JP2023175286A - Film formation method of lens and protection film-attached lens - Google Patents
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Abstract
【課題】 均質性の高い保護膜を生成し、レンズ基に対する必要な保護機能を確保するとともに、描写効果に利用できる良好なゴースト・フレアを発生させる。【解決手段】 レンズ基2の屈折率が1.40-2.10の範囲になり、かつコーティング材Cの屈折率が1.20-2.50の範囲になるとともに、レンズ基2自身の第一反射率Mfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二反射率Msの差Mdが所定の光波長域で9.50〔%〕以下となる明るさ条件XLを満たし、かつD65標準光源からの光Rを照射したときのL*a*b*色空間における、レンズ基2自身の第一彩度Sfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二彩度Ssの差Sdが2.70以下となる彩度条件XSを満たす保護膜3を設ける。【選択図】 図1[Problem] To generate a highly homogeneous protective film, ensure the necessary protection function for the lens base, and generate good ghost and flare that can be used for rendering effects. [Solution] The refractive index of the lens base 2 is in the range of 1.40-2.10, the refractive index of the coating material C is in the range of 1.20-2.50, and the lens base 2 itself has a refractive index of 1.40-2.10. Brightness conditions such that the difference Md between the first reflectance Mf and the second reflectance Ms when the lens base 2 is coated with 3 m of film-formed layer of coating material C is 9.50% or less in a predetermined light wavelength range. XL and the first chroma Sf of the lens base 2 itself in the L*a*b* color space when irradiated with light R from a D65 standard light source and the film formed layer of the coating material C on this lens base 2. A protective film 3 is provided that satisfies the saturation condition XS such that the difference Sd in the second saturation Ss is 2.70 or less. [Selection diagram] Figure 1
Description
本発明は、レンズ自身の表面に保護膜を設ける際に用いて好適なレンズの成膜方法及び当該保護膜を設けた保護膜付レンズに関する。 The present invention relates to a lens film forming method suitable for use in providing a protective film on the surface of the lens itself, and a lens with a protective film provided with the protective film.
一般に、カメラにより撮影する場合、太陽や天井灯等の強い光が無用なゴースト・フレアとなって写り込む問題があるため、レンズの表面に反射防止用のコーティング膜、特に、屈折率を考慮した多層構造の反射防止膜を付すことにより、ゴースト・フレアの原因となる不要な反射光を低減させている。 Generally, when taking pictures with a camera, there is a problem that strong light from the sun or ceiling lights appears in the image as unnecessary ghosts and flares. By applying a multilayer anti-reflection coating, unnecessary reflected light that causes ghost and flare is reduced.
従来、このような反射防止膜を付したレンズとしては、特許文献1に記載される反射防止膜を有する交換レンズ,特許文献2に記載される反射防止性プラスチックレンズ,特許文献3に記載される反射防止層を有する合成樹脂性レンズが知られている。特許文献1の反射防止膜を有する交換レンズは、中屈折率ガラスにおいて優れた透過率特性を有し、フレアやゴースト等の発生が少なく、かつ優れた耐擦傷性及びヤケ防止効果を有する均一な反射防止膜を有する交換レンズの提供を目的としたものであり、具体的には、基材上に、第1層~第3層を基材側から積層してなる反射防止膜であって、波長領域400~700nmの光において、基材の屈折率が1.53以上1.60未満であり、第l層がアルミナを主成分とした光学膜厚25.0~250.0nmの緻密層であり、第2層が屈折率1.40~1.50,光学膜厚100.0~145.0nmの緻密層であり、第3層がメソポーラスシリカナノ粒子の集合体からなり、屈折率1.12~1.20,光学膜厚100.0~138.5nmの多孔質層により構成されたものである(なお、同文献1の光学膜厚は屈折率×物理膜厚)。
Conventionally, lenses with such an antireflection film include an interchangeable lens having an antireflection film described in
また、特許文献2の反射防止性プラスチックレンズは、薄く、軽量な高屈折率で、塗膜に干渉縞が見えず、反射色にムラやバラツキがなく、反射率の低い高性能な反射防止コートを有するレンズの提供を目的としたものであり、具体的には、所定式の芳香族化合物とイソチオシアナート化合物との重合体からなるプラスチックレンズと、所定式の有機ケイ素化合物またはその加水分解物、および五酸化アンチモンゾル等の酸化物のゾルの1種以上との硬化膜からなる有機ケイ素コーティング膜と、この膜上のチタン、ケイ素の酸化物を含む多層反射防止膜を備えたものである。
In addition, the anti-reflective plastic lens of
さらに、特許文献3の合成樹脂製レンズは、表面に被覆層を有する合成樹脂製レンズにおいて、レンズ表面に、変成メラミン系樹脂組成物およびイソチオシアナート化合物とからなるコーティング組成物から得られるハードコート膜が形成され、該ハードコート膜の上に金属酸化物からなる多層構造の反射防止膜が形成されたものである。
Further, the synthetic resin lens of
しかし、上述した従来における反射防止膜を付したレンズは、次のような問題点も存在した。 However, the above-mentioned conventional lenses provided with an antireflection film also have the following problems.
即ち、カメラにより撮影する場合、描写効果を高めるため、あえてゴースト・フレアを利用した撮影を行う場合もある。この場合、未コーティングのレンズを使用することにより実現可能になるが、前述した反射防止膜は、レンズ自身の変質及び劣化を防止してレンズを保護する機能も兼ね備えるため、未コーティングのレンズでは、これらの機能を確保できない問題を生じる。 That is, when photographing with a camera, there are cases in which ghost and flare are intentionally used to enhance the depiction effect. This can be achieved by using an uncoated lens, but since the anti-reflection film described above also has the function of protecting the lens by preventing deterioration and deterioration of the lens itself, with an uncoated lens, A problem arises in that these functions cannot be secured.
一方、反射防止膜の厚さを適切に設定、具体的には、より薄く設定することにより、レンズに対する必要な保護機能を確保するとともに、描写効果を確保できるある程度のゴースト・フレアを発生させることができれば、より望ましい保護膜付レンズを得ることが可能になるが、従来、このような機能を有する適切な保護膜付レンズは提供されていないのが実情である。 On the other hand, by appropriately setting the thickness of the anti-reflection film, more specifically, by setting it thinner, it is possible to ensure the necessary protection function for the lens and to generate a certain amount of ghost and flare that can ensure the rendering effect. If this could be done, it would be possible to obtain a more desirable lens with a protective film, but the reality is that no suitable lens with a protective film having such a function has been provided so far.
