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JP2023091211A - Device chip manufacturing method and plate-like object - Google Patents

Device chip manufacturing method and plate-like object Download PDF

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JP2023091211A
JP2023091211A JP2021205836A JP2021205836A JP2023091211A JP 2023091211 A JP2023091211 A JP 2023091211A JP 2021205836 A JP2021205836 A JP 2021205836A JP 2021205836 A JP2021205836 A JP 2021205836A JP 2023091211 A JP2023091211 A JP 2023091211A
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JP
Japan
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wafer
plate
cutting
resin layer
cassette
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JP2021205836A
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茂 石井
Shigeru Ishii
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Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
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Publication date
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Abstract

To divide a wafer to produce device chips without using tape.SOLUTION: Provided is a device chip manufacturing method for dividing a wafer having a device in each region partitioned by a plurality of intersecting scheduled divide lines. This manufacturing method involves: holding the wafer with a jig chuck table that includes grooves formed at positions corresponding to the scheduled divide lines of the wafer and includes a suction hole in each of regions partitioned by the grooves; cutting the wafer being held by the jig chuck table along the scheduled divide lines with a rotating cutting blade to divide the wafer into individual device chips; drawing in and holding the top surface of the divided wafer with a suction pad; carrying out the wafer from the jig chuck table; placing the wafer drawn in and held by the suction pad on an organic resin layer of a plate-like object, with an organic resin layer having retention ability disposed on the surface of it; and accommodating the plate-like object having the wafer placed on it in a cassette.SELECTED DRAWING: Figure 7

Description

本発明は、切削装置において切削ブレードでウェーハを切削して分割し、ウェーハをカセットに収容して切削装置から搬出するデバイスチップの製造方法と、該デバイスチップの製造方法に使用可能な板状物に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing device chips by cutting and dividing a wafer with a cutting blade in a cutting machine, storing the wafers in a cassette and unloading them from the cutting machine, and a plate-like object that can be used in the method for manufacturing the device chips. Regarding.

携帯電話やコンピュータ等の電子機器に使用されるデバイスチップは、表面に複数のデバイスが配設されたウェーハをデバイス毎に分割することで形成される。半導体等の材料で構成されるウェーハを分割する際には、例えば、環状の切り刃(砥石部)を外周に有する切削ブレードを備える切削装置が使用される。切削装置のチャックテーブルで被加工物を保持し、高速に回転する切削ブレードを被加工物に対して切り込ませながら切削ブレードと被加工物とを相対的に移動させることで、被加工物を切削できる。 Device chips used in electronic equipment such as mobile phones and computers are formed by dividing a wafer on which a plurality of devices are arranged for each device. When dividing a wafer made of a material such as a semiconductor, for example, a cutting device having a cutting blade having an annular cutting edge (grindstone portion) on its outer periphery is used. The workpiece is held by the chuck table of the cutting device, and the cutting blade and the workpiece are moved relatively while the cutting blade rotating at high speed cuts into the workpiece. Can be cut.

切削装置に搬入されて切削されるウェーハは、このウェーハよりも径の大きな開口を有するリングフレームと、この開口を塞ぐようにリングフレームに貼られたテープと、と一体化され、予めフレームユニットが形成される。ウェーハがテープを介してリングフレームに支持されているとウェーハが衝撃等から保護され、搬送中に損傷が生じにくい。また、ウェーハが切削されて形成されたデバイスチップはそのままテープに支持されるため、デバイスチップの取り扱いも容易となる。複数のデバイスチップを含むフレームユニットは、カセットに収容されて切削装置から搬出される。 A wafer carried into the cutting device and cut is integrated with a ring frame having an opening with a diameter larger than that of the wafer, and a tape attached to the ring frame so as to block the opening, and the frame unit is attached in advance. It is formed. When the wafer is supported by the ring frame through the tape, the wafer is protected from impacts and the like, and is less likely to be damaged during transportation. Moreover, since the device chips formed by cutting the wafer are supported as they are on the tape, the device chips can be easily handled. A frame unit including a plurality of device chips is accommodated in a cassette and unloaded from the cutting apparatus.

近年、BGA(Ball Grid Array)やCSP(Chip Size Package)といったパッケージ技術が開発されている。これらの技術では、縦横に並べて配設された複数のデバイスチップを封止樹脂で封止してパッケージ基板を形成し、このパッケージ基板を切削してパッケージ化されたデバイスチップを製造する。パッケージ基板はウェーハよりも取り扱いが容易であるため、予めテープ及びリングフレームと一体化してフレームユニットを形成する必要性が低い。 In recent years, package technologies such as BGA (Ball Grid Array) and CSP (Chip Size Package) have been developed. In these techniques, a plurality of device chips arranged vertically and horizontally are sealed with a sealing resin to form a package substrate, and the package substrate is cut to manufacture packaged device chips. Since the package substrate is easier to handle than the wafer, it is less necessary to integrate the tape and ring frame in advance to form a frame unit.

テープを介さずにチャックテーブルに被加工物を載せて固定し、被加工物を切削して形成されたデバイスチップに直接接触して搬送し、デバイスチップを洗浄して所定のケースに収容する切削装置が知られている。この切削装置では、チャックテーブルがパッケージ基板の保持に適した構造を有する(特許文献1参照)。または、パッケージ基板の支持及び搬送に繰り返し使用可能な搬送トレイが使用される(特許文献2参照)。テープを使用せずにデバイスチップを製造すると、工程に要するコストが大幅に低減される。 A workpiece is placed and fixed on a chuck table without tape, the workpiece is conveyed in direct contact with a device chip formed by cutting the workpiece, and the device chip is cleaned and stored in a specified case. device is known. In this cutting apparatus, the chuck table has a structure suitable for holding the package substrate (see Patent Document 1). Alternatively, a transport tray that can be used repeatedly for supporting and transporting package substrates is used (see Patent Document 2). Fabricating the device chip without using tape greatly reduces the cost of the process.

特開2015―109325号公報JP 2015-109325 A 特開2012―144261号公報JP 2012-144261 A

最近、WLP(Wafer level package)と呼ばれるパッケージ技術が開発されている。この技術では、ウェーハの形態でパッケージの最終工程まで処理が進められるため、従来のウェーハと同等に慎重な取り扱いが必要となり、テープを使用しないプロセスの採用が難しい。 Recently, a package technology called WLP (Wafer level package) has been developed. With this technology, wafers are processed through to the final packaging process, requiring the same careful handling as conventional wafers, making it difficult to adopt processes that do not use tape.

特に、個片化された後のデバイスチップの取り扱いに注意が必要であるものの、有効なデバイスチップの搬送方法が未だ確立されていない。製造された複数のデバイスチップをそのままカセットに収容することもできない。そのため、従来の切削装置を使用してテープを使用した従来の方法にてデバイスチップを製造しなければならず、デバイスチップの製造コストの増大に繋がっていた。 In particular, care must be taken in handling device chips after they have been separated into individual pieces, but an effective method for transporting device chips has not yet been established. A plurality of manufactured device chips cannot be accommodated in a cassette as they are. Therefore, the device chip had to be manufactured by the conventional method using tape using a conventional cutting machine, leading to an increase in the manufacturing cost of the device chip.

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、テープを使用せず、製造されたデバイスチップの取り扱いが容易なデバイスチップの製造方法、及び該製造方法に使用可能な板状物を提供することである。 The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a device chip that does not use a tape and facilitates handling of the manufactured device chip, and a method for manufacturing the device chip. It is to provide a possible plate-like object.

