for coating material C. As described above, both the lens base 2 and the coating material C satisfy the refractive index conditions required for the protective film-equipped lens 1. Further, the initial light amount was set to 20 [%], and the light wavelength monitored for control (monitoring wavelength) was 500 [nm]. Note that the number of layers is one.

図7に、実施例1の保護膜付レンズ1の測定結果のデータを示すとともに、図8に、同保護膜付レンズ1の、380-780〔nm〕の光波長域における測定角度θ(0〔゜〕,10〔゜〕,20〔゜〕)をパラメータにした反射率の変化特性を示す。なお、図8中、Dはレンズ基2の成膜した球面の中心に位置する測定位置を示すとともに、測定角度θは、光軸Fcからの測定位置Dを中心にした傾きを示す。 FIG. 7 shows the data of the measurement results of the lens 1 with a protective film of Example 1, and FIG. 8 shows the measurement angle θ (0 [°], 10 [°], 20 [°]) are shown as parameters. In FIG. 8, D indicates a measurement position located at the center of the spherical surface on which the film of the lens base 2 is formed, and the measurement angle θ indicates an inclination centered on the measurement position D from the optical axis Fc.

図7及び図8から明らかなように、反射率Mf,Msの差Mdの最大値は、測定角度0〔゜〕のときに9.35〔%〕、測定角度10〔゜〕のときに9.35〔%〕、測定角度20〔゜〕のときに9.30〔%〕となり、いずれの角度においても、明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たしている。 As is clear from FIGS. 7 and 8, the maximum value of the difference Md between the reflectances Mf and Ms is 9.35 [%] when the measurement angle is 0 [°] and 9.35 [%] when the measurement angle is 10 [°]. .35 [%], and 9.30 [%] when the measurement angle was 20 [°], satisfying the brightness condition XL (9.50 [%] or less) at any angle.

また、図9に、実施例1に係る保護膜付レンズ1の測定角度θをパラメータにしたa*とb*を用いた彩度の特性図を示す。図7及び図9から明らかなように、彩度Sf,Ssの差Sdは、測定角度0〔゜〕のときに1.13、測定角度10〔゜〕のときに1.22、測定角度20〔゜〕のときに1.58となり、いずれの角度においても、彩度条件XS(2.70以下)を満たしている。このように、実施例1は本発明に係る保護膜付レンズ1に要求される条件を全て満たしている。 Further, FIG. 9 shows a characteristic diagram of saturation using a* and b* with the measurement angle θ of the protective film-equipped lens 1 according to Example 1 as a parameter. As is clear from FIGS. 7 and 9, the difference Sd between the saturations Sf and Ss is 1.13 when the measurement angle is 0 [°], 1.22 when the measurement angle is 10 [°], and 1.22 when the measurement angle is 20 [°]. It becomes 1.58 at [°], and satisfies the saturation condition XS (2.70 or less) at any angle. In this way, Example 1 satisfies all the conditions required for the protective film-equipped lens 1 according to the present invention.

実施例2の検証結果を図10-図13に示す。図10は、実施例2に係る保護膜付レンズ1の膜構成を示す。実施例2は、図5に示した試料E2を使用したものであり、レンズ基2に、屈折率が稍高い硝材Bを使用し、コーティング材Cにチタン酸ランタンを使用した。前述したように、レンズ基2及びコーティング材Cはいずれも保護膜付レンズ1に要求される屈折率の条件を満たしている。なお、初期光量,監視波長,層数は実施例1と同じである。 The verification results of Example 2 are shown in FIGS. 10 to 13. FIG. 10 shows the film structure of the protective film-equipped lens 1 according to the second embodiment. Example 2 used sample E2 shown in FIG. 5, in which glass material B having a slightly high refractive index was used for lens base 2, and lanthanum titanate was used for coating material C. As described above, both the lens base 2 and the coating material C satisfy the refractive index conditions required for the protective film-equipped lens 1. Note that the initial light amount, monitoring wavelength, and number of layers are the same as in Example 1.

図11に、実施例2に係る保護膜付レンズ1の測定結果のデータを示すとともに、図12に、同保護膜付レンズ1の、380-780〔nm〕の光波長域における測定角度θ(0〔゜〕,10〔゜〕,20〔゜〕,30〔゜〕)をパラメータにした反射率の変化特性を示す。図11及び図12から明らかなように、反射率Mf,Msの差Mdの最大値は、測定角度0〔゜〕のときに6.86〔%〕、測定角度10〔゜〕のときに6.67〔%〕、測定角度20〔゜〕のときに6.98〔%〕、測定角度30〔゜〕のときに7.13〔%〕となり、いずれも明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たしている。 FIG. 11 shows the data of the measurement results of the lens 1 with a protective film according to Example 2, and FIG. 12 shows the measurement angle θ( 0 [°], 10 [°], 20 [°], 30 [°]) are shown as parameters. As is clear from FIGS. 11 and 12, the maximum value of the difference Md between the reflectances Mf and Ms is 6.86 [%] when the measurement angle is 0 [°], and 6.86 [%] when the measurement angle is 10 [°]. .67 [%], 6.98 [%] when the measurement angle is 20 [°], and 7.13 [%] when the measurement angle is 30 [°], all under brightness condition XL (9.50 [%]). %] or less).