特に、膜厚を、ある程度厚く設ける場合には、バラツキの少ない均質なコーティング層を比較的容易に設けることができるが、膜厚が薄く、コーティングの無い状態に近い成膜層を設ける場合には、例えば、成膜処理する時間を極端に短くする必要があるなど、均質性の高い保護膜を生成するための成膜処理(成膜制御)は容易でない。 In particular, when the film thickness is set to a certain degree, it is relatively easy to form a homogeneous coating layer with little variation, but when the film thickness is thin and the film is almost uncoated For example, the film formation process (film formation control) for producing a highly homogeneous protective film is not easy, as it is necessary to extremely shorten the film formation time.
本発明は、このような背景技術に存在する課題を解決したレンズの成膜方法及び保護膜付レンズの提供を目的とするものである。 The object of the present invention is to provide a lens film forming method and a lens with a protective film that solve the problems existing in the background art.
本発明に係るレンズの成膜方法は、レンズ基2のレンズ面2fに所定のコーティング材Cの保護膜3を設けるに際し、屈折率を1.40-2.10の範囲から選定したレンズ基2を使用し、かつコーティング材Cの屈折率を1.20-2.50の範囲から選定するとともに、レンズ基2自身の第一反射率Mfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二反射率Msを測定することにより、第一反射率Mfと第二反射率Msの差Mdが所定の光波長域で9.50〔%〕以下となる明るさ条件XLを満たし、かつD65標準光源からの光Rを照射したときのL*a*b*色空間における、レンズ基2自身の第一彩度Sfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二彩度Ssを測定することにより、第一彩度Sfと第二彩度Ssの差Sdが2.70以下となる彩度条件XSを満たすようにコーティング材Cの成膜処理を行うことにより保護膜3を設けることを特徴とする。
In the method for forming a lens film according to the present invention, when providing a
また、本発明に係る保護膜付レンズ1は、未成膜のレンズ基2のレンズ面2fに所定のコーティング材Cの保護膜3を設けた保護膜付レンズを構成するに際して、レンズ基2の屈折率が1.40-2.10の範囲になり、かつコーティング材Cの屈折率が1.20-2.50の範囲になるとともに、レンズ基2自身の第一反射率Mfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二反射率Msの差Mdが所定の光波長域で9.50〔%〕以下となる明るさ条件XLを満たし、かつD65標準光源からの光Rを照射したときのL*a*b*色空間における、レンズ基2自身の第一彩度Sfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二彩度Ssの差Sdが2.70以下となる彩度条件XSを満たす保護膜3を設けてなることを特徴とする。
Further, in the
一方、本発明は、好適な態様により、所定の光波長域には380-780〔nm〕を適用することができる。また、成膜方法を実施するに際しては、明るさ条件XLに、レンズ面2fに垂直となる入射光Rに対する反射率Mf,Msを用いることができるとともに、彩度条件XSに、レンズ面2fに対して垂直に入射する光Rの反射光を測定光Rmとして用いることができる。さらに、彩度条件XSにおける第一彩度Sfと第二彩度Ssの差Sdを求めるに際しては、L*a*b*色空間におけるa*(aスター)とb*(bスター)の差を用いることができる。なお、コーティング材Cの成膜処理は、成膜層3mとして、少なくとも一層(3ma)設けることができる。この際、成膜層3mを二層以上(3ma,3mb…)設けるに際して、全体3mが明るさ条件XL及び彩度条件XSを満たすことを条件に成膜層(3mb…)を追加することができる。また、コーティング材Cには、光学膜材を含ませることができる。
On the other hand, according to a preferred embodiment of the present invention, 380-780 [nm] can be applied to the predetermined light wavelength range. In addition, when implementing the film forming method, the reflectance Mf, Ms for the incident light R perpendicular to the lens surface 2f can be used for the brightness condition XL, and the reflectance Mf, Ms for the incident light R perpendicular to the lens surface 2f can be used for the saturation condition XS. On the other hand, the reflected light of the light R that is perpendicularly incident can be used as the measurement light Rm. Furthermore, when calculating the difference Sd between the first saturation Sf and the second saturation Ss under the saturation condition XS, the difference between a* (a star) and b* (b star) in the L*a*b* color space is can be used. In addition, in the film forming process of the coating material C, at least one layer (3 ma) can be provided as a
このような本発明に係るレンズの成膜方法及び保護膜付レンズ1によれば、次のような顕著な効果を奏する。
According to the method for forming a lens film and the
(1) 成膜方法の実施に際しては、生成する成膜層3mの層厚を、明るさ条件XL及び彩度条件XSを利用して生成できるようにしたため、レンズ基2に対する成膜処理(成膜制御)を容易に行うことができるなど、コーティングの無い状態に近い保護膜3を設けることができるとともに、均質性の高い保護膜3を生成することができる。
(1) When implementing the film-forming method, the thickness of the film-forming
(2) 本発明に係る成膜方法を利用することにより目的の保護膜付レンズ1、即ち、レンズ基2に対する必要な保護機能を確保できることに加え、描写効果に利用できる良好なゴースト・フレアを発生させることができる保護膜付レンズ1を得ることができる。
(2) By using the film forming method according to the present invention, in addition to ensuring the necessary protection function for the
(3) 好適な態様により、所定の光波長域に、380-780〔nm〕を適用すれば、可視光線域の全体を網羅することができるため、レンズを使用したカメラ撮影等に要求される光学性能を確実に確保することができる。 (3) If 380-780 [nm] is applied to a predetermined light wavelength range according to a preferred embodiment, the entire visible light range can be covered, which is required for camera photography using a lens. Optical performance can be ensured.
(4) 好適な態様により、成膜方法の実施に際し、明るさ条件XLに、レンズ面2fに垂直となる入射光Rに対する反射率Mf,Msを用いれば、反射率測定に係わる正確な設定等を容易に行うことができるため、成膜処理に係わる容易性及び的確性、更には低コスト性及び迅速性の向上に寄与することができる。 (4) According to a preferred embodiment, when implementing the film forming method, if the reflectances Mf and Ms for the incident light R perpendicular to the lens surface 2f are used as the brightness condition XL, accurate settings related to reflectance measurement, etc. can be achieved. Since this can be easily performed, it can contribute to improving the ease and accuracy of the film forming process, as well as lower cost and speed.