本発明の一態様によれば、交差する複数の分割予定ラインによって区画された各領域にデバイスを有するウェーハを分割するデバイスチップの製造方法であって、該ウェーハの該分割予定ラインに対応する位置に形成された溝を備えると共に該溝によって区画された領域にそれぞれ吸引孔を備えた治具チャックテーブルで該ウェーハを保持する保持ステップと、該治具チャックテーブルで保持された該ウェーハを該分割予定ラインに沿って回転する切削ブレードで切削して該ウェーハを個々のデバイスチップに分割する切削ステップと、該切削ステップで分割された該ウェーハの上面を吸引パッドで吸引保持し、該治具チャックテーブルから該ウェーハを搬出する搬出ステップと、該吸引パッドで吸引保持された該ウェーハを、保持力を有する有機樹脂層が表面に配設された板状物の該有機樹脂層に載置する載置ステップと、該ウェーハが載置された該板状物をカセットに収容するカセット収容ステップと、を備えるデバイスチップの製造方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is provided a device chip manufacturing method for dividing a wafer having a device in each region partitioned by a plurality of intersecting dividing lines, wherein the positions of the wafer corresponding to the dividing lines a holding step of holding the wafer by a jig chuck table having a groove formed in the groove and having suction holes in regions partitioned by the groove; and dividing the wafer held by the jig chuck table. a cutting step of cutting the wafer into individual device chips by cutting with a cutting blade that rotates along a predetermined line; a carrying-out step of carrying out the wafer from the table; A device chip manufacturing method is provided that includes a placing step and a cassette accommodating step of accommodating the plate-shaped object on which the wafer is placed in a cassette.

好ましくは、該板状物は、該有機樹脂層よりも外側で該有機樹脂層の設けられていない露出領域を該表面に有し、該カセット収容ステップでは、該板状物の該露出領域を吸引または把持した状態で該カセットに該板状物を収容する。 Preferably, the plate-shaped object has an exposed region outside the organic resin layer on the surface where the organic resin layer is not provided, and in the step of housing the plate-shaped object, the exposed region of the plate-shaped object is The plate-like object is accommodated in the cassette while being sucked or gripped.

また、本発明の他の一態様によれば、ウェーハを支持できカセットに収容できる板状物であって、該ウェーハの幅よりも大きく、該カセットの収容空間の幅よりも小さい幅を有し、保持力を有する有機樹脂層を表面に有する板状物が提供される。 According to another aspect of the present invention, there is provided a plate-like object capable of supporting a wafer and being housed in a cassette, having a width larger than the width of the wafer and smaller than the width of the housing space of the cassette. , a plate having an organic resin layer thereon which has a holding power is provided.

好ましくは、該有機樹脂層よりも外側で該有機樹脂層の設けられていない露出領域を該表面に有する。 Preferably, the surface has an exposed region outside the organic resin layer where the organic resin layer is not provided.

本発明の一態様に係るデバイスチップの製造方法では、保持力を有する有機樹脂層が表面に配設された板状物が使用される。切削されてデバイスチップに分割されたウェーハを板状物の有機樹脂層の上に載置すると、ウェーハがこの有機樹脂層に保持される。このとき、個々のデバイスチップが有機樹脂層を介して板状物に安定的に支持される。そして、ウェーハを保持する板状物をカセットに収容し、カセットを搬送することでデバイスチップを容易に搬送できる。 In a method for manufacturing a device chip according to an aspect of the present invention, a plate-shaped object having an organic resin layer having holding power provided on its surface is used. When a wafer cut into device chips is placed on the organic resin layer of the plate, the wafer is held by the organic resin layer. At this time, the individual device chips are stably supported by the plate-like object via the organic resin layer. The device chips can be easily transported by housing the plate-like object holding the wafers in the cassette and transporting the cassette.

このように、保持力を有する有機樹脂層が表面に配設された板状物を使用すると、リングフレームに貼られるテープを使用する必要がない。また、板状物からウェーハ(デバイスチップ)を取り外すと、板状物は次のウェーハの保持に再利用可能である。そのため、テープを1度の使用で使い捨てる場合とは異なり、テープに要していた大きなコストがかからない。さらに、従来使用されてきたカセットに板状物を収容できると、板状物を収容するための新たなカセットを準備する必要がない。 In this way, the use of a plate having an organic resin layer having holding power on the surface eliminates the need to use a tape applied to the ring frame. Moreover, when the wafer (device chip) is removed from the plate-like object, the plate-like object can be reused to hold the next wafer. Therefore, unlike the case where the tape is used once and then discarded, the large cost required for the tape is not required. Furthermore, if the plate-like object can be accommodated in the conventionally used cassette, there is no need to prepare a new cassette for accommodating the plate-like object.

したがって、本発明の一態様によると、テープを使用せず、製造されたデバイスチップの取り扱いが容易なデバイスチップの製造方法、及び該製造方法に使用可能な板状物が提供される。 Therefore, according to one aspect of the present invention, there are provided a device chip manufacturing method that does not use a tape and allows easy handling of the manufactured device chip, and a plate-like object that can be used in the manufacturing method.

切削装置を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows a cutting device typically. 切削装置の治具チャックテーブルを模式的に示す平面図である。FIG. 4 is a plan view schematically showing a jig chuck table of the cutting device; 図3(A)は、保持ステップを模式的に示す断面図であり、図3(B)は、切削ステップを模式的に示す断面図である。FIG. 3A is a cross-sectional view schematically showing the holding step, and FIG. 3B is a cross-sectional view schematically showing the cutting step. 搬出ステップを模式的に示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a carry-out step; 板状物を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows a plate-shaped object typically. 載置ステップを模式的に示す断面図である。It is a sectional view showing a placement step typically. カセット収容ステップを模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows a cassette accommodation step typically. デバイスチップの製造方法の各ステップの流れを示すフローチャートである。4 is a flow chart showing the flow of each step of the device chip manufacturing method.

添付図面を参照して、本発明の一態様に係る実施形態について説明する。本実施形態に係るデバイスチップの製造方法では、交差する複数の分割予定ラインによって区画された各領域にデバイスを有するウェーハを切削装置で切削してデバイスチップを製造する。図7には、被加工物として切削装置で切削され分割されたウェーハ11を模式的に示す斜視図が含まれている。また、図3(A)には、分割される前のウェーハ11を模式的に示す断面図が含まれている。 An embodiment according to one aspect of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the device chip manufacturing method according to the present embodiment, a wafer having a device in each region partitioned by a plurality of intersecting dividing lines is cut by a cutting machine to manufacture device chips. FIG. 7 includes a perspective view schematically showing a wafer 11 cut and divided by a cutting device as a workpiece. FIG. 3A also includes a cross-sectional view schematically showing the wafer 11 before splitting.

切削装置で切削されるウェーハ11は、例えば、Si(シリコン)、SiC(シリコンカーバイド)、GaN(ガリウムナイトライド)、GaAs(ヒ化ガリウム)、若しくは、その他の半導体等の材料から形成される。ウェーハ11の表面11aには、IC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integration)等の複数のデバイスが形成されている。 The wafer 11 to be cut by the cutting machine is made of materials such as Si (silicon), SiC (silicon carbide), GaN (gallium nitride), GaAs (gallium arsenide), or other semiconductors. A plurality of devices such as ICs (Integrated Circuits) and LSIs (Large Scale Integrations) are formed on the front surface 11 a of the wafer 11 .

ウェーハ11は、例えば、各デバイスが図示しないモールド樹脂で封止されたパッケージ基板でもよい。パッケージ基板であるウェーハ11をデバイス毎に分割すると、パッケージされたデバイスチップ15を形成できる。ただし、切削装置2で切削されるウェーハ11はこれに限定されない。 The wafer 11 may be, for example, a package substrate in which each device is sealed with a mold resin (not shown). Packaged device chips 15 can be formed by dividing the wafer 11, which is a package substrate, into individual devices. However, the wafer 11 cut by the cutting device 2 is not limited to this.

ウェーハ11には互いに交差する複数の分割予定ライン13が設定され、分割予定ライン13によって区画された各領域にデバイスが形成される。そして、切削装置2で分割予定ライン13に沿ってウェーハ11を切削して加工溝13aを形成すると、ウェーハ11が個々のデバイスチップ15に分割される。 A plurality of dividing lines 13 that intersect each other are set on the wafer 11 , and devices are formed in respective regions partitioned by the dividing lines 13 . The wafer 11 is cut into individual device chips 15 by cutting the wafer 11 along the dividing lines 13 with the cutting device 2 to form the processed grooves 13a.