また、図13に、実施例2に係る保護膜付レンズ1の測定角度θをパラメータにしたa*とb*を用いた彩度の特性図を示す。図11及び図13から明らかなように、彩度Sf,Ssの差Sdは、測定角度0〔゜〕のときに0.88、測定角度10〔゜〕のときに1.16、測定角度20〔゜〕のときに1.51、測定角度30〔゜〕のときに2.47となり、いずれも彩度条件XS(2.70以下)を満たしている。 Further, FIG. 13 shows a characteristic diagram of saturation using a* and b* with the measurement angle θ of the protective film-equipped lens 1 according to Example 2 as a parameter. As is clear from FIGS. 11 and 13, the difference Sd between the saturations Sf and Ss is 0.88 when the measurement angle is 0 [°], 1.16 when the measurement angle is 10 [°], and 1.16 when the measurement angle is 20 [°]. [°], it becomes 1.51, and when the measurement angle is 30 [°], it becomes 2.47, both of which satisfy the saturation condition XS (2.70 or less).

このように、実施例2も本発明に係る保護膜付レンズ1に要求される条件を全て満たしている。実施例2の試料E2は、レンズ基2を選定する屈折率の条件、即ち、1.40-2.10の最大値付近に対応した検証結果となる。 In this way, Example 2 also satisfies all the conditions required for the protective film-equipped lens 1 according to the present invention. Sample E2 of Example 2 has a verification result that corresponds to the refractive index condition for selecting lens base 2, that is, near the maximum value of 1.40-2.10.

実施例3の検証結果を図14-図17に示す。図14は、実施例3に係る保護膜付レンズ1の膜構成を示す。実施例3は、図5に示した試料E3を使用したものであり、レンズ基2に、実施例中、屈折率が最も低い硝材Cを使用し、コーティング材Cにアルミナを使用した。前述したように、レンズ基2及びコーティング材Cはいずれも保護膜付レンズ1に要求される屈折率の条件を満たしている。また、初期光量は60〔%〕に設定し、監視波長は480〔nm〕を用いた。なお、層数は1層である。 The verification results of Example 3 are shown in FIGS. 14-17. FIG. 14 shows the film structure of the protective film-equipped lens 1 according to Example 3. Example 3 uses sample E3 shown in FIG. 5, in which glass material C, which has the lowest refractive index among the examples, was used for lens base 2, and alumina was used for coating material C. As described above, both the lens base 2 and the coating material C satisfy the refractive index conditions required for the protective film-equipped lens 1. Further, the initial light amount was set to 60 [%], and the monitoring wavelength was 480 [nm]. Note that the number of layers is one.

図15に、実施例3に係る保護膜付レンズ1の測定結果のデータを示すとともに、図16に、同保護膜付レンズ1の、380-780〔nm〕の光波長域における測定角度θ(0〔゜〕,10〔゜〕,20〔゜〕,29〔゜〕)をパラメータにした反射率Mf,Msの変化特性を示す。図15及び図16から明らかなように、反射率の差Mdの最大値は、測定角度0〔゜〕のときに1.45〔%〕、測定角度10〔゜〕のときに1.36〔%〕、測定角度20〔゜〕のときに1.29〔%〕、測定角度29〔゜〕のときに1.56〔%〕となり、いずれも明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を十分に満たしている。 FIG. 15 shows the data of the measurement results of the lens 1 with a protective film according to Example 3, and FIG. 16 shows the measurement angle θ( 0 [°], 10 [°], 20 [°], 29 [°]) are shown as parameters. As is clear from FIGS. 15 and 16, the maximum value of the reflectance difference Md is 1.45 [%] when the measurement angle is 0 [°] and 1.36 [%] when the measurement angle is 10 [°]. %], 1.29 [%] when the measurement angle is 20 [°], and 1.56 [%] when the measurement angle is 29 [°], both of which are under brightness condition XL (9.50 [%]) ) are fully satisfied.

また、図17に、実施例3に係る保護膜付レンズ1の測定角度θをパラメータにしたa*とb*を用いた彩度の特性図を示す。図15及び図17から明らかなように、彩度Sf,Ssの差Sdは、測定角度0〔゜〕のときに0.34、測定角度10〔゜〕のときに0.02、測定角度20〔゜〕のときに0.11、測定角度29〔゜〕のときに0.13となり、いずれも彩度条件XS(2.70以下)を十分に満たしている。 Further, FIG. 17 shows a characteristic diagram of saturation using a* and b* using the measurement angle θ of the protective film-equipped lens 1 according to Example 3 as a parameter. As is clear from FIGS. 15 and 17, the difference Sd between the saturations Sf and Ss is 0.34 when the measurement angle is 0 [°], 0.02 when the measurement angle is 10 [°], and 0.02 when the measurement angle is 20 [°]. It is 0.11 when the measurement angle is [°], and 0.13 when the measurement angle is 29 [°], both of which fully satisfy the saturation condition XS (2.70 or less).