(5) 好適な態様により、成膜方法の実施に際し、彩度条件XSに、レンズ面2fに対して垂直に入射する光Rの反射光を測定光Rmとして用いれば、彩度測定に係わる正確な設定等を容易に行うことができるため、成膜処理に係わる容易性及び的確性、更には低コスト性及び迅速性の向上に寄与することができる。 (5) According to a preferred embodiment, when implementing the film forming method, if the reflected light of the light R incident perpendicularly to the lens surface 2f is used as the measurement light Rm for the saturation condition XS, the accuracy regarding the saturation measurement can be improved. Since the settings and the like can be easily performed, it can contribute to improving the ease and accuracy of the film forming process, as well as lower cost and speed.
(6) 好適な態様により、彩度条件XSを得るに際し、L*a*b*色空間におけるa*とb*の差を用いれば、明るさに係わるL*(Lスター)は、反射率Mf,Msを用いた別途の明るさ条件XLにより得ることができるため、彩度条件XSは、a*とb*の差のみにより容易に設定することができる。 (6) According to a preferred embodiment, when obtaining the saturation condition XS, if the difference between a* and b* in the L*a*b* color space is used, L* (L star) related to brightness can be calculated as the reflectance Since it can be obtained by a separate brightness condition XL using Mf and Ms, the saturation condition XS can be easily set only by the difference between a* and b*.
(7) 好適な態様により、コーティング材Cの成膜処理では、少なくとも一層(3ma)の成膜層3mを設けることができる。即ち、明るさ条件XL及び彩度条件XSを満たすことを条件に成膜層3mを追加できるため、必要により二層(3a.3b…)以上設けることにより、成膜層3mの全体の層厚を設定する観点からその最適化を図ることができる。
(7) According to a preferred embodiment, in the film forming process of the coating material C, at least one (3 ma)
(8) 好適な態様により、コーティング材Cに、光学膜材を含ませれば、従来より広く使用されている公知の光学膜材を利用できるため、容易かつ低コストに実施することができる。 (8) By including an optical film material in the coating material C according to a preferred embodiment, it is possible to use a known optical film material that has been widely used in the past, so it can be implemented easily and at low cost.
次に、本発明に係る好適実施形態を挙げ、図面に基づき詳細に説明する。 Next, preferred embodiments of the present invention will be described in detail based on the drawings.
まず、同実施形態に係る保護膜付レンズ1の基礎的な概念について、図2-図5及び図9を参照して説明する。
First, the basic concept of the protective film-equipped
図2は、本実施形態に係る保護膜付レンズ1の一部を抽出した断面図を示す。保護膜付レンズ1は、レンズ基2のレンズ面2fに所定のコーティング材Cの保護膜3を成膜処理して得ることができる。なお、本明細書におけるレンズ基2は、保護膜3、即ち、成膜層3mを設けない未成膜の状態のレンズ自身を意味する。図2(a)は、保護膜3(成膜層3m)として、一層の成膜層3maを設けた保護膜付レンズ1を示すとともに、図2(b)は、保護膜3(成膜層3m)として、二層による成膜層3ma,3mbを設けた保護膜付レンズ1を示す。
FIG. 2 shows a partially extracted cross-sectional view of the protective film-equipped
このように、コーティング材Cを用いた成膜処理による成膜層3mを生成するに際しては、少なくとも一層の成膜層3maを設けることができる。即ち、成膜層3mは、一層の成膜層3maであってもよいし、二層(3ma.3mb…)以上による成膜層3mにより構成してもよい。したがって、後述する明るさ条件XL及び彩度条件XSを満たすことを条件に成膜層3mを追加することができるため、必要により二層(3ma.3mb…)以上設けることにより、成膜層3mの全体の層厚を設定する観点からその最適化を図ることができる。
In this manner, when forming the
ところで、本実施形態に係る保護膜付レンズ1は、未成膜(未コーティング)に近い薄い成膜層を設けることにより、レンズ基2の変質や劣化を防止するとともに、恰もコーティングの無いような描写撮影を可能にするものである。この場合、成膜層3mの層厚をできる限り薄い状態に生成することにより実現可能になるが、前述したように、成膜層3mを生成する場合、膜厚制御が困難になる問題を生じる。
By the way, the
そこで、本実施形態では、コーティング処理、即ち、成膜処理を行うに際し、レンズ基2の屈折率とコーティング材Cの屈折率の差が小さくなる所定の設定範囲を設けた。即ち、レンズ基2の屈折率とコーティング材Cの屈折率の差が小さい方が、成膜層3mを設ける場合におけるその前後の反射率(第一反射率Mfと第二反射率Ms)の差Mdを小さくすることができる。このため、レンズ基2の屈折率は、1.40-2.10の範囲から選定することが望ましいとともに、コーティング材Cの屈折率は、1.20-2.50の範囲から選定することが望ましい。
Therefore, in this embodiment, a predetermined setting range is provided in which the difference between the refractive index of the
また、成膜処理中の成膜状態を示す指標として、反射光Rmの明るさを利用した。具体的には、レンズ基2自身の第一反射率Mfと、このレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二反射率Msとを利用し、この第一反射率Mfと第二反射率Msの差Mdが、所定の光波長域で「9.50〔%〕以下」となる条件を設定した。このため、この差Mdが、9.50〔%〕を越えた場合には、ゴースト・フレアの明るさが未成膜のレンズ基2よりも明るく又は暗くなるため、良好なゴースト・フレアを得ることができない。
Furthermore, the brightness of the reflected light Rm was used as an index indicating the film formation state during the film formation process. Specifically, this first reflectance is determined by using the first reflectance Mf of the
したがって、この第一反射率Mfと第二反射率Msの差Mdが、9.50〔%〕以下となることが必要とする「明るさ条件XL」となる。明るさ条件XLの9.50〔%〕以下を満たすには、前述したレンズ基2自身の屈折率を1.40-2.10の範囲から選定する必要があり、また、コーティング材Cの屈折率が大きくなれば、反射率が高くなるため、コーティング材Cの屈折率の範囲は1.20-2.50の範囲から選定すればよい。このように、コーティング材Cの屈折率の選定(指定)が明るさについて指定したことと同じになる。
Therefore, the "brightness condition XL" requires that the difference Md between the first reflectance Mf and the second reflectance Ms be 9.50 [%] or less. In order to satisfy the brightness condition XL of 9.50% or less, it is necessary to select the refractive index of the
なお、所定の光波長域は、380-780〔nm〕を設定した。このように、所定の光波長域として、380-780〔nm〕を適用すれば、可視光線域の全体を網羅することができるため、レンズを使用したカメラ撮影等に要求される光学性能を確実に確保することができる。 Note that the predetermined light wavelength range was set to 380-780 [nm]. In this way, by applying 380-780 [nm] as the predetermined light wavelength range, it is possible to cover the entire visible light range, ensuring the optical performance required for camera photography using lenses, etc. can be secured.