次に、本実施形態に係るデバイスチップの製造方法で使用される切削装置2について説明する。図1は、切削装置2を模式的に示す斜視図である。切削装置2は、各構成要素を支持する基台4を備える。基台4の中央には、X軸方向(加工送り方向)に沿って長い開口4aが形成されている。 Next, the cutting device 2 used in the device chip manufacturing method according to this embodiment will be described. FIG. 1 is a perspective view schematically showing the cutting device 2. FIG. The cutting device 2 includes a base 4 that supports each component. A long opening 4a is formed in the center of the base 4 along the X-axis direction (processing feed direction).

開口4aには、被加工物であるウェーハ11を吸引保持できる治具チャックテーブル10と、治具チャックテーブル10をX軸方向に沿って移動できるX軸移動機構(不図示)と、X軸移動機構を覆い保護する防塵防滴カバー8と、が設けられている。X軸移動機構(加工送りユニット)は、後述のY軸移動機構及びZ軸移動機構と同様にボールねじ式の移動機構により構成される。ただし、X軸移動機構はこれに限定されない。 In the opening 4a, there are provided a jig chuck table 10 capable of sucking and holding a wafer 11 as a workpiece, an X-axis movement mechanism (not shown) capable of moving the jig chuck table 10 along the X-axis direction, and an X-axis movement mechanism. A dust and drip proof cover 8 is provided to cover and protect the mechanism. The X-axis movement mechanism (processing feed unit) is composed of a ball-screw type movement mechanism similar to the Y-axis movement mechanism and Z-axis movement mechanism described later. However, the X-axis movement mechanism is not limited to this.

防塵防滴カバー8は、治具チャックテーブル10の下方の領域を覆うカバー6に一端が固定されており、治具チャックテーブル10の移動に伴ってカバー6が移動したときに伸縮する。防塵防滴カバー8及びカバー6は、ウェーハ11が切削される際にウェーハ11等に供給される切削水やウェーハ11等から生じる加工屑が下方の領域に進入するのを防止する機能を有する。 One end of the dustproof/dripproof cover 8 is fixed to a cover 6 that covers the area below the jig chuck table 10 , and expands and contracts when the cover 6 moves along with the movement of the jig chuck table 10 . The dustproof and splashproof cover 8 and the cover 6 have the function of preventing cutting water supplied to the wafer 11 and the like when the wafer 11 is cut and processing waste generated from the wafer 11 and the like from entering the lower region.

図1には、治具チャックテーブル10を模式的に示す斜視図が含まれている。図2は、治具チャックテーブル10を模式的に示す平面図である。図3(A)、図3(B)、図4には、治具チャックテーブル10を模式的に示す断面図が含まれている。治具チャックテーブル10の上面12は、被加工物であるウェーハ11が載せられる保持面となる。 FIG. 1 includes a perspective view schematically showing the jig chuck table 10. As shown in FIG. FIG. 2 is a plan view schematically showing the jig chuck table 10. FIG. 3A, 3B, and 4 include cross-sectional views schematically showing the jig chuck table 10. FIG. An upper surface 12 of the jig chuck table 10 serves as a holding surface on which a wafer 11, which is a workpiece, is placed.

治具チャックテーブル10の上面12には、加工溝13aが形成されるウェーハ11の分割予定ライン13に対応する位置に形成された溝36を備える。溝36は、治具チャックテーブル10で保持されたウェーハ11を後述の切削ブレード46で切削する際に、切削ブレード46が切り込む領域に形成された逃げ溝である。 The upper surface 12 of the jig chuck table 10 is provided with grooves 36 formed at positions corresponding to the dividing lines 13 of the wafer 11 on which the processing grooves 13a are formed. The groove 36 is a relief groove formed in a region cut by the cutting blade 46 when the wafer 11 held by the jig chuck table 10 is cut by the cutting blade 46, which will be described later.

後述の通りウェーハ11に加工溝13aを形成してウェーハ11を分割する際、ウェーハ11を確実に分割するために、切削ブレード46の下端を治具チャックテーブル10の上面12よりも低い位置に到達させる。溝36は、このときに切削ブレード46が治具チャックテーブル10に接触しないことを目的として、治具チャックテーブル10の上面12に設けられる。 When dividing the wafer 11 by forming the processing grooves 13a in the wafer 11 as will be described later, the lower end of the cutting blade 46 reaches a position lower than the upper surface 12 of the jig chuck table 10 in order to divide the wafer 11 reliably. Let The groove 36 is provided on the upper surface 12 of the jig chuck table 10 for the purpose of preventing the cutting blade 46 from contacting the jig chuck table 10 at this time.

治具チャックテーブル10は、溝36と共に、上面12の溝36によって区画された領域にそれぞれ吸引孔38を備える。図3(A)等に示される通り治具チャックテーブル10の内部には吸引路40が形成されており、吸引路40の一端は治具チャックテーブル10の外部に設けられた吸引源(不図示)に接続される。吸引路40の末端側は、分岐して各吸引孔38に接続される。 The jig chuck table 10 has grooves 36 and suction holes 38 in areas defined by the grooves 36 on the upper surface 12 . As shown in FIG. 3A and the like, a suction path 40 is formed inside the jig chuck table 10 , and one end of the suction path 40 is connected to a suction source (not shown) provided outside the jig chuck table 10 . ). The terminal side of the suction path 40 is branched and connected to each suction hole 38 .

治具チャックテーブル10の上面12にウェーハ11を載せ、該吸引源を作動させると、吸引路40及び吸引孔38を通じてウェーハ11に負圧が作用し、ウェーハ11が治具チャックテーブル10に吸引保持される。この状態で分割予定ライン13に沿ってウェーハ11を分割したとき、製造される個々のデバイスチップ15がそれぞれ対応する吸引孔38を通じて吸引され続ける。 When the wafer 11 is placed on the upper surface 12 of the jig chuck table 10 and the suction source is activated, negative pressure is applied to the wafer 11 through the suction path 40 and the suction holes 38, and the wafer 11 is suction-held on the jig chuck table 10. be done. When the wafer 11 is divided along the dividing line 13 in this state, the individual device chips 15 to be manufactured continue to be sucked through the corresponding suction holes 38 .

治具チャックテーブル10の上方には、環状の切削ブレード46によってウェーハ11を切削する切削ユニット14が配設される。基台4の上面には、切削ユニット14を支持するための支持構造16が配置されている。支持構造16は、開口4aを渡るように伸長した腕部を上部に備える。 A cutting unit 14 for cutting the wafer 11 with an annular cutting blade 46 is arranged above the jig chuck table 10 . A support structure 16 for supporting the cutting unit 14 is arranged on the upper surface of the base 4 . The support structure 16 has an arm on top that extends across the opening 4a.

支持構造16の前面上部には、切削ユニット14をY軸方向(割り出し送り方向)に移動させるY軸移動機構(割り出し送りユニット)及びZ軸方向(上下方向)に移動させるZ軸移動機構(切り込み送りユニット)で構成される移動ユニット18が設けられる。 A Y-axis movement mechanism (index feed unit) that moves the cutting unit 14 in the Y-axis direction (index feed direction) and a Z-axis movement mechanism (cutting unit) that moves the cutting unit 14 in the Z-axis direction (vertical direction) are provided on the upper front surface of the support structure 16. A moving unit 18 is provided which consists of a feeding unit).

Y軸移動機構は、支持構造16の前面にY軸方向に沿って伸長した一対のY軸ガイドレール20を備える。一対のY軸ガイドレール20には、Y軸移動プレート22がスライド可能に装着されている。Y軸移動プレート22の裏面側(後面側)にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部にはY軸ガイドレール20に平行なY軸ボールネジ24が螺合されている。 The Y-axis movement mechanism includes a pair of Y-axis guide rails 20 extending along the Y-axis direction on the front surface of the support structure 16 . A Y-axis moving plate 22 is slidably mounted on the pair of Y-axis guide rails 20 . A nut portion (not shown) is provided on the back side (rear side) of the Y-axis moving plate 22, and a Y-axis ball screw 24 parallel to the Y-axis guide rail 20 is screwed into this nut portion.