このように、実施例3は本発明に係る保護膜付レンズ1に要求される条件を全てにおいて十分に満たしている。したがって、実施例3の試料E3は、実施例中、最も小さい状態にあるため、実際の成膜処理においては、前述した図2(b)に示すように、多層に設けることも可能である。
[参考例1]
In this way, Example 3 fully satisfies all the conditions required of the protective film-equipped lens 1 according to the present invention. Therefore, since sample E3 of Example 3 is in the smallest state among the examples, in the actual film forming process, it is also possible to provide it in multiple layers as shown in FIG. 2(b) described above.
[Reference example 1]

次に、参考例1に係る検証結果を図18-図21に示す。図18は、参考例1に係る保護膜付レンズ1の膜構成を示す。 Next, the verification results according to Reference Example 1 are shown in FIGS. 18 to 21. FIG. 18 shows the film structure of the protective film-equipped lens 1 according to Reference Example 1.

参考例1は、各保護膜付レンズ1の明るさを異ならせた場合における検証結果を示す。即ち、レンズ基2に使用した硝材中、最も高い屈折率(nd:1.91)を有する硝材Dを使用するとともに、コーティング材Cとしてフッ化マグネシウム(nd:1.37)を使用した試料G1、コーティング材Cとしてアルミナ(nd:1.63)を使用した試料G2、コーティング材Cとしてチタン酸ランタン(nd:2.00)を使用した試料G3を用いた。なお、測定角度θは0〔゜〕に設定し、かつ初期光量をコーティング材Cの種類に対応して設定するとともに、制御のための監視波長は、試料G1を450〔nm〕、試料G2を480〔nm〕、試料G3を500〔nm〕にそれぞれ設定した。層数は1層である。 Reference Example 1 shows the verification results when the brightness of each lens 1 with a protective film was varied. That is, sample G1 used glass material D having the highest refractive index (nd: 1.91) among the glass materials used for lens base 2, and used magnesium fluoride (nd: 1.37) as coating material C. Sample G2 used alumina (nd: 1.63) as coating material C, and sample G3 used lanthanum titanate (nd: 2.00) as coating material C. The measurement angle θ was set to 0 [°], the initial light intensity was set according to the type of coating material C, and the monitoring wavelength for control was 450 [nm] for sample G1 and 450 [nm] for sample G2. The wavelength was set at 480 [nm], and the wavelength for sample G3 was set at 500 [nm]. The number of layers is one.

図19に、参考例1に係る保護膜付レンズ1の測定結果のデータを示すとともに、図20に、同保護膜付レンズ1の、380-780〔nm〕の光波長域における試料G1,G2,G3の反射率の変化特性を示す。図19及び図20から明らかなように、試料G1は、物理膜厚が92.34〔nm〕かつ光学膜厚(=(屈折率×物理膜厚)/波長)が0.25であり、反射率の差Mdの最大値は10.00〔%〕となり、明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たしていない。試料G2は、物理膜厚が78.30〔nm〕かつ光学膜厚が0.25であり、反射率の差Mdの最大値は7.47〔%〕となり、明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たしている。試料G3は、物理膜厚が62.96〔nm〕かつ光学膜厚が0.25であり、反射率の差Mdの最大値は3.39〔%〕となり、明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たしている。なお、 FIG. 19 shows the data of the measurement results of the lens 1 with a protective film according to Reference Example 1, and FIG. , G3. As is clear from FIGS. 19 and 20, sample G1 has a physical film thickness of 92.34 [nm] and an optical film thickness (=(refractive index x physical film thickness)/wavelength) of 0.25. The maximum value of the rate difference Md is 10.00 [%], which does not satisfy the brightness condition XL (9.50 [%] or less). Sample G2 has a physical film thickness of 78.30 [nm] and an optical film thickness of 0.25, the maximum value of the reflectance difference Md is 7.47 [%], and the brightness condition XL (9.50 [%] or less). Sample G3 has a physical film thickness of 62.96 [nm] and an optical film thickness of 0.25, the maximum value of the reflectance difference Md is 3.39 [%], and the brightness condition XL (9.50 [%] or less). In addition,

また、図21に、参考例1に係る保護膜付レンズ1のa*とb*を用いた彩度の特性図を示す。図19及び図21から明らかなように、彩度Mf,Msの差Sdにおいて、試料G1は11.14となり、彩度条件XS(2.70以下)を満たしていない。試料G2は3.75となり、彩度条件XS(2.70以下)を満たしていない。試料G3は1.54となり、彩度条件XS(2.70以下)を満たしている。 Further, FIG. 21 shows a characteristic diagram of saturation using a* and b* of the protective film-equipped lens 1 according to Reference Example 1. As is clear from FIGS. 19 and 21, the difference Sd between the saturations Mf and Ms is 11.14 for sample G1, which does not satisfy the saturation condition XS (2.70 or less). Sample G2 has a saturation value of 3.75, which does not satisfy the saturation condition XS (2.70 or less). Sample G3 has a saturation value of 1.54, which satisfies the saturation condition XS (2.70 or less).