さらに、明るさ条件XLには、図3に示すように、レンズ面2fに垂直となる入射光Rに対する反射率Mf,Msを用いた。これにより、反射率測定に係わる正確な設定等を容易に行うことができるため、成膜処理に係わる容易性及び的確性、更には低コスト性及び迅速性の向上に寄与することができる。 Furthermore, as shown in FIG. 3, the reflectances Mf and Ms of the incident light R perpendicular to the lens surface 2f were used for the brightness condition XL. As a result, accurate settings related to reflectance measurement can be easily performed, which can contribute to improving ease and accuracy, as well as cost reduction and speed, related to film formation processing.
この場合、成膜処理時における膜厚の制御は、屈折率ndが1.523(厚み:1.35〔mm〕)の硝材を用いた平板を一緒に成膜処理し、この平板に光Rを垂直入射し、その反射光Rmに係わる反射率Msの大きさを測定することにより制御を行った。なお、この際に測定する反射光Rmは、反射光をフィルタリングして得る特定の波長(後述する監視波長)となる。さらに、成膜処理前におけるこの平板の反射率は増幅して用いた。なお、以降の説明では、増幅した反射率を「光量」とし、成膜処理前の光量を「初期光量」とする。 In this case, to control the film thickness during the film forming process, a flat plate made of a glass material with a refractive index nd of 1.523 (thickness: 1.35 [mm]) is also formed, and the light R was perpendicularly incident, and the control was performed by measuring the magnitude of the reflectance Ms related to the reflected light Rm. Note that the reflected light Rm measured at this time has a specific wavelength (monitoring wavelength described later) obtained by filtering the reflected light. Furthermore, the reflectance of this flat plate before the film forming process was amplified and used. In the following description, the amplified reflectance will be referred to as the "light amount" and the light amount before the film forming process will be referred to as the "initial light amount."
反射率を増幅させる理由は、次のとおりである。未成膜の平板の場合、反射率は8〔%〕程度となる。このため、例示の場合には、2.5倍程度の増幅を行った。図4に示すように、初期光量を設定する場合、初期光量が大きいほど光量の変化が大きくなる。即ち、図4に示す特性線P1のように、初期光量が小さすぎた場合、光量の変化も小さくなり、他方、特性線P3のように、初期光量が大きすぎた場合、最大となる光量は100〔%〕を越えてしまう。したがって、特性線P2のように、最大となる光量が100〔%〕を越えない程度の大きい値に設定することが望ましく、本実施形態では、適切と思われる2.5倍程度に設定した。 The reason for amplifying the reflectance is as follows. In the case of a flat plate with no film formed, the reflectance is about 8%. Therefore, in the illustrated case, amplification of about 2.5 times was performed. As shown in FIG. 4, when setting the initial light amount, the larger the initial light amount, the greater the change in the light amount. That is, as shown in the characteristic line P1 shown in FIG. 4, if the initial light amount is too small, the change in light amount will also be small; on the other hand, if the initial light amount is too large, as shown in the characteristic line P3, the maximum light amount will be It exceeds 100%. Therefore, as shown in the characteristic line P2, it is desirable to set the maximum light amount to a large value that does not exceed 100%, and in this embodiment, it is set to about 2.5 times, which is considered appropriate.
また、成膜処理において、成膜処理中の制御及び成膜処理を終了させるタイミングに関しては、光量の変化がより大きい波長部分(監視波長)が制御し易いため、初期光量の設定及び監視波長の大きさを図5に示すように設定した。 In addition, in the film formation process, regarding control during the film formation process and the timing to end the film formation process, it is easier to control the wavelength portion (monitoring wavelength) where the change in light intensity is larger, so it is easier to control the initial light intensity setting and the monitoring wavelength. The size was set as shown in FIG.
一方、色味に関しては、D65標準光源からの光Rを照射したときのL*a*b*色空間における、レンズ基2自身の第一彩度Sfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二彩度Ssを使用し、この第一彩度Sfと第二彩度Ssの差Sdが2.70以下となる条件により設定した。したがって、この「2.70以下」の条件を満たすことが「彩度条件XS」となる。なお、この差Sdが、2.70を越えた場合、ゴースト・フレアの色味(彩度)が未成膜のレンズ基2よりも異なるものとなり、良好なゴースト・フレアを得ることができない。
On the other hand, regarding the color, the first chroma Sf of the
この場合、彩度条件XSには、図3に示すように、レンズ面2fに対して垂直に入射する光Rの反射光を測定光Rmとして用いる。これにより、彩度測定に係わる正確な設定等を容易に行うことができるため、成膜処理に係わる容易性及び的確性、更には低コスト性及び迅速性の向上に寄与することができる。 In this case, for the saturation condition XS, as shown in FIG. 3, the reflected light of the light R that is perpendicularly incident on the lens surface 2f is used as the measurement light Rm. As a result, accurate settings related to chroma measurement can be easily performed, which contributes to improvements in ease and accuracy, as well as low cost and speed, related to film formation processing.
さらに、彩度条件XSの第一彩度Sfと第二彩度Ssの差Sdを求めるに際しては、図9に示すように、L*a*b*色空間のa*とb*の差を用いた。この場合、明るさを示すL*(Lスター)は反射率を用いた別途の明るさ条件XLにより得られるため、彩度条件XSは、a*とb*の差のみにより容易に設定することができる。なお、彩度条件XSにより設定する第一彩度Sfと第二彩度Ssの差Sdは、[数1]の演算式により求めることができる。 Furthermore, when calculating the difference Sd between the first saturation Sf and the second saturation Ss of the saturation condition XS, the difference between a* and b* in the L*a*b* color space is calculated as shown in FIG. Using. In this case, since L* (L star) indicating brightness is obtained by a separate brightness condition XL using reflectance, the saturation condition XS can be easily set only by the difference between a* and b*. I can do it. Note that the difference Sd between the first saturation Sf and the second saturation Ss, which is set by the saturation condition XS, can be determined by the equation [Equation 1].