Y軸ボールネジ24の一端部には、Y軸パルスモータ(不図示)が連結されている。Y軸パルスモータによってY軸ボールネジ24を回転させることにより、Y軸移動プレート22がY軸ガイドレール20に沿ってY軸方向に移動する。 A Y-axis pulse motor (not shown) is connected to one end of the Y-axis ball screw 24 . By rotating the Y-axis ball screw 24 with the Y-axis pulse motor, the Y-axis moving plate 22 moves along the Y-axis guide rail 20 in the Y-axis direction.

Y軸移動プレート22の表面(前面)には、Z軸移動機構が設けられる。Z軸移動機構は、Z軸方向に沿った一対のZ軸ガイドレール26をY軸移動プレート22の表面に備える。一対のZ軸ガイドレール26にはZ軸移動プレート28がスライド可能に取り付けられている。 A Z-axis movement mechanism is provided on the surface (front surface) of the Y-axis movement plate 22 . The Z-axis movement mechanism has a pair of Z-axis guide rails 26 along the Z-axis direction on the surface of the Y-axis movement plate 22 . A Z-axis moving plate 28 is slidably attached to the pair of Z-axis guide rails 26 .

Z軸移動プレート28の裏面側(後面側)にはナット部(不図示)が設けられており、このナット部にはZ軸ガイドレール26に平行な方向に沿うように設けられたZ軸ボールネジ30が螺合されている。Z軸ボールネジ30の一端部にはZ軸パルスモータ32が連結されており、このZ軸パルスモータ32によってZ軸ボールネジ30を回転させることにより、Z軸移動プレート28がZ軸ガイドレール26に沿ってZ軸方向に移動する。 A nut portion (not shown) is provided on the back side (rear side) of the Z-axis moving plate 28, and a Z-axis ball screw provided along a direction parallel to the Z-axis guide rail 26 is attached to the nut portion. 30 are screwed together. A Z-axis pulse motor 32 is connected to one end of the Z-axis ball screw 30 . By rotating the Z-axis ball screw 30 with this Z-axis pulse motor 32 , the Z-axis moving plate 28 moves along the Z-axis guide rail 26 . to move in the Z-axis direction.

Z軸移動プレート28の下部には切削ユニット14が固定されている。図3(B)に示す通り、切削ユニット14は、Y軸方向に沿ったスピンドル44と、スピンドル44の基端側を回転可能に収容するスピンドルハウジング42と、を備える。スピンドルハウジング42には、スピンドル44を回転させるモータ等の回転駆動源が配設される。 The cutting unit 14 is fixed below the Z-axis moving plate 28 . As shown in FIG. 3B, the cutting unit 14 includes a spindle 44 extending in the Y-axis direction and a spindle housing 42 that rotatably accommodates the base end side of the spindle 44 . A rotation drive source such as a motor for rotating the spindle 44 is arranged in the spindle housing 42 .

スピンドル44の先端には円環状の切り刃(砥石部)を有する切削ブレード46の貫通孔が挿通され、切削ブレード46がスピンドル44に固定されている。回転駆動源を作動させてスピンドル44を回転させると、切削ブレード46が回転する。 A through-hole of a cutting blade 46 having an annular cutting edge (grindstone portion) is inserted through the tip of the spindle 44 , and the cutting blade 46 is fixed to the spindle 44 . When the rotary drive source is operated to rotate the spindle 44, the cutting blade 46 is rotated.

図1に示す通り、切削ユニット14に隣接する位置には、治具チャックテーブル10によって吸引保持されたウェーハ11を撮像し、分割予定ライン13の位置を検出するための撮像ユニット34が設けられている。撮像ユニット34は、CCDセンサーまたはCMOSセンサー等の撮像素子を備え、ウェーハ11の上面を撮像できる。移動ユニット18により切削ユニット14及び撮像ユニット34のY軸方向及びZ軸方向における位置が制御される。 As shown in FIG. 1, an imaging unit 34 is provided at a position adjacent to the cutting unit 14 for imaging the wafer 11 sucked and held by the jig chuck table 10 and for detecting the position of the line 13 to be divided. there is The imaging unit 34 has an imaging device such as a CCD sensor or a CMOS sensor, and can image the upper surface of the wafer 11 . The moving unit 18 controls the positions of the cutting unit 14 and the imaging unit 34 in the Y-axis direction and the Z-axis direction.

基台4の上面の開口4aに隣接する位置には開口4bが形成されており、開口4bには切削後のウェーハ11を洗浄するための洗浄ユニット48が配置されている。洗浄ユニット48は、ウェーハ11を保持しながら回転するスピンナテーブルと、スピンナテーブルに保持されたウェーハ11に上方から洗浄水を噴射する噴射ノズルと、を備える。 An opening 4b is formed at a position adjacent to the opening 4a on the upper surface of the base 4, and a cleaning unit 48 for cleaning the wafer 11 after cutting is arranged in the opening 4b. The cleaning unit 48 includes a spinner table that rotates while holding the wafer 11, and a spray nozzle that sprays cleaning water from above onto the wafer 11 held on the spinner table.

基台4の前端部58の上面には、カセット載置台60が配設された開口4cが形成されている。基台4のカセット載置台60の下方には図示しない昇降機構が配設されており、昇降機構によりカセット載置台60は昇降可能である。カセット載置台60には、切削後の複数のウェーハ11を収容するカセット62が載置される。図1では、説明の便宜のため、カセット62の輪郭が二点鎖線で示されている。 An upper surface of the front end portion 58 of the base 4 is formed with an opening 4c in which a cassette mounting table 60 is arranged. A lifting mechanism (not shown) is provided below the cassette mounting table 60 of the base 4, and the cassette mounting table 60 can be moved up and down by the lifting mechanism. A cassette 62 containing a plurality of wafers 11 after cutting is mounted on the cassette mounting table 60 . In FIG. 1, the outline of the cassette 62 is indicated by a chain double-dashed line for convenience of explanation.

また、図7には、カセット62を模式的に示す斜視図が含まれている。カセット62は、複数のウェーハ11を被収容物として収容できる。カセット62は、例えば、一つの側面が開いた箱形形状を有し、被収容物が収容される収容空間66を内部に有する。この側面には被収容物の搬出入口となる開口64が形成されており、開口64を通して収容空間66に被収容物が搬出入される。 7 also includes a perspective view schematically showing the cassette 62. As shown in FIG. The cassette 62 can accommodate a plurality of wafers 11 as objects to be accommodated. The cassette 62 has, for example, a box-like shape with one side open, and has an accommodation space 66 inside for accommodating an object to be accommodated. An opening 64 serving as a loading/unloading entrance for the stored object is formed on this side surface, and the stored object is loaded/unloaded into the storage space 66 through the opening 64 .

カセット62の内部の開口64に隣接する両内壁には、被収容物を支持する複数の支持レール68が配設されている。左右の内壁には同じ高さで各支持レール68が配設されており、左右の同じ高さの一対の支持レール68に被収容物が載せられて該被収容物が支持レール68に支持される。 A plurality of support rails 68 are provided on both inner walls adjacent to the opening 64 inside the cassette 62 to support the stored objects. Support rails 68 are arranged at the same height on the left and right inner walls, and the object to be accommodated is placed on the pair of support rails 68 at the same height on the left and right, and the object to be accommodated is supported by the support rails 68. be.

さらに、切削装置2は、切削後のウェーハ11を治具チャックテーブル10から搬出するための搬出ユニット50(図4参照)を備える。搬出ユニット50は、吸引パッド52を備え、切削され個々のデバイスチップ15に分割されたウェーハ11を上方から吸引保持する機能を有する。 Furthermore, the cutting device 2 includes an unloading unit 50 (see FIG. 4) for unloading the wafer 11 after cutting from the jig chuck table 10 . The unloading unit 50 has a suction pad 52 and has a function of sucking and holding the wafer 11 that has been cut and divided into individual device chips 15 from above.