このように、保護膜付レンズ1に必要となるレンズ基2とコーティング材Cの各屈折率は、図18に示すように、屈折率の条件を満たしているが、硝材Dとコーティング材Cの組合わせ、又は成膜処理によるコーティング材Cの膜厚(物理膜厚〔nm〕)を異ならせた場合には、目的の保護膜付レンズ1を得ることができないことを確認できる。
[参考例2]
As shown in FIG. 18, the refractive indexes of the lens base 2 and the coating material C necessary for the lens 1 with a protective film satisfy the refractive index conditions. It can be confirmed that if the film thickness (physical film thickness [nm]) of the coating material C is made different by combination or film-forming treatment, the desired lens 1 with a protective film cannot be obtained.
[Reference example 2]

次に、参考例2に係る検証結果を図22-図25に示す。図22は、参考例2に係る保護膜付レンズ1の膜構成を示す。 Next, the verification results according to Reference Example 2 are shown in FIGS. 22-25. FIG. 22 shows the film structure of the protective film-equipped lens 1 according to Reference Example 2.

参考例2は、レンズ基2に、図5に示した硝材A(nd:1.80)を使用するとともに、コーティング材Cとしてチタン酸ランタン(nd:2.00)を使用した。なお、測定角度θは0〔゜〕である。 In Reference Example 2, the glass material A (nd: 1.80) shown in FIG. 5 was used for the lens base 2, and lanthanum titanate (nd: 2.00) was used as the coating material C. Note that the measurement angle θ is 0 [°].

特に、参考例2は、各保護膜付レンズ1の彩度を異ならせた場合における検証結果を示す。このため、試料G4は、物理膜厚を62.96〔nm〕かつ光学膜厚を0.25に、試料G5は、物理膜厚を125.92〔nm〕かつ光学膜厚を0.50に、試料G6は、物理膜厚を188.88〔nm〕かつ光学膜厚を0.75に、試料G7は、物理膜厚を251.84〔nm〕かつ光学膜厚を1.00に、それぞれ設定した。また、図25に、参考例2に係る保護膜付レンズ1のa*とb*を用いた彩度の特性図を示す。 In particular, Reference Example 2 shows the verification results when the chroma of each protective film-equipped lens 1 was made different. Therefore, sample G4 has a physical film thickness of 62.96 [nm] and an optical film thickness of 0.25, and sample G5 has a physical film thickness of 125.92 [nm] and an optical film thickness of 0.50. , sample G6 has a physical film thickness of 188.88 [nm] and an optical film thickness of 0.75, and sample G7 has a physical film thickness of 251.84 [nm] and an optical film thickness of 1.00. Set. Further, FIG. 25 shows a characteristic diagram of saturation using a* and b* of the protective film-equipped lens 1 according to Reference Example 2.

参考例2の場合、初期光量はコーティング材Cの種類に対応して設定するとともに、監視波長は、試料G4を500〔nm〕、試料G5を550〔nm〕、試料G6を450〔nm〕、試料G7を500〔nm〕にそれぞれ設定した。層数は1層である。 In the case of Reference Example 2, the initial light amount is set according to the type of coating material C, and the monitoring wavelengths are 500 [nm] for sample G4, 550 [nm] for sample G5, 450 [nm] for sample G6, Sample G7 was set at 500 [nm]. The number of layers is one.

図23-図25から明らかなように、試料G4は、反射率Mf,Msの差Mdの最大値が6.64〔%〕となり、明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たし、かつ彩度Sf,Ssの差Sdは1.62となり、彩度条件XS(2.70以下)を満たしている。これに対して、試料G5は、反射率Mf,Msの差Mdの最大値が7.18〔%〕となり、明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たすが、彩度Sf,Ssの差Sdは6.17となり、彩度条件XS(2.70以下)を満たしていない。試料G6は反射率Mf,Msの差Mdの最大値が6.47〔%〕となり、明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たすが、彩度Sf,Ssの差Sdは8.48となり、彩度条件XS(2.70以下)を満たしていない。試料G7は反射率Mf,Msの差Mdの最大値が7.35〔%〕となり、明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たすが、彩度Sf,Ssの差Sdは13.05となり、彩度条件XS(2.70以下)を満たしていない。 As is clear from FIGS. 23 to 25, sample G4 has a maximum value of the difference Md between the reflectances Mf and Ms of 6.64 [%], and satisfies the brightness condition XL (9.50 [%] or less). , and the difference Sd between the saturations Sf and Ss is 1.62, which satisfies the saturation condition XS (2.70 or less). On the other hand, in sample G5, the maximum value of the difference Md between the reflectances Mf and Ms is 7.18 [%] and satisfies the brightness condition XL (9.50 [%] or less), but the saturation Sf, The difference Sd between Ss is 6.17, which does not satisfy the saturation condition XS (2.70 or less). For sample G6, the maximum value of the difference Md between the reflectances Mf and Ms is 6.47 [%] and satisfies the brightness condition XL (9.50 [%] or less), but the difference Sd between the saturation Sf and Ss is 8. .48, which does not satisfy the saturation condition XS (2.70 or less). For sample G7, the maximum value of the difference Md between the reflectances Mf and Ms is 7.35 [%] and satisfies the brightness condition XL (9.50 [%] or less), but the difference Sd between the saturation Sf and Ss is 13 .05, which does not satisfy the saturation condition XS (2.70 or less).