以上のように、設定した9.50〔%〕以下となる明るさ条件XLと、2.70以下となる彩度条件XSは、実験的に求めることができるとともに、これらの各条件を満たすように、レンズ基2の屈折率1.40-2.10の範囲と、コーティング材Cの屈折率1.20-2.50の範囲を決定することができる。
As described above, the brightness condition XL of 9.50 [%] or less and the saturation condition XS of 2.70 or less can be determined experimentally, and the settings are made to satisfy each of these conditions. Then, the range of the refractive index of the
図5に、本実施形態に係る保護膜付レンズ1におけるレンズ基2及びコーティング材Cの特性一覧表を示す。レンズ基2には、タイプの異なる硝材、特に、屈折率の異なる硝材A(nd:1.81),硝材B(nd:1.88),硝材C(nd:1.58)を使用し、それぞれを試料E1,E2,E3とした。また、コーティング材Cとしては、試料E1及びE2には、LaTiO3(チタン酸ランタン(nd:2.00))を使用するとともに、試料E3には、Al2O3(酸化アルミニウム(nd:1.63))を使用した。なお、コーティング材Cは、いずれも光学膜材Cmとして公知のものであるが、このような光学膜材Cmに限定されるものではなく、各種のコーティング材C、例えば、後述するMgF2(フッ化マグネシウム(nd:1.37))等の各種コーティング材Cを適用することができる。なお、コーティング材Cとして、光学膜材Cmを用いれば、従来より広く使用されている公知の光学膜材を利用できるため、容易かつ低コストに実施できる利点がある。その他、図5中、νdはレンズ基2のアッベ数を示す。
FIG. 5 shows a list of characteristics of the
したがって、図5に示す試料E1-E3は、いずれも、レンズ基2の屈折率が1.40-2.10の範囲にあるとともに、コーティング材Cの屈折率が1.20-2.50の範囲にあり、材料の選定に際しては試料E1-E3の中から選択可能である。 Therefore, in all of the samples E1 to E3 shown in FIG. When selecting the material, it is possible to select from samples E1 to E3.
次に、本実施形態に係る保護膜付レンズ1の概念に基づき、本実施形態に係る保護膜付レンズ1(及び成膜方法)の有効性の検証結果について、図6-図25を参照して説明する。
Next, based on the concept of the
図6-図25中、本実施形態に係る成膜方法により成膜処理して得られた保護膜付レンズの明るさ条件XL及び彩度条件XSを満たした実施例1-3の検証結果を、図6-図17に示すとともに、同成膜方法により成膜処理して得られた保護膜付レンズの明るさ条件XL又は彩度条件XSを満たさない場合を含む参考例1-2の検証結果を、図18-図25に示す。 In FIGS. 6 to 25, the verification results of Example 1-3 that satisfied the brightness condition XL and the saturation condition XS of the lens with a protective film obtained by the film formation process according to the film formation method according to the present embodiment are shown. , and verification of Reference Example 1-2, including cases where the brightness condition XL or the chroma condition XS of the lens with a protective film obtained by the film formation process using the same film formation method is not satisfied as shown in FIGS. 6 to 17. The results are shown in FIGS. 18-25.
実施例1の検証結果を図6-図9に示す。図6は、実施例1に係る保護膜付レンズ1の膜構成を示す。実施例1は、図5に示した試料E1を使用したものであり、レンズ基2に硝材Aを使用し、コーティング材Cにチタン酸ランタンを使用した。前述したように、レンズ基2及びコーティング材Cはいずれも保護膜付レンズ1に要求される屈折率の条件を満たしている。また、初期光量は20〔%〕に設定し、制御のために監視する光波長(監視波長)は500〔nm〕を用いた。なお、層数は1層である。
The verification results of Example 1 are shown in FIGS. 6-9. FIG. 6 shows the film structure of the protective film-equipped
図7に、実施例1の保護膜付レンズ1の測定結果のデータを示すとともに、図8に、同保護膜付レンズ1の、380-780〔nm〕の光波長域における測定角度θ(0〔゜〕,10〔゜〕,20〔゜〕)をパラメータにした反射率の変化特性を示す。なお、図8中、Dはレンズ基2の成膜した球面の中心に位置する測定位置を示すとともに、測定角度θは、光軸Fcからの測定位置Dを中心にした傾きを示す。
FIG. 7 shows the data of the measurement results of the
図7及び図8から明らかなように、反射率Mf,Msの差Mdの最大値は、測定角度0〔゜〕のときに9.35〔%〕、測定角度10〔゜〕のときに9.35〔%〕、測定角度20〔゜〕のときに9.30〔%〕となり、いずれの角度においても、明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たしている。 As is clear from FIGS. 7 and 8, the maximum value of the difference Md between the reflectances Mf and Ms is 9.35 [%] when the measurement angle is 0 [°] and 9.35 [%] when the measurement angle is 10 [°]. .35 [%], and 9.30 [%] when the measurement angle was 20 [°], satisfying the brightness condition XL (9.50 [%] or less) at any angle.
また、図9に、実施例1に係る保護膜付レンズ1の測定角度θをパラメータにしたa*とb*を用いた彩度の特性図を示す。図7及び図9から明らかなように、彩度Sf,Ssの差Sdは、測定角度0〔゜〕のときに1.13、測定角度10〔゜〕のときに1.22、測定角度20〔゜〕のときに1.58となり、いずれの角度においても、彩度条件XS(2.70以下)を満たしている。このように、実施例1は本発明に係る保護膜付レンズ1に要求される条件を全て満たしている。
Further, FIG. 9 shows a characteristic diagram of saturation using a* and b* with the measurement angle θ of the protective film-equipped
実施例2の検証結果を図10-図13に示す。図10は、実施例2に係る保護膜付レンズ1の膜構成を示す。実施例2は、図5に示した試料E2を使用したものであり、レンズ基2に、屈折率が稍高い硝材Bを使用し、コーティング材Cにチタン酸ランタンを使用した。前述したように、レンズ基2及びコーティング材Cはいずれも保護膜付レンズ1に要求される屈折率の条件を満たしている。なお、初期光量,監視波長,層数は実施例1と同じである。
The verification results of Example 2 are shown in FIGS. 10 to 13. FIG. 10 shows the film structure of the protective film-equipped
図11に、実施例2に係る保護膜付レンズ1の測定結果のデータを示すとともに、図12に、同保護膜付レンズ1の、380-780〔nm〕の光波長域における測定角度θ(0〔゜〕,10〔゜〕,20〔゜〕,30〔゜〕)をパラメータにした反射率の変化特性を示す。図11及び図12から明らかなように、反射率Mf,Msの差Mdの最大値は、測定角度0〔゜〕のときに6.86〔%〕、測定角度10〔゜〕のときに6.67〔%〕、測定角度20〔゜〕のときに6.98〔%〕、測定角度30〔゜〕のときに7.13〔%〕となり、いずれも明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たしている。
FIG. 11 shows the data of the measurement results of the
また、図13に、実施例2に係る保護膜付レンズ1の測定角度θをパラメータにしたa*とb*を用いた彩度の特性図を示す。図11及び図13から明らかなように、彩度Sf,Ssの差Sdは、測定角度0〔゜〕のときに0.88、測定角度10〔゜〕のときに1.16、測定角度20〔゜〕のときに1.51、測定角度30〔゜〕のときに2.47となり、いずれも彩度条件XS(2.70以下)を満たしている。