吸引パッド52は、ウェーハ11の上方を覆うことのできる平面形状を有する。吸引パッド52の下面には、複数の吸引孔54が形成されている。各吸引孔54は、ウェーハ11から形成されるデバイスチップ15の配列に対応した配列で吸引パッド52に設けられている。すなわち、治具チャックテーブル10の吸引孔38と同様の配列で吸引孔54が吸引パッド52に設けられている。 The suction pad 52 has a planar shape capable of covering the upper side of the wafer 11 . A plurality of suction holes 54 are formed in the lower surface of the suction pad 52 . Each suction hole 54 is provided in the suction pad 52 in an arrangement corresponding to the arrangement of the device chips 15 formed from the wafer 11 . That is, suction holes 54 are provided in the suction pad 52 in the same arrangement as the suction holes 38 of the jig chuck table 10 .

図4等に示される通り吸引パッド52の内部には吸引路56が形成されており、吸引路56の一端は吸引パッド52の外部に設けられた吸引源(不図示)に接続される。吸引路56の末端側は、分岐して各吸引孔54に接続される。治具チャックテーブル10で吸引保持されたウェーハ11に吸引パッド52を載せ、該吸引源を作動させると、吸引路56及び吸引孔54を通じてウェーハ11に負圧が作用し、ウェーハ11が吸引パッド52に吸引保持される。 A suction path 56 is formed inside the suction pad 52 as shown in FIG. The terminal side of the suction path 56 is branched and connected to each suction hole 54 . When the suction pad 52 is placed on the wafer 11 sucked and held by the jig chuck table 10 and the suction source is activated, a negative pressure acts on the wafer 11 through the suction path 56 and the suction holes 54 , and the wafer 11 is removed by the suction pad 52 . is held by suction.

この状態で治具チャックテーブル10によるウェーハ11の吸引保持を解除し、吸引パッド52を上昇させると、各デバイスチップ15が持ち上げられ、すなわち、切削後のウェーハ11を搬送できる。 In this state, when the suction holding of the wafer 11 by the jig chuck table 10 is released and the suction pad 52 is lifted, each device chip 15 is lifted, that is, the wafer 11 after cutting can be transported.

また、切削装置2は、カセット載置台60に載せられたカセット62に被収容物を搬出入する搬出入ユニット70(図7参照)を備える。搬出入ユニット70は、本体74と、本体74の一側面から上下に分かれて突出した2つの爪部から構成される把持部72と、を備える。把持部72の2つの爪部の間に被収容物を挿し入れ、2つの爪部を互いに近づけることで被収容物が把持部72に把持される。この状態で本体74を所定の方向に移動すると、被収容物を移動できる。 The cutting device 2 also includes a loading/unloading unit 70 (see FIG. 7) for loading/unloading an object to/from the cassette 62 placed on the cassette mounting table 60 . The loading/unloading unit 70 includes a main body 74 and a gripping portion 72 composed of two claw portions protruding vertically from one side surface of the main body 74 . An object to be stored is inserted between the two claw portions of the gripping portion 72, and the gripping portion 72 grips the object to be stored by bringing the two claw portions close to each other. When the main body 74 is moved in a predetermined direction in this state, the stored object can be moved.

次に、本実施形態に係るデバイスチップの製造方法の各ステップについて説明する。このデバイスチップの製造方法は、主に切削装置2で実施される。図8は、このデバイスチップの製造方法の流れを示すフローチャートである。 Next, each step of the device chip manufacturing method according to this embodiment will be described. This device chip manufacturing method is mainly carried out by the cutting device 2 . FIG. 8 is a flow chart showing the flow of this device chip manufacturing method.

まず、保持ステップS10を実施する。図3(A)は、保持ステップS10を模式的に示す断面図である。保持ステップS10では、ウェーハ11の分割予定ライン13に対応する位置に形成された溝36を備えると共に該溝36によって区画された領域にそれぞれ吸引孔38を備えた治具チャックテーブル10でウェーハ11を保持する。 First, the holding step S10 is performed. FIG. 3A is a cross-sectional view schematically showing the holding step S10. In the holding step S10, the wafer 11 is held on the jig chuck table 10 which has grooves 36 formed at positions corresponding to the dividing lines 13 of the wafer 11 and suction holes 38 in the areas defined by the grooves 36. Hold.

保持ステップS10では、まず、ウェーハ11のすべての分割予定ライン13と、各分割予定ライン13に対応する溝36と、が重なるように位置及び向きを調整してウェーハ11を治具チャックテーブル10の上面12に載せる。このとき、例えば、表面11aを上方に向け、裏面11bを治具チャックテーブル10の上面12に対面させる。なお、本実施形態に係るデバイスチップの製造方法では、ウェーハ11の裏面11bにテープを貼り付けず、ウェーハ11を直接的に治具チャックテーブル10に接触させる。 In the holding step S10, first, the wafer 11 is placed on the jig chuck table 10 by adjusting the position and orientation so that all the planned division lines 13 of the wafer 11 and the grooves 36 corresponding to the respective planned division lines 13 overlap. Place on top surface 12 . At this time, for example, the front surface 11 a faces upward and the back surface 11 b faces the upper surface 12 of the jig chuck table 10 . In the device chip manufacturing method according to the present embodiment, the wafer 11 is brought into direct contact with the jig chuck table 10 without attaching a tape to the rear surface 11b of the wafer 11 .

治具チャックテーブル10の上面12にウェーハ11を載せた後、治具チャックテーブル10の吸引源を作動させて治具チャックテーブル10でウェーハ11を吸引保持する。これにより、切削されるウェーハ11を所定の位置及び向きで治具チャックテーブル10に固定できる。 After the wafer 11 is placed on the upper surface 12 of the jig chuck table 10 , the suction source of the jig chuck table 10 is operated to suck and hold the wafer 11 on the jig chuck table 10 . Thereby, the wafer 11 to be cut can be fixed to the jig chuck table 10 at a predetermined position and orientation.

次に、治具チャックテーブル10で保持されたウェーハ11を分割予定ライン13に沿って回転する切削ブレード46で切削してウェーハ11を個々のデバイスチップ15に分割する切削ステップS20を実施する。図3(B)は、切削ステップS20を模式的に示す断面図である。 Next, a cutting step S20 of cutting the wafer 11 held by the jig chuck table 10 with the rotating cutting blade 46 along the dividing lines 13 to divide the wafer 11 into individual device chips 15 is performed. FIG. 3B is a cross-sectional view schematically showing the cutting step S20.

切削装置2で被加工物を切削する際、まず、治具チャックテーブル10を上面12に概略垂直な軸の周りに回転させて、ウェーハ11の分割予定ライン13の向きをX軸方向(加工送り方向)に合わせる。 When cutting a workpiece with the cutting device 2, first, the jig chuck table 10 is rotated around an axis substantially perpendicular to the upper surface 12, and the direction of the planned division line 13 of the wafer 11 is set in the X-axis direction (processing feed direction).

また、切削ユニット14及び治具チャックテーブル10を相対的に移動させ、切削ブレード46を一つの分割予定ライン13の延長線上方に配置する。そして、切削ブレード46の最下端が治具チャックテーブル10の上面12よりも低い位置に達するように切削ユニット14の高さを調整しつつ、切削ブレード46を高速で回転させる。 Also, the cutting unit 14 and the jig chuck table 10 are moved relatively to arrange the cutting blade 46 above the extension line of one planned division line 13 . Then, while adjusting the height of the cutting unit 14 so that the lowest end of the cutting blade 46 reaches a position lower than the upper surface 12 of the jig chuck table 10, the cutting blade 46 is rotated at high speed.