このように、保護膜付レンズ1におけるレンズ基2とコーティング材Cの各屈折率は、図22に示すように、屈折率の条件を満たしているが、硝材Aとコーティング材Cの組合わせ、又は成膜処理によるコーティング材Cの膜厚(物理膜厚〔nm〕)により彩度条件XSを異ならせた場合には、目的の保護膜付レンズ1を得ることができないことを確認できる。 In this way, the refractive indexes of the lens base 2 and the coating material C in the protective film-equipped lens 1 satisfy the refractive index conditions as shown in FIG. 22, but the combination of the glass material A and the coating material C, Alternatively, if the saturation condition XS is varied depending on the film thickness (physical film thickness [nm]) of the coating material C by the film forming process, it can be confirmed that the desired lens 1 with a protective film cannot be obtained.

次に、本実施形態に係るレンズの成膜方法、即ち、保護膜付レンズ1の製造方法について、各図を参照しつつ、図1に示すフローチャートに従って説明する。 Next, a method for forming a lens according to the present embodiment, that is, a method for manufacturing a lens 1 with a protective film, will be described according to the flowchart shown in FIG. 1 with reference to each figure.

最初に、使用する未成膜のレンズ基2の屈折率を1.40-2.10の範囲から選定する(ステップS1)。例えば、図5に示す硝材A,B,Cはいずれもこの屈折率の条件を満たすため、特性上の優劣は生じるものの、レンズ基2の材料として選択可能である。 First, the refractive index of the unformed lens base 2 to be used is selected from the range of 1.40 to 2.10 (step S1). For example, since the glass materials A, B, and C shown in FIG. 5 all satisfy this refractive index condition, they can be selected as the material for the lens base 2, although their characteristics may be superior or inferior.

次いで、レンズ基2の反射率Mf、即ち、光Rを垂直入力したときの第一反射率Mfを、図3に示した測定系により測定する(ステップS2)。この場合、光Rに対する380-780〔nm〕の光波長域の全範囲で行うことが望ましい。そして、測定した第一反射率Mfは、所定の記憶手段に少なくとも一時登録する(ステップS3)。 Next, the reflectance Mf of the lens base 2, that is, the first reflectance Mf when the light R is vertically inputted, is measured using the measurement system shown in FIG. 3 (step S2). In this case, it is desirable to carry out the process over the entire optical wavelength range of 380-780 [nm] for the light R. Then, the measured first reflectance Mf is at least temporarily registered in a predetermined storage means (step S3).

また、レンズ基2の彩度Sf、即ち、D65標準光源からの光Rを照射したときの反射光(測定光Rm)からL*a*b*色空間における、未成膜のレンズ基2における第一彩度Sfを測定する(ステップS4)。そして、測定した第一彩度Sfは、所定の記憶手段に少なくとも一時登録する(ステップS5)。 In addition, the chroma Sf of the lens base 2, that is, the reflected light (measurement light Rm) when irradiated with the light R from the D65 standard light source, in the L*a*b* color space, One chroma saturation Sf is measured (step S4). Then, the measured first chroma Sf is at least temporarily registered in a predetermined storage means (step S5).

次いで、使用するコーティング材Cを選択する(ステップS6)。この場合、コーティング材Cの屈折率は、1.20-2.50の範囲から選定する。例えば、前述した図5に示したコーティング材C、具体的には、チタン酸ランタンやアルミナは、いずれもこの屈折率の条件を満たすため、特性上の優劣は生じるもののいずれも選択可能である。 Next, the coating material C to be used is selected (step S6). In this case, the refractive index of the coating material C is selected from the range of 1.20-2.50. For example, the coating material C shown in FIG. 5 described above, specifically lanthanum titanate and alumina, all satisfy this refractive index condition, so any of them can be selected, although they may have better or worse properties.