Further, FIG. 13 shows a characteristic diagram of saturation using a* and b* with the measurement angle θ of the protective film-equipped
このように、実施例2も本発明に係る保護膜付レンズ1に要求される条件を全て満たしている。実施例2の試料E2は、レンズ基2を選定する屈折率の条件、即ち、1.40-2.10の最大値付近に対応した検証結果となる。
In this way, Example 2 also satisfies all the conditions required for the protective film-equipped
実施例3の検証結果を図14-図17に示す。図14は、実施例3に係る保護膜付レンズ1の膜構成を示す。実施例3は、図5に示した試料E3を使用したものであり、レンズ基2に、実施例中、屈折率が最も低い硝材Cを使用し、コーティング材Cにアルミナを使用した。前述したように、レンズ基2及びコーティング材Cはいずれも保護膜付レンズ1に要求される屈折率の条件を満たしている。また、初期光量は60〔%〕に設定し、監視波長は480〔nm〕を用いた。なお、層数は1層である。
The verification results of Example 3 are shown in FIGS. 14-17. FIG. 14 shows the film structure of the protective film-equipped
図15に、実施例3に係る保護膜付レンズ1の測定結果のデータを示すとともに、図16に、同保護膜付レンズ1の、380-780〔nm〕の光波長域における測定角度θ(0〔゜〕,10〔゜〕,20〔゜〕,29〔゜〕)をパラメータにした反射率Mf,Msの変化特性を示す。図15及び図16から明らかなように、反射率の差Mdの最大値は、測定角度0〔゜〕のときに1.45〔%〕、測定角度10〔゜〕のときに1.36〔%〕、測定角度20〔゜〕のときに1.29〔%〕、測定角度29〔゜〕のときに1.56〔%〕となり、いずれも明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を十分に満たしている。
FIG. 15 shows the data of the measurement results of the
また、図17に、実施例3に係る保護膜付レンズ1の測定角度θをパラメータにしたa*とb*を用いた彩度の特性図を示す。図15及び図17から明らかなように、彩度Sf,Ssの差Sdは、測定角度0〔゜〕のときに0.34、測定角度10〔゜〕のときに0.02、測定角度20〔゜〕のときに0.11、測定角度29〔゜〕のときに0.13となり、いずれも彩度条件XS(2.70以下)を十分に満たしている。
Further, FIG. 17 shows a characteristic diagram of saturation using a* and b* using the measurement angle θ of the protective film-equipped
このように、実施例3は本発明に係る保護膜付レンズ1に要求される条件を全てにおいて十分に満たしている。したがって、実施例3の試料E3は、実施例中、最も小さい状態にあるため、実際の成膜処理においては、前述した図2(b)に示すように、多層に設けることも可能である。
[参考例1]
In this way, Example 3 fully satisfies all the conditions required of the protective film-equipped
[Reference example 1]
次に、参考例1に係る検証結果を図18-図21に示す。図18は、参考例1に係る保護膜付レンズ1の膜構成を示す。
Next, the verification results according to Reference Example 1 are shown in FIGS. 18 to 21. FIG. 18 shows the film structure of the protective film-equipped
参考例1は、各保護膜付レンズ1の明るさを異ならせた場合における検証結果を示す。即ち、レンズ基2に使用した硝材中、最も高い屈折率(nd:1.91)を有する硝材Dを使用するとともに、コーティング材Cとしてフッ化マグネシウム(nd:1.37)を使用した試料G1、コーティング材Cとしてアルミナ(nd:1.63)を使用した試料G2、コーティング材Cとしてチタン酸ランタン(nd:2.00)を使用した試料G3を用いた。なお、測定角度θは0〔゜〕に設定し、かつ初期光量をコーティング材Cの種類に対応して設定するとともに、制御のための監視波長は、試料G1を450〔nm〕、試料G2を480〔nm〕、試料G3を500〔nm〕にそれぞれ設定した。層数は1層である。
Reference Example 1 shows the verification results when the brightness of each
図19に、参考例1に係る保護膜付レンズ1の測定結果のデータを示すとともに、図20に、同保護膜付レンズ1の、380-780〔nm〕の光波長域における試料G1,G2,G3の反射率の変化特性を示す。図19及び図20から明らかなように、試料G1は、物理膜厚が92.34〔nm〕かつ光学膜厚(=(屈折率×物理膜厚)/波長)が0.25であり、反射率の差Mdの最大値は10.00〔%〕となり、明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たしていない。試料G2は、物理膜厚が78.30〔nm〕かつ光学膜厚が0.25であり、反射率の差Mdの最大値は7.47〔%〕となり、明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たしている。試料G3は、物理膜厚が62.96〔nm〕かつ光学膜厚が0.25であり、反射率の差Mdの最大値は3.39〔%〕となり、明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たしている。なお、
FIG. 19 shows the data of the measurement results of the
また、図21に、参考例1に係る保護膜付レンズ1のa*とb*を用いた彩度の特性図を示す。図19及び図21から明らかなように、彩度Mf,Msの差Sdにおいて、試料G1は11.14となり、彩度条件XS(2.70以下)を満たしていない。試料G2は3.75となり、彩度条件XS(2.70以下)を満たしていない。試料G3は1.54となり、彩度条件XS(2.70以下)を満たしている。
Further, FIG. 21 shows a characteristic diagram of saturation using a* and b* of the protective film-equipped
このように、保護膜付レンズ1に必要となるレンズ基2とコーティング材Cの各屈折率は、図18に示すように、屈折率の条件を満たしているが、硝材Dとコーティング材Cの組合わせ、又は成膜処理によるコーティング材Cの膜厚(物理膜厚〔nm〕)を異ならせた場合には、目的の保護膜付レンズ1を得ることができないことを確認できる。
[参考例2]
As shown in FIG. 18, the refractive indexes of the
[Reference example 2]
次に、参考例2に係る検証結果を図22-図25に示す。図22は、参考例2に係る保護膜付レンズ1の膜構成を示す。
Next, the verification results according to Reference Example 2 are shown in FIGS. 22-25. FIG. 22 shows the film structure of the protective film-equipped
参考例2は、レンズ基2に、図5に示した硝材A(nd:1.80)を使用するとともに、コーティング材Cとしてチタン酸ランタン(nd:2.00)を使用した。なお、測定角度θは0〔゜〕である。
In Reference Example 2, the glass material A (nd: 1.80) shown in FIG. 5 was used for the
特に、参考例2は、各保護膜付レンズ1の彩度を異ならせた場合における検証結果を示す。このため、試料G4は、物理膜厚を62.96〔nm〕かつ光学膜厚を0.25に、試料G5は、物理膜厚を125.92〔nm〕かつ光学膜厚を0.50に、試料G6は、物理膜厚を188.88〔nm〕かつ光学膜厚を0.75に、試料G7は、物理膜厚を251.84〔nm〕かつ光学膜厚を1.00に、それぞれ設定した。また、図25に、参考例2に係る保護膜付レンズ1のa*とb*を用いた彩度の特性図を示す。
In particular, Reference Example 2 shows the verification results when the chroma of each protective film-equipped
参考例2の場合、初期光量はコーティング材Cの種類に対応して設定するとともに、監視波長は、試料G4を500〔nm〕、試料G5を550〔nm〕、試料G6を450〔nm〕、試料G7を500〔nm〕にそれぞれ設定した。層数は1層である。 In the case of Reference Example 2, the initial light amount is set according to the type of coating material C, and the monitoring wavelengths are 500 [nm] for sample G4, 550 [nm] for sample G5, 450 [nm] for sample G6, Sample G7 was set at 500 [nm]. The number of layers is one.