その後、治具チャックテーブル10をX軸方向(加工送り方向)に沿って移動させ、分割予定ライン13に沿って切削ブレード46をウェーハ11に切り込ませ、ウェーハ11を分割する。このとき、切削ブレード46の最下端は、治具チャックテーブル10の溝36に入るため、治具チャックテーブル10が切削ブレード46で切削されることはない。 After that, the jig chuck table 10 is moved along the X-axis direction (processing feed direction), and the cutting blade 46 is cut into the wafer 11 along the dividing lines 13 to divide the wafer 11 . At this time, since the lowest end of the cutting blade 46 enters the groove 36 of the jig chuck table 10 , the jig chuck table 10 is not cut by the cutting blade 46 .

次に、切削ユニット14をY軸方向(割り出し送り方向)に沿って移動させ、他の分割予定ライン13に沿ってウェーハ11を同様に切削する。そしてウェーハ11の一つの方向に沿ったすべての分割予定ライン13に沿ってウェーハ11を切削した後、治具チャックテーブル10を回転させ、他の方向に沿った分割予定ライン13に沿って同様にウェーハ11を切削する。そして、ウェーハ11に設定されたすべての分割予定ライン13に沿ってウェーハ11が切削されると、切削ステップS20が終了する。 Next, the cutting unit 14 is moved along the Y-axis direction (index feed direction) to similarly cut the wafer 11 along other dividing lines 13 . Then, after cutting the wafer 11 along all the dividing lines 13 along one direction of the wafer 11, the jig chuck table 10 is rotated, and similarly along the dividing lines 13 along the other direction. Wafer 11 is cut. When the wafer 11 is cut along all the dividing lines 13 set on the wafer 11, the cutting step S20 ends.

切削ステップS20でウェーハ11が分割予定ライン13に沿って切削されて分割されると、個々のデバイスチップ15が製造される。このときに個々のデバイスチップ15は、治具チャックテーブル10のそれぞれ対応する吸引孔38から吸引されるため、引き続き治具チャックテーブル10に吸引保持される。 When the wafer 11 is cut along the dividing lines 13 and divided in the cutting step S20, individual device chips 15 are manufactured. At this time, since the individual device chips 15 are sucked from the corresponding suction holes 38 of the jig chuck table 10 , they are continuously sucked and held on the jig chuck table 10 .

切削ステップS20を実施した後、切削ステップS20で分割されたウェーハ11を治具チャックテーブル10から搬出する搬出ステップS30を実施する。図4は、搬出ステップS30を模式的に示す断面図である。搬出ステップS30は、切削装置2の搬出ユニット50により実施される。搬出ステップS30では、ウェーハ11の上面(表面11a)を吸引パッド52で吸引保持し、治具チャックテーブル10からウェーハ11を搬出する。 After the cutting step S20 is performed, the unloading step S30 is performed to unload the wafer 11 divided in the cutting step S20 from the jig chuck table 10 . FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing the unloading step S30. The carry-out step S<b>30 is performed by the carry-out unit 50 of the cutting device 2 . In the unloading step S30, the upper surface (front surface 11a) of the wafer 11 is suction-held by the suction pad 52, and the wafer 11 is unloaded from the jig chuck table .

まず、吸引パッド52をウェーハ11の上方に位置付ける。このとき、吸引パッド52の各吸引孔54が各デバイスチップ15の位置に合うように、吸引パッド52の位置及び向きを調整する。その後、吸引パッド52を下降させてウェーハ11の上面に接触させ、搬出ユニット50の吸引源を作動させて、各デバイスチップ15を吸引パッド52で吸引保持する。その後、治具チャックテーブル10の吸引源を停止させ、治具チャックテーブル10によるウェーハ11の吸引保持を停止させる。 First, the suction pad 52 is positioned above the wafer 11 . At this time, the position and orientation of the suction pad 52 are adjusted so that the suction holes 54 of the suction pad 52 match the positions of the device chips 15 . After that, the suction pad 52 is lowered to come into contact with the upper surface of the wafer 11 , and the suction source of the unloading unit 50 is operated to suck and hold each device chip 15 with the suction pad 52 . After that, the suction source of the jig chuck table 10 is stopped, and the suction and holding of the wafer 11 by the jig chuck table 10 is stopped.

この状態で搬出ユニット50を上昇させると、分割されたウェーハ11が持ち上がる。搬出ユニット50を移動させると、ウェーハ11が治具チャックテーブル10から搬出される。 When the unloading unit 50 is lifted in this state, the split wafer 11 is lifted. When the unloading unit 50 is moved, the wafer 11 is unloaded from the jig chuck table 10 .

搬出ステップS30の次に、分割されたウェーハ11の以後の取り扱いを容易にするために、載置ステップS40を実施する。載置ステップS40では、ウェーハ11が図5に示す板状物21に載置され、板状物21に支持される。図6は、載置ステップS40を模式的に示す断面図である。ここで、板状物21について説明する。 After the unloading step S30, a mounting step S40 is performed to facilitate subsequent handling of the divided wafers 11. FIG. In the mounting step S40, the wafer 11 is mounted on the plate-like object 21 shown in FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing the placement step S40. Here, the plate-like object 21 will be described.

板状物21は、ウェーハ11の幅よりも大きく、カセット62の収容空間66(図7参照)の幅よりも小さい幅を有する板状の部材である。板状物21は、ステンレス鋼(SUS)等の金属、ガラス、セラミックス等の硬質の材料により構成される。 The plate-like object 21 is a plate-like member having a width larger than the width of the wafer 11 and smaller than the width of the housing space 66 (see FIG. 7) of the cassette 62 . The plate-like object 21 is made of a hard material such as metal such as stainless steel (SUS), glass, or ceramics.

一般的に、切削装置2で切削される被加工物は、被加工物よりも大きい開口を有するリングフレームの該開口を閉じるように貼られたテープに貼着されて切削装置2に搬入される。すなわち、被加工物と、テープと、リングフレームと、が一体化されてフレームユニットが形成され、切削装置2にフレームユニットが搬入される。そして、切削された被加工物を含むフレームユニットは、カセット62に収容されて切削装置2から搬出される。 In general, the workpiece to be cut by the cutting device 2 is carried into the cutting device 2 after being attached to a tape applied to close the opening of a ring frame that is larger than the workpiece. . That is, the workpiece, the tape, and the ring frame are integrated to form a frame unit, and the frame unit is carried into the cutting device 2 . Then, the frame unit including the cut work piece is accommodated in the cassette 62 and unloaded from the cutting device 2 .

本実施形態に係るデバイスチップの製造方法で使用される板状物21の平面形状は、従来使用されていたリングフレームの平面形状と同様であることが好ましい。特に板状物21の外周の形状がリングフレームの外周の形状と同様であると、従来フレームユニットの収容に使用されていたカセット62に板状物21を収容できるため、従来使用されていたカセット62を流用できる。ただし、リングフレームとは異なり、板状物21には表裏に貫通する開口が形成されない。 The planar shape of the plate-like object 21 used in the device chip manufacturing method according to the present embodiment is preferably the same as the planar shape of a conventionally used ring frame. In particular, if the shape of the outer periphery of the plate-like object 21 is the same as the shape of the outer periphery of the ring frame, the plate-like object 21 can be accommodated in the cassette 62 that has conventionally been used to accommodate frame units. 62 can be used. However, unlike the ring frame, the plate-like object 21 is not formed with an opening penetrating from the front to the back.

そして、板状物21は、保持力を有するシート状の有機樹脂層23を表面21aに有する。有機樹脂層23は、ウェーハ11にタック力または粘着力等に起因する保持力を作用する部材により構成される。タック力を有する有機樹脂層23としては、アクリル重合体が架橋剤で架橋された部材を使用でき、例えば、新タック化成株式会社が製造販売する商品名「セパレス」または「ハンデコタック」を用いることができる。ただし、有機樹脂層23はこれに限定されない。 The plate-like object 21 has a sheet-like organic resin layer 23 having holding power on the surface 21a. The organic resin layer 23 is composed of a member that exerts a holding force on the wafer 11 due to tack force, adhesive force, or the like. As the organic resin layer 23 having tack strength, a member obtained by cross-linking an acrylic polymer with a cross-linking agent can be used. can. However, the organic resin layer 23 is not limited to this.