この後、レンズ基2を、図示を省略した所定の成膜装置にセットして成膜処理を行う(ステップS7)。なお、成膜処理には、公知の成膜生成法、具体的には、湿式成膜法,真空蒸着法,CVD法,ALD法等の公知の手法を用いることができる。この場合、前述したように、成膜処理時における膜厚の制御は、屈折率ndが1.523(厚み:1.35〔mm〕)の硝材を用いた平板を一緒に成膜処理する。そして、この平板に光Rを垂直入射し、その反射光Rm(監視波長)の第二反射率Ms(光量)の大きさを測定することにより膜厚の制御を行う。この後、予め設定した第二反射率Ms(光量)、即ち、終了条件に達したなら成膜処理を終了させる(ステップS8,S9)。これにより目的の成膜層3mを設けたレンズ1mを得ることができる。 Thereafter, the lens base 2 is set in a predetermined film forming apparatus (not shown) and a film forming process is performed (step S7). Note that for the film forming process, a known film forming method, specifically, a known method such as a wet film forming method, a vacuum evaporation method, a CVD method, an ALD method, etc., can be used. In this case, as described above, to control the film thickness during the film forming process, a flat plate made of a glass material having a refractive index nd of 1.523 (thickness: 1.35 [mm]) is also formed. Then, the film thickness is controlled by vertically making light R incident on this flat plate and measuring the magnitude of the second reflectance Ms (amount of light) of the reflected light Rm (monitoring wavelength). Thereafter, when the preset second reflectance Ms (light amount), that is, the termination condition is reached, the film forming process is terminated (steps S8 and S9). As a result, a lens 1m provided with the desired film-forming layer 3m can be obtained.

成膜処理の終了したレンズ1mは、図3に示す所定の測定系にセットし、第二反射率Msを測定する(ステップS10)。第二反射率Msが得られたなら、一時登録されている第一反射率Mfとの差Mdを求める(ステップS11)。そして、差Mdが明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たすか否か判定する(ステップS12)。この際、満たしていない場合には不良品として処理する(ステップS13)。 The lens 1m for which the film formation process has been completed is set in a predetermined measurement system shown in FIG. 3, and the second reflectance Ms is measured (step S10). Once the second reflectance Ms has been obtained, the difference Md from the temporarily registered first reflectance Mf is determined (step S11). Then, it is determined whether the difference Md satisfies the brightness condition XL (9.50 [%] or less) (step S12). At this time, if the conditions are not met, the product is treated as defective (step S13).

一方、明るさ条件XLを満たしている場合には、第二彩度Ssの測定を行う(ステップS14)。第二彩度Ssが得られたなら、一時登録されている第一彩度Sfとの差Sdを求める(ステップS15)。この差Sdは、前述した[数1]を用いて算出(演算)する。そして、差Sdが彩度条件XS(2.70以下)を満たすか否か判定する(ステップS16)。この際、満たしていない場合には不良品として処理する(ステップS13)。彩度条件XSを満たしている場合には良品とし、さらに追加の層を設ける場合には同様の処理を行う(ステップS17,S7…)。他方、成膜処理による層生成を終了させる場合には、外観検査等の検査処理を行い製造を終了する(ステップS17)。これにより、目的の保護膜付レンズ1を得ることができる。 On the other hand, if the brightness condition XL is satisfied, second saturation Ss is measured (step S14). Once the second saturation Ss is obtained, the difference Sd from the temporarily registered first saturation Sf is determined (step S15). This difference Sd is calculated (operated) using the above-mentioned [Equation 1]. Then, it is determined whether the difference Sd satisfies the saturation condition XS (2.70 or less) (step S16). At this time, if the conditions are not met, the product is treated as defective (step S13). If the saturation condition XS is satisfied, it is determined to be a good product, and if an additional layer is provided, similar processing is performed (steps S17, S7, etc.). On the other hand, if layer formation by the film forming process is to be terminated, an inspection process such as a visual inspection is performed and the manufacturing is terminated (step S17). Thereby, the desired lens 1 with a protective film can be obtained.