図23-図25から明らかなように、試料G4は、反射率Mf,Msの差Mdの最大値が6.64〔%〕となり、明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たし、かつ彩度Sf,Ssの差Sdは1.62となり、彩度条件XS(2.70以下)を満たしている。これに対して、試料G5は、反射率Mf,Msの差Mdの最大値が7.18〔%〕となり、明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たすが、彩度Sf,Ssの差Sdは6.17となり、彩度条件XS(2.70以下)を満たしていない。試料G6は反射率Mf,Msの差Mdの最大値が6.47〔%〕となり、明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たすが、彩度Sf,Ssの差Sdは8.48となり、彩度条件XS(2.70以下)を満たしていない。試料G7は反射率Mf,Msの差Mdの最大値が7.35〔%〕となり、明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たすが、彩度Sf,Ssの差Sdは13.05となり、彩度条件XS(2.70以下)を満たしていない。 As is clear from FIGS. 23 to 25, sample G4 has a maximum value of the difference Md between the reflectances Mf and Ms of 6.64 [%], and satisfies the brightness condition XL (9.50 [%] or less). , and the difference Sd between the saturations Sf and Ss is 1.62, which satisfies the saturation condition XS (2.70 or less). On the other hand, in sample G5, the maximum value of the difference Md between the reflectances Mf and Ms is 7.18 [%] and satisfies the brightness condition XL (9.50 [%] or less), but the saturation Sf, The difference Sd between Ss is 6.17, which does not satisfy the saturation condition XS (2.70 or less). For sample G6, the maximum value of the difference Md between the reflectances Mf and Ms is 6.47 [%] and satisfies the brightness condition XL (9.50 [%] or less), but the difference Sd between the saturation Sf and Ss is 8. .48, which does not satisfy the saturation condition XS (2.70 or less). For sample G7, the maximum value of the difference Md between the reflectances Mf and Ms is 7.35 [%] and satisfies the brightness condition XL (9.50 [%] or less), but the difference Sd between the saturation Sf and Ss is 13 .05, which does not satisfy the saturation condition XS (2.70 or less).
このように、保護膜付レンズ1におけるレンズ基2とコーティング材Cの各屈折率は、図22に示すように、屈折率の条件を満たしているが、硝材Aとコーティング材Cの組合わせ、又は成膜処理によるコーティング材Cの膜厚(物理膜厚〔nm〕)により彩度条件XSを異ならせた場合には、目的の保護膜付レンズ1を得ることができないことを確認できる。
In this way, the refractive indexes of the
次に、本実施形態に係るレンズの成膜方法、即ち、保護膜付レンズ1の製造方法について、各図を参照しつつ、図1に示すフローチャートに従って説明する。
Next, a method for forming a lens according to the present embodiment, that is, a method for manufacturing a
最初に、使用する未成膜のレンズ基2の屈折率を1.40-2.10の範囲から選定する(ステップS1)。例えば、図5に示す硝材A,B,Cはいずれもこの屈折率の条件を満たすため、特性上の優劣は生じるものの、レンズ基2の材料として選択可能である。
First, the refractive index of the
次いで、レンズ基2の反射率Mf、即ち、光Rを垂直入力したときの第一反射率Mfを、図3に示した測定系により測定する(ステップS2)。この場合、光Rに対する380-780〔nm〕の光波長域の全範囲で行うことが望ましい。そして、測定した第一反射率Mfは、所定の記憶手段に少なくとも一時登録する(ステップS3)。
Next, the reflectance Mf of the
また、レンズ基2の彩度Sf、即ち、D65標準光源からの光Rを照射したときの反射光(測定光Rm)からL*a*b*色空間における、未成膜のレンズ基2における第一彩度Sfを測定する(ステップS4)。そして、測定した第一彩度Sfは、所定の記憶手段に少なくとも一時登録する(ステップS5)。
In addition, the chroma Sf of the
次いで、使用するコーティング材Cを選択する(ステップS6)。この場合、コーティング材Cの屈折率は、1.20-2.50の範囲から選定する。例えば、前述した図5に示したコーティング材C、具体的には、チタン酸ランタンやアルミナは、いずれもこの屈折率の条件を満たすため、特性上の優劣は生じるもののいずれも選択可能である。 Next, the coating material C to be used is selected (step S6). In this case, the refractive index of the coating material C is selected from the range of 1.20-2.50. For example, the coating material C shown in FIG. 5 described above, specifically lanthanum titanate and alumina, all satisfy this refractive index condition, so any of them can be selected, although they may have better or worse properties.