なお、有機樹脂層23は板状物21の表面21aの全域に設けられる必要はなく、板状物21は、有機樹脂層23よりも外側で有機樹脂層23の設けられていない露出領域25を表面21aの外周部に有しても良い。また、有機樹脂層23は、板状物21の裏面21b側にも配設されない。 Note that the organic resin layer 23 does not need to be provided on the entire surface 21a of the plate-like object 21, and the plate-like object 21 has an exposed area 25 outside the organic resin layer 23 where the organic resin layer 23 is not provided. It may be provided on the outer peripheral portion of the surface 21a. Also, the organic resin layer 23 is not provided on the back surface 21 b side of the plate-like object 21 .

載置ステップS40でウェーハ11が載置される板状物21が予め置かれる位置には、特に制限はない。切削装置2に板状物21が準備されるためだけの領域が存在していてもよく、切削装置2の特定の機能を有する構成要素に板状物21が置かれていてもよい。例えば、洗浄ユニット48(図1参照)のスピンナテーブルに板状物21が準備さてもよい。 There is no particular limitation on the position where the plate-like object 21 on which the wafer 11 is to be placed in the placing step S40 is placed in advance. There may be an area in the cutting device 2 only for providing the plate-like object 21, or the plate-like object 21 may be placed in a component of the cutting device 2 having a specific function. For example, the plate-like object 21 may be prepared on the spinner table of the cleaning unit 48 (see FIG. 1).

載置ステップS40では、図6に示す通り、所定の位置に置かれた板状物21上に吸引パッド52で吸引保持されたウェーハ11を搬送し、保持力を有する有機樹脂層23が表面21aに配設された板状物21の有機樹脂層23にウェーハ11を載置する。そして、搬出ユニット50の吸引源を停止し、吸引パッド52によるウェーハ11の吸引保持を停止する。そして、吸引パッド52を板状物21の上方から移動させる。すると、有機樹脂層23の保持力が作用してウェーハ11が板状物21に保持される。 In the mounting step S40, as shown in FIG. 6, the wafer 11 sucked and held by the suction pad 52 is conveyed onto the plate-shaped object 21 placed at a predetermined position, and the organic resin layer 23 having holding power is placed on the surface 21a. The wafer 11 is placed on the organic resin layer 23 of the plate-like object 21 arranged in the . Then, the suction source of the unloading unit 50 is stopped, and the suction holding of the wafer 11 by the suction pad 52 is stopped. Then, the suction pad 52 is moved from above the plate-like object 21 . Then, the holding force of the organic resin layer 23 acts to hold the wafer 11 on the plate-like object 21 .

次に、ウェーハ11が載置された板状物21をカセットに収容するカセット収容ステップS50を実施する。図7は、カセット収容ステップS50を模式的に示す斜視図である。カセット収容ステップS50では、搬出入ユニット70で板状物21を把持し、カセット62の収容空間66に板状物21を搬入する。 Next, a cassette accommodation step S50 of accommodating the plate-like object 21 with the wafers 11 placed thereon in a cassette is performed. FIG. 7 is a perspective view schematically showing the cassette accommodating step S50. In the cassette accommodating step S<b>50 , the loading/unloading unit 70 grips the plate-like object 21 and carries the plate-like object 21 into the accommodating space 66 of the cassette 62 .

まず、搬出入ユニット70の把持部72で板状物21を把持する。そして、搬出入ユニット70の本体74をカセット62に向けて移動させ、カセット62の開口64から板状物21を収容空間66に挿し入れる。このとき、予めカセット載置台60を昇降させ、カセット62の複数の支持レール68のうち板状物21の搬入が予定された支持レール68の高さを把持部72に把持された板状物21の高さに合わせておく。すると、ウェーハ11を保持する板状物21を所定の支持レール68に収容できる。 First, the plate-like object 21 is gripped by the gripping portion 72 of the loading/unloading unit 70 . Then, the main body 74 of the loading/unloading unit 70 is moved toward the cassette 62 , and the plate-shaped object 21 is inserted into the storage space 66 through the opening 64 of the cassette 62 . At this time, the cassette mounting table 60 is moved up and down in advance, and the height of the support rail 68 of the plurality of support rails 68 of the cassette 62 to which the plate-like object 21 is scheduled to be carried is adjusted to the height of the plate-like object 21 gripped by the gripping portion 72 . match the height of the Then, the plate-like object 21 holding the wafer 11 can be accommodated in the predetermined support rails 68 .

ここで、把持部72が板状物21を把持する際に把持部72に有機樹脂層23が接触すると、有機樹脂層23が把持部72に保持力を作用させてしまい、把持部72による板状物21の把持を解除した後も把持部72が板状物21から離れにくくなる。そのため、板状物21の搬送に支障が生じる。また、有機樹脂層23が形成されている領域で把持部72が板状物21を把持すると、有機樹脂層23に損傷が生じてしまう。 Here, if the organic resin layer 23 contacts the gripping portion 72 when the gripping portion 72 grips the plate-like object 21 , the organic resin layer 23 exerts a holding force on the gripping portion 72 , so that the gripping portion 72 does not hold the plate-like object 21 . Even after the grasping of the object 21 is released, the grasping part 72 becomes difficult to separate from the plate-like object 21 . Therefore, transportation of the plate-like object 21 is hindered. Further, if the gripping portion 72 grips the plate-like object 21 in the region where the organic resin layer 23 is formed, the organic resin layer 23 will be damaged.

これに対して、板状物21の表面11aに有機樹脂層23が形成されない露出領域25が設けられている場合、搬出入ユニット70の把持部72は、この露出領域25を把持できる。そのため、把持部72に有機樹脂層23が接触しにくくなる。また、板状物21に露出領域25が設けられていると、フレームユニットのリングフレームに作用してフレームユニットを搬送する従来の搬送機構をそのまま板状物21に対しても使用可能となる。 On the other hand, if the surface 11 a of the plate-like object 21 is provided with the exposed area 25 where the organic resin layer 23 is not formed, the gripping section 72 of the loading/unloading unit 70 can grip the exposed area 25 . Therefore, the organic resin layer 23 is less likely to come into contact with the grip portion 72 . Further, when the plate-like object 21 is provided with the exposed area 25, the conventional transport mechanism that acts on the ring frame of the frame unit to transport the frame unit can be used for the plate-like object 21 as it is.

なお、板状物21に保持された状態のウェーハ11は、カセット62に収容される前に洗浄ユニット48で洗浄されてもよい。このとき、個々のデバイスチップ15に分割されたウェーハ11は、板状物21の有機樹脂層23に保持される。 Note that the wafers 11 held by the plate-like object 21 may be cleaned by the cleaning unit 48 before being housed in the cassette 62 . At this time, the wafer 11 divided into individual device chips 15 is held on the organic resin layer 23 of the plate-like object 21 .

また、カセット62に収容されて切削装置2から搬出されたウェーハ11は、所定の領域でカセット62から引き出される。そして、ウェーハ11が分割されて形成された個々のデバイスチップ15をピックアップして、所定の実装対象にデバイスチップ15を実装する。ウェーハ11が取り外された板状物21は、繰り返し利用可能である。すなわち、切削装置2で切削されて分割された他のウェーハ11の保持に板状物21を使用可能である。 Further, the wafer 11 accommodated in the cassette 62 and unloaded from the cutting device 2 is pulled out from the cassette 62 in a predetermined area. Then, individual device chips 15 formed by dividing the wafer 11 are picked up, and the device chips 15 are mounted on predetermined mounting targets. The plate 21 from which the wafer 11 has been removed can be used repeatedly. That is, the plate-like object 21 can be used to hold another wafer 11 that has been cut and divided by the cutting device 2 .