このように、本実施形態に係るレンズの成膜方法(保護膜付レンズ1)によれば、基本的な手法及び構成により、屈折率を1.40-2.10の範囲から選定したレンズ基2を使用し、かつコーティング材Cの屈折率を1.20-2.50の範囲から選定するとともに、レンズ基2自身の第一反射率Mfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二反射率Msを測定することにより、第一反射率Mfと第二反射率Msの差Mdが380-780〔nm〕の光波長域で9.50〔%〕以下となる明るさ条件XLを満たし、かつD65標準光源からの光Rを照射したときのL*a*b*色空間における、レンズ基2自身の第一彩度Sfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二彩度Ssを測定することにより、第一彩度Sfと第二彩度Ssの差Sdが2.70以下となる彩度条件XSを満たすようにコーティング材Cの成膜処理を行うことにより保護膜3を設けるようにしたため、レンズ基2に対する成膜処理(成膜制御)を容易に行うことができるなど、コーティング(成膜)の無い状態に近い保護膜3を設けることができるとともに、均質性の高い保護膜3を生成することができる。これにより、目的の保護膜付レンズ1、即ち、レンズ基2に対する必要な保護機能を確保できることに加え、描写効果に利用できる良好なゴースト・フレアを発生させることができる保護膜付レンズ1を得ることができる。 As described above, according to the lens film forming method (protective film-equipped lens 1) according to the present embodiment, a lens base whose refractive index is selected from the range of 1.40 to 2.10 can be formed using the basic method and configuration. 2, and the refractive index of the coating material C is selected from the range of 1.20-2.50, and the first reflectance Mf of the lens base 2 itself and the coating layer of the coating material C on this lens base 2 are selected. By measuring the second reflectance Ms with a distance of 3 m, the difference Md between the first reflectance Mf and the second reflectance Ms is 9.50 [%] or less in the optical wavelength range of 380-780 [nm]. The first chroma Sf of the lens base 2 itself and the coating material on this lens base 2 in the L*a*b* color space when the brightness condition XL is satisfied and the light R from the D65 standard light source is irradiated. By measuring the second chroma Ss with 3 m of film-formed layer of C formed, the chroma saturation condition XS such that the difference Sd between the first chroma Sf and the second chroma Ss is 2.70 or less is satisfied. Since the protective film 3 is provided by applying the coating material C to the lens base 2, it is possible to easily perform the film formation process (film formation control) on the lens base 2. It is possible to provide a protective film 3 that is close to the above, and also to produce a highly homogeneous protective film 3. As a result, a lens 1 with a protective film that can not only ensure the necessary protection function for the target lens 1 with a protective film, that is, the lens base 2, but also generate good ghost flare that can be used for depiction effects, is obtained. be able to.

以上、各種実施例及び参考例を含む好適実施形態について詳細に説明したが、本発明は、このような実施形態に限定されるものではなく、細部の構成,形状,素材,数量,数値,方法等において、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、任意に変更,追加,削除することができる。 Although preferred embodiments including various examples and reference examples have been described in detail above, the present invention is not limited to such embodiments, and the present invention is not limited to detailed configurations, shapes, materials, quantities, numerical values, and methods. etc., any changes, additions, or deletions may be made without departing from the gist of the present invention.

例えば、レンズ基2は、各種硝材を利用した例を示したが、他の各種硝材(ガラス材)をはじめ、各種プラスチック材を使用する場合を排除するものではない。また、コーティング材Cも、実施例で例示したコーティング材をはじめ、他の各種コーティング材を適用することができる。特に、例示のコーティング材は、光学膜材を利用した場合を示したが、光学膜材以外のコーティング材であって、本発明と同様の効果を奏し得る各種コーティング材を適用することができる。さらに、所定の光波長域には380-780〔nm〕を適用することが望ましいが、この光波長域以外の光波長域の適用を排除するものではない。一方、明るさ条件XLに、レンズ面2fに垂直となる入射光Rに対する反射率Mf,Msを用いる条件,また、彩度条件XSに、レンズ面2fに対して垂直に入射する光Rの反射光を測定光Rmとして用いる条件、は必須の構成要件となるものではない。 For example, the lens base 2 has been shown as an example using various glass materials, but this does not preclude the use of various other glass materials or various plastic materials. Further, as the coating material C, various other coating materials including the coating materials exemplified in the examples can be applied. In particular, although the example coating material used is an optical film material, it is possible to apply various coating materials other than optical film materials that can produce the same effects as the present invention. Furthermore, although it is desirable to apply 380-780 [nm] to the predetermined optical wavelength range, this does not preclude application of optical wavelength ranges other than this optical wavelength range. On the other hand, the brightness condition XL is a condition in which the reflectance Mf, Ms for the incident light R perpendicular to the lens surface 2f is used, and the saturation condition XS is the reflection of the light R perpendicular to the lens surface 2f. The conditions for using the light as the measurement light Rm are not essential constituent requirements.

本発明に係るレンズの成膜方法(保護膜付レンズ)は、カメラ等に使用する各種レンズに利用ことができる。 The method for forming a lens (lens with a protective film) according to the present invention can be used for various lenses used in cameras and the like.

1:保護膜付レンズ,2:レンズ基,2f:レンズ面,3:保護膜,3m:成膜層,(3ma):一層,(3ma,3mb…):二層以上,C:コーティング材,R:入射光(入射する光),Rm:測定光,a*:aスター,b*:bスター 1: lens with protective film, 2: lens base, 2f: lens surface, 3: protective film, 3m: film forming layer, (3ma): one layer, (3ma, 3mb...): two or more layers, C: coating material, R: incident light (incident light), Rm: measurement light, a*: a star, b*: b star

Claims (9)