この後、レンズ基2を、図示を省略した所定の成膜装置にセットして成膜処理を行う(ステップS7)。なお、成膜処理には、公知の成膜生成法、具体的には、湿式成膜法,真空蒸着法,CVD法,ALD法等の公知の手法を用いることができる。この場合、前述したように、成膜処理時における膜厚の制御は、屈折率ndが1.523(厚み:1.35〔mm〕)の硝材を用いた平板を一緒に成膜処理する。そして、この平板に光Rを垂直入射し、その反射光Rm(監視波長)の第二反射率Ms(光量)の大きさを測定することにより膜厚の制御を行う。この後、予め設定した第二反射率Ms(光量)、即ち、終了条件に達したなら成膜処理を終了させる(ステップS8,S9)。これにより目的の成膜層3mを設けたレンズ1mを得ることができる。
Thereafter, the
成膜処理の終了したレンズ1mは、図3に示す所定の測定系にセットし、第二反射率Msを測定する(ステップS10)。第二反射率Msが得られたなら、一時登録されている第一反射率Mfとの差Mdを求める(ステップS11)。そして、差Mdが明るさ条件XL(9.50〔%〕以下)を満たすか否か判定する(ステップS12)。この際、満たしていない場合には不良品として処理する(ステップS13)。 The lens 1m for which the film formation process has been completed is set in a predetermined measurement system shown in FIG. 3, and the second reflectance Ms is measured (step S10). Once the second reflectance Ms has been obtained, the difference Md from the temporarily registered first reflectance Mf is determined (step S11). Then, it is determined whether the difference Md satisfies the brightness condition XL (9.50 [%] or less) (step S12). At this time, if the conditions are not met, the product is treated as defective (step S13).
一方、明るさ条件XLを満たしている場合には、第二彩度Ssの測定を行う(ステップS14)。第二彩度Ssが得られたなら、一時登録されている第一彩度Sfとの差Sdを求める(ステップS15)。この差Sdは、前述した[数1]を用いて算出(演算)する。そして、差Sdが彩度条件XS(2.70以下)を満たすか否か判定する(ステップS16)。この際、満たしていない場合には不良品として処理する(ステップS13)。彩度条件XSを満たしている場合には良品とし、さらに追加の層を設ける場合には同様の処理を行う(ステップS17,S7…)。他方、成膜処理による層生成を終了させる場合には、外観検査等の検査処理を行い製造を終了する(ステップS17)。これにより、目的の保護膜付レンズ1を得ることができる。
On the other hand, if the brightness condition XL is satisfied, second saturation Ss is measured (step S14). Once the second saturation Ss is obtained, the difference Sd from the temporarily registered first saturation Sf is determined (step S15). This difference Sd is calculated (operated) using the above-mentioned [Equation 1]. Then, it is determined whether the difference Sd satisfies the saturation condition XS (2.70 or less) (step S16). At this time, if the conditions are not met, the product is treated as defective (step S13). If the saturation condition XS is satisfied, it is determined to be a good product, and if an additional layer is provided, similar processing is performed (steps S17, S7, etc.). On the other hand, if layer formation by the film forming process is to be terminated, an inspection process such as a visual inspection is performed and the manufacturing is terminated (step S17). Thereby, the desired
このように、本実施形態に係るレンズの成膜方法(保護膜付レンズ1)によれば、基本的な手法及び構成により、屈折率を1.40-2.10の範囲から選定したレンズ基2を使用し、かつコーティング材Cの屈折率を1.20-2.50の範囲から選定するとともに、レンズ基2自身の第一反射率Mfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二反射率Msを測定することにより、第一反射率Mfと第二反射率Msの差Mdが380-780〔nm〕の光波長域で9.50〔%〕以下となる明るさ条件XLを満たし、かつD65標準光源からの光Rを照射したときのL*a*b*色空間における、レンズ基2自身の第一彩度Sfとこのレンズ基2にコーティング材Cの成膜層3mを設けた状態の第二彩度Ssを測定することにより、第一彩度Sfと第二彩度Ssの差Sdが2.70以下となる彩度条件XSを満たすようにコーティング材Cの成膜処理を行うことにより保護膜3を設けるようにしたため、レンズ基2に対する成膜処理(成膜制御)を容易に行うことができるなど、コーティング(成膜)の無い状態に近い保護膜3を設けることができるとともに、均質性の高い保護膜3を生成することができる。これにより、目的の保護膜付レンズ1、即ち、レンズ基2に対する必要な保護機能を確保できることに加え、描写効果に利用できる良好なゴースト・フレアを発生させることができる保護膜付レンズ1を得ることができる。
As described above, according to the lens film forming method (protective film-equipped lens 1) according to the present embodiment, a lens base whose refractive index is selected from the range of 1.40 to 2.10 can be formed using the basic method and configuration. 2, and the refractive index of the coating material C is selected from the range of 1.20-2.50, and the first reflectance Mf of the
以上、各種実施例及び参考例を含む好適実施形態について詳細に説明したが、本発明は、このような実施形態に限定されるものではなく、細部の構成,形状,素材,数量,数値,方法等において、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、任意に変更,追加,削除することができる。 Although preferred embodiments including various examples and reference examples have been described in detail above, the present invention is not limited to such embodiments, and the present invention is not limited to detailed configurations, shapes, materials, quantities, numerical values, and methods. etc., any changes, additions, or deletions may be made without departing from the gist of the present invention.
例えば、レンズ基2は、各種硝材を利用した例を示したが、他の各種硝材(ガラス材)をはじめ、各種プラスチック材を使用する場合を排除するものではない。また、コーティング材Cも、実施例で例示したコーティング材をはじめ、他の各種コーティング材を適用することができる。特に、例示のコーティング材は、光学膜材を利用した場合を示したが、光学膜材以外のコーティング材であって、本発明と同様の効果を奏し得る各種コーティング材を適用することができる。さらに、所定の光波長域には380-780〔nm〕を適用することが望ましいが、この光波長域以外の光波長域の適用を排除するものではない。一方、明るさ条件XLに、レンズ面2fに垂直となる入射光Rに対する反射率Mf,Msを用いる条件,また、彩度条件XSに、レンズ面2fに対して垂直に入射する光Rの反射光を測定光Rmとして用いる条件、は必須の構成要件となるものではない。
For example, the
本発明に係るレンズの成膜方法(保護膜付レンズ)は、カメラ等に使用する各種レンズに利用ことができる。 The method for forming a lens (lens with a protective film) according to the present invention can be used for various lenses used in cameras and the like.
1:保護膜付レンズ,2:レンズ基,2f:レンズ面,3:保護膜,3m:成膜層,(3ma):一層,(3ma,3mb…):二層以上,C:コーティング材,R:入射光(入射する光),Rm:測定光,a*:aスター,b*:bスター 1: lens with protective film, 2: lens base, 2f: lens surface, 3: protective film, 3m: film forming layer, (3ma): one layer, (3ma, 3mb...): two or more layers, C: coating material, R: incident light (incident light), Rm: measurement light, a*: a star, b*: b star
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