以上に説明した本実施形態に係るデバイスチップの製造方法では、治具チャックテーブル10、搬出ユニット50、及び板状物21を使用することで分割されたデバイスチップ15をまとめてウェーハ11の形態のまま扱える。このとき、テープを使用することなくウェーハ11及び製造されたデバイスチップ15を扱えるため、テープに要していたコストがかからない。 In the device chip manufacturing method according to the present embodiment described above, the device chips 15 divided by using the jig chuck table 10, the carry-out unit 50, and the plate-like object 21 are collectively formed into wafers 11. I can handle it as is. At this time, since the wafer 11 and the manufactured device chips 15 can be handled without using the tape, the cost required for the tape can be saved.

また、分割されたウェーハ11の保持に使用される板状物21は、デバイスチップ15がピックアップされた後に再利用可能である。そのため、一度の使用で廃棄されるテープを使用していた従来のデバイスチップの製造方法より本実施形態係るデバイスチップの製造方法は経済的であり、デバイスチップ15の製造コストを低く抑えられる。 Also, the plate-like object 21 used to hold the divided wafer 11 can be reused after the device chips 15 are picked up. Therefore, the device chip manufacturing method according to the present embodiment is more economical than the conventional device chip manufacturing method using a tape that is discarded after one use, and the manufacturing cost of the device chip 15 can be kept low.

なお、本発明は、上記実施形態の記載に制限されず種々変更して実施可能である。例えば、上記実施形態では、切削ステップS20において切削ブレード46がウェーハ11の表面11aから裏面11bに至る領域を切削し、表面11aから裏面11bを貫通する加工溝13aがウェーハ11に形成される場合について説明した。しかしながら、本発明の一態様に係るデバイスチップの製造方法はこれに限定されない。 It should be noted that the present invention is not limited to the description of the above embodiments, and can be implemented with various modifications. For example, in the above embodiment, the cutting blade 46 cuts the area from the front surface 11a to the back surface 11b of the wafer 11 in the cutting step S20, and the processing groove 13a penetrating from the front surface 11a to the back surface 11b is formed in the wafer 11. explained. However, the method for manufacturing a device chip according to one aspect of the present invention is not limited to this.

すなわち、切削ブレード46は、ウェーハ11の裏面11bより僅かに高い位置までウェーハ11に切り込み、ウェーハ11を貫通しない加工溝13aがウェーハ11に形成されてデバイスチップ15が製造されてもよい。この場合、その後に加工溝13aを起点にウェーハ11を完全に分割し、個々のデバイスチップ15を分離させる。 That is, the cutting blade 46 may cut into the wafer 11 to a position slightly higher than the back surface 11b of the wafer 11, and the device chips 15 may be manufactured by forming the processing grooves 13a that do not penetrate the wafer 11 in the wafer 11. In this case, after that, the wafer 11 is completely divided starting from the processing grooves 13a to separate the individual device chips 15 from each other.

その他、上記実施形態及び変形例に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structures, methods, and the like according to the above embodiments and modifications can be modified as appropriate without departing from the scope of the present invention.

11 ウェーハ
11a,21a 表面
11b,21b 裏面
13 分割予定ライン
13a 加工溝
15 デバイスチップ
21 板状物
23 有機樹脂層
25 露出領域
2 切削装置
4 基台
4a,4b,4c 開口
6 カバー
8 防塵防滴カバー
10 治具チャックテーブル
12 上面
14 切削ユニット
16 支持構造
18 移動ユニット
20,26 ガイドレール
22,28 Y軸移動プレート
24,30 Y軸ボールネジ
32 パルスモータ
34 撮像ユニット
36 溝
38,54 吸引孔
40,56 吸引路
42 スピンドルハウジング
44 スピンドル
46 切削ブレード
48 洗浄ユニット
50 搬出ユニット
52 .吸引パッド
58 前端部
60 カセット載置台
62 カセット
64 開口
66 収容空間
68 支持レール
70 搬出入ユニット
72 把持部
74 本体
REFERENCE SIGNS LIST 11 Wafer 11a, 21a Front surface 11b, 21b Back surface 13 Division line 13a Processing groove 15 Device chip 21 Plate-like object 23 Organic resin layer 25 Exposed area 2 Cutting device 4 Base 4a, 4b, 4c Opening 6 Cover 8 Dust and drip proof cover REFERENCE SIGNS LIST 10 jig chuck table 12 upper surface 14 cutting unit 16 support structure 18 movement unit 20, 26 guide rail 22, 28 Y-axis movement plate 24, 30 Y-axis ball screw 32 pulse motor 34 imaging unit 36 groove 38, 54 suction hole 40, 56 Suction path 42 Spindle housing 44 Spindle 46 Cutting blade 48 Cleaning unit 50 Unloading unit 52. Suction pad 58 Front end 60 Cassette mounting table 62 Cassette 64 Opening 66 Storage space 68 Support rail 70 Carrying in/out unit 72 Grip 74 Main body

Claims (4)

交差する複数の分割予定ラインによって区画された各領域にデバイスを有するウェーハを分割するデバイスチップの製造方法であって、
該ウェーハの該分割予定ラインに対応する位置に形成された溝を備えると共に該溝によって区画された領域にそれぞれ吸引孔を備えた治具チャックテーブルで該ウェーハを保持する保持ステップと、
該治具チャックテーブルで保持された該ウェーハを該分割予定ラインに沿って回転する切削ブレードで切削して該ウェーハを個々のデバイスチップに分割する切削ステップと、
該切削ステップで分割された該ウェーハの上面を吸引パッドで吸引保持し、該治具チャックテーブルから該ウェーハを搬出する搬出ステップと、
該吸引パッドで吸引保持された該ウェーハを、保持力を有する有機樹脂層が表面に配設された板状物の該有機樹脂層に載置する載置ステップと、
該ウェーハが載置された該板状物をカセットに収容するカセット収容ステップと、を備えることを特徴とするデバイスチップの製造方法。
A device chip manufacturing method for dividing a wafer having a device in each region partitioned by a plurality of intersecting dividing lines, comprising:
a holding step of holding the wafer on a jig chuck table having grooves formed at positions corresponding to the lines to divide the wafer and suction holes in regions defined by the grooves;
a cutting step of cutting the wafer held by the jig chuck table with a cutting blade that rotates along the dividing line to divide the wafer into individual device chips;
an unloading step of sucking and holding the upper surface of the wafer divided in the cutting step with a suction pad and unloading the wafer from the jig chuck table;
a placing step of placing the wafer sucked and held by the suction pad on the organic resin layer of a plate-like object having an organic resin layer having a holding force disposed on the surface thereof;
A method of manufacturing a device chip, comprising: a cassette housing step of housing the plate-shaped object on which the wafer is placed in a cassette.
該板状物は、該有機樹脂層よりも外側で該有機樹脂層の設けられていない露出領域を該表面に有し、
該カセット収容ステップでは、該板状物の該露出領域を吸引または把持した状態で該カセットに該板状物を収容することを特徴とする請求項1に記載のデバイスチップの製造方法。
the plate-shaped object has an exposed region outside the organic resin layer on the surface where the organic resin layer is not provided;
2. The method of manufacturing a device chip according to claim 1, wherein in said cassette accommodation step, said plate-like object is accommodated in said cassette while said exposed region of said plate-like object is sucked or gripped.
ウェーハを支持できカセットに収容できる板状物であって、
該ウェーハの幅よりも大きく、該カセットの収容空間の幅よりも小さい幅を有し、
保持力を有する有機樹脂層を表面に有することを特徴とする板状物。
A plate-shaped object that can support a wafer and can be accommodated in a cassette,
having a width larger than the width of the wafer and smaller than the width of the housing space of the cassette;
A plate-shaped object characterized by having on its surface an organic resin layer having holding power.
該有機樹脂層よりも外側で該有機樹脂層の設けられていない露出領域を該表面に有することを特徴とする請求項3に記載の板状物。 4. The plate-shaped object according to claim 3, wherein the surface has an exposed region outside the organic resin layer and not provided with the organic resin layer.
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