レンズ基のレンズ面に所定のコーティング材の保護膜を設けるレンズの成膜方法であって、屈折率を1.40-2.10の範囲から選定した前記レンズ基を使用し、かつ前記コーティング材の屈折率を1.20-2.50の範囲から選定するとともに、前記レンズ基自身の第一反射率とこのレンズ基に前記コーティング材の成膜層を設けた状態の第二反射率を測定することにより、前記第一反射率と前記第二反射率の差が所定の光波長域で9.50〔%〕以下となる明るさ条件を満たし、かつD65標準光源からの光を照射したときのL*a*b*色空間における、前記レンズ基自身の第一彩度とこのレンズ基に前記コーティング材の成膜層を設けた状態の第二彩度を測定することにより、前記第一彩度と前記第二彩度の差が2.70以下となる彩度条件を満たすように前記コーティング材の成膜処理を行うことにより保護膜を設けることを特徴とするレンズの成膜方法。 A method for forming a lens film in which a protective film of a predetermined coating material is provided on a lens surface of a lens base, the lens base having a refractive index selected from a range of 1.40 to 2.10, and the coating material Select a refractive index from the range of 1.20 to 2.50, and measure the first reflectance of the lens base itself and the second reflectance of the lens base with a film formed layer of the coating material. By doing so, when the brightness condition is satisfied such that the difference between the first reflectance and the second reflectance is 9.50 [%] or less in a predetermined light wavelength range, and when irradiated with light from a D65 standard light source. By measuring the first chroma of the lens base itself and the second chroma of the lens base provided with the coating layer of the coating material in the L*a*b* color space, A method of forming a lens film, characterized in that a protective film is provided by performing a film forming process of the coating material so that the difference between the chroma and the second chroma saturation satisfies a chroma condition of 2.70 or less. 前記所定の光波長域は、380-780〔nm〕の波長域であることを特徴とする請求項1記載のレンズの成膜方法。 2. The lens film forming method according to claim 1, wherein the predetermined light wavelength range is a wavelength range of 380-780 [nm]. 前記明るさ条件は、前記レンズ面に垂直となる入射光に対する反射率を用いることを特徴とする請求項1記載のレンズの成膜方法。 2. The method of forming a film for a lens according to claim 1, wherein the brightness condition uses a reflectance for incident light perpendicular to the lens surface. 前記彩度条件は、前記レンズ面に対して垂直に入射する光の反射光を測定光として用いることを特徴とする請求項1記載のレンズの成膜方法。 2. The lens film forming method according to claim 1, wherein the saturation condition uses reflected light of light incident perpendicularly to the lens surface as measurement light. 前記彩度条件は、前記第一彩度と前記第二彩度の差を求めるに際し、前記L*a*b*色空間におけるa*とb*の差を用いることを特徴とする請求項1記載のレンズの成膜方法。 2. The saturation condition is characterized in that, when determining the difference between the first saturation and the second saturation, the difference between a* and b* in the L*a*b* color space is used. The method for forming the lens mentioned above. 前記コーティング材の成膜処理は、成膜層として、少なくとも一層設けることを特徴とする請求項1記載のレンズの成膜方法。 2. The lens film forming method according to claim 1, wherein the film forming process of the coating material includes providing at least one film forming layer. 前記成膜層は、二層以上設けるに際して、全体が前記明るさ条件及び前記彩度条件を満たすことを条件に前記成膜層を追加することを特徴とする請求項6記載のレンズの成膜方法。 7. The lens forming layer according to claim 6, wherein when two or more of the film forming layers are provided, the film forming layer is added on the condition that the entire film satisfies the brightness condition and the saturation condition. Method. レンズ基のレンズ面に所定のコーティング材の保護膜を設けた保護膜付レンズであって、前記レンズ基の屈折率が1.40-2.10の範囲になり、かつ前記コーティング材の屈折率が1.20-2.50の範囲になるとともに、前記レンズ基自身の第一反射率とこのレンズ基に前記コーティング材の成膜層を設けた状態の第二反射率の差が所定の光波長域で9.50〔%〕以下となる明るさ条件を満たし、かつD65標準光源からの光を照射したときのL*a*b*色空間における、前記レンズ基自身の第一彩度とこのレンズ基に前記コーティング材の成膜層を設けた状態の第二彩度の差が2.70以下となる彩度条件を満たす保護膜を設けてなることを特徴とする保護膜付レンズ。 A lens with a protective film in which a protective film of a predetermined coating material is provided on the lens surface of a lens base, wherein the refractive index of the lens base is in the range of 1.40 to 2.10, and the refractive index of the coating material is is in the range of 1.20-2.50, and the difference between the first reflectance of the lens base itself and the second reflectance of the lens base with the coating layer formed on the coating material The first chroma of the lens base itself in the L*a*b* color space when the brightness condition is 9.50 [%] or less in the wavelength range and is irradiated with light from a D65 standard light source. A lens with a protective film, characterized in that the lens base is provided with a protective film that satisfies the saturation condition such that the difference in second saturation is 2.70 or less when the deposited layer of the coating material is provided on the lens base. 前記コーティング材は、光学膜材を含むことを特徴とする請求項8記載の保護膜付レンズ。 9. The lens with a protective film according to claim 8, wherein the coating material includes an optical film material.